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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-11-19
(45)【発行日】2024-11-27
(54)【発明の名称】反射防止層付き偏光板の製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20241120BHJP
G02B 1/115 20150101ALI20241120BHJP
G02B 1/14 20150101ALI20241120BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20241120BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20241120BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20241120BHJP
C09J 7/38 20180101ALI20241120BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
G02B1/115
G02B1/14
H10K50/86
H10K59/10
G09F9/30 349E
C09J7/38
【請求項の数】
10
(21)【出願番号】P 2022151163
(22)【出願日】2022-09-22
(65)【公開番号】P2024046025
(43)【公開日】2024-04-03
【審査請求日】2024-08-13
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000154
【氏名又は名称】弁理士法人はるか国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】別府 浩史
(72)【発明者】
【氏名】松岡 秀展
(72)【発明者】
【氏名】國方 智
【審査官】植野 孝郎
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１７－２１８６７４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－３４７０１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平８－１３６７３０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－１２５１２１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－１２２１７３（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１８／０００３８６０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１０－２４３８６３（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ５／３０
Ｇ０２Ｂ １／１０－ １／１８
Ｈ１０Ｋ５０／００－９９／００
Ｇ０９Ｆ ９／３０
Ｃ０９Ｊ ７／３８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
フィルム基材と、前記フィルム基材の一方の主面側に設けられた反射防止層とを有する反射防止層付き偏光板の製造方法であって、前記フィルム基材の前記一方の主面側に、２層以上の薄膜からなる前記反射防止層を成膜する工程Ｓａと、
前記反射防止層を構成する少なくとも１つの層を成膜した後、前記層に可視光を照射し、その反射光を検出する工程Ｓｂとを備え、
前記工程Ｓａ及び前記工程Ｓｂは、前記フィルム基材を一方向に搬送しながら、連続して実施され、
前記フィルム基材は、第１保護フィルム、第１接着剤層、偏光子、第２接着剤層及び第２保護フィルムをこの順に有する積層体であり、
前記第１保護フィルムと前記偏光子とは、前記第１接着剤層を介して接着されており、
前記第２保護フィルムと前記偏光子とは、前記第２接着剤層を介して接着されており、
前記第１保護フィルム及び前記第２保護フィルムは、いずれも、前記偏光子よりも幅が大きく、前記偏光子の幅方向の両端から張り出しており、
前記両端から張り出した箇所の少なくとも一部における前記第１保護フィルムと前記第２保護フィルムとの間隔が、前記偏光子の幅方向の端部を挟持する箇所における前記第１保護フィルムと前記第２保護フィルムとの間隔よりも狭い、反射防止層付き偏光板の製造方法。
【請求項2】
前記工程Ｓｂにおいて、前記反射防止層を構成する全ての層を成膜した後、前記反射防止層に可視光を照射し、その反射光を検出する、請求項１に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【請求項3】
前記工程Ｓｂにおける前記反射光の検出結果に応じて、前記工程Ｓａにおける前記反射防止層の成膜条件が調整される、請求項１に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【請求項4】
前記工程Ｓｂにおいて、前記層の幅方向の複数個所に可視光を照射し、それらの反射光を検出する、請求項１に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【請求項5】
前記工程Ｓａにおいて、前記反射防止層をスパッタ法により成膜する、請求項１に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【請求項6】
前記フィルム基材は、前記両端から張り出した箇所の幅方向の少なくとも一部において、前記第１保護フィルムと前記第２保護フィルムとを接着する第３接着剤層を更に備える、請求項１に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【請求項7】
前記第２保護フィルムは、透明フィルムと、前記透明フィルムの一方の主面側に設けられたハードコート層とを備え、前記工程Ｓａにおいて、前記ハードコート層の前記透明フィルム側とは反対側に前記反射防止層を成膜する、請求項１に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【請求項8】
前記フィルム基材は、前記第１保護フィルムの前記偏光子側とは反対側に設けられた粘着剤層を更に備え、前記工程Ｓａにおいて、前記第２保護フィルムの前記偏光子側とは反対側に前記反射防止層を成膜する、請求項１に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【請求項9】
前記フィルム基材は、前記粘着剤層の前記第１保護フィルム側とは反対側に仮着された、はく離ライナーを更に備える、請求項８に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【請求項10】
前記工程Ｓａの前に、前記フィルム基材の前記一方の主面側にプライマー層を成膜する工程Ｓｃを更に備え、前記工程Ｓａにおいて、前記プライマー層の前記フィルム基材側とは反対側の主面に前記反射防止層を成膜する、請求項１に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、反射防止層付き偏光板の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の画像表示装置の視認側には、外光の反射による画質低下の防止、コントラスト向上等を目的として、反射防止フィルムが配置されている。反射防止フィルムは、フィルム基材上に、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体からなる反射防止層を備える。
【0003】
反射防止フィルムの一形態として、反射防止層付き偏光板（反射防止層付き偏光フィルム）が挙げられる。反射防止層付き偏光板は、偏光板の表面に反射防止フィルムを貼り合わせる方法や、偏光子の表面に保護フィルムとして反射防止フィルムを貼り合わせる方法により形成される。また、偏光板上に反射防止層を成膜することにより、反射防止層付き偏光板を形成する方法も知られている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０１４－３４７０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
