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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-11-07
(45)【発行日】2024-11-15
(54)【発明の名称】アルキルシリケート
(51)【国際特許分類】
C08G 77/18 20060101AFI20241108BHJP
C08G 77/38 20060101ALI20241108BHJP
【ＦＩ】
C08G77/18
C08G77/38
【請求項の数】
7
(21)【出願番号】P 2023504349
(86)(22)【出願日】2020-07-22
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2023-08-17
(86)【国際出願番号】 EP2020070678
(87)【国際公開番号】W WO2022017598
(87)【国際公開日】2022-01-27
【審査請求日】2023-03-09
(73)【特許権者】
【識別番号】390008969
【氏名又は名称】ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト
【氏名又は名称原語表記】Ｗａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ
(74)【代理人】
【識別番号】100120031
【弁理士】
【氏名又は名称】宮嶋 学
(74)【代理人】
【識別番号】100120617
【弁理士】
【氏名又は名称】浅野 真理
(72)【発明者】
【氏名】エルケ、フリッツ－ラングハルス
(72)【発明者】
【氏名】リヒャルト、バイドナー
【審査官】小森 勇
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１７－１３７４８５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－１９７５２１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０８Ｇ ７７／００－７７／６２
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（Ｉ）：［ＳｉＯ４／２］ａ［（ＲｘＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ［（ＲｙＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ’［（ＲｘＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）ＳｉＯ２／２］ｃ’［（ＲｙＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ’’［（ＲｘＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ［（ＲｘＯ）２（ＲｙＯ）ＳｉＯ１／２］ｄ’［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）２ＳｉＯ１／２］ｄ’’［（ＲｙＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ’’’（Ｉ）
（式中、
指数ａ、ｂ、ｂ’、ｃ、ｃ’、ｃ’’、ｄ、ｄ’、ｄ’’、ｄ’’’は、化合物中のそれぞれの構造単位の平均含有量を示し、それぞれ独立して０～１００，０００の範囲内の数であり、但し、指数の合計は２以上であり；
基Ｒｘは、それぞれ独立して、以下の条件のうち少なくとも１つを満たす基から選択され；
（ａ）Ｒｘは、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｂ）Ｒｘは、β－炭素原子で二重に分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｃ）Ｒｘは、合計９個以下の炭素原子を有する、非置換またはアルキル置換されたシクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル基である。
ここで、上記各条件において置換とは、炭化水素基が、ビニル基、エチニル基、アミノ基、エポキシ基、チオール基、およびカルビノール基からなる群より選択される少なくとも１つの官能基を有することを意味し；
式中、基Ｒｙは、それぞれ独立して、（ｉ）水素、（ｉｉ）メチル基、および（ｉｉｉ）エチル基からなる群から選択され；
但し、シリケート中の全ての基Ｒｙのモル分率は１～１５ｍｏｌ％の範囲内であり、Ｒｙが（ｉ）水素である場合のモル分率は９ｍｏｌ％以下であり、ここで、いずれの場合も全ての基Ｒｘ及びＲｙの合計のモル量を基準とする。）で表されるアルキルシリケート。
【請求項2】
前記基Ｒｙは、それぞれ独立して、（ｉｉ）メチル基または（ｉｉｉ）エチル基である、請求項１に記載のアルキルシリケート。
【請求項3】
前記基Ｒｘは、それぞれ独立して、以下の条件のいずれかを満たす基から選択される、請求項１または２に記載のアルキルシリケート。（ａ）Ｒｘは、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ１０脂肪族炭化水素基である。
（ｂ）Ｒｘは、β－炭素原子で二重に分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ１０脂肪族炭化水素基である。
（ｃ）Ｒｘは、合計９個以下の炭素原子を有する、非置換またはアルキル置換されたシクロヘキシル基である。
【請求項4】
前記基Ｒｘは、２－ブチル基、３－メチル－２－ブチル基、３－メチル－２－ペンチル基、３－ペンチル基、２－ヘキシル基、３－ヘキシル基、２－ヘプチル基、２－オクチル基、１－フェニルエチル基、１－フェニル－１－プロピル基、２，２－ジメチル－１－プロピル基、１，１－ジメチルエチル基、１，１－ジメチルプロピル基、シクロヘキシル基、および３，３，５－トリメチルシクロヘキシル基からなる群から選択される請求項１乃至３のいずれか一項に記載のアルキルシリケート。
