特許 7585987 光源装置、加工装置、および検査方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-11

(45)【発行日】2024-11-19

(54)【発明の名称】光源装置、加工装置、および検査方法

(51)【国際特許分類】

   G02B 6/42 20060101AFI20241112BHJP

   B23K 26/38 20140101ALI20241112BHJP

   B23K 26/21 20140101ALI20241112BHJP

【ＦＩ】

G02B6/42

B23K26/38

B23K26/21 A

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2021098700

(22)【出願日】2021-06-14

(65)【公開番号】P2022190396

(43)【公開日】2022-12-26

【審査請求日】2023-10-17

(73)【特許権者】

【識別番号】000001993

【氏名又は名称】株式会社島津製作所

(74)【代理人】

【識別番号】110001195

【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】若林 直樹

【審査官】奥村 政人

(56)【参考文献】

【文献】特開２００６－０６６８７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１８／１１００１６（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１８－０５６１４８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－０９１０２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０９－２６９４４１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－１２１６８９（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許第０６４３０３３７（ＵＳ，Ｂ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０２Ｂ ６／２６－ ６／２７

Ｇ０２Ｂ ６／３０－ ６／３４

Ｇ０２Ｂ ６／４２－ ６／４３

Ｈ０１Ｓ ５／００－ ５／５０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

レーザ光を出力する複数の光源と、
前記複数の光源から出力されるレーザ光をそれぞれコリメートする複数のコリメート光学系と、
前記複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の各々のＦａｓｔ軸方向のビーム径を縮小し、または、前記レーザ光の各々のＳｌｏｗ軸方向のビーム径を拡大するビーム径調整光学系と、
前記ビーム径調整光学系を通過したレーザ光を集光する集光光学系と、
前記集光光学系により集光されたレーザ光が入力される光ファイバと、
前記複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の光軸方向に対して垂直な面内で回転可能な態様で配置されたウェッジプレートとを備え、
前記ウェッジプレートは、
前記複数のコリメート光学系のうちの特定のコリメート光学系と、前記ビーム径調整光学系との間に配置されており、
前記光軸方向に対して非直角な角度を有する入射面および／または出射面を有する、光源装置。

【請求項2】

前記特定のコリメート光学系は、前記ウェッジプレートが配置されていない状態で前記複数の光源のうち前記光ファイバからの出力に関する物理量が閾値未満となる光源に対応するコリメート光学系である、請求項１に記載の光源装置。

【請求項3】

前記複数の光源の各々は、Ｆａｓｔ軸方向のビーム径がＳｌｏｗ軸方向のビーム径よりも大きいようなレーザ光を出力する、請求項１または請求項２に記載の光源装置。

【請求項4】

前記非直角な角度は、８９．５度以上であり、９０度未満である、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の光源装置。

【請求項5】

請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の光源装置と、
前記光源装置から出力されたレーザ光をワークに向けて出射させる加工ヘッドとを備える加工装置。

【請求項6】

光源装置の検査方法であって、
前記光源装置は、
レーザ光を出力する複数の光源と、
前記複数の光源から出力されるレーザ光をそれぞれコリメートする複数のコリメート光学系と、
前記複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の各々のＦａｓｔ軸方向のビーム径を縮小し、または、前記レーザ光の各々のＳｌｏｗ軸方向のビーム径を拡大するビーム径調整光学系と、
前記ビーム径調整光学系を通過したレーザ光を集光する集光光学系と、
前記集光光学系により集光されたレーザ光が入力される光ファイバとを備え、
前記検査方法は、前記複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の光軸方向に対して垂直な面内で回転可能な態様でウェッジプレートを、前記複数のコリメート光学系のうちの特定のコリメート光学系と、前記ビーム径調整光学系との間に配置させることを備え、
前記ウェッジプレートは、前記光軸方向に対して非直角な角度を有する入射面および／または出射面を有し、
前記検査方法は、さらに、
前記ウェッジプレートを回転させることにより、前記光ファイバの出力に関する物理量を閾値以上とすることを備える、検査方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光源装置、加工装置、および検査方法に関する。

【背景技術】

【0002】

複数のレーザダイオードから出射したレーザ光を集光して光ファイバに入射させる光源装置が、レーザ加工などに用いられている。レーザダイオードの数が多いほど高出力を実現できるが、集光したレーザ光を光ファイバのコア端面に結合する必要があり、各光学系の高度な位置調整が求められる。

【0003】

たとえば、特許文献１には、複数のレーザダイオードから出射されたレーザ光をそれぞれコリメートしてアナモフィック光学素子に導入し、Ｆａｓｔ軸方向の径を縮小してから光ファイバに入射させ、１本に合波して出力する光源装置が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２００５－１１４９７７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

特許文献１の技術によれば、Ｆａｓｔ軸方向のビーム径が小さくなるので、レーザ光の光ファイバのコア端面への結合が容易になる可能性がある。しかし、各光学系を溶接や接着材で固定すると、固定前に対してレーザ光に微妙な位置ずれが生じ、レーザ光が適切に結合されない場合がある。この場合には、従来では光ファイバからの出力に関する物理量（たとえば、レーザ光の出力パワー）を容易に補正することができないという問題が生じ得る。

【0006】

本開示は、このような課題を解決するためになされたものであって、その目的は、光ファイバからの出力に関する物理量を容易に補正することができる技術を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本開示の光源装置は、複数の光源と、複数のコリメート光学系と、ビーム径調整光学系と、集光光学系と、光ファイバと、ウェッジプレートとを備える。複数の光源は、レーザ光を出力する。複数のコリメート光学系は、複数の光源から出力されるレーザ光をそれぞれコリメートする。ビーム径調整光学系は、複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の各々のＦａｓｔ軸方向のビーム径を縮小し、または、レーザ光の各々のＳｌｏｗ軸方向のビーム径を拡大する。集光光学系は、ビーム径調整光学系を通過したレーザ光を集光する。光ファイバには、集光光学系により集光されたレーザ光が入力される。ウェッジプレートは、複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の光軸方向に対して垂直な面内で回転可能な態様で配置される。ウェッジプレートは、光軸方向に対して非直角な角度を有する入射面および／または出射面を有する。

