特許 7589660 シフト装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-18

(45)【発行日】2024-11-26

(54)【発明の名称】シフト装置

(51)【国際特許分類】

   B60K 20/02 20060101AFI20241119BHJP

   G01B 7/00 20060101ALI20241119BHJP

【ＦＩ】

B60K20/02 Z

G01B7/00 102M

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2021125716

(22)【出願日】2021-07-30

(65)【公開番号】P2023020388

(43)【公開日】2023-02-09

【審査請求日】2024-07-26

(73)【特許権者】

【識別番号】000114215

【氏名又は名称】ミネベアミツミ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(72)【発明者】

【氏名】小池 信二

(72)【発明者】

【氏名】西口 薫

(72)【発明者】

【氏名】櫻井 繁

(72)【発明者】

【氏名】三ツ井 崇

【審査官】小川 克久

(56)【参考文献】

【文献】国際公開第２０１９／１４２５２２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１９－０６４３１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－１６３７８２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０８９５４０（ＪＰ，Ａ）

【文献】独国特許出願公開第１０２０１７１３１１４４（ＤＥ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１０／０６６２１５（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ６０Ｋ ２０／０２

Ｇ０１Ｂ ７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

シフトレバーと、
前記シフトレバーの第１操作方向への操作に伴って、ＸＹ平面に平行な第１仮想平面に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動し、前記シフトレバーの第２操作方向への操作に伴って、前記第１仮想平面とは異なる第２仮想平面に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する磁石と、
前記磁石の位置に応じて変化する空間座標データを出力する磁気センサと、
前記空間座標データに基づいて、前記シフトレバーの操作ポジションを判定する判定回路と、を備え、
前記磁気センサは、Ｚ軸方向での正面視で、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置された、シフト装置。

【請求項2】

前記磁石が前記第１仮想平面に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する第１範囲は、前記磁石が前記第２仮想平面に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する第２範囲よりも広く、
Ｚ軸方向での正面視で、前記第１仮想平面に沿って位置する前記磁石の中心から前記磁気センサまでの最短距離は、前記第２仮想平面に沿って位置する前記磁石の中心から前記磁気センサまでの最短距離に比べて短い、請求項１に記載のシフト装置。

【請求項3】

前記磁気センサは、前記シフトレバーが所定の操作ポジションにあるとき、Ｚ軸方向での正面視で、前記磁石と少なくとも一部が重なるように配置された、請求項２に記載のシフト装置。

【請求項4】

前記磁石は、前記シフトレバーの第３操作方向への操作に伴って、ＺＹ平面に沿って曲線状の軌跡で移動し、
前記第１範囲は、前記第３操作方向への操作前に前記磁石が移動する範囲であり、
前記第２範囲は、前記第３操作方向への操作後に前記磁石が移動する範囲である、請求項２又は３に記載のシフト装置。

【請求項5】

前記磁石は、前記シフトレバーの第３操作方向への操作に伴って、ＺＹ平面に沿って曲線状の軌跡で移動する、請求項１から４のいずれか一項に記載のシフト装置。

【請求項6】

前記磁気センサから前記第３操作方向の操作前に位置する前記磁石までの距離のＺ軸方向成分の長さは、前記磁気センサから前記第３操作方向の操作後に位置する前記磁石までの距離のＺ軸方向成分の長さよりも短い、請求項４又は５に記載のシフト装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、シフト装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、シフトレバーのシフト方向の揺動に従って移動する磁石と、磁石の移動による磁束の変化を検出する磁気センサとを備え、磁気センサの検出結果に基づいて、シフトレバーのシフト方向における操作ポジションを判定するシフト装置が知られている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２０１７－０９５０４１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

近年、磁石の位置に応じて変化する空間座標データを出力する磁気センサ（三次元磁気センサ）によって、シフトレバーの操作ポジションを判定するシフト装置の開発が進んでいる。しかしながら、シフトレバーの操作ポジションの判定に三次元磁気センサを使用する場合、操作ポジションの判定精度が低下することがある。

【0005】

本開示は、シフトレバーの操作ポジションの判定精度を向上させたシフト装置を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示の一態様では、
シフトレバーと、
前記シフトレバーの第１操作方向への操作に伴って、ＸＹ平面に平行な第１仮想平面に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動し、前記シフトレバーの第２操作方向への操作に伴って、前記第１仮想平面とは異なる第２仮想平面に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する磁石と、
前記磁石の位置に応じて変化する空間座標データを出力する磁気センサと、
前記空間座標データに基づいて、前記シフトレバーの操作ポジションを判定する判定回路と、を備え、
前記磁気センサは、Ｚ軸方向での正面視で、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置された、シフト装置が提供される。

【発明の効果】

【0007】

本開示の一態様によれば、シフトレバーの操作ポジションの判定精度を向上できる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】一実施形態に係るシフト装置を示す斜視図である。

【図2】一実施形態に係るシフト装置を、ハーネス及び筐体を取り除いて示す斜視図である。

【図3】一実施形態に係るシフト装置の要部を図２とは別方向から示す斜視図である。

【図4】図３に示す要部の一部を拡大した図である。

【図5】図４に示す要部の一部を、回路基板を取り除いて、図４とは別方向から示す図である。

【図6】シフトレバーをガイドするガイド溝を示す斜視図である。

【図7】磁気センサとシフトレバーの位置関係をＹ軸方向での平面視で模式的に示す図である。

【図8】シフトレバーのセレクト方向の操作をＸ軸方向での側面視で模式的に示す図である。

【図9】三次元の空間座標データを二次元の座標データに変換する方法を説明するための図である。

【図10】ＸＹ平面及びＺＹ平面に沿って曲線状の軌跡で移動する磁石と、Ｚ軸方向での正面視でＸ軸方向に沿って配置された磁気センサとの第１配置形態を示す図である。

【図11】図１０の第１配置形態において、空間座標データの角度変換により得られた二次元座標データの軌跡を示す図である。

【図12】ＸＹ平面及びＺＹ平面に沿って曲線状の軌跡で移動する磁石と、Ｚ軸方向での正面視でＸ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置された磁気センサとの第２配置形態を示す図である。

