(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-11-07
(45)【発行日】2024-11-15
(54)【発明の名称】基板を処理する装置及び方法
(51)【国際特許分類】
B05C 1/02 20060101AFI20241108BHJP
B05C 11/10 20060101ALI20241108BHJP
H01L 21/306 20060101ALI20241108BHJP
【ＦＩ】
B05C1/02 102
B05C11/10
H01L21/306 J
【請求項の数】
10
(21)【出願番号】P 2021517268
(86)(22)【出願日】2019-09-17
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2022-01-11
(86)【国際出願番号】 US2019051494
(87)【国際公開番号】W WO2020068487
(87)【国際公開日】2020-04-02
【審査請求日】2022-09-14
(31)【優先権主張番号】62/737,150
(32)【優先日】2018-09-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】397068274
【氏名又は名称】コーニング インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100073184
【弁理士】
【氏名又は名称】柳田 征史
(74)【代理人】
【識別番号】100123652
【弁理士】
【氏名又は名称】坂野 博行
(74)【代理人】
【識別番号】100175042
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 秀明
(72)【発明者】
【氏名】アグネロ，ガブリエル ピアース
(72)【発明者】
【氏名】福山 洋賢
(72)【発明者】
【氏名】中村 智之
(72)【発明者】
【氏名】ジャン，ジア
【審査官】市村 脩平
(56)【参考文献】
【文献】特開２００６－１９６７８１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２００９－５１９５９０（ＪＰ，Ａ）
【文献】実開昭６２－００１７８２（ＪＰ，Ｕ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ０５Ｃ１／００－２１／００
Ｈ０１Ｌ２１／３０６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板処理装置において、リザーバを備えた容器；及び
前記容器に対して回転可能に取り付けられたローラであって、該ローラは多孔質材料を含み、該ローラの外周の一部が前記リザーバ内に位置づけられており、前記外周が前記ローラの第１の端部と第２の端部との間に延在する第１の溝の深さの少なくとも２倍より大きい幅を含む第１の溝を含み、該幅は５２５μｍから１１７５μｍであり、該幅と該溝の深さの関係は、マイクロメートル単位でｘ値を該幅、ｙ値を該溝の深さとする（ｘ，ｙ）座標系において、（５２５，３７）、（６５５，３８）、（７８５，３９）、（９１２；４１）、（１０４７，４３）、（１１７５，４６）の各点を通過する単調増加曲線の上の領域には無いものである、ローラ
を備えている、基板処理装置。
【請求項2】
前記第１の溝が、底壁と、一対の側壁とを含む、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項3】
前記一対の側壁の１つ以上の側壁が、約６０度～約１７０度の前記底壁に対する角度を画成する、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項4】
前記第１の溝が、それに沿って前記ローラが延在し、かつその周りを前記ローラが回転するローラ軸に対して実質的に平行な第１の溝軸に沿って延在する、請求項１から３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項5】
前記第１の溝が、前記ローラの周りにらせん状に巻かれている、請求項１から３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項6】
前記溝の前記深さが、前記溝の前記幅又は前記溝の長さのうちの１つ以上に沿って一定でない、請求項１から５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項7】
基板処理装置において、リザーバを備えた容器；及び
それに沿ってローラが延在しているローラ軸を中心に前記容器に対して回転可能に取り付けられたローラであって、該ローラは多孔質材料を含み、該ローラの外周の一部が前記リザーバ内に位置づけられており、前記外周が前記ローラの第１の端部と第２の端部との間に延在する第１の溝であって、該第１の溝の深さの少なくとも２倍より大きい幅を含む第１の溝を含み、該幅は５２５μｍから１１７５μｍであり、該幅と該溝の深さの関係は、マイクロメートル単位でｘ値を該幅、ｙ値を該溝の深さとする（ｘ，ｙ）座標において、（５２５，３７）、（６５５，３８）、（７８５，３９）、（９１２；４１）、（１０４７，４３）、（１１７５，４６）の各点を通過する単調増加曲線の上の領域には無いものである、ローラ
を備えている、基板処理装置。
【請求項8】
前記第１の溝が、底壁と、一対の側壁とを含み、前記一対の側壁の１つ以上の側壁が、前記底壁に対して約６０度～約１７０度の範囲の角度を画成する、請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項9】
前記第１の溝が、前記ローラ軸に対して実質的に平行な第１の溝軸に沿って延在する、請求項７又は８に記載の基板処理装置。
【請求項10】
前記第１の溝が、前記ローラの周りにらせん状に巻かれている、請求項７又は８に記載の基板処理装置。【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【0001】
本出願は、その内容が依拠され、その全体がここに参照することによって以下に完全に記載されているかのように本願に援用される、２０１８年９月２７日出願の米国仮特許出願第６２／７３７，１５０号の優先権の利益を主張する。
【技術分野】
【0002】
本開示は、概して、基材を処理する方法に関し、より詳細には、ローラを含む基板処理装置で基板を処理する方法に関する。
【背景技術】
【0003】
基板の第１の主面をエッチングするように設計された処理液を用いて基板の第１の主面を処理することが知られている。この処理液は、基板の反対側の第２の主面に飛散する可能性がある。加えて、基板の第１の主面に施されるエッチング液の量が異なることに起因して、処理に不一致が生じる可能性がある。
【発明の概要】
【0004】
詳細な説明に記載される幾つかの実施形態の基本的な理解をもたらすために、本開示の簡略化された概要を以下に提示する。
【0005】
幾つかの実施形態によれば、基板処理装置は、リザーバを備えた容器を含みうる。この基板処理装置は、容器に対して回転可能に取り付けられたローラを備えることができる。ローラの外周の一部は、リザーバ内に位置づけらうる。外周は、第１の溝の深さの少なくとも２倍より大きい幅を含む第１の溝を含みうる。
【0006】
幾つかの実施形態では、第１の溝は、底壁と、一対の側壁とを含みうる。
【0007】
幾つかの実施形態では、一対の側壁の１つ以上の側壁は、約６０度～約１７０度でありうる底壁に対する角度を画成することができる。
【0008】
幾つかの実施形態では、角度は約６０度～約９５度である。
【0009】
幾つかの実施形態では、第１の溝は、それに沿ってローラが延在し、かつその周りを前記ローラが回転するローラ軸に対して実質的に平行でありうる第１の溝軸に沿って延在しうる。
【0010】
幾つかの実施形態では、第１の溝は、ローラの周りにらせん状に巻かれうる。
【0011】
幾つかの実施形態では、溝の深さは、溝の幅又は溝の長さのうちの１つ以上に沿って一定でなくてよい。
【0012】
幾つかの実施形態では、基板処理装置は、リザーバを備えた容器と、それに沿ってローラが延在しているローラ軸を中心に容器に対して回転可能に取り付けられたローラとを含みうる。ローラの外周の一部は、リザーバ内に位置づけられうる。外周は、ローラの第１の端部と第２の端部との間に延在する第１の溝を含みうる。
【0013】
幾つかの実施形態では、ローラは、多孔質材料を含みうる。
【0014】
幾つかの実施形態では、リザーバは処理液を含みうる。
【0015】
幾つかの実施形態では、リザーバ内に位置づけられたローラの外周の一部が、処理液と接触しうる。
【0016】
幾つかの実施形態では、第１の溝は、底壁と、一対の側壁とを含みうる。
【0017】
幾つかの実施形態では、一対の側壁の１つ以上の側壁は、約６０度～約１７０度でありうる底壁に対する角度を画成することができる。
【0018】
幾つかの実施形態では、角度は約６０度～約９５度である。
【0019】
幾つかの実施形態では、第１の溝は、ローラ軸に対して実質的に平行でありうる第１の溝軸に沿って延在しうる。
【0020】
幾つかの実施形態では、第１の溝は、ローラの周りにらせん状に巻かれうる。
【0021】
幾つかの実施形態では、基板を処理する方法は、容器のリザーバ内に含まれる処理液をローラの外周の一部と接触させる工程であって、該外周が第１の溝を含む、工程を含むことができる。方法は、ローラ軸を中心にローラを回転させて、処理液を外周の周り及び第１の溝内に分配する工程をさらに含みうる。方法はさらに、ローラが回転する際に、処理液を外周から基板の第１の主面に移動させる工程を含みうる。
【0022】
幾つかの実施形態では、容器のリザーバ内に含まれる処理液をローラの外周の一部と接触させる工程により、処理液を第１の溝に入れることができる。
【0023】
幾つかの実施形態では、容器のリザーバ内に含まれる処理液をローラの外周の一部と接触させる工程は、リザーバ内に含まれる処理液にローラの外周の一部を浸漬させることを含みうる。
【0024】
幾つかの実施形態では、方法は、ローラがローラ軸を中心に回転する際に、移動経路の移動方向に沿って基板を移動させる工程を含みうる。
【0025】
幾つかの実施形態では、処理液は、エッチング液、インク、液体ポリマー、又は水のうちの１つ以上を含みうる。
【0026】
これら及び他の特徴、実施態様、及び利点は、以下の詳細な説明を添付の図面を参照して読む場合に、よりよく理解される。
【図面の簡単な説明】
【0027】
【図1】本開示の実施形態による基板処理装置の概略図
【図3】それに沿ってローラが延在しているローラ軸に対して複数の溝が実質的に平行に延在している、ローラの幾つかの実施形態の斜視図
【図4】ローラの周りに複数の溝がらせん状に巻かれている、ローラの幾つかの実施形態の斜視図