【0008】

また、本開示の検査方法は、光源装置の検査方法である。光源装置は、光源装置は、複数の光源と、複数のコリメート光学系と、ビーム径調整光学系と、集光光学系と、光ファイバとを備える。複数の光源は、レーザ光を出力する。複数のコリメート光学系は、複数の光源から出力されるレーザ光をそれぞれコリメートする。ビーム径調整光学系は、複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の各々のＦａｓｔ軸方向のビーム径を縮小し、または、レーザ光の各々のＳｌｏｗ軸方向のビーム径を拡大する。集光光学系は、ビーム径調整光学系を通過したレーザ光を集光する。光ファイバには、集光光学系により集光されたレーザ光が入力される。検査方法は、複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の光軸方向に対して垂直な面内で回転可能な態様でウェッジプレートを配置させることを備える。ウェッジプレートは、光軸方向に対して非直角な角度を有する入射面および／または出射面を有する。検査方法は、さらに、ウェッジプレートを回転させることにより、光ファイバの出力に関する物理量を閾値以上とすることを備える。

【発明の効果】

【0009】

本発明によれば、検査者などによりウェッジプレートが回転されることにより、光ファイバの入射面における集光位置をＦａｓｔ軸方向に変位させることができる。その結果、光源装置において、光ファイバからの出力に関する物理量を容易に補正することができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本実施の形態の光源装置が適用された加工装置の機能ブロック図である。

【図2】光源装置の構成例を示す図である。

【図3】光源装置の構成例を示す図である。

【図4】光源の構成例を示す図である。

【図5】ウェッジプレートをＺ軸方向の上流側から平面視した図である。

【図6】ウェッジプレートをＳｌｏｗ軸方向から平面視した図である。

【図7】入射面における集光位置の設計位置からのズレ量と、出力変化率との関係を示した図である。

【図8】ウェッジプレートを回転させることによる、集光位置の移動を示す図である。

【図9】ウェッジ角度と、ウェッジプレートを回転させた場合の入射面における集光位置の最大変位量との関係を示した図である。

【図10】検査方法の手順の一例を示す図である。

【図11】第２実施形態の光源装置の構成例を示す図である。

【図12】プロジェクタの機能ブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中の同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。

【0012】

＜第１実施形態＞
［加工装置の構成例］
図１は、本実施の形態の光源装置が適用された加工装置の機能ブロック図である。加工装置１０は、ワークＷ（加工対象物）にレーザ光を照射することにより、該ワークＷを加工する。加工は、たとえば、溶接または切断である。加工装置１０は、Ｍ（Ｍは１以上の整数）個の光源装置（光源装置１００１，．．．，１００Ｍ）と、加工ヘッド１３０とを備える。加工ヘッド１３０は、Ｍ個の光源装置から出力されたレーザ光をワークＷに向けて出射させる。加工ヘッド１３０は、たとえば、Ｍ個の光源装置から出力されたレーザ光を集光する集光光学系を有する。以下では、１つの光源装置は、「光源装置１００」とも称される。

【0013】

［光源装置の構成例］
図２および図３は、光源装置１００の構成例を示す図である。なお、図２は、レーザ光のＦａｓｔ軸およびｚ軸を含む平面内での光源装置１００の各部の配置構成を示す図である。図３の上図は図２と同様にレーザ光のＦａｓｔ軸およびｚ軸を含む平面内での光源装置１００を示し、図３の下図は、レーザ光のＳｌｏｗ軸およびｚ軸を含む平面内での光源装置１００を示す。

【0014】

図２および図３において、左側を「光源装置１００の光軸方向上流側（または左側）」、右側を「光源装置１００の光軸方向下流側（または右側）」とも称する。なお、以下では、様々な光学系を説明するが、該光学系は、１つのレンズで構成されてもよく、２つ以上のレンズで構成されてもよく、レンズ以外の構成部品を含んでいてもよい。また、光源装置１００の光軸方向上流側については、単に「上流側」、光源装置１００の光軸方向下流側については、単に「下流側」と称することがある。図２および図３において、後述のコリメート光学系３によりコリメートされたレーザ光（以下、「平行光」とも称する）のＦａｓｔ軸方向が縦軸方向である。また、図２および図３において、コリメートされたレーザ光のＳｌｏｗ軸方向が奥行方向であり、コリメートされたレーザ光の光軸方向がＺ軸方向である。

【0015】

図２に示すように、光源装置１００は、光軸方向の上流側から下流側に向かって順に配置された、Ｎ個の光源２と、Ｎ個のコリメート光学系３と、縮小光学系４と、集光光学系５と、光ファイバ６とを備えている。Ｎは、１以上の整数である。図２および図３の例では、Ｎ＝３となる。図２および図３の例では、Ｆａｓｔ軸方向に３個の光源２が配置されている。Ｓｌｏｗ軸方向に１個の光源２が配置されている。なお、Ｓｌｏｗ軸方向に複数の光源２が配置されていてもよい。縮小光学系４は、本開示の「ビーム径調整光学系」に対応する。

【0016】

Ｎ個の光源２は、Ｎ個のレーザ光をそれぞれ出力する。Ｎ個のコリメート光学系３は、Ｎ個の光源２からのレーザ光の光路中、すなわち、該Ｎ個のレーザの光軸上のそれぞれに対応づけて配置されている。また、各コリメート光学系３は、光源２からの光軸が当該コリメート光学系３の中心（コリメート光学系３を構成するコリメートレンズの中心）を通る位置に配置されている。以下では、光源２とコリメート光学系３との間の光路を「光路ＬＤ」とも称する。図２の例では、Ｎ個の光路Ｌが存在する。

【0017】

各コリメート光学系３は、レーザ光ＬＢが入射する入射面３１１と、レーザ光ＬＢが出射する出射面３１２とを有する。入射面３１１は、平面で構成されている。出射面３１２は、湾曲した凸面で構成されている。なお、コリメート光学系３の有効径は、円盤状部２４４の外径よりも大きいのが好ましい。

【0018】

コリメート光学系３は、対応する光源２からのレーザ光ＬＢをコリメートする。具体的には、コリメート光学系３は、対応する光源２からのレーザ光ＬＢを、Ｆａｓｔ軸方向、Ｓｌｏｗ軸方向のいずれの方向にも平行光とする。なお、コリメート光学系３は、組み合わせレンズで構成されていてもよい。

