特許7588607カルボキシレート化合物の製造方法及びアミデート化合物の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-11-14
(45)【発行日】2024-11-22
(54)【発明の名称】カルボキシレート化合物の製造方法及びアミデート化合物の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07D 233/90 20060101AFI20241115BHJP
【ＦＩ】
C07D233/90 C
【請求項の数】
9
(21)【出願番号】P 2021575814
(86)(22)【出願日】2021-02-03
(86)【国際出願番号】 JP2021003818
(87)【国際公開番号】W WO2021157587
(87)【国際公開日】2021-08-12
【審査請求日】2023-12-27
(31)【優先権主張番号】P 2020016172
(32)【優先日】2020-02-03
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000167646
【氏名又は名称】広栄化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000796
【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】小野田 光貴
(72)【発明者】
【氏名】宮城 元嘉
【審査官】向井 佑
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１９／０６５９５３（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０２０／０６７４３１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】BESNARD, M. et al，On the spontaneous carboxylation of 1-butyl-3-methylimidazolium acetate by carbon dioxide，Chem. Commun.，2012年，Vol. 48，pp. 1245-1247
【文献】OHLIGSCHLAGER, A. et al.，Monitoring an ionic liquid synthesis with in-situ IR-spectroscopy - The intricacy of solvent effects，Chemical Engineering Journal，2019年，Vol. 368，pp. 649-658
【文献】GHOSH, A. et al.，Enantioselective Model Synthesis and Progress toward the Putative Structure of Yuremamine，J. Org. Chem.，2016年，Vol. 81，pp. 7945-7951
【文献】SCHMIDT, A. et al.，Imidazol-2-and-4-ylidene by decarboxylation. Studies on the cross-conjugated mesomeric betaine-alkal，Organic & Biomolecular Chemistry，2008年，Vol. 6，pp. 287-295
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０７Ｄ ２３３／９０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（１）で表されるイミダゾリウムカルボン酸塩と下記式（２）で表される炭酸エステルを反応させる工程を含む下記式（３ａ）で表されるカルボキシレート化合物の製造方法。式（１）：
【化1】
式（２）：
【化2】
式（３ａ）：
【化3】
【請求項2】
式（２）で表される炭酸エステルが炭酸ジメチルである請求項１に記載のカルボキシレート化合物の製造方法。【請求項3】
Ｒ２及びＲ３が水素原子である請求項１又は２に記載のカルボキシレート化合物の製造方法。【請求項4】
以下の工程１及び工程２を含む下記式（５）で表されるアミデート化合物の製造方法。（工程１）式（１）で表されるイミダゾリウムカルボン酸塩と式（２）で表される炭酸エステルを反応させて反応物（Ａ）を得る工程。
式（１）：
【化4】
式（２）：
【化5】
（工程２）工程１で得られた反応物（Ａ）を必要に応じて加熱し、式（４）で表される含窒素化合物と、必要に応じて加熱下に反応させて、式（５）で表されるアミデート化合物を得る工程。
式（４）：
【化6】
式（５）：
【化7】
【請求項5】
反応物（Ａ）が式（３ａ）で表されるカルボキシレート化合物を含む、請求項４に記載のアミデート化合物の製造方法。式（３ａ）：
【化8】
【請求項6】
式（４）で表される含窒素化合物が下記式（４－１）～（４－３）のいずれかで表される含窒素化合物である請求項４又は５に記載のアミデート化合物の製造方法。式（４－１）：
【化9】
式（４－２）：
【化10】
式（４－３）：
【化11】
【請求項7】
式（２）で表される炭酸エステルが炭酸ジメチルである請求項４～６のいずれか１項に記載のアミデート化合物の製造方法。【請求項8】
Ｒ２及びＲ３が水素原子である請求項４～７のいずれか１項に記載のアミデート化合物の製造方法。【請求項9】
Ｒ９が、ハロゲン原子で置換されていても良い芳香族炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い芳香族炭化水素基であり、Ｒ１０が、ハロゲン原子で置換されていても良い二価の芳香族炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い二価の芳香族炭化水素基である請求項６～８のいずれか１項に記載のアミデート化合物の製造方法。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、カルボキシレート化合物の製造方法及びアミデート化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
イミダゾリウム骨格に二酸化炭素が付加したカルボキシレート化合物は、安定なＮ－ヘテロサイクリックカルベン（以下、ＮＨＣカルベンという。）前駆体として知られており、ウレタン樹脂の製造用触媒として利用されている。
従来のカルボキシレート化合物の製造方法としては、ＮＨＣカルベンと二酸化炭素を反応させる方法が知られている（非特許文献１）。
イミダゾリウム骨格の２位にイソシアネートが付加したアミデート化合物もまた、ウレタン樹脂の製造用触媒として使用できることが知られている。アミデート化合物の製造方法としては、ＮＨＣカルベンである１，３－ジアルキルイミダゾール－２－イリデンとイソシアネート化合物を反応させる方法（非特許文献２）が知られている。
従来のカルボキシレート化合物の製造方法としては、ＮＨＣカルベンと二酸化炭素を反応させる方法が知られている（非特許文献１）。
イミダゾリウム骨格の２位にイソシアネートが付加したアミデート化合物もまた、ウレタン樹脂の製造用触媒として使用できることが知られている。アミデート化合物の製造方法としては、ＮＨＣカルベンである１，３－ジアルキルイミダゾール－２－イリデンとイソシアネート化合物を反応させる方法（非特許文献２）が知られている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0003】
【文献】Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ２００９年 ７４巻 ７９３５－７９４２頁
【文献】Ｓｔｒｕｃｔ． Ｃｈｅｍ． ２０１３年 ２４巻 ２０５９－２０６８頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
非特許文献１、２に記載のＮＨＣカルベンと二酸化炭素又はイソシアネートを反応させる方法では、ＮＨＣカルベンが、一般に、酸素や水に対して不安定であることから、グローブボックスのような特殊な設備を用いての、禁水、禁酸素条件下での製造が必要となるため、実用面で満足のいくものではなかった。
【0005】
本発明は、上記の背景技術に鑑みてなされたものであり、グローブボックスのような特殊な設備を用いての、禁水、禁酸素条件下での製造を必要としない、カルボキシレート化合物又はアミデート化合物の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者が、上記課題を解決するために鋭意検討を行ったところ、イミダゾリウムカルボン酸塩と炭酸ジアルキル、炭酸アルキレンなどの炭酸エステルを反応させることでカルボキシレート化合物が製造できることを見出した。また、イミダゾリウムカルボン酸塩と炭酸ジアルキル、炭酸アルキレンなどの炭酸エステルを反応させ、さらにフェニルイソシアネートなどの含窒素化合物と反応させることでアミデート化合物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち、本発明は、以下の［１］～［９］を包含する。
【0008】
［１］下記式（１）で表されるイミダゾリウムカルボン酸塩と下記式（２）で表される炭酸エステルを反応させる工程を含む下記式（３ａ）で表されるカルボキシレート化合物の製造方法。
式（１）：
式（１）：
【0009】
【化1】
式（２）：
【0010】
【化2】
式（３ａ）：
【0011】
【化3】
［２］式（２）で表される炭酸エステルが炭酸ジメチルである［１］に記載のカルボキシレート化合物の製造方法。
［３］Ｒ２及びＲ３が水素原子である［１］又は［２］に記載のカルボキシレート化合物の製造方法。
［４］以下の工程１及び工程２を含む下記式（５）で表されるアミデート化合物の製造方法。
（工程１）式（１）で表されるイミダゾリウムカルボン酸塩と式（２）で表される炭酸エステルを反応させて反応物（Ａ）を得る工程。
式（１）：
【化4】
式（２）：
【化5】
（工程２）工程１で得られた反応物（Ａ）を必要に応じて加熱し、式（４）で表される含窒素化合物と、必要に応じて加熱下に反応させて、式（５）で表されるアミデート化合物を得る工程。
式（４）：
【化6】
式（５）：
【化7】
［５］反応物（Ａ）が式（３ａ）で表されるカルボキシレート化合物を含む、［４］に記載のアミデート化合物の製造方法。
式（３ａ）：
【化8】
［６］
式（４）で表される含窒素化合物が下記式（４－１）～（４－３）のいずれかで表される含窒素化合物である［４］又は［５］に記載のアミデート化合物の製造方法。
式（４－１）：
【化9】
式（４－２）：
【化10】
式（４－３）：
【化11】
［７］
式（２）で表される炭酸エステルが炭酸ジメチルである［４］～［６］のいずれか１項に記載のアミデート化合物の製造方法。
［８］
Ｒ２及びＲ３が水素原子である［４］～［７］のいずれか１項に記載のアミデート化合物の製造方法。
［９］
Ｒ９が、ハロゲン原子で置換されていても良い芳香族炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い芳香族炭化水素基であり、Ｒ１０が、ハロゲン原子で置換されていても良い二価の芳香族炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い二価の芳香族炭化水素基である［６］～［８］のいずれか１項に記載のアミデート化合物の製造方法。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、グローブボックスのような特殊な設備を必要としない、カルボキシレート化合物の製造方法及びアミデート化合物の製造方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
【0014】
本発明において、式（３ａ）で表されるカルボキシレート化合物（以下、カルボキシレート化合物（３ａ）という。）は、式（１）で表されるイミダゾリウムカルボン酸塩（以下、イミダゾリウムカルボン酸塩（１）という。）と式（２）で表される炭酸エステル（以下、炭酸エステル（２）という。）を反応させることにより製造される。
また、式（５）で表されるアミデート化合物の製造方法は、下記工程１及び工程２を経ることで製造される。
（工程１）式（１）で表されるイミダゾリウムカルボン酸塩と式（２）で表される炭酸エステルを反応させて反応物（以下、反応物（Ａ）という。）を得る工程。
式（１）：
また、式（５）で表されるアミデート化合物の製造方法は、下記工程１及び工程２を経ることで製造される。
（工程１）式（１）で表されるイミダゾリウムカルボン酸塩と式（２）で表される炭酸エステルを反応させて反応物（以下、反応物（Ａ）という。）を得る工程。
式（１）：
【0015】
【化12】
式（２）：
【0016】
【化13】
【0017】
（工程２）工程１で得られた反応物（Ａ）を必要に応じて加熱し、式（４）で表される含窒素化合物（以下、含窒素化合物（４）という。）を必要に応じて加熱下に反応させて、式（５）で表されるアミデート化合物（以下、アミデート化合物（５）という。）を得る工程。
【0018】
【化14】
式（５）：
【0019】
【化15】
【0020】
本発明の好ましい１つの実施形態において、反応物（Ａ）は、式（３ａ）で表されるカルボキシレート化合物を含む。
式（３ａ）：
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記に定義される通りである。）
式（３ａ）：
【化16】
【0021】
式（１）中、Ｒ１及びＲ４はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基を示し、好ましくはヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～１２の炭化水素基、特に好ましくはヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～８の炭化水素基である。別の様態として、ヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基として好ましくはヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の１級又は２級アルキル基、より好ましくはヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～１２の１級又は２級アルキル基、より好ましくはヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～８の１級又は２級アルキル基である。
ヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、１，１，３，３－テトラメチルブチル基、２－エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、フェニル基、２，６－ジイソプロピルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－（ジメチルアミノ）エチル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、オクチル基、１，１，３，３－テトラメチルブチル基、ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２－エチルヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、１，１，３，３－テトラメチルブチル基、ベンジル基である。
Ｒ１及びＲ４において、ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－Ｓ－、－ＳＯ２－等の基を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基が酸素原子で置換されており、炭化水素鎖が－Ｏ－の基により中断されていることが好ましい。
ヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、１，１，３，３－テトラメチルブチル基、２－エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、フェニル基、２，６－ジイソプロピルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－（ジメチルアミノ）エチル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、オクチル基、１，１，３，３－テトラメチルブチル基、ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２－エチルヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、１，１，３，３－テトラメチルブチル基、ベンジル基である。
Ｒ１及びＲ４において、ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－Ｓ－、－ＳＯ２－等の基を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基が酸素原子で置換されており、炭化水素鎖が－Ｏ－の基により中断されていることが好ましい。
【0022】
Ｒ２及びＲ３は水素原子又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基を示し、好ましくは水素原子である。また、ヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基として、好ましくはヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～６の炭化水素基、特に好ましくはヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～４の炭化水素基である。ヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、フェニル基、２，６－ジイソプロピルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－（ジメチルアミノ）エチル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－（ジメチルアミノ）エチル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、ブチル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－（ジメチルアミノ）エチル基である。
Ｒ２及びＲ３において、ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－Ｓ－、－ＳＯ２－等の基を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基が酸素原子で置換されており、炭化水素鎖が－Ｏ－の基により中断されていることが好ましい。
Ｒ２及びＲ３はそれらが結合している炭素原子と一緒になって環構造を形成しても良い。Ｒ２及びＲ３はそれらが結合している炭素原子と一緒になって環構造を形成する場合、例えば、以下に示すようなベンゾイミダゾリウム環構造をとることが出来る。
Ｒ２及びＲ３において、ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－Ｓ－、－ＳＯ２－等の基を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基が酸素原子で置換されており、炭化水素鎖が－Ｏ－の基により中断されていることが好ましい。
Ｒ２及びＲ３はそれらが結合している炭素原子と一緒になって環構造を形成しても良い。Ｒ２及びＲ３はそれらが結合している炭素原子と一緒になって環構造を形成する場合、例えば、以下に示すようなベンゾイミダゾリウム環構造をとることが出来る。
【0023】
【化17】
【0024】
Ｒ５は水素原子又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基を示し、好ましくはヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基である。ヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基として好ましくは、ヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～８の炭化水素基であり、特に好ましくはヘテロ原子で置換されていても良い１又は２の炭化水素基である。ヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～２０の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、フェニル基、２，６－ジイソプロピルフェニル基２，４，６－トリメチルフェニル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－（ジメチルアミノ）エチル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２－エチルヘキシル基、フェニル基、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
【0025】
Ｒ５においてヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－ＮＨ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－等の基を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基が酸素原子で置換されており、炭化水素鎖が－Ｏ－の基により中断されていることが好ましい。また、別の様態として、炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、－ＯＨ、－ＮＨ２等の基を有する炭化水素基を形成していても良い。
【0026】
イミダゾリウムカルボン酸塩（１）としては、例えば、１，３－ジメチルイミダゾリウムギ酸塩、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムギ酸塩、１－ブチル－３－メチルイミダゾリウムギ酸塩、１－メチル－３－オクチルイミダゾリウムギ酸塩、１－メチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウムギ酸塩、１－メチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウムギ酸塩、１－ドデシル－３－メチルイミダゾリウムギ酸塩、１－メチル－３－オクタデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－ベンジル－３－メチルイミダゾリウムギ酸塩、１，３－ジブチルイミダゾリウムギ酸塩、１－ブチル－３－エチルイミダゾリウムギ酸塩、１－ブチル－３－オクチルイミダゾリウムギ酸塩、１－ブチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウムギ酸塩、１－ブチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウムギ酸塩、１－ブチル－３－ドデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－ブチル－３－オクタデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－ベンジル－３－ブチルイミダゾリウムギ酸塩、１，３－ジオクチルイミダゾリウムギ酸塩、１，３－ビス（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウムギ酸塩、１－エチル－３－オクチルイミダゾリウムギ酸塩、１－エチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウムギ酸塩、１－オクチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウムギ酸塩、１－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウムギ酸塩、１－ドデシル－３－オクチルイミダゾリウムギ酸塩、１－ドデシル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウムギ酸塩、１－オクチル－３－オクタデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－３－オクタデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－ベンジル－３－オクチルイミダゾリウムギ酸塩、１－ベンジル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウムギ酸塩、１，３－ビス（２－エチルヘキシル）イミダゾリウムギ酸塩、１－エチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウムギ酸塩、１－（２－エチルヘキシル）－３－ドデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－（２－エチルヘキシル）－３－オクタデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－ベンジル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウムギ酸塩、１，３－ジドデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－ドデシル－３－オクタデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－ベンジル－３－ドデシルイミダゾリウムギ酸塩、１，３－ジオクタデシルイミダゾリウムギ酸塩、１－ベンジル－３－オクタデシルイミダゾリウムギ酸塩、１，３－ジベンジルイミダゾリウムギ酸塩；
【0027】
１，３－ジメチルイミダゾリウム酢酸塩、１－エチル－３－メチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－メチルイミダゾリウム酢酸塩、１－メチル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－メチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１－メチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－ドデシル－３－メチルイミダゾリウム酢酸塩、１－メチル－３－オクタデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－メチルイミダゾリウム酢酸塩、１，３－ジブチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－エチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－ドデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－オクタデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－ブチルイミダゾリウム酢酸塩、１，３－ジオクチルイミダゾリウム酢酸塩、１，３－ビス（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウムイミダゾリウム酢酸塩、１－エチル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－エチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１－オクチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－ドデシル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ドデシル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１－オクチル－３－オクタデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－３－オクタデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１，３－ビス（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－エチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－（２－エチルヘキシル）－３－ドデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－（２－エチルヘキシル）－３－オクタデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１，３－ジドデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ドデシル－３－オクタデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－ドデシルイミダゾリウム酢酸塩、１，３－ジオクタデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－オクタデシルイミダゾリウム酢酸塩、１，３－ジベンジルイミダゾリウム酢酸塩；
【0028】
１，３－ジメチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－エチル－３－メチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ブチル－３－メチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－メチル－３－オクチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－メチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－メチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ドデシル－３－メチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－メチル－３－オクタデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ベンジル－３－メチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１，３－ジブチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ブチル－３－エチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ブチル－３－オクチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ブチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ブチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ブチル－３－ドデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ブチル－３－オクタデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ベンジル－３－ブチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１，３－ジオクチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１，３－ビス（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－エチル－３－オクチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－エチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－オクチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ドデシル－３－オクチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ドデシル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－オクチル－３－オクタデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－３－オクタデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ベンジル－３－オクチルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ベンジル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１，３－ビス（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－エチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－（２－エチルヘキシル）－３－ドデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－（２－エチルヘキシル）－３－オクタデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ベンジル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１，３－ジドデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ドデシル－３－オクタデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ベンジル－３－ドデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１，３－ジオクタデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１－ベンジル－３－オクタデシルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩、１，３－ジベンジルイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩；