【図7】第１の溝の追加の実施形態の拡大図
【図8】第１の溝のさらなる追加の実施形態の拡大図
【図9】第１の溝のさらなる追加の実施形態の拡大図
【図10】第１の溝のさらなる追加の実施形態の拡大図
【図11】第１の溝の幅及び第１の溝の深さの幾つかの実施形態のプロット
【図12】第１の溝の深さと、第１の溝の幅を変化させた場合の処理液の状態との幾つかの実施形態のプロット
【図13】第１の溝の深さと、面取りされている溝及び面取りされていない溝についての処理液の状態との幾つかの実施形態のプロット
【発明を実施するための形態】
【0028】
これより、実施形態が示されている添付の図面を参照して、実施形態をより十分に説明する。可能な場合はいつでも、同一又は類似した部分についての言及には、図面全体を通して同じ参照番号が用いられる。しかしながら、本開示は、多くの異なる形態で具現化することができ、本明細書に記載される実施形態に限定されると解釈されるべきではない。
【0029】
本明細書に開示される特定の実施形態は、例示的であり、したがって非限定的であることが意図されているものと理解されたい。これより、基板を処理する方法及び装置を、基板処理装置１０１を用いて基板を処理するための実施形態を通じて説明する。図１は、本開示の実施形態による基板処理装置１０１の概略図である。基板処理装置１０１は、基板１０５の第１の主面１０３ａを処理液１０７で処理することができる。示されるように、基板１０５は、第１の主面１０３ａとは反対側の第２の主面１０３ｂをさらに含みうる。基板１０５の厚さ「Ｔ」は、第１の主面１０３ａと第２の主面１０３ｂとの間である。特定の用途に応じて、さまざまな厚さを提供することができる。例えば、厚さ「Ｔ」は、約５０マイクロメートル（ミクロン、μｍ）～約１センチメートル（ｃｍ）、例えば約５０μｍ～約１ミリメートル（ｍｍ）、例えば、約５０μｍ～約３００μｍの厚さを含む基板を含みうる。
【0030】
幾つかの実施形態では、基板１０５の厚さ「Ｔ」は、基板１０５の長さ（図１参照）又は基板１０５の幅のうちの１つ以上に沿って実質的に一定であってよく、ここで、幅は長さに対して垂直である。示されてはいないが、さらなる実施形態では、基板１０５の厚さ「Ｔ」は、基板１０５の長さ及び／又は幅に沿って変動してもよい。例えば、厚くなったエッジ部分（エッジビード）は、幾つかの基板（例えば、ガラスリボン）の形成プロセスから生じうる、幅の外側の向かい合うエッジに存在しうる。このようなエッジビードは、ガラスリボンの高品質の中央部分の厚さよりも大きくなりうる厚さを含みうる。しかしながら、幾つかの実施形態では、このようなエッジビードは、基板１０５に伴って形成された場合には、基板１０５からすでに分離されていてもよい。
【0031】
幾つかの実施形態では、基板１０５は、ガラスリボン、又はガラスシートを含みうるガラスリボンを含みうる。例えば、基板１０５がガラスシートを含む場合、基板１０５は、前端１０８及び後端を含むことができ、基板１０５の長さは、前端１０８と後端との間に延びる。さらなる実施形態では、基板１０５は、リボンの供給源から供給されうるリボンを含みうる。幾つかの実施形態では、リボンの供給源は、基板処理装置１０１よって処理されるように巻き解くことができる、リボンのスプールを含みうる。例えば、リボンは、該リボンの下流部分が基板処理装置１０１で処理されうる間に、リボンのスプールから連続的に巻き解くことができる。さらには、後続の下流プロセス（図示せず）は、リボンをシートへと分離するか、あるいは最終的に、処理されたリボンを保管スプールに巻き取ることができる。さらなる実施形態では、リボンの供給源は、基板１０５を形成する成形装置を含みうる。幾つかの実施形態では、リボンは、成形装置から連続的に延伸され、基板処理装置１０１で処理されうる。その後、幾つかの実施形態では、処理されたリボンは、次に、１枚以上のシートへと分離されうる。あるいは、処理されたリボンは、その後、保管スプールに巻き取ることができる。
【0032】
幾つかの実施形態では、基板１０５は、シリコン（例えば、シリコンウエハ又はシリコンシート）、樹脂、又は他の材料を含みうる。さらなる実施形態では、基板１０５は、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、サファイア（Ａｌ２Ｏ３）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、又は他の材料を含みうる。なおさらなる実施形態では、基板１０５は、ガラス（例えば、アルミノケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラスなど）、ガラスセラミック、又はガラスを含む他の材料を含みうる。幾つかの実施形態では、基板１０５は、ガラスリボン、又はガラスシートを含むガラスリボンを含むことができ、約５０μｍ～約３００μｍの厚さ「Ｔ」で可撓性でありうるが、さらなる実施形態では、他の範囲の厚さ及び／又は非可撓性構成が提供されてもよい。幾つかの実施形態では、基板１０５（例えば、ガラス又は他の光学材料を含む）は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ）、有機発光ダイオードディスプレイ（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、又は他の用途など、さまざまなディスプレイ用途に使用することができる。
【0033】
基板処理装置１０１を使用して、意図された属性に応じて、基板１０５の第１の主面１０３ａにさまざまな種類の処理液１０７を施すことができる。例えば、幾つかの実施形態では、処理液１０７は、塗料、洗剤、ラミネート、表面処理、シーラント剤、リンス剤（例えば、水）、化学強化材料、保護材料、又は他のコーティング材料を含みうる。さらなる実施形態では、処理液１０７は、エッチング液、インク、液体ポリマー、又は水のうちの１つ以上を含みうる。エッチング液は、基板１０５の第１の主面１０３ａを形成する特定の材料をエッチングするように設計された材料エッチング液を含みうる。幾つかの実施形態では、エッチング液は、第１の主面１０３ａにおいてガラスを含む基板１０５をエッチングするためのガラスエッチング液を含みうる。さらなる実施形態では、エッチング液は、第１の主面１０３ａにおいてケイ素を含む基板１０５をエッチングするのに適したエッチング液を含みうる。さらなる実施形態では、エッチング液は、基板１０５の第１の主面１０３ａのマスクされていない領域をエッチング除去するように設計されうる。幾つかの実施形態では、エッチング液は、シリコンウエハ上の導電層のマスクされていない部分をエッチング除去して半導体を形成するように設計されうる。さらなる実施形態では、エッチング液は、基板１０５の第１の主面１０３ａの表面粗さ（例えば、ガラス基板の表面粗さ）をもたらすように設計されうる。例えば、基板１０５のマスクされていない部分又は第１の主面１０３ａ全体をエッチングして表面を粗くし、それによって、互いに接触する２つの基板表面間の望ましくない直接結合（共有結合など）制限することができる。さらなる実施形態では、エッチングを使用して、基板１０５又はエッチングされる基板１０５のマスクされていない部分の光学特性を修正することができる。さらには、エッチングを使用して、基板１０５の厚さ「Ｔ」を低減し、基板１０５の第１の主面１０３ａを洗浄し、又は他の属性をもたらすことができる。
【0034】
基板処理装置１０１は、リザーバ１１１を含む容器１０９を備えることができ、該容器１０９のリザーバ１１１内には処理液１０７を含むことができる。図１に示されるように、幾つかの実施形態では、基板処理装置１０１は、基板１０５の移動方向１１３に沿って直列に配置された複数の容器１０９を含みうる。図示されていない実施形態では単一の容器１０９が提供されうるが、複数の容器１０９は、リザーバ１１１内の処理液１０７の高さを変化させる応答時間を増加させることができ、また、移動方向１１３に沿って移動する基板１０５の異なる部分の選択的な処理速度を可能にすることもできる。幾つかの実施形態では、処理液１０７は、供給源（例えば、ポンプ）から入口導管１１５を介して容器１０９に送給することができる。幾つかの実施形態では、過剰な処理液１０７は、出口導管１１７を介して容器１０９から除去することができる。
【0035】
図１～２を参照すると、幾つかの実施形態では、基板処理装置１０１は、容器１０９に対して回転可能に取り付けられたローラ１１９を備えている。ローラ１１９は、それに沿ってローラ１１９が延在するローラ軸１２１を中心に容器１０９に対して回転可能に取り付けることができる。基板処理装置１０１は、例えば、ローラ１１９のローラシャフト１２３を介してローラ１１９に接続されうる駆動機構を含みうる。ローラシャフト１２３は、ローラ軸１２１に沿って延在しうる。幾つかの実施形態では、駆動機構は、ローラシャフト１２３にトルクを印加して、ローラ軸１２１を中心に回転方向１２５でローラ１１９に回転運動を与えることができる。幾つかの実施形態では、駆動機構は、ローラシャフト１２３に直接接続されうるモータを含みうる。
【0036】
図２を参照すると、幾つかの実施形態では、ローラ１１９は、多孔質材料を含みうる。多孔質材料は、独立気泡の多孔質材料を含みうるが、連続気泡の多孔質材料は、ある量の液体を容易に吸収して、リザーバ１１１から基板１０５の第１の主面１０３ａへの液体移動速度を高めることができる。ローラ１１９の外周２０１を画成する材料は多孔質材料に限られないが、さらなる実施形態では、ローラ１１９は、ポリウレタン、ポリプロピレン、又は他の材料から作られた剛性又は可撓性材料を含むことができる。さらには、幾つかの実施形態では、ローラ１１９の外周２０１は、布のローラナップを含んでもよく、及び／又は、繊維、剛毛、又はフィラメントなどの突起を含んでもよい。幾つかの実施形態では、ローラ１１９は、ローラ全体にわたって連続的な組成及び構成の一体構造シリンダを含みうる。さらなる実施形態では、ローラ１１９は、内側コア及び該内側コア上に配置された外層など、１つ以上の部品を含んでいてよく、ここで、外層はローラ１１９の外周２０１を含む。幾つかの実施形態では、中空の内側コアが提供されてもよいが、内側コアは中実の内側コアを含みうる。内側コアは、ローラを回転させるためのトルクの伝達を容易にすることができるが、一方、外周２０１は、リザーバ１１１からの処理液１０７の意図的な引き上げと、基板１０５の第１の主面１０３ａへの処理液１０７の移動とを提供することができる材料で製造することができる。
【0037】
