特許 7590412 光学用スチレン系樹脂組成物、導光板及びエッジライト型面光源ユニット

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-18

(45)【発行日】2024-11-26

(54)【発明の名称】光学用スチレン系樹脂組成物、導光板及びエッジライト型面光源ユニット

(51)【国際特許分類】

   C08L 25/14 20060101AFI20241119BHJP

   C08K 5/13 20060101ALI20241119BHJP

   C08K 5/51 20060101ALI20241119BHJP

   G02B 1/04 20060101ALI20241119BHJP

   F21S 2/00 20160101ALI20241119BHJP

【ＦＩ】

C08L25/14

C08K5/13

C08K5/51

G02B1/04

F21S2/00 412

【請求項の数】 12

(21)【出願番号】P 2022511521

(86)(22)【出願日】2020-12-04

(86)【国際出願番号】 JP2020045195

(87)【国際公開番号】W WO2021199501

(87)【国際公開日】2021-10-07

【審査請求日】2023-05-19

(31)【優先権主張番号】P 2020065885

(32)【優先日】2020-04-01

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000003296

【氏名又は名称】デンカ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001139

【氏名又は名称】ＳＫ弁理士法人

(74)【代理人】

【識別番号】100130328

【弁理士】

【氏名又は名称】奥野 彰彦

(74)【代理人】

【識別番号】100130672

【弁理士】

【氏名又は名称】伊藤 寛之

(72)【発明者】

【氏名】山口 泰生

【審査官】小森 勇

(56)【参考文献】

【文献】国際公開第２０１６／１２９６７５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２００６－０４５３６８（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１７／０９４７４８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１４／０１０１３７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１３－１５４５４６（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１０／０７１１５２（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０８Ｌ ２５／００－２５／１８

Ｃ０８Ｋ ５／１３

Ｃ０８Ｋ ５／５１

Ｇ０２Ｂ １／０４

Ｆ２１Ｓ ２／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

スチレン系単量体単位５１～８５質量％と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位１５～４９質量％を含む共重合体であるスチレン系樹脂（Ａ）と、酸化防止剤（Ｂ）を含有する光学用スチレン系樹脂組成物であって、
前記酸化防止剤（Ｂ）は、リン系酸化防止剤（Ｂ－１）、フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）、及びリン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）のうち少なくとも１種を含み、
前記スチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、
前記リン系酸化防止剤（Ｂ－１）と前記リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）を合計で０．１～０．５質量部、
前記フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）と前記リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）を合計で０．０１～０．５質量部、
含有する、
光学用スチレン系樹脂組成物（但し、前記スチレン系樹脂（Ａ）が不飽和ジカルボン酸無水物系単量体単位１０質量％以上を含むもの、及び、下記一般式（Ｉ）で示される単位と下記一般式（ＩＩ）で示される単位からなり、数平均分子量が１×１０ ^３ 以上５×１０ ^６ 以下であるＮ－フェニル置換マレイミド・オレフィン共重合体を、前記スチレン系樹脂（Ａ）と前記Ｎ－フェニル置換マレイミド・オレフィン共重合体の合計量を１００質量部としたときに、３０～９５質量部含むものを除く）。

【化1】

（ここで、Ｒ１はフェニル基、ナフチル基、ハロゲン系元素，カルボン酸，カルボン酸エ
ステル，水酸基，シアノ基，ニトロ基，炭素数１～８の直鎖状アルキル基，炭素数１～８
の分岐状アルキル基により置換されたフェニル基又はナフチル基を示す。）

【化2】

（ここで、Ｒ２、Ｒ３は各々独立して水素又は炭素数１～６のアルキル基を示す。）

【請求項2】

スチレン系単量体単位５１～８５質量％と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位１５～４９質量％を含む共重合体であるスチレン系樹脂（Ａ）と、酸化防止剤（Ｂ）を含有する光学用スチレン系樹脂組成物であって、
前記酸化防止剤（Ｂ）は、リン系酸化防止剤（Ｂ－１）、フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）、及びリン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）のうち少なくとも１種を含み、
前記スチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、
前記リン系酸化防止剤（Ｂ－１）と前記リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）を合計で０．１～０．５質量部、
前記フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）と前記リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）を合計で０．０１～０．５質量部、
含有し、
ＪＩＳ Ｋ ７２０６に従って、昇温速度５０℃／ｈｒ、試験荷重５０Ｎで測定されるビカット軟化温度が９５～１０４℃である、光学用スチレン系樹脂組成物（但し、前記スチレン系樹脂（Ａ）が不飽和ジカルボン酸無水物系単量体単位１０質量％以上を含むものを除く）。

【請求項3】

前記リン系酸化防止剤（Ｂ－１）は、２，２'－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－１－フェニルオキシ）（２－エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フォスファイト、３，９－ビス（２，６－ジ―ｔｅｒｔ－ブチル―４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ―３，９－ジホスファスピロ〔５，５〕ウンデカン、テトラキス（２，４－ジ―ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）〔１，１ビフェニル〕―４，４ジイルビスホスホナイト、ビス（２，４－ジ―ｔｅｒｔ－ブチル―６－メチルフェニル）エチル亜リン酸エステルから選ばれる少なくとも１種である、請求項１又は請求項２に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。

