特許 7587004 ブッシュインサート、これを含むブッシュ組立体、及びこれを含む上部電極組立構造

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-11

(45)【発行日】2024-11-19

(54)【発明の名称】ブッシュインサート、これを含むブッシュ組立体、及びこれを含む上部電極組立構造

(51)【国際特許分類】

   H05H 1/46 20060101AFI20241112BHJP

【ＦＩ】

H05H1/46 M

【請求項の数】 19

(21)【出願番号】P 2023198649

(22)【出願日】2023-11-22

(65)【公開番号】P2024114595

(43)【公開日】2024-08-23

【審査請求日】2023-11-22

(31)【優先権主張番号】10-2023-0017762

(32)【優先日】2023-02-10

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(31)【優先権主張番号】10-2023-0092024

(32)【優先日】2023-07-14

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】523285649

【氏名又は名称】ハナ マテリアルズ インコーポレイテッド

(74)【代理人】

【識別番号】110000051

【氏名又は名称】弁理士法人共生国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】柳 濟 根

(72)【発明者】

【氏名】金 容 旭

(72)【発明者】

【氏名】李 濟 希

(72)【発明者】

【氏名】韓 泰 グン

(72)【発明者】

【氏名】李 銀 英

(72)【発明者】

【氏名】崔 王 基

【審査官】右▲高▼ 孝幸

(56)【参考文献】

【文献】韓国登録特許第２１９９７７８（ＫＲ，Ｂ１）

【文献】特開２０２２－０７８７２０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０５Ｈ １／４６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

プラズマ電極板に結合されるブッシュインサートにおいて、
前記ブッシュインサートは、前記ブッシュインサートを第１方向貫通するインサート内部孔を提供し、
前記インサート内部孔を定義する前記ブッシュインサートの内側面は、雌ねじ構造を提供し、
前記ブッシュインサートの外面は、平面視において非円形であり、
前記ブッシュインサートの前記外面は、
前記第１方向に平行である第１外側面と、
前記インサート内部孔を基準に前記第１外側面の反対側に位置する第２外側面と、
前記第１外側面と前記第２外側面との間の第３外側面と、
前記インサート内部孔を基準に前記第３外側面の反対側に位置する第４外側面と、を含み、
前記第１外側面、前記第２外側面、前記第３外側面、及び前記第４外側面の各々は、平面（ｐｌａｎｅ）形状を有することを特徴とするブッシュインサート。

【請求項2】

前記インサート内部孔は、
前記ブッシュインサートの上面から下に陥没された第１内部孔と、
前記第１内部孔から下に延長されて前記ブッシュインサートの下面に連結される第２内部孔と、を含み、
前記雌ねじ構造は、前記第２内部孔を定義する前記ブッシュインサートの第１内側面上に形成されることを特徴とする請求項１に記載のブッシュインサート。

【請求項3】

前記ブッシュインサートの前記外面は、前記第１外側面と前記第２外側面を連結する第１曲面をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のブッシュインサート。

【請求項4】

前記第１内部孔は、平面視において円形状を有することを特徴とする請求項２に記載のブッシュインサート。

【請求項5】

プラズマ電極板に結合されるブッシュインサートにおいて、
前記ブッシュインサートは、前記ブッシュインサートを第１方向貫通するインサート内部孔を提供し、
前記インサート内部孔を定義する前記ブッシュインサートの内側面は、雌ねじ構造を提供し、
前記ブッシュインサートの外面は、平面視において非円形であり、
前記ブッシュインサートは、前記インサート内部孔から前記第１方向に交差される水平方向に延長されて前記ブッシュインサートの前記外面に連結される収縮孔をさらに提供し、
前記収縮孔の前記第１方向への長さは、前記インサート内部孔の前記第１方向への長さより小さいことを特徴とするブッシュインサート。