【請求項5】
前記指数ａ、ｂ、ｂ’、ｃ、ｃ’、ｃ’’、ｄ、ｄ’、ｄ’’、ｄ’’’は、それぞれ独立して０～５００の範囲内の数であり、但し、前記指数の合計は２以上である、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のアルキルシリケート。
【請求項6】
前記指数ａ、ｂ、ｂ’、ｃ、ｃ’、ｃ’’、ｄ、ｄ’、ｄ’’、ｄ’’’は、それぞれ独立して０～１０の範囲内の数であり、但し、前記指数の合計は２以上である、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のアルキルシリケート。
【請求項7】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のアルキルシリケートを９０重量％以上、好ましくは９５重量％以上含有するアルキルシリケート含有有機ケイ素化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、式（Ｉ）で表される新規なアルキルシリケートに関する。
【背景技術】
【0002】
シリコーンは、多くの技術分野で使用される技術的に非常に重要な製品群であるシリコーンの技術的に重要な特性、例えば低い表面張力や低い結晶性によって、炭素系ポリマーと区別される。シリコーンは、広い温度範囲で液状を保ち、非常に低いガラス転移温度を有する。
【0003】
しかし、シリコーンはＳｉ-アルキル基を持つため、環境中で分解されにくいという特性がある。この特性により、シリコーンは使用用途が限定されてきている。そのため、原理的には加水処理が可能でありながら、実用上十分な加水分解安定性を有する、従来のシリコーンに代わる材料が求められている。
【0004】
したがって、本発明の目的は、永続的なＳｉ－Ｃ結合を含まないにもかかわらず、シリコーンと同様のガラス転移温度、表面張力、密度、疎水性挙動などの特性を有し、シリコーンを代替できる材料を見出すことである。
【0005】
特許文献１は、一般式Ｈ５Ｃ２Ｏ－［（ＯＣ２Ｈ５）２ＳｉＯ］ｎ－ｘ［（ＯＲ）２ＳｉＯ］ｘ－Ｃ２Ｈ５で表されるアルキルシリケートを開示している。式中、ｎは３、４又は５であり、ｘは１～６であり、及び基Ｒは２－フェニルエチル基、シンナミル基、チミル基、バニリル基、５－ホルミルフェニル基、オイゲニル基、サンタリル基、サンタリジル基、メンチル基、およびイソブチル基からなる群より選ばれる同一または異なる基である。これらの化合物は、繊維の改質剤として有用である。
【0006】
非特許文献１は、式［（ＢｕＯ）３ＳｉＯ］ｘＳｉ（ＯＨ）ｙで表されるトリブトキシシロキシシラノール類を調製する方法を開示し、ここでＢｕがｔｅｒｔ－ブチルである場合、ｘは２である。また、Ｂｕが２－ブチルである場合、ｘは２又は３であり、ｙは４－ｘである。これらの化合物はすべてのアルキルラジカルの合計に対してＲｙ＝Ｈのモル分率は最大５０ｍｏｌ％に至る。
【0007】
特許文献２は、一般式Ｒ－［（ＯＲ）２ＳｉＯ］ｘ－ＯＲで表されるアルキルシリケートを調製する方法を開示する。ここで、ｘは２、３又は４であり、それぞれの場合において、ラジカルＲは３～１２の炭素原子を有するアルキルラジカルである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【文献】ロシア国特許出願公開第２２６３１１５号明細書
【文献】米国特許第２７５８１２７号明細書
【非特許文献】
【0009】
【文献】Abe et al.,Bull. Soc. Chim. 1969, 42, 1118
【発明の概要】
【0010】
したがって、さらなるアルキルシリケート、特に加水分解に対して安定なアルキルシリケートを提供する必要性が依然としてある。
【0011】
この目的は、請求項１～７に記載の新規なアルキルシリケートによって達成される。
【0012】
本発明は、下記式（Ｉ）で表されるアルキルシリケートを少なくとも９０重量％、好ましくは少なくとも９５重量％含有するアルキルシリケート含有有機ケイ素化合物を提供する。
［ＳｉＯ４／２］ａ［（ＲｘＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ［（ＲｙＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ’［（ＲｘＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ
［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）ＳｉＯ２／２］ｃ’［（ＲｙＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ’’［（ＲｘＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ
［（ＲｘＯ）２（ＲｙＯ）ＳｉＯ１／２］ｄ’［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）２ＳｉＯ１／２］ｄ’’
［（ＲｙＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ’’’（Ｉ）
式中、指数ａ、ｂ、ｂ’、ｃ、ｃ’、ｃ’’、ｄ、ｄ’、ｄ’’、ｄ’’’は、化合物中のそれぞれの構造単位の平均含有量を示し、それぞれ独立して０～１００，０００の範囲内の数であり、但し、指数の合計は２以上である。
また、基Ｒｘは、それぞれ独立して、以下の条件のうち少なくとも１つを満たす基から選択され、
（ａ）Ｒｘは、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｂ）Ｒｘは、β－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｃ）Ｒｘは、合計９個以下の炭素原子を有する、非置換またはアルキル置換されたシクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル基である。