【0029】
１，３－ジメチルベンゾイミダゾリウムギ酸塩、１，３－ジメチルベンゾイミダゾリウム酢酸塩３－ジメチルベンゾイミダゾリウム２－エチルヘキサン酸塩；が挙げられる。
【0030】
イミダゾリウムカルボン酸塩（１）は、好ましくは１，３－ジメチルイミダゾリウム酢酸塩、１－エチル－３－メチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－メチルイミダゾリウム酢酸塩、１－メチル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－メチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１－メチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－ドデシル－３－メチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－メチルイミダゾリウム酢酸塩、１，３－ジブチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－エチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－ブチル－３－ドデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－ブチルイミダゾリウム酢酸塩、１，３－ジオクチルイミダゾリウム酢酸塩、１，３－ビス（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１－エチル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－エチル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１－オクチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－ドデシル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ドデシル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－オクチルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミダゾリウム酢酸塩、１，３－ビス（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－エチル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１－（２－エチルヘキシル）－３－ドデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－（２－エチルヘキシル）イミダゾリウム酢酸塩、１，３－ジドデシルイミダゾリウム酢酸塩、１－ベンジル－３－ドデシルイミダゾリウム酢酸塩、１，３－ジベンジルイミダゾリウム酢酸塩である。
【0031】
イミダゾリウムカルボン酸塩（１）は市販のものを使用してもよい。イミダゾリウムカルボン酸塩（１）は、公知の方法により得られたものを使用してもよく、また、次に説明する方法により製造したものを使用することもできる。
【0032】
下記式（６）で表されるジカルボニル化合物、下記式（７ａ）で表される１級アミン化合物、下記式（７ｂ）で表される１級アミン化合物、ホルムアルデヒド、及び下記式（８）で表されるカルボン酸を反応させて式（１）のカルボキシレート化合物を得る。
【0033】
式（６）：
【0034】
【化18】
【0035】
式（７ａ）：
【0036】
【化19】
【0037】
式（７ｂ）：
【0038】
【化20】
【0039】
式（８）：
【0040】
【化21】
【0041】
式中、Ｒ５は前記に定義される通りである。
【0042】
式（６）で表されるジカルボニル化合物（以下、ジカルボニル化合物（６）という。）としては、グリオキサール、ジアセチル、３，４－ヘキサンジオン、２，３－ペンタンジオン、２，３－ヘプタンジオン、５－メチル－２，３－ヘキサンジオン、３－メチル－２，３－シクロペンタンジオン、１，２－シクロヘキサンジオン、１－フェニル－１，２－プロパンジオン、ジベンゾイルが挙げられ、好ましくはグリオキサール、ジアセチルであり、より好ましくはグリオキサールである。
【0043】
式（７ａ）で表される１級アミン化合物（以下、１級アミン化合物（７ａ）という。）及び式（７ｂ）で表される１級アミン化合物（以下、１級アミン化合物（７ｂ）という。）としては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、ｔｅｒｔ－ブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、１，１，３，３－テトラメチルブチルアミン、２－エチルヘキシルアミン、ドデシルアミン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、２－メトキシエチルアミン、２－エトキシエチルアミン、３－メトキシプロピルアミン、３－エトキシプロピルアミン、３－プロポキシプロピルアミン、３－イソプロポキシプロピルアミン、３－ブトキシプロピルアミン、３－（２－エチルヘキシルオキシ）プロピルアミン、アリルアミン、ベンジルアミン、アニリン、２，６－ジイソプロピルアニリン、２，４，６－トリメチルアニリンからなる群から選ばれる少なくとも１種の１級アミン化合物であり、好ましくは、メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミン、２－エチルヘキシルアミン、ドデシルアミン、オクタデシルアミン、ベンジルアミンであり、より好ましくは、ブチルアミン、オクチルアミン、１，１，３，３－テトラメチルブチルアミン、２－エチルヘキシルアミン、ベンジルアミンである。
【0044】
式（８）で表されるカルボン酸（以下、カルボン酸（８）という。）としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、２－エチルヘキサン酸、カプリン酸、ラウリン酸、テトラデシル酸、パルミチン酸、オクタデシル酸、シクロヘキサン酸、エトキシ酢酸、プロポキシ酢酸、２－（２－メトキシエトキシ）酢酸、２－（２－エトキシエトキシ）酢酸、２－（２－プロポキシエトキシ）酢酸、３－メトキシプロパン酸、３－エトキシプロパン酸、３－（２－メトキシエトキシ）プロパン酸、３－（２－エトキシエトキシ）プロパン酸、３－（２－プロポキシエトキシ）プロパン酸、３－（３－メトキシプロポキシ）プロパン酸、３－（３－エトキシプロポキシ）プロパン酸、３－（３－プロポキシプロポキシ）プロパン酸、オレイン酸、リノール酸、ソルビン酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、乳酸、サリチル酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸が挙げられ、好ましくはギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、２－エチルヘキサン酸であり、より好ましくは酢酸である。
【0045】
ジカルボニル化合物（６）は水溶液やメタノール、ブタノール等のアルコール溶液をそのまま使用しても良い。
【0046】
１級アミン化合物（７ａ）及び１級アミン化合物（７ｂ）（以下、１級アミン化合物（７ａ）及び１級アミン化合物（７ｂ）をあわせてアミン化合物（７）という。）の使用量としては、通常、ジカルボニル化合物（６）１モルに対して、１級アミン化合物（７ａ）と１級アミン化合物（７ｂ）との合計量が０．１～１０モルであり、好ましくは０．５～３モルである。ジカルボニル化合物（６）１モルに対し１級アミン化合物（７）が２モル反応して１モルのイミダゾリウムカルボン酸塩（１）になるが、例えば１級アミン化合物（７）が２モル未満の場合、イミダゾリウムカルボン酸塩（１）の他にジカルボニル化合物（６）(原料)と１モルのアミン化合物（７）が反応したモノカルボニル－モノアミノ化合物が混合物として得られる。また、ジカルボニル化合物（６）１モルに対し１級アミン化合物（７）を２モル超使用した場合、目的のイミダゾリウムカルボン酸塩（１）の他に過剰量の１級アミン化合物（７）が存在することになる。これらのイミダゾリウムカルボン酸塩（１）以外の化合物が共存するイミダゾリウムカルボン酸塩（１）を用いても、カルボキシレート化合物（３ａ）を得ることができる。
【0047】
１級アミン化合物（７ａ）と１級アミン化合物（７ｂ）の割合（モル比）は、特に限定するものではなく、１級アミン化合物（７ａ）：１級アミン化合物（７ｂ）＝０：１００～１００：０の範囲である。なお、１級アミン化合物（７ａ）：１級アミン化合物（７ｂ）＝０：１００あるいは１級アミン化合物（７ａ）：１級アミン化合物（７ｂ）＝１００：０の場合、Ｒ１＝Ｒ４になり、１級アミン化合物（７ａ）：１級アミン化合物（７ｂ）＝１：１の場合であっても、式（１）の化合物は、（Ｒ１、Ｒ１）、（Ｒ１、Ｒ４）、（Ｒ４、Ｒ４）の３種の組み合わせの混合物になり、１級アミン化合物（７ａ）：１級アミン化合物（７ｂ）＝０：１００～１００：０の場合、（Ｒ１、Ｒ１）、（Ｒ１、Ｒ４）、（Ｒ４、Ｒ４）の３種の組み合わせの比率が異なり、これら３種は、Ｒ１とＲ４は同一でも異なっていてもよく、式（１）の化合物に包含される。
【0048】
ホルムアルデヒドは水溶液やメタノール、ブタノール等のアルコール溶液をそのまま使用してもよい。ホルムアルデヒドの使用量としては、通常、ジカルボニル化合物（６）１モルに対して、ホルムアルデヒドが０．１～１０モルであり、好ましくは０．５～５．０モルである。
【0049】
カルボン酸（８）の使用量としては、通常、ジカルボニル化合物（６）１モルに対して、０．１～１０モルであり、好ましくは０．５～２モル、さらに好ましくは１～１．５モルである。
【0050】
反応温度は、使用する原料、溶媒等によって最適な温度が異なるが、通常、－１０℃以上であり、好ましくは０℃～１００℃である。反応時間は、通常、０．１～２４時間であり、好ましくは１～１０時間である。
【0051】
溶媒は使用してもしなくてもよい。溶媒を使用する場合、使用する溶媒は反応に影響を与えないものであれば特に制限されない。溶媒の具体例としては、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等のエーテル溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール溶媒、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、水等が挙げられ、好ましくは芳香族炭化水素溶媒、アルコール溶媒、水であり、特に好ましくはトルエン、水である。溶媒は必要に応じて２種以上を混合して使用することもできる。
【0052】
溶媒の使用量は、ジカルボニル化合物（６）１質量部に対して、通常５０質量部以下、好ましくは０．１～１０質量部である。
【0053】
必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウム等の反応に影響を与えない不活性ガス雰囲気下で反応させてもよい。
【0054】
反応終了後は、有機溶媒を用いた洗浄による不純物（例えば、未反応の原料）の除去や、反応液の濃縮等により、イミダゾリウムカルボン酸塩（１）を単離することができ、必要に応じ、再結晶等の精製をしても良い。
【0055】
式（２）で表される炭酸エステル（以下、炭酸エステル（２）という。）について説明する。
【0056】
式（２）において、Ｒ６及びＲ7は同一又は異なって炭素数１～６の炭化水素基を示し、好ましくは炭素数１～４の炭化水素基、特に好ましくはメチル基である。別の様態においては、炭素数１～６の炭化水素基として好ましくは炭素数１～６のアルキル基、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。Ｒ６及びＲ7はそれらが結合している酸素原子と一緒になって環構造を形成しても良い。
炭酸エステル（２）の具体例としては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、炭酸ジブチル、炭酸ジペンチル、炭酸ジヘキシル等の炭酸ジアルキル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン等の炭酸アルキレンが挙げられ、好ましくは炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、炭酸ジブチルであり、特に好ましくは炭酸ジメチルである。
炭酸エステル（２）の具体例としては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、炭酸ジブチル、炭酸ジペンチル、炭酸ジヘキシル等の炭酸ジアルキル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン等の炭酸アルキレンが挙げられ、好ましくは炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、炭酸ジブチルであり、特に好ましくは炭酸ジメチルである。
【0057】
カルボキシレート化合物（３ａ）の製造及び（工程１）において、炭酸エステル（２）の使用量は、イミダゾリウムカルボン酸塩（１）１モルに対して通常１モル以上、好ましくは１～６モルである。また、イミダゾリウムカルボン酸塩（１）中に過剰のカルボン酸や水が含まれる場合には、それらが炭酸エステル（２）と反応するため、イミダゾリウムカルボン酸塩（１）中の過剰のカルボン酸及び水の合計１モルに対して、炭酸エステル（２）を通常１モル以上、好ましくは１～６モル過剰に使用することが好ましい。
【0058】
