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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-11-08
(45)【発行日】2024-11-18
(54)【発明の名称】表示装置
(51)【国際特許分類】
H10K 50/82 20230101AFI20241111BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20241111BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20241111BHJP
H10K 59/121 20230101ALI20241111BHJP
H10K 59/122 20230101ALI20241111BHJP
H10K 50/813 20230101ALI20241111BHJP
H10K 102/20 20230101ALN20241111BHJP
【ＦＩ】
H10K50/82
G09F9/30 365
G09F9/30 348A
G09F9/30 339Z
H10K50/10
H10K59/121
H10K59/122
H10K50/813
H10K102:20
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2021012185
(22)【出願日】2021-01-28
(65)【公開番号】P2022115548
(43)【公開日】2022-08-09
【審査請求日】2023-12-05
(73)【特許権者】
【識別番号】502356528
【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ
(74)【代理人】
【識別番号】110001737
【氏名又は名称】弁理士法人スズエ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】高橋 英幸
【審査官】藤岡 善行
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１７－１７４８１１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－０８９５０５（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０２２／１２３３８３（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ１０Ｋ ５０／８２
Ｈ１０Ｋ ５０／１０
Ｈ１０Ｋ ５９／１２１
Ｈ１０Ｋ ５９／１２２
Ｈ１０Ｋ ５０／８１３
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、前記基材の上に配置された第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の上に配置された第１電極と、
前記第１電極の上に配置された有機層と、
前記有機層の上に配置された第２電極と、
前記第１絶縁層の上に配置され、前記第２電極に重畳する開口部を有する第２絶縁層と、
前記第２電極及び前記第２絶縁層を覆う第３電極と
を具備し、
前記第１電極、前記有機層及び前記第２電極は、複数の画素の各々と重畳するように分離されており、
前記有機層は、第１画素と重畳する第１電極と、前記第１画素と隣接する第２画素と重畳する第１電極との間の前記第１絶縁層の上に更に配置されており、
前記第２電極は、前記第１画素と重畳する第１電極と、前記第２画素と重畳する第１電極との間に配置されている前記有機層の上に更に配置され、前記第２絶縁層によって覆われている
表示装置。
【請求項2】
前記有機層は、発光層及び機能層を有し、前記第２電極は、前記発光層及び機能層の端面を覆わないように形成される請求項１記載の表示装置。
【請求項3】
前記第１電極の厚みは、前記有機層の厚みよりも大きい請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項4】
前記第１電極は、上部の幅が下部の幅よりも大きい形状を有する請求項３記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、表示素子として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を適用した表示装置が実用化されている。表示素子は、画素電極と共通電極との間に有機層を備えている。
【0003】
しかしながら、表示装置の構成によっては有機層の端部から意図しない電流（横リーク）が発生し、当該横リークは当該表示装置における表示品位の低下の要因となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０００－１９５６７７号公報
【文献】特開２００４－２０７２１７号公報
【文献】特開２００８－１３５３２５号公報
【文献】特開２００９－３２６７３号公報
【文献】特開２０１０－１１８１９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
そこで、本発明の目的は、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