幾つかの実施形態では、ローラ１１９は、リザーバ１１１内に部分的に位置づけられうる。リザーバ１１１内に部分的に位置づけられることにより、ローラ１１９の下部は、容器１０９の上面によって画成される平面の下に存在してよく、一方、ローラ１１９の上部は、容器１０９の上面によって画成される平面の上に存在してよい。幾つかの実施形態では、ローラ１１９の外周２０１の部分２０３は、処理液１０７と接触してリザーバ１１１内に位置づけられることなどによって、リザーバ１１１内に位置づけられうる。幾つかの実施形態では、処理液１０７と接触しうる外周２０１の部分２０３は、ローラ１１９の直径の半分未満でありうる処理液１０７の表面下の深さを含みうる。しかしながら、このような位置は、限定することは意図されておらず、さらなる実施形態では、外周２０１のより大きい又はより小さい部分を処理液１０７と接触してリザーバ１１１内に位置づけることができる。外周２０１が処理液１０７に接触すると、処理液１０７が外周２０１上に蓄積されうる。例えば、処理液１０７は、外周２０１の周りに層２０６を形成しうる。ローラ１１９の上部が基板１０５の第１の主面１０３ａに隣接して位置づけられると、ローラ１１９は、ローラ軸１２１を中心に回転方向１２５で回転することができ、これにより、処理液１０７を外周２０１から基板１０５の第１の主面１０３ａへと移動させることができる。
【0038】
ローラ１１９の外周２０１は、複数の溝２０７を含みうる。例えば、外周２０１は、第１の溝２０７ａ、第２の溝２０７ｂなどを含みうる。幾つかの実施形態では、複数の溝２０７は、外周２０１内のチャネル、すじ、窪みなどを含みうる。隣接する溝２０７は、外周２０１の周りで互いに離間されうる。例えば、第１の溝２０７ａは、該第１の溝２０７ａに隣接する第２の溝２０７ｂから、ある距離だけ離間させることができる。幾つかの実施形態では、例えば、第１の溝２０７ａと第２の溝２０７ｂとを分離する距離は、第２の溝２０７ｂと隣接する第３の溝とを分離する距離と同じであるなど、隣接する溝を分離する距離は一定でありうる。しかしながら、他の実施形態では、幾つかの隣接する溝は他の隣接する溝よりも互いに接近していてもよいことから、隣接する溝を分離する距離は一定でない場合がある。例えば、第１の溝２０７ａと第２の溝２０７ｂとを分離する距離は、第２の溝２０７ｂと隣接する第３の溝とを分離する距離などよりも大きくても小さくてもよい。幾つかの実施形態では、ローラ１１９の外周２０１の部分２０３が処理液１０７と接触すると、処理液１０７内に少なくとも部分的に沈漬されうる第１の溝２０７ａ、第２の溝２０７ｂなどに処理液１０７が入る。ローラ１１９がローラ軸１２１を中心に回転方向１２５で回転すると、溝２０７は、処理液１０７をリザーバ１１１から基板１０５の方へと移動させることができる。
【0039】
図３を参照すると、基板処理装置１０１のローラ１１９の幾つかの実施形態が示されている。幾つかの実施形態では、外周２０１は、ローラ１１９の第１の端部３０１と第２の端部３０３との間に延在する第１の溝２０７ａを含む。幾つかの実施形態では、第１の端部３０１と第２の端部３０３との間に延在することにより、第１の溝２０７ａは、示されるように、それに沿ってローラ１１９が延在し、かつその周りをローラ１１９が回転するローラ軸１２１に実質的に平行でありうる第１の溝軸３０５に沿って延在する。このように、第１の溝２０７ａは、ローラ軸１２１に平行に、第１の端部３０１と第２の端部３０３との間に長手方向に延在しうる。ローラ１１９の構造及び機能の前述の説明は第１の溝２０７ａに関してなされたが、ローラ１１９の他の溝（例えば、複数の溝２０７）は、構造及び機能が第１の溝２０７ａと実質的に同様であってもよいことが認識されよう。例えば、複数の溝２０７のうちの１つ以上が第１の端部３０１と第２の端部３０３との間に延在することができ、該複数の溝２０７は、それに沿ってローラ１１９が延在し、かつその周りをローラ１１９が回転するローラ軸１２１に実質的に平行でありうるそれぞれの溝軸に沿って、第１の端部３０１と第２の端部３０３との間に延在する。したがって、幾つかの実施形態では、複数の溝２０７は、ローラ軸１２１に実質的に平行に延在すると同時に、互いに実質的に平行に延在することができる。
【0040】
図４を参照すると、基板処理装置１０１のローラ４０１のさらなる実施形態が示されている。幾つかの実施形態では、ローラ４０１の外周４０３は、ローラ４０１の第１の端部４０７と第２の端部４０９との間に延在する第１の溝４０５を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の端部４０７と第２の端部４０９との間に延在することによって、第１の溝４０５は、ローラ４０１の周りにらせん状に巻かれうる。例えば、第１の溝４０５は、それに沿ってローラ４０１が延在し、かつその周りをローラ４０１が回転するローラ軸４１１の周りにらせん状に巻かれうる。このように、第１の溝４０５は、第１の端部４０７と第２の端部４０９との間にローラ軸４１１に対して非平行に延在する。第１の溝４０５は、ローラ４０１の周りに部分的に又は完全にらせん状に巻かれうる。例えば、ローラ４０１の周りに完全にらせん状に巻かれることにより、第１の溝４０５は、ローラ４０１の周りに少なくとも３６０度延在しうる。ローラ４０１の周りに部分的にらせん状に巻かれることにより、例えば、ローラ４０１の周りに約１度～約３５９度の角度にわたってらせん状に巻かれることにより、第１の溝４０５は、ローラ４０１の周りに３６０度未満で延在することができる。ローラ４０１の構造及び機能の前述の説明は第１の溝４０５に関してなされたが、ローラ４０１の他の溝（例えば、複数の溝４１３）は、構造及び機能が第１の溝４０５と実質的に同様であってもよいことが認識されよう。例えば、複数の溝４１３の１つ以上は、第１の端部４０７と第２の端部４０９との間に延在してよく、複数の溝４１３がローラ４０１の周りにらせん状に巻かれている。したがって、幾つかの実施形態では、複数の溝４１３は、ローラ４０１の周りにらせん状に巻かれつつ、互いに実質的に平行に延在することができる。
【0041】
図３～４に示されるローラ１１９、４０１の複数の溝２０７、４１３は、互いに実質的に平行に延在することに限定されないものと認識されよう。例えば、図３に示されるローラ１１９の溝２０７は、それに沿ってローラ１１９が延在するローラ軸１２１に実質的に平行に延在することに限定されない。同様に、図４に示されるローラ４０１の溝４１３は、ローラ４０１の周りにらせん状に巻かれることに限定されない。幾つかの実施形態では、ローラ１１９、４０１は、それに沿ってローラ１１９が延在するローラ軸１２１に対して実質的に平行に延在する１つ以上の溝２０７、及びローラ４０１の周りにらせん状に巻かれうる１つ以上の溝４１３を含みうる。このように、ローラ１１９、４０１は、幾つかの溝が互いに平行に延在する一方で、幾つかの溝は非平行でありうる溝を含んでいてもよい。
【0042】
図５を参照すると、ローラ４０１の第１の溝４０５の幾つかの実施形態が示されている。本明細書に記載されるように、第１の溝４０５は、ローラ４０１の周りにらせん状に巻かれると同時に、ローラ４０１の第１の端部３０１と第２の端部３０３との間に延在する。ローラ軸１２１を中心に回転方向１２５に回転するローラ４０１の回転速度は、実質的に垂直に（例えば、ローラ４０１の回転方向１２５に沿って）配向されうるベクトル５０１によって表すことができる。ベクトル５０１の第１の成分５０３は、それに沿って第１の溝４０５が延在する軸に対して実質的に垂直に配向されてよく、一方、ベクトル５０１の第２の成分５０５は、それに沿って第１の溝４０５が延在する軸に対して実質的に平行に配向されうる。角度５０７が、ベクトル５０１と第２の成分５０５との間に画成されうる。幾つかの実施形態では、第１の溝４０５と該第１の溝４０５内に蓄積された処理液１０７との間の相対速度は、式（Ｕ）ｓｉｎφで表すことができ、ここで、Ｕはローラ４０１の回転速度（例えば、ベクトル５０１）を表し、φは角度５０７を表す。第１の溝４０５を出る処理液１０７の実行速度は、式（Ｕ）ｃｏｓφで表すことができる。最大実行フラックスは、式（Ｕ）（Ｓ）ｃｏｓφで表すことができ、ここで、Ｓは第１の溝４０５の断面積（例えば、深さ×幅）を表す。幾つかの実施形態では、角度５０７が小さくなり、０度に近づくにつれて、第１の溝４０５に蓄積しうる処理液１０７の量が減少する。例えば、角度５０７が小さくなるにつれて、第１の溝４０５がローラ４０１の外周４０３の周りに巻かれる回数が増加する。角度５０７が０度であるとき、第１の溝４０５は、ローラ４０１の第１の端部４０７と第２の端部４０９との間に延在しない可能性があり、むしろ、ローラ４０１の外周４０３の周りに円周方向に延在しうる。これらの実施形態では、角度５０７が０度に近づくと、処理液１０７は、第１の溝４０５に蓄積及び／又は留まる可能性が低くなり、代わりに、第１の溝４０５から出て、リザーバ１１１に戻る可能性がある。
【0043】
幾つかの実施形態では、角度５０７が大きくなり、９０度に近づくにつれて、第１の溝４０５に蓄積されうる処理液１０７の量が増加する。例えば、角度５０７が大きくなるにつれて、第１の溝４０５がローラ４０１の外周４０３の周りに巻かれる回数が低下する。角度５０７が９０度であるとき、第１の溝４０５は、図３に示される態様と同様に（例えば、第１の溝４０５がローラ軸１２１、４１１に対して実質的に平行に延在しうる）、ローラ４０１の第１の端部４０７と第２の端部４０９との間に長手方向に延在しうる。これらの実施形態では、角度５０７が９０度に近づくと、処理液１０７は、第１の溝４０５に蓄積及び／又は留まる可能性が高くなりうる。最大実行フラックスは、第１の溝４０５の断面積によって影響を受けうる。例えば、第１の溝４０５のより大きい断面積は、より大きい最大実行フラックスを生成する可能性があり、これは、ローラ４０１（例えば、複数の溝４１３内）から基板１０５へと移動しうる処理液１０７の量を増加させうる。対照的に、第１の溝４０５のより小さい断面積は、より小さい最大実行フラックスを生成する可能性があり、これは、ローラ４０１（例えば、複数の溝４１３内）から基板１０５へと移動しうる処理液１０７の量を低減させうる。
【0044】
