特許 7589111出願番号特願 2021-100931
レーザマーキングシステム

出願人株式会社日立産機システム（識別番号 502129933）

2026年特許公開件数ランキング 270位 75件（※）

2026年特許取得件数ランキング 250位 77件（※）

公報発行日　2024年11月25

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7589111　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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対象物をレーザビームによって加工するレーザマーキングシステムに関するものである。

特許文献１のようにビームを２次元に広げると、原理的には印字速度が向上する一方で、印字パターンの印字点のビーム強度密度が小さくなる。したがって、印字パターンを利用しないものと比べると、ビームスポットの面積が大きくなった比率に相応する高出力な光源が必要になる。

本発明に係るレーザマーキングシステムは、レーザビームを１次元方向に引き延ばし、引き延ばしたレーザビームのビームスポットの長軸方向における強度分布を変調する。

本発明に係るレーザマーキングシステムによれば、ビーム光源の出力を抑制しながら、２次元印字パターンと同等に高速印字することができる。

【図1】実施形態１に係るレーザマーキングシステム１００の構成図である。

【図2】ビームスポットの変化過程を説明する模式図である。

【図3】実施形態２に係るレーザマーキングシステム１００の構成図である。

【図4】ビームスポットの変化過程を説明する模式図である。

【図5】実施形態２において２次元パターンを印字対象物５に対して加工する過程を説明する模式図である。

【図6】ビーム変調部３による変調動作とビーム照射位置変更部８による照射位置変更動作を同期させることを示す模式図である。

【図7】実施形態３に係るレーザマーキングシステム１００の構成図である。

【図8】ビーム方向調整部９が２次元パターンを照射する位置を調整した結果を示す模式図である。

【図9】ビーム変調部３を構成するデバイスの具体例を示す。

１：光源２：ビーム整形部３：ビーム変調部４：ビーム照射部５：印字対象物８：ビーム照射位置変更部９：ビーム方向調整部１００：レーザマーキングシステム１１０：コントローラ１２０：ＧＵＩ

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