【図13】図１２の第２配置形態において、空間座標データの角度変換により得られた二次元座標データの軌跡を示す図である。

【図14】ＸＹ平面及びＺＹ平面に沿って曲線状の軌跡で移動する磁石と、Ｚ軸方向での正面視でＸ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置された磁気センサとの第３配置形態を示す図である。

【図15】図１４の第３配置形態において、空間座標データの角度変換により得られた二次元座標データの軌跡を示す図である。

【図16】操作ポジションがＤ側操作ポジションかＭ側操作ポジションかを判別する方法を説明するための図である。

【図17】キャリブレーション前後の二次元座標データの軌跡を示す図である。

【図18】一次元の距離データｒに応じて操作ポジションを判定する方法を説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、図面を参照して、本開示に係る実施形態について説明する。なお、理解の容易のため、図面における各部の縮尺は、実際とは異なる場合がある。平行、直角、直交、水平、垂直、上下、左右などの方向には、実施形態の作用及び効果を損なわない程度のずれが許容される。角部の形状は、直角に限られず、弓状に丸みを帯びてもよい。Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向は、それぞれ、Ｘ軸に平行な方向、Ｙ軸に平行な方向、Ｚ軸に平行な方向を表す。Ｘ軸方向とＹ軸方向とＺ軸方向は、互いに直交する。ＸＹ平面、ＺＹ平面、ＺＸ平面は、それぞれ、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に平行な仮想平面、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に平行な仮想平面、Ｚ軸方向及びＸ軸方向に平行な仮想平面を表す。また、磁石が平面に沿って移動するとは、磁石が平面に完全に平行移動することに限られず、磁石が平面に略平行に移動することを含んでよい。

【0010】

図１は、一実施形態に係るシフト装置を示す斜視図である。図１に示すシフト装置１は、車両に搭載される自動変速機等に使用される操作装置である。シフト装置１は、シフトレバー１１の操作ポジションを後述の磁気センサ２１によって判定する。シフト装置１によって判定（特定）された操作ポジションに応じて、自動変速機のレンジの切り替えが可能となる。

【0011】

シフト装置１は、シフトレバー１１、筐体１０及びハーネス１２を備える。筐体１０は、シフト装置１の内部部品を収容する。ハーネス１２は、筐体１０の内部回路と筐体１０の外部回路との間で電気信号を伝送するための部材である。ハーネス１２は、例えば、後述の判定回路２５によって判定された操作ポジションの情報を筐体１０の外部回路に伝送する。

【0012】

筐体１０の外部回路は、例えば、ハーネス１２を介して取得した情報が示す操作ポジションに応じて、変速機のレンジを切り替える信号を出力する。筐体１０の外部回路は、例えば、ハーネス１２を介して取得した情報が示す操作ポジションをインジケータに表示させる。

【0013】

図２は、図１に示すシフト装置１を、ハーネス１２及び筐体１０を取り除いて示す斜視図である。シフト装置１は、シフトレバー１１、筐体１０及びハーネス１２の他に、レバーホルダ１６、ベース１３及び回路基板１８を備える。

【0014】

シフトレバー１１は、ユーザが操作可能なレバーである。シフトレバー１１は、レバーホルダ１６内の揺動中心１７を支点として揺動可能なように、レバーホルダ１６及び筐体１０に保持されている。筐体１０は、その略中央部分にレバーホルダ１６を保持することによりシフトレバー１１を揺動可能に保持する。シフトレバー１１が揺動可能な方向は、ベース１３に設けられたガイド溝１４にガイドされた方向に規制されている。具体的には、Ｙ軸方向での平面視において、シフトレバー１１の上端部（Ｙ軸方向の正側端部）がＺ軸方向に沿って移動するセレクト方向と、シフトレバー１１の上端部がＸ軸方向に沿って移動するシフト方向とに、シフトレバー１１の揺動可能な方向は、規制されている。

【0015】

レバーホルダ１６は、シフトレバー１１の上端部（Ｙ軸方向の正側端部）に対して下方（Ｙ軸方向の負側）に設けられ、揺動中心１７を支点としてシフトレバー１１を揺動可能に保持する。レバーホルダ１６は、シフトレバー１１が挿入されることによりシフトレバー１１と一体化されている。レバーホルダ１６は、その外表面が肉抜きされているが、全体的に略球形状に形成されている。

【0016】

ベース１３は、ガイド溝１４が設けられた台座である。ガイド溝１４は、シフトレバー１１を複数の操作ポジションにガイドする。シフトレバー１１の下端部１５（Ｙ軸方向の負側端部）は、ガイド溝１４に挿入されている。

【0017】

回路基板１８は、回路基板１８の板面がＸＹ平面と平行となるように配置されている。回路基板１８は、筐体１０に収容される。

【0018】

図３は、図２に示すシフト装置１の要部を図２とは別方向から示す斜視図である。シフト装置１は、磁気センサ２１及び判定回路２５を備える。磁気センサ２１及び判定回路２５は、回路基板１８に実装されている。

【0019】

図４は、図３に示す要部の一部を拡大した図である。図５は、図４に示す要部の一部を、回路基板１８を取り除いて、図４とは別方向から示す図である。

【0020】

磁気センサ２１は、シフトレバー１１の揺動方向を検出する検出部材として、回路基板１８に配置されている。磁気センサ２１は、磁石ホルダ２０により保持された磁石１９（図５参照）に対向可能な位置に配置されている。磁気センサ２１は、磁石１９による磁界の強さ（磁束密度でもよい）と磁界の向きをホール素子により検出する。