ここで、いずれの条件において置換とは、炭化水素基が、ビニル基、エチニル基、アミノ基、エポキシ基、チオール基、およびカルビノール基からなる群より選択される少なくとも１つの官能基を有することを意味する。
式中、基Ｒｙは、それぞれ独立して、（ｉ）水素、（ｉｉ）メチル基、および（ｉｉｉ）エチル基からなる群から選択され、
但し、アルキルシリケート中の全ての基Ｒｙのモル分率は０．１～２０ｍｏｌ％、好ましくは１～１５ｍｏｌ％の範囲内であり、Ｒｙが（ｉ）水素である場合のモル分率は、９ｍｏｌ％以下、好ましくは５ｍｏｌ以下であり、ここで、いずれの場合も全てのラジカルＲｘ及びＲｙの合計のモル量を基準としている。
但し、前記アルキルシリケート含有有機ケイ素化合物は、ＳｉＣ結合基を含まない。
［ＳｉＯ４／２］ａ［（ＲｘＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ［（ＲｙＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ’［（ＲｘＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ
［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）ＳｉＯ２／２］ｃ’［（ＲｙＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ’’［（ＲｘＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ
［（ＲｘＯ）２（ＲｙＯ）ＳｉＯ１／２］ｄ’［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）２ＳｉＯ１／２］ｄ’’
［（ＲｙＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ’’’（Ｉ）
式中、指数ａ、ｂ、ｂ’、ｃ、ｃ’、ｃ’’、ｄ、ｄ’、ｄ’’、ｄ’’’は、化合物中のそれぞれの構造単位の平均含有量を示し、それぞれ独立して０～１００，０００の範囲内の数であり、但し、指数の合計は２以上である。
また、基Ｒｘは、それぞれ独立して、以下の条件のうち少なくとも１つを満たす基から選択され、
（ａ）Ｒｘは、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｂ）Ｒｘは、β－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｃ）Ｒｘは、合計９個以下の炭素原子を有する、非置換またはアルキル置換されたシクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル基である。
ここで、いずれの条件において置換とは、炭化水素基が、ビニル基、エチニル基、アミノ基、エポキシ基、チオール基、およびカルビノール基からなる群より選択される少なくとも１つの官能基を有することを意味する。
式中、基Ｒｙは、それぞれ独立して、（ｉ）水素、（ｉｉ）メチル基、および（ｉｉｉ）エチル基からなる群から選択され、
但し、アルキルシリケート中の全ての基Ｒｙのモル分率は０．１～２０ｍｏｌ％、好ましくは１～１５ｍｏｌ％の範囲内であり、Ｒｙが（ｉ）水素である場合のモル分率は、９ｍｏｌ％以下、好ましくは５ｍｏｌ以下であり、ここで、いずれの場合も全てのラジカルＲｘ及びＲｙの合計のモル量を基準としている。
但し、前記アルキルシリケート含有有機ケイ素化合物は、ＳｉＣ結合基を含まない。
【0013】
下記式（Ｉ）で表されるアルキルシリケートが好適である。
［ＳｉＯ４／２］ａ［（ＲｘＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ［（ＲｙＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ’［（ＲｘＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ
［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）ＳｉＯ２／２］ｃ’［（ＲｙＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ’’［（ＲｘＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ
［（ＲｘＯ）２（ＲｙＯ）ＳｉＯ１／２］ｄ’［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）２ＳｉＯ１／２］ｄ’’［（ＲｙＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ’’’（Ｉ）
式中、指数ａ、ｂ、ｂ’、ｃ、ｃ’、ｃ’’、ｄ、ｄ’、ｄ’’、ｄ’’’は、化合物中のそれぞれの構造単位の平均含有量を示し、それぞれ独立して０～１００，０００の範囲内の数であり、但し、指数の合計は２以上である。
また、基Ｒｘは、それぞれ独立して、以下の条件のうち少なくとも１つを満たす基から選択され、
（ａ）Ｒｘは、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｂ）Ｒｘは、β－炭素原子で二重に分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｃ）Ｒｘは、合計９個以下の炭素原子を有する、非置換またはアルキル置換されたシクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル基である。
ここで、いずれの条件において置換とは、炭化水素基が、ビニル基、エチニル基、アミノ基、エポキシ基、チオール基、およびカルビノール基からなる群より選択される少なくとも１つの官能基を有することを意味する。
式中、基Ｒｙは、それぞれ独立して、（ｉ）水素、（ｉｉ）メチル基、および（ｉｉｉ）エチル基からなる群から選択される。