反射防止層は、薄膜の多重反射干渉を利用して、可視光の反射率を低減している。そのため、薄膜の屈折率や膜厚が変動すると、反射率や反射光の色相等の反射光特性が変化する。反射防止層の形成において、薄膜の成膜条件を厳格に管理して一定に保った場合でも、原料の特性のばらつきや、成膜環境の経時的な変動等に起因して、薄膜の膜厚や屈折率等が変動する場合がある。
【0006】
フィルム製造では、製造工程中でインライン測定を行い、その測定結果を前工程にフィードバックすることにより、フィルムの品質を一定に保持することが行われている。例えば、特許文献１では、反射防止層付き偏光板の製造工程におけるインライン検査として、インラインで反射光特性を測定し、その測定結果を薄膜の成膜条件にフィードバックしている。
【0007】
しかし、特許文献１に記載の技術には、反射防止層付き偏光板の反射光特性を均一に保つことについて、改善の余地が残されている。
【0008】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、反射光特性を均一に保つことができる反射防止層付き偏光板の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
＜本発明の態様＞
本発明には、以下の態様が含まれる。
本発明には、以下の態様が含まれる。
【0010】
［１］フィルム基材と、前記フィルム基材の一方の主面側に設けられた反射防止層とを有する反射防止層付き偏光板の製造方法であって、
前記フィルム基材の前記一方の主面側に、２層以上の薄膜からなる前記反射防止層を成膜する工程Ｓａと、
前記反射防止層を構成する少なくとも１つの層を成膜した後、前記層に可視光を照射し、その反射光を検出する工程Ｓｂとを備え、
前記工程Ｓａ及び前記工程Ｓｂは、前記フィルム基材を一方向に搬送しながら、連続して実施され、
前記フィルム基材は、第１保護フィルム、第１接着剤層、偏光子、第２接着剤層及び第２保護フィルムをこの順に有する積層体であり、
前記第１保護フィルムと前記偏光子とは、前記第１接着剤層を介して接着されており、
前記第２保護フィルムと前記偏光子とは、前記第２接着剤層を介して接着されており、
前記第１保護フィルム及び前記第２保護フィルムは、いずれも、前記偏光子よりも幅が大きく、前記偏光子の幅方向の両端から張り出しており、
前記両端から張り出した箇所の少なくとも一部における前記第１保護フィルムと前記第２保護フィルムとの間隔が、前記偏光子の幅方向の端部を挟持する箇所における前記第１保護フィルムと前記第２保護フィルムとの間隔よりも狭い、反射防止層付き偏光板の製造方法。
前記フィルム基材の前記一方の主面側に、２層以上の薄膜からなる前記反射防止層を成膜する工程Ｓａと、
前記反射防止層を構成する少なくとも１つの層を成膜した後、前記層に可視光を照射し、その反射光を検出する工程Ｓｂとを備え、
前記工程Ｓａ及び前記工程Ｓｂは、前記フィルム基材を一方向に搬送しながら、連続して実施され、
前記フィルム基材は、第１保護フィルム、第１接着剤層、偏光子、第２接着剤層及び第２保護フィルムをこの順に有する積層体であり、
前記第１保護フィルムと前記偏光子とは、前記第１接着剤層を介して接着されており、
前記第２保護フィルムと前記偏光子とは、前記第２接着剤層を介して接着されており、
前記第１保護フィルム及び前記第２保護フィルムは、いずれも、前記偏光子よりも幅が大きく、前記偏光子の幅方向の両端から張り出しており、
前記両端から張り出した箇所の少なくとも一部における前記第１保護フィルムと前記第２保護フィルムとの間隔が、前記偏光子の幅方向の端部を挟持する箇所における前記第１保護フィルムと前記第２保護フィルムとの間隔よりも狭い、反射防止層付き偏光板の製造方法。
【0011】
［２］前記工程Ｓｂにおいて、前記反射防止層を構成する全ての層を成膜した後、前記反射防止層に可視光を照射し、その反射光を検出する、前記［１］に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【0012】
［３］前記工程Ｓｂにおける前記反射光の検出結果に応じて、前記工程Ｓａにおける前記反射防止層の成膜条件が調整される、前記［１］又は［２］に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【0013】
［４］前記工程Ｓｂにおいて、前記層の幅方向の複数個所に可視光を照射し、それらの反射光を検出する、前記［１］～［３］のいずれか一つに記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【0014】
［５］前記工程Ｓａにおいて、前記反射防止層をスパッタ法により成膜する、前記［１］～［４］のいずれか一つに記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【0015】
［６］前記フィルム基材は、前記両端から張り出した箇所の幅方向の少なくとも一部において、前記第１保護フィルムと前記第２保護フィルムとを接着する第３接着剤層を更に備える、前記［１］～［５］のいずれか一つに記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【0016】
［７］前記第２保護フィルムは、透明フィルムと、前記透明フィルムの一方の主面側に設けられたハードコート層とを備え、
前記工程Ｓａにおいて、前記ハードコート層の前記透明フィルム側とは反対側に前記反射防止層を成膜する、前記［１］～［６］のいずれか一つに記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
前記工程Ｓａにおいて、前記ハードコート層の前記透明フィルム側とは反対側に前記反射防止層を成膜する、前記［１］～［６］のいずれか一つに記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【0017】
［８］前記フィルム基材は、前記第１保護フィルムの前記偏光子側とは反対側に設けられた粘着剤層を更に備え、
前記工程Ｓａにおいて、前記第２保護フィルムの前記偏光子側とは反対側に前記反射防止層を成膜する、前記［１］～［７］のいずれか一つに記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
前記工程Ｓａにおいて、前記第２保護フィルムの前記偏光子側とは反対側に前記反射防止層を成膜する、前記［１］～［７］のいずれか一つに記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【0018】
［９］前記フィルム基材は、前記粘着剤層の前記第１保護フィルム側とは反対側に仮着された、はく離ライナーを更に備える、前記［８］に記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【0019】
［１０］前記工程Ｓａの前に、前記フィルム基材の前記一方の主面側にプライマー層を成膜する工程Ｓｃを更に備え、
前記工程Ｓａにおいて、前記プライマー層の前記フィルム基材側とは反対側の主面に前記反射防止層を成膜する、前記［１］～［９］のいずれか一つに記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
前記工程Ｓａにおいて、前記プライマー層の前記フィルム基材側とは反対側の主面に前記反射防止層を成膜する、前記［１］～［９］のいずれか一つに記載の反射防止層付き偏光板の製造方法。
【発明の効果】
【0020】
本発明によれば、反射光特性を均一に保つことができる反射防止層付き偏光板の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】フィルム基材の一例を示す断面図である。
【図2】フィルム基材の他の例を示す断面図である。
【図3】フィルム基材の他の例を示す断面図である。
【図4】反射防止層の成膜装置の一例を示す模式図である。
【図5】Ａ、Ｂ及びＣは、本発明に係る反射防止層付き偏光板の製造方法の一例を示す工程別断面図である。