【0021】

磁気センサ２１は、磁石１９による磁界ベクトルの変化を検出し、磁石１９の位置に応じて変化する空間座標データを出力する三次元磁気センサである。三次元磁気センサを採用することで、三つの移動方向成分の検出に複数個必要となる一次元磁気センサに比べて、センサの使用個数の削減やセンサの配置スペースの縮小ができるので、シフト装置全体の小型化や低コスト化を図ることができる。磁気センサ２１は、磁界の強さのＸ軸方向成分を表す磁界成分Ｂｘ、磁界の強さのＹ軸方向成分を表す磁界成分Ｂｙ、及び、磁界の強さのＺ軸方向成分を表す磁界成分Ｂｚを検出する。磁気センサ２１は、検出された磁界成分Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚを、空間座標データ（Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚ）として出力する。磁気センサ２１が空間座標データ（Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚ）を出力する形式は、特に限定されないが、例えば、シリアル通信、パルス幅変調、アナログ電圧などが挙げられる。

【0022】

磁気センサ２１は、互いに直交する三方向の基準方向に従って、磁界成分Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚを検出する。磁気センサ２１は、例えば、外形が略直方体状にモールドされた集積回路である。この例では、磁気センサ２１は、磁気センサ２１の長手方向で検出された磁界ベクトル成分を、磁界成分Ｂｘとして出力し、磁気センサ２１の短手方向で検出された磁界ベクトル成分を、磁界成分Ｂｙとして出力し、磁気センサ２１の高さ方向（厚さ方向）で検出された磁界ベクトル成分を、磁界成分Ｂｚとして出力する。

【0023】

磁気センサ２１の個数は、センサの冗長性を確保するため、一つに限られず、複数でもよい。この例では、２つの磁気センサ２１Ａ，２１Ｂが示されている。磁気センサ２１Ａ，２１Ｂは、いずれも、磁石１９の位置に応じて変化する空間座標データを出力する三次元磁気センサである。

【0024】

磁石ホルダ２０は、シフトレバー１１及びレバーホルダ１６と一体化された部分である。磁石ホルダ２０は、シフトレバー１１に対して直角になるようにレバーホルダ１６からＺ軸方向の正側に突出する。磁石ホルダ２０は、Ｚ軸方向の正側の先端部に配置された磁石１９を保持する。磁石１９は、非磁性体のクリップ２６によって、磁石ホルダ２０のＺ軸方向の正側の先端部に固定される。

【0025】

磁石１９は、Ｎ極とＳ極のうち、一方の磁極が磁気センサ２１と対向する第１主面に着磁され、他方の磁極が第１主面とは反対側の第２主面に着磁されている。あるいは、Ｎ極とＳ極が磁気センサ２１と対向するように着磁されていてもよい。この場合、極の境目においては急峻な磁束の変化となるため、この変化を考慮して検出ロジックを組む、または、磁力線の方向が同じ領域だけを使うなどの方法が考えられる。なお、磁石１９は円柱状の外形のものを用いているが、リング状、角状、球状等でもよい。

【0026】

判定回路２５（図３参照）は、磁気センサ２１から出力された空間座標データ（Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚ）に基づいて、シフトレバー１１の操作ポジションを判定する。判定回路２５は、公知の判定方法を用いて操作ポジションを判定してもよいし、後述の判定方法を用いて操作ポジションを判定してもよい。

【0027】

判定回路２５は、例えば、メモリ及びＣＰＵ（Central Processing Unit）等のプロセッサを有するマイクロコンピュータである。判定回路２５の機能は、メモリに記憶されたプログラムによってプロセッサが動作することにより実現される。判定回路２５の機能は、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）又はＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）によって実現されてもよい。

【0028】

図６は、シフトレバー１１をガイドするガイド溝１４を示す斜視図である。ガイド溝１４は、ベース１３のＹ軸方向の正側の表面に形成されている。ガイド溝１４は、上側（Ｙ軸方向の正側）へ開放する溝であり、Ｙ軸方向での平面視で略Ｈ形状に形成されている。具体的には、ガイド溝１４は、略Ｘ軸方向に延伸する第１シフト溝２２と、第１シフト溝２２のＺ軸方向の負側において略Ｘ軸方向に延伸する第２シフト溝２３と、略Ｚ軸方向に延伸するセレクト溝２４と、を有する。セレクト溝２４は、第１シフト溝２２及び第２シフト溝２３の各々のＸ軸方向中間部同士を接続する。第１シフト溝２２、第２シフト溝２３及びセレクト溝２４は、シフトレバー１１が揺動中心１７を支点としてセレクト方向又はシフト方向に揺動できるように、シフトレバー１１の下端部１５をガイドする。

【0029】

ガイド溝１４は、例えば、Ｒポジション（後退）、Ｄポジション（走行）、Ｈポジション（ホーム位置、中立位置）、Ｍポジション（手動操作位置）、＋ポジション（シフトアップ）、－ポジション（シフトダウン）のシフトポジションにシフトレバー１１の揺動範囲を規制するように、シフトレバー１１の下端部１５をガイドする。シフトレバー１１がＤ側操作ポジション（Ｒポジション、Ｄポジション、Ｈポジションなど）に操作されるときは、下端部１５は第１シフト溝２２に沿ってシフト方向に移動する。シフトレバー１１がＭ側操作ポジション（Ｍポジション、＋ポジション、－ポジションなど）に操作されるときは、下端部１５は第２シフト溝２３に沿ってシフト方向に移動する。シフトレバー１１がＤ側操作ポジションの配列とＭ側操作ポジションの配列との間で操作されるときは、下端部１５はセレクト溝２４に沿ってセレクト方向に移動する。

【0030】

図７は、磁気センサ２１とシフトレバー１１の位置関係をＹ軸方向での平面視で模式的に示す図である。図８は、シフトレバーのセレクト方向の操作をＸ軸方向での側面視で模式的に示す図である。

【0031】

Ｄ側操作ポジションの配列に沿った第１シフト方向（以下、"Ｄ側シフト方向"ともいう）へのシフトレバー１１の操作に伴って、磁石１９は、ＸＹ平面に平行な第１仮想平面ｐ１に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する。例えば、シフトレバー１１がＤ側シフト方向に移動するとき、シフトレバー１１は、揺動中心１７を通るＸＹ平面に沿って、揺動中心１７を支点に揺動（回転移動）する。シフトレバー１１がこのように回転移動すると、磁石１９は、第１仮想平面ｐ１に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する。Ｄ側シフト方向は、シフトレバー１１の第１操作方向の一例である。