【請求項4】

前記フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）は、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチレンビス（オキシエチレン）ビス〔３－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ｍ－トリル）プロピオネート〕、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル―４－ヒドロキシ―５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンから選ばれる少なくとも１種である、請求項１～請求項３の何れか１項に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。

【請求項5】

前記リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）は、６－［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピンである、請求項１～請求項４の何れか１項に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。

【請求項6】

前記光学用スチレン系樹脂組成物は、６－ｔｅｒｔ－ブチル―２，４－キシレノールを０．１～２０ｐｐｍ含む、請求項１～請求項５の何れか１項に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。

【請求項7】

前記光学用スチレン系樹脂組成物は、硫黄分を０．１～５００ｐｐｍ含む、請求項１～請求項６の何れか１項に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。

【請求項8】

前記スチレン系樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５万～４０万であり、
前記スチレン系樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．０～３．０である、
請求項１～請求項７の何れか１項に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。

【請求項9】

初期の光路長１１５ｍｍでの波長３８０～７８０ｎｍの平均透過率が８５％以上である、請求項１～請求項８の何れか１項に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。

【請求項10】

請求項１～請求項９の何れか１項に記載の光学用スチレン系樹脂組成物を成形してなる導光板。

【請求項11】

厚みが１．０～３．０ｍｍである、請求項１０に記載の導光板。

【請求項12】

請求項１０又は請求項１１に記載の導光板と、該導光板の端面に光を供給する光源を有する、エッジライト型面光源ユニット。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光学用スチレン系樹脂組成物、導光板及びエッジライト型面光源ユニットに関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示装置のバックライトには、光源を表示装置の背面に配置する直下型と側面に配置するエッジライト型がある。エッジライト型バックライトには、側面に配置された光源の光を表示装置の全面に導く導光板と呼ばれる部品が使用され、テレビ、デスクトップ型パーソナルコンピューターのモニター、ノート型パーソナルコンピューター、携帯電話機、カーナビゲーション用モニター等幅広い用途で使用されている。また、導光板を用いたバックライトは、照明装置や看板等としても使用される。

【0003】

導光板は、光透過距離が比較的長く、光路長での光損失が大きいため、特に高い光線透過率を有することが求められる。このため、導光板の材料は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に代表されるアクリル系樹脂が使用されている。しかしながら、ＰＭＭＡは吸水性が高いため、吸水により導光板の反りや寸法変化が生じる場合がある。また、成形時に熱分解しやすいため、高温で成形すると成形体に外観不良が生じやすいという問題がある。これらの問題を改善するため、スチレン－（メタ）アクリル酸メチル共重合体を導光板の材料として用いることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
一方、スチレン系単量体を原料とするスチレン系樹脂は、低吸水性には優れるが、温度や湿度などの環境変化により成形品が白濁する問題がある。具体的には、高温高湿環境下から室温環境下や室温環境下から低温環境に成形品が曝された場合、成形品内に均一に存在する水分が不安定となって相分離することで、成形品内に微小な欠陥が生じ、その結果、白濁が生じる。この問題を解決するため、スチレン系単量体と少量の（メタ）アクリル酸エステル系単量体を共重合したスチレン系樹脂からなる板状成形品が提案されている（特許文献２参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２００３－０７５６４８号公報

【文献】特開２０１３－１７０１８６号広報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、導光板を構成する光学用スチレン系樹脂組成物が、透明性、色相、色相安定性、押出安定性、寸法安定性、耐湿熱白化性及び強度を同時に満たすことは難しかった。

【0006】

本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり、色相、色相安定性、押出安定性、寸法安定性、耐湿熱白化性及び強度を同時に満たす導光板用スチレン系樹脂組成物を提供するものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明によれば、スチレン系単量体単位５１～９９質量％と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位１～４９質量％を含む共重合体であるスチレン系樹脂（Ａ）と、酸化防止剤（Ｂ）を含有する光学用スチレン系樹脂組成物であって、前記酸化防止剤（Ｂ）は、リン系酸化防止剤（Ｂ－１）、フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）、及びリン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）のうち少なくとも１種を含み、
前記スチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、前記リン系酸化防止剤（Ｂ－１）と前記リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）を合計で０．１～０．５質量部、前記フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）と前記リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）を合計で０．０１～０．５質量部、含有する、光学用スチレン系樹脂組成物が提供される。

【0008】

本発明者らは、鋭意検討を行ったところ、スチレン系樹脂におけるスチレン系単量体単位と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位の含有量、及び酸化防止剤の含有量が所定の範囲内である場合に、光学用スチレン系樹脂組成物が色相、色相安定性、押出安定性、寸法安定性、耐湿熱白化性及び強度を同時に満たすであることを見出し、本発明の完成に至った。