図６を参照すると、第１の溝２０７ａ、４０５の溝軸に対して垂直に取られた溝の断面の幾つかの実施形態が示されている。示されるように、第１の溝２０７ａ、４０５は、ローラ１１９、４０１の外周２０１、４０３に形成されうる。幾つかの実施形態では、第１の溝２０７ａ、４０５は、底壁６０１と、一対の側壁６０３とを含みうる。一対の側壁６０３は、互いに離間されうる第１の側壁６０５及び第２の側壁６０７を含みうる。底壁６０１は、第１の側壁６０５と第２の側壁６０７との間に延在しうる。幾つかの実施形態では、底壁６０１は、例えば、溝方向に直交する方向に（例えば、第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間にローラ軸１２１、４１１に沿って延在する溝方向に）第１の側壁６０５と第２の側壁６０７との間に直線的に延在することによって、実質的に平面になりうる。しかしながら、他の実施形態では、底壁６０１は、平面であることに限定されず、代わりに、例えば、曲線、円弧、屈曲などを含むことにより、溝方向に直交する方向に、第１の側壁６０５と第２の側壁６０７との間で非平面になりうる。幾つかの実施形態では、底壁６０１は、それに沿ってローラ１１９、４０１の外周２０１、４０３の外面６０９が延在する円弧に対して実質的に平行な溝方向に直交する方向に、第１の側壁６０５と第２の側壁６０７との間に円弧を含みうる。幾つかの実施形態では、底壁６０１は、例えば、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間の第１の溝２０７ａ、４０５の長さに沿って平面であることによって、実質的に平面になりうる。加えて、又は代替として、幾つかの実施形態では、底壁６０１は、溝方向に対して平行な方向に湾曲している円弧を含むことなどによって、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間で非平面になりうる（例えば、底壁６０１は、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間の第１の溝２０７ａ、４０５の長さに沿って非平面である）。幾つかの実施形態では、第１の側壁６０５及び／又は第２の側壁６０７は、例えば、外面６０９と底壁６０１との間に直線的に延在することによって、実質的に平面になりうる。しかしながら、他の実施形態では、第１の側壁６０５及び／又は第２の側壁６０７は、平面であることに限定されず、代わりに、例えば、曲線、円弧、屈曲などを含むことにより、外面６０９と底壁６０１との間で非平面になりうる。
【0045】
幾つかの実施形態では、一対の側壁６０３は、底壁６０１に対する角度を画成することができる。例えば、一対の側壁６０３の１つ以上の側壁（例えば、第１の側壁６０５及び／又は第２の側壁６０７）は、約６０度～約９５度でありうる底壁に対する角度６０１を画成する。幾つかの実施形態では、第１の側壁６０５は、約６０度～約９５度、又は約８５度～約９５度でありうる底壁６０１に対する第１の角度６１１を画成することができる。幾つかの実施形態では、第２の側壁６０７は、約６０度～約９５度、又は約８５度～約９５度でありうる底壁６０１に対する第２の角度６１３を画成することができる。幾つかの実施形態では、第１の角度６１１は、第２の角度６１３と等しくてもよいが、さらなる実施形態では、異なる角度が提供されてもよい。幾つかの実施形態では、第１の角度６１１又は第２の角度６１３のうちの一方又は両方は、第１の溝２０７ａが、溝軸に垂直な断面に沿って取られた正方形又は長方形の形状プロファイルを含むことができるように、直角を含みうる。
【0046】
幾つかの実施形態では、第１の溝２０７ａ、４０５は、第１の溝２０７ａの深さ６１７の少なくとも２倍より大きくなりうる幅６１５を含みうる。第１の溝２０７ａ、４０５の幅６１５は、第１の側壁６０５及び第２の側壁６０７の底部において（例えば、底壁６０１に沿って）、第１の側壁６０５と第２の側壁６０７との間で（例えば、それに沿って第１の溝２０７ａ、４０５が延在する第１の溝軸３０５に対して垂直に、かつ底壁６０１に対して平行に）測定される。幾つかの実施形態では、幅６１５は、第１の側壁６０５と第２の側壁６０７との間の最小距離である。しかしながら、第１の溝２０７ａ、４０５が底壁を含まない他の実施形態では（例えば、第１の溝２０７ａ、４０５が、第１の側壁６０５又は第２の側壁６０７の１つ以上が互いに向かって傾斜及び集束し、第１の側壁６０５及び第２の側壁６０７の下端で接続されているＶ字形を含む場合）、幅６１５は、第１の側壁６０５と第２の側壁６０７との間の最大距離である。第１の溝２０７ａ、４０５が底壁のないＶ字形を含むこれらの実施形態では、幅６１５（例えば、第１の側壁６０５と第２の側壁６０７との間の最大距離）は、第１の側壁６０５の上端と第２の側壁６０７の上端との間で測定される。第１の溝２０７ａ、４０５の深さ６１７は、底壁６０１（例えば、底壁６０１に対して垂直）と、測定位置における外面６０９に接する平面との間で測定される。幾つかの実施形態では、底壁６０１が測定位置において外面６０９に接する平面に対して平行でない場合、深さ６１７は、測定位置での外面６０９に接する平面及び底壁６０１からの最小距離を含みうる。しかしながら、第１の溝２０７ａ、４０５が底壁を含まない他の実施形態では（例えば、第１の溝２０７ａ、４０５が、第１の側壁６０５又は第２の側壁６０７の１つ以上が互いに向かって傾斜及び集束し、第１の側壁６０５及び第２の側壁６０７の下端で接続されているＶ字形を含む場合）、深さ６１７は、（例えば、第１の側壁６０５及び第２の側壁６０７の下端における）第１の側壁６０５及び第２の側壁６０７の集束と、測定位置での外面６０９に接する平面との間の距離である。
【0047】
幅６１５が第１の溝２０７ａの深さ６１７の少なくとも２倍よりも大きいことから、処理液１０７を第１の溝２０７ａ内に受け入れることができ、ローラ１１９、４０１の周りの処理液１０７の連続層を維持することができる。前述の説明は第１の溝２０７ａ、４０５に関してなされたが、幾つかの実施形態では、ローラ１１９、４０１の他の溝（例えば、複数の溝２０７、４１３）は、構造及び機能が第１の溝２０７と実質的に類似していてもよいことが認識されよう。例えば、複数の溝２０７、４１３の１つ以上は、第１の側壁６０５と第２の側壁６０７とを含む一対の側壁６０３を含むことができ、ここで、第１の側壁６０５は、底壁６０１に対する第１の角度６１１を画成し、第２の側壁６０７は、底壁６０１に対する第２の角度６１３を画成する。
【0048】
図７を参照すると、第１の溝７０１が面取りされていてよい、溝軸に対して垂直に取られた第１の溝７０１の断面に見られるであろう、ローラ１１９、４０１の第１の溝７０１のさらなる実施形態が例示されている。幾つかの実施形態では、第１の溝７０１は、底壁７０３と一対の側壁７０５とを含みうる。一対の側壁７０５は、互いに離間されうる第１の側壁７０７及び第２の側壁７０９を含みうる。底壁７０３は、第１の側壁７０７と第２の側壁７０９との間に延在しうる。幾つかの実施形態では、底壁７０３は、例えば、溝方向に直交する方向に（例えば、第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間にローラ軸１２１、４１１に沿って延在する溝方向に）、第１の側壁７０７と第２の側壁７０９との間に直線的に延在することによって、実質的に平面になりうる。しかしながら、他の実施形態では、底壁７０３は、平面であることに限定されず、代わりに、例えば、曲線、円弧、屈曲などを含むことにより、溝方向に直交する方向に、第１の側壁７０７と第２の側壁７０９との間で非平面になりうる。幾つかの実施形態では、底壁７０３は、それに沿ってローラ１１９、４０１の外周２０１、４０３の外面６０９が延在する、円弧に対して実質的に平行な溝方向に直交する方向に、第１の側壁７０７と第２の側壁７０９との間に円弧を含みうる。幾つかの実施形態では、底壁７０３は、例えば、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間の第１の溝７０１の長さに沿って平面であることによって、実質的に平面になりうる。加えて、又は代替として、幾つかの実施形態では、底壁７０３は、溝方向に対して平行な方向に湾曲している円弧を含むことなどによって（例えば、底壁７０３は、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間の第１の溝７０１の長さに沿って非平面である）、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間で非平面になりうる。幾つかの実施形態では、第１の側壁７０７及び／又は第２の側壁７０９は、例えば、外面６０９と底壁７０３との間に直線的に延在することによって、実質的に平面になりうる。しかしながら、他の実施形態では、第１の側壁７０７及び／又は第２の側壁７０９は、平面であることに限定されず、代わりに、例えば、曲線、円弧、屈曲などを含むことにより、外面６０９と底壁７０３との間で非平面になりうる。
【0049】
幾つかの実施形態では、一対の側壁７０５は、底壁７０３に対する角度を画成することができる。例えば、一対の側壁７０５の１つ以上の側壁（例えば、第１の側壁７０７及び／又は第２の側壁７０９）は、約６０度～約１７０度でありうる底壁に対する角度７０３を画成する。幾つかの実施形態では、第１の側壁７０７は、約６０度～約１７０度、又は約９５度～約１７０度でありうる底壁７０３に対する第１の角度７１３を画成することができる。幾つかの実施形態では、第２の側壁７０９は、約６０度～約１７０度、又は約９５度～約１７０度でありうる底壁７０３に対する第２の角度７１５を画成することができる。幾つかの実施形態では、第１の角度７１３又は第２の角度７１５のうちの１つ以上は、第１の溝７０１が非正方形又は非長方形の形状を含みうるように、鈍角を含みうる。
【0050】
幾つかの実施形態では、第１の溝７０１は、該第１の溝７０１の深さ７１９の少なくとも２倍より大きくなりうる幅７１７を含みうる。第１の溝７０１の幅７１７は、第１の側壁７０７と第２の側壁７０９の底部で、（例えば、それに沿って第１の溝７０１が延在する軸に対して垂直に）第１の側壁７０７と第２の側壁７０９との間で（例えば、底壁７０３が第１の側壁７０７と第２の側壁７０９との間で線形である場合、底壁７０３に沿って）測定される。幾つかの実施形態では、第１の溝７０１の幅７１７は、底壁７０３と測定位置における外面６０９に接する平面との間で一定でなくてもよい。例えば、第１の溝７０１の幅７１７は、底壁７０３に沿って（例えば、第１の側壁７０７及び第２の側壁７０９の底部で）最小であり、かつ測定位置での外面６０９に接する平面に沿って（例えば、第１の側壁７０７及び第２の側壁７０９の上部で）最大でありうる。これらの実施形態では、第１の溝７０１の幅７１７は、底壁７０３から外面６０９に向かって増加しうる。第１の溝７０１の深さ７１９は、底壁７０３と、測定位置における外面６０９に接する平面との間で測定される（例えば、底壁７０３に対して垂直に）。幅７１７が第１の溝７０１の深さ７１９の少なくとも２倍よりも大きいことから、処理液１０７を第１の溝７０１内に受け入れることができ、ローラ１１９、４０１の周りの処理液１０７の連続層を維持することができる。前述の説明は第１の溝７０１に関してなされたが、ローラ１１９、４０１の他の溝の１つ以上（例えば、複数の溝２０７、４１３）は、構造及び機能が第１の溝７０１と実質的に類似していてもよいことが認識されよう。例えば、複数の溝２０７、４１３の１つ以上は、第１の側壁７０７と第２の側壁７０９とを含む一対の側壁７０５を含むことができ、ここで、第１の側壁７０７は、底壁７０３に対する第１の角度７１３を画成し、第２の側壁７０９は、底壁７０３に対する第２の角度７１５を画成する。
【0051】