【請求項6】

プラズマ電極板に結合されるブッシュインサートにおいて、
前記ブッシュインサートは、前記ブッシュインサートを第１方向貫通するインサート内部孔を提供し、
前記インサート内部孔を定義する前記ブッシュインサートの内側面は、雌ねじ構造を提供し、
前記ブッシュインサートの外面は、平面視において非円形であり、
前記ブッシュインサートの前記外面は、平面視において丸い角を有する６角形又は丸い角を有する８角形の形状を有することを特徴とするブッシュインサート。

【請求項7】

第１電極板と、
前記第１電極板に結合されるブッシュ組立体と、を含み、
前記第１電極板は、前記第１電極板の上面から下に一定深さで陥没される第１挿入孔を提供し、
前記ブッシュ組立体は、
ブッシュと、
前記ブッシュを囲むように前記ブッシュに結合されるブッシュインサートと、を含み、
前記第１挿入孔及び前記ブッシュインサートの各々は、平面視において丸い方形状を有し、
前記ブッシュインサートは、前記第１挿入孔に挿入されることを特徴とする上部電極組立構造。

【請求項8】

前記第１電極板上の第２電極板をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の上部電極組立構造。

【請求項9】

前記ブッシュインサートは、前記ブッシュインサートを上下に貫通するインサート内部孔を提供し、
前記インサート内部孔を定義する前記ブッシュインサートの内側面は、雌ねじ構造を提供し、
前記ブッシュは、前記雌ねじ構造にネジ結合されることを特徴とする請求項７に記載の上部電極組立構造。

【請求項10】

前記インサート内部孔は、平面視において円形状を有することを特徴とする請求項９に記載の上部電極組立構造。

【請求項11】

前記インサート内部孔は、
前記ブッシュインサートの上面から下に陥没された第１内部孔と、
前記第１内部孔から下に延長されて前記ブッシュインサートの下面に連結される第２内部孔と、を含み、
前記第１内部孔の幅は、前記第２内部孔の幅より大きいことを特徴とする請求項９に記載の上部電極組立構造。

【請求項12】

前記ブッシュインサートは、前記インサート内部孔から第１方向に交差される水平方向に延長されて前記ブッシュインサートの外面に連結される収縮孔をさらに提供することを特徴とする請求項９に記載の上部電極組立構造。

【請求項13】

前記収縮孔の前記第１方向への長さは、前記インサート内部孔の前記第１方向への長さより小さく、
前記収縮孔は、前記ブッシュインサートの下面に連結されることを特徴とする請求項１２に記載の上部電極組立構造。

【請求項14】

前記収縮孔は、４つが提供され、
前記４つの収縮孔は、円周方向に離隔配置されることを特徴とする請求項１２に記載の上部電極組立構造。

【請求項15】

ブッシュインサートと、
前記ブッシュインサートに挿入されるブッシュと、を含み、
前記ブッシュは、前記ブッシュを第１方向貫通する内部貫通孔を提供し、
前記ブッシュの外面に雄ねじ構造が提供され、
前記ブッシュインサートは、前記ブッシュインサートを前記第１方向貫通するインサート内部孔を提供し、
前記インサート内部孔を定義する前記ブッシュインサートの内側面は、前記雄ねじ構造に噛み合わせる雌ねじ構造を提供し、
前記ブッシュインサートの外面は、平面視において非円形（ｎｏｎ－ｃｉｒｃｕｌａｒ）形状を有し、
前記ブッシュの外面は、平面視において円形（ｃｉｒｃｕｌａｒ）形状を有することを特徴とするブッシュ組立体。

【請求項16】

前記ブッシュインサートの前記外面は、平面視において丸い方形状を有することを特徴とする請求項１５に記載のブッシュ組立体。

【請求項17】

前記ブッシュインサートは、前記インサート内部孔から前記第１方向に交差される水平方向に延長されて前記ブッシュインサートの外面に連結される複数の収縮孔をさらに提供することを特徴とする請求項１５に記載のブッシュ組立体。