実施形態に係る表示装置は、基材と、前記基材の上に配置された第１絶縁層と、前記第１絶縁層の上に配置された第１電極と、前記第１電極の上に配置された有機層と、前記有機層の上に配置された第２電極と、前記第１絶縁層の上に配置され、前記第２電極に重畳する開口部を有する第２絶縁層と、前記第２電極及び前記第２絶縁層を覆う第３電極とを具備する。前記第１電極、前記有機層及び前記第２電極は、複数の画素の各々と重畳するように分離されている。前記有機層は、第１画素と重畳する第１電極と、前記第１画素と隣接する第２画素と重畳する第１電極との間の前記第１絶縁層の上に更に配置されている。前記第２電極は、前記第１画素と重畳する第１電極と、前記第２画素と重畳する第１電極との間に配置されている前記有機層の上に更に配置され、前記第２絶縁層によって覆われている。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】第１実施形態に係る表示装置の構成の一例を示す図。
【図2】画素に含まれる副画素のレイアウトの一例を示す図。
【図3】画素に含まれる副画素のレイアウトの他の例を示す図。
【図4】本実施形態の比較例に係る表示装置が備える表示領域の断面の一例を示す図。
【図5】本実施形態の比較例に係る表示装置における有機層及び第２電極が形成されるプロセスについて説明するための図。
【図6】本実施形態に係る表示装置が備える表示領域の断面の一例を示す図。
【図7】本実施形態における副画素の概略的な平面図。
【図8】本実施形態に係る表示装置における有機層、第２電極及び第３電極が形成されるプロセスについて説明するための図。
【図9】本実施形態に係る表示装置における有機層及び第２電極の端部を拡大して示す図。
【図10】本実施形態の比較例に係る表示装置における有機層及び第２電極の端部を拡大して示す図。
【図11】第２実施形態に係る表示装置が備える表示領域の断面の一例を示す図。
【図12】本実施形態に係る表示装置における有機層及び第３電極が形成されるプロセスについて説明するための図。
【図13】本実施形態に係る表示装置における有機層の端部を拡大して示す図。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図面を参照して、本発明の各実施形態について説明する。
なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一または類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一または類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【0009】
また、図面には、必要に応じて理解を容易にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を記載する。Ｘ軸に沿った方向を第１方向Ｘと称し、Ｙ軸に沿った方向を第２方向Ｙと称し、Ｚ軸に沿った方向を第３方向Ｚと称する。なお、本実施形態においては、Ｘ軸及びＹ軸によって規定されるＸ－Ｙ平面を見ることを平面視という。また、本実施形態においては、第３方向Ｚを上と定義し、第３方向Ｚの反対側の方向を下と定義する。「第１部材の上の第２部材」及び「第１部材の下の第２部材」とした場合、第２部材は、第１部材に接していてもよく、第１部材から離れて位置していてもよい。
【0010】
本実施形態に係る表示装置ＤＳＰは、表示素子として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置であり、テレビ、パソコン、携帯端末及び携帯電話等に搭載される。
【0011】
（第１実施形態）
まず、第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰの構成の一例を示す図である。表示装置ＤＳＰは、絶縁性の基材１０の上に、画像を表示する表示領域ＤＡを備えている。基材１０は、ガラスであってもよいし、可撓性を有する樹脂フィルムであってもよい。
まず、第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰの構成の一例を示す図である。表示装置ＤＳＰは、絶縁性の基材１０の上に、画像を表示する表示領域ＤＡを備えている。基材１０は、ガラスであってもよいし、可撓性を有する樹脂フィルムであってもよい。
【0012】
表示領域ＤＡは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配列された複数の画素ＰＸを備えている。画素ＰＸは、例えば複数の副画素ＳＰを備えている。一例では、画素ＰＸは、赤色を表示するための副画素ＳＰ１、緑色を表示するための副画素ＳＰ２及び青色を表示するための副画素ＳＰ３を備えている。なお、画素ＰＸは、上記の３色の副画素ＳＰの他に、白色等の他の色を表示するための副画素を加えた４個以上の副画素ＳＰを備えていてもよい。
【0013】
ここで、画素ＰＸに備えられる１つの副画素ＳＰの一構成例について簡単に説明する。副画素ＳＰは、画素回路１と、表示素子２０とを備えている。画素回路１は、画素スイッチ２と、駆動トランジスタ３と、キャパシタ４とを備えている。画素スイッチ２及び駆動トランジスタ３は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）により構成されたスイッチ素子である。
【0014】
