技術分野
シミュレーション方法、シミュレーション装置、及びプログラム
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
構造体の変形及び応力の解析手法として、粒子法が用いられる場合がある。例えば、複数の部材が相互に離れた状態から接触する状態に変位するような場合、または複数の部材が相互に接触して力を及ぼしあっている状態等の解析には、有限要素法より粒子法の方が破綻なく計算できる場合が多い。適用される粒子法として、例えばMPS法(Moving Particle Semi-implicit)、SPH法(Smoothed Particle Hydrodynamics)、RMD法(Renormalization Molecular Dynamics)等が挙げられる。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の一観点によると、
解析対象物の解析条件が入力される入力部と、
前記入力部に入力された解析条件に基づいて、解析対象物の解析を行う処理部と、
前記処理部の解析結果を出力する出力部と
を備え
前記処理部は、
前記入力部に入力された解析モデルを第1メッシュで分割し、有限要素法または粒子法を用いて解析を行い、
前記解析モデルの一部の領域をズーミング領域として選択し、前記・・・ 続きを
知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
第1メッシュを用いて解析して得られた変位に基づいて、第2メッシュの節点に配置した粒子を変位させた後、ズーミング領域内の応力を求める前に、ズーミング領域において、境界条件の下で粒子法を用いて粒子を変位させることにより、不規則なムラの無い応力分布を求めることができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
図1A及び図1Bは、シミュレーションによって変形及び応力の解析を行う対象物の一例を示す斜視図である。
【図2】
図2は、実施例によるシミュレーション方法の手順を示すフローチャートである。
【図3】
図3A及び図3Bは、それぞれ第1部材及び第2部材を第1メッシュで分割した状態を示す斜視図であり、図3Cは、第2部材を第1部材内に挿入した状態の第1メッシュを示す斜視図である。
【図4】
図4Aは、初期状態の解析モデルの第1メッシュの平面図であり、図4Bは、つり合い状態における解析モデルの第1メッシュの平面図である。
【図5】
図5Aは、ステップS03を実行する前の初期状態における複数の第1粒子及び1つの第2粒子の相対位置関係を示す模式図であり、図5Bは、ステップS03を実行して第1粒子を変位させた後の状態における複数の第1粒子及び1つの第2粒子の相対位置関係を示す模式図である。
【図6】
図6Aは、変位前の第1粒子及び第2粒子の位置関係を示す模式図であり、図6Bは、変位後の第1粒子及び第2粒子の位置関係を示す模式図である。
【図7】
図7は、変位後の第2粒子のうち、ズーミング領域(第1部材)の表面に位置するものを示す模式図である。
【図8】
図8は、ズーミング領域、ポリゴン壁、及び第2粒子の相対位置関係を示す模式図である。
【図9】
図9A及び図9Bは、それぞれステップS03において求めた第1粒子の変位量に基づいて計算した応力、及びステップS12において第2粒子の変位量に基づいて計算した応力の分布を、色の濃淡で表す図である。
【図10】
図10Aは、ステップS03において求めた第1粒子の変位量に基づいて計算した応力の分布を、色の濃淡で表す図であり、図10Bは、ステップS06で変位させた第2粒子の位置に基づいて計算した応力の分布を、色の濃淡で表す図である。
【図11】
図11は、本実施例によるシミュレーション装置のブロック図である。
21 第1部材
22 溝
31 第2部材
32 凸部
41 第1粒子
42 第2粒子
42A ポリゴン壁から飛び出した第2粒子
43 ポリゴン要素
44 ポリゴン壁
50 入力部
51 処理部
52 出力部
53 記憶部
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録