カルボキシレート化合物（３ａ）の製造及び（工程１）において、溶媒は使用してもしなくてもよい。溶媒を使用する場合、使用する溶媒は反応に影響を与えないものであれば特に制限されない。溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、１－メトキシ－２－プロパノール、エトキシエタノール等の１価のアルコール溶媒、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等のポリオール溶媒、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、等のグリコールモノアルキルエーテル溶媒、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒、酢酸エチルや酢酸ブチル等のエステル溶媒、メチルエチルケトン、４－メチル－２－ペンタノン等のケトン溶媒等が挙げられ、好ましくは１価のアルコール溶媒であり、特に好ましくはメタノールである。溶媒の使用量は、イミダゾリウムカルボン酸塩（１）１質量部に対して、通常５０質量部以下、好ましくは１０質量部以下である。
【0059】
カルボキシレート化合物（３ａ）の製造及び（工程１）において、反応温度は、使用する原料、溶媒等によって最適な温度が異なることができ、通常、室温以上であり、好ましくは２０～２００℃である。反応時間は、通常、０．１～４８時間であり、好ましくは１～２４時間である。なお、本明細書において室温は２０℃程度を意味する。
【0060】
カルボキシレート化合物（３ａ）の製造及び（工程１）において、必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウム等の反応に影響を与えない不活性ガス雰囲気下で反応させてもよい。
【0061】
カルボキシレート化合物（３ａ）の製造において、反応終了後は、反応液を濃縮し、溶媒を除去してカルボキシレート化合物（３ａ）とすることができる。必要に応じ、再結晶やカラム分取等の精製をしても良い。
また、カルボキシレート化合物（３ａ）に式（４）で表される含窒素化合物を必要に応じて加熱下に反応させることで、式（５）で表されるアミデート化合物を製造できる。この方法により式（５）で表されるアミデート化合物を製造する場合、後述する（工程２）と同様の方法をとることができる。
（工程１）により得られた反応物（Ａ）は、（工程２）において、そのまま原料である反応物（Ａ）として使用してもよい。また、（工程１）において、得られた反応物（Ａ）中に炭酸エステル（２）や溶媒が残存している場合、反応液を濃縮して炭酸エステル（２）や溶媒を除去したうえで反応物（Ａ）として（工程２）の原料とすることもできる。
また、カルボキシレート化合物（３ａ）に式（４）で表される含窒素化合物を必要に応じて加熱下に反応させることで、式（５）で表されるアミデート化合物を製造できる。この方法により式（５）で表されるアミデート化合物を製造する場合、後述する（工程２）と同様の方法をとることができる。
（工程１）により得られた反応物（Ａ）は、（工程２）において、そのまま原料である反応物（Ａ）として使用してもよい。また、（工程１）において、得られた反応物（Ａ）中に炭酸エステル（２）や溶媒が残存している場合、反応液を濃縮して炭酸エステル（２）や溶媒を除去したうえで反応物（Ａ）として（工程２）の原料とすることもできる。
【0062】
＜工程２＞
工程１で得られた反応物（Ａ）を必要に応じて加熱し、式（４）で表される含窒素化合物と、必要に応じて加熱下に反応させて、式（５）で表されるアミデート化合物を製造できる。加熱下とは、４０℃から溶媒の沸騰する温度、例えば４０～２００℃を意味する。工程２の反応は室温で行ってもよく、加熱下に行ってもよい。
ここで、上述のとおり、本発明の好ましい１つの実施形態において、反応物（Ａ）はカルボキシレート化合物（３ａ）を含むものであるが、反応物（Ａ）はカルボキシレート化合物（３ａ）以外に、下記式（３ｂ）～（３ｆ）で表される化合物（それぞれ、以下、化合物（３ｂ）、化合物（３ｃ）、化合物（３ｄ）、化合物（３ｅ）、化合物（３ｆ）という）を含み得る（反応式１）。但し、化合物（３ｂ）は、式（３ａ）においてＲ２が水素原子である場合、化合物（３ｃ）は式（３ａ）においてＲ３が水素原子である場合において反応物（Ａ）中に含みうる。
工程１で得られた反応物（Ａ）を必要に応じて加熱し、式（４）で表される含窒素化合物と、必要に応じて加熱下に反応させて、式（５）で表されるアミデート化合物を製造できる。加熱下とは、４０℃から溶媒の沸騰する温度、例えば４０～２００℃を意味する。工程２の反応は室温で行ってもよく、加熱下に行ってもよい。
ここで、上述のとおり、本発明の好ましい１つの実施形態において、反応物（Ａ）はカルボキシレート化合物（３ａ）を含むものであるが、反応物（Ａ）はカルボキシレート化合物（３ａ）以外に、下記式（３ｂ）～（３ｆ）で表される化合物（それぞれ、以下、化合物（３ｂ）、化合物（３ｃ）、化合物（３ｄ）、化合物（３ｅ）、化合物（３ｆ）という）を含み得る（反応式１）。但し、化合物（３ｂ）は、式（３ａ）においてＲ２が水素原子である場合、化合物（３ｃ）は式（３ａ）においてＲ３が水素原子である場合において反応物（Ａ）中に含みうる。
【0063】
（反応式１）
【0064】
【化22】
【0065】
工程１における反応の中間体として、式（３ｄ）で表される化合物又は／及び式（３ｅ）で表される化合物が生成し、これらからカルボキシレート化合物（３ａ）又は／及び式（３ｆ）で表される化合物が生成する。化合物（３ｂ）は、式（３ａ）においてＲ２が水素原子である場合、式（３ｃ）で表される化合物はＲ３が水素原子である場合において、カルボキシレート化合物（３ａ）との平衡により生じうる。
【0066】
化合物（３ｂ）及び化合物（３ｃ）はカルボキシレート化合物（３ａ）と平衡であるため、工程２においてカルボキシレート化合物（３ａ）が消費されると平衡が偏り、化合物（３ｂ）、化合物（３ｃ）はカルボキシレート化合物（３ａ）に変わってゆく。このため、化合物（３ｂ）及び化合物（３ｃ）は、カルボキシレート化合物（３ａ）と等価として扱えると推察される。
【0067】
化合物（３ｄ）及び化合物（３ｅ）は、下記反応式２で示すように、カルボキシレート化合物（３ａ）と同様に式（４ａ）で表される化合物と反応し、アミデート化合物（５）が製造できる。このため、カルボキシレート化合物（３ａ）と等価として扱える。また、下記反応式中の式（４ｂ’）又は（４ｂ’’）で表される化合物が副生する。式（４ｂ’）又は（４ｂ’’）で表される化合物は熱により下記反応式で示すように対応する式（９ａ）又は（９ｂ）で表されるアルコール化合物及び式（４ａ）で表されるイソシアネート化合物に分解される。分解により生じた式（４ａ）で表されるイソシアネート化合物は反応物（Ａ）に含まれるカルボキシレート化合物（３ａ）、化合物（３ｂ）～（３ｆ）との反応に消費される。下記反応式２においては、式（４）中、Ｑが－ＮＣＯ基である場合を示しているが、Ｑが－ＮＨＣＯ２Ｒ８である場合も同様である。
【0068】
（反応式２）
【0069】
【化23】
【0070】
(式中、Ｒ１～Ｒ４、Ｒ６～Ｒ７、Ａ、ｎは前記に定義される通りである。)
また、反応物（Ａ）において、化合物（３ｆ）は脱水によりカルボキシレート化合物（３ａ）に変換され得る。この脱水反応は常温常圧において容易に起こり得る反応と考えられる。ゆえにカルボキシレート化合物（３ａ）と等価として扱えると推察される。
また、反応物（Ａ）において、化合物（３ｆ）は脱水によりカルボキシレート化合物（３ａ）に変換され得る。この脱水反応は常温常圧において容易に起こり得る反応と考えられる。ゆえにカルボキシレート化合物（３ａ）と等価として扱えると推察される。
【0071】
式（４）で表される含窒素化合物（以下、含窒素化合物（４）という。）について説明する。
【0072】
式（４）中、Ａは置換若しくは無置換の炭化水素基であり、好ましくは置換又は無置換の炭素数１～１００の炭化水素基、より好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭化水素基、特に好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～３０の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～３０の炭化水素基である。Ａで表される置換若しくは無置換の炭化水素基における「炭化水素基」としては、アリール基、アルキル基、アリールアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－オクタデシル基、シクロヘキシル基等の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基、フェニル基、２－メチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、２，４－ジメチルフェニル基、２，３－ジメチルフェニル基、ナフチル基等のアリール基、フェニルメチル基、フェニルエチル基、１－フェニルプロピル基、２－フェニルプロピル基、１－フェニルブチル基、２－フェニルブチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアリールアルキル基、前述のアルキル基とアリール基が適宜組み合わされてなるアリールアルキル基等が挙げられる。
【0073】
Ａが置換基を有する炭化水素基である場合、置換基の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ジメチルアミノ基等のジアルキルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、ベンジルオキシ基等のアリールオキシ基、トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基、ニトロ基、シアノ基、スルホニル基、（アルキルアミノ）カルボニルアミノ基、（ジアルキルアミノ）カルボニルアミノ基又はイソシアネート基等が挙げられる。また、Ａの炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されていても良い。Ａの炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－Ｓ－、－ＳＯ２－等の基を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。
【0074】
上記ジアルキルアミノ基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、（アルキルアミノ）カルボニルアミノ基及び（ジアルキルアミノ）カルボニルアミノ基のアルキル部分としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル等の直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１～６のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは炭素数１～３、より好ましくは炭素数１又は２である。
【0075】
上記アリールオキシ基のアリール部分としては、例えば、炭素数６～１０のアリール基が挙げられる。具体的には、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
【0076】
置換基の数は１～５個、好ましくは１～３個、より好ましくは１又は２個とすることができる。
【0077】
式（４）中、ｎは１以上の整数であり、好ましくは１～６、より好ましくは１～４、特に好ましくは１又は２である。
【0078】
式（４）中、Ｑは－ＮＣＯ基又は－ＮＨＣＯ２Ｒ８基である。Ｒ８はヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素基であり、好ましくはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～５０の炭化水素基、より好ましくはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～３０の炭化水素基、特に好ましくはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～８の炭化水素基である。ヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、アリル基、ベンジル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、フェニル基、２，６－ジイソプロピルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－（ジメチルアミノ）エチル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２，４，６－トリメチルフェニル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、オクチル基、フェニル基、特に好ましくはメチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、オクチル基、フェニル基である。
【0079】
本発明において、含窒素化合物（４）としては式（４－１）、（４－２）又は（４－３）のいずれかで表される含窒素化合物が好ましく、特に好ましくは式（４－１）で表される含窒素化合物である。
【0080】
式（４－１）：
【0081】
【化24】
式（４－２）：
【0082】
【化25】
式（４－３）：
【0083】
【化26】
【0084】
含窒素化合物（４）は、Ｑが－ＮＣＯ基である場合、下記式（４ａ）で表されるイソシアネート化合物（以下、イソシアネート化合物（４ａ）という。）であり、Ｑが－ＮＨＣＯ２Ｒ８基である場合、下記式（４ｂ）で表されるウレタン化合物（以下、ウレタン化合物（４ｂ）という。）である。
【0085】
式（４ａ）：
【0086】
【化27】
【0087】
式（４ｂ）：
【0088】
【化28】
【0089】
式（４－１）、（４－２）及び（４－３）において、Ｑが－ＮＣＯ基である場合、式（４－１）、（４－２）及び（４－３）で表される含窒素化合物はそれぞれ式（４ａ－１）、（４ａ－２）及び（４ａ－３）で表される構造となる。
【0090】
式（４ａ－１）：
【0091】
【化29】
【0092】
（式中、Ｒ９は前記に定義される通りである。）
【0093】
式（４ａ－２）：
【0094】
【化30】
【0095】
（式中、Ｒ１０は前記に定義される通りである。）
【0096】
式（４ａ－３）：
【0097】
【化31】
【0098】
（式中、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇは前記に定義される通りである。）
【0099】
本発明においてイソシアネート化合物（４ａ）としてはポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート（ポリメリックＭＤＩ）等の重合物を使用することもできる。
【0100】
式（４ａ－１）中、Ｒ９はハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭化水素基であり、好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～５０の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～５０の炭化水素基、より好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～３０の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～３０の炭化水素基、特に好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～１２の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～１２の炭化水素基である。また、炭化水素基として好ましくは、アリール基、アリールアルキル基などの芳香族炭化水素基である。
Ｒ９で表されるハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、クロロフェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、トリル基、アリル基等が挙げられ、好ましくはベンジル基、フェニル基である。