図８を参照すると、ローラ１１９、４０１の第１の溝８０１のさらなる実施形態が示されている。幾つかの実施形態では、第１の溝８０１は、底壁８０３と一対の側壁８０５とを含みうる。一対の側壁８０５は、互いに離間されうる第１の側壁８０７及び第２の側壁８０９を含みうる。底壁８０３は、第１の側壁８０７と第２の側壁８０９との間に延在しうる。幾つかの実施形態では、底壁８０３は、例えば、溝方向に直交する方向に（例えば、第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間にローラ軸１２１、４１１に沿って延在する溝方向に）、第１の側壁８０７と第２の側壁８０９との間に直線的に延在することによって、実質的に平面になりうる。しかしながら、他の実施形態では、底壁８０３は、平面であることに限定されず、代わりに、例えば、曲線、円弧、屈曲などを含むことにより、溝方向に直交する方向に、第１の側壁８０７と第２の側壁８０９との間で非平面になりうる。幾つかの実施形態では、底壁８０３は、それに沿ってローラ１１９、４０１の外周２０１、４０３の外面６０９が延在する円弧に対して実質的に平行な溝方向に直交する方向に、第１の側壁８０７と第２の側壁８０９との間に円弧を含みうる。幾つかの実施形態では、底壁８０３は、例えば、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間の第１の溝８０１の長さに沿って平面であることによって、実質的に平面になりうる。加えて、又は代替として、幾つかの実施形態では、底壁８０３は、溝方向に対して平行な方向に湾曲している円弧を含むことなどによって（例えば、底壁８０３は、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間の第１の溝８０１の長さに沿って非平面である）、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間で非平面になりうる。幾つかの実施形態では、第１の側壁８０７及び／又は第２の側壁８０９は、例えば、外面６０９と底壁８０３との間に直線的に延在することによって、実質的に平面になりうる。しかしながら、他の実施形態では、第１の側壁８０７及び／又は第２の側壁８０９は、平面であることに限定されず、代わりに、例えば、曲線、円弧、屈曲などを含むことにより、外面６０９と底壁８０３との間で非平面になりうる。
【0052】
幾つかの実施形態では、一対の側壁８０５は、底壁８０３に対する角度を画成することができる。例えば、一対の側壁８０５の１つ以上の側壁（例えば、第１の側壁８０７及び／又は第２の側壁８０９）は、約６０度～約１７０度でありうる底壁に対する角度８０３を画成する。幾つかの実施形態では、第１の側壁８０７は、約６０度～約１７０度でありうる底壁８０３に対する第１の角度８１３を画成する。例えば、第１の角度８１３は、約６０度～約９５度、又は約８５度～約９５度でありうる。幾つかの実施形態では、第１の側壁８０７は直角を含みうる。幾つかの実施形態では、第２の側壁８０９は、約６０度～約１７０度、又は約９５度～約１７０度でありうる底壁８０３に対する第２の角度８１５を画成することができる。幾つかの実施形態では、第２の角度８１５は鈍角を含みうる。このように、幾つかの実施形態では、第１の角度８１３と第２の角度８１５とは異なっていてもよい。
【0053】
幾つかの実施形態では、第１の溝８０１は、該第１の溝８０１の深さ８１９の少なくとも２倍より大きくなりうる幅８１７を含みうる。第１の溝８０１の幅８１７は、第１の側壁８０７及び第２の側壁８０９の底部において（例えば、底壁８０３に沿って）、第１の側壁８０７と第２の側壁８０９との間で（例えば、それに沿って第１の溝８０１が延在する軸に対して垂直に、かつ底壁８０３に対して平行に）測定される。幾つかの実施形態では、第１の溝８０１の幅８１７は、底壁８０３と測定位置における外面６０９に接する平面との間で一定でなくてもよい。例えば、第１の溝８０１の幅８１７は、底壁８０３に沿って（例えば、第１の側壁８０７及び第２の側壁８０９の底部で）最小であり、かつ測定位置での外面６０９に接する平面に沿って（例えば、第１の側壁８０７及び第２の側壁８０９の上部で）最大でありうる。これらの実施形態では、第１の溝８０１の幅８１７は、底壁８０３から外面６０９に向かって増加しうる。第１の溝８０１の深さ８１９は、底壁８０３（例えば、底壁８０３に対して垂直）と、測定位置における外面６０９に接する平面との間で測定される。幅８１７が第１の溝８０１の深さ８１９の少なくとも２倍よりも大きいことから、処理液１０７を第１の溝８０１内に受け入れることができ、ローラ１１９、４０１の周りの処理液１０７の連続層を維持することができる。前述の説明は第１の溝８０１に関してなされたが、ローラ１１９、４０１の他の溝の１つ以上（例えば、複数の溝２０７、４１３）は、構造及び機能が第１の溝８０１と実質的に類似していてもよいことが認識されよう。例えば、複数の溝２０７、４１３の１つ以上は、第１の側壁８０７と第２の側壁８０９とを含む一対の側壁８０５を含むことができ、ここで、第１の側壁８０７は、底壁８０３に対する第１の角度８１３を画成し、第２の側壁８０９は、底壁８０３に対する第２の角度８１５を画成する。
【0054】
図９を参照すると、ローラ１１９、４０１の第１の溝９０１のさらなる実施形態が示されている。幾つかの実施形態では、第１の溝９０１は、底壁９０３と一対の側壁９０５とを含みうる。一対の側壁９０５は、互いに離間されうる第１の側壁９０７及び第２の側壁９０９を含みうる。底壁９０３は、第１の側壁９０７と第２の側壁９０９との間に延在しうる。幾つかの実施形態では、底壁９０３は、例えば、溝方向に直交する方向に（例えば、第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間にローラ軸１２１、４１１に沿って延在する溝方向に）、第１の側壁９０７と第２の側壁９０９との間に直線的に延在することによって、実質的に平面になりうる。しかしながら、他の実施形態では、底壁９０３は、平面であることに限定されず、代わりに、例えば、曲線、円弧、屈曲などを含むことにより、溝方向に直交する方向に、第１の側壁９０７と第２の側壁９０９との間で非平面になりうる。幾つかの実施形態では、底壁９０３は、それに沿ってローラ１１９、４０１の外周２０１、４０３の外面６０９が延在する、円弧に対して実質的に平行な溝方向に直交する方向に、第１の側壁９０７と第２の側壁９０９との間に円弧を含みうる。幾つかの実施形態では、底壁９０３は、例えば、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間の第１の溝９０１の長さに沿って平面であることによって、実質的に平面になりうる。加えて、又は代替として、幾つかの実施形態では、底壁９０３は、溝方向に対して平行な方向に湾曲している円弧を含むことなどによって（例えば、底壁９０３は、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間の第１の溝９０１の長さに沿って非平面である）、ローラ１１９、４０１の第１の端部３０１、４０７と第２の端部３０３、４０９との間で非平面になりうる。幾つかの実施形態では、第１の側壁９０７及び／又は第２の側壁９０９は、例えば、外面６０９と底壁９０３との間に直線的に延在することによって、実質的に平面になりうる。しかしながら、他の実施形態では、第１の側壁９０７及び／又は第２の側壁９０９は、平面であることに限定されず、代わりに、例えば、曲線、円弧、屈曲などを含むことにより、外面６０９と底壁９０３との間で非平面になりうる。
【0055】
幾つかの実施形態では、一対の側壁９０５は、底壁９０３に対する角度を画成することができる。例えば、一対の側壁９０５の１つ以上の側壁（例えば、第１の側壁９０７及び／又は第２の側壁９０９）は、約６０度～約１７０度でありうる底壁に対する角度９０３を画成する。幾つかの実施形態では、第１の側壁９０７が鋭角を含むことができるように、第１の側壁９０７は、約６０度～約８５度でありうる底壁９０３に対する第１の角度９１３を画成することができる。幾つかの実施形態では、第２の側壁９０９は、約９５度～約１７０度でありうる底壁９０３に対する第２の角度９１５を画成することができる。幾つかの実施形態では、第２の角度９１５は、第１の角度９１３と第２の角度９１５とが異なりうるように、鈍角を含みうる。
【0056】
幾つかの実施形態では、第１の溝９０１は、該第１の溝９０１の深さ９１９の少なくとも２倍より大きくなりうる幅９１７を含みうる。第１の溝９０１の幅９１７は、より短い側壁（例えば、第２の側壁９０９）の底部において、第１の側壁９０７と第２の側壁９０９との間で（例えば、それに沿って第１の溝９０１が延在する軸に対して垂直に、かつ第１の側壁９０７及び第２の側壁９０９に対して垂直に）測定される。第１の溝９０１の深さ９１９は、底壁９０３と、測定位置における外面６０９に接する平面との間で測定される。例えば、深さ９１９は、例えば、底壁９０３と、測定位置における（例えば、第１の側壁９０７における）外面６０９に接する平面との間の第１の側壁９０７に沿った第１の溝９０１の最大深さで測定される。幾つかの実施形態では、溝（例えば、第１の溝９０１）の深さ９１９は、溝（例えば、第１の溝９０１）の幅９１７に沿って一定でなくてもよく、したがって、第１の溝９０１の深さ９１９は、第１の側壁９０７と第２の側壁９０９との間で一定でなくてもよい。例えば、深さ９１９は、第２の側壁９０９に沿って（例えば、底壁９０３の右側で）最小であり、第１の側壁９０７に沿って（例えば、底壁９０３の左側の寸法で）最大であってもよい。これらの実施形態では、第１の溝９０１の深さ９１９は、底壁９０３に沿って、第１の側壁９０７から第２の側壁９０９に向かって減少しうる。幅９１７が第１の溝９０１の深さ９１９の少なくとも２倍よりも大きいことから、処理液１０７を第１の溝９０１内に受け入れることができ、ローラ１１９、４０１の周りの処理液１０７の連続層を維持することができる。前述の説明は第１の溝９０１に関してなされたが、ローラ１１９、４０１の他の溝の１つ以上（例えば、複数の溝２０７、４１３）は、構造及び機能が第１の溝９０１と実質的に類似していてもよいことが認識されよう。例えば、複数の溝２０７、４１３の１つ以上は、第１の側壁９０７と第２の側壁９０９とを含む一対の側壁９０５を含むことができ、ここで、第１の側壁９０７は、底壁９０３に対する第１の角度９１３を画成し、第２の側壁９０９は、底壁９０３に対する第２の角度９１５を画成する。
【0057】