画素スイッチ２について、ゲート電極は走査線ＧＬに接続され、ソース電極は信号線ＳＬに接続され、ドレイン電極はキャパシタ４を構成する一方の電極及び駆動トランジスタ３のゲート電極に接続されている。駆動トランジスタ３について、ソース電極はキャパシタ４を構成する他方の電極及び電源線ＰＬに接続され、ドレイン電極は表示素子２０のアノード電極に接続されている。表示素子２０のカソード電極は、給電線ＦＬに接続されている。なお、画素回路１の構成は、図示した例に限られない。
【0015】
表示素子２０は、発光素子である有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）である。上記したように副画素ＳＰ１が赤色を表示する場合、当該副画素ＳＰ１が備える表示素子２０は、赤色の波長に対応した光を出射するように構成されている。副画素ＳＰ２が緑色を表示する場合、当該副画素ＳＰ２が備える表示素子２０は、緑色の波長に対応した光を出射するように構成されている。副画素ＳＰ３が青色を表示する場合、当該副画素ＳＰ３が備える表示素子２０は、青色の波長に対応した光を出射するように構成されている。表示素子２０の構成については、後述する。
【0016】
【0017】
１個の画素ＰＸを構成する副画素ＳＰ１、ＳＰ２及びＳＰ３は、それぞれ第２方向Ｙに延びた略長方形状に形成され、第１方向Ｘに並んでいる。第１方向Ｘに並んだ２個の画素ＰＸに着目すると、隣接する副画素ＳＰにおいて表示される色は互いに異なる。また、第２方向Ｙに並んだ２個の画素ＰＸに着目すると、隣接する副画素ＳＰにおいて表示される色は同一である。なお、副画素ＳＰ１、ＳＰ２及びＳＰ３の各々の面積は、同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。
【0018】
図３は、画素ＰＸに含まれる複数の副画素ＳＰ（ＳＰ１、ＳＰ２及びＳＰ３）のレイアウトの他の例を示す。
【0019】
１個の画素ＰＸを構成する副画素ＳＰ１及びＳＰ２は第２方向Ｙに並び、副画素ＳＰ１及びＳＰ３は第１方向Ｘに並び、副画素ＳＰ２及びＳＰ３は第１方向Ｘに並んでいる。副画素ＳＰ１は第１方向Ｘに延びた略長方形状に形成され、副画素ＳＰ２及びＳＰ３は第２方向Ｙに延びた略長方形状に形成されている。副画素ＳＰ２の面積は副画素ＳＰ１の面積より大きく、副画素ＳＰ３の面積は副画素ＳＰ２の面積より大きい。なお、副画素ＳＰ１の面積は、副画素ＳＰ２の面積と同一であってもよい。
【0020】
第１方向Ｘに並んだ２個の画素ＰＸに着目すると、副画素ＳＰ１及びＳＰ３が交互に配置された領域、及び、副画素ＳＰ２及びＳＰ３が交互に配置された領域では、第１方向Ｘに隣接する副画素ＳＰにおいて表示される色は互いに異なる。一方、第２方向Ｙに並んだ２個の画素ＰＸに着目すると、副画素ＳＰ１及び副画素ＳＰ２が交互に配置された領域では、第２方向Ｙに隣接する副画素ＳＰの発光色は互いにとなる。また、複数の副画素ＳＰ３が並んだ領域では、第２方向Ｙに隣接する副画素ＳＰにおいて表示される色は同一である。
【0021】
なお、図２及び図３に示す副画素ＳＰ（ＳＰ１、ＳＰ２及びＳＰ３）の外形は、当該副画素ＳＰにおいて色が表示される領域（つまり、発光領域）の外形に相当するが、簡略化して示したものであり、必ずしも実際の形状を反映したものとは限らない。
【0022】
ここで、図４を参照して、本実施形態の比較例に係る表示装置ＤＳＰ´について説明する。なお、表示装置ＤＳＰ´は図１に示す表示装置ＤＳＰと同様の構成を有しているものとし、当該表示装置ＤＳＰと共通する構成については図１と同一参照符号を付して説明する。
【0023】
図４は、表示装置ＤＳＰ´が備える表示領域ＤＡの断面の一例を示している。ここでは、表示領域ＤＡに配置されている画素ＰＸに備えられる副画素ＳＰ１及び当該副画素ＳＰ１に隣接する副画素ＳＰ２について主に説明する。
【0024】
絶縁層１１は、基材１０の上に配置されている。なお、図１に示す画素回路１は、基材１０の上に配置され、絶縁層１１によって覆われているが、図４においては省略されている。絶縁層１１は、表示素子２０の下地層に相当し、例えば有機絶縁層である。
【0025】
絶縁層１２は、絶縁層１１の上に配置されている。絶縁層１２は、例えば有機絶縁層である。絶縁層１２は、複数の副画素ＳＰの各々が備える表示素子２０（つまり、副画素ＳＰ）を区画するように形成されており、例えばリブ等と称される場合がある。
【0026】
表示素子２０は、第１電極Ｅ１、有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２を備えている。第１電極Ｅ１は、複数の副画素ＳＰの各々が備える表示素子２０（つまり、副画素ＳＰ）毎に配置された電極であり、画素電極、下部電極またはアノード電極等と称される場合がある。第２電極Ｅ２は、複数の表示素子２０（つまり、複数の副画素ＳＰまたは画素ＰＸ）に対して共通に配置された電極であり、共通電極、対向電極、上部電極またはカソード電極等と称される場合がある。
【0027】
第１電極Ｅ１は、絶縁層１１の上に配置され、その周縁部が絶縁層１２によって覆われている。第１電極Ｅ１は、駆動トランジスタ３と電気的に接続されている。第１電極Ｅ１は、例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）またはインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような透明導電材料によって形成された透明電極である。なお、第１電極Ｅ１は、銀、アルミニウム等の金属材料によって形成された金属電極であってもよい。また、第１電極Ｅ１は、透明電極及び金属電極の積層体であってもよい。更に、第１電極Ｅ１は、透明電極、金属電極及び透明電極の順に積層された積層体として構成されていてもよいし、３層以上の積層体として構成されていてもよい。