Ｒ９で表されるハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、クロロフェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、トリル基、アリル基等が挙げられ、好ましくはベンジル基、フェニル基である。
【0101】
Ｒ９で表されるハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭化水素基のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。また、Ｒ９の炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されていても良い。Ｒ９の炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－Ｓ－、－ＳＯ２－等の基を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。
【0102】
式（４ａ－２）中、Ｒ１０はハロゲン原子で置換されていても良い二価の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い二価の炭化水素基であり、好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～１００の二価の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～１００の二価の炭化水素基、より好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～５０の二価の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～５０の二価の炭化水素基、特に好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～３０の二価の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～３０の二価の炭化水素基である。また、炭化水素基として好ましくは、アリーレン基、アリールアルキレン基、アリーレンアルキレン基などの二価の芳香族炭化水素基である。ハロゲン原子で置換されていても良い二価の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い二価の炭化水素基としては、具体的には、メチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－ヘプチレン基、ｎ－オクチレン基、ｎ－ノニレン基、ｎ－デシレン基、ｎ－ドデシレン基、ｎ－オクタデシレン基、シクロヘキシレン基等のアルキレン基、フェニレン基、２－メチルフェニレン基、２，６－ジメチルフェニレン基、２，４－ジメチルフェニレン基、２，３－ジメチルフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、フェニルメチレン基、フェニルエチレン基、１－フェニルプロピレン基、２－フェニルプロピレン基、１－フェニルブチレン基、２－フェニルブチレン基、ナフチルメチレン基、ナフチルエチレン基等のアリールアルキレン基、前述のアルキレン基とアリーレン基が適宜組み合わされて成るアリーレンアルキレン基等が挙げられる。これらの２価の炭化水素基が反復して又は組み合わされて、１つの二価の炭化水素基を構成していても良い。
【0103】
Ｒ１０で表される二価の炭化水素基がハロゲン原子で置換される場合は、二価の炭化水素基中の炭素原子に結合している水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。ハロゲン原子で置換された二価の炭化水素基としては、具体的には、１－クロロ‐３，５－フェニレン基、２－クロロ－１，４－フェニレン基、１－ブロモ－３，５－フェニレン基、１，４－ジクロロ－３，５－フェニレン基、１，２，４，５－テトラクロロ－３，６－フェニレン基、１－クロロ－４，５－ナフチレン基等が挙げられる。また、Ｒ１０の二価の炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されていても良い。Ｒ１０の二価の炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－Ｓ－、－ＳＯ２－等の基を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。
【0104】
式（４ａ－３）中、Ｅ１、Ｅ２及びＥ３は、それぞれ独立してハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基、ヘテロ原子で置換されていても良い炭化水素基、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、シアノ基、スルホニル基、（アルキルアミノ）カルボニルアミノ基、（ジアルキルアミノ）カルボニルアミノ基又はイソシアネート基であり、好ましくは、ハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭化水素基、（アルキルアミノ）カルボニルアミノ基、（ジアルキルアミノ）カルボニルアミノ基、イソシアネート基であり、より好ましくは（アルキルアミノ）カルボニルアミノ基、（ジアルキルアミノ）カルボニルアミノ基である。
それぞれ独立してハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭化水素基として、好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～５０の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～５０の炭化水素基、より好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～３０の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～３０の炭化水素基、特に好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～１２の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～１２の炭化水素基である。
Ｅ１、Ｅ２及びＥ３は、それぞれ独立してハロゲン原子である場合、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
それぞれ独立してハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭化水素基として、好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～５０の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～５０の炭化水素基、より好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～３０の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～３０の炭化水素基、特に好ましくはハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１～１２の炭化水素基又はヘテロ原子で置換されていても良い炭素数１～１２の炭化水素基である。
Ｅ１、Ｅ２及びＥ３は、それぞれ独立してハロゲン原子である場合、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【0105】
Ｅ１、Ｅ２又はＥ３で表されるハロゲン原子で置換されていても良い炭化水素基のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。また、Ｅ１、Ｅ２又はＥ３の炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されていても良い。Ｅ１、Ｅ２又はＥ３の炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－Ｓ－、－ＳＯ２－等の基を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。
【0106】
上記ジアルキルアミノ基、アルコキシ基、（アルキルアミノ）カルボニルアミノ基及び（ジアルキルアミノ）カルボニルアミノ基のアルキル部分としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル等の直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１～６のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは炭素数１～３、より好ましくは炭素数１又は２である。
【0107】
上記アリールオキシ基のアリール部分としては、例えば、炭素数６～１０のアリール基が挙げられる。具体的には、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
【0108】
ｆ及びｇはそれぞれ独立して０～４の整数を示す。ａ及びｂは各々０又は１であり、ｃ、ｄ及びｅはそれぞれ独立して０～４の整数を示す。但し、ｆが０の場合、ａ又はｂの少なくとも１つは１である。
【0109】
以下にイソシアネート化合物（４ａ）の具体例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0110】
【化32】
【0111】
【化33】
【0112】
【化34】
【0113】
(式中、ｍは前記に定義される通りである。)
イソシアネート化合物（４ａ）として好ましくは式（４ａ－１－１）、式（４ａ－２－８）、式（４ａ－２－１５）、式（４ａ－３－１）で表される化合物である。
イソシアネート化合物（４ａ）として好ましくは式（４ａ－１－１）、式（４ａ－２－８）、式（４ａ－２－１５）、式（４ａ－３－１）で表される化合物である。
【0114】
イソシアネート化合物（４ａ）は１種単独であっても、２種以上の混合物であっても良い。
【0115】
式（４－１）、（４－２）、（４－３）においてＱが－ＮＨＣＯ２Ｒ８基である場合、式（４－１）、（４－２）、（４－３）で表される含窒素化合物はそれぞれ式（４ｂ－１）、（４ｂ－２）、（４ｂ－３）で表される構造となる。
【0116】
式（４ｂ－１）：
【0117】
【化35】
【0118】
（式中、Ｒ８、Ｒ９は前記に定義される通りである。）
【0119】
式（４ｂ－２）：
【0120】
【化36】
【0121】
（式中、Ｒ８、Ｒ１０は前記に定義される通りである。）
【0122】
式（４ｂ－３）：
【0123】
【化37】
【0124】
（式中、Ｒ８，Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｇは前記に定義される通りである。）
【0125】
以下にウレタン化合物（４ｂ）の具体例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはｎ－ブチル基、ｔ－Ｂｕはｔ－ブチル基、Ｏｃｔはｎ－オクチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。
【0126】
【化38】
【化39】
【0127】
ウレタン化合物（４ｂ）として好ましくは式（４ｂ－１－１）～式（４ｂ－１－７）、式（４ｂ－２－８）～、式（４ｂ－２－２１）、式（４ｂ－３－１）～式（４ｂ－３－７）で表される化合物であり、特に好ましくは（４ｂ－１－１）、式（４ｂ－２－８）、式（４ｂ－３－１）で表される化合物である。
【0128】
原料として用いられるウレタン化合物（４ｂ）は、市販のものを使用しても良く、公知の方法により製造しても良い。
【0129】
式（５）で表されるアミデート化合物（以下、アミデート化合物（５）という。）について説明する。
【0130】
式（５）中、式中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｎは、各々前記に定義される通りである。
【0131】
アミデート化合物（５）としては式（５－１）、式（５－２）又は式（５－３）のいずれかで表されるアミデート化合物が好ましい。
式（５－１）：
式（５－１）：
【0132】
【化40】
式（５－２）：
【0133】
【化41】
式（５－３）：
【0134】
【化42】
【0135】
式（５－１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ９は前記に定義される通りである。
【0136】
式（５－２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ１０は前記に定義される通りである。
【0137】
式（５－３）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ及びｇは前記に定義される通りである。
【0138】
次に、アミデート化合物（５）の具体例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Ｅｔはエチル基、Ｐｒはｎ－プロピル基、Ｂｕはｎ－ブチル基、Ｏｃｔはｎ－オクチル基、ｔ－Ｏｃｔは１，１，３，３－テトラメチルブチル基を示す。
【0139】
【化43】
【化44】
【化45】
【0140】
アミデート化合物（５）として好ましくは式（５－１－１）～式（５－１－８）、式（５－２－９）～式（５－２－２４）、式（５－３－１）～式（５－３－８）で表される化合物であり、特に好ましくは式（５－１－４）、式（５－１－５）、式（５－１－８）式（５－２－１３）、式（５－３－５）で表される化合物である。
【0141】
アミデート化合物（５）が、光学異性体、立体異性体、位置異性体等の異性体を有する場合には、いずれの異性体であるか明記がない限り、いずれの異性体の混合物もアミデート化合物（５）に包含される。例えば、アミデート化合物（５）に光学異性体が存在する場合、ラセミ体から分割されたその光学異性体もアミデート化合物（５）に包含され得る。これらの異性体は、従来から知られている分離手法（濃縮、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶等）によりそれぞれを単一化合物として得ることができる。
【0142】
工程２において、通常、含窒素化合物（４）の使用量としては、反応物（Ａ）中に含まれるカルボキシレート化合物（３ａ）及び化合物（３ｂ）～（３ｆ）の合計１モルに対して含窒素化合物（４）中のＱで表される基を０．８モル以上、好ましくは１～３モルとなる量を反応させる。このとき、反応物（Ａ）中に含まれるカルボキシレート化合物（３ａ）及び化合物（３ｂ）～（３ｆ）の合計としては、工程１で使用したイミダゾリウムカルボン酸塩（１）の量から算出した量とすることもできる。
反応物（Ａ）中にカルボキシレート化合物（３ａ）が含まれる場合、カルボキシレート化合物（３ａ）１モルに対して含窒素化合物（４）中のＱで表される基を０．８モル以上、好ましくは１～３モルとなる量を反応させる。
このとき、反応物（Ａ）に化合物（３ｂ）～（３ｆ）が含まれる場合、反応物化合物（３ｂ）～化合物（３ｆ）もカルボキシレート化合物（３ａ）であるとして含窒素化合物（４）の使用量を決定すればよい。
反応物（Ａ）中にカルボキシレート化合物（３ａ）が含まれる場合、カルボキシレート化合物（３ａ）１モルに対して含窒素化合物（４）中のＱで表される基を０．８モル以上、好ましくは１～３モルとなる量を反応させる。
このとき、反応物（Ａ）に化合物（３ｂ）～（３ｆ）が含まれる場合、反応物化合物（３ｂ）～化合物（３ｆ）もカルボキシレート化合物（３ａ）であるとして含窒素化合物（４）の使用量を決定すればよい。
【0143】
工程２の反応温度は、特に制限されないが、通常－１０℃以上、好ましくは０～２００℃、より好ましくは２０～１５０℃であり、反応時間は、通常、０．１～２４時間であり、好ましくは１～１０時間である。
【0144】
溶媒を使用する場合、溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒、ブチルクロライド、１，２－ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、酢酸エチルや酢酸ブチル等のエステル溶媒、メチルエチルケトン、４－メチル－２－ペンタノン等のケトン溶媒等が挙げられ、好ましくは芳香族炭化水素溶媒とハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒であり、特に好ましくはトルエン、キシレン、クロロベンゼン、酢酸ブチル、４－メチル－２－ペンタノンである。溶媒は必要に応じて２種以上を混合して使用することもできる。また、反応物（Ａ）に、工程１で使用した溶媒が含まれている場合、この溶媒を工程２でも溶媒として使用することが出来るが、さらに上記の溶媒を追加してもよい。この場合、工程１と異なる溶媒を使用してもよい。