【請求項18】

前記ブッシュインサートは、前記ブッシュとは異なる物質を含むことを特徴とする請求項１５に記載のブッシュ組立体。

【請求項19】

前記インサート内部孔は、
前記ブッシュインサートの上面から下に陥没された第１内部孔と、
前記第１内部孔から下に延長されて前記ブッシュインサートの下面に連結される第２内部孔と、を含むことを特徴とする請求項１５に記載のブッシュ組立体。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明はブッシュインサート、これを含むブッシュ組立体、及びこれを含む上部電極組立構造に係り、より詳しくは簡単な組立を可能とすることができるブッシュインサート、これを含むブッシュ組立体、及びこれを含む上部電極組立構造に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体素子は様々な工程を経て製造される。例えば、半導体素子はシリコン等のウエハに対するフォト工程、蝕刻工程、蒸着工程等を経て製造される。半導体素子を製造するための蝕刻工程で、プラズマが使用できる。プラズマを利用した工程で、半導体製造装備内にプラズマ生成及び制御のための電極が使用できる。プラズマのための電極はチャンバーの下部及び上部に各々位置することができる。プラズマのための電極は複数の構成が結合されて形成されることができる。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

本発明が目的とするところは、回転を防止することができるブッシュインサート、これを含むブッシュ組立体、及びこれを含む上部電極組立構造を提供することにある。
また、本発明の目的は簡単な組立を可能とすることができるブッシュインサート、これを含むブッシュ組立体、及びこれを含む上部電極組立構造を提供することにある。
本発明が解決しようとする課題は以上で言及した課題に制限されることなく、言及されないその他の課題は下の記載から当業者に明確に理解されるべきである。

【課題を解決するための手段】

【0004】

本発明のブッシュインサートは、プラズマ電極板に結合されるブッシュインサートにおいて、前記ブッシュインサートは、前記ブッシュインサートを第１方向貫通するインサート内部孔を提供し、前記インサート内部孔を定義する前記ブッシュインサートの内側面は雌ねじ構造を提供し、前記ブッシュインサートの外面は、平面視において非円形であり得る。
本発明の上部電極組立構造は、第１電極板、及び前記第１電極板に結合されるブッシュ組立体を含み、前記第１電極板は、前記第１電極板の上面で下に一定深さ入り込む第１挿入孔を提供し、前記ブッシュ組立体は、ブッシュ、及び前記ブッシュを囲むように前記ブッシュに結合されるブッシュインサート、を含み、前記第１挿入孔及び前記ブッシュインサートの各々は、平面視において丸い方形状を有し、前記ブッシュインサートは前記第１挿入孔に挿入されることができる。

【0005】

本発明のブッシュ組立体は、ブッシュインサート、及び前記ブッシュインサートに挿入されるブッシュ、を含み、前記ブッシュは、前記ブッシュを第１方向貫通する内部貫通孔を提供し、前記ブッシュの外面に雄ねじ構造が提供され、前記ブッシュインサートは、前記ブッシュインサートを前記第１方向貫通するインサート内部孔を提供し、前記インサート内部孔を定義する前記ブッシュインサートの内側面は、前記雄ねじ構造に噛み合わせる雌ねじ構造を提供し、前記ブッシュインサートの外面は、平面視において非円形（ｎｏｎ－ｃｉｒｃｕｌａｒ）形状を有し、前記ブッシュの外面は、平面視において円形（ｃｉｒｃｕｌａｒ）形状を有することができる。
その他の実施形態の具体的な事項は詳細な説明及び図面に含まれている。

【発明の効果】

【0006】

本発明のブッシュインサート、これを含むブッシュ組立体、及びこれを含む上部電極組立構造によれば、回転を防止することができる。
また、本発明のブッシュインサート、これを含むブッシュ組立体、及びこれを含む上部電極組立構造によれば、簡単な組立が可能であることができる。
本発明の効果は以上で言及したことに制限されることなく、言及されないその他の効果は下の記載から当業者に明確に理解されるべきである。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本発明の上部電極組立構造を示した斜視図である。