【0028】
ここで、絶縁層１２は、各副画素ＳＰにおいて第１電極Ｅ１に重畳する開口部ＯＰを有している。この場合、有機層ＯＲは、絶縁層１２の上に配置され、開口部ＯＰを通じて第１電極Ｅ１と接している。
【0029】
第２電極Ｅ２は、有機層ＯＲを覆うように当該有機層ＯＲの上に配置されている。第２電極Ｅ２は、例えばＩＴＯまたはＩＺＯ等の透明導電材料によって形成された透明電極である。第２電極Ｅ２は、表示領域ＤＡに配置された給電線ＦＬまたは表示領域ＤＡの外側に配置された給電線ＦＬと電気的に接続されている。なお、第２電極Ｅ２は、透明な保護膜（無機絶縁膜及び有機絶縁膜の少なくとも１つを含む）によって覆われていてもよい。
【0030】
なお、図４においては、副画素ＳＰ１及びＳＰ２の断面が示されているが、副画素ＳＰ１は、当該副画素ＳＰ１と重畳する位置に配置された第１電極Ｅ１、有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２（の一部）を備える表示素子２０（以下、副画素ＳＰ１の表示素子２０と表記）を備える。同様に、副画素ＳＰ２は、当該副画素ＳＰ２と重畳する位置に配置された第１電極Ｅ１、有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２（の一部）を備える表示素子２０（以下、副画素ＳＰ２の表示素子２０と表記）を備える。
【0031】
上記したように副画素ＳＰ１が赤色を表示する場合、当該副画素ＳＰ１の表示素子２０に備えられる有機層ＯＲは、赤色を発光する発光層を有する。副画素ＳＰ２が緑色を表示する場合、当該副画素ＳＰ２の表示素子２０に備えられる有機層ＯＲは、緑色を発光する発光層を有する。なお、有機層ＯＲが有する発光層は、第１電極Ｅ１と第２電極Ｅ２との間に電位差を形成する（つまり、駆動電流を供給する）ことによって発光する。
【0032】
図４においては、副画素ＳＰ１及びＳＰ２のみが示されているが、副画素ＳＰ３の表示素子２０についても副画素ＳＰ１及びＳＰ２の表示素子２０と同様に構成されている。すなわち、副画素ＳＰ３が青色を表示する場合、当該副画素ＳＰ３の表示素子２０に備えられる有機層ＯＲは、青色を発光する発光層を有する。
【0033】
ここで、図５を参照して、本実施形態の比較例に係る表示装置ＤＳＰ´における有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２が形成されるプロセスについて簡単に説明する。ここでは、絶縁層１１の上に第１電極Ｅ１及び開口部ＯＰを有する絶縁層１２が既に形成されているものとする。
【0034】
この場合、第１電極Ｅ１の上に有機層ＯＲが形成されるが、副画素ＳＰ１の表示素子２０（つまり、副画素ＳＰ１と重畳する位置）においては、赤色を発光する発光層を有する有機層ＯＲ（以下、有機層ＯＲ（Ｒ）と表記）を形成する必要がある。一方、副画素ＳＰ２の表示素子２０（つまり、副画素ＳＰ２と重畳する位置）においては、緑色を発光する発光層を有する有機層ＯＲ（以下、有機層ＯＲ（Ｇ）と表記）を形成する必要がある。
【0035】
このため、本実施形態に係る比較例においては、図５に示すように、副画素ＳＰ１と重畳する位置に有機層ＯＲ（Ｒ）を形成した後で、副画素ＳＰ２と重畳する位置に有機層ＯＲ（Ｇ）を形成し、更に当該有機層ＯＲ（Ｒ）及びＯＲ（Ｇ）を覆うように第２電極Ｅ２を形成する。なお、副画素ＳＰ１と重畳する位置に配置される有機層ＯＲ（Ｒ）及び副画素ＳＰ２と重畳する位置に配置される有機層ＯＲ（Ｇ）は、それぞれ例えばファインマスク等を用いたパターニングにより形成され得る。
【0036】
しかしながら、上記した図５に示すようなプロセスで有機層ＯＲ（Ｒ）、ＯＲ（Ｇ）及び第２電極Ｅ２が形成される場合において副画素ＳＰ１及びＳＰ２（つまり、各色）間で位置ずれが生じると、図４及び図５に示すように、例えば有機層ＯＲ（Ｒ）の端部が有機層ＯＲ（Ｇ）の端部と重なり合うことがある。このような構成によれば、例えば副画素ＳＰ２において緑色を表示する（つまり、有機層ＯＲ（Ｇ）が有する発光層を発光させる）際に、当該有機層ＯＲ（Ｇ）の端部から有機層ＯＲ（Ｒ）に電流（横リーク）が流れ、当該有機層ＯＲ（Ｒ）が有する発光層が発光する現象（以下、寄生発光と表記）が発生する場合がある。このような横リークに基づく寄生発光は、混色等を招き、表示品位の低下の要因となり得る。
【0037】
そこで、本実施形態においては、上記した横リークの発生を抑制するための構成を有する。
【0038】
以下、図６を参照して、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰの横リークの発生を抑制するための構成の一例について説明する。図６は、表示装置ＤＳＰが備える表示領域ＤＡの断面の一例を示している。ここでは、表示領域ＤＡに配置されている画素ＰＸに備えられる副画素ＳＰ１及び当該副画素ＳＰ１に隣接する副画素ＳＰ２について主に説明する。なお、図６においては、上記した図４と同様の部分には同一参照符号を付してその詳しい説明を省略し、当該図４と異なる部分について主に述べる。
【0039】
本実施形態においては上記した本実施形態の比較例と同様に絶縁層１１の上に第１電極Ｅ１が配置されるが、本実施形態における第１電極Ｅ１は、有機層ＯＲが形成される際に当該第１電極Ｅ１の端部が絶縁層１２で覆われていない点で、当該比較例における第１電極Ｅ１とは異なる。なお、本実施形態における第１電極Ｅ１は少なくとも有機層ＯＲよりも厚く形成されており、例えば有機層ＯＲが１０ｎｍ程度であるものとすると、本実施形態における第１電極Ｅ１は１００ｎｍ程度に形成される。