図１０を参照すると、図３の線１０－１０に沿ったローラ１１９の一部の断面図が示されている。幾つかの実施形態では、溝１００１の深さは、溝１００１の長さに沿って一定でなくてもよい。例えば、溝１００１は、ローラ１１９の第１の端部３０１と第２の端部３０３との間に延在する底壁１００３を含みうる。底壁１００３には、ローラ１１９の長さに沿って角度を付けることができ、その結果、溝１００１の深さは、ローラ１１９の第１の端部３０１と第２の端部３０３との間で一定でなくなりうる。幾つかの実施形態では、溝１００１は、第１の位置における第１の深さ１００５と、第２の位置における第２の深さ１００７とを含みうる。第１の深さ１００５は、底壁１００３と、第１の位置における外面６０９との間で測定される。第２の深さ１００７は、底壁１００３と、第２の位置における外面６０９との間で測定される。幾つかの実施形態では、底壁１００３に角度が付いていることから、第１の深さ１００５は、第２の深さ１００７より小さくなりうる。このように、溝１００１の深さは、溝の幅（例えば、図９に示されるように）、又は溝の長さ（例えば、図１０に示されるように）の１つ以上に沿って一定でなくてもよい。
【0058】
前述の説明は第１の溝１００１に関してなされたが、ローラ１１９、４０１の他の溝の１つ以上（例えば、複数の溝２０７、４１３、第１の溝２０７ａ、４０５、７０１、８０１、９０１など）は、構造及び機能が第１の溝１００１と実質的に類似していてもよいことが認識されよう。例えば、溝２０７、２０７ａ、４０５、４１３、７０１、８０１、９０１の１つ以上は、一定ではない深さ（例えば、第１の位置における第１の深さ１００５及び第２の位置における第２の深さ１００７）を含みうる、角度が付いている底壁１００３を含みうる。このように、ローラ１１９、４０１の溝２０７、２０７ａ、４０５、４１３、７０１、８０１、９０１の１つ以上は、面取りされていない側壁（例えば、図６に示される）、面取りされている側壁（例えば、図７に示される）、部分的に面取りされている側壁（例えば、図８に示される）、溝の幅に沿って一定ではない深さ（例えば、図９に示される）、又は溝の長さに沿って一定ではない深さ（例えば、図１０に示される）のうちの１つ以上を含みうる。
【0059】
図２を参照すると、基板１０５を処理する方法の幾つかの実施形態が示されている。幾つかの実施形態では、基板１０５を処理する方法は、容器１０９のリザーバ１１１に処理液１０７を加える工程を含みうる。リザーバ１１１に処理液１０７を加えることにより、リザーバ１１１は、部分的に満たされてもよく（例えば、図示されるように）、あるいは完全に満たされてもよい。幾つかの実施形態では、部分的に満たされる場合、処理液１０７の自由表面２０５は、容器１０９の上面によって画成される平面より下にある。幾つかの実施形態では、完全に満たされる場合には、処理液１０７の自由表面２０５は、容器１０９の上面によって画成される平面と同一平面にありうる。処理液１０７は、例えば幾つかの方法で、例えば入口導管１１５を介して、容器１０９のリザーバ１１１に加えることができる。幾つかの実施形態では、処理液１０７は、該処理液１０７の自由表面２０５のレベルを下げるように、出口導管１１７を介してリザーバ１１１から除去することができる。
【0060】
幾つかの実施形態では、基板１０５を処理する方法は、ローラ１１９がローラ軸１２１を中心に（例えば、回転方向１２５に沿って）回転するときに、移動経路２１３の移動方向１１３に沿って基板１０５を移動させる工程を含みうる。基板１０５は、移動方向１１３に沿って（例えば、図２の左から右へと）移動させることができ、前端１０８が第１の位置では実線で、第２の位置では破線で示されている。幾つかの実施形態では、移動方向１１３に沿った基板１０５の速度は、回転方向１２５に沿ったローラ１１９の回転速度より大きくても、等しくても、あるいは小さくてもよい。例えば、基板１０５が移動方向１１３に沿って移動するときに、ローラ１１９は、該ローラ１１９の回転方向１２５（例えば、図２では時計回り）が基板１０５の移動方向１１３（例えば、図２では左から右へ）と一致しうるように、同時に回転することができる。
【0061】
幾つかの実施形態では、基板１０５を処理する方法は、容器１０９のリザーバ１１１に含まれる処理液１０７をローラ１１９の外周２０１の部分２０３と接触させる工程を含んでよく、該外周２０１は第１の溝２０７ａを含む。幾つかの実施形態では、容器１０９のリザーバ１１１に含まれる処理液１０７をローラ１１９の外周２０１の部分２０３と接触させる工程は、リザーバ１１１に含まれる処理液１０７にローラ１１９の外周２０１の部分２０３を浸漬させることを含みうる。外周２０１の部分２０３を処理液１０７に浸漬させることにより、ローラ１１９の外周２０１の一部又はすべてを自由表面２０５の下にある処理液１０７に浸漬させることができる。例えば、図１～２の実施形態では、処理液１０７に浸漬される外周２０１の部分２０３は、ローラ１１９の直径の半分未満を構成しうる。しかしながら、他の実施形態では、ローラ１１９の直径の半分より多くが、処理液１０７に浸漬され、自由表面２０５の下に位置づけられうる。幾つかの実施形態では、容器１０９のリザーバ１１１に含まれる処理液１０７をローラ１１９の外周２０１の部分２０３と接触させる工程により、処理液１０７を第１の溝２０７ａに入れることができる。例えば、第１の溝２０７ａに入ることによって、処理液１０７は、第１の溝２０７ａを満たすことに限定されない。むしろ、幾つかの実施形態では、処理液１０７は、第１の溝２０７ａに入り、該第１の溝２０７ａのすべてよりも少ない量が処理液１０７で満たされるように、第１の溝２０７ａを部分的に満たす。
【0062】
幾つかの実施形態では、基板１０５を処理する方法は、ローラ軸１２１を中心にローラ１１９を回転させて、処理液１０７を外周２０１の周り及び第１の溝２０７ａ内に連続的に分布させる工程を含みうる。外周２０１の周り及び第１の溝２０７ａ内に連続的に分布させることにより、処理液１０７はローラ１１９の周りに途切れのない層２０６を形成することができ、この層２０６は、処理液１０７内の間隙、ボイド、空間、又は他の不連続性を有しない。幾つかの実施形態では、処理液１０７の連続的に分布した層２０６は、０より大きい最小厚さ「Ｔ２」を含みうる。例えば、処理液１０７の連続的に分布した層２０６は、約２２μｍ～約２４μｍの厚さＴ２を含みうる。他の実施形態では、処理液１０７の連続的に分布した層２０６は、約３０μｍ～約３４μｍの厚さＴ２を含みうる。幾つかの実施形態では、ローラ１１９は、ローラシャフト１２３を介してローラ１１９に結合することができる駆動機構を用いて、ローラ軸１２１を中心に回転させることができる。駆動機構は、ローラシャフト１２３にトルクを印加することができ、これにより、ローラ軸１２１を中心に回転方向１２５でローラ１１９を回転させることができる。
【0063】
幾つかの実施形態では、基板１０５を処理する方法は、ローラ１１９が回転するときに、処理液１０７を外周２０１から基板１０５の第１の主面１０３ａへと移動させる工程を含みうる。例えば、ローラ１１９が回転するときに、処理液１０７は、ローラ１１９の外周２０１の周りに層２０６として連続的に分布される。基板１０５の第１の主面１０３ａは、ローラ１１９の外周２０１と第１の主面１０３ａとを分離する距離が処理液１０７の層２０６の厚さＴ２より小さくなりうるように、ローラ１１９の外周２０１に近接していてもよい。基板１０５の第１の主面１０３ａはローラ１１９の外周２０１に近接しているが、幾つかの実施形態では、第１の主面１０３ａは外周２０１に接触していなくてもよい。むしろ、基板１０５の第１の主面１０３ａは、外周２０１の周りに連続的に分布している処理液１０７の層２０６に接触し、通過することができる。このように、処理液１０７は、ローラ１１９の外周２０１から基板１０５の第１の主面１０３ａへと移動させることができる。
【0064】
図１１は、外周２０１の周り及び第１の溝２０７ａ内の処理液１０７の連続的な分布を維持する間の第１の溝２０７ａの幅と第１の溝２０７ａの深さとの関係を示している。ｘ軸（例えば、横軸）は溝の幅（例えば、μｍ）を表しており、一方、ｙ軸（例えば、縦軸）は溝の深さ（例えば、μｍ）を表している。ライン１１０１は、ローラ１１９の外周２０１の周りに連続的に分布されている処理液１０７と、非連続的に分布されている（例えば、不連続な）処理液１０７との間の境界を表す。これらの実施形態では、ライン１１０１は、面取りされていない形状を含む第１の溝２０７ａを表している（例えば、図６に示されている）。幾つかの実施形態では、溝の深さが、所与の溝幅において臨界の溝の深さ（例えば、ライン１１０１上にある点）を超えると、処理液１０７は不連続になり、間隙、ボイド、空間、又は他の不連続性を含みうる。したがって、この不連続性は、ライン１１０１より上の溝の深さによって表すことができる。例えば、溝の幅が約６５０μｍのとき、処理液１０７は、溝の深さが約３８μｍより大きい場合に、不連続になりうる。溝の深さが、所与の溝の幅において、臨界の溝の深さ（例えば、ライン１１０１上にある点）以下のとき、処理液１０７は連続的に分布されうる。したがって、この不連続性は、ライン１１０１より下の溝深さによって表すことができる。例えば、溝の幅が約６５０μｍのとき、処理液１０７は、溝の深さが約３８μｍ以下の場合に、連続的になりうる。
【0065】
図１２は、第１の溝２０７ａの所与の幅での第１の溝２０７ａの深さと処理液１０７の状態との関係を示している。Ｘ軸（例えば、横軸）は溝の深さ（例えば、μｍ）を表し、一方、ｙ軸（例えば、縦軸）は処理液１０７の状態を表す。処理液１０７の層２０６が外周２０１の周り及び第１の溝２０７ａ内に連続的に分布しているとき、状態は１である。処理液１０７の層２０６が外周２０１の周り及び第１の溝２０７ａ内に不連続に分布しているとき、状態は０である。これらの実施形態では、処理液１０７の連続的に分布した層２０６は、約２４μｍの厚さを含む。鈍角１のライン１２０１は、幅が約５２０μｍである第１の溝２０７ａを表している。鈍角２のライン１２０３は、幅が約１０４０μｍである第１の溝２０７ａを表している。鈍角３のライン１２０５は、幅が約１５７０μｍである第１の溝２０７ａを表している。これらの実施形態では、ライン１２０１、１２０３、１２０５は、面取りされていない形状を含む第１の溝２０７ａを表している（例えば、図６に示されている）。
【0066】
幾つかの実施形態では、幅が約５２０μｍである第１の溝２０７ａの場合（例えば、第１のライン１２０１）、処理液１０７は、約３７μｍ以下の溝深さでは連続的でありうる。処理液１０７は、約３７μｍから約３８μｍまでの溝深さでは、連続分布から不連続分布へと移行しうる。処理液１０７は、約３８μｍ以上の溝深さでは不連続でありうる。幾つかの実施形態では、幅が約１０４０μｍである第１の溝２０７ａの場合（例えば、第２のライン１２０３）、処理液１０７は、約４３μｍ以下の溝深さでは連続的でありうる。処理液１０７は、約４３μｍから約４４μｍまでの溝深さでは、連続分布から不連続分布へと移行しうる。処理液１０７は、約４４μｍ以上の溝深さでは、不連続でありうる。幾つかの実施形態では、幅が約１５７０μｍである第１の溝２０７ａの場合（例えば、第３のライン１２０５）、処理液１０７は、約４０μｍ以下の溝深さでは連続的でありうる。処理液１０７は、約４０μｍから約４１μｍまでの溝深さでは、連続分布から不連続分布へと移行しうる。処理液１０７は、約４１μｍ以上の溝深さでは、不連続でありうる。したがって、図１２に示されるように、５２０μｍの幅と比較して、第１の溝２０７ａのより大きい幅、例えば１０４０μｍの幅などは、約３７μｍ～３８μｍの深さと比較して、処理液１０７の連続分布を維持しつつ、約４２μｍ～４３μｍの深さなどのより大きな深さを可能にすることができる。しかしながら、１５７０μｍの幅と比較して、１０４０μｍの幅など、ある特定の幅を超えると、連続分布から不連続分布に移行するときに第１の溝２０７ａの深さが減少しうる。この減少は、一部には、溝の幅の増加によるローラ１１９の表面積の増加に起因する可能性がある。