【図2】本発明の上部電極組立構造を示した部分分解斜視図である。

【図3】本発明の上部電極組立構造の一部を示した断面図である。

【図4】本発明の第１電極板の一部を示した断面図である。

【図5】本発明の第１電極板の一部を示した平面図である。

【図6】本発明のブッシュ組立体を示した分解斜視図である。

【図7】本発明のブッシュインサートを示した断面図である。

【図8】本発明のブッシュインサートを示した斜視図である。

【図9】本発明のブッシュインサートを示した平面図である。

【図10】本発明のブッシュインサートを示した底面図である。

【図11】本発明のブッシュを示した断面図である。

【図12】本発明のブッシュを示した平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

本発明の長所及び／又は特徴、そしてそれを達成する方法は添付される図面と共に詳細に後述されている実施形態を参照すれば、明確になる。しかし、本発明は以下で開示される実施形態に限定されることではなく、互いに異なる様々な形態に具現されることができ、単なる本実施形態は本発明の開示が完全するようにし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されることであり、本発明は請求項の範疇によって定義されるだけである。明細書の全体に亘って同一参照符号は同一構成要素を称する。
本明細書で使用された用語は実施形態を説明するためのものであり、本発明を制限しようとすることではない。本明細書で、単数形は文句で特別に言及しない限り、複数形も含む。明細書で使用される含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）’及び／又は含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）は言及された構成要素、段階、動作及び／又は装置は１つ以上の他の構成要素、段階、動作及び／又は装置の存在又は追加を排除しない。

【0009】

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
図１は本発明の上部電極組立構造を示した斜視図であり、図２は本発明の上部電極組立構造を示した部分分解斜視図である。以下では、図１のＤ１を第１方向、第１方向Ｄ１に交差されるＤ２を第２方向、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に交差されるＤ３を第３方向と称することができる。第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３の各々は水平方向と称することができる。また、第３方向Ｄ３は垂直方向と称されることもあり得る。また、第１方向Ｄ１は上方向、第１方向Ｄ１の反対方向は下方向と称されることもあり得る。

【0010】

図１及び図２に示す通り、上部電極組立構造Ｕが提供されることができる。上部電極組立構造Ｕはプラズマを利用する工程のためのチャンバー内に設置されることができる。例えば、上部電極組立構造Ｕは半導体蝕刻のためのチャンバー内に設置されることができる。より具体的に、上部電極組立構造Ｕは蝕刻チャンバー内で下部電極（図示せず）から上に離隔されたところに設置される電極であり得る。上部電極組立構造Ｕは第１電極板Ｕ１、第２電極板Ｕ２、ブッシュ組立体Ａ、及び結合部材Ｍを含むことができる。
第１電極板Ｕ１は円板形状を含むことができる。第１電極板Ｕ１はシリコン（Ｓｉ）等の物質を含むことができるが、これに限定することではない。第１電極板Ｕ１は第１挿入孔Ｕ１ｈ及び微細ホール（未符号）を提供することができる。第１挿入孔Ｕ１ｈは第１電極板Ｕ１の上面から下に一定深さで陥没された孔であり得る。第１挿入孔Ｕ１ｈは、平面視において丸い方形状を有することができる。これに対する詳細な内容は後述する。第１挿入孔Ｕ１ｈにブッシュ組立体Ａ及び結合部材Ｍの少なくとも一部が挿入されることができる。第１挿入孔Ｕ１ｈにブッシュ組立体Ａ及び結合部材Ｍの一部が挿入されて、第１電極板Ｕ１と第２電極板Ｕ２が結合されることができる。第１挿入孔Ｕ１ｈは複数が提供されることができる。複数の第１挿入孔Ｕ１ｈは互いに円周方向に離隔されることができる。