【図6】実施例の成膜条件の調整前における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。
【図7】実施例の成膜条件の調整後における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。
【図8】比較例の成膜条件の調整前における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。
【図9】比較例の成膜条件の調整後における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0022】
以下、本発明の好適な実施形態について詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、本明細書中に記載された学術文献及び特許文献の全てが、本明細書中において参考として援用される。
【0023】
まず、本明細書中で使用される用語について説明する。「屈折率」は、温度２３℃の雰囲気下における波長５５０ｎｍの光に対する屈折率である。層状物（より具体的には、フィルム基材、第１保護フィルム、第２保護フィルム、透明フィルム、ハードコート層、プライマー層、粘着剤層、はく離ライナー、偏光子等）の「主面」とは、層状物の厚み方向に直交する面をさす。
【0024】
「ボンバード処理」とは、所定の気体（希ガス、酸素ガス等）を導入しながらフィルム基材の表面をプラズマ処理する表面処理をさす。
【0025】
粒子の個数平均一次粒子径は、何ら規定していなければ、走査型電子顕微鏡及び画像処理ソフトウェア（例えば、アメリカ国立衛生研究所製「ＩｍａｇｅＪ」）を用いて測定した、１００個の一次粒子の円相当径（ヘイウッド径：一次粒子の投影面積と同じ面積を有する円の直径）の個数平均値である。
【0026】
流量の単位「ｓｃｃｍ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｃｕｂｉｃ Ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ ｐｅｒ Ｍｉｎｕｔｅ）」は、標準状態（温度：０℃、圧力：１０１．３ｋＰａ）における流量の単位「ｍＬ／ｍｉｎ」である。
【0027】
以下、化合物名の後に「系」を付けて、化合物及びその誘導体を包括的に総称する場合がある。また、化合物名の後に「系」を付けて重合体名を表す場合には、重合体の繰り返し単位が化合物又はその誘導体に由来することを意味する。
【0028】
本明細書に例示の成分や官能基等は、特記しない限り、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0029】
以下の説明において参照する図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の大きさ、個数、形状等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合がある。また、説明の都合上、後に説明する図面において、先に説明した図面と同一構成部分については、同一符号を付して、その説明を省略する場合がある。
【0030】
＜反射防止層付き偏光板の製造方法＞
本実施形態に係る反射防止層付き偏光板の製造方法は、フィルム基材と、フィルム基材の一方の主面側に設けられた反射防止層とを有する反射防止層付き偏光板の製造方法であって、工程Ｓａと、工程Ｓｂとを備える。工程Ｓａでは、フィルム基材の一方の主面側に、２層以上の薄膜からなる反射防止層を成膜する。工程Ｓｂでは、反射防止層を構成する少なくとも１つの層を成膜した後、当該層に可視光を照射し、その反射光を検出する（インライン反射光測定）。工程Ｓａ及び工程Ｓｂは、フィルム基材を一方向に搬送しながら、連続して実施される。フィルム基材は、第１保護フィルム、第１接着剤層、偏光子、第２接着剤層及び第２保護フィルムをこの順に有する積層体である。第１保護フィルムと偏光子とは、第１接着剤層を介して接着されている。第２保護フィルムと偏光子とは、第２接着剤層を介して接着されている。第１保護フィルム及び第２保護フィルムは、いずれも、偏光子よりも幅が大きく、偏光子の幅方向の両端から張り出している。偏光子の幅方向の両端から張り出した箇所の少なくとも一部における第１保護フィルムと第２保護フィルムとの間隔は、偏光子の幅方向の端部を挟持する箇所における第１保護フィルムと第２保護フィルムとの間隔よりも狭い。
本実施形態に係る反射防止層付き偏光板の製造方法は、フィルム基材と、フィルム基材の一方の主面側に設けられた反射防止層とを有する反射防止層付き偏光板の製造方法であって、工程Ｓａと、工程Ｓｂとを備える。工程Ｓａでは、フィルム基材の一方の主面側に、２層以上の薄膜からなる反射防止層を成膜する。工程Ｓｂでは、反射防止層を構成する少なくとも１つの層を成膜した後、当該層に可視光を照射し、その反射光を検出する（インライン反射光測定）。工程Ｓａ及び工程Ｓｂは、フィルム基材を一方向に搬送しながら、連続して実施される。フィルム基材は、第１保護フィルム、第１接着剤層、偏光子、第２接着剤層及び第２保護フィルムをこの順に有する積層体である。第１保護フィルムと偏光子とは、第１接着剤層を介して接着されている。第２保護フィルムと偏光子とは、第２接着剤層を介して接着されている。第１保護フィルム及び第２保護フィルムは、いずれも、偏光子よりも幅が大きく、偏光子の幅方向の両端から張り出している。偏光子の幅方向の両端から張り出した箇所の少なくとも一部における第１保護フィルムと第２保護フィルムとの間隔は、偏光子の幅方向の端部を挟持する箇所における第１保護フィルムと第２保護フィルムとの間隔よりも狭い。
【0031】
本実施形態によれば、上記構成を備えるため、反射光特性を均一に保つことができる反射防止層付き偏光板の製造方法を提供できる。以下、工程Ｓａを、「反射防止層形成工程」と記載することがある。また、工程Ｓｂを、「インライン反射光測定工程」と記載することがある。
【0032】
以下、本実施形態に係る反射防止層付き偏光板の製造方法の詳細について、適宜図面を参照しながら説明する。まず、フィルム基材について説明する。
【0033】
［フィルム基材］
図１は、本実施形態において使用可能なフィルム基材の一例を示す断面図である。図１に示すフィルム基材１０は、第１保護フィルム１１、第１接着剤層１２、偏光子１３、第２接着剤層１４及び第２保護フィルム１５をこの順に有する積層体である。第２保護フィルム１５は、透明フィルム１６と、透明フィルム１６の一方の主面側（図１では、透明フィルム１６の第２接着剤層１４側とは反対側の主面１６ａ）に設けられたハードコート層１７とを備える。第１保護フィルム１１と偏光子１３とは、第１接着剤層１２を介して接着されている。第２保護フィルム１５と偏光子１３とは、第２接着剤層１４を介して接着されている。第１保護フィルム１１及び第２保護フィルム１５は、いずれも、偏光子１３よりも幅が大きく、偏光子１３の幅方向の両端から張り出している。偏光子１３の幅方向の両端から張り出した箇所Ｐの少なくとも一部における第１保護フィルム１１と第２保護フィルム１５との間隔Ｄ１は、偏光子１３の幅方向の端部を挟持する箇所における第１保護フィルム１１と第２保護フィルム１５との間隔Ｄ２よりも狭い。
図１は、本実施形態において使用可能なフィルム基材の一例を示す断面図である。図１に示すフィルム基材１０は、第１保護フィルム１１、第１接着剤層１２、偏光子１３、第２接着剤層１４及び第２保護フィルム１５をこの順に有する積層体である。第２保護フィルム１５は、透明フィルム１６と、透明フィルム１６の一方の主面側（図１では、透明フィルム１６の第２接着剤層１４側とは反対側の主面１６ａ）に設けられたハードコート層１７とを備える。第１保護フィルム１１と偏光子１３とは、第１接着剤層１２を介して接着されている。第２保護フィルム１５と偏光子１３とは、第２接着剤層１４を介して接着されている。第１保護フィルム１１及び第２保護フィルム１５は、いずれも、偏光子１３よりも幅が大きく、偏光子１３の幅方向の両端から張り出している。偏光子１３の幅方向の両端から張り出した箇所Ｐの少なくとも一部における第１保護フィルム１１と第２保護フィルム１５との間隔Ｄ１は、偏光子１３の幅方向の端部を挟持する箇所における第１保護フィルム１１と第２保護フィルム１５との間隔Ｄ２よりも狭い。