【0019】

レーザ光ＬＢの光路上であって、コリメート光学系３に対して下流側には、集光光学系５が配置されている。コリメート光学系３と集光光学系５とは、互いに離間しており、コリメート光学系３と集光光学系５との間に縮小光学系４が配置されている。レーザ光ＬＢの光路上であって、集光光学系５に対して下流側には、光ファイバ６が配置されている。

【0020】

集光光学系５は、各レーザ光ＬＢを光ファイバ６に向けて集光するレンズである。集光光学系５は、レーザ光ＬＢが入射する入射面５１と、レーザ光ＬＢが出射する出射面５２とを有する。入射面５１は、湾曲した凸面で構成されている。出射面５２は、平面で構成されている。

【0021】

光ファイバ６は、長尺状をなし、入射面６１となる上流側の端面と、出射面６２となる下流側の端面とを有する。入射面６１には、集光光学系５によって集光された複数のレーザ光ＬＢが一括して入射される。このレーザ光ＬＢは、光ファイバ６内を通過して出射面６２まで導かれ、当該出射面６２から出射される。光ファイバ６としては、特に限定されず、たとえば、光導波路等を用いることができる。縮小光学系４については、後述する。

【0022】

図４は、１つの光源２の構成例を示す図である。光源２は、ダイレクトダイオードレーザであり、いわゆる端面発光型である。光源２は、レーザダイオード素子２２と、フォトダイオード２３と、パッケージ２４とを有する。

【0023】

レーザダイオード素子２２は、レーザ光（半導体レーザ）ＬＢを発する発光素子である。レーザダイオード素子２２は、例えば、活性層（発光層）と、活性層を介して配置されたｎ型クラッド層およびｐ型クラッド層とを有する積層体で構成される。活性層の両端面は、それぞれ、反射面となっている。レーザダイオード素子２２に順方向に電圧を印加した際、ｎ型クラッド層から活性層に電子が流入するとともに、ｐ型クラッド層から活性層にホールが流入して、活性層内で再結合して発光する。各クラッド層の屈折率が活性層より低いため、光は、活性層内で前記両端面の間で増幅されながら往復する。そして、誘導放出が生じることにより、当該光は、レーザ光ＬＢとして照射される。

【0024】

レーザダイオード素子２２（活性層）が発せられたレーザ光ＬＢは、完全な直線光ではなく、回折することにより広がりながら進行していく。また、積層体であるレーザダイオード素子２２は、幅方向が厚さ方向よりも大きく形成される。これにより、レーザ光ＬＢは楕円状に拡がり、レーザ光ＬＢの強度分布（ファーフィールドパターン）は、レーザ光ＬＢのＦａｓｔ軸方向のビーム径（ビーム幅）がＳｌｏｗ軸方向のビーム径よりも大きくなる。このように、光源２は、ダイレクトダイオードレーザであり、いわゆる端面発光型であることから、Ｆａｓｔ軸方向のビーム径がＳｌｏｗ軸方向のビーム径よりも大きいレーザ光を出力する。

【0025】

パッケージ２４は、レーザダイオード素子２２とフォトダイオード２３とを一括して収納する。パッケージ２４は、いわゆるＣＡＮ型パッケージであり、ベース２４１と、キャップ２４２と、カバーガラス２４３とを有する。

【0026】

ベース２４１は、円盤状をなし、フォトダイオード２３が支持される円盤状部２４４と、円盤状部２４４から突出して形成され、レーザダイオード素子２２が支持される支持部２４５とを有する。また、円盤状部２４４は、パッケージ２４において、外径が最大に拡径したフランジ部となる。そして、光源２を光源装置１００での所定箇所に固定する際、円盤状部２４４で光源２を安定して固定することができる。

【0027】

ベース２４１には、キャップ２４２が固定されている。キャップ２４２は、ベース２４１に支持されたレーザダイオード素子２２およびフォトダイオード２３を覆う部材である。また、キャップ２４２には、レーザ光ＬＢが通過する貫通孔２４６が形成されている。

【0028】

ベース２４１およびキャップ２４２の構成材料としては、特に限定されず、例えば、アルミニウム等の金属材料を用いることができる。カバーガラス２４３は、キャップ２４２の内側から貫通孔２４６を覆うガラス板である。レーザ光ＬＢは、カバーガラス２４３を透過することができる。なお、パッケージ２４は、カバーガラス２４３が省略されていてもよい。また、フォトダイオード２３は、光源２から出射されたレーザ光のパワーを検知する。制御装置（図示せず）は、フォトダイオード２３のレーザ光の有無を検知することにより光源２の故障を検知することができる。

【0029】

次に、図２および図３を用いて縮小光学系４を説明する。上述のように、レーザ光ＬＢの強度分布は、Ｆａｓｔ軸方向がＳｌｏｗ軸方向よりも大きくなる。つまり、レーザ光ＬＢのビーム径は、Ｆａｓｔ軸方向の方がＳｌｏｗ軸方向よりも大きい。よって、光源２から出力されるビームは、断面が楕円形状の楕円ビームである。縮小光学系４は、ビーム径が大きい方、すなわち、Ｆａｓｔ軸方向のビーム径を縮小することにより、楕円ビームは整形される。

【0030】

縮小光学系４の前後では、コリメート光学系３を透過したレーザ光ＬＢは、ビーム径がＦａｓｔ軸方向に縮小されるが、Ｓｌｏｗ軸方向では一定に維持される。つまり、Ｆａｓｔ軸方向において、縮小光学系４を透過した後のレーザ光ＬＢのビーム径は、縮小光学系４を透過する前のレーザ光ＬＢのビーム径よりも小さい。一方、Ｓｌｏｗ軸方向において、縮小光学系４を透過したことによるビーム径の変化はない。

【0031】

縮小光学系４は、Ｆａｓｔ軸方向にパワーを有する第１シリンドリカルレンズ４１、および第２シリンドリカルレンズ４２を有する。また、第１シリンドリカルレンズ４１、および第２シリンドリカルレンズ４２は、上流側から下流側に向かって順番に配置されている。