【0009】

以下、本発明の種々の実施形態を例示する。以下に示す実施形態は互いに組み合わせ可能である。
好ましくは、前記リン系酸化防止剤（Ｂ－１）は、２，２'－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－１－フェニルオキシ）（２－エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フォスファイト、３，９－ビス（２，６－ジ―ｔｅｒｔ－ブチル―４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ―３，９－ジホスファスピロ〔５，５〕ウンデカン、テトラキス（２，４－ジ―ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）〔１，１ビフェニル〕―４，４ジイルビスホスホナイト、ビス（２，４－ジ―ｔｅｒｔ－ブチル―６－メチルフェニル）エチル亜リン酸エステルから選ばれる少なくとも１種である、光学用スチレン系樹脂組成物である。
好ましくは、前記フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）は、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチレンビス（オキシエチレン）ビス〔３－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ｍ－トリル）プロピオネート〕、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル―４－ヒドロキシ―５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンから選ばれる少なくとも１種である、光学用スチレン系樹脂組成物である。
好ましくは、前記リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）は、６－［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピンである、光学用スチレン系樹脂組成物である。
好ましくは、前記光学用スチレン系樹脂組成物は、６－ｔｅｒｔ－ブチル―２，４－キシレノールを０．１～２０ｐｐｍ含む、光学用スチレン系樹脂組成物である。
好ましくは、前記光学用スチレン系樹脂組成物は、硫黄分を０．１～５００ｐｐｍ含む、光学用スチレン系樹脂組成物である。
好ましくは、前記スチレン系樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５万～４０万であり、前記スチレン系樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．０～３．０である、光学用スチレン系樹脂組成物である。
好ましくは、初期の光路長１１５ｍｍでの波長３８０～７８０ｎｍの平均透過率が８５％以上である、光学用スチレン系樹脂組成物である。
本発明の別の側面によれば、上記光学用スチレン系樹脂組成物を成形してなる導光板が提供される。
好ましくは、厚みが１．０～３．０ｍｍである、導光板である。
本発明の別の側面によれば、上記導光板と、該導光板の端面に光を供給する光源を有する、エッジライト型面光源ユニットが提供される。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、本発明の実施形態について説明する。以下に示す実施形態中で示した各種特徴事項は、互いに組み合わせ可能である。また、各特徴事項について独立して発明が成立する。

【0011】

１．スチレン系樹脂組成物
本発明の一実施形態に係るスチレン系樹脂組成物は、スチレン系樹脂（Ａ）と、酸化防止剤（Ｂ）を含有する光学用スチレン系樹脂組成物である。

【0012】

＜スチレン系樹脂（Ａ）＞
スチレン系樹脂（Ａ）は、スチレン系単量体と（メタ）アクリル酸エステル系単量体を含む単量体を共重合して得られる樹脂である。スチレン系樹脂（Ａ）は、スチレン系単量体単位５１～９９質量％と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位１～４９質量％を含む共重合体であり、好ましくはスチレン系単量体単位５１～８５質量％と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位１５～４９質量％を含む共重合体であり、より好ましくはスチレン系単量体単位８０～８５質量％と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位１５～２０質量％を含む共重合体である。このような範囲とすることで、透明性、色相、色相安定性、押出安定性、寸法安定性、耐湿熱白化性及び強度を同時に満たすことができる。特に、スチレン系単量体を９９質量％以下とすることで、湿熱白化の少ない導光板が得られ、スチレン系単量体を５１％以上とすることで、寸法安定性に優れる導光板を得ることができる。スチレン系樹脂（Ａ）の（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位の含有量は、具体的には例えば、１，５，１０，１５，１６，１７，１８，１９，２０，２５，３０，３５，４０，４５，５０質量％であり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。

【0013】

スチレン系単量体は、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、ｏ－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン、エチルスチレン、ｐ－ｔ－ブチルスチレン等が挙げられる。これらは１種を単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。スチレン系単量体は、好ましくはスチレンである。

【0014】

（メタ）アクリル酸エステル系単量体は、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ベンジル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸４－ｔ－ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル等の（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル；（メタ）アクリル酸グリシジル；（メタ）アクリル酸ジシクロペンタジエニル等が挙げられる。これらは１種を単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。（メタ）アクリル酸エステル系単量体は、好ましくは（メタ）アクリル酸アルキルエステルであり、より好ましくはメタクリル酸メチルである。

【0015】

また、スチレン系樹脂（Ａ）は、スチレン系単量体及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体と共重合可能な単量体と共重合して得られる共重合体であってもよい。共重合可能な単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等の（メタ）アクリル酸；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル；無水マレイン酸、フマル酸等のα，β－エチレン不飽和カルボン酸類；フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のイミド類が挙げられる。これらは１種を単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

【0016】

スチレン系樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは５万～４０万であり、より好ましくは１０万～１４万である。また、スチレン系樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．０～３．０であり、より好ましくは１．５～２．５である。このような範囲にすることにより成形性と導光板の強度を両立することができる。重量平均分子量（Ｍｗ）が５万未満では成形品の強度が不十分となる場合があり、４０万を超えると成形性が低下する場合がある。また、数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０未満では成形性が低下する場合があり、３．０を超えると成形品の強度が低下する場合がある。

【0017】

＜酸化防止剤（Ｂ）＞
酸化防止剤（Ｂ）は、リン系酸化防止剤（Ｂ－１）、フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）、及びリン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）のうち少なくとも１種を含む。