【0145】
溶媒を使用する場合、溶媒の使用量は、カルボキシレート化合物（３ａ）及び化合物（３ｂ）～化合物（３ｆ）の総質量１質量部に対して、通常５０質量部以下、好ましくは０．１質量部以上３５質量部以下である。別の様態として、溶媒の使用量として好ましくは工程１における反応物（Ａ）中の溶媒以外の成分の質量１質量部に対して、通常５０質量部以下、好ましくは０．１質量部以上３５質量部以下である。
ここで、反応物（Ａ）中の溶媒以外の成分とは、工程１で得られた反応液から溶媒を除去した濃縮残分を示す。濃縮残分は、実際に反応液から濃縮又はろ過により溶媒を留去することで、濃縮残分重量を求めても良いし、１Ｈ－ＮＭＲ分析やＧＣ分析により、反応液中に含まれる溶媒重量を算出することで、反応液重量から算出した溶媒重量を引いて求めても良い。
ここで、反応物（Ａ）中の溶媒以外の成分とは、工程１で得られた反応液から溶媒を除去した濃縮残分を示す。濃縮残分は、実際に反応液から濃縮又はろ過により溶媒を留去することで、濃縮残分重量を求めても良いし、１Ｈ－ＮＭＲ分析やＧＣ分析により、反応液中に含まれる溶媒重量を算出することで、反応液重量から算出した溶媒重量を引いて求めても良い。
【0146】
必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウム等の反応に影響を与えない不活性ガス雰囲気下で反応させてもよい。
【0147】
反応終了後は、反応液を濃縮又はろ過により溶媒を除去することにより、アミデート化合物（５）を得ることができ、必要に応じ、再結晶やカラム分取等の精製をしても良い。
【実施例】
【0148】
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はなんらこれらに限定されるものではない。なお、実施例中、１Ｈ－ＮＭＲはブルカー株式会社製ＡＶ４００を使用し、４００ＭＨｚで測定した。また、実施例中、ｗｔ％は質量パーセント濃度を示す。
【0149】
製造例１ ［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］の合成
窒素置換した３Ｌの４つ口反応器に、オクチルアミン１０４９．９ｇ（８．１２ｍｏｌ）を仕込み、８０℃まで昇温した。その後、酢酸３６６．０ｇ（６．０９ｍｏｌ）と４２ｗｔ％ホルマリン水溶液２９０．４ｇ（ホルムアルデヒド純分４．０６ｍｏｌ）の混合液を１時間かけて滴下した。滴下後、反応器中の混合液を３０分間撹拌し、４０℃に冷却した。冷却した混合液に４１ｗｔ％グリオキサール水溶液５８１．０ｇ（グリオキサール純分４．０６ｍｏｌ）を３０分かけて滴下し、５時間攪拌した。攪拌後、得られた反応溶液を減圧濃縮し、上記式で表される［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］を１５８２．０ｇ得た。得られた［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］に、内部標準物質としてテトラリンを加えて１Ｈ－ＮＭＲ分析した結果、［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］は１２２４．９ｇ（３．４７ｍｏｌ，収率８５．５％）含まれることが分かった。
［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．３２（ｓ,１Ｈ）、７．８０（ｓ,２Ｈ）、４．１７（ｔ,Ｊ＝９．６Ｈｚ,４Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．６３（ｓ,３Ｈ）、１．２３（ｍ,２０Ｈ）、０．８５（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ，６Ｈ）
【化46】
［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．３２（ｓ,１Ｈ）、７．８０（ｓ,２Ｈ）、４．１７（ｔ,Ｊ＝９．６Ｈｚ,４Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．６３（ｓ,３Ｈ）、１．２３（ｍ,２０Ｈ）、０．８５（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ，６Ｈ）
【0150】
製造例２［ＤＢＩ］［ＯＡｃ］の合成
窒素置換した２００ｍＬの４つ口反応器に、ブチルアミン４０ｇ（０．５５ｍｏｌ）を仕込み、０℃まで冷却した。その後、酢酸２４．６ｇ（０．４１ｍｏｌ）と４０ｗｔ％ホルマリン水溶液２０．８ｇ（０．２８ｍｏｌ）の混合液を２時間かけて滴下した。滴下後、反応器中の混合液を３０分間撹拌した。混合液に４０ｗｔ％グリオキサール水溶液３９．６ｇ（０．２７ｍｏｌ）を３０分かけて滴下し、滴下後、１６時間攪拌した。攪拌後、得られた反応溶液に、ヘプタン１００ｍLを加えて分液し、ヘプタン層を除去する操作を２回行い、褐色溶液を得た。得られた褐色溶液を減圧濃縮し、上記式で表される［ＤＢＩ］［ＯＡｃ］を７５．８ｇ（０．２７ｍｏｌ，収率９８％）得た。［ＤＢＩ］［ＯＡｃ］の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．５３（ｓ,１Ｈ）、７．８２（ｓ,２Ｈ）、４．１９（ｔ,Ｊ＝６．８Ｈｚ,４Ｈ）、１．８１（ｍ,４Ｈ）、１．６８（ｓ,４．５Ｈ）、１．２９（ｍ,４Ｈ）、０．９１（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ、６Ｈ）
【化47】
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．５３（ｓ,１Ｈ）、７．８２（ｓ,２Ｈ）、４．１９（ｔ,Ｊ＝６．８Ｈｚ,４Ｈ）、１．８１（ｍ,４Ｈ）、１．６８（ｓ,４．５Ｈ）、１．２９（ｍ,４Ｈ）、０．９１（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ、６Ｈ）
【0151】
製造例３［Ｄ２ＥＨＩ］［ＯＡｃ］の合成
窒素置換した２Ｌの４つ口反応器に、２－エチルヘキシルアミン７５０．０ｇ（５．８０ｍｏｌ）を仕込み、酢酸２６１．３ｇ（４．３５ｍｏｌ）と４０ｗｔ％ホルマリン水溶液２１７．８ｇ（２．９０ｍｏｌ）の混合液を１時間３０分かけて滴下した。滴下後、反応器中の混合液を３０分間撹拌した。混合液に４０ｗｔ％グリオキサール水溶液４２１．０ｇ（２．９０ｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下後、５時間攪拌した。得られた反応溶液を減圧濃縮し、上記式で表される［Ｄ２ＥＨＩ］［ＯＡｃ］を１２１９．１ｇ（２．８９ｍｏｌ，収率９９％）得た。［Ｄ２ＥＨＩ］［ＯＡｃ］の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．３５（ｓ,１Ｈ）、７．８２（ｓ,２Ｈ）、４．１５（ｄ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,４Ｈ）、１．８４（ｍ,２Ｈ）、１．７１（ｓ,３Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８７（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,１２Ｈ）
【化48】
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．３５（ｓ,１Ｈ）、７．８２（ｓ,２Ｈ）、４．１５（ｄ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,４Ｈ）、１．８４（ｍ,２Ｈ）、１．７１（ｓ,３Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８７（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,１２Ｈ）
【0152】
製造例４ ［ＤｔＯｃｔＩ］［ＯＡｃ］の合成
窒素置換した１００ｍｌの３つ口反応器に、酢酸６．９７ｇ（０．１１６ｍｏｌ）と４０ｗｔ％ホルマリン水溶液５．８０ｇ（ホルムアルデヒド純分０．０７７ｍｏｌ）、４０ｗｔ％グリオキサール水溶液１１．２ｇ（グリオキサール純分０．０７７ｍｏｌ）を仕込み、５０℃まで昇温した。その後、反応器中の混合液に１，１，３，３－テトラメチルブチルアミン２０．００ｇ（０．１５４ｍｏｌ）を２時間かけて滴下し、２時間攪拌した。攪拌後、得られた反応溶液を減圧濃縮し、上記式で表される［ＤｔＯｃｔＩ］［ＯＡｃ］を２４．８３ｇ（０．０６９ｍｏｌ，収率９０％）得た。［ＤｔＯｃｔＩ］［ＯＡｃ］の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝１０．６３（ｓ,１Ｈ）、７．３４（ｓ,２Ｈ）、２．０４（ｓ，３Ｈ）、２．０４（ｓ，４Ｈ）、１．８３（ｓ,１２Ｈ）、０．８７（ｓ,１８Ｈ）
【化49】
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝１０．６３（ｓ,１Ｈ）、７．３４（ｓ,２Ｈ）、２．０４（ｓ，３Ｈ）、２．０４（ｓ，４Ｈ）、１．８３（ｓ,１２Ｈ）、０．８７（ｓ,１８Ｈ）
【0153】
実施例１ ＤＯＩｍ＿ＰＩの合成
（工程１）１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウム－２－カルボキシレートの製造
５Ｌの耐圧容器に、製造例１で得られた［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］１０７０．１ｇ（［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］の純分：８２８．６ｇ（２．３５ｍｏｌ））、トルエン１０６９．５ｇ、炭酸ジメチル７５６．０ｇ（８．３９ｍｏｌ）を仕込み、窒素置換を行った。その後、混合液を１２０℃で１５時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を冷却した。冷却した反応混合物を１０４３．５ｇになるまで減圧濃縮して過剰な炭酸ジメチルと、副生する酢酸メチルを除去し、そこへトルエンを加えて、２０５８．６ｇとした。得られたトルエン溶液を、内部標準物質としてジメチルスルホキシドを使用して１Ｈ－ＮＭＲ分析した結果、１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウム－２－カルボキシレートが３３９．３ｇ（１．０１ｍｏｌ，収率４２．８％）得られたことが分かった。また、得られたトルエン溶液中に１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウム－４－カルボキシレートが１２８．０ｇ（０．３８ｍｏｌ，収率１６．２％）、１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩が２１１．７ｇ（０．５７ｍｏｌ，収率２４．４％）含まれていることが分かった。
１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウム－２－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．２１（ｓ,２Ｈ）、４．５５（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,４Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．３１（ｍ,２０Ｈ）、０．８８（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ,６Ｈ）
１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウム－４－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．４９（ｓ,１Ｈ）、４．７３（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,２Ｈ）、４．２６（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,２Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．３１（ｍ,２０Ｈ）、０．８８（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ,６Ｈ）
１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．４４（ｓ,２Ｈ）、４．３２（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,４Ｈ）、３．３９（ｓ,３Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．３１（ｍ,２０Ｈ）、０．８８（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ,６Ｈ）
（工程２）
窒素置換した３Ｌの４つ口反応器に、工程１で得られたトルエン溶液１７００．２ｇ、トルエン８０７．４ｇを仕込み、加熱還流させた。加熱還流させながら、フェニルイソシアネート２２９．７ｇ（１．９３ｍｏｌ）を２時間かけて滴下し、１０時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を１４３３．１ｇになるまで濃縮し、ヘプタン７６１．０ｇを加えて、５０℃まで加熱し、固体を全て溶解させ、ヘプタン溶液とした。ヘプタン溶液を５０℃から３０℃まで冷却して結晶を析出させ、３０℃で１時間攪拌した後に、毎時１０℃ずつ２時間かけてヘプタン溶液を、１０℃まで冷却し、１０℃で更に１時間攪拌させることでスラリー液を得た。得られたスラリー液をろ過することで、微黄色固体として、上記式で表される化合物（ＤＯＩｍ＿ＰＩ）を４２６．８ｇ（１．０４ｍｏｌ、工程１からの通し収率６２．２％）得た。ＤＯＩｍ＿ＰＩの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．３２（ｓ,１Ｈ）、７．８０（ｓ,２Ｈ）、４．１７（ｔ,Ｊ＝９．６Ｈｚ,４Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．６３（ｓ,３Ｈ）、１．２３（ｍ,２０Ｈ）、０．８５（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ,６Ｈ）
【化50】
５Ｌの耐圧容器に、製造例１で得られた［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］１０７０．１ｇ（［ＤＯＩ］［ＯＡｃ］の純分：８２８．６ｇ（２．３５ｍｏｌ））、トルエン１０６９．５ｇ、炭酸ジメチル７５６．０ｇ（８．３９ｍｏｌ）を仕込み、窒素置換を行った。その後、混合液を１２０℃で１５時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を冷却した。冷却した反応混合物を１０４３．５ｇになるまで減圧濃縮して過剰な炭酸ジメチルと、副生する酢酸メチルを除去し、そこへトルエンを加えて、２０５８．６ｇとした。得られたトルエン溶液を、内部標準物質としてジメチルスルホキシドを使用して１Ｈ－ＮＭＲ分析した結果、１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウム－２－カルボキシレートが３３９．３ｇ（１．０１ｍｏｌ，収率４２．８％）得られたことが分かった。また、得られたトルエン溶液中に１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウム－４－カルボキシレートが１２８．０ｇ（０．３８ｍｏｌ，収率１６．２％）、１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩が２１１．７ｇ（０．５７ｍｏｌ，収率２４．４％）含まれていることが分かった。