【0032】

第１シリンドリカルレンズ４１は、レーザ光ＬＢが入射する入射面４１１と、レーザ光ＬＢが出射する出射面４１２とを有する。入射面４１１は、Ｆａｓｔ軸方向に沿って連続的に突出高さが変化するように形成された凸面を有する。一方、出射面４１２は、平面で構成されている。このような入射面４１１および出射面４１２により、第１シリンドリカルレンズ４１は、Ｆａｓｔ軸方向にパワーを有するシリンドリカルレンズとなる。

【0033】

第２シリンドリカルレンズ４２は、レーザ光ＬＢが入射する入射面４２１と、レーザ光ＬＢが出射する出射面４２２とを有する。入射面４２１は、Ｆａｓｔ軸方向に沿って連続的に深さが変化するように形成された凹面４２３を有する。一方、出射面４２２は、平面で構成されている。このような入射面４２１および出射面４２２により、第２シリンドリカルレンズ４２は、Ｆａｓｔ軸方向にパワーを有するシリンドリカルレンズとなる。このような縮小光学系４により、Ｆａｓｔ軸方向のビーム径は、レーザ光ＬＢが進むにつれて縮小される。

【0034】

また、光源装置１００に対して、検査者などにより、パワーメータ１５０（「センサ」とも称される。）が装着され得る。パワーメータ１５０は、たとえば、光ファイバ６の出射面６２側に配置される。パワーメータ１５０は、光ファイバからの出力に関する出力物理量（後述する）を表示することができる。なお、パワーメータ１５０は、出力物理量を表示できるのであれば、他の個所に装着されてもよい。

【0035】

次に、保持部８１およびウェッジプレート８２を説明する。保持部８１およびウェッジプレート８２は、光軸方向上流側から下流側に向かって順に配置されている。ウェッジプレート８２は、後述のように、出力物理量を補正するために用いられるプリズムである。保持部８１およびウェッジプレート８２は、たとえば、後述の異常光路に配置される。図２および図３の例では、異常光路が、上から２番目の光路ＬＤである場合が示されている。また、保持部８１は、ウェッジプレート８２を保持する。図２の例では、中央の光路ＬＤに配置されている例が示されているが、他の光路ＬＤに設けられてもよい。保持部８１およびウェッジプレート８２は、光源装置１００の出荷前に配置されてもよい。また、保持部８１およびウェッジプレート８２は、光源装置１００の出荷後、後発的に配置されてもよい。

【0036】

図５は、保持部８１およびウェッジプレート８２をＺ軸方向の上流側から平面視した図である。図５では、ウェッジプレート８２が破線で示されている。図５に示すように、保持部８１は、貫通穴８１Ａが形成されている。貫通穴８１Ａは、コリメート光学系３にコリメートされたレーザ光ＬＢが通過する穴である。図５の例では、貫通穴８１Ａにハッチングが付されている。上述のように、レーザ光ＬＢのＦａｓｔ軸方向のビーム径がＳｌｏｗ軸方向のビーム径よりも大きくなることから、レーザ光ＬＢの断面は楕円形状となる。したがって、貫通穴８１Ａの形状についても、楕円形状とされる。なお、貫通穴８１Ａは、コリメート光学系３からのレーザ光が通過する形状であれば、如何なる形状であってもよい。

【0037】

図６は、ウェッジプレート８２をＳｌｏｗ軸方向から平面視した図である。図６の例では、保持部８１は省略されている。ウェッジプレート８２には、入射面８２Ａと、出射面８２Ｂとが形成されている。ウェッジプレート８２の入射面８２Ａに入射されたレーザ光は、出射面８２Ｂから出射される。入射面８２Ａは、Ｚ軸方向と直角をなす。また、出射面８２Ｂは、Ｚ軸方向（図６では、軸ＺＬと記載）と、第１角度θ１をなす。第１角度θ１は、たとえば、８９．５度以上であり、９０度未満である。第１角度θ１は、本開示の「非直角な角度」に対応する。また、図６では、第２角度θ２が示されている。第２角度θ２は、９０度から第１角度θ１を減算することにより算出される。第２角度θ２は、「ウェッジ角度」とも称される。

【0038】

ウェッジプレート８２に入射された平行光は屈折することにより、該入射の方向とは異なる方向に出射面８２Ｂから出射される。また、図６では、Ｚ軸方向（コリメート光学系３を通過したレーザ光の光軸方向）に対して垂直な仮想面Ｙ（たとえば、平面）が示されている。ウェッジプレート８２は、該仮想面Ｙ内で回転可能な態様で配置されている。換言すれば、ウェッジプレート８２は、Ｚ軸方向まわりに回転可能となるように、保持部８１に保持される。さらに、換言すれば、ウェッジプレート８２は、Ｆａｓｔ軸およびＳｌｏｗ軸により形成される平面において、回転可能である。ウェッジプレート８２は、検査者の手、治具、またはアクチュエータなどにより回転される。ウェッジプレート８２が回転されたとしても、保持部８１は固定されている。ウェッジプレート８２が回転可能な理由を後述する。

【0039】

なお、変形例として、入射面８２ＡとＺ軸方向とが非直角な角度を形成し、出射面８２ＢとＺ軸方向とが非直角を形成するようにしてもよい。また、入射面８２ＡとＺ軸方向とが非直角な角度を形成し、出射面８２ＢとＺ軸方向とが非直角を形成するようにしてもよい。つまり、ウェッジプレート８２は、Ｚ軸方向（光軸方向）に対して非直角な角度を有する入射面８２Ａおよび／または出射面８２Ｂを有する。

【0040】

［位置ずれについて］
光源装置１００の製造において、光源装置１００の対象部品（たとえば、Ｎ個の光源２またはＮ個のコリメート光学系３など）は、溶接または接着材などで固定される。以下では、該対象部品が、コリメート光学系３である例を説明する。光源装置１００の製造段階において、コリメート光学系３が、当初予定されていた設計位置から若干ずれて固定される場合がある。

【0041】

また、光源装置１００の製造において、光源装置１００の対象部品の全てが、設計位置に固定されて出荷されたが、出荷先において光源装置１００の経年劣化などにより、対象部品が設計位置からずれる場合がある。たとえば、対象部品の溶接部分または接着剤による固定部分が劣化する。この劣化により、対象部品が設計位置からずれる場合がある。