【0032】

Ｍ側操作ポジションの配列に沿った第２シフト方向（以下、"Ｍ側シフト方向"ともいう）へのシフトレバー１１の操作に伴って、磁石１９は、第１仮想平面ｐ１とは異なる第２仮想平面ｐ２に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する。第２仮想平面ｐ２は、この例では、第１仮想平面ｐ１に対して傾斜（交差）する。例えば、シフトレバー１１がＭ側シフト方向に移動するとき、シフトレバー１１は、揺動中心１７を通るＸＹ平面に対してＺ軸方向の正側に傾いた状態で、揺動中心１７を支点に揺動（回転移動）する。シフトレバー１１がこのように回転移動すると、磁石１９は、第２仮想平面ｐ２に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する。Ｍ側シフト方向は、シフトレバー１１の第２操作方向の一例である。

【0033】

シフトレバー１１がＭ側操作ポジションの配列からＤ側操作ポジションの配列へ又はＤ側操作ポジションの配列からＭ側操作ポジションの配列へセレクト方向に移動するとき、シフトレバー１１は、揺動中心１７を通るＺＹ平面に沿って、揺動中心１７を支点に揺動（回転移動）する。シフトレバー１１がこのように回転移動すると、磁石１９は、揺動中心１７を通るＺＹ平面に沿って、曲線状の軌跡で移動する。セレクト方向は、シフトレバー１１の第３操作方向の一例である。

【0034】

この例では、磁気センサ２１からセレクト方向の操作前に第１仮想平面ｐ１に沿って位置する磁石１９までの距離のＺ軸方向成分の長さは、磁気センサ２１からセレクト方向の操作後に第２仮想平面ｐ２に沿って位置する磁石１９までの距離のＺ軸方向成分の長さよりも短い。

【0035】

シフトレバー１１のＤ側シフト方向への操作に伴って、磁石１９が第１仮想平面ｐ１に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動すると、磁気センサ２１によって検出される磁界ベクトルが変化する。磁気センサ２１は、第１仮想平面ｐ１に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する磁石１９の位置に対応する第１空間座標データ（Ｂｘ１，Ｂｙ１，Ｂｚ１）を出力する。判定回路２５は、Ｄ側操作ポジション（Ｒポジション、Ｄポジション、Ｈポジションなど）のうち、磁気センサ２１から取得した第１空間座標データ（Ｂｘ１，Ｂｙ１，Ｂｚ１）に対応する操作ポジションを特定（判定）する。

【0036】

シフトレバー１１のＭ側シフト方向への操作に伴って、磁石１９が第２仮想平面ｐ２に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動すると、磁気センサ２１によって検出される磁界ベクトルが変化する。磁気センサ２１は、第２仮想平面ｐ２に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する磁石１９の位置に対応する第２空間座標データ（Ｂｘ２，Ｂｙ２，Ｂｚ２）を出力する。判定回路２５は、Ｍ側操作ポジション（Ｍポジション、＋ポジション、－ポジションなど）のうち、磁気センサ２１から取得した第２空間座標データ（Ｂｘ２，Ｂｙ２，Ｂｚ２）に対応する操作ポジションを特定（判定）する。

【0037】

図９は、三次元の空間座標データを二次元の座標データに変換する方法を説明するための図である。判定回路２５は、磁気センサ２１から出力された三次元の空間座標データＢ（Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚ）を、第１角度データαと第２角度データβで決まる二次元の第１座標データ（α，β）に変換する。

【0038】

第１角度データαは、ＺＸ直交座標系におけるＺＸ座標（Ｂｚ，Ｂｘ）の偏角である。第１角度データαは、ＺＸ直交座標系の原点ＯからＺ軸の正側に延びる半直線と、ＺＸ直交座標系の原点ＯからＺＸ座標（Ｂｚ，Ｂｘ）に延びる半直線（二次元ベクトル）との間の角度を表す。第１角度データαは、
α＝atan2（Ｂｚ，Ｂｘ） ・・・式１
という関係式が成立する。"atan2"は、二つの引数を取るアークタンジェント関数である。判定回路２５は、例えば、磁気センサ２１により検出されたＺ軸方向の磁界成分Ｂｚ及びＸ軸方向の磁界成分Ｂｘに基づいて、式１により第１角度データαを算出する。

【0039】

第２角度データβは、ＺＹ直交座標系におけるＺＹ座標（Ｂｚ，Ｂｙ）の偏角である。つまり、第２角度データβは、ＺＹ直交座標系の原点ＯからＺ軸の正側に延びる半直線と、ＺＹ直交座標系の原点ＯからＺＹ座標（Ｂｚ，Ｂｙ）に延びる半直線（二次元ベクトル）との間の角度を表す。第２角度データβは、
β＝atan2（Ｂｚ，Ｂｙ） ・・・式２
という関係式が成立する。判定回路２５は、例えば、磁気センサ２１により検出されたＺ軸方向の磁界成分Ｂｚ及びＹ軸方向の磁界成分Ｂｙに基づいて、式２により第２角度データβを算出する。

【0040】

第１角度データαと第２角度データβで決まる二次元の第１座標データ（α，β）は、磁石１９の位置に対応した座標データであり、シフトレバー１１の操作ポジションに対応した座標データである。したがって、判定回路２５は、複数の操作ポジションのうち、第１角度データαと第２角度データβで決まる二次元の第１座標データ（α，β）に対応する操作ポジションを判定（特定）できる。