但し、シリケート中の全ての基Ｒｙのモル分率は０．１～２０ｍｏｌ％、好ましくは１～１５ｍｏｌ％の範囲内であり、Ｒｙが（ｉ）水素である場合のモル分率は９ｍｏｌ％以下であり、好ましくは５ｍｏｌ％以下であり、ここで、いずれの場合も全ての基Ｒｘ及びＲｙの合計のモル量を基準とする。
［ＳｉＯ４／２］ａ［（ＲｘＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ［（ＲｙＯ）ＳｉＯ３／２］ｂ’［（ＲｘＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ
［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）ＳｉＯ２／２］ｃ’［（ＲｙＯ）２ＳｉＯ２／２］ｃ’’［（ＲｘＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ
［（ＲｘＯ）２（ＲｙＯ）ＳｉＯ１／２］ｄ’［（ＲｘＯ）（ＲｙＯ）２ＳｉＯ１／２］ｄ’’［（ＲｙＯ）３ＳｉＯ１／２］ｄ’’’（Ｉ）
式中、指数ａ、ｂ、ｂ’、ｃ、ｃ’、ｃ’’、ｄ、ｄ’、ｄ’’、ｄ’’’は、化合物中のそれぞれの構造単位の平均含有量を示し、それぞれ独立して０～１００，０００の範囲内の数であり、但し、指数の合計は２以上である。
また、基Ｒｘは、それぞれ独立して、以下の条件のうち少なくとも１つを満たす基から選択され、
（ａ）Ｒｘは、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｂ）Ｒｘは、β－炭素原子で二重に分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ２０炭化水素基である。
（ｃ）Ｒｘは、合計９個以下の炭素原子を有する、非置換またはアルキル置換されたシクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル基である。
ここで、いずれの条件において置換とは、炭化水素基が、ビニル基、エチニル基、アミノ基、エポキシ基、チオール基、およびカルビノール基からなる群より選択される少なくとも１つの官能基を有することを意味する。
式中、基Ｒｙは、それぞれ独立して、（ｉ）水素、（ｉｉ）メチル基、および（ｉｉｉ）エチル基からなる群から選択される。
但し、シリケート中の全ての基Ｒｙのモル分率は０．１～２０ｍｏｌ％、好ましくは１～１５ｍｏｌ％の範囲内であり、Ｒｙが（ｉ）水素である場合のモル分率は９ｍｏｌ％以下であり、好ましくは５ｍｏｌ％以下であり、ここで、いずれの場合も全ての基Ｒｘ及びＲｙの合計のモル量を基準とする。
【0014】
「分岐」とは、１つの炭素原子上に２つの炭素ラジカルが存在することを意味する。「二重に分岐」とは、１つの炭素原子上に３つの炭素ラジカルが存在することを意味する。
【0015】
好ましくは、基Ｒｙは、それぞれ独立して、（ｉｉ）メチル基または（ｉｉｉ）エチル基である。
【0016】
好ましくは、基Ｒｘは、それぞれ独立して、以下の条件のうち少なくとも１つを満たす基から選択される。
（ａ）Ｒｘは、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ１０炭化水素基であり、特に、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ１０脂肪族炭化水素基である。
（ｂ）Ｒｘは、β－炭素原子で二重に分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ１０炭化水素基であり、特に、β－炭素原子で二重に分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ１０脂肪族炭化水素基である。
（ｃ）Ｒｘは、合計９個以下の炭素原子を有する、非置換またはアルキル置換されたシクロヘキシル基である。
（ａ）Ｒｘは、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ１０炭化水素基であり、特に、α－炭素原子で分岐した、置換または非置換のＣ４－Ｃ１０脂肪族炭化水素基である。
（ｂ）Ｒｘは、β－炭素原子で二重に分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ１０炭化水素基であり、特に、β－炭素原子で二重に分岐した、置換または非置換のＣ５－Ｃ１０脂肪族炭化水素基である。
（ｃ）Ｒｘは、合計９個以下の炭素原子を有する、非置換またはアルキル置換されたシクロヘキシル基である。
【0017】
基Ｒｘの例としては、２－ブチル基、３－メチル－２－ブチル基、３－メチル－２－ペンチル基、３－ペンチル基、２－ヘキシル基、３－ヘキシル基、２－ヘプチル基、２－オクチル基、１－フェニルエチル基、１－フェニル－１－プロピル基、２，２－ジメチル－１－プロピル基、１，１－ジメチルエチル基、１，１－ジメチルプロピル基、シクロヘキシル基、および３，３，５－トリメチルシクロヘキシル基、シクロペンチル基およびシクロヘプチル基が挙げられる。
【0018】
基Ｒｘの好ましい例としては、２－ブチル基、３－メチル－２－ブチル基、３－メチル－２－ペンチル基、３－ペンチル基、２－ヘキシル基、３－ヘキシル基、２－ヘプチル基、２－オクチル基、１－フェニルエチル基、１－フェニル－１－プロピル基、２，２－ジメチル－１－プロピル基、１，１－ジメチルエチル基、１，１－ジメチルプロピル基、シクロヘキシル基および３，３，５－トリメチルシクロヘキシル基が挙げられる。
【0019】
基Ｒｘの特に好ましい例としては、２－ブチル基、３－メチル－２－ブチル基、３－メチル－２－ペンチル基、３－ペンチル基、２－ヘキシル基、３－ヘキシル基、２－ヘプチル基、２－オクチル基、２，２－ジメチル－１－プロピル基、１，１－ジメチルエチル基、１，１－ジメチルプロピル基、シクロヘキシル基、および３，３，５－トリメチルシクロヘキシル基が挙げられる。
【0020】
置換された基Ｒｘの例としては、
－Ｃ（ＣＨ３）２－ＣＨ２－ＮＨ２、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－ＮＨ２、－ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）－ＣＨ２－ＮＨ２、