【0042】

たとえば、図３の上図に示すように、対象部品の一例であるコリメート光学系３がＦａｓｔ方向にΔｘずれた場合には、光ファイバ６の入射面６１における集光位置は、Ｆａｓｔ方向にΔｘｆずれる。集光位置は、集光光学系５を通過したＮ個のレーザ光が入射面６１において集光される位置である。集光位置は、たとえば、点状である。

【0043】

また、Δｘｆは、縮小光学系４によるＦａｓｔ軸方向の縮小倍率に比例した値である。たとえば、縮小光学系４による縮小倍率が１／２である場合のΔｘｆは、縮小光学系４が配置されていない（つまり縮小倍率が１倍）場合のΔｘｆの２倍となる。

【0044】

なお、対象部品（たとえば、コリメート光学系）がＳｌｏｗ軸にΔｙずれる場合がある。この場合には、本実施の形態では、レーザ光のＳｌｏｗ軸は縮小されていない。したがって、ΔｘとΔｙとが同一の値であっても、Δｘｆの方が、Δｙｆよりも大きくなる。

【0045】

このように、本実施の形態の光源装置１００は、縮小光学系４を有することから、Ｆａｓｔ軸方向のビーム径が小さくなるので、レーザ光の光ファイバのコア端面への結合が容易になる可能性がある。しかし、上記対象部品が理想位置からズレた場合には、光ファイバ６の入射面６１において、集光位置は、Ｆａｓｔ軸方向に大きくずれることになる。その結果、レーザ光は、適切に結合されない場合がある。したがって、光ファイバ６からの出力はＦａｓｔ方向のずれに対して大きいことから、出力物理量が低下する。ここで、出力物理量は、光ファイバ６からのレーザ光の出力パワーとしてもよい。また、出力物理量は、入射面６１における集光位置が理想位置である場合を基準とした、光ファイバ６からの出力値（たとえば出力パワー）の変化率としてもよい。理想位置は、集光位置の理想の位置であり、たとえば、入射面６１の中心または重心である。また、出力物理量は、Ｎ個のレーザ光の結合率としてもよい。また、対象部品は、以上説明したように、設計位置がずれて固定されると、入射面６１における集光位置が理想位置からずれてしまう部品である。

【0046】

図７は、入射面６１における集光位置の設計位置からのＦａｓｔ軸方向のズレ量と、上述の出力変化率（上記の出力物理量に対応）との関係を示した図である。図７の横軸は、コリメート光学系３を構成するコリメートレンズのＦａｓｔ軸方向のズレ量を示す。該ズレ量の単位は、μｍである。また、図７の縦軸は、出力変化率を示す。図７の例では、たとえば、ズレ量が１μｍである場合には、ファイバ出力は、１２％低下する。また、光源装置の光ファイバ６から適切なレーザ光を出力するために、光ファイバ６からの出力物理量は、閾値以上であることが好ましい。図７の例では、出力変化の閾値Ｔｈの一例として、９０％が示されている。また、出力物理量については、上述のように、パワーメータ１５０（図２参照）が表示可能である。なお、上述のように、ΔｘとΔｙとが同一の値であっても、Δｘｆの方が、Δｙｆよりも大きくなる。したがって、ΔｘとΔｙとが同一の値であっても、対象部品（コリメート光学系３）がΔｘずれたときの出力物理量の低下率は、対象部品がΔｙずれたときの出力物理量の低下率よりも大きくなる。よって、本実施の形態では、対象部品がＳｌｏｗ軸にΔｙずれた場合であっても特段の問題はない。

【0047】

従来においては、対象部品が固定された後において、対象部品の位置ずれなどにより出力物理量が閾値未満となる場合がある。この場合には、検査者は、物理量が閾値以上となるように、対象部品の位置を調整する。

【0048】

しかしながら、固定された対象部品の位置を調整することは困難である。また、縮小光学系４により、Ｎ個の平行光は、Ｆａｓｔ軸方向の径が大きく縮小されている。したがって、対象部品の位置を調整できたとしても、光ファイバ６の入射面６１において、Ｆａｓｔ軸方向に大きくずれる。よって、対象部品のＦａｓｔ軸方向における位置の高い調整精度が必要とされる。

【0049】

以上のように、従来の光源装置においては、光ファイバ６からの出力物理量を補正することが困難であるという問題が生じ得る。そこで、検査者は、ウェッジプレート８２を回転させて、平行光の方向を変え、光ファイバ６での集光位置を補正することができる。

【0050】

図８は、ウェッジプレート８２を回転させることによる、集光位置の移動を示す図である。図８（ａ）は、ウェッジプレート８２の回転を示す図である。図８（ｂ）は、縮小光学系４が配置されていない場合の集光位置の軌跡を示す図である。図８（ｃ）は、縮小光学系４が配置されている場合の集光位置の軌跡を示す図である。図８（ｂ）および図８（ｃ）においては、集光位置の軌跡は、破線で示されている。

【0051】

ウェッジプレート８２は、Ｚ軸方向まわりにおいて、時計針の回転方向、および時計針の回転方向と反対方向に、回転可能である。図８（ａ）の例では、検査者により、ウェッジプレート８２が時計針の回転方向と反対方向に回転された例が示されている。上述のように、ウェッジプレート８２に入射された平行光は屈折することにより、該入射の方向とは異なる方向に出射面８２Ｂから出射される。したがって、ウェッジプレート８２の回転に応じて、入射面６１での集光位置は変位することになる。

【0052】

図８（ｂ）は、縮小光学系４が配置されていない場合の集光位置の変位を示す。縮小光学系４が配置されていない場合には、図８（ｂ）に示すように、集光位置の変位量は、Ｆａｓｔ軸方向とＳｌｏｗ軸方向とで同一となる。

【0053】

図８（ｃ）は、縮小光学系４が配置されている場合の（つまり、本実施の形態の）集光位置の変位を示す。縮小光学系４が配置されている場合には、図８（ｃ）に示すように、集光位置のＦａｓｔ軸方向の変位量は、集光位置のＳｌｏｗ軸方向の変位量よりも大きくなる。何故ならば、縮小光学系４によりＦａｓｔ軸方向の平行光のビーム径が縮小されているからである。

