特許7585330IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

蛍光体基板の製造方法及び発光基板の製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、特許文献1に開示されている構成の場合、反射材を利用してLED照明器具が発光する光を発光素子が発光する光と異なる発光色の光に調整することができず、またグレア対策が不十分であった。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の第1態様の蛍光体基板の製造方法は、少なくとも1つの発光素子が搭載される蛍光体基板の製造方法であって、絶縁基板の一面に、前記少なくとも1つの発光素子に接合される回路パターン層を形成する回路パターン層形成工程と、前記絶縁基板の一面側に、前記少なくとも1つの発光素子の発光を励起光としたときの発光ピーク波長が可視光領域にある蛍光体を含む蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程と、前記絶縁基板と前記・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1A】 第1実施形態の発光基板の平面図である。
【図1B】 第1実施形態の発光基板の底面図である。
【図1C】 図1Aの1C-1C切断線により切断した発光基板の部分断面図である。
【図2A】 第1実施形態の蛍光体基板(蛍光体層及び支持層を省略)の平面図である。
【図2B】 第1実施形態の蛍光体基板の平面図である。
【図3A】 第1実施形態の発光基板の製造方法における第1工程の説明図である。
【図3B】 第1実施形態の発光基板の製造方法における第2工程の説明図である。
【図3C】 第1実施形態の発光基板の製造方法における第3工程の説明図である。
【図3D】 第1実施形態の発光基板の製造方法における第4工程の説明図である。
【図3E】 第1実施形態の発光基板の製造方法における第5工程の説明図である。
【図4】 第1実施形態の発光基板の発光動作を説明するための図である。
【図5】 比較形態の発光基板の発光動作を説明するための図である。
【図6】 第2実施形態の発光基板の部分断面図である。
【図7A】 第2実施形態の発光基板の製造方法における第2工程の説明図である。
【図7B】 第2実施形態の発光基板の製造方法における第3工程の説明図である。
【図7C】 第2実施形態の発光基板の製造方法における第4工程の説明図である。
【図7D】 第2実施形態の発光基板の製造方法における第5工程の説明図である。
【図8】 第3実施形態の発光基板の部分断面図である。
【図9A】 第3実施形態の発光基板の製造方法における第2工程の前半の説明図である。
【図9B】 第3実施形態の発光基板の製造方法における第2工程の後半の説明図である。
【図9C】 第3実施形態の発光基板の製造方法における第3工程の説明図である。
【図9D】 第3実施形態の発光基板の製造方法における第4工程の説明図である。
【図9E】 第3実施形態の発光基板の製造方法における第5工程の説明図である。
【図10】 第4実施形態の発光基板の部分断面図である。
【図11A】 第4実施形態の発光基板の製造方法における第1工程の後半の説明図である。
【図11B】 第4実施形態の発光基板の製造方法における第2工程の説明図である。
【図11C】 第4実施形態の発光基板の製造方法における第3工程の説明図である。
【図11D】 第4実施形態の発光基板の製造方法における第4工程の説明図である。
【図11E】 第4実施形態の発光基板の製造方法における第5工程の説明図である。
【図12】 第5実施形態の発光基板の部分断面図である。
【図13A】 第5実施形態の発光基板の製造方法における第2工程の前半の説明図である。
【図13B】 第5実施形態の発光基板の製造方法における第2工程の後半の説明図である。
【図13C】 第5実施形態の発光基板の製造方法における第3工程の説明図である。
【図13D】 第5実施形態の発光基板の製造方法における第4工程の説明図である。
【図13E】 第5実施形態の発光基板の製造方法における第5工程の説明図である。
10、10A、10B、10C、10D 発光基板 20 発光素子 22 LED 30、30A、30B、30C、30D 蛍光体基板 32 絶縁層(絶縁基板の一例) 34 回路パターン層 34A 電極対 34A1 接合面 34A2 非接合面 34B 配線部分 34B1 非接合面 35、30B、30C、30D 支持層 35B1、30D1 第1層 35B2、30D2 第2層 36 蛍光体層 37 端子 38 裏面パターン層 39 貫通孔 L 光 MB マザーボード SP はんだペースト

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