－Ｃ（ＣＨ３）２－ＣＨ２－ＮＨ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＮＨ２、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－ＮＨ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＮＨ２、
－ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）－ＣＨ２－ＮＨ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＮＨ２、
－Ｃ（ＣＨ３）２－ＣＨ＝ＣＨ２、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ＝ＣＨ２、－ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）－ＣＨ＝ＣＨ２、
－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｃ≡ＣＨ、－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｃ≡ＣＨ，－ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）－Ｃ≡ＣＨ、およびグリシジル基が挙げられる。
－Ｃ（ＣＨ３）２－ＣＨ２－ＮＨ２、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－ＮＨ２、－ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）－ＣＨ２－ＮＨ２、
－Ｃ（ＣＨ３）２－ＣＨ２－ＮＨ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＮＨ２、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－ＮＨ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＮＨ２、
－ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）－ＣＨ２－ＮＨ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＮＨ２、
－Ｃ（ＣＨ３）２－ＣＨ＝ＣＨ２、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ＝ＣＨ２、－ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）－ＣＨ＝ＣＨ２、
－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｃ≡ＣＨ、－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｃ≡ＣＨ，－ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）－Ｃ≡ＣＨ、およびグリシジル基が挙げられる。
【0021】
好ましくは、式（Ｉ）中の指数ａ、ｂ、ｂ’、ｃ、ｃ’、ｃ’’、ｄ、ｄ’、ｄ’’、ｄ’’’は、それぞれ独立して０～５００の範囲内の数であり、好ましくは０～１００の範囲内の数であり、さらに好ましくは０～５０の範囲内の数であり、特に好ましくは０～１０の範囲内の数であり、但し、指数の合計は少なくとも２である。
【0022】
本発明によるシリケートは、例えば、一般式（ＩＩ）で表される化合物（クロロシラン、アルコキシクロロシランまたはアルコキシシラン）の加水分解によって製造することができる。
（ＲｘＯ）ｍＣｌ４－ｍＳｉ（ＩＩ）
ここで、ｍ＝０、１、２、３または４であり、任意に式ＲｙＯＨで表されるアルコールの存在下で、またはＲｘＯＨおよび水による化合物（ＲｙＯ）４Ｓｉのアルコール分解によって得られ、基Ｒｘは、それぞれ独立して、式（Ｉ）においてＲｘについて規定される条件の１つを満たす基から選択され、基Ｒｙは、それぞれ、（ｉ）水素、（ｉｉ）メチル基、および（ｉｉｉ）エチル基からなる群から選択される。
（ＲｘＯ）ｍＣｌ４－ｍＳｉ（ＩＩ）
ここで、ｍ＝０、１、２、３または４であり、任意に式ＲｙＯＨで表されるアルコールの存在下で、またはＲｘＯＨおよび水による化合物（ＲｙＯ）４Ｓｉのアルコール分解によって得られ、基Ｒｘは、それぞれ独立して、式（Ｉ）においてＲｘについて規定される条件の１つを満たす基から選択され、基Ｒｙは、それぞれ、（ｉ）水素、（ｉｉ）メチル基、および（ｉｉｉ）エチル基からなる群から選択される。
【0023】
本発明のアルキルシリケートを調製するためのさらなる選択肢は、オリゴマーもしくはポリマーのメトキシ又はエトキシシリケートを、任意に触媒の存在下でアルコールＲｘＯＨと反応させることであり、ここで基Ｒｘは式（Ｉ）中のＲｘについて規定される条件の１つを満たす基から選択される。好適な触媒の例は、ＫＯＨのようなアルカリ金属水酸化物、またはナトリウムメトキシドである。
【0024】
本発明による化合物は、疎水性試験で実証されるように、疎水性であり、低い表面張力を有する。Ｒｙが水素であり、すべての基ＲｘとＲｙの合計のモル量に基づいて、９ｍｏｌ％以下のＲｙを含有する化合物は、疎水性である。
この化合物は、さらに、加水分解に安定であり、熱的に安定である。例えば、１４０℃では、Ｓｉ－ＯＨ基からＳｉ－Ｏ－Ｓｉへの縮合は観察されなかった。
この化合物は、さらに、加水分解に安定であり、熱的に安定である。例えば、１４０℃では、Ｓｉ－ＯＨ基からＳｉ－Ｏ－Ｓｉへの縮合は観察されなかった。
【0025】
本発明による化合物は、特にＲｙが水素で５ｍｏｌ％以下である場合、より好ましくはＲｙがメチルまたはエチル基の場合に、安定かつ疎水性である。
【0026】