【0054】

図９は、ウェッジ角度（図６の第２角度θ２）と、ウェッジプレート８２を回転させた場合の入射面６１における集光位置の最大変化量との関係を示した図である。図９（Ａ）の縦軸は、入射面６１におけるＦａｓｔ軸方向のビーム重心の最大変化量を示す。図９（Ｂ）の縦軸は、入射面６１におけるＳｌｏｗ軸方向のビーム重心の最大変化量を示す。図９（Ａ）の縦軸および図９（Ｂ）の縦軸の単位は、「ｍｍ」である。また、図９（Ａ）および図９（Ｂ）の横軸は、ウェッジ角度（図６の第２角度θ２）を示す。

【0055】

図９（Ａ）の例では、ウェッジ角度が大きくなるほど、Ｆａｓｔ軸方向での最大変化量も大きくなる。たとえば、ウェッジ角度が、０．１度の場合には、Ｆａｓｔ軸方向での最大変化量は、３３６μｍとなる。また、図９（Ｂ）の例では、ウェッジ角度が大きくなるほど、Ｓｌｏｗ軸方向での最大変化量も大きくなる。たとえば、ウェッジ角度が、０．１度の場合には、Ｓｌｏｗ軸方向での最大変化量は、２１μｍとなる。なお、光ファイバ６の集光コア径は、典型的には、５０μｍ～６００μｍである。この場合には、ウェッジ角度は、０．０１度～０．２度の範囲内であればＦａｓｔ軸方向の集光位置を適切に補正できる。

【0056】

図９（Ａ）および図９（Ｂ）に示すように、集光位置のＦａｓｔ軸方向の最大変位量は、集光位置のＳｌｏｗ軸方向の最大変位量よりも大きくなる。また、集光位置のＦａｓｔ軸方向の変位量は、集光位置のＳｌｏｗ軸方向の変位量のＳ倍（Ｓは正の実数）であるとする。このＳの値は、縮小光学系４による縮小倍率に基づく値となる。たとえば、縮小光学系４によりＦａｓｔ軸方向の平行光のビーム径が、１／１６倍に縮小されている場合には、Ｓは“１６”となる。また、ウェッジ角度が大きいほど、集光位置のＦａｓｔ軸方向およびＳｌｏｗ軸方向の最大変位量が大きくなる。

【0057】

以上のように、本実施の形態の光源２は、ダイレクトダイオードレーザであり、いわゆる端面発光型である。したがって、光源２は、Ｆａｓｔ軸方向のビーム径がＳｌｏｗ軸方向のビーム径よりも大きいレーザ光（楕円ビーム）を出力する。そこで、縮小光学系４が、Ｆａｓｔ軸方向のビーム径を縮小することにより楕円ビームは整形される。また、対象部品（たとえば、図２のコリメート光学系３）がＦａｓｔ軸方向にΔｘずれる場合がある。この場合には、入射面６１において集光位置はＦａｓｔ軸方向に大きくずれ（Δｘｆずれ）、出力物理量は大きく低下してしまう（図７参照）。従来の光源装置においては、この出力物理量を補正することが困難であった。

【0058】

そこで、本実施の形態の光源装置１００は、上述の出射面８２Ｂを有するウェッジプレート８２を備える。図９（Ａ）および図９（Ｂ）に示すように、検査者などがＺ軸まわりにウェッジプレート８２を回転させた場合において、Ｆａｓｔ軸方向の集光位置を大きく変位させることができる。なお、Ｓｌｏｗ軸方向の集光位置の変位量は小さい。したがって、光ファイバ６の入射面６１において、集光位置をＦａｓｔ軸方向に大きく変位させることができる。よって、光源装置１００において集光位置を上記の理想位置とするまたは理想位置に近づけることができ、出力物理量を閾値以上とすることができる。その結果、本実施の形態の光源装置１００においては、光ファイバからの出力物理量を容易に補正することができる。

【0059】

［検査方法の手順］
図１０は、検査方法の手順の一例を示す図である。該検査方法は、光源装置１００の製造において光源装置１００が完成した後、光源装置１００が出荷される前に、検査者などにより実施される。また、該検査方法は、光源装置１００が出荷された後、出荷先において該光源装置１００がユーザ使用による経年劣化した場合などにおいて、該ユーザが該光源装置１００の出力物理量に異常があった場合に、検査者（たとえば、サービスマン）などにより実施される。

【0060】

まず、ステップＳ２において、検査者は、パワーメータ１５０（図２参照）を光源装置１００に装着させて、パワーメータに出力物理量を表示させる。

【0061】

次に、ステップＳ４において、検査者は、Ｎ個の光路ＬＤ（図２参照）から、出力物理量が閾値以下となる異常光路を特定する。検査者は、たとえば、Ｎ個の光源に１つずつレーザ光を出力させて、出力物理量を視認する。たとえば、出力物理量が低下した光源に対応する光路ＬＤが異常光路となる。なお、異常光路の特定の手法については、他の手法であってもよい。

【0062】

次に、ステップＳ６において、検査者は、保持部８１およびウェッジプレート８２を配置させる。また、図６などで説明したように、ウェッジプレート８２は、Ｚ軸方向まわりに回転可能に配置される。図２および図３の例では、異常光路は、上から２番目の光路ＬＤである場合が示されており、該異常光路に保持部８１およびウェッジプレート８２が配置されている。

【0063】

次に、ステップＳ８において、検査者は、パワーメータ１５０に表示された出力物理量を視認しながら、パワーメータ１５０に表示された出力物理量が閾値以上となるまでウェッジプレート８２を回転させる。そして、検査者は、出力物理量が閾値以上となったときには、ウェッジプレート８２の回転を止める。このようにステップＳ８は、検査者がウェッジプレート８２を回転することにより、光ファイバ６の出力物理量を閾値以上とするステップである。

【0064】

なお、図１０の検査方法の少なくとも１つの処理は、光源装置１００の制御装置（図示せず）が実行するようにしてもよい。

【0065】

なお、光源装置１００は、ウェッジプレート８２を有していない構成としてもよい。この場合には、検査方法において、検査者により、異常光路が特定された場合に、該異常光路にウェッジプレートが後発的に配置される。