【0041】

しかしながら、磁気センサ２１の配置形態によっては、操作ポジションの判定精度が低下することがある。

【0042】

図１０は、ＸＹ平面及びＺＹ平面に沿って曲線状の軌跡で移動する磁石１９と、Ｚ軸方向での正面視でＸ軸方向に沿って配置された磁気センサ２１（２１Ａ，２１Ｂ）との第１配置形態を示す図である。磁気センサ２１（２１Ａ，２１Ｂ）は、磁界成分Ｂｘの検出基準方向がＸ軸方向に平行になるように配置されている。Ｚ軸方向での正面視において、磁石１９は、ＸＹ平面（第１仮想平面ｐ１）に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡ｔ１（Ｙ軸方向に僅かに湾曲した軌跡）で移動するので、磁石１９がＹ軸方向に移動する範囲は、磁石１９がＸ軸方向に移動する範囲に比べて狭い。そのため、Ｚ軸方向での正面視で磁気センサ２１がＸ軸方向に沿って配置された図１０の形態では、磁石１９が軌跡ｔ１で移動するとき、第１角度データαが変動する範囲は、比較的広いのに対し、第２角度データβが変動する範囲は、狭い（図１１参照）。

【0043】

図１１は、図１０の第１配置形態において、磁気センサ２１から出力された三次元の空間座標データＢ（Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚ）の角度変換により得られた二次元の第１座標データ（α，β）の軌跡を示す図である。図１１に示す軌跡上のプロット点は、各操作ポジションに対応する。図１１に示すように、Ｄ側シフト方向で操作ポジションが変わる場合も、Ｍ側シフト方向で操作ポジションが変わる場合も、第２角度データβの変化幅は、第１角度データαの変化幅よりも狭い。そのため、図１０の第１配置形態では、判定回路２５が第１座標データ（α，β）に基づいてシフトレバー１１の操作ポジションを判定する精度は、低下することがある。

【0044】

図１２は、ＸＹ平面及びＺＹ平面に沿って曲線状の軌跡で移動する磁石１９と、Ｚ軸方向での正面視でＸ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置された磁気センサ２１（２１Ａ，２１Ｂ）との第２配置形態を示す図である。磁気センサ２１（２１Ａ，２１Ｂ）は、磁界成分Ｂｘの検出基準方向がＸ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置されている。Ｚ軸方向での正面視において、磁石１９は、ＸＹ平面（第１仮想平面ｐ１）に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡ｔ１（Ｙ軸方向に僅かに湾曲した軌跡）で移動するので、磁石１９がＹ軸方向に移動する範囲は、磁石１９がＸ軸方向に移動する範囲に比べて狭い。しかしながら、Ｚ軸方向での正面視で磁気センサ２１がＸ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置された図１２の形態では、磁石１９が軌跡ｔ１で移動するとき、第１角度データαが変動する範囲も、第２角度データβが変動する範囲も、比較的広い（図１３参照）。

【0045】

図１３は、図１２の第２配置形態において、磁気センサ２１から出力された三次元の空間座標データＢ（Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚ）の角度変換により得られた二次元の第１座標データ（α，β）の軌跡を示す図である。図１３に示す軌跡上のプロット点は、各操作ポジションに対応する。図１３に示すように、Ｄ側シフト方向で操作ポジションが変わる場合も、Ｍ側シフト方向で操作ポジションが変わる場合も、第１角度データαの変化幅及び第２角度データβの変化幅は、広い。そのため、図１２の第２配置形態では、判定回路２５は、第１座標データ（α，β）に対応する操作ポジションを高精度に判定できる。例えば、シフトレバー１１の操作ポジションを実際の操作ポジションに隣接する操作ポジションと誤判定する可能性は低減し、操作ポジションを判定精度の低下が抑制される。

【0046】

図１４は、ＸＹ平面及びＺＹ平面に沿って曲線状の軌跡で移動する磁石１９と、Ｚ軸方向での正面視でＸ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置された磁気センサ２１（２１Ａ，２１Ｂ）との第３配置形態を示す図である。磁気センサ２１（２１Ａ，２１Ｂ）は、磁界成分Ｂｘの検出基準方向がＸ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置されている。Ｚ軸方向での正面視において、磁石１９は、ＸＹ平面（第１仮想平面ｐ１）に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡ｔ１（Ｙ軸方向に僅かに湾曲した軌跡）で移動するので、磁石１９がＹ軸方向に移動する範囲は、磁石１９がＸ軸方向に移動する範囲に比べて狭い。しかしながら、Ｚ軸方向での正面視で磁気センサ２１がＸ軸方向及びＹ軸方向に対して傾けて配置された図１４の形態では、磁石１９が軌跡ｔ１で移動するとき、第１角度データαが変動する範囲も、第２角度データβが変動する範囲も、比較的広い（図１５参照）。

【0047】

図１５は、図１４の第３配置形態において、磁気センサ２１から出力された三次元の空間座標データＢ（Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚ）の角度変換により得られた二次元の第１座標データ（α，β）の軌跡を示す図である。図１５に示す軌跡上のプロット点は、各操作ポジションに対応する。図１５に示すように、Ｄ側シフト方向で操作ポジションが変わる場合も、Ｍ側シフト方向で操作ポジションが変わる場合も、第１角度データαの変化幅及び第２角度データβの変化幅は、広い。そのため、図１４の第３配置形態では、判定回路２５は、第１座標データ（α，β）に対応する操作ポジションを高精度に判定できる。例えば、シフトレバー１１の操作ポジションを実際の操作ポジションに隣接する操作ポジションと誤判定する可能性は低減し、操作ポジションを判定精度の低下が抑制される。

【0048】

第１座標データ（α，β）に基づく操作ポジションの判定の精度低下を抑制する点で、図１２，１４に示すように、磁気センサ２１は、Ｚ軸方向での正面視で、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに対して１０°以上傾けて配置されているのが好ましい。磁気センサ２１は、Ｚ軸方向での正面視で、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに対して２０°以上傾けて配置されているのがより好ましく、３０°以上傾けて配置されているのがさらに好ましい。図１２，１４では、磁気センサ２１は、Ｚ軸方向での正面視で、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに対して４５°傾けて配置されている。