【0040】
また、本実施形態において、有機層ＯＲは第１電極Ｅ１の上に配置され、第２電極Ｅ２は有機層ＯＲの上に配置される。
【0041】
更に、絶縁層１２は、絶縁層１１の上に配置され、第２電極Ｅ２に重畳する開口部ＯＰを有する。
【0042】
また、本実施形態においては、第２電極Ｅ２及び絶縁層１２を覆うように第３電極Ｅ３が配置される。
【0043】
なお、図７は、図６に示す副画素ＳＰ１及びＳＰ２の概略的な平面図である。本実施形態においては、図７に示すように、絶縁層１２は副画素ＳＰ１及びＳＰ２の各々に対して開口部ＯＰを有しており、当該開口部ＯＰと重畳する位置に第１電極Ｅ１、有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２が配置されている。このように第１電極Ｅ１、有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２が重畳する部分は各副画素ＳＰ（ＳＰ１及びＳＰ２）の発光部として機能し、当該発光部から当該副画素ＳＰに応じた色の光を出射することができる。このような構成によれば、例えば絶縁層１２を透明有機物で形成することにより、開口部ＯＰよりも一回り大きい領域から光を出射する（取り出す）ことができ、高開口率化を実現することができる。なお、図７においては、第３電極Ｅ３については省略されている。
【0044】
ここで、図８を参照して、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰにおける有機層ＯＲ、第２電極Ｅ２及び第３電極Ｅ３が形成されるプロセスについて簡単に説明する。ここでは、絶縁層１１の上に第１電極Ｅ１が既に形成されているものとする。
【0045】
まず、有機層ＯＲ（Ｒ）が副画素ＳＰ１と重畳する位置に配置された第１電極Ｅ１の上に形成（成膜）される。なお、本実施形態においては上記したように第１電極Ｅ１は有機層ＯＲ（Ｒ）と比較して十分に厚く形成されているため、副画素ＳＰ１と重畳する位置に有機層ＯＲ（Ｒ）を形成しようとした場合、当該副画素ＳＰ１と重畳する位置に配置されている第１電極Ｅ１の端部で有機層ＯＲ（Ｒ）の段切れが生じ、有機層ＯＲ（Ｒ）は当該第１電極Ｅ１上に島状に形成される。この場合、第１電極Ｅ１の端部で段切れした有機層ＯＲ（Ｒ）´は、絶縁層１１上に配置される。
【0046】
上記したように有機層ＯＲ（Ｒ）が形成された場合、有機層ＯＲ（Ｇ）が副画素ＳＰ２と重畳する位置に配置された第１電極Ｅ１の上に形成（成膜）される。なお、上記したように第１電極Ｅ１は有機層ＯＲ（Ｇ）と比較して十分に厚く形成されているため、副画素ＳＰ１と重畳する位置に有機層ＯＲ（Ｇ）を形成しようとした場合、当該副画素ＳＰ２と重畳する位置に配置されている第１電極Ｅ１の端部で有機層ＯＲ（Ｇ）の段切れが生じ、有機層ＯＲ（Ｇ）は当該第１電極Ｅ１上に島状に形成される。この場合、第１電極Ｅ１の端部で段切れした有機層ＯＲ（Ｇ）´は、絶縁層１１上に配置される。
【0047】
上記したように有機層ＯＲ（Ｇ）が形成された場合、第２電極Ｅ２が有機層ＯＲ（Ｒ）及びＯＲ（Ｇ）の上に形成（成膜）される。なお、本実施形態においては上記した第１電極Ｅ１により段切れを生じさせる構成であるから、第２電極Ｅ２を例えば表示領域ＤＡ全体に形成することにより、副画素ＳＰ毎に分離した第２電極Ｅ２を第１電極Ｅ１及び有機層ＯＲ上に配置することができる。なお、第１電極Ｅ１の端部で段切れした第２電極Ｅ２´は、絶縁層１１上に配置された有機層ＯＲ（Ｒ）´及びＯＲ（Ｇ）´上に配置される。
【0048】
すなわち、本実施形態においては、有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２の段切れが生じるように第１電極Ｅ１を副画素ＳＰ毎に形成することにより、当該有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２を副画素ＳＰ毎に分離して形成することができる。
【0049】
なお、本実施形態においては、有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２の段切れを生じやすくするために、第１電極Ｅ１の上部の幅が下部の幅よりも大きい形状となるように第１電極Ｅ１を形成することが好ましい。
【0050】
具体的には、図６及び図８においては、上部から下部に向けて段階的に幅が小さくなるように第１電極Ｅ１が形成されている。第１電極Ｅ１は例えば透明電極及び金属電極（例えば、Ａｇ等）の積層体として形成される場合があるが、このような構成の場合には、上部の幅と下部の幅が一致する形状の第１電極Ｅ１を形成した後に金属電極で構成される部分をサイドエッチング等により除去することによって、図６及び図８に示すような第１電極Ｅ１を形成することができる。なお、第１電極Ｅ１は他の処理によって形成されてもよい。
【0051】
また、第１電極Ｅ１は、例えば逆テーパ形状のような形状であってもよい。更に、第１電極Ｅ１の側面は、第３方向Ｚに対して傾斜した平面であってもよいし、曲面であってもよい。
【0052】
上記したように有機層ＯＲ（Ｒ）、ＯＲ（Ｇ）及び第２電極Ｅ２が形成された場合、有機層ＯＲ（Ｒ）、ＯＲ（Ｇ）及び第２電極Ｅ２の端部を覆うように絶縁層１１上に配置されるとともに、当該第２電極Ｅ２と重畳する開口部ＯＰを有する絶縁層１２が形成される。