【0066】

また、光源装置１００は、Ｎ個の光路ＬＤの少なくとも１つの光路ＬＤにウェッジプレート８２を有していてもよい。このような構成において、ウェッジプレート８２が配置されている光路が、異常光路である場合には、検査者は、該ウェッジプレートを回転させることにより、出力物理量を補正する。一方、ウェッジプレート８２が配置されていない光路が、異常光路である場合には、検査者により、該異常光路に新たなウェッジプレート８２が後発的に配置される。そして、検査者は、該新たなウェッジプレートを回転させることにより、出力物理量を補正する。

【0067】

以上のように、光源装置１００により、ウェッジプレート８２を調整することにより、光ファイバ６からの出力物理量を容易に補正することができる。

【0068】

たとえば、ウェッジプレート８２が、第１シリンドリカルレンズ４１と第２シリンドリカルレンズ４２との間の光路ＬＤ１、または、第２シリンドリカルレンズ４２と集光光学系５との間の光路ＬＤ２に配置される構成（以下、「比較構成」とも称される。）が考えられる。ここで、光路ＬＤ１の径または光路ＬＤ２の径は、光路ＬＤの径よりも小さい。ウェッジプレート８２は、異常光路に配置させる必要があるものの、該異常光路とは異なる正常光路にはみ出てはいけない。正常光路にウェッジプレート８２がはみ出てしまうと、該正常光路を通過する正常なレーザ光の出力方向が変化してしまうからである。

【0069】

したがって、光路ＬＤ１または光路ＬＤ２にウェッジプレート８２を配置させる構成の場合には、小さなウェッジプレート８２が必要であるとともに、ウェッジプレート８２の配置精度を高める必要がある。よって、光路ＬＤ１または光路ＬＤ２にウェッジプレート８２を配置させることは困難となる。これに対し、本実施の形態においては、ウェッジプレート８２は、Ｎ個のコリメート光学系３のうちの特定のコリメート光学系と、縮小光学系４との間の光路ＬＤに配置される。したがって、比較構成と比較して、大きなウェッジプレート８２を使用することができるとともに、ウェッジプレート８２の配置精度を高める必要はない。よって、検査者は、容易に、ウェッジプレート８２を配置させることができる。

【0070】

また、特定のコリメート光学系３は、ウェッジプレート８２が存在しないと仮定した場合に、出力物理量が閾値未満となるレーザ光が通過するレンズである。つまり、特定のコリメート光学系３は、異常光路に対応するコリメート光学系（図２および図３の例では、上から２番目のコリメート光学系３）である。したがって、検査者は、ウェッジプレート８２を調整することにより、出力物理量を閾値以上とすることができる。

【0071】

また、Ｎ個の光源２から出力されるレーザ光のＦａｓｔ軸方向のビーム径は、Ｓｌｏｗ軸方向のビーム径よりも大きい。つまり、既存の光源２（たとえば、端面発光型の光源またはダイレクトダイオードレーザ）を使用することができる。このように、既存の光源２が用いられたとしても、検査者は、該新たなウェッジプレートを回転させることにより、出力物理量を補正することができる。

【0072】

また、ウェッジプレート８２の第１角度θ１は、８９．５度以上であり、９０度未満の範囲のうちの角度である。発明者は、第１角度θ１がこのような範囲内であることにより、入射面６１における集光位置のＦａｓｔ軸方向での変位量を大きくするとともに、該ウェッジプレート８２を通過したレーザ光の収差を低減できることを発見した。よって、第１角度θ１がこのような範囲内であることにより、レーザ光の収差を低減できる。

【0073】

＜第２実施形態＞
第１実施形態では、Ｎ個の光源２から出力されるレーザ光のＦａｓｔ軸方向のビーム径は、Ｓｌｏｗ軸方向のビーム径よりも大きくなる構成を説明した。第１実施形態では、さらに、縮小光学系４がレーザ光のＦａｓｔ軸方向のビーム径を縮小することにより、楕円ビームがＦａｓｔ軸方向のみ整形される構成を説明した。第２実施形態では、拡大光学系により、レーザ光のＳｌｏｗ軸方向のビーム径が拡大されることにより、楕円ビームがＳｌｏｗ軸方向のみ整形される構成を説明する。「拡大光学系」は、本開示の「ビーム径調整光学系」に対応する。

【0074】

図１１は、第２実施形態の光源装置１００Ａの構成例を示す図である。図１１の上図の様にレーザ光のＦａｓｔ軸方向から平面視した場合の光源装置１００Ａを示し、図３の下図は、レーザ光のＳｌｏｗ軸方向から平面視した場合の光源装置１００Ａを示す。

【0075】

図３と図１１とを比較すると、図１１においては、図３の縮小光学系４が、拡大光学系１６０に代替されている。

【0076】

拡大光学系１６０は、Ｆａｓｔ軸方向にパワーを有する第３シリンドリカルレンズ４３、および第４シリンドリカルレンズ４４を有する。また、第３シリンドリカルレンズ４３、および第４シリンドリカルレンズ４４は、上流側から下流側に向かって順番に配置されている。

【0077】

第３シリンドリカルレンズ４３は、レーザ光ＬＢが入射する入射面４３１と、レーザ光ＬＢが出射する出射面４３２とを有する。入射面４３１は、平面で構成されている。一方、出射面４３２は、Ｆａｓｔ軸方向に沿って連続的に突出高さが変化するように形成された凸面を有する。このような入射面４３１および出射面４３２により、第３シリンドリカルレンズ４３は、Ｆａｓｔ軸方向にパワーを有するシリンドリカルレンズとなる。

【0078】

第４シリンドリカルレンズ４４は、レーザ光ＬＢが入射する入射面４４１と、レーザ光ＬＢが出射する出射面４４２とを有する。入射面４４１は、平面で構成されている。一方、出射面４４２は、Ｆａｓｔ軸方向に沿って連続的に深さが変化するように形成された凹面４４３で構成されている。このような入射面４４１および出射面４４２により、第４シリンドリカルレンズ４４は、Ｆａｓｔ軸方向にパワーを有するシリンドリカルレンズとなる。このような拡大光学系１６０により、Ｓｌｏｗ軸方向のビーム径は、レーザ光ＬＢが進むにつれて拡大される。また、ウェッジプレート８２は、たとえば、上述の特定のコリメート光学系と、拡大光学系１６０との間の光路に配置される。