１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウム－２－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．２１（ｓ,２Ｈ）、４．５５（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,４Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．３１（ｍ,２０Ｈ）、０．８８（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ,６Ｈ）
１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウム－４－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．４９（ｓ,１Ｈ）、４．７３（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,２Ｈ）、４．２６（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,２Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．３１（ｍ,２０Ｈ）、０．８８（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ,６Ｈ）
１，３－ジ－ｎ－オクチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．４４（ｓ,２Ｈ）、４．３２（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,４Ｈ）、３．３９（ｓ,３Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．３１（ｍ,２０Ｈ）、０．８８（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ,６Ｈ）
（工程２）
窒素置換した３Ｌの４つ口反応器に、工程１で得られたトルエン溶液１７００．２ｇ、トルエン８０７．４ｇを仕込み、加熱還流させた。加熱還流させながら、フェニルイソシアネート２２９．７ｇ（１．９３ｍｏｌ）を２時間かけて滴下し、１０時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を１４３３．１ｇになるまで濃縮し、ヘプタン７６１．０ｇを加えて、５０℃まで加熱し、固体を全て溶解させ、ヘプタン溶液とした。ヘプタン溶液を５０℃から３０℃まで冷却して結晶を析出させ、３０℃で１時間攪拌した後に、毎時１０℃ずつ２時間かけてヘプタン溶液を、１０℃まで冷却し、１０℃で更に１時間攪拌させることでスラリー液を得た。得られたスラリー液をろ過することで、微黄色固体として、上記式で表される化合物（ＤＯＩｍ＿ＰＩ）を４２６．８ｇ（１．０４ｍｏｌ、工程１からの通し収率６２．２％）得た。ＤＯＩｍ＿ＰＩの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．３２（ｓ,１Ｈ）、７．８０（ｓ,２Ｈ）、４．１７（ｔ,Ｊ＝９．６Ｈｚ,４Ｈ）、１．７８（ｍ,４Ｈ）、１．６３（ｓ,３Ｈ）、１．２３（ｍ,２０Ｈ）、０．８５（ｔ,Ｊ＝６．４Ｈｚ,６Ｈ）
【0154】
実施例２ ＤＢＩｍ＿ＰＩの合成
（工程１）
１８０ｍＬの耐圧容器に、製造例２で得られた［ＤＢＩ］［ＯＡｃ］３０．０ｇ（純分０．１１ｍｏｌ）、炭酸ジメチル４４．８ｇ（０．５０ｍｏｌ）、トルエン３０．０ｇを仕込み、窒素置換を行った。その後、混合液を１２０℃で７時間攪拌をした。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、褐色液体を２５．２ｇ得た。得られた褐色液体で１Ｈ－ＮＭＲ分析を行い、積分比より計算した結果、１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウム－２－カルボキシレートが９．８ｇ（０．０４ｍｏｌ，収率３９．２％）得られたことが分かった。また、得られたトルエン溶液中に１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウム－４－カルボキシレートが１．８ｇ（０．００８ｍｏｌ，収率７．４％）、１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩が１３．８ｇ（０．０５ｍｏｌ，収率４８．５％）含まれていることが分かった。得られた褐色液体にクロロベンゼン２５．２ｇを加え、クロロベンゼン溶液とした。
１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウム－２－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝７．７１（ｓ,２Ｈ）、４．４５（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,４Ｈ）、１．８１（ｍ,４Ｈ）、１．２８（ｍ,４Ｈ）、０．８９（ｍ,６Ｈ）
１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウム－４－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．４５（ｓ,１Ｈ）、７．６０（ｓ,１Ｈ）、４．５９（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,２Ｈ）、４．１５（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,２Ｈ）、１．８１（ｍ,４Ｈ）、１．２８（ｍ,４Ｈ）、０．８９（ｍ,６Ｈ）
１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．７３（ｓ,１Ｈ）、７．８９（ｓ,２Ｈ）、４．２２（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,４Ｈ）、３．１７（ｓ,３Ｈ）、１．８１（ｍ,４Ｈ）、１．２８（ｍ,４Ｈ）、０．８９（ｍ,６Ｈ）
（工程２）
窒素置換した１８０ｍＬの３つ口反応器に、工程１で得られたクロロベンゼン溶液４０．０ｇ、クロロベンゼン４０．０ｇ、Ｎ－フェニルカルバミン酸メチル１３．４ｇ（０．１０ｍｏｌ）を仕込み、５時間加熱還流した。加熱還流後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、乾固残を２６．８ｇ得た。次いで、乾固残に酢酸ブチル１７．１ｇを加え、６０℃まで昇温し、固体を全て溶解させた後に室温まで冷却したところ、上記式で表される化合物（ＤＢＩｍ＿ＰＩ）を５．８ｇ（１９．４ｍｍｏｌ、工程１からの通し収率２１．８％）得た。ＤＢＩｍ＿ＰＩの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝７．６０（ｓ,２Ｈ）、７．４２（ｄ,Ｊ＝８．４Ｈｚ,２Ｈ）、７．１４（ｄ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,２Ｈ）、６．８０（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,１Ｈ）、４．４８（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,４Ｈ）、１．８０（ｍ,４Ｈ）、１．３０（ｍ,４Ｈ）、０．９１（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,６Ｈ）
【化51】
１８０ｍＬの耐圧容器に、製造例２で得られた［ＤＢＩ］［ＯＡｃ］３０．０ｇ（純分０．１１ｍｏｌ）、炭酸ジメチル４４．８ｇ（０．５０ｍｏｌ）、トルエン３０．０ｇを仕込み、窒素置換を行った。その後、混合液を１２０℃で７時間攪拌をした。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、褐色液体を２５．２ｇ得た。得られた褐色液体で１Ｈ－ＮＭＲ分析を行い、積分比より計算した結果、１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウム－２－カルボキシレートが９．８ｇ（０．０４ｍｏｌ，収率３９．２％）得られたことが分かった。また、得られたトルエン溶液中に１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウム－４－カルボキシレートが１．８ｇ（０．００８ｍｏｌ，収率７．４％）、１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩が１３．８ｇ（０．０５ｍｏｌ，収率４８．５％）含まれていることが分かった。得られた褐色液体にクロロベンゼン２５．２ｇを加え、クロロベンゼン溶液とした。
１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウム－２－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝７．７１（ｓ,２Ｈ）、４．４５（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,４Ｈ）、１．８１（ｍ,４Ｈ）、１．２８（ｍ,４Ｈ）、０．８９（ｍ,６Ｈ）
１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウム－４－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．４５（ｓ,１Ｈ）、７．６０（ｓ,１Ｈ）、４．５９（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,２Ｈ）、４．１５（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,２Ｈ）、１．８１（ｍ,４Ｈ）、１．２８（ｍ,４Ｈ）、０．８９（ｍ,６Ｈ）
１，３－ジ－ｎ－ブチルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．７３（ｓ,１Ｈ）、７．８９（ｓ,２Ｈ）、４．２２（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,４Ｈ）、３．１７（ｓ,３Ｈ）、１．８１（ｍ,４Ｈ）、１．２８（ｍ,４Ｈ）、０．８９（ｍ,６Ｈ）
（工程２）
窒素置換した１８０ｍＬの３つ口反応器に、工程１で得られたクロロベンゼン溶液４０．０ｇ、クロロベンゼン４０．０ｇ、Ｎ－フェニルカルバミン酸メチル１３．４ｇ（０．１０ｍｏｌ）を仕込み、５時間加熱還流した。加熱還流後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、乾固残を２６．８ｇ得た。次いで、乾固残に酢酸ブチル１７．１ｇを加え、６０℃まで昇温し、固体を全て溶解させた後に室温まで冷却したところ、上記式で表される化合物（ＤＢＩｍ＿ＰＩ）を５．８ｇ（１９．４ｍｍｏｌ、工程１からの通し収率２１．８％）得た。ＤＢＩｍ＿ＰＩの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝７．６０（ｓ,２Ｈ）、７．４２（ｄ,Ｊ＝８．４Ｈｚ,２Ｈ）、７．１４（ｄ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,２Ｈ）、６．８０（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,１Ｈ）、４．４８（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,４Ｈ）、１．８０（ｍ,４Ｈ）、１．３０（ｍ,４Ｈ）、０．９１（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,６Ｈ）
【0155】
実施例３ Ｄ２ＨＩｍ＿ＰＩの合成
（工程１）
５Ｌの耐圧容器に、製造例３で得られた［Ｄ２ＥＨＩ］［ＯＡｃ］１１０４．２ｇ（純分３．０７ｍｏｌ）、炭酸ジメチル７４４．９ｇ（８．２７ｍｏｌ）、トルエン１１０４．２ｇを仕込み、窒素置換を行った。その後、混合液を１２０℃まで昇温した後に、１２時間攪拌をした。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、褐色液体を１０９５．８ｇ得た。得られた褐色液体の１Ｈ－ＮＭＲ分析を行い、積分比より計算した結果、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートが５２６．８ｇ（１．４９ｍｏｌ，収率４６．６％）得られたことが分かった。また、得られたトルエン溶液中に１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートが１４２．４ｇ（０．４２３ｍｏｌ，収率１３．８％）、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩が４６６．６ｇ（１．２７ｍｏｌ，収率４１．２％）含まれていることが分かった。
１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝７．７０（ｓ,２Ｈ）、４．３８（ｔ,Ｊ＝６．０Ｈｚ,４Ｈ）、１．８４（ｍ,２Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８７（ｍ,１２Ｈ）
１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．１８（ｓ,１Ｈ）、７．６４（ｓ,１Ｈ）、４．５３（ｔ,Ｊ＝６．０Ｈｚ,２Ｈ）、４．０５（ｔ,Ｊ＝６．０Ｈｚ,２Ｈ）、１．８４（ｍ,２Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８７（ｍ,１２Ｈ）
１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．５１（ｓ,１Ｈ）、７．８９（ｓ,２Ｈ）、４．２４（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,４Ｈ）、３．１８（ｓ,３Ｈ）、１．８４（ｍ,２Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８７（ｍ,１２Ｈ）
（工程２）
窒素置換した５Ｌの４つ口反応器に、工程１で得られた褐色液体８８２．７ｇ（１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートならびにその等価体である１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートおよび１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の合計：２．５６ｍｏｌ）、トルエン２４８７．８ｇを加え、加熱還流した。その後、反応器中の液体にフェニルイソシアネート２９２．３ｇ（２．４５ｍｏｌ）を２時間かけて滴下し、滴下後、還流しながら１３時間３０分反応させた。反応後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、上記式で表される化合物（Ｄ２ＨＩｍ＿ＰＩ）１０７８．６ｇを得た。得られたＤ２ＨＩｍ＿ＰＩに、内部標準物質としてテトラリンを加えて１Ｈ－ＮＭＲ分析した結果、Ｄ２ＨＩｍ＿ＰＩは９９０．９ｇ（２．４１ｍｏｌ，収率９３．８％）含まれることが分かった。Ｄ２ＨＩｍ＿ＰＩの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝７．５９（ｓ,２Ｈ）、７．３９（ｄ,Ｊ＝８．４Ｈｚ,２Ｈ）、７．１２（ｔ,Ｊ＝８．４Ｈｚ,２Ｈ）、６．７６（ｔ,Ｊ＝８．４Ｈｚ,１Ｈ）、４．４４（ｔ,Ｊ＝６．８Ｈｚ,４Ｈ）、１．８６（ｍ,２Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８２（ｍ,１２Ｈ）
【化52】