【0053】
ところで、第２電極Ｅ２は複数の副画素ＳＰ（複数の画素ＰＸ）に対して共通の電圧を印加するための電極であるが、上記した図８に示すプロセスによれば、当該第２電極Ｅ２は副画素ＳＰ毎に島状に形成される。このように島状に形成された複数の第２電極Ｅ２の各々に共通の電圧を印加するためには、例えば隣接する副画素ＳＰ（例えば、副画素ＳＰ１及びＳＰ２）の各々と重畳する位置（領域）に形成された第２電極Ｅ２同士を接続する必要があるが、本実施形態においては、当該第２電極Ｅ２同士を接続するための第３電極Ｅ３が、当該第２電極Ｅ２及び絶縁層１２を覆うように形成（成膜）される。このような第３電極Ｅ３は、表示領域ＤＡに配置されている複数の画素ＰＸ（副画素ＳＰ）に亘って形成されればよい。この第３電極Ｅ３によれば、複数の副画素ＳＰの各々に重畳する位置に島状に形成されている第２電極Ｅ２を介して当該副画素ＳＰの各々に共通の電圧を印加することができる。
【0054】
【0055】
上記したように本実施形態に係る表示装置ＤＳＰは、基材１０と、当該基材１０の上に配置された絶縁層１１（第１絶縁層）と、当該絶縁層１１の上に配置された第１電極Ｅ１と、当該第１電極Ｅ１の上に配置された有機層ＯＲと、当該有機層の上に配置された第２電極Ｅ２と、当該絶縁層１１の上に配置され、第２電極Ｅ２に重畳する開口部ＯＰを有する絶縁層１２と、当該第２電極Ｅ２及び当該絶縁層１２を覆う第３電極とを備え、第１電極Ｅ１、有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２は、副画素ＳＰ毎に分離されている。
【0056】
上記した本実施形態の比較例においては、例えば副画素ＳＰ１の有機層ＯＲ（Ｒ）の端部が当該副画素ＳＰ１と隣接する副画素ＳＰ２の有機層ＯＲ（Ｇ）の端部と重なり合うことにより横リークが生じる場合があるが、本実施形態においては、副画素ＳＰ１の有機層ＯＲ（Ｒ）及び副画素ＳＰ２の有機層ＯＲ（Ｇ）を副画素ＳＰ毎に分離させているため、横リークに基づく寄生発光の発生を防止し、表示品位の低下を抑制することができる。
【0057】
また、本実施形態において、副画素ＳＰと重畳する位置に形成された第２電極Ｅ２は、第３電極Ｅ３を介して接続される。すなわち、本実施形態においては、第２電極Ｅ２を副画素ＳＰ毎に分離した構成としたとしても、第３電極Ｅ３により表示装置ＤＳＰ（に備えられている第２電極Ｅ２）を正常に駆動することができる。
【0058】
更に、本実施形態においては、例えば有機層ＯＲの厚みよりも大きな厚みを有するように第１電極Ｅ１を形成することにより、有機層ＯＲ（及び第２電極Ｅ２）を段切れさせ、当該有機層ＯＲを副画素ＳＰ毎に適切に分離することができる。なお、有機層ＯＲの適切に段切れさせる観点からすると、上記した第１電極Ｅ１は例えば上部の幅が下部の幅よりも大きい形状を有するように形成されることが好ましい。ここでは第１電極Ｅ１により有機層ＯＲ（及び第２電極Ｅ２）を分離させる構成について説明したが、本実施形態においては、横リークの発生を防止するために少なくとも有機層ＯＲが副画素ＳＰ毎に分離されていればよく、当該有機層ＯＲの分離は第１電極Ｅ１以外の手段によって実現されていてもよい。
【0059】
ここで、図９は、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰにおける有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２の端部（周縁部）を拡大して示す図である。なお、本実施形態においては詳しい説明を省略したが、有機層ＯＲは、例えば第１電極Ｅ１から第２電極Ｅ２に向けて順に積層される機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２を備える。なお、第１電極Ｅ１の電位が第２電極Ｅ２の電位よりも相対的に高い場合には、第１電極Ｅ１がアノードに相当し、第２電極Ｅ２がカソードに相当する。この場合、発光層ＥＬと第１電極Ｅ１との間の機能層Ｆ１は、ホール注入層及びホール輸送層の少なくとも１つを含み、発光層ＥＬと第２電極Ｅ２との間の機能層Ｆ２は、電子輸送層及び電子注入層の少なくとも１つを含む。なお、機能層Ｆ１及びＦ２の各々は、単層体に限らず、複数の機能層が積層された積層体であってもよい。
【0060】
ここでは第１電極Ｅ１がアノードに相当し、第２電極Ｅ２がカソードに相当する場合について説明したが、第１電極Ｅ１がカソードに相当し、第２電極Ｅ２がアノードに相当する構成とすることも可能である。
【0061】
また、ここでは有機層ＯＲが機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２を備えるものとして説明するが、当該有機層ＯＲは、他の機能層を更に備えていてもよいし、機能層Ｆ１及びＦ２のうちの少なくとも一方が省略された構成であってもよい。
【0062】
図９においては、有機層ＯＲ（機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２）及び第２電極Ｅ２の各々の端面が概ね揃っている例が示されている。
【0063】