【0079】

この第２実施形態の光源装置１００Ａであっても、第１実施形態の光源装置１００と同様の効果を奏する。また、第２実施形態の光源装置１００Ａに対して、図１０で説明した検査方法を実行することができる。

【0080】

＜第３実施形態＞
第１実施形態では、光源装置１００は、加工装置１０に適用される構成が説明された。第３実施形態では、プロジェクタ１５に光源装置１００が適用される構成を説明する。図１２は、本実施の形態の光源装置が適用されたプロジェクタ１５の機能ブロック図である。プロジェクタ１５は、スクリーンＳにレーザ光を照射することにより、所定の画面（動画または静止画）を表示させる。

【0081】

プロジェクタ１５は、Ｍ（Ｍは１以上の整数）個の光源装置と、投影ヘッド１３２とを備える。Ｍ個の光源装置の各々の光源２からは異なる波長のレーザ光が出力される。Ｍは、たとえば、３である。たとえば、Ｍ個の光源装置は、赤系のレーザ光を出力する光源装置１００Ｒと、緑系のレーザ光を出力する光源装置１００Ｇと、青系のレーザ光を出力する光源装置１００Ｂとを備える。投影ヘッド１３２は、Ｍ個の光源装置から出力されたレーザ光をスクリーンＳに向けて出射させる。投影ヘッド１３２は、たとえば、Ｍ個の光源装置から出力されたレーザ光を集光する集光光学系を有する。投影ヘッド１３２から出力されたレーザ光は、スクリーンＳに照射される。

【0082】

このように、本開示の光源装置は、プロジェクタにも適用される。なお、光源装置は、他の装置に適用されるようにしてもよい。

【0083】

［態様］
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。

【0084】

（第１項） 一態様に係る光源装置は、レーザ光を出力する複数の光源と、複数の光源から出力されるレーザ光をそれぞれコリメートする複数のコリメート光学系と、複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の各々のＦａｓｔ軸方向のビーム径を縮小し、または、レーザ光の各々のＳｌｏｗ軸方向のビーム径を拡大するビーム径調整光学系と、ビーム径調整光学系を通過したレーザ光を集光する集光光学系と、集光光学系により集光されたレーザ光が入力される光ファイバと、複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の光軸方向に対して垂直な面内で回転可能な態様で配置されたウェッジプレートとを備え、ウェッジプレートは、光軸方向に対して非直角な角度を有する入射面および／または出射面を有する。

【0085】

このような構成によれば、検査者などによりウェッジプレートが回転されることにより、光ファイバの入射面における集光位置をＦａｓｔ軸方向に変位させることができる。その結果、光源装置において、光ファイバからの出力に関する物理量を容易に補正することができる。

【0086】

（第２項） 第１項に記載の光源装置において、複数のコリメート光学系のうちの特定のコリメート光学系と、ビーム径調整光学系との間に配置されている。

【0087】

このような構成によれば、特定のコリメート光学系と、光学系との間の光路径は大きいことから、検査者は、ウェッジプレートを容易に配置することができる。

【0088】

（第３項） 第１項または第２項に記載の光源装置において、複数の光源の各々は、Ｆａｓｔ軸方向のビーム径がＳｌｏｗ軸方向のビーム径よりも大きいようなレーザ光を出力する。

【0089】

このような構成によれば、上記の光学系においてレーザ光を円形レーザ光に整形できるとともに、光ファイバの入射面において、Ｆａｓｔ軸方向をＳｌｏｗ軸方向よりも大きく変位させることができる。

【0090】

（第４項） 第１項～第３項のいずれか１項に記載の光源装置において、非直角な角度は、８９．５度以上であり、９０度未満である。

【0091】

このような構成によれば、レーザ光の収差を低減することができる。
（第５項） 一態様に係る加工装置は、第１項～第４項のいずれか１項に記載の光源装置と、光源装置から出力されたレーザ光をワークに向けて出射させる加工ヘッドとを備える。

【0092】

このような構成によれば、加工対象物を加工できる加工装置において、光源装置からの出力に関する物理量を容易に補正することができる。

【0093】

（第６項） 一態様に係る検査方法は、光源装置の検査方法であって、光源装置は、レーザ光を出力する複数の光源と、複数の光源から出力されるレーザ光をそれぞれコリメートする複数のコリメート光学系と、複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の各々のＦａｓｔ軸方向のビーム径を縮小し、または、レーザ光の各々のＳｌｏｗ軸方向のビーム径を拡大するビーム径調整光学系と、ビーム径調整光学系を通過したレーザ光を集光する集光光学系と、集光光学系により集光されたレーザ光が入力される光ファイバとを備え、検査方法は、複数のコリメート光学系を通過したレーザ光の光軸方向に対して垂直な面内で回転可能な態様でウェッジプレートを配置させることを備え、ウェッジプレートは、光軸方向に対して非直角な角度を有する入射面および／または出射面を有し、検査方法は、さらに、ウェッジプレートを回転させることにより、光ファイバの出力に関する物理量を閾値以上とすることを備える。

【0094】

このような構成によれば、検査者などによりウェッジプレートが回転されることにより、光ファイバの入射面における集光位置をＦａｓｔ軸方向に変位させることができる。その結果、光源装置において、光ファイバからの出力に関する物理量を容易に補正することができる。

【0095】

今回開示された実施の形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本開示の範囲は、上記した実施の形態の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

【符号の説明】

【0096】

２ 光源、３ コリメート光学系、４ 縮小光学系、５ 集光光学系、６ 光ファイバ、１０ 加工装置、１５ プロジェクタ、２２ レーザダイオード素子、２３ フォトダイオード、２４ パッケージ、４１ 第１シリンドリカルレンズ、４２ 第２シリンドリカルレンズ、４３ 第３シリンドリカルレンズ、４４ 第４シリンドリカルレンズ、８２Ａ 入射面、８２Ｂ 出射面、８１ 保持部、８１Ａ 貫通穴、８２ ウェッジプレート、１００ 光源装置、１３０ 加工ヘッド、１３２ 投影ヘッド、１５０ パワーメータ、１６０ 拡大光学系、２４１ ベース、２４２ キャップ、２４３ カバーガラス、２４４ 円盤状部、２４５ 支持部、２４６ 貫通孔。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】