【0011】

以下では特別な事情がない限り、第１挿入孔Ｕ１ｈは便宜上単数で記述する。微細ホールのサイズは第１挿入孔Ｕ１ｈのサイズより小さいことができる。微細ホールは工程ガスが通る孔であるが、これに限定することではない。微細ホールは複数が提供されることができる。
第２電極板Ｕ２は第１電極板Ｕ１上に結合されることができる。第２電極板Ｕ２は円板形状を含むことができる。第２電極板Ｕ２はシリコン（Ｓｉ）等の物質を含むことができるが、これに限定することではない。第２電極板Ｕ２は第２挿入孔Ｕ２ｈ及び微細ホール（未符号）を提供することができる。第２挿入孔Ｕ２ｈは第２電極板Ｕ２の上面から下面に向かって開いた孔であり得る。第２挿入孔Ｕ２ｈは第１挿入孔Ｕ１ｈ上に位置することができる。第２挿入孔Ｕ２ｈに結合部材Ｍの一部が挿入されることができる。第２挿入孔Ｕ２ｈに結合部材Ｍの一部が挿入されて、第１電極板Ｕ１と第２電極板Ｕ２が結合されることができる。第２挿入孔Ｕ２ｈは複数が提供されることができる。複数の第２挿入孔Ｕ２ｈは互いに円周方向に離隔されることができる。

【0012】

以下では特別な事情がない限り、第２挿入孔Ｕ２ｈは便宜上単数で記述する。微細ホールの直径は第２挿入孔Ｕ２ｈの直径より小さいことができる。微細ホールは工程ガスが通る孔であるが、これに限定することではない。微細ホールは複数が提供されることができる。
ブッシュ組立体Ａは第１挿入孔Ｕ１ｈに挿入されることができる。ブッシュ組立体Ａは第１電極板Ｕ１と結合部材Ｍを媒介することができる。即ち、ブッシュ組立体Ａによって第１電極板Ｕ１と結合部材Ｍが互いに結合されることができる。ブッシュ組立体Ａは複数が提供されることができる。例えば、ブッシュ組立体Ａは第１挿入孔Ｕ１ｈの数ほど、提供されることができる。しかし、以下では特別な事情がない限り、便宜上ブッシュ組立体Ａは単数で記述する。ブッシュ組立体Ａに対する詳細な内容は後述する。

【0013】

結合部材Ｍは上下に延長されることができる。結合部材Ｍは第１挿入孔Ｕ１ｈ及び第２挿入孔Ｕ２ｈに挿入されることができる。結合部材Ｍは第１電極板Ｕ１と第２電極板Ｕ２を結合させることができる。
結合部材Ｍは第１挿入孔Ｕ１ｈ内でブッシュ組立体Ａと結合することができる。より具体的に、結合部材Ｍは第１挿入孔Ｕ１ｈ内でブッシュ組立体Ａ内に挿入されることができる。結合部材Ｍは金属を含むことができる。結合部材Ｍの外周面に雄ねじ構造が形成されることができる。結合部材Ｍはブッシュ組立体Ａとネジ結合をすることができる。即ち、結合部材Ｍはボルトであるが、これに限定することではない。結合部材Ｍは複数が提供されることができる。例えば、結合部材Ｍはブッシュ組立体Ａの数ほど、提供されることができる。しかし、以下では特別な事情がない限り、便宜上結合部材Ｍは単数で記述する。