【0034】
一般に、反射防止層付き偏光板用のフィルム基材は、後述する反射防止層を成膜する際に、上記張り出した箇所Ｐをスリットした状態で使用される。本発明者らの検討により、上記張り出した箇所Ｐをスリットした状態では、反射防止層を成膜する際に、偏光子１３中の水分が偏光子１３の端面から蒸散しやすくなり、その結果、得られる反射防止層付き偏光板の長手方向又は幅方向に反射光特性がばらつく傾向があることが判明した。詳しくは、上記張り出した箇所Ｐをスリットしたフィルム基材を使用すると、偏光子１３中の水分が偏光子１３の端面から蒸散しやすくなり、反射防止層を成膜する際の成膜室内のガス組成（特に、偏光子１３の端面近傍のガス組成）が変動しやすくなる。その結果、得られる反射防止層付き偏光板の長手方向又は幅方向において反射防止層の厚みのばらつきが大きくなる傾向がある。よって、上記張り出した箇所Ｐをスリットしたフィルム基材を使用すると、反射防止層の長手方向又は幅方向の厚みのばらつきが大きくなるため、反射防止層付き偏光板の長手方向又は幅方向に反射光特性（例えば、色相等）がばらつく傾向がある。
【0035】
本実施形態では、上記張り出した箇所Ｐの少なくとも一部における第１保護フィルム１１と第２保護フィルム１５との間隔Ｄ１が、偏光子１３の幅方向の端部を挟持する箇所における第１保護フィルム１１と第２保護フィルム１５との間隔Ｄ２よりも狭いため、圧力損失により、偏光子１３の端面からのガスが放出されにくくなると考えられる。このため、本実施形態では、偏光子１３の端面からの水分の蒸散が抑制され、その結果、反射防止層を成膜する際の成膜室内のガス組成の変動が抑制されると推測される。これにより、後述するインライン反射光測定工程において得られた検出結果を用いた、反射防止層の成膜条件の調整が容易となるため、得られる反射防止層付き偏光板の長手方向又は幅方向において反射防止層の厚みのばらつきが小さくなる。よって、本実施形態によれば、反射防止層の長手方向又は幅方向の厚みのばらつきが小さくなるため、反射防止層付き偏光板の長手方向又は幅方向の反射光特性（例えば、色相等）のばらつきが小さくなる。従って、本実施形態によれば、反射光特性を均一に保つことができる反射防止層付き偏光板の製造方法を提供できる。
【0036】
上記間隔Ｄ１を上記間隔Ｄ２よりも狭くする方法としては、第１接着剤層１２及び第２接着剤層１４を形成するための接着剤の硬化収縮を利用する方法が挙げられる。詳しくは、第１保護フィルム１１と偏光子１３とを接着剤で接着しながら、第２保護フィルム１５と偏光子１３とを接着剤で接着する際に、接着剤の硬化収縮に伴い、第１保護フィルム１１及び第２保護フィルム１５の端部同士が引き寄せられる。また、偏光子１３の幅方向の端部近傍において接着剤が濡れ広がる際の界面張力によっても、第１保護フィルム１１及び第２保護フィルム１５の端部同士が引き寄せられる。その結果、図１に示すように、上記間隔Ｄ１が上記間隔Ｄ２よりも狭いフィルム基材１０が得られる。
【0037】
偏光子１３の端面からの水分の蒸散をより抑制するためには、図２に示すように、両端から張り出した箇所Ｐの幅方向の少なくとも一部において、第１保護フィルム１１と第２保護フィルム１５とを接着する第３接着剤層２１を更に備えるフィルム基材２０を用いることが好ましい。第３接着剤層２１の材料となる接着剤は、第１接着剤層１２及び第２接着剤層１４の材料となる接着剤と同種又は異なる種類の接着剤を使用できる。第３接着剤層２１の材料となる接着剤としては、例えば、後述する第１接着剤層１２の材料となる接着剤として挙げられたものを使用できる。
【0038】
偏光子１３の端面からの水分の蒸散を更に抑制するためには、図２に示すように、第３接着剤層２１が、第１接着剤層１２及び第２接着剤層１４と一体的に形成されていることが好ましい。また、偏光子１３の端面からの水分の蒸散を更により抑制するためには、図２に示すように、偏光子１３の幅方向の端面が第３接着剤層２１により封止されていることが好ましい。第３接着剤層２１と、第１接着剤層１２及び第２接着剤層１４とを一体的に形成する際は、第１保護フィルム１１と偏光子１３とを接着剤で接着する際、及び第２保護フィルム１５と偏光子１３とを接着剤で接着する際に、接着剤が上記張り出した箇所Ｐへ溢れ出るように接着剤の塗布量を調整すればよい。
【0039】
次に、フィルム基材１０の要素について説明する。
【0040】
（第１保護フィルム１１）
第１保護フィルム１１は、例えば可撓性を有する透明な樹脂フィルムである。第１保護フィルム１１を構成する材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、及びポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、及びポリエチレンナフタレートが挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が挙げられる。これらの材料は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。第１保護フィルム１１の材料としては、透明性及び強度の観点から、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びセルロース樹脂からなる群より選択される一種が好ましく、ＰＥＴ、ＣＯＰ及びＴＡＣからなる群より選択される一種がより好ましく、ＴＡＣが更に好ましい。つまり、第１保護フィルム１１としては、ポリエステル樹脂フィルム、ポリオレフィン樹脂フィルム、及びセルロース樹脂フィルムからなる群より選択される一種のフィルムが好ましく、ＰＥＴフィルム、ＣＯＰフィルム及びＴＡＣフィルムからなる群より選択される一種のフィルムがより好ましく、ＴＡＣフィルムが更に好ましい。
第１保護フィルム１１は、例えば可撓性を有する透明な樹脂フィルムである。第１保護フィルム１１を構成する材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、及びポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、及びポリエチレンナフタレートが挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が挙げられる。これらの材料は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。第１保護フィルム１１の材料としては、透明性及び強度の観点から、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びセルロース樹脂からなる群より選択される一種が好ましく、ＰＥＴ、ＣＯＰ及びＴＡＣからなる群より選択される一種がより好ましく、ＴＡＣが更に好ましい。つまり、第１保護フィルム１１としては、ポリエステル樹脂フィルム、ポリオレフィン樹脂フィルム、及びセルロース樹脂フィルムからなる群より選択される一種のフィルムが好ましく、ＰＥＴフィルム、ＣＯＰフィルム及びＴＡＣフィルムからなる群より選択される一種のフィルムがより好ましく、ＴＡＣフィルムが更に好ましい。
【0041】
第１保護フィルム１１の厚みは、強度の観点から、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは２０μｍ以上である。第１保護フィルム１１の厚みは、取扱い性の観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
【0042】
第１保護フィルム１１の一方の主面又は両主面は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、及びカップリング剤処理が挙げられる。
【0043】
第１保護フィルム１１の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ ７３７５－２００８）は、反射防止層付き偏光板の透明性を向上させる観点から、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９５％以上１００％以下である。
【0044】
（偏光子１３）