５Ｌの耐圧容器に、製造例３で得られた［Ｄ２ＥＨＩ］［ＯＡｃ］１１０４．２ｇ（純分３．０７ｍｏｌ）、炭酸ジメチル７４４．９ｇ（８．２７ｍｏｌ）、トルエン１１０４．２ｇを仕込み、窒素置換を行った。その後、混合液を１２０℃まで昇温した後に、１２時間攪拌をした。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、褐色液体を１０９５．８ｇ得た。得られた褐色液体の１Ｈ－ＮＭＲ分析を行い、積分比より計算した結果、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートが５２６．８ｇ（１．４９ｍｏｌ，収率４６．６％）得られたことが分かった。また、得られたトルエン溶液中に１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートが１４２．４ｇ（０．４２３ｍｏｌ，収率１３．８％）、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩が４６６．６ｇ（１．２７ｍｏｌ，収率４１．２％）含まれていることが分かった。
１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝７．７０（ｓ,２Ｈ）、４．３８（ｔ,Ｊ＝６．０Ｈｚ,４Ｈ）、１．８４（ｍ,２Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８７（ｍ,１２Ｈ）
１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．１８（ｓ,１Ｈ）、７．６４（ｓ,１Ｈ）、４．５３（ｔ,Ｊ＝６．０Ｈｚ,２Ｈ）、４．０５（ｔ,Ｊ＝６．０Ｈｚ,２Ｈ）、１．８４（ｍ,２Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８７（ｍ,１２Ｈ）
１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝９．５１（ｓ,１Ｈ）、７．８９（ｓ,２Ｈ）、４．２４（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,４Ｈ）、３．１８（ｓ,３Ｈ）、１．８４（ｍ,２Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８７（ｍ,１２Ｈ）
（工程２）
窒素置換した５Ｌの４つ口反応器に、工程１で得られた褐色液体８８２．７ｇ（１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートならびにその等価体である１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートおよび１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の合計：２．５６ｍｏｌ）、トルエン２４８７．８ｇを加え、加熱還流した。その後、反応器中の液体にフェニルイソシアネート２９２．３ｇ（２．４５ｍｏｌ）を２時間かけて滴下し、滴下後、還流しながら１３時間３０分反応させた。反応後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、上記式で表される化合物（Ｄ２ＨＩｍ＿ＰＩ）１０７８．６ｇを得た。得られたＤ２ＨＩｍ＿ＰＩに、内部標準物質としてテトラリンを加えて１Ｈ－ＮＭＲ分析した結果、Ｄ２ＨＩｍ＿ＰＩは９９０．９ｇ（２．４１ｍｏｌ，収率９３．８％）含まれることが分かった。Ｄ２ＨＩｍ＿ＰＩの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝７．５９（ｓ,２Ｈ）、７．３９（ｄ,Ｊ＝８．４Ｈｚ,２Ｈ）、７．１２（ｔ,Ｊ＝８．４Ｈｚ,２Ｈ）、６．７６（ｔ,Ｊ＝８．４Ｈｚ,１Ｈ）、４．４４（ｔ,Ｊ＝６．８Ｈｚ,４Ｈ）、１．８６（ｍ,２Ｈ）、１．２５（ｍ,１６Ｈ）、０．８２（ｍ,１２Ｈ）
【0156】
実施例４ Ｄ２ＨＩｍ＿ｃｒＭＤＩの合成
（工程１）
１８０ｍＬの耐圧容器に、製造例３と同様の製造方法で得られた［Ｄ２ＥＨＩ］［ＯＡｃ］４０．０ｇ（純分９９．５ｍｍｏｌ）、炭酸ジメチル２６．９ｇ（２９９ｍｍｏｌ）を仕込み、窒素置換を行った。その後、耐圧容器中の混合液を１２０℃で６時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、褐色液体を３５．３ｇ得た。得られた褐色液体に内部標準物質としてジメチルスルホンを加え１Ｈ－ＮＭＲ内部標準分析した結果、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートが７．５ｇ（０．０２ｍｏｌ，収率２２．３％）得られたことが分かった。また、得られた褐色液体中に１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートが５．７ｇ（０．０２ｍｏｌ，収率１７．１％）、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩が１８．３ｇ（０．０５ｍｏｌ，収率５０．０％）含まれていることが分かった。
（工程２）
窒素置換した２００ｍＬの４つ口反応器に、トルエン３０．２ｇを加え還流した。トルエンを還流させながら、反応器に工程１で得られた褐色液体３０．１ｇ（１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートならびにその等価体である１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートおよび１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の合計：７５．７ｍｍｏｌ）とトルエン３０．４ｇの混合液を２時間かけて滴下した。また、同時にポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート（住化コベストロウレタン株式会社製スミジュール４４Ｖ２０Ｌ、ＮＣＯ含有量：７．８６ｍｍｏｌ／ｇ）１０．６ｇ（ＮＣＯ含量：８３．１ｍｍｏｌ）とトルエン３０．５ｇの混合液を反応器に２時間かけて滴下し、還流させながら１時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、上記式で表される化合物を含む反応物（Ｄ２ＨＩｍ＿ｃｒＭＤＩ）３７．４ｇを得た。得られた反応物の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．５１－６．９１（ｍ）、４．５２－４．３７（ｍ）、４．０１－３．６６（ｍ）、１．８８（ｂｒ）、１．３４－１．２６（ｍ）、０．８９－０．８２（ｍ）
【化53】
１８０ｍＬの耐圧容器に、製造例３と同様の製造方法で得られた［Ｄ２ＥＨＩ］［ＯＡｃ］４０．０ｇ（純分９９．５ｍｍｏｌ）、炭酸ジメチル２６．９ｇ（２９９ｍｍｏｌ）を仕込み、窒素置換を行った。その後、耐圧容器中の混合液を１２０℃で６時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、褐色液体を３５．３ｇ得た。得られた褐色液体に内部標準物質としてジメチルスルホンを加え１Ｈ－ＮＭＲ内部標準分析した結果、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートが７．５ｇ（０．０２ｍｏｌ，収率２２．３％）得られたことが分かった。また、得られた褐色液体中に１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートが５．７ｇ（０．０２ｍｏｌ，収率１７．１％）、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩が１８．３ｇ（０．０５ｍｏｌ，収率５０．０％）含まれていることが分かった。
（工程２）
窒素置換した２００ｍＬの４つ口反応器に、トルエン３０．２ｇを加え還流した。トルエンを還流させながら、反応器に工程１で得られた褐色液体３０．１ｇ（１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートならびにその等価体である１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートおよび１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の合計：７５．７ｍｍｏｌ）とトルエン３０．４ｇの混合液を２時間かけて滴下した。また、同時にポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート（住化コベストロウレタン株式会社製スミジュール４４Ｖ２０Ｌ、ＮＣＯ含有量：７．８６ｍｍｏｌ／ｇ）１０．６ｇ（ＮＣＯ含量：８３．１ｍｍｏｌ）とトルエン３０．５ｇの混合液を反応器に２時間かけて滴下し、還流させながら１時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、上記式で表される化合物を含む反応物（Ｄ２ＨＩｍ＿ｃｒＭＤＩ）３７．４ｇを得た。得られた反応物の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．５１－６．９１（ｍ）、４．５２－４．３７（ｍ）、４．０１－３．６６（ｍ）、１．８８（ｂｒ）、１．３４－１．２６（ｍ）、０．８９－０．８２（ｍ）
【0157】
実施例５ Ｄ２ＨＩｍ＿ＴＤＩの合成
１８０ｍＬの耐圧容器に、製造例３と同様の製造方法で得られた［Ｄ２ＥＨＩ］［ＯＡｃ］７０．１ｇ（純分０．１７ｍｏｌ）、炭酸ジメチル５３．９ｇ（０．６０ｍｏｌ）を仕込み、窒素置換を行った。その後、耐圧容器中の混合液を１２０℃で６時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、褐色液体を６７．７ｇ得た。得られた褐色液体に内部標準物質としてジメチルスルホンを加え１Ｈ－ＮＭＲ内標分析した結果、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートが５．３ｇ（０．０２ｍｏｌ，収率９．３％）得られたことが分かった。また、得られた褐色液体中に１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートの等価体である１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートが１０．３ｇ（０．０３ｍｏｌ，収率１８．１％）、１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩が４１．８ｇ（０．１１ｍｏｌ，収率６６．８％）含まれていることが分かった。
（工程２）
窒素置換した２００ｍＬの４つ口反応器に、トルエン３０．３ｇを加え還流した。その後、トルエンを還流させながら、反応器に工程１で得られた褐色液体３０．０ｇ（１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートならびにその等価体１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートおよび１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の合計：７０．０ｍｍｏｌ）とトルエン３０．２ｇの混合液を２時間かけて滴下した。また、同時にトリレンジイソシアネート（東京化成工業株式会社製、２，４－トリレンジイソシアネート約８０％、２，６－トリレンジイソシアネート約２０％）６．７ｇ（３８．４ｍｍｏｌ）とトルエン３０．５ｇの混合液を反応器に２時間かけて滴下し、還流させながら１時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、上記式で表される化合物を含む反応物（Ｄ２ＨＩｍ＿ＴＤＩ）３１．２ｇを得た。得られた反応物の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．２８－６．８８（ｍ、５Ｈ）、４．５９－４．４３（ｍ、８Ｈ）、２．２４－２．１７（ｍ、３Ｈ）、１．９２（ｍ、４Ｈ）、１．３７－１．２７（ｍ、３２Ｈ）、０．９－０．８３（ｍ、２４Ｈ）
【化54】
（工程２）
窒素置換した２００ｍＬの４つ口反応器に、トルエン３０．３ｇを加え還流した。その後、トルエンを還流させながら、反応器に工程１で得られた褐色液体３０．０ｇ（１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－２－カルボキシレートならびにその等価体１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウム－４－カルボキシレートおよび１，３－ジ－２－エチルヘキシルイミダゾリウムメチルカーボネート塩の合計：７０．０ｍｍｏｌ）とトルエン３０．２ｇの混合液を２時間かけて滴下した。また、同時にトリレンジイソシアネート（東京化成工業株式会社製、２，４－トリレンジイソシアネート約８０％、２，６－トリレンジイソシアネート約２０％）６．７ｇ（３８．４ｍｍｏｌ）とトルエン３０．５ｇの混合液を反応器に２時間かけて滴下し、還流させながら１時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、上記式で表される化合物を含む反応物（Ｄ２ＨＩｍ＿ＴＤＩ）３１．２ｇを得た。得られた反応物の１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．２８－６．８８（ｍ、５Ｈ）、４．５９－４．４３（ｍ、８Ｈ）、２．２４－２．１７（ｍ、３Ｈ）、１．９２（ｍ、４Ｈ）、１．３７－１．２７（ｍ、３２Ｈ）、０．９－０．８３（ｍ、２４Ｈ）
【0158】
実施例６ ＤｔＯｃｔＩｍ＿ＰＩの合成
【化55】
【0159】
（工程１）
１８０ｍＬの耐圧容器に、製造例４で得られた［ＤｔＯｃｔＩ］［ＯＡｃ］２４．８ｇ（０．０６９ｍｏｌ）、炭酸ジメチル２７．０ｇ（０．２９７ｍｏｌ）、トルエン３０．０ｇを仕込み、窒素置換を行った。その後、耐圧容器中の混合液を１２０℃で６時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、反応物（Ａ）を得た。
（工程２）
窒素置換した１００ｍＬの３つ口反応器に、工程１で得られた反応物（Ａ）の半量、クロロベンゼン４０．０ｇを仕込み、加熱還流した。加熱還流後の混合液を６０℃まで冷却し、そこへフェニルイソシアネート３．９ｇ（０．０３２ｍｏｌ）とクロロベンゼン１２．２ｇの混合液を１０分かけて滴下した後に、６０℃で１時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を室温まで冷却し、そこヘプタン５０．０ｇを加えた後に濾過し、濾残をヘプタン５０．０ｇで洗浄し、上記式で表される化合物（ＤｔＯｃｔＩｍ＿ＰＩ）を７．５５ｇ（０．０１４ｍｍｏｌ、工程１からの通し収率４０．０％）得た。ＤｔＯｃｔＩｍ＿ＰＩの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．５９（ｄ, Ｊ＝９．２Ｈｚ,２Ｈ）、７．３０（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,２Ｈ）、７．０８（ｓ,２Ｈ）６．９３（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,１Ｈ）、２．４０（ｍ,４Ｈ）、１．８７（ｍ,１２Ｈ）、０．９９（ｓ,１８Ｈ）
１８０ｍＬの耐圧容器に、製造例４で得られた［ＤｔＯｃｔＩ］［ＯＡｃ］２４．８ｇ（０．０６９ｍｏｌ）、炭酸ジメチル２７．０ｇ（０．２９７ｍｏｌ）、トルエン３０．０ｇを仕込み、窒素置換を行った。その後、耐圧容器中の混合液を１２０℃で６時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を減圧濃縮し、反応物（Ａ）を得た。
（工程２）
窒素置換した１００ｍＬの３つ口反応器に、工程１で得られた反応物（Ａ）の半量、クロロベンゼン４０．０ｇを仕込み、加熱還流した。加熱還流後の混合液を６０℃まで冷却し、そこへフェニルイソシアネート３．９ｇ（０．０３２ｍｏｌ）とクロロベンゼン１２．２ｇの混合液を１０分かけて滴下した後に、６０℃で１時間攪拌した。攪拌後、得られた反応混合物を室温まで冷却し、そこヘプタン５０．０ｇを加えた後に濾過し、濾残をヘプタン５０．０ｇで洗浄し、上記式で表される化合物（ＤｔＯｃｔＩｍ＿ＰＩ）を７．５５ｇ（０．０１４ｍｍｏｌ、工程１からの通し収率４０．０％）得た。ＤｔＯｃｔＩｍ＿ＰＩの１Ｈ－ＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．５９（ｄ, Ｊ＝９．２Ｈｚ,２Ｈ）、７．３０（ｔ,Ｊ＝７．６Ｈｚ,２Ｈ）、７．０８（ｓ,２Ｈ）６．９３（ｔ,Ｊ＝７．２Ｈｚ,１Ｈ）、２．４０（ｍ,４Ｈ）、１．８７（ｍ,１２Ｈ）、０．９９（ｓ,１８Ｈ）