【0049】

図１２，１４では、磁気センサ２１は、シフトレバー１１が上記のような所定の操作ポジションにあるとき、Ｚ軸方向での正面視で、磁石１９と少なくとも一部が重なるように配置されている。これにより、磁気センサ２１は、磁束密度が比較的高い領域に配置されるので、磁石１９の磁界ベクトルの検出精度が向上する。よって、判定回路２５は、磁気センサ２１により得られた第１座標データ（α，β）に基づいて、シフトレバー１１の操作ポジションを高精度に判定できる。

【0050】

図１２，１４では、磁気センサ２１は、Ｚ軸方向での正面視で、磁気センサ２１の外形が磁石１９からはみ出ないように配置されている。これにより、磁気センサ２１は、磁束密度がより高い領域に配置されるので、磁石１９の磁界ベクトルの検出精度が向上する。よって、判定回路２５は、磁気センサ２１により得られた第１座標データ（α，β）に基づいて、シフトレバー１１の操作ポジションをより高精度に判定できる。

【0051】

図１２，１４では、複数の磁気センサ２１Ａ，２１Ｂは、Ｚ軸方向での正面視で、複数の磁気センサ２１Ａ，２１Ｂの外形が磁石１９からはみ出ないように配置されている。これにより、磁気センサ２１Ａも磁気センサ２１Ｂも、磁束密度がより高い領域に配置されるので、磁石１９の磁界ベクトルの検出精度が向上する。よって、判定回路２５は、磁気センサ２１により得られた第１座標データ（α，β）に基づいて、シフトレバー１１の操作ポジションをより高精度に判定できる。

【0052】

図１３，１５に示すように、Ｄ側操作ポジションを表すプロット点が変動する範囲は、Ｍ側操作ポジションを表すプロット点が変動する範囲よりも広い。つまり、磁石１９が第１仮想平面ｐ１に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する第１範囲が、磁石１９が第２仮想平面ｐ２に沿ってＸ軸方向に略平行な軌跡で移動する第２範囲よりも広い場合がある。第１範囲は、シフトレバー１１のセレクト方向（第３操作方向の一例）への操作前に磁石１９が移動する範囲の一例であり、図１２～図１５に示す例では、シフトレバー１１がＤ側シフト方向に移動するときに磁石１９が移動する範囲に相当する。第２範囲は、シフトレバー１１のセレクト方向への操作後に磁石１９が移動する範囲の一例であり、図１２～図１５に示す例では、シフトレバー１１がＭ側シフト方向に移動するときに磁石１９が移動する範囲に相当する。

【0053】

図１４に示す例では、Ｚ軸方向での正面視で、Ｄ側の第１仮想平面ｐ１に沿って位置する磁石１９の中心１９ｄから、磁気センサ２１までの最短距離ｄ１は、Ｍ側の第２仮想平面ｐ２に沿って位置する磁石１９の中心１９ｍから、磁気センサ２１までの最短距離ｄ２に比べて長い。最短距離ｄ１が最短距離ｄ２に比べて長いと、図１５に示すように、Ｄ側操作ポジションを表す複数のプロット点の軌跡の湾曲が大きくなり、Ｄ側操作ポジションの判定精度が低下することがある。例えば、湾曲した軌跡は、一次直線で近似することが難しいので、後述の判定方法のように、直線近似を利用して操作ポジションを判定する方法では、Ｄ側操作ポジションの判定精度が低下することがある。

【0054】

これに対し、図１２に示す例では、Ｚ軸方向での正面視で、Ｄ側の第１仮想平面ｐ１に沿って位置する磁石１９の中心１９ｄから、磁気センサ２１までの最短距離ｄ１は、Ｍ側の第２仮想平面ｐ２に沿って位置する磁石１９の中心１９ｍから、磁気センサ２１までの最短距離ｄ２に比べて短い。最短距離ｄ１が最短距離ｄ２に比べて短いと、図１３に示すように、Ｍ側操作ポジションを表す複数のプロット点の軌跡は直線に近づき、Ｄ側操作ポジションを表す複数のプロット点の軌跡も直線に近づく。これにより、後述の判定方法のように、直線近似を利用して操作ポジションを判定すると、Ｄ側操作ポジション及びＭ側操作ポジションの判定精度の低下を抑えることができる。図１２に示す例では、磁気センサ２１（２１Ａ，２１Ｂ）は、Ｚ軸方向での正面視で、Ｄ側の第１仮想平面ｐ１に沿って位置する磁石１９から磁気センサ２１（２１Ａ，２１Ｂ）の外形がはみ出ないように配置されている。これにより、磁気センサ２１は、磁束密度がより高い領域に配置されるので、磁石１９の磁界ベクトルの検出精度が向上し、Ｄ側操作ポジション及びＭ側操作ポジションの判定精度の低下をより抑えることができる。

【0055】

次に、図１６～図１８を参照して、直線近似を利用して操作ポジションを判定する方法の好適な例について説明する。

【0056】

＜ステップＳ１０（第１座標データ（α，β）の算出）＞
図１６において、判定回路２５は、磁気センサ２１から出力された三次元の空間座標データＢ（Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚ）を、第１角度データαと第２角度データβで決まる二次元の第１座標データ（α，β）に変換する。判定回路２５は、上記の式１及び式２を用いて、第１角度データαと第２角度データβを算出し、操作ポジションの位置を二次元データで表す第１座標データ（α，β）を導出する。

【0057】

上述の通り、図１２に示すような配置形態では、Ｄ側操作ポジションを表す複数のプロット点の軌跡も、Ｍ側操作ポジションを表す複数のプロット点の軌跡も、直線に近づく。図１６に示す例では、シフトレバー１１をＤ側シフト方向に操作すると、第１座標データ（α，β）は、一次の近似直線Ｌ１に沿って遷移し、シフトレバー１１をＭ側シフト方向に操作すると、第１座標データ（α，β）は、一次の近似直線Ｌ２に沿って遷移する。