偏光子１３としては、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。中でも、高い偏光度を有することから、ポリビニルアルコールや、部分ホルマール化ポリビニルアルコール等のポリビニルアルコール系フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて所定方向に配向させたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系偏光子が好ましい。偏光子１３の厚みは、例えば５μｍ以上１００μｍ以下である。
偏光子１３としては、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。中でも、高い偏光度を有することから、ポリビニルアルコールや、部分ホルマール化ポリビニルアルコール等のポリビニルアルコール系フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて所定方向に配向させたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系偏光子が好ましい。偏光子１３の厚みは、例えば５μｍ以上１００μｍ以下である。
【0045】
（透明フィルム１６）
透明フィルム１６の材料としては、第１保護フィルム１１の材料として上述したものと同様の材料が好ましく用いられる。また、透明フィルム１６の好ましい厚み範囲についても、上述した第１保護フィルム１１の好ましい厚み範囲と同様である。なお、透明フィルム１６の材料と第１保護フィルム１１の材料とは、同種でもよく、互いに異なる種類でもよい。また、透明フィルム１６の厚みと第１保護フィルム１１の厚みは、同一でもよく、異なっていてもよい。
透明フィルム１６の材料としては、第１保護フィルム１１の材料として上述したものと同様の材料が好ましく用いられる。また、透明フィルム１６の好ましい厚み範囲についても、上述した第１保護フィルム１１の好ましい厚み範囲と同様である。なお、透明フィルム１６の材料と第１保護フィルム１１の材料とは、同種でもよく、互いに異なる種類でもよい。また、透明フィルム１６の厚みと第１保護フィルム１１の厚みは、同一でもよく、異なっていてもよい。
【0046】
（第１接着剤層１２）
第１接着剤層１２の材料となる接着剤としては、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系ポリマー、フッ素系ポリマー、ゴム系ポリマー等をベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。ＰＶＡ系偏光子の接着には、ポリビニルアルコール系の接着剤が好ましく用いられる。第１接着剤層１２の厚みは、例えば０．１μｍ以上５．０μｍ以下であり、好ましくは０．２μｍ以上３．０μｍ以下である。
第１接着剤層１２の材料となる接着剤としては、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系ポリマー、フッ素系ポリマー、ゴム系ポリマー等をベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。ＰＶＡ系偏光子の接着には、ポリビニルアルコール系の接着剤が好ましく用いられる。第１接着剤層１２の厚みは、例えば０．１μｍ以上５．０μｍ以下であり、好ましくは０．２μｍ以上３．０μｍ以下である。
【0047】
（第２接着剤層１４）
第２接着剤層１４の材料となる接着剤としては、第１接着剤層１２の材料となる接着剤として上述したものと同様の接着剤が好ましく用いられる。また、第２接着剤層１４の好ましい厚み範囲についても、上述した第１接着剤層１２の好ましい厚み範囲と同様である。なお、第２接着剤層１４の材料となる接着剤と第１接着剤層１２の材料となる接着剤とは、同種でもよく、互いに異なる種類でもよい。また、第２接着剤層１４の厚みと第１接着剤層１２の厚みは、同一でもよく、異なっていてもよい。
第２接着剤層１４の材料となる接着剤としては、第１接着剤層１２の材料となる接着剤として上述したものと同様の接着剤が好ましく用いられる。また、第２接着剤層１４の好ましい厚み範囲についても、上述した第１接着剤層１２の好ましい厚み範囲と同様である。なお、第２接着剤層１４の材料となる接着剤と第１接着剤層１２の材料となる接着剤とは、同種でもよく、互いに異なる種類でもよい。また、第２接着剤層１４の厚みと第１接着剤層１２の厚みは、同一でもよく、異なっていてもよい。
【0048】
（ハードコート層１７）
ハードコート層１７は、反射防止層付き偏光板の硬度や弾性率等の機械的特性を高める層である。ハードコート層１７は、例えば、硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）の硬化物からなる。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、及びメラミン樹脂が挙げられる。これらの硬化性樹脂は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。ハードコート層１７の硬度を高める観点から、硬化性樹脂としては、アクリル樹脂及びウレタンアクリレート系樹脂からなる群より選択される一種以上が好ましく、ウレタンアクリレート系樹脂がより好ましい。
ハードコート層１７は、反射防止層付き偏光板の硬度や弾性率等の機械的特性を高める層である。ハードコート層１７は、例えば、硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）の硬化物からなる。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、及びメラミン樹脂が挙げられる。これらの硬化性樹脂は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。ハードコート層１７の硬度を高める観点から、硬化性樹脂としては、アクリル樹脂及びウレタンアクリレート系樹脂からなる群より選択される一種以上が好ましく、ウレタンアクリレート系樹脂がより好ましい。
【0049】
また、硬化性樹脂組成物としては、例えば、紫外線硬化型の樹脂組成物、及び熱硬化型の樹脂組成物が挙げられる。反射防止層付き偏光板の生産性向上の観点から、硬化性樹脂組成物としては、紫外線硬化型の樹脂組成物が好ましい。紫外線硬化型の樹脂組成物には、紫外線硬化型モノマー、紫外線硬化型オリゴマー及び紫外線硬化型ポリマーからなる群より選択される一種以上が含まれる。紫外線硬化型の樹脂組成物の具体例としては、特開２０１６－１７９６８６号公報に記載のハードコート層形成用組成物が挙げられる。
【0050】
また、硬化性樹脂組成物は、個数平均一次粒子径が０．５μｍ以上の粒子（以下、「マイクロ粒子」と記載することがある）を含有してもよい。つまり、ハードコート層１７は、マイクロ粒子を含有してもよい。硬化性樹脂組成物にマイクロ粒子を配合することにより、ハードコート層１７における、硬さの調整、表面粗さの調整、屈折率の調整及び防眩性の調整が可能となる。マイクロ粒子としては、例えば、金属（又は半金属）の酸化物粒子、ガラス粒子、及び有機粒子が挙げられる。金属（又は半金属）の酸化物粒子の材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化カドミウム、及び酸化アンチモンが挙げられる。有機粒子の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル－スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、及びポリカーボネートが挙げられる。
【0051】
ハードコート層１７の防眩性を容易に調整するためには、マイクロ粒子の個数平均一次粒子径が、１．０μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましく、２．０μｍ以上４．０μｍ以下であることがより好ましい。
【0052】
ハードコート層１７の防眩性を容易に調整するためには、ハードコート層１７におけるマイクロ粒子の量は、硬化性樹脂１００重量部に対して、５重量部以上であることが好ましく、１０重量部以上、２０重量部以上又は３０重量部以上であってもよい。ハードコート層１７におけるマイクロ粒子の量の上限は、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば９０重量部であり、８０重量部であることが好ましく、７０重量部であってもよい。