一方、図１０は、本実施形態の比較例として、有機層ＯＲが備える機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２の端面（端部）が当該有機層ＯＲの上に配置される第２電極Ｅ２によって覆われている（当該第２電極Ｅ２と接触している）例を示している。図１０に示すように有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２が構成されているものとすると、有機層ＯＲ（機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２）の端部から発光層ＥＬの発光に寄与しない電流（端部リーク）が発生する。この端部リークは、表示装置ＤＳＰの性能劣化の要因となる。
【0064】
このため、本実施形態においては、上記した図９に示すように、第２電極Ｅ２が有機層ＯＲに備えられる機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２の端面を覆わない（機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２の端面が第２電極Ｅ２と接しない）ように形成されることが好ましい。換言すれば、本実施形態における有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２は、当該第２電極Ｅ２の端部（端面）が平面視において当該有機層ＯＲの端面と一致するか、当該有機層ＯＲの端面よりも開口部ＯＰ側（すなわち、副画素ＳＰの中心側）となるように形成されることが好ましい。
【0065】
なお、第２電極Ｅ２は例えば指向性のある真空蒸着法によって形成され得るが、上記した有機層ＯＲが備える機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２の端面を覆わない第２電極は、当該真空蒸着法における指向性を考慮することによって形成可能である。
【0066】
また、図９においては有機層ＯＲが備える機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２の端面が概ね揃っている例について説明したが、上記したように第２電極Ｅ２が機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２の端面を覆わないように形成されるのであれば、当該機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２の各々の端面は揃っていなくても構わない。
【0067】
なお、本実施形態においては画素ＰＸが副画素ＳＰ１、ＳＰ２及びＳＰ３を備え、当該副画素ＳＰ１、ＳＰ２及びＳＰ３の各々が赤色、緑色及び青色の波長に対応した光を出射する表示素子２０を備えるものとして説明したが、当該副画素ＳＰ１、ＳＰ２及びＳＰ３の各々の表示素子２０は、例えば白色の光を出射してもよい。この場合、例えば表示装置ＤＳＰが各表示素子２０と対向する位置（対向基板方向の位置）に赤色、緑色及び青色に着色されたカラーフィルタを備えることにより、各画素ＰＸから赤色、緑色及びまたは青色の光を出射することができるため、多色表示が可能となる。
【0068】
また、上記した副画素ＳＰ１、ＳＰ２及びＳＰ３の各々は、紫外光を出射する（つまり、発光色が紫外光である）表示素子２０を備えていてもよい。このような構成の場合には、表示素子２０に対向する位置に光変換層が配置されることで、多色表示を実現できる。
【0069】
更に、本実施形態は、画素ＰＸが複数の副画素ＳＰを備えるものとして説明したが、画素ＰＸは副画素ＳＰを備えない（つまり、当該画素ＰＸで単一の色を表示する）構成であってもよい。
【0070】
なお、表示領域ＤＡに配置されている複数の画素ＰＸ（または副画素ＳＰ）に共通する有機層ＯＲ（つまり、例えば白色を発光する発光層を含む有機層ＯＲ）を形成する場合には、本実施形態においては、有機層ＯＲを段切れさせることができる第１電極Ｅ１を備える構成により、表示領域ＤＡ全体に有機層ＯＲ（を形成するための有機材料）を蒸着することによって、画素ＰＸ（副画素ＳＰ）毎に分離された有機層ＯＲを形成することができる。すなわち、本実施形態は、有機層ＯＲを打ち分けないＷＯＬＥＤ等にも適用可能であり、このような構成の場合には、有機層ＯＲを形成する（つまり、画素ＰＸまたは副画素ＳＰ毎に分離する）際にファインマスク等を用いる必要がない。
【0071】
（第２実施形態）
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明においては、前述した第１実施形態と同一の部分についての詳しい説明を省略する。ここでは、第１実施形態と異なる部分について主に説明する。
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明においては、前述した第１実施形態と同一の部分についての詳しい説明を省略する。ここでは、第１実施形態と異なる部分について主に説明する。
【0072】
図１１は、本実施形態に係る表示装置が備える表示領域の断面の一例を示している。ここでは、表示領域ＤＡに配置されている画素ＰＸに備えられる副画素ＳＰ１及び当該ＳＰ１に隣接する副画素ＳＰ２について主に説明する。なお、図１１においては、前述した図６と同様の部分には同一参照符号を付してその詳しい説明を省略し、当該図６と異なる部分について述べる。
【0073】
前述した第１実施形態においては、図６に示すように有機層ＯＲの上に第２電極Ｅ２が配置され、当該第２電極Ｅ２及び絶縁層１２を覆うように第３電極Ｅ３が形成されているが、本実施形態は、第２電極Ｅ２が省略され、有機層ＯＲ及び絶縁層１２を覆うように第３電極Ｅ３が形成される点で、前述した第１実施形態とは異なる。
【0074】
【0075】