【0058】

＜ステップＳ２０（Ｄ側とＭ側の判別）＞
判定回路２５は、αβ直交座標系で第１座標データ（α，β）が位置する領域に応じて、シフトレバー１１の操作ポジションがＤ側シフト方向の操作ポジション（Ｄ側操作ポジション）なのかＭ側シフト方向の操作ポジション（Ｍ側操作ポジション）なのかを判別する。例えば、判定回路２５は、ステップＳ１０で導出した第１座標データ（α，β）を所定の中間線Ｌ３（図１６参照）と比較することで、シフトレバー１１の操作ポジションが、Ｄ側操作ポジションなのかＭ側操作ポジションなのかを判別する。

【0059】

中間線Ｌ３は、二次元直交座標系を区画する閾値線の一例であり、この例では、傾きＡｊで切片Ｂｊの一次直線である。中間線Ｌ３を決める二つの係数Ａｊ，Ｂｊは、事前のキャリブレーションにより予め導出される値である。中間線Ｌ３（係数Ａｊ，Ｂｊ）の導出のための事前キャリブレーションについては後述する。

【0060】

判定回路２５は、ステップＳ１０で導出した第１座標データ（α，β）が、中間線Ｌ３に対して、Ｄ側操作ポジションが分布する領域（Ｄ側領域）にあるのか、Ｍ側操作ポジションが分布する領域（Ｍ側領域）にあるのかを判別する。図１６に示す例では、判定回路２５は、ステップＳ１０で導出した第１座標データ（α，β）に関して、「β－（Ａｊ×α＋Ｂｊ）」が正の値の場合、シフトレバー１１の現在の操作ポジションはＤ側操作ポジションと判定する。一方、判定回路２５は、ステップＳ１０で導出した第１座標データ（α，β）に関して、「β－（Ａｊ×α＋Ｂｊ）」が負の値の場合、シフトレバー１１の現在の操作ポジションはＭ側操作ポジションと判定する。

【0061】

＜ステップＳ３０（キャリブレーション値の参照）＞
判定回路２５は、ステップＳ１０で導出した第１座標データ（α，β）を、αβ二次元直交座標系の四象限のうち一の象限上の第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）に変換するためのキャリブレーション値を読み込む。図１７は、第１座標データ（α，β）が、ステップＳ３０で読み込んだキャリブレーション値によって、第一象限上の第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）に変換される場合を例示する。他の変換例として、第１座標データ（α，β）は、第二象限、第三象限及び第四象限のうちの一の象限上の第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）に変換されてもよい。

【0062】

判定回路２５は、ステップＳ２０でＤ側操作ポジションと判定された場合、Ｄ側操作ポジションのキャリブレーション用の第１キャリブレーション値を読み込む。一方、判定回路２５は、ステップＳ２０でＭ側操作ポジションと判定された場合、Ｍ側操作ポジションのキャリブレーション用の第２キャリブレーション値を読み込む。

【0063】

＜ステップＳ４０（キャリブレーション値による補正）＞
判定回路２５は、ステップＳ３０で読み込んだキャリブレーション値ａ,ｂ,ｋにより、ステップＳ１０で導出した第１角度データα及び第２角度データβを下記の補正式ｃ１，ｃ２で補正することで、第１座標データ（α，β）を第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）に変換する。

【0064】

α_Ｃ＝α＋ｋ ・・・式ｃ１
β_Ｃ＝β／ａ－ｂ／ａ＋ｋ ・・・式ｃ２
補正式ｃ１，ｃ２は、図１７に示すように、αβ二次元直交座標系の一次の近似直線Ｌに沿って位置する複数の第１座標データ（α，β）を、原点Ｏを通り傾きが１の一次の近似直線Ｌ_Ｃに沿って第一象限に位置する複数の第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）に変換するための補正式である。

【0065】

＜ステップＳ５０（一次元データ（原点Ｏからの距離）への変換）＞
判定回路２５は、αβ二次元直交座標系の原点Ｏから、ステップＳ４０で得られた第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）までの距離（＝√（α_Ｃ ^２＋β_Ｃ ^２））を算出することで、第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）を一次元の距離データｒに変換する。

【0066】

＜ステップＳ６０（操作ポジションの判定）＞
距離データｒは、磁石１９の位置に対応した一次元データであり、シフトレバー１１の操作ポジションに対応した一次元データであるので、判定回路２５は、複数の操作ポジションのうち、ステップＳ５０で導出された距離データｒに対応する操作ポジションを特定できる。このように、判定回路２５は、ステップＳ５０で導出された距離データｒに応じて、シフトレバー１１の操作ポジションを特定（判定）する。

【0067】

図１８は、一次元の距離データｒに応じて操作ポジションを判定する方法を説明するための図である。図１８は、Ｍポジション、＋ポジション及び－ポジションの３つのＭ側操作ポジションの中から、シフトレバー１１の現在の操作ポジションを特定する場合を例示する。判定回路２５は、ステップＳ５０で導出された距離データｒの大小に応じて、シフトレバー１１の操作ポジションが、３つのＭ側操作ポジションのうちのどの操作ポジションなのかを判別する。例えば、判定回路２５は、ステップＳ５０で導出された距離データｒを複数の異なる判定閾値と比較することで、シフトレバー１１の操作ポジションが、３つのＭ側操作ポジションのうちのどの操作ポジションなのかを判別する。

【0068】

複数の異なる判定閾値は、予め決められた値である。第１の座標データ（α，β）から第２の座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）に変換するためのキャリブレーション値が変わると、複数の異なる判定閾値も変わる。そのため、複数の異なる判定閾値は、キャリブレーション値が導出された以後に決められる。

【0069】

図１８に示す例では、例えば、判定回路２５は、距離データｒが第１判定閾値未満の場合、＋ポジションと判定し、距離データｒが第１判定閾値以上第２判定閾値未満の場合、Ｍポジションと判定し、距離データｒが第２判定閾値以上の場合、－ポジションと判定する。同様に、判定回路２５は、Ｄ側操作ポジションを判定する。