【0053】
また、硬化性樹脂組成物は、個数平均一次粒子径が０．５μｍ未満の粒子（以下、「ナノ粒子」と記載することがある）を含んでいてもよい。ハードコート層１７がナノ粒子を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる場合、ハードコート層１７の表面に、微細な凹凸が形成され、ハードコート層１７と、その上に形成される層との密着性が向上する傾向がある。
【0054】
密着性向上に寄与する微細な凹凸形状を形成する観点から、ナノ粒子の個数平均一次粒子径は、２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが好ましく、２５ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【0055】
ナノ粒子の材料としては、無機酸化物が好ましい。無機酸化物としては、酸化シリコン（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化セリウム、酸化マグネシウム等の金属（又は半金属）の酸化物が挙げられる。無機酸化物は、複数種の（半）金属の複合酸化物でもよい。例示の無機酸化物の中でも、密着性向上効果が高いことから、酸化シリコンが好ましい。つまり、ナノ粒子としては、酸化シリコンの粒子（シリカ粒子）が好ましい。ナノ粒子としての無機酸化物粒子の表面には、樹脂との密着性や親和性を高める目的で、アクリル基、エポキシ基等の官能基が導入されていてもよい。
【0056】
ハードコート層１７におけるナノ粒子の量は、硬化性樹脂１００重量部に対して、５重量部以上であることが好ましく、１０重量部以上、２０重量部以上又は３０重量部以上であってもよい。ナノ粒子の量が５重量部以上であれば、ハードコート層１７上に形成される層との密着性をより向上させることができる。ハードコート層１７におけるナノ粒子の量の上限は、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば９０重量部であり、８０重量部であることが好ましく、７０重量部であってもよい。
【0057】
硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）は、例えば、上述した硬化性樹脂、及び重合開始剤（例えば光重合開始剤）を含み、必要に応じてこれらの成分を溶解又は分散可能な溶媒を含む。また、硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）は、上記成分の他に、マイクロ粒子、ナノ粒子、レベリング剤、粘度調整剤（チクソトロピー剤、増粘剤等）、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、分散剤、分散安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、界面活性剤、滑剤等の添加剤を含んでいてもよい。
【0058】
ハードコート層１７の厚みは、ハードコート層１７の硬度を高める観点から、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上である。ハードコート層１７の厚みは、反射防止層付き偏光板の柔軟性確保の観点から、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３５μｍ以下、更により好ましくは３０μｍ以下である。
【0059】
（ハードコート層１７の形成方法）
ハードコート層１７は、例えば、透明フィルム１６の一方の主面（図１では、透明フィルム１６の第２接着剤層１４側とは反対側の主面１６ａ）に、硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）を塗布し、必要に応じて溶媒の除去及び樹脂の硬化を行うことにより、形成される。透明フィルム１６の一方の主面にハードコート層１７を設けることにより、図１に示すように、透明フィルム１６とハードコート層１７とを備える第２保護フィルム１５が得られる。
ハードコート層１７は、例えば、透明フィルム１６の一方の主面（図１では、透明フィルム１６の第２接着剤層１４側とは反対側の主面１６ａ）に、硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）を塗布し、必要に応じて溶媒の除去及び樹脂の硬化を行うことにより、形成される。透明フィルム１６の一方の主面にハードコート層１７を設けることにより、図１に示すように、透明フィルム１６とハードコート層１７とを備える第２保護フィルム１５が得られる。
【0060】
ハードコート層形成用組成物の塗布方法としては、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法等の任意の適切な方法を採用し得る。塗布後の塗膜の乾燥温度は、ハードコート層形成用組成物の組成等に応じて、適切な温度に設定すればよく、例えば、５０℃以上１５０℃以下である。ハードコート層形成用組成物中の樹脂成分が熱硬化性樹脂である場合は、加熱によって塗膜を硬化させる。ハードコート層形成用組成物中の樹脂成分が光硬化性樹脂である場合は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって塗膜を硬化させる。照射光の積算光量は、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ２以上５００ｍＪ／ｃｍ２以下である。
【0061】
ハードコート層１７と、その上に形成される層との密着性を高めるために、ハードコート層１７の透明フィルム１６側とは反対側の主面をボンバード処理してもよい。ボンバード処理に使用するガスとしては、希ガス（具体的には、アルゴンガス等）及び酸素ガスからなる群より選択される一種以上が好ましい。
【0062】
ハードコート層１７と、その上に形成される層との密着性をより高めるためには、圧力０．１Ｐａ以上１．０Ｐａ以下の条件で、ハードコート層１７の透明フィルム１６側とは反対側の主面をボンバード処理することが好ましい。
【0063】
ハードコート層１７と、その上に形成される層との密着性をより高めるためには、ボンバード処理工程における実効パワー密度は、０．０１Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２・ｍ以上であることが好ましく、０．０２Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２・ｍ以上であることがより好ましく、０．０３Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２・ｍ以上であることが更に好ましい。ボンバード処理工程におけるフィルム基材の変形を抑制するためには、ボンバード処理工程における実効パワー密度は、０．６０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２・ｍ以下であることが好ましく、０．５５Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２・ｍ以下であることがより好ましく、０．５０Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２・ｍ以下であることが更に好ましい。なお、実効パワー密度とは、プラズマ出力のパワー密度（Ｗ／ｃｍ２）をロールトゥロール方式によるフィルムの搬送速度（ｍ／ｍｉｎ）で割った値である。プラズマ出力が同一でも搬送速度が大きい場合は、実効的な処理パワーは低下する。
【0064】
以上、本実施形態において使用可能なフィルム基材の例について説明したが、本発明において使用可能なフィルム基材は、上述した例に限定されない。例えば、本発明において使用可能なフィルム基材は、ハードコート層を備えていなくてもよい。フィルム基材がハードコート層を備えていない場合、第２保護フィルムとしては、例えば透明フィルムを使用できる。
【0065】