ここで、図１２を参照して、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰにおける有機層ＯＲ及び第３電極Ｅ３が形成されるプロセスについて簡単に説明する。ここでは、絶縁層１１の上に第１電極Ｅ１が既に形成されているものとする。
【0076】
まず、有機層ＯＲ（Ｒ）が副画素ＳＰ１と重畳する位置に配置された第１電極Ｅ１の上に形成（成膜）される。この場合、第１電極Ｅ１により、有機層ＯＲ（Ｒ）が当該第１電極Ｅ１の上に配置されるとともに、当該第１電極Ｅ１の端部で段切れした有機層ＯＲ（Ｒ）´が絶縁層１１上に配置される。
【0077】
上記したように有機層ＯＲ（Ｒ）が形成された場合、有機層ＯＲ（Ｇ）が副画素ＳＰ２と重畳する位置に配置された第１電極Ｅ１の上に形成（成膜）される。この場合、第１電極Ｅ１により、有機層ＯＲ（Ｇ）が当該第１電極Ｅ１の上に配置されるとともに、当該第１電極Ｅ１の端部で段切れした有機層ＯＲ（Ｇ）´が絶縁層１１上に配置される。
【0078】
上記したように有機層ＯＲ（Ｒ）及びＯＲ（Ｇ）が形成された場合、有機層ＯＲ（Ｒ）及びＯＲ（Ｇ）の端部を覆うように絶縁層１１上に配置されるとともに、当該有機層ＯＲと重畳する開口部ＯＰを有する絶縁層１２が形成される。
【0079】
上記したように絶縁層１２が形成されると、例えば表示領域ＤＡに配置されている複数の画素ＰＸ（副画素ＳＰ）に亘って第３電極Ｅ３が形成（成膜）される。このような第３電極によれば、複数の画素ＰＸの各々に共通の電圧を印加することができる。
【0080】
【0081】
上記したように本実施形態に係る表示装置ＤＳＰは、基材１０と、当該基材１０の上に配置された絶縁層１１（第１絶縁層）と、当該絶縁層１１の上に配置された第１電極Ｅ１と、当該第１電極Ｅ１の上に配置された有機層ＯＲと、絶縁層１１の上に配置され、有機層ＯＲに重畳する開口部ＯＰを有する絶縁層１２（第２絶縁層）と、当該有機層ＯＲ及び絶縁層１２を覆う第３電極Ｅ３（第２電極）とを備え、第１電極Ｅ１及び有機層ＯＲは、副画素ＳＰ毎に分離されている。
【0082】
本実施形態においては、上記した構成により、第１実施形態と同様に横リークに基づく寄生発光の発生を防止し、表示品位の低下を抑制することができる。
【0083】
ここで、図１３は、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰにおける有機層ＯＲの端部（周縁部）を拡大して示す図である。
【0084】
本実施形態においては、図１３に示すように、有機層ＯＲが備える機能層Ｆ１、発光層ＥＬ及び機能層Ｆ２の端面（端部）が絶縁層１２によって覆われる構成であり、当該有機層ＯＲから端部リークが発生することはない。
【0085】
すなわち、前述した第１実施形態においては例えば図１０に示すように有機層ＯＲ及び第２電極Ｅ２が形成された場合には当該有機層ＯＲから端部リークが発生する可能性があるが、本実施形態においては、有機層ＯＲからの端部リークの発生をより確実に防止することができる点で、第１実施形態と比較して利点があるといえる。
【0086】
なお、前述した第１実施形態においては例えば第３電極Ｅ３を形成する過程において表示素子２０（例えば、有機層ＯＲ）を保護するために第２電極Ｅ２を設ける構成を採用しているが、当該第３電極Ｅ３を形成する過程において表示素子２０を保護する必要がない（つまり、素子へのダメージがない）場合には、本実施形態の構成を採用することができ、前述した第１実施形態と比較して表示装置ＤＳＰの製造プロセスを簡素化することが可能となる。
【0087】
また、詳しい説明を省略するが、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰは、前述した第１実施形態と同様に、カラーフィルタまたは光変換層を備えるように構成されていてもよいし、画素ＰＸが副画素ＳＰを備えないように構成されていてもよい。
【0088】
以上、本発明の実施形態として説明した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施して実施し得る全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【0089】
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変形例に想到し得るものであり、それら変形例についても本発明の範囲に属するものと解される。例えば、上述の実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、若しくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【0090】
また、上述の実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について、本明細書の記載から明らかなもの、または当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【0091】
ＤＳＰ…表示装置、ＤＡ…表示領域、ＰＸ…画素、ＳＰ，ＳＰ１，ＳＰ２、ＳＰ３…副画素、Ｅ１…第１電極、ＯＰ…開口部、Ｅ２…第２電極、ＯＲ…有機層、Ｅ３…第３電極、Ｆ１，Ｆ２…機能層、ＥＬ…発光層、１０…基材、１１…絶縁層（第１絶縁層）、１２…絶縁層（第２絶縁層）、２０…表示素子。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】