【0018】

光学用スチレン系樹脂組成物は、スチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、リン系酸化防止剤（Ｂ－１）とリン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）を合計で０．１～０．５質量部含有する。このような範囲とすることで、透明性、色相、色相安定性、押出安定性、寸法安定性、耐湿熱白化性及び強度を同時に満たすことができる。リン系酸化防止剤（Ｂ－１）とリン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）の合計含有量は、スチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、具体的には例えば、０．１，０．２，０．３，０．４，０．５質量部であり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。

【0019】

また、光学用スチレン系樹脂組成物は、スチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）とリン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）を合計で０．０１～０．５質量部、好ましくは０．０５～０．３質量部含有する。このような範囲とすることで、透明性、色相、色相安定性、押出安定性、寸法安定性、耐湿熱白化性及び強度を同時に満たすことができる。フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）とリン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）の合計含有量は、スチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、具体的には例えば、０．０１，０．０２，０．０３，０．０４，０．０５，０．０６，０．０７，０．０８，０．０９，０．１，０．２，０．３，０．４，０．５質量部であり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。

【0020】

リン系酸化防止剤（Ｂ－１）とは、基本骨格にフェノール性水酸基を有しない（亜）リン酸エステル類であり、好ましくは三価のリン化合物である亜リン酸エステル類である。リン系酸化防止剤（Ｂ－１）は、例えば、２，２'－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－１－フェニルオキシ）（２－エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フォスファイト、３，９－ビス（２，６－ジ―ｔｅｒｔ－ブチル―４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ―３，９－ジホスファスピロ〔５，５〕ウンデカン、テトラキス（２，４－ジ―ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）〔１，１ビフェニル〕―４，４ジイルビスホスホナイト、ビス（２，４－ジ―ｔｅｒｔ－ブチル―６－メチルフェニル）エチル亜リン酸エステル等から選ばれる少なくとも１種である。これらは１種を単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

【0021】

フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）とは、基本骨格にフェノール性水酸基を持ち（亜）リン酸エステル類でない酸化防止剤である。フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）は、例えば、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチレンビス（オキシエチレン）ビス〔３－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ｍ－トリル）プロピオネート〕、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル―４－ヒドロキシ―５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等から選ばれる少なくとも１種である。これらは１種を単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

【0022】

リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）は、基本骨格にフェノール性水酸基を持つ（亜）リン酸エステル類であり、好ましくは基本骨格にフェノール性水酸基を持つ三価のリン化合物である亜リン酸エステル類である。リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）は、例えば、６－［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン等である。

【0023】

＜その他の成分＞
光学用スチレン系樹脂組成物は、６－ｔｅｒｔ－ブチル―２，４－キシレノール（ＴＢＸ）を好ましくは０．１～２０ｐｐｍ含み、より好ましくは１～５ｐｐｍ含む。このような範囲とすることで、色相と透過率に優れる導光板が得られる。ＴＢＸの含有量は、具体的には例えば、０．１，０．２，０．３，０．４，０．５，０．６，０．７，０．８，０．９，１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１９，２０ｐｐｍであり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。

【0024】

光学用スチレン系樹脂組成物は、ｔ－ブチルカテコール（ＴＢＣ）を好ましくは０．１～１００ｐｐｍ含み、より好ましくは１～２０ｐｐｍ含む。このような範囲とすることで、色相と透過率に優れる導光板が得られる。ＴＢＣの含有量は、具体的には例えば、０．１，０．２，０．３，０．４，０．５，０．６，０．７，０．８，０．９，１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１９，２０，３０，４０，５０，６０，７０，８０，９０，１００ｐｐｍであり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。

【0025】

光学用スチレン系樹脂組成物は、硫黄分を好ましくは０．１～５００ｐｐｍ含み、より好ましくは１～４００ｐｐｍ含み、さらに好ましくは５～３５０ｐｐｍ含む。このような範囲とすることで、特に色相に優れた導光板を得ることができる。硫黄分は、具体的には例えば、０．１，０．５，１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１００，２００，３００，４００，５００ｐｐｍであり、ここで例示した数値の何れか２つの間の範囲内であってもよい。

【0026】

光学用スチレン系樹脂組成物には、本発明の特性を損なわない範囲で、イオウ系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系安定剤、帯電防止剤、親水性添加剤、流動パラフィン（ミネラルオイル）、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ブルーイング剤、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、ステアリン酸アミド、エルカ酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール等の高級アルコール等の離型剤を含んでいてもよい。

【0027】

＜光学特性＞

【0028】

スチレン系樹脂組成物は、初期の光路長１１５ｍｍでの波長３８０～７８０ｎｍの平均透過率が、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは８６％以上である。

【0029】

スチレン系樹脂組成物は、長期耐久試験後の光路長１１５ｍｍでの波長３８０～７８０ｎｍの平均透過率が、好ましくは８０％以上、より好ましくは８３％以上であり、さらに好ましくは８５％以上である。