【0014】

図３は本発明の上部電極組立構造の一部を示した断面図であり、図４は本発明の第１電極板の一部を示した断面図であり、図５は本発明の第１電極板の一部を示した平面図である。
図３乃至図５に示す通り、第１挿入孔Ｕ１ｈは第１電極板Ｕ１の上面Ｕ１ｕから下に一定深さで陥没されて形成されることができる。第１挿入孔Ｕ１ｈの高さは、第１電極板Ｕ１の高さより小さいことができる。したがって、第１挿入孔Ｕ１ｈは第１電極板Ｕ１の下面Ｕ１ｕに連結されないことができる。しかし、これに限定されることではない。第１挿入孔Ｕ１ｈは、平面視において非円形（ｎｏｎ－ｃｉｒｃｕｌａｒ）形状を有することができる。例えば、第１挿入孔Ｕ１ｈは、平面視において丸い方形状を有することができる。即ち、第１挿入孔Ｕ１ｈの平面視においての円周は、角が丸い形状の方形であり得る。しかし、これに限定されることではない。第１挿入孔Ｕ１ｈ内にブッシュ組立体Ａが挿入されることができる。ブッシュ組立体Ａはブッシュインサート３及びブッシュ１を含むことができる。これらに対する詳細な内容は後述する。

【0015】

図６は本発明のブッシュ組立体を示した分解斜視図であり、図７は本発明のブッシュインサートを示した断面図であり、図８は本発明のブッシュインサートを示した斜視図であり、図９は本発明のブッシュインサートを示した平面図であり、図１０は本発明のブッシュインサートを示した底面図である。
図６乃至図８に示す通り、ブッシュインサート３はインサート内部孔３ｈを提供することができる。インサート内部孔３ｈはブッシュインサート３の上面３ｕから下に陥没されて形成されることができる。例えば、インサート内部孔３ｈはブッシュインサート３を第１方向Ｄ１に貫通することができる。インサート内部孔３ｈを定義する内側面３ｉは、第１内側面３ｉｂ及び第２内側面３ｉａを含むことができる。インサート内部孔３ｈの中で第１内側面３ｉｂによって定義される部分を第１内部孔３ｈｂと称することができる。第１内部孔３ｈｂはブッシュインサート３の上面３ｕから下に陥没されて形成されることができる。第１内部孔３ｈｂは、平面視において円形状を有することができる。第１内側面３ｉｂに雌ねじ構造（図示せず）が提供されることができる。インサート内部孔３ｈの中で第２内側面３ｉａによって定義される部分を第２内部孔３ｈａと称することができる。第２内部孔３ｈａは第１内部孔３ｈｂから上に延長されることができる。第２内部孔３ｈａはブッシュインサート３の上面３ｕに連結されることができる。第１内部孔３ｈｂの幅は第２内部孔３ｈａの幅より小さいか、或いは同一であるが、これに限定することではない。

【0016】

図６乃至図８及び図１０に示す通り、ブッシュインサート３は収縮孔３ｓをさらに提供することができる。収縮孔３ｓはインサート内部孔３ｈの一部分が切開された形状であって、水平方向に延長されて、ブッシュインサート３の外面３ｅに連結されることができる。収縮孔３ｓの第１方向Ｄ１への長さは、ブッシュインサート３の第１方向Ｄ１への長さより小さいことができる。収縮孔３ｓはブッシュインサート３の下面３ｂに連結されることができる。収縮孔３ｓは複数が提供されることができる。例えば、４つの収縮孔３ｓが提供されることができる。複数の収縮孔３ｓは円周方向に離隔配置されることができる。

【0017】

図９に示す通り、ブッシュインサート３は、平面視において非円形（ｎｏｎ－ｃｉｒｃｕｌａｒ）形状を有することができる。例えば、ブッシュインサート３は、平面視において丸い方形状を有することができる。より具体的に、ブッシュインサート３の外面３ｅの形状は、平面視において角が丸い方形状であり得る。即ち、ブッシュインサート３の外面３ｅは第１外側面３ｅ１、第２外側面３ｅ２、第３外側面３ｅ３、第４外側面３ｅ４、及び曲面を含むことができる。