また、本発明では、図３に示すような、第１保護フィルム１１の偏光子１３側とは反対側に設けられた粘着剤層３１を更に備えるフィルム基材３０を使用してもよい。図３に示すフィルム基材３０では、第１保護フィルム１１の偏光子１３側とは反対側の主面１１ａに粘着剤層３１が設けられている。
【0066】
粘着剤層３１を構成する粘着剤は、特に限定されず、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル－塩化ビニル共重合体、変性ポリオレフィン、エポキシ系樹脂、フッ素系樹脂、天然ゴム、合成ゴム等のポリマーをベースポリマーとする透明な粘着剤を、適宜に選択して用いることができる。粘着剤層３１の厚みは、特に限定されないが、薄層性及び接着性を両立させる観点から、５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
【0067】
図３に示すように、粘着剤層３１の第１保護フィルム１１側とは反対側の主面３１ａには、はく離ライナー３２が仮着されていてもよい。はく離ライナー３２は、例えば、反射防止層付き偏光板を画像表示セル（不図示）と貼り合わせるまでの間、粘着剤層３１の表面を保護する。はく離ライナー３２の構成材料としては、アクリル、ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、ポリエステル等から形成されたプラスチックフィルムが好適に用いられる。はく離ライナー３２の厚みは、例えば、５μｍ以上２００μｍ以下である。はく離ライナー３２の表面には、離型処理が施されていることが好ましい。離型処理に使用される離型剤の材料としては、シリコーン系材料、フッ素系材料、長鎖アルキル系材料、脂肪酸アミド系材料等が挙げられる。
【0068】
［反射防止層形成工程及びインライン反射光測定工程］
次に、図４及び図５Ａ～Ｃを参照しながら、反射防止層形成工程及びインライン反射光測定工程について説明する。図４は、反射防止層の成膜装置の一例を示す模式図である。図５Ａ～Ｃは、反射防止層形成工程の一例を示す工程別断面図である。
次に、図４及び図５Ａ～Ｃを参照しながら、反射防止層形成工程及びインライン反射光測定工程について説明する。図４は、反射防止層の成膜装置の一例を示す模式図である。図５Ａ～Ｃは、反射防止層形成工程の一例を示す工程別断面図である。
【0069】
まず、反射防止層の成膜装置の一例について説明する。図４に示す成膜装置は、フィルム基材を一方向に搬送しながら反射防止層形成工程及びインライン反射光測定工程を連続的に実施でき、かつインライン反射光測定工程における検出結果を反射防止層形成工程の成膜条件に反映させることができる成膜装置である。図４に示す成膜装置は、第１成膜ロール２８１及び第２成膜ロール２８２を備える。各成膜ロール２８１及び２８２の周方向に沿って、隔壁で区切られた４つの成膜室（第１成膜室２１０、第２成膜室２２０、第３成膜室２３０及び第４成膜室２４０）が設けられている。各成膜室内にはカソードが設けられており、カソード２１４、２２４、２３４及び２４４は、それぞれ電源２１６、２２６、２３６及び２４６に接続されている。カソード２１４、２２４、２３４及び２４４上には、成膜ロール２８１及び２８２に対面するように、それぞれターゲット２１３、２２３、２３３及び２４３が配置されている。各成膜室２１０、２２０、２３０及び２４０には、ガス導入管が接続されており、ガス導入管の上流には、バルブ２１９、２２９、２３９及び２４９が設けられている。
【0070】
準備室２５０内の巻出しロール２５１には、フィルム基材１０（図５Ａ参照）の巻回体がセットされている。巻出しロール２５１から巻出されたフィルム基材１０は、第１成膜ロール２８１上に搬送され、第１成膜室２１０、第２成膜室２２０へと順に導かれる。第１成膜室２１０で、ハードコート層１７の透明フィルム１６側とは反対側（図５Ａでは、ハードコート層１７の透明フィルム１６側とは反対側の主面１７ａ）に高屈折率層１０２が成膜され、第２成膜室２２０で、高屈折率層１０２上に低屈折率層１０３が成膜される（図５Ｂ参照）。高屈折率層１０２及び低屈折率層１０３が成膜されたフィルム基材１０は、第２成膜ロール２８２上に搬送され、第３成膜室２３０及び第４成膜室２４０で、高屈折率層１０４及び低屈折率層１０５が順次成膜される（図５Ｃ参照）。なお、高屈折率層及び低屈折率層の詳細については、後述する。以上の反射防止層形成工程により、ハードコート層１７の透明フィルム１６側とは反対側の主面に、高屈折率層１０２、低屈折率層１０３、高屈折率層１０４及び低屈折率層１０５をこの順に有する反射防止層１０１が形成され、反射防止層付き偏光板１００（図５Ｃ参照）が得られる。
【0071】
反射防止層１０１が形成された反射防止層付き偏光板１００は、巻取室２６０へ導かれ、巻取りロール２６１で巻取られ、反射防止層付き偏光板１００の巻回体が得られる。
【0072】
巻取室２６０内には、反射防止層付き偏光板１００の反射防止層１０１と対面するように、光照射部２９１及び光検出部２９３が配置されている。光照射部２９１から照射される光は、可視光を含んでいれば、白色光でもよく、単色光でもよい。光照射は、連続的でも断続的でもよい。インライン反射光測定工程では、光照射部２９１から、反射防止層１０１へ照射された光の反射光が、光検出部２９３で検出される。光検出部２９３で検出された反射光は、受光素子（図示せず）により電気信号に変換され、必要に応じて演算部２７３で演算が行われる。演算部２７３では、検出された反射光のスペクトルの算出や、特定の表色系（例えば、ＸＹＺ表色系、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系等）への変換、あるいは膜厚の算出等が行われる。なお、偏光子１３を含むフィルム基材１０からの反射光をカットするためには、光照射部２９１から照射される可視光を偏光する偏光板（図示せず）を配置することが好ましい。偏光子１３を含むフィルム基材１０からの反射光をカットすることにより、成膜される反射防止層１０１の反射光特性のみを測定することができる。
【0073】
更に、演算部２７３では、検出された反射光の反射特性と、目的とする反射光特性との差異の判定が行われ、差異が閾値を超えた場合に、薄膜の成膜条件を変更するように、制御部２７５に信号を送信する。制御部２７５は、反射光の特性（反射率や色相等）が所定の範囲内となるように、反射防止層１０１の成膜条件の調整を行う。
【0074】
調整の対象となる成膜条件としては、成膜室内へのガス導入量、フィルムの搬送速度、投入電力量等が挙げられる。例えば、図４に示す成膜装置では、制御部２７５が、巻出しロール２５１、巻取りロール２６１、第１成膜ロール２８１及び第２成膜ロール２８２の回転速度、電源２１６、２２６、２３６及び２４６の投入電力量、並びにガス導入管のバルブ２１９、２２９、２３９及び２４９の開度を調整することにより、各成膜室内での薄膜の成膜条件を調整できる。反射光の特性の変化は、主に薄膜の膜厚の変動に起因する。従って、各成膜室内で成膜される薄膜の膜厚が設定値に近づくように、薄膜の成膜条件の調整が行われることが好ましい。成膜条件の調整は、例えばＰＩＤ制御により実行される。
【0075】
目的とする反射光特性との差異の判定を行うためには、基準となる反射光特性を予め定めておく必要がある。基準となる反射光特性は、製品の規格等により適宜に定められる。一例として、製品の規格範囲の中央を基準とする方法や、各層の設定膜厚及び屈折率から光学計算により算出される反射光スペクトル（特開２０１６－１２２１７３号公報の実施例参照）を基準とする方法が挙げられる。また、オフラインで測定した製品の反射光スペクトルを基準としてもよい。
【0076】
本実施形態では、偏光子１３（図５Ａ参照）の端面からの水分の蒸散が抑制され、その結果、反射防止層１０１を成膜する際の成膜室内のガス組成の変動が抑制されると考えられる。これにより、インライン反射光測定工程において得られた検出結果を用いた、反射防止層１０１の成膜条件の調整（具体的には、ガス導入量の調整等）が容易となる。特に、本実施形態によれば、反射防止層付き偏光板の幅方向の端部においても反射光特性を許容範囲内に収めることができるため、製品として使用できる反射防止層付き偏光板の幅が大きくなる。
【0077】