さらに、本発明による化合物は、簡単な方法で調製することができ、それらはシリコーンのような低い表面張力と低いガラス転移温度を有し、特にシリコーンが使用される分野、例えば防水、消泡剤、繊維、化粧品、建築保護、および家庭用品で使用することができる。
【実施例】
【0027】
（測定方法）
基ＲｘおよびＲｙのモル分率は、特徴的なＯ－ＣＨ ２－ＣＨ３基、Ｏ－ＣＨ ３基および－ＯＨ基を積分することにより、１Ｈ－ＮＭＲ分光法によって決定される。使用したエチルシリケートの組成および生成物の組成は、２９Ｓｉ－ＮＭＲ分光法により決定した。
表面張力γは、２０℃においてハンギングドロップ法で測定した。
ガラス転移温度は、示差熱分析により決定した。
動的粘度ηは、アントンパール社の回転粘度計Ｓｔａｂｉｎｇｅｒ ＳＶＭ３０００を用いて、２０℃で測定した。
基ＲｘおよびＲｙのモル分率は、特徴的なＯ－ＣＨ ２－ＣＨ３基、Ｏ－ＣＨ ３基および－ＯＨ基を積分することにより、１Ｈ－ＮＭＲ分光法によって決定される。使用したエチルシリケートの組成および生成物の組成は、２９Ｓｉ－ＮＭＲ分光法により決定した。
表面張力γは、２０℃においてハンギングドロップ法で測定した。
ガラス転移温度は、示差熱分析により決定した。
動的粘度ηは、アントンパール社の回転粘度計Ｓｔａｂｉｎｇｅｒ ＳＶＭ３０００を用いて、２０℃で測定した。
【0028】
疎水性試験は、以下のように行った。セメント系石膏ボードに、調製したアルキルシリケートを順次２回塗布した。２時間後、塗布した石膏ボード上にアルキルシリケートを滴下し、塗布後室温で液滴の形状の変化を観察した。
評価基準：０（液滴が広がる、疎水性なし）、＋（液滴がやや平らになる、良好な疎水性挙動）、＋＋（液滴が変化しない、非常に良好な疎水性）。
評価基準：０（液滴が広がる、疎水性なし）、＋（液滴がやや平らになる、良好な疎水性挙動）、＋＋（液滴が変化しない、非常に良好な疎水性）。
【0029】
シリケートＴＥＳ３４は、３４重量％のＳｉＯ２含有量を有するエチルシリケートであり、エタノールとＨＣｌの存在下で、８５０ｇのテトラエトキシシリケートを３８ｇの水と加水分解縮合させることにより調製する。
【0030】
（実施例１）２，２－ジメチル－１－プロピル基９２ｍｏｌ％および水素基８ｍｏｌ％を含有するアルキルシリケートの調製
２，２－ジメチル－１－プロパノール１０．４ｇ（１１８ｍｍｏｌ）をメチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル５６ｇに溶解させ、ピリジン９．８ｇで処理した。この溶液を、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル２７ｇ中に四塩化ケイ素１０．０ｇ（５９．１ｍｍｏｌ）を含有する溶液中に、温度を－１５℃～－５℃の範囲に保ちながら、４０分かけて攪拌しながら滴下して添加し、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル１５ｇでリンスした。反応物を攪拌しながらさらに１時間反応させ、室温まで温め、濾過し、透明な反応液を室温でピリジン９．８ｇと水１．０４ｇの混合物で処理する。混合物を一晩放置し、再びろ過し、溶液を減圧下で蒸発させて、２，２－ジメチル－１－プロピル基（Ｒｘ＝２，２－ジメチル－１－プロピル基）９２ｍｏｌ％および水素基（Ｒｙ＝Ｈ）８ｍｏｌ％を含有する、１０．４ｇの生成物を得る。
Ｔｇ＝－２７℃
２，２－ジメチル－１－プロパノール１０．４ｇ（１１８ｍｍｏｌ）をメチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル５６ｇに溶解させ、ピリジン９．８ｇで処理した。この溶液を、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル２７ｇ中に四塩化ケイ素１０．０ｇ（５９．１ｍｍｏｌ）を含有する溶液中に、温度を－１５℃～－５℃の範囲に保ちながら、４０分かけて攪拌しながら滴下して添加し、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル１５ｇでリンスした。反応物を攪拌しながらさらに１時間反応させ、室温まで温め、濾過し、透明な反応液を室温でピリジン９．８ｇと水１．０４ｇの混合物で処理する。混合物を一晩放置し、再びろ過し、溶液を減圧下で蒸発させて、２，２－ジメチル－１－プロピル基（Ｒｘ＝２，２－ジメチル－１－プロピル基）９２ｍｏｌ％および水素基（Ｒｙ＝Ｈ）８ｍｏｌ％を含有する、１０．４ｇの生成物を得る。
Ｔｇ＝－２７℃
【0031】
（実施例２）２－ブチル基９２ｍｏｌ％および水素基８ｍｏｌ％を含有するアルキルシリケートの調製
２－ブタノール２６．２ｇ（３５３ｍｍｏｌ）、ピリジン２９．２ｇ（３６９ｍｍｏｌ）およびメチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル１４５ｇを含む溶液を、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル溶液２１６ｇ中に四塩化ケイ素３０．０ｇ（１７７ｍｍｏｌ）を含有する溶液中に、温度を－１５℃～－５℃の範囲に保ちながら、１時間かけて攪拌しながら滴下して添加し、冷却せずにさらに２時間半攪拌した。反応混合物を濾過し、ＭＴＢＥを標準圧力で留去する。残渣はクロロアルコキシシランの混合物からなり、これを１３～１５ｍｂａｒの減圧下で分留する。Ｃｌ２Ｓｉ［Ｏ（２－Ｂｕ）］２およびＣｌＳｉ［Ｏ（２－Ｂｕ）］３からなる８０～８２℃の沸点を有する生成物留分をメチルｔｅｒｔ－ブチルエーテルで希釈し、ピリジン６．８ｇおよび水０．８４ｇの混合物で処理し、一晩攪拌する。これを濾過し、減圧下でメチルｔｅｒｔ－ブチルエーテルを留去する。残渣は、２－ブチル基（Ｒｘ＝２－ブチル基）９２ｍｏｌ％および水素基（Ｒｙ＝Ｈ）８ｍｏｌ％を含有するアルキルシリケートからなる。
Ｔｇ＝－１２４℃、η＝４８．６ｍＰａ・ｓ、γ＝１７．４ｍＮ／ｍ
生成物を１４０℃で２時間加熱しても、水素基の含有量は変化しなかった。
調製した生成物をセメント系石膏ボードに含浸させたところ、撥水性（疎水性）を示した。疎水性の値は＋である。