【0067】
図１３は、第１の溝２０７ａの所与の形状及び処理液１０７の層２０６の厚さでの第１の溝２０７ａの深さと処理液１０７の状態との関係を示している。Ｘ軸（例えば、横軸）は溝の深さ（例えば、μｍ）を表し、一方、ｙ軸（例えば、縦軸）は処理液１０７の状態を表す。処理液１０７の層２０６が外周２０１の周り及び第１の溝２０７ａ内に連続的に分布しているとき、状態は１である。処理液１０７の層２０６が外周２０１の周り及び第１の溝２０７ａ内に不連続に分布しているとき、状態は０である。これらの実施形態では、第１の溝２０７ａは、約５２０μｍの幅を含む。鈍角１のライン１３０１は、面取りされていない形状を含む第１の溝２０７ａ（例えば、図６に示される）及び約２４μｍの厚さを含む処理液１０７の連続的に分布した層２０６を表している。鈍角２のライン１３０３は、面取りされている形状を含む第１の溝７０１（例えば、図７に示される）及び約２４μｍの厚さを含む処理液１０７の連続的に分布した層２０６を表している。鈍角３のライン１３０５は、面取りされていない形状を含む第１の溝２０７ａ（例えば、図６に示される）及び約３２μｍの厚さを含む処理液１０７の連続的に分布した層２０６を表している。第４のライン１３０７は、面取りされている形状を含む第１の溝７０１（例えば、図７に示される）及び約３２μｍの厚さを含む処理液１０７の連続的に分布した層２０６を表している。
【0068】
幾つかの実施形態では、第１のライン１３０１は、約３７μｍ～約３８μｍの溝深さでは、連続状態から不連続状態へと移行する。第２のライン１３０３は、約４０μｍから約４１μｍまでの溝深さでは、連続状態から不連続状態へと移行しうる。このように、第１の溝７０１が面取りされている場合、第１の溝２０７ａの面取りされていない形状と比較して、溝の深さは約３μｍ大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第３のライン１３０５は、約４９μｍ～約５０μｍの溝深さでは、連続状態から不連続状態へと移行する。第４のライン１３０７は、約５５μｍから約５６μｍまでの溝深さでは、連続状態から不連続状態へと移行しうる。このように、第１の溝７０１が面取りされている場合、溝の深さは約６μｍ大きくなりうる。したがって、図１３に示されるように、処理液１０７の厚さ及び第１の溝２０７ａの幅が一定に保たれる場合、連続分布から不連続分布へと移行するときに、面取りされていない第１の溝２０７ａ（例えば、図６に示される）と比較して、面取りされている第１の溝７０１（例えば、図７に示される）で、第１の溝２０７ａの深さが増加しうる。
【0069】
幾つかの実施形態では、基板処理装置１０１は、処理液１０７を基板１０５に施す際の制御を改善することができる。例えば、ローラ１１９、４０１に複数の溝２０７、２０７ａ、４０５、４１３、７０１、８０１、９０１を設けることにより、処理液１０７の層２０６を、ローラ１１９、４０１の外周２０１の周りに連続的に分布させることができる。ローラ１１９、４０１の外周２０１に処理液１０７で覆われていない領域がある場合、処理液１０７は連続的に分布されていない。処理液１０７が連続的に分布されることにより、基板１０５の第１の主面１０３ａへの処理液のより一貫した塗布を達成することができる。加えて、複数の溝２０７、２０７ａ、４０５、４１３、７０１、８０１、９０１を有するローラ１１９、４０１は、基板１０５の後端での第２の主面１０３ｂ上に処理液１０７を飛散させる可能性を低減することができる。例えば、処理液１０７がローラ１１９、４０１の外周２０１の周りに連続的に分布されていることにより、より少量の処理液１０７を用いて基板１０５の第１の主面１０３ａを処理することができる。結果として、（例えば、第２の主面１０３ｂへの）過剰な処理液１０７の飛散も同様に低減することができる。加えて、又は代替として、過剰な処理液１０７の飛散が低減されることにより、装置の費用のかかる保守及び／又はアップグレードを低減することができ、したがって既存の装置の寿命を延ばすことができる。同様に、基板の第１の主面１０３ａに移動する処理液１０７の量を低減又は再分布することによって、基板処理装置１０１は、処理液１０７の寿命が延びることから、コストを節約することができる。加えて、ローラ１１９、４０１は、既存のローラ１１９、４０１に交換が必要な場合に、新しいローラと容易に交換することができる。加えて、又は代替として、既存のローラ１１９、４０１を、異なる溝特性（例えば、面取りされているものと面取りされていないもの、長手方向に延在するものとらせん状に巻かれるもの、一定の溝の深さ又は一定でない溝の深さなど）を含む異なるローラと交換することが望ましい場合がある。
【0070】
したがって、以下の非限定的な実施形態は、本開示の例示である。
【0071】
実施態様１． 基板処理装置は、リザーバを備えた容器と、該容器に対して回転可能に取り付けられたローラとを備えることができ、該ローラの外周の一部は、リザーバ内に位置づけることができ、外周は、第１の溝の深さの少なくとも２倍より大きい幅を含む第１の溝を含むことができる。
【0072】
実施態様２． 第１の溝が、底壁と、一対の側壁とを含みうる、実施態様１に記載の基板処理装置。
【0073】
実施態様３． 一対の側壁の１つ以上の側壁が、約６０度～約１７０度でありうる底壁に対する角度を画成することができる、実施態様２に記載の基板処理装置。
【0074】
実施態様４． 角度が約６０度～約９５度でありうる、実施態様３に記載の基板処理装置。
【0075】
実施態様５． 第１の溝が第１の溝軸に沿って延在しており、該第１の溝軸が、それに沿ってローラが延在し、かつその周りを前記ローラが回転するローラ軸に対して実質的に平行でありうる、実施態様１から４のいずれかに記載の基板処理装置。
【0076】
実施態様６． 第１の溝が、ローラの周りにらせん状に巻かれうる、実施態様１から４のいずれかに記載の基板処理装置。
【0077】
実施態様７． 溝の深さが、溝の幅又は溝の長さのうちの１つ以上に沿って一定でなくてよい、実施態様１から６のいずれかに記載の基板処理装置。
【0078】
実施態様８． 基板処理装置であって、リザーバを備えた容器と、それに沿ってローラが延在しているローラ軸を中心に容器に対して回転可能に取り付けられたローラとを含み、ローラの外周の一部がリザーバ内に位置づけられており、外周がローラの第１の端部と第２の端部との間に延在する第１の溝を含みうる、基板処理装置。
【0079】
実施態様９． ローラが多孔質材料を含む、実施態様８に記載の基板処理装置。
【0080】
実施態様１０． リザーバが処理液を含む、実施態様８又は９に記載の基板処理装置。
【0081】
実施態様１１． リザーバ内に位置づけられたローラの外周の一部が、処理液と接触しうる、実施態様１０に記載の基板処理装置。
【0082】
実施態様１２． 第１の溝が、底壁と、一対の側壁とを含みうる、実施態様８から１１のいずれかに記載の基板処理装置。
【0083】
実施態様１３． 一対の側壁の１つ以上の側壁が、約６０度～約１７０度でありうる底壁に対する角度を画成することができる、実施態様１２に記載の基板処理装置。
【0084】
実施態様１４． 角度が約６０度～約９５度でありうる、実施態様１３に記載の基板処理装置。
【0085】
実施態様１５． 第１の溝が、ローラ軸に対して実質的に平行でありうる第１の溝軸に沿って延在する、実施態様８から１４のいずれかに記載の基板処理装置。
【0086】
実施態様１６． 第１の溝が、ローラの周りにらせん状に巻かれうる、実施態様８から１４のいずれかに記載の基板処理装置。
【0087】
実施態様１７． 基板を処理する方法であって、容器のリザーバ内に含まれる処理液をローラの外周の一部と接触させる工程を含み、該外周が第１の溝を含む、基板を処理する方法。該方法は、ローラ軸を中心にローラを回転させて、処理液を外周の周り及び第１の溝内に連続的に分配する工程をさらに含みうる。該方法はさらに、ローラが回転する際に、処理液を外周から基板の第１の主面に移動させる工程を含みうる。
【0088】
実施態様１８． 容器のリザーバ内に含まれる処理液をローラの外周の一部と接触させる工程によって、処理液が第１の溝に入る、実施態様１７に記載の方法。
【0089】
実施態様１９． 容器のリザーバ内に含まれる処理液をローラの外周の一部と接触させる工程が、リザーバ内に含まれる処理液にローラの外周の一部を浸漬させることを含む、実施態様１７又は１８に記載の方法。
【0090】
実施態様２０． ローラがローラ軸を中心に回転する際に、移動経路の移動方向に沿って基板を移動させる工程をさらに含む、実施態様１７から１９のいずれかに記載の方法。
【0091】
実施態様２１． 処理液が、エッチング液、インク、液体ポリマー、又は水のうちの１つ以上を含む、実施形態１７から２０のいずれかに記載の方法。
【0092】
本明細書で用いられる場合、「ｔｈｅ」、「ａ」、又は「ａｎ」という用語は、「少なくとも１つ」を意味し、明示的に反対の指示がない限り、「１つのみ」に限定されるべきではない。よって、例えば、「ある１つの（ａ）構成要素」への言及は、文脈がそうでないことを明確に示さない限り、そのような構成要素を２つ以上有する実施形態を含む。
【0093】
本明細書で用いられる場合、「約」という用語は、量、サイズ、配合、パラメータ、及び他の量及び特性が正確ではなく、かつ、正確である必要はなく、許容誤差、変換係数、四捨五入、測定誤差など、並びに当業者に知られている他の要因を反映して、必要に応じて近似及び／又はより大きく又はより小さくてもよいことを意味する。範囲の値又は端点を説明する際に「約」という用語が用いられる場合、本開示は、言及される特定の値又は端点を含むと理解されるべきである。明細書の範囲の数値又は端点が「約」を記載しているかどうかにかかわらず、範囲の数値又は端点は、「約」によって修飾されたものと、されていないものの２つの実施形態を含むことが意図されている。さらには、範囲の各々の端点は、他の端点に関連して、及び他の端点とは独立してのいずれにおいても重要であることが理解されよう。
【0094】