【0030】

スチレン系樹脂組成物は、初期の光路長１１５ｍｍでのＹＩ値が、好ましくは６．０以下であり、より好ましくは４．０以下である。

【0031】

スチレン系樹脂組成物は、長期耐久試験後の光路長１１５ｍｍでのＹＩ値が、好ましくは７．０以下であり、より好ましくは５．０以下である。

【0032】

スチレン系樹脂組成物は、初期の光路長１１５ｍｍでのＹＩ値と、長期耐久試験後の光路長１１５ｍｍでのＹＩ値とのＹＩ値の差（ΔＹＩ）が、好ましくは３．０以下であり、より好ましくは１．５以下であり、さらに好ましくは１．０以下である。

【0033】

＜その他＞
スチレン系樹脂組成物のビカット軟化温度は、好ましくは９５～１０４℃であり、より好ましくは１００～１０４℃である。ビカット軟化温度が９５℃未満では耐熱性が不足し、使用環境によっては導光板が変形する可能性がある。

【0034】

＜スチレン系樹脂組成物の製造方法＞
スチレン系樹脂（Ａ）の重合方法としては、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等公知のスチレン重合方法が挙げられる。品質面や生産性の面では、塊状重合法、溶液重合法が好ましく、連続重合であることが好ましい。溶媒として例えばベンゼン、トルエン、エチルベンゼン及びキシレン等のアルキルベンゼン類やアセトンやメチルエチルケトン等のケトン類、ヘキサンやシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素等が使用できる。

【0035】

スチレン系樹脂（Ａ）の重合時に、必要に応じて重合開始剤、連鎖移動剤、架橋剤などの重合助剤、その他の重合助剤を使用することができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、公知慣用の例えば、１，１－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、２，２－ジ（４，４－ジ－ｔ－ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、１，１－ジ（ｔ－アミルパーオキシ）シクロヘキサン等のパーオキシケタール類、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ－ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド類、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔ－アミルパーオキシイソノナノエート等のアルキルパーオキサイド類、ｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ－ｔ－ヘキシルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド類、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート等のパーオキシエステル類、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ポリエーテルテトラキス（ｔ－ブチルパーオキシカーボネート）等のパーオキシカーボネート類、Ｎ，Ｎ'－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、Ｎ，Ｎ'－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、Ｎ，Ｎ'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、Ｎ，Ｎ'－アゾビス［２－（ヒドロキシメチル）プロピオニトリル］等が挙げられ、これらの１種あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。連鎖移動剤としては、ｎ－ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ―ドデシルメルカプタン等の脂肪族メルカプタン、芳香族メルカプタン、チオグリコール酸、メルカプトプロピオン酸等のチオカルボン酸類、エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ソルビトール等の多価アルコール水酸基をチオグリコール酸、またはメルカプトプロピオン酸でエステル化した多官能メルカプタン、ペンタフェニルエタン、α－メチルスチレンダイマー及びテルピノーレン等が挙げられる。中でも、硫黄分の含有量を調整できる観点から、脂肪族メルカプタン、芳香族メルカプタン、チオカルボン酸類、多官能メルカプタンが好ましい。

【0036】

連続重合の場合、スチレン系樹脂（Ａ）は、重合工程と、脱揮工程、造粒工程を備える方法によって製造可能である。

【0037】

まず重合工程にて公知の完全混合槽型攪拌槽や塔型反応器等を用い、目標の分子量、分子量分布、反応転化率となるよう、重合温度調整等により重合反応が制御される。

【0038】

重合工程を出た重合体を含む重合溶液は、脱揮工程に移送され、未反応の単量体及び重合溶媒が除去される。脱揮工程は加熱器付きの真空脱揮槽やベント付き脱揮押出機などで構成される。脱揮工程を出た溶融状態の重合体は造粒工程へ移送される。造粒工程では、多孔ダイよりストランド状に溶融樹脂を押出し、コールドカット方式や空中ホットカット方式、水中ホットカット方式にてペレット形状に加工される。

【0039】

スチレン系樹脂組成物は、スチレン系樹脂（Ａ）に酸化防止剤（Ｂ）を添加することにより製造可能である。酸化防止剤（Ｂ）はスチレン系樹脂（Ａ）の重合時に添加してもよいし、スチレン系樹脂（Ａ）を重合後、酸化防止剤（Ｂ）をドライブレンドし、溶融混練して製造してもよい。また、酸化防止剤（Ｂ）を予め少量のスチレン系樹脂と共に溶融混練して得たペレット形状のマスターバッチを作成し、スチレン系樹脂（Ａ）と該マスターバッチをドライブレンド後、溶融混練し、調整してもよい。

【0040】

スチレン系樹脂組成物中のｔ－ブチルカテコール又は６－ｔｅｒｔ－ブチル―２，４－キシレノールの含有量及び硫黄分は、スチレン系樹脂（Ａ）の重合開始時における含有量の調整及びその後の脱揮工程等における含有量の調整が可能である。また、任意のタイミングで添加して調整してもよい。

【0041】

２．導光板
本発明の一実施形態に係る導光板は、上記光学用スチレン系樹脂組成物を成形してなる成形品である。導光板は、エッジライト型面光源ユニットに用いることが可能な導光板である。