２－ブタノール２６．２ｇ（３５３ｍｍｏｌ）、ピリジン２９．２ｇ（３６９ｍｍｏｌ）およびメチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル１４５ｇを含む溶液を、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル溶液２１６ｇ中に四塩化ケイ素３０．０ｇ（１７７ｍｍｏｌ）を含有する溶液中に、温度を－１５℃～－５℃の範囲に保ちながら、１時間かけて攪拌しながら滴下して添加し、冷却せずにさらに２時間半攪拌した。反応混合物を濾過し、ＭＴＢＥを標準圧力で留去する。残渣はクロロアルコキシシランの混合物からなり、これを１３～１５ｍｂａｒの減圧下で分留する。Ｃｌ２Ｓｉ［Ｏ（２－Ｂｕ）］２およびＣｌＳｉ［Ｏ（２－Ｂｕ）］３からなる８０～８２℃の沸点を有する生成物留分をメチルｔｅｒｔ－ブチルエーテルで希釈し、ピリジン６．８ｇおよび水０．８４ｇの混合物で処理し、一晩攪拌する。これを濾過し、減圧下でメチルｔｅｒｔ－ブチルエーテルを留去する。残渣は、２－ブチル基（Ｒｘ＝２－ブチル基）９２ｍｏｌ％および水素基（Ｒｙ＝Ｈ）８ｍｏｌ％を含有するアルキルシリケートからなる。
Ｔｇ＝－１２４℃、η＝４８．６ｍＰａ・ｓ、γ＝１７．４ｍＮ／ｍ
生成物を１４０℃で２時間加熱しても、水素基の含有量は変化しなかった。
調製した生成物をセメント系石膏ボードに含浸させたところ、撥水性（疎水性）を示した。疎水性の値は＋である。
【0032】
（実施例３）２－ブチル基８５ｍｏｌ％およびエチル基１５ｍｏｌ％を含有するアルキルシリケートの調製
Ｗａｃｋｅｒ（登録商標） Ｓｉｌｉｃａｔｅ ＴＥＳ ４０ ＷＮ（ＳｉＯ２約４０重量％およびエチル基約６０重量％を含むエチルシリケートであり、式（Ｉ）で表され、式中、Ｒｘ＝Ｒｙ＝エチルおよび相対比ａ：（ｂ＋ｂ’）：（ｃ＋ｃ’＋ｃ’’）：（ｄ＋ｄ’＋ｄ’’＋ｄ’’’）＝１：１９：４２：３８）１５０ｇを、２－ブタノール３６０ｇとナトリウムメトキシド０．１５ｇで処理する。生成したエタノールを４０ｃｍの充填カラムでゆっくりと留去する。過剰の２－ブタノールを除去した後、残渣を塩化アンモニウムで中和し、濾過する。生成物は、２－ブチル基（Ｒｘ＝２－ブチル基）８５ｍｏｌ％およびエチル基（Ｒｙ＝エチル基）１５ｍｏｌ％を含有し、相対比ａ：（ｂ＋ｂ’）：（ｃ＋ｃ’＋ｃ’’）：（ｄ＋ｄ’＋ｄ’’＋ｄ’’’）＝１：１６：４２：４０であるアルキルシリケートからなる。
Ｔｇ＝－１３０℃、η＝２３．２ｍＰａ・ｓ、γ＝２２．３ｍＮ／ｍ
調製した生成物をセメント系石膏ボードに含浸させたところ、非常に良好な撥水性（疎水性）を示した。疎水性の値は＋＋である。
比較のため、使用したＷａｃｋｅｒ（登録商標） Ｓｉｌｉｃａｔｅ ＴＥＳ ４０ ＷＮの疎水性値は：０である。
比較のため、約３５ｍＰａ・ｓの粘度を有するトリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンの疎水性値は：＋＋である。
Ｗａｃｋｅｒ（登録商標） Ｓｉｌｉｃａｔｅ ＴＥＳ ４０ ＷＮ（ＳｉＯ２約４０重量％およびエチル基約６０重量％を含むエチルシリケートであり、式（Ｉ）で表され、式中、Ｒｘ＝Ｒｙ＝エチルおよび相対比ａ：（ｂ＋ｂ’）：（ｃ＋ｃ’＋ｃ’’）：（ｄ＋ｄ’＋ｄ’’＋ｄ’’’）＝１：１９：４２：３８）１５０ｇを、２－ブタノール３６０ｇとナトリウムメトキシド０．１５ｇで処理する。生成したエタノールを４０ｃｍの充填カラムでゆっくりと留去する。過剰の２－ブタノールを除去した後、残渣を塩化アンモニウムで中和し、濾過する。生成物は、２－ブチル基（Ｒｘ＝２－ブチル基）８５ｍｏｌ％およびエチル基（Ｒｙ＝エチル基）１５ｍｏｌ％を含有し、相対比ａ：（ｂ＋ｂ’）：（ｃ＋ｃ’＋ｃ’’）：（ｄ＋ｄ’＋ｄ’’＋ｄ’’’）＝１：１６：４２：４０であるアルキルシリケートからなる。
Ｔｇ＝－１３０℃、η＝２３．２ｍＰａ・ｓ、γ＝２２．３ｍＮ／ｍ
調製した生成物をセメント系石膏ボードに含浸させたところ、非常に良好な撥水性（疎水性）を示した。疎水性の値は＋＋である。
比較のため、使用したＷａｃｋｅｒ（登録商標） Ｓｉｌｉｃａｔｅ ＴＥＳ ４０ ＷＮの疎水性値は：０である。
比較のため、約３５ｍＰａ・ｓの粘度を有するトリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンの疎水性値は：＋＋である。
【0033】
（実施例４）２－ブチル基７５ｍｏｌ％、２，２－ジメチル－１－プロピル基１５ｍｏｌ％、およびエチル基８ｍｏｌ％を含有するアルキルシリケートの調製
シリケートＴＥＳ３４［式（Ｉ）中、Ｒｘ及びＲｙはエチル、相対比ａ：（ｂ＋ｂ’）：（ｃ＋ｃ’＋ｃ’’）：（ｄ＋ｄ’＋ｄ’’＋ｄ’’’）＝０：３：２３：７４］７８．３ｇを、実施例３に記載のように２－ブタノール１５３ｇと反応させる。形成されたアルキルシリケートは、２－ブチル基８７ｍｏｌ％、およびエチル基１３ｍｏｌ％を含む（Ｒｙ＝エチル基）。
このアルキルシリケート２１ｇを２，２－ジメチル－１－プロパノール１６．１ｇと共に１３０～１９０℃に加熱し、充填カラムでエタノール、２－ブタノール、および最後に過剰の２，２－ジメチル－１－プロパノールを充填カラムで除去する。残渣を塩化アンモニウムで処理し、濾過する。生成物は、２－ブチル基（Ｒｘ＝２－ブチル基）７５ｍｏｌ％、２，２－ジメチル－１－プロピル基（Ｒｘ＝２，２－ジメチル－１－プロピル基）１５ｍｏｌ％、及びエチル基（Ｒｙ＝エチル基）８ｍｏｌ％を含有するアルキルシリケートからなる。
Ｔｇ＝－１３４℃、η＝６．６５ｍＰａ・ｓ、γ＝１９．４ｍＮ／ｍ
疎水性の値は＋＋である。
シリケートＴＥＳ３４［式（Ｉ）中、Ｒｘ及びＲｙはエチル、相対比ａ：（ｂ＋ｂ’）：（ｃ＋ｃ’＋ｃ’’）：（ｄ＋ｄ’＋ｄ’’＋ｄ’’’）＝０：３：２３：７４］７８．３ｇを、実施例３に記載のように２－ブタノール１５３ｇと反応させる。形成されたアルキルシリケートは、２－ブチル基８７ｍｏｌ％、およびエチル基１３ｍｏｌ％を含む（Ｒｙ＝エチル基）。