【0070】

判定回路２５は、Ｄ側シフト方向への操作のときの距離データｒを、Ｄ側シフト方向への操作のときの操作ポジション（Ｄ側操作ポジション）の判定用の第１閾値（例えば、上述の第１判定閾値及び第２判定閾値）と比較する。判定回路２５は、Ｄ側シフト方向への操作のときの距離データｒを第１閾値と比較することで、Ｄ側操作ポジションを特定する。一方、Ｍ側シフト方向への操作のときの距離データｒを、Ｍ側シフト方向への操作のときの操作ポジション（Ｍ側操作ポジション）の判定用の第２閾値（例えば、上述の第１判定閾値及び第２判定閾値）と比較する。判定回路２５は、Ｍ側シフト方向への操作のときの距離データｒを第２閾値と比較することで、Ｍ側操作ポジションを特定する。

【0071】

このように、本実施形態では、三次元の空間座標データを最終的に一次元の距離データに変換することで、操作ポジションの判定閾値の設定が容易になる。これにより、キャリブレーション値を判定閾値に反映させることも容易になる。また、操作ポジションの判定アルゴリズムをシンプルに構築できる。

【0072】

なお、原点Ｏは、αβ二次元直交座標系の基準点の一例である。判定回路２５は、原点Ｏからの距離データｒに応じて操作ポジションを判定しているが、原点Ｏの近傍点（基準点の他の一例）からの距離データｒに応じて操作ポジションを判定してもよい。

【0073】

次に、事前キャリブレーションについて説明する。事前キャリブレーションは、個々のシフト装置で行われることが好ましいが、一部のシフト装置で行われた事前キャリブレーションの結果が他のシフト装置に反映されてもよい。

【0074】

判定回路２５は、全ての操作ポジションの空間座標データ（Ｂｘ，Ｂｙ，Ｂｚ）を磁気センサ２１から取得し、複数のＤ側操作ポジションの第１座標データ（α，β）と、複数のＭ側操作ポジションの第１座標データ（α，β）とを導出する。判定回路２５は、複数のＤ側操作ポジションの第１座標データ（α，β）の軌跡を直線近似することで近似直線Ｌ１を導出し、複数のＭ側操作ポジションの第１座標データ（α，β）の軌跡を直線近似することで近似直線Ｌ２を導出する。判定回路２５は、所定のαβ平面内において、近似直線Ｌ１と近似直線Ｌ２との間に挟まれる直線を中間線Ｌ３として設定する。判定回路２５は、所定のαβ平面内において、中間線Ｌ３が近似直線Ｌ１と近似直線Ｌ２との間に挟まれる線分となるように、中間線Ｌ３を特定する二つの係数Ａｊ，Ｂｊを決定する。

【0075】

一方、判定回路２５は、複数のＤ側操作ポジションの第１座標データ（α，β）の軌跡を直線近似することで、近似直線Ｌ１の傾きａ及び切片ｂを導出する。そして、判定回路２５は、近似直線Ｌ１に沿って位置する複数の第１座標データ（α，β）を、一次の第１近似直線Ｌ_Ｃ１に沿って第一象限に位置する複数の第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）に変換するための第１キャリブレーション値ａ,ｂ,ｋを導出する。一次の第１近似直線Ｌ_Ｃ１は、原点Ｏを通り、傾きが１の線分である。ｋは、複数の第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）が第一象限に存在するように補正するためのキャリブレーション値である。Ｄ側操作ポジションのキャリブレーション用の上記の補正式ｃ１，ｃ２は、第１キャリブレーション値ａ,ｂ,ｋによって定義される。

【0076】

同様に、判定回路２５は、複数のＭ側操作ポジションの第１座標データ（α，β）の軌跡を直線近似することで、近似直線Ｌ２の傾きａ及び切片ｂを導出する。そして、判定回路２５は、近似直線Ｌ２に沿って位置する複数の第１座標データ（α，β）を、一次の第２近似直線Ｌ_Ｃ２に沿って第一象限に位置する複数の第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）に変換するための第２キャリブレーション値ａ,ｂ,ｋを導出する。一次の第２近似直線Ｌ_Ｃ２は、原点Ｏを通り、傾きが１の線分である。ｋは、複数の第２座標データ（α_Ｃ，β_Ｃ）が第一象限に存在するように補正するためのキャリブレーション値である。Ｍ側操作ポジションのキャリブレーション用の上記の補正式ｃ１，ｃ２は、第２キャリブレーション値ａ,ｂ,ｋによって定義される。

【0077】

以上、実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。他の実施形態の一部又は全部との組み合わせや置換などの種々の変形及び改良が可能である。

【0078】

例えば、シフト装置は、変速機用に限られず、ターンシグナルスイッチ装置やワイパースイッチ装置などのコンビネーションスイッチ装置に適用されてもよい。

【0079】

また、磁気センサは、ホール素子を利用するセンサに限られず、磁気抵抗素子などの他の素子を利用するセンサでもよい。

【0080】

また、Ｘ軸の"Ｘ"、Ｙ軸の"Ｙ"、Ｚ軸の"Ｚ"は、互いに直交する３軸を区別するための単なるラベルである。シフトレバーの第１操作方向又は第２操作方向への操作に伴って磁石が移動する方向に略平行な方向を、Ｘ軸方向と定義したにすぎず、シフトレバーの第１操作方向又は第２操作方向への操作に伴って磁石が移動する方向に略平行な平面をＸＹ平面と定義したにすぎず、そのＸＹ平面に垂直な方向をＺ軸方向と定義したにすぎない。

【符号の説明】

【0081】

１ シフト装置
１０ 筐体
１１ シフトレバー
１２ ハーネス
１３ ベース
１４ ガイド溝
１５ 下端部
１６ レバーホルダ
１７ 揺動中心
１８ 回路基板
１９ 磁石
２０ 磁石ホルダ
２１，２１Ａ，２１Ｂ 磁気センサ
２２ 第１シフト溝
２３ 第２シフト溝
２４ セレクト溝
２５ 判定回路
２６ クリップ
ｐ１ 第１仮想平面
ｐ２ 第２仮想平面

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】