【0018】

第１外側面３ｅ１は第１方向Ｄ１に延長される直線と平行であることができる。第１外側面３ｅ１は平面（ｐｌａｎｅ）であり得る。例えば、第１外側面３ｅ１は第２方向Ｄ２と垂直であることができる。
第２外側面３ｅ２は第１方向Ｄ１に延長される直線と平行であることができる。第２外側面３ｅ２は平面（ｐｌａｎｅ）であり得る。例えば、第２外側面３ｅ２は第２方向Ｄ２と垂直であることができる。第２外側面３ｅ２は第１外側面３ｅ１の反対側に位置することができる。より具体的に、第２外側面３ｅ２はインサート内部孔３ｈを基準に第１外側面３ｅ１の反対側に位置することができる。
第３外側面３ｅ３は第１方向Ｄ１に延長される直線と平行であることができる。第３外側面３ｅ３は平面（ｐｌａｎｅ）であり得る。例えば、第３外側面３ｅ３は第３方向Ｄ３と垂直であることができる。第３外側面３ｅ３は第１外側面３ｅ１と第２外側面３ｅ２との間に位置することができる。

【0019】

第４外側面３ｅ４は第１方向Ｄ１に延長される直線と平行であることができる。第４外側面３ｅ４は平面（ｐｌａｎｅ）であり得る。例えば、第４外側面３ｅ４は第３方向Ｄ３と垂直であることができる。第４外側面３ｅ４は第３外側面３ｅ３の反対側に位置することができる。より具体的に、第４外側面３ｅ４はインサート内部孔３ｈを基準に第３外側面３ｅ３の反対側に位置することができる。

【0020】

曲面は第１曲面３ｅｃを含むことができる。第１曲面３ｅｃは第３外側面３ｅ３と第２外側面３ｅ２を連結することができる。曲面は３つがさらに提供されることができる。即ち、４つの曲面の各々は、４つの外側面の中で隣接する２つの外側面を連結することができる。しかし、これに限定することではなく、ブッシュインサート３の外面３ｅは、平面視において丸い角を有する６角形又は丸い角を有する８角形の形状を有してもよい。

【0021】

図１１は本発明の例示的な実施形態によるブッシュを示した断面図であり、図１２は本発明の例示的な実施形態によるブッシュを示した平面図である。
図１０、図１１、及び図１２に示す通り、ブッシュ１は内部貫通孔１ｈを提供することができる。内部貫通孔１ｈはブッシュ１の上面１ｕから下に一定深さ陥没されて形成されることができる。例えば、内部貫通孔１ｈはブッシュ１を第１方向Ｄ１に貫通することができる。内部貫通孔１ｈを定義するブッシュ１の内面は雌ねじ構造を提供することができる。ブッシュ１の外面１ｅは、平面視において円形（ｃｉｒｃｕｌａｒ）形状を有することができる。ブッシュ１の外面１ｅに雄ねじ構造（図示せず）が提供されることができる。ブッシュ１の外面１ｅに提供される雄ねじ構造は、インサート内部孔３ｈ（図７参照）を定義するブッシュインサート３（図７参照）の第１内側面３ｉｂ（図７参照）に形成された雌ねじ構造に噛み合うことができる。

【0022】

本発明の例示的な実施形態によるブッシュインサート、これを含むブッシュ組立体、及びこれを含む上部電極組立構造によれば、ブッシュインサート及び第１挿入孔の各々が、平面視において非円形状を有することができる。したがって、ブッシュインサートが第１挿入孔内で回転することが防止されることができる。したがって、ブッシュインサートを第１電極板に容易であり、迅速に結合させることができる。

【0023】

以上、添付された図面を参考して本発明の実施形態を説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は本発明がその技術的思想や必須の特徴を変更しなくとも他の具体的な形態に実施されることができることを理解することができる。したがって、以上で記述した実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的ではないことと理解しなければならない。

【符号の説明】

【0024】

１ ブッシュ
１ｈ 内部貫通孔
３ ブッシュインサート
３ｈ インサート内部孔
３ｓ 収縮孔
Ａ ブッシュ組立体
Ｍ 結合部材
Ｕ１、Ｕ２ 電極板
Ｕ１ｈ、Ｕ２ｈ 挿入孔

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】