【0042】

＜導光板の形状＞
導光板は、導光板の表面に凹凸形状を有していてよい。より詳細には、導光板の表面に複数のレンチキュラー形状及び／又はプリズム形状の凸部を有していてよい。凸部は、導光板の少なくとも一つの面に設けられていることが好ましく、特に導光板の前面（発光面）である一つの面に設けられる。他の面についても必要であれば設けてもよいが、導光板の前面（発光面）にのみ設けられていることがより好ましい。

【0043】

ここで、レンチキュラー形状の凸部とは、円弧状の凸部であり、断面の縁形状が円弧状の突条体である。また、プリズム形状とは、円弧状の凸部であり、断面の縁形状が三角山形の突条体である。また、凸部は複数条、互いに平行関係となるように形成されうる。また、凸部は導光板に一体的に形成されうる。

【0044】

導光板の厚みは、１．０～３．０ｍｍであり、好ましくは１．５～２．５ｍｍであり、より好ましくは１．６～２．４ｍｍである。このような範囲内であると、酸化防止剤を添加したスチレン系樹脂組成物の成形において、優れた押出安定性等の成形性や強度に優れる導光板を製造することが容易である。

【0045】

＜導光板の製造方法＞
本発明の一実施形態に係る導光板は、上記のスチレン系樹脂組成物を成形して得られ、成形方法としては、シート押出成形や、射出成形、圧縮成形等の公知の方法を用いることができるが、生産性、成形品の大型化が容易という点で、表面形状転写型を備えた連続シート押出成形であることが好ましい。該シート押出成形の例としては、樹脂を加熱溶融状態でフィードブロックに供給し、ダイから連続的に押し出しシートを作成する押出工程と、前記樹脂シートを、圧着ロールと冷却ロールで挟み込む押圧工程、押圧工程後、樹脂シートを冷却ロールに密着させながら搬送する搬送工程を有し、冷却ロールの表面に転写型を備える連続シート押出成形法が挙げられ、該転写型の形状を変更することで、シート表面に任意の凹凸形状を転写することができる。

【0046】

また、導光板は、前面（発光面）に凹凸形状を有していてよく、背面には光を乱反射させる反射加工が施されうる。反射加工としては、例えば、シルク印刷やインクジェット印刷のほか、レーザー照射によりドット形状の凹凸を付与する方法が挙げられ、ドットパターンの印刷には、光を拡散させる微粒子を有するインクを使用することができる。

【0047】

３．エッジライト型面光源ユニット
本発明の一実施形態に係るエッジライト型面光源ユニットは、上記導光板と、該導光板の端面に光を供給する光源を有する、エッジライト型面光源ユニットである。エッジライト型面光源ユニットは、液晶表示装置用の面光源装置として好適に用いられる。

【実施例】

【0048】

以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。また、これらは何れも例示的なものであって、本発明の内容を限定するものではない。

【0049】

１．スチレン系樹脂Ａ－１～Ａ－１１の製造
完全混合型撹拌槽である第１反応器と静的混合器付プラグフロー型反応器である第２反応器を直列に接続して重合工程を構成し、表１に示す条件によりスチレン系樹脂の製造を実施した。各反応器の容量は、第１反応器を３０リットル、第２反応器を１２リットルとした。表１に記載の原料組成にて、原料溶液を作成し、第１反応器に原料溶液を表１に記載の流量にて連続的に供給した。重合開始剤は、第１反応器の入口で表１に記載の添加濃度（原料スチレンに対する質量基準の濃度）となるように原料溶液に添加し、均一混合した。表１に記載の原料は次の通りである。
重合開始剤：ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート（日油株式会社製：パーブチルＩ）
連鎖移動剤：ｎ－ドデシルメルカプタン（アルケマ株式会社製）
なお、第２反応器では、反応液の流れ方向に沿って温度勾配をつけ、中間部分、出口部分で表１の温度となるよう調整した。
続いて、第２反応器より連続的に取り出した重合体を含む溶液を直列に２段より構成される予熱器付き真空脱揮槽に導入し、表１に記載の樹脂温度となるよう予熱器の温度を調整し、表１に記載の圧力に調整することで、未反応スチレン及びエチルベンゼンを分離した後、多孔ダイよりストランド状に押出して、コールドカット方式にて、ストランドを冷却及び切断しペレット化した。

【0050】

＜メルトマスフローレート（ＭＦＲ）＞
メルトマスフローレートは、ＪＩＳ Ｋ ７２１０に従って、温度２００℃、４９Ｎ荷重の条件で測定した。

【0051】

＜ビカット軟化温度＞
ビカット軟化温度は、ＪＩＳ Ｋ ７２０６に従って、昇温速度５０℃／ｈｒ、試験荷重５０Ｎで測定した。

【0052】

＜硫黄分＞
イオンクロマトグラフ（ＤＩＯＮＥＸ社製ＤＸ－１２０）を用い、燃焼クロマトグラフ法により、下記記載の測定条件にて測定した。
燃焼用前処理装置：ＡＱＦ－１００、ＷＳ１００、ＧＡ－１００（三菱ケミカル株式会社製）
試料量：１００ｍｇ
燃焼管温度：入口９００℃、出口１０００℃
吸収液：６００ｍｇ／Ｌ Ｈ_２Ｏ_２＋１０ｍｇ／Ｌ ＰＯ_４ ^３－（内部標準）
吸収液量：５ｍＬ
検出器：電気伝導度検出器
カラム：ＡＳ１２Ａ
流量：１．５ｍＬ／ｍｉｎ
移動相：２．７ｍＭ Ｎａ_２ＣＯ_３＋０．３ｍＭ ＮａＨＣＯ_３
試料導入量：２０μＬ