このアルキルシリケート２１ｇを２，２－ジメチル－１－プロパノール１６．１ｇと共に１３０～１９０℃に加熱し、充填カラムでエタノール、２－ブタノール、および最後に過剰の２，２－ジメチル－１－プロパノールを充填カラムで除去する。残渣を塩化アンモニウムで処理し、濾過する。生成物は、２－ブチル基（Ｒｘ＝２－ブチル基）７５ｍｏｌ％、２，２－ジメチル－１－プロピル基（Ｒｘ＝２，２－ジメチル－１－プロピル基）１５ｍｏｌ％、及びエチル基（Ｒｙ＝エチル基）８ｍｏｌ％を含有するアルキルシリケートからなる。
Ｔｇ＝－１３４℃、η＝６．６５ｍＰａ・ｓ、γ＝１９．４ｍＮ／ｍ
疎水性の値は＋＋である。
【0034】
（実施例５）３，３，５－トリメチルシクロヘキシル基を含有するアルキルシリケートの調製
フラスコに、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノール１９０．２ｇ（１．３４ｍｏｌ）、Ｗａｃｋｅｒ（登録商標） Ｓｉｌｉｃａｔｅ ＴＥＳ ４０ ＷＮ（エトキシ基１．０９ｍｏｌ含有）８３．８ｇ（１．０９ｍｏｌ）、およびナトリウムメトキシド８１ｍｇを仕込む。反応中に生成したエタノールを留去し、底部温度は反応の過程で２００℃まで上昇する。
過剰の３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールは、４５ｍｂａｒ、底部温度１３５℃、塔頂温度１１０℃で留去する。生成物は、式Ｉ（Ｒｘ＝３，３，５－トリメチルシクロヘキシルラジカル、Ｒｙ＝エチル、Ｒｘ：Ｒｙ＝９９．８：０．２、相対比ａ：（ｂ＋ｂ’）：（ｃ＋ｃ’＋ｃ’’）：（ｄ＋ｄ’＋ｄ’’＋ｄ’’’）＝１：２８：３３：３８）により、無色液体として得られる。
Ｔｇ＝－４３℃、η＝２．４６ｍＰａ・ｓ
フラスコに、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノール１９０．２ｇ（１．３４ｍｏｌ）、Ｗａｃｋｅｒ（登録商標） Ｓｉｌｉｃａｔｅ ＴＥＳ ４０ ＷＮ（エトキシ基１．０９ｍｏｌ含有）８３．８ｇ（１．０９ｍｏｌ）、およびナトリウムメトキシド８１ｍｇを仕込む。反応中に生成したエタノールを留去し、底部温度は反応の過程で２００℃まで上昇する。
過剰の３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールは、４５ｍｂａｒ、底部温度１３５℃、塔頂温度１１０℃で留去する。生成物は、式Ｉ（Ｒｘ＝３，３，５－トリメチルシクロヘキシルラジカル、Ｒｙ＝エチル、Ｒｘ：Ｒｙ＝９９．８：０．２、相対比ａ：（ｂ＋ｂ’）：（ｃ＋ｃ’＋ｃ’’）：（ｄ＋ｄ’＋ｄ’’＋ｄ’’’）＝１：２８：３３：３８）により、無色液体として得られる。
Ｔｇ＝－４３℃、η＝２．４６ｍＰａ・ｓ
【0035】
（実施例６）加水分解安定性
実施例３からの生成物（結合した２－ブチル基３４．５ｍｍｏｌおよび結合したエチル基６．１３ｍｍｏｌを含む）４．０３ｇを、Ｄ２Ｏ４．００ｇ（２００ｍｍｏｌ）および無水酢酸ナトリウム９７．１ｍｇ（１．１８ｍｍｏｌ）で処理し、二相混合物を密閉フラスコの中で２３～２５℃で攪拌する。水相のｐＨは７．５である。５１日後に１Ｈ－ＮＭＲ分光法で測定すると、Ｄ２Ｏ相中の２－ブタノールおよびエタノールの含有量は、２－ブタノール（結合ブチル基に対して約１ｍｏｌ％）３５μｍｏｌ、およびエタノール（結合エチル基に対して約０．０８ｍｏｌ％）４．７７μｍｏｌから構成される。
実施例３からの生成物（結合した２－ブチル基３４．５ｍｍｏｌおよび結合したエチル基６．１３ｍｍｏｌを含む）４．０３ｇを、Ｄ２Ｏ４．００ｇ（２００ｍｍｏｌ）および無水酢酸ナトリウム９７．１ｍｇ（１．１８ｍｍｏｌ）で処理し、二相混合物を密閉フラスコの中で２３～２５℃で攪拌する。水相のｐＨは７．５である。５１日後に１Ｈ－ＮＭＲ分光法で測定すると、Ｄ２Ｏ相中の２－ブタノールおよびエタノールの含有量は、２－ブタノール（結合ブチル基に対して約１ｍｏｌ％）３５μｍｏｌ、およびエタノール（結合エチル基に対して約０．０８ｍｏｌ％）４．７７μｍｏｌから構成される。
【0036】
（実施例７）加水分解安定性
実施例５からの生成物４．９７ｇを水（ｐＨ７．０）５．０６ｇ（２００ｍｍｏｌ）で処理し、混合物を２３～２５℃で１９日間攪拌する。この混合物をジクロロメタンで抽出する。３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールの含有量は、ナフタレンを標準物質とするガスクロマトグラフィーにより測定する。３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールの含有量は、０．１６％である。
実施例５からの生成物４．９７ｇを水（ｐＨ７．０）５．０６ｇ（２００ｍｍｏｌ）で処理し、混合物を２３～２５℃で１９日間攪拌する。この混合物をジクロロメタンで抽出する。３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールの含有量は、ナフタレンを標準物質とするガスクロマトグラフィーにより測定する。３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールの含有量は、０．１６％である。
【0037】
（実施例８）加水分解安定性
実施例７の反応を、トンシル（登録商標）（酸活性化漂白土）２２０ｍｇを用いて繰り返す。３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールの含有量は、０．６７ｍｏｌ％である。
実施例７の反応を、トンシル（登録商標）（酸活性化漂白土）２２０ｍｇを用いて繰り返す。３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールの含有量は、０．６７ｍｏｌ％である。
【0038】
（実施例９）加水分解安定性
実施例７の反応を、酢酸ナトリウム２．０８ｇを用いて繰り返し、ｐＨ８．８を得る。３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールの含有量は、０．２９ｍｏｌ％である。
実施例７の反応を、酢酸ナトリウム２．０８ｇを用いて繰り返し、ｐＨ８．８を得る。３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールの含有量は、０．２９ｍｏｌ％である。