本明細書で用いられる用語「実質的な」、「実質的に」、及びそれらの変形は、記載された特徴が値又は説明に等しい又はほぼ等しいことを示すことが意図されている。例えば、「実質的に平坦な」表面は、平坦な又はほぼ平坦な表面を示すことが意図されている。さらには、上記に定義されるように、「実質的に同様」は、２つの値が等しいかほぼ等しいことを示すことが意図されている。幾つかの実施形態では、「実質的に同様」とは、互いの約１０％以内例えば、互いの約５％以内、又は互いの約２％以内などの値を意味しうる。
【0095】
本明細書で用いられる場合、「含む」及び「包含する」という用語、並びにそれらの変形は、特に明記しない限り、同義であり、オープンエンドであるものとして解釈されたい。
【0096】
さまざまな実施形態が、それらのある特定の例示的な例及び具体的な例に関して詳細に説明されているが、以下の特許請求の範囲から逸脱することなく、開示された特徴の多くの修正及び組合せが可能であることから、本開示は、そのようなものに限定されると見なされるべきではないことが理解されるべきである。
【0097】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【0098】
実施形態１
基板処理装置において、
リザーバを備えた容器；及び
前記容器に対して回転可能に取り付けられたローラであって、該ローラの外周の一部が前記リザーバ内に位置づけられており、前記外周が第１の溝の深さの少なくとも２倍より大きい幅を含む第１の溝を含む、ローラ
を備えている、基板処理装置。
基板処理装置において、
リザーバを備えた容器；及び
前記容器に対して回転可能に取り付けられたローラであって、該ローラの外周の一部が前記リザーバ内に位置づけられており、前記外周が第１の溝の深さの少なくとも２倍より大きい幅を含む第１の溝を含む、ローラ
を備えている、基板処理装置。
【0099】
実施形態２
前記第１の溝が、底壁と、一対の側壁とを含む、実施形態１に記載の基板処理装置。
前記第１の溝が、底壁と、一対の側壁とを含む、実施形態１に記載の基板処理装置。
【0100】
実施形態３
前記一対の側壁の１つ以上の側壁が、約６０度～約１７０度の前記底壁に対する角度を画成する、実施形態２に記載の基板処理装置。
前記一対の側壁の１つ以上の側壁が、約６０度～約１７０度の前記底壁に対する角度を画成する、実施形態２に記載の基板処理装置。
【0101】
実施形態４
前記角度が約６０度～約９５度である、実施形態３に記載の基板処理装置。
前記角度が約６０度～約９５度である、実施形態３に記載の基板処理装置。
【0102】
実施形態５
前記第１の溝が、それに沿って前記ローラが延在し、かつその周りを前記ローラが回転するローラ軸に対して実質的に平行な第１の溝軸に沿って延在する、実施形態１から４のいずれかに記載の基板処理装置。
前記第１の溝が、それに沿って前記ローラが延在し、かつその周りを前記ローラが回転するローラ軸に対して実質的に平行な第１の溝軸に沿って延在する、実施形態１から４のいずれかに記載の基板処理装置。
【0103】
実施形態６
前記第１の溝が、前記ローラの周りにらせん状に巻かれている、実施形態１から４のいずれかに記載の基板処理装置。
前記第１の溝が、前記ローラの周りにらせん状に巻かれている、実施形態１から４のいずれかに記載の基板処理装置。
【0104】
実施形態７
前記溝の前記深さが、前記溝の前記幅又は前記溝の長さのうちの１つ以上に沿って一定でない、実施形態１から６のいずれかに記載の基板処理装置。
前記溝の前記深さが、前記溝の前記幅又は前記溝の長さのうちの１つ以上に沿って一定でない、実施形態１から６のいずれかに記載の基板処理装置。
【0105】
実施形態８
基板処理装置において、
リザーバを備えた容器；及び
それに沿ってローラが延在しているローラ軸を中心に前記容器に対して回転可能に取り付けられたローラであって、前記ローラの外周の一部が前記リザーバ内に位置づけられており、前記外周が前記ローラの第１の端部と第２の端部との間に延在する第１の溝を含む、ローラ
を備えている、基板処理装置。
基板処理装置において、
リザーバを備えた容器；及び
それに沿ってローラが延在しているローラ軸を中心に前記容器に対して回転可能に取り付けられたローラであって、前記ローラの外周の一部が前記リザーバ内に位置づけられており、前記外周が前記ローラの第１の端部と第２の端部との間に延在する第１の溝を含む、ローラ
を備えている、基板処理装置。
【0106】
実施形態９
前記ローラが多孔質材料を含む、実施形態８に記載の基板処理装置。
前記ローラが多孔質材料を含む、実施形態８に記載の基板処理装置。
【0107】
実施形態１０
前記リザーバが処理液を含む、実施形態８又は９に記載の基板処理装置。
前記リザーバが処理液を含む、実施形態８又は９に記載の基板処理装置。
【0108】
実施形態１１
前記リザーバ内に位置づけられた前記ローラの前記外周の一部が、前記処理液と接触している、実施形態１０に記載の基板処理装置。
前記リザーバ内に位置づけられた前記ローラの前記外周の一部が、前記処理液と接触している、実施形態１０に記載の基板処理装置。
【0109】
実施形態１２
前記第１の溝が、底壁と、一対の側壁とを含む、実施形態８から１１のいずれかに記載の基板処理装置。
前記第１の溝が、底壁と、一対の側壁とを含む、実施形態８から１１のいずれかに記載の基板処理装置。
【0110】
実施形態１３
前記一対の側壁の１つ以上の側壁が、前記底壁に対して約６０度～約１７０度の範囲の角度を画成する、実施形態１２に記載の基板処理装置。
前記一対の側壁の１つ以上の側壁が、前記底壁に対して約６０度～約１７０度の範囲の角度を画成する、実施形態１２に記載の基板処理装置。
【0111】
実施形態１４
前記角度が約６０度～約９５度の範囲である、実施形態１３に記載の基板処理装置。
前記角度が約６０度～約９５度の範囲である、実施形態１３に記載の基板処理装置。
【0112】
実施形態１５
前記第１の溝が、前記ローラ軸に実質的に平行な第１の溝軸に沿って延在する、実施形態８から１４のいずれかに記載の基板処理装置。
前記第１の溝が、前記ローラ軸に実質的に平行な第１の溝軸に沿って延在する、実施形態８から１４のいずれかに記載の基板処理装置。
【0113】
実施形態１６
前記第１の溝が、前記ローラの周りにらせん状に巻かれている、実施形態８から１４のいずれかに記載の基板処理装置。
前記第１の溝が、前記ローラの周りにらせん状に巻かれている、実施形態８から１４のいずれかに記載の基板処理装置。
【0114】
実施形態１７
基板を処理する方法において、
容器のリザーバ内に含まれる処理液をローラの外周の一部と接触させる工程であって、前記外周が第１の溝を含む、工程；
ローラ軸を中心に前記ローラを回転させて、前記処理液を前記外周の周り及び前記第１の溝内に分配する工程；及び
前記ローラが回転する際に、前記処理液を前記外周から前記基板の第１の主面に移動させる工程
を含む、方法。
基板を処理する方法において、
容器のリザーバ内に含まれる処理液をローラの外周の一部と接触させる工程であって、前記外周が第１の溝を含む、工程；
ローラ軸を中心に前記ローラを回転させて、前記処理液を前記外周の周り及び前記第１の溝内に分配する工程；及び
前記ローラが回転する際に、前記処理液を前記外周から前記基板の第１の主面に移動させる工程
を含む、方法。
【0115】
実施形態１８
前記接触する工程によって、前記処理液が前記第１の溝に入る、実施形態１７に記載の方法。
前記接触する工程によって、前記処理液が前記第１の溝に入る、実施形態１７に記載の方法。
【0116】
実施形態１９
前記接触する工程が、前記リザーバ内に含まれる前記処理液に前記ローラの前記外周の一部を浸漬することを含む、実施形態１７又は１８に記載の方法。
前記接触する工程が、前記リザーバ内に含まれる前記処理液に前記ローラの前記外周の一部を浸漬することを含む、実施形態１７又は１８に記載の方法。
【0117】
実施形態２０
前記ローラが前記ローラ軸を中心に回転する際に、前記基板を移動経路の移動方向に沿って移動させることをさらに含む、実施形態１７から１９のいずれかに記載の方法。
前記ローラが前記ローラ軸を中心に回転する際に、前記基板を移動経路の移動方向に沿って移動させることをさらに含む、実施形態１７から１９のいずれかに記載の方法。
【0118】
実施形態２１
前記処理液が、エッチング液、インク、液体ポリマー、又は水のうちの１つ以上を含む、実施形態１７から２０のいずれかに記載の方法。
前記処理液が、エッチング液、インク、液体ポリマー、又は水のうちの１つ以上を含む、実施形態１７から２０のいずれかに記載の方法。
【符号の説明】
【0119】
１０１ 基板処理装置
１０３ａ 第１の主面
１０３ｂ 第２の主面
１０５ 基板
１０７ 処理液
１０８ 前端
１０９ 容器
１１１ リザーバ
１１３ 移動方向
１１５ 入口導管
１１７ 出口導管
１１９，４０１ ローラ
１２１，４１１ ローラ軸
１２３ ローラシャフト
１２５ 回転方向
２０１ 外周
２０３ 部分
２０５ 自由表面
２０６ 層
２０７ａ，４０５，７０１，８０１，９０１ 第１の溝
２０７ｂ 第２の溝
２１３ 移動経路
３０１，４０７ 第１の端部
３０３，４０９ 第２の端部
３０５ 第１の溝軸
４０３ 外周
４１３ 複数の溝
５０１ ベクトル
５０３ 第１の成分
５０５ 第２の成分
５０７ 角度
６０１，７０３，８０３，９０３，１００３ 底壁
６０３，７０５，８０５，９０５ 一対の側壁
６０５，７０７，８０７，９０７ 第１の側壁
６０７，７０９，８０９，９０９ 第２の側壁
６０９ 外面
６１１，７１３，８１３，９１３ 第１の角度
６１３，７１５，８１５，９１５ 第２の角度
６１５，７１７，８１７，９１７ 幅
６１７，７１９，８１９，９１９ 深さ
１００１ 溝
１００５ 第１の深さ
１００７ 第２の深さ
１０３ａ 第１の主面
１０３ｂ 第２の主面
１０５ 基板
１０７ 処理液
１０８ 前端
１０９ 容器
１１１ リザーバ
１１３ 移動方向
１１５ 入口導管
１１７ 出口導管
１１９，４０１ ローラ
１２１，４１１ ローラ軸
１２３ ローラシャフト
１２５ 回転方向
２０１ 外周
２０３ 部分
２０５ 自由表面
２０６ 層
２０７ａ，４０５，７０１，８０１，９０１ 第１の溝
２０７ｂ 第２の溝
２１３ 移動経路
３０１，４０７ 第１の端部
３０３，４０９ 第２の端部
３０５ 第１の溝軸
４０３ 外周
４１３ 複数の溝
５０１ ベクトル
５０３ 第１の成分
５０５ 第２の成分
５０７ 角度
６０１，７０３，８０３，９０３，１００３ 底壁
６０３，７０５，８０５，９０５ 一対の側壁
６０５，７０７，８０７，９０７ 第１の側壁
６０７，７０９，８０９，９０９ 第２の側壁
６０９ 外面
６１１，７１３，８１３，９１３ 第１の角度
６１３，７１５，８１５，９１５ 第２の角度
６１５，７１７，８１７，９１７ 幅
６１７，７１９，８１９，９１９ 深さ
１００１ 溝
１００５ 第１の深さ
１００７ 第２の深さ
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】