【0053】

＜スチレン系樹脂中ＴＢＣ及びＴＢＸの含有量＞
スチレン系樹脂０．２ｇを少量のＴＨＦに溶解した後、ＢＳＴＦＡ（Ｍ，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド）２００μＬを添加し、トリメチルシリル誘導体化処理を実施し、ＴＨＦにて１０ｍＬ定容した後、遠心分離によって分離した上澄み液について、ガスクロマトグラフ質量分析（ＧＣ／ＭＳ）にて、以下の条件で測定した。なお、濃度の決定には、予め作成した検量線を用いた。
ＧＣ装置 ：Ａｇｉｌｅｎｔ社製 ７８９０Ａ
カラム ：Ａｇｉｌｅｎｔ社製 ＤＢ－５ｍｓ（０．２５ｍｍ ｉ．ｄ．×３０ｍ）液相膜厚０．２５μｍ
カラム温度：５０℃（１ｍｉｎ）→（２０℃／ｍｉｎ昇温）→３２０℃（６．５ｍｉｎ）計２０ｍｉｎ
注入口 ：３００℃、１．５ｍＬ／ｍｉｎ、（スプリット比１：５）
注入量 ：１μＬ
ＭＳ装置 ：Ａｇｉｌｅｎｔ社製 ５９７５Ｃ
インターフェイス温度：３２０℃
ＭＳ検出条件：ＳＩＭ測定 ＴＢＣ（定量用ｍ／ｚ ２９５、確認用ｍ／ｚ ３１０）

【0054】

＜分子量＞
重量平均分子量（Ｍｗ）及びＺ平均分子量（Ｍｚ）、数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、次の条件で測定した。
ＧＰＣ機種：昭和電工株式会社製Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ－１０１
カラム：ポリマーラボラトリーズ社製 ＰＬｇｅｌ １０μｍ ＭＩＸＥＤ－Ｂ
移動相：テトラヒドロフラン
試料濃度：０．２質量％
温度：オーブン４０℃、注入口３５℃、検出器３５℃
検出器：示差屈折計
分子量は単分散ポリスチレンの溶出曲線より各溶出時間における分子量を算出し、ポリスチレン換算の分子量として算出したものである。

【表1】

【0055】

２．スチレン系樹脂組成物の製造
［実施例１］
ペレット化したスチレン系樹脂（Ａ－１）１００質量部に対し、リン系酸化防止剤（ＨＰ－１０）０．２質量部と、リン・フェノール系酸化防止剤（ＧＰ）０．１質量部をブレンダーで混合し、スクリュー径４０ｍｍの単軸押出機を用いて、シリンダー温度２３０℃、スクリュー回転数１００ｒｐｍで混合し、スチレン系樹脂組成物を得た。

【0056】

［実施例２～１８及び比較例１～８］
配合を表２～表４のように変更した以外は実施例１と同様にスチレン系樹脂組成物及び導光板を製造した。各種測定及び評価結果を表２～表４に示す。

【0057】

なお、表２～表４中のリン系酸化防止剤（Ｂ－１）、フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２）、及びリン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３）についてはそれぞれ下記の通りである。

【0058】

（リン系酸化防止剤（Ｂ－１））
ＨＰ－１０：２，２'－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－１－フェニルオキシ）（２－エチルヘキシルオキシ）ホスホラス（株式会社ＡＤＥＫＡ製 アデカスタブＨＰ－１０）
１６８：トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フォスファイト（ＢＡＳＦジャパン株式会社製 Ｉｒｇａｆｏｓ １６８）
ＰＥＰ－３６：３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカン（株式会社ＡＤＥＫＡ製 アデカスタブ ＰＥＰ－３６）
Ｐ－ＥＰＱ：テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）［１，１ビフェニル］－４，４ジイルビホスホナイト（クラリアントＣｏ．Ｌｔｄ．製 Ｈｏｓｔａｎｏｘ Ｐ－ＥＰＱ）
３８：ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）エチル亜りん酸エステル、（ＢＡＳＦジャパン株式会社製 Ｉｒｇａｆｏｓ ３８）

【0059】

（フェノール系酸化防止剤（Ｂ－２））
１０７６：オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート（ＢＡＳＦジャパン株式会社製 Ｉｒｇａｎｏｘ １０７６）
２４５：エチレンビス（オキシエチレン）ビス〔３－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ｍ－トリル）プロピオネート〕（ＢＡＳＦジャパン株式会社製 Ｉｒｇａｎｏｘ ２４５）
１０１０：ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＢＡＳＦジャパン株式会社製 Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０）
ＡＯ８０：３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（株式会社ＡＤＥＫＡ製 アデカスタブＡＯ－８０）

【0060】

（リン・フェノール系酸化防止剤（Ｂ－３））
ＧＰ：６－〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ〕－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン（住友化学株式会社製 スミライザーＧＰ）

【0061】

【表2】

【0062】

【表3】

【0063】

【表4】

【0064】

３．評価
表２～表４中のＴＢＣ、ＴＢＸ及び硫黄分の含有量は、使用したスチレン系樹脂中の含有量に基づき算出した値である。

【0065】

＜スチレン系樹脂組成物の平均透過率及びＹＩ値＞
平均透過率及びＹＩ値は、次の手順にて測定を行った。スチレン系樹脂組成物のペレットを用い、シリンダー温度２３０℃、金型温度５０℃にて射出成形を行い、１２７×１２７×３ｍｍ厚みの板状成形品（初期サンプル）を成形した。
ここで長期の耐久性を評価するサンプル（長期耐久試験後のサンプル）は、８０℃のオーブン内に１０００時間保管した。
次に、初期サンプル及び長期耐久試験後のサンプルの板状成形品から１１５×８５×３ｍｍ厚みの試験片を切り出し、端面をバフ研磨によって研磨し、端面に鏡面を有する板状成形品を作成した。研磨後の板状成形品について、日本分光株式会社製の紫外線可視分光光度計Ｖ－６７０を用いて、大きさ２０×１．６ｍｍ、広がり角度０°の入射光において、光路長１１５ｍｍでの波長３５０ｎｍ～８００ｎｍの分光透過率を測定し、Ｃ光源における、視野２°でのＹＩ値をＪＩＳ Ｋ７１０５に倣い算出した。平均透過率（全光線透過率）は、波長３８０～７８０ｎｍにおける分光透過率の平均として算出した。

【0066】

＜導光板の製造＞
当該スチレン系樹脂組成物を、スクリュー径９０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３２の単軸ベント付き押出機に供給し、２００～２３５℃で溶融混練した後、リップ幅１０００ｍｍ、リップ開度３．０ｍｍのＴダイにて、Ｔダイ温度２４５～２５０℃で吐出し、縦型３本冷却ロールで冷却固化後、端面をトリミングし、幅８００ｍｍ、厚み２．０ｍｍの導光板を得た。

【0067】

＜導光板の成形性及び強度評価＞
表２～表４における導光板の押出安定性（目ヤニ）、寸法安定性（吸湿変形）、耐湿熱白化性、及び強度について下記のように評価した。

【0068】

（押出安定性（目ヤニ））
ダイの樹脂温度を３００℃に調整し、ダイ付近の目ヤニ発生状況を、以下の基準に基づき評価した。
○：シート押出開始後、３０分を経過しても、目ヤニが確認されない。
△：シート押出開始後、１０～３０分で目ヤニが確認される。
×：シート押出開始後、１０分以内に目ヤニが確認される。
なお、「目ヤニ」とは、ダイの出口ノズル周辺に発生する、茶色、若しくは黒色の樹脂劣化物であり、通常、押出量とともに増加し、所定の量を超えるとノズルより脱離し、シート表面に付着する。

【0069】

（寸法安定性（吸湿変形））
前記で得られた導光板から、２００ｍｍ×３００ｍｍの試験片を切り出し、試験片を温度６０℃、相対湿度９０％の条件で５００時間保管し、保管前後での長辺の寸法変化を測定し、以下の式により変形率を計算した。
変形率＝（（保管後の長辺長さ）―（保管前の長辺長さ））÷（保管前の長辺の長さ）×１００（％）
変形率が０．１０％以下のものを〇、０．１０～０．１５％のものを△、０．１５％以上のものを×として、導光板の寸法安定性（吸湿変化）を評価した。

【0070】

（耐湿熱白化性）
前記で得られた導光板から、２００ｍｍ×２００ｍｍの試験片を切り出し、試験片を６０℃、相対湿度９０％の環境下で１５０時間暴露後、温度２３℃、相対湿度５０％の環境下に試験片を取り出し、急冷し、更に１時間放置後に、試験片内部に発生する白化現象を観察し、以下の基準に基づき、耐湿熱白化性を評価した。
〇：全く白化が発生しない
△：わすかに白化が発生するが、２４時間後にはほとんど消失する
×：著しく白化し、２４時間後経っても消失しない

【0071】

（強度）
前記で得られた導光板から、２００ｍｍ×２００ｍｍの試験片を切り出し、重量１６．６ｇの球を使用し、ＪＩＳ Ｋ－７２１１に従って、５０％破壊高さを測定した。５０％破壊高さが５０ｃｍ以上のものを○、３０～５０ｃｍのものを△、３０ｃｍ以下のものを×として、導光板の強度を測定した。

【0072】

実施例においては、透明性、色相、色相安定性、押出安定性、寸法安定性、耐湿熱白化性及び強度が良好であり、実施例１～１２及び実施例１５～１８においては耐湿熱白化性も含め特に優れていた。
また、硫黄分が０．１～５００ｐｐｍである実施例１～１６及び実施例１８においては、色相が特に優れていた。