反射防止層付き偏光板の幅方向の反射光特性のばらつきをより抑制するためには、光照射部２９１及び光検出部２９３を、それぞれ反射防止層１０１の幅方向に複数個設け、反射防止層１０１の幅方向の複数個所においてインライン反射光測定（可視光の照射及び反射光の検出）を行うことが好ましい。この場合、例えば、各成膜室においてフィルムの幅方向に複数個のガス導入管を設けると、フィルムの幅方向の複数箇所で、ガス導入量を個別に調整することが可能となる。反射防止層１０１の幅方向の複数個所においてインライン反射光測定を行うことで、反射防止層付き偏光板の長手方向及び幅方向の双方について反射光特性のばらつきを抑制することもできる。また、反射防止層付き偏光板の幅方向の反射光特性のばらつきを抑制するために、光照射部及び光検出部を備える測定ヘッドをフィルムの幅方向に移動可能に設けてもよい。
【0078】
反応性スパッタ法により反射防止層１０１を成膜する場合は、反射防止層１０１の成膜条件を調整する際、プラズマエミッションモニタリング（ＰＥＭ）制御により、酸素ガス等の反応性ガスの導入量を制御することが好ましい。ＰＥＭ制御では、スパッタ成膜のプラズマ発光強度を検知し、発光強度が所定の制御値（セットポイント、以下「ＳＰ」と記載することがある）となるように、反応性ガスの導入量の調整が行われる。プラズマ発光強度が一定となるようにガス導入量を自動調整することにより、遷移領域を維持して高レートでの成膜が可能となることに加えて、成膜レートを一定に保持できる。ただし、長時間連続して成膜を実施すると、ターゲットのエロージョン等の影響により、プラズマ発光強度が同一でも、成膜レートが変化する。よって、長時間の連続成膜を実施する場合に、反射防止層付き偏光板の長手方向の反射光特性の変動を抑制するためには、インライン反射光測定工程での光学特性の測定結果に基づいて、ＰＥＭのＳＰを適宜調整することが好ましい。
【0079】
ＰＥＭ制御では、各成膜室内のスパッタ成膜の状態を制御するために、ＰＥＭによりプラズマ発光強度を常時モニタリングし、所定の範囲に設定した発光強度のＳＰに基づき、各成膜室内へのガス導入量がフィードバック制御される。フィルムの幅方向にＰＥＭを複数設けることにより、それぞれのＰＥＭにおいて個別にＳＰを設定することが可能となる。これにより、ＰＥＭに対応する幅方向の位置に導入されるガス導入量のバランスを調整できるため、幅方向に均一な膜厚を有する反射防止層１０１を成膜できる。例えば、インライン反射光測定工程において反射光を検出し、その検出結果から膜厚を算出し、その算出結果に応じてフィルムの長手方向又は幅方向で反射防止層１０１の膜厚が均一になるようにＳＰを変更することにより、フィルムの長手方向又は幅方向の反射光特性を均一に保つことができる。以下、インライン反射光測定工程において反射光を検出し、その検出結果から膜厚を算出し、その算出結果に応じてフィルムの長手方向又は幅方向で反射防止層の膜厚が均一になるようにＳＰを変更する一連の操作を、「フィードバック操作」と記載することがある。フィードバック操作は、例えば、反射防止層１０１の長手方向又は幅方向の膜厚のばらつきが許容範囲となるまで繰り返される。本実施形態によれば、反射防止層を成膜する際の成膜室内のガス組成の変動を抑制できるため、フィードバック操作の回数が少なくなる。これにより、反射防止層付き偏光板の生産性を向上できる。
【0080】
［反射防止層１０１］
次に、反射防止層１０１の詳細について説明する。反射防止層１０１は、２層以上の薄膜からなる。図５Ｃに示す反射防止層１０１は、ハードコート層１７側から、高屈折率層１０２、低屈折率層１０３、高屈折率層１０４及び低屈折率層１０５の４層をこの順に有する。なお、反射防止層付き偏光板の反射防止層は、反射防止層１０１のような４層構成に限定されず、２層構成、３層構成、５層構成、又は６層以上の積層構成であってもよい。空気界面での反射を低減するためには、反射防止層付き偏光板の反射防止層は、最外層（偏光子から最も離れた層）が低屈折率層であることが好ましい。
次に、反射防止層１０１の詳細について説明する。反射防止層１０１は、２層以上の薄膜からなる。図５Ｃに示す反射防止層１０１は、ハードコート層１７側から、高屈折率層１０２、低屈折率層１０３、高屈折率層１０４及び低屈折率層１０５の４層をこの順に有する。なお、反射防止層付き偏光板の反射防止層は、反射防止層１０１のような４層構成に限定されず、２層構成、３層構成、５層構成、又は６層以上の積層構成であってもよい。空気界面での反射を低減するためには、反射防止層付き偏光板の反射防止層は、最外層（偏光子から最も離れた層）が低屈折率層であることが好ましい。
【0081】
一般に、反射防止層は、入射光と反射光の逆転した位相が互いに打ち消し合うように、薄膜の光学膜厚（屈折率と厚みの積）が調整される。反射防止層を、屈折率の異なる２層以上の薄膜の多層積層体とすることにより、可視光の広帯域の波長範囲において、反射率を小さくできる。
【0082】
反射防止層１０１を構成する薄膜の材料としては、金属（又は半金属）の酸化物、窒化物、フッ化物等が挙げられる。反射防止層１０１は、好ましくは、高屈折率層と低屈折率層の交互積層体であり、より好ましくは、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層との交互積層体である。
【0083】
高屈折率層は、屈折率が、例えば１．９以上であり、好ましくは２．０以上である。高屈折率層の材料としては、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等が挙げられる。中でも、酸化チタン及び酸化ニオブからなる群より選択される一種以上が好ましい。低屈折率層は、屈折率が、例えば１．６以下であり、好ましくは１．５以下である。低屈折率層の材料としては、酸化シリコン、窒化チタン、フッ化マグネシウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化ハフニウム、フッ化ランタン等が挙げられる。中でも酸化シリコンが好ましい。特に、高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）薄膜と、低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ２）薄膜とを交互に積層することが好ましい。低屈折率層と高屈折率層に加えて、屈折率１．６超１．９未満の中屈折率層が設けられてもよい。
【0084】
高屈折率層及び低屈折率層の膜厚は、それぞれ、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。屈折率や積層構成等に応じて、可視光の反射率が小さくなるように、各層の膜厚を設計すればよい。例えば、高屈折率層と低屈折率層の積層構成としては、フィルム基材１０側から、光学膜厚２０ｎｍ以上５５ｎｍ以下の高屈折率層、光学膜厚３５ｎｍ以上６０ｎｍ以下の低屈折率層、光学膜厚６５ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の高屈折率層、及び光学膜厚１００ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の低屈折率層からなる４層構成が挙げられる。
【0085】
反射防止層１０１が、高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）薄膜と、低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ２）薄膜とを交互に積層させた、４層の交互積層体である場合、反射防止層１０１の構成としては、ハードコート層１７側から、厚み５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の酸化ニオブ薄膜、厚み２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下の酸化シリコン薄膜、厚み２５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の酸化ニオブ薄膜、及び厚み５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の酸化シリコン薄膜をこの順に備える構成が挙げられる。
【0086】
高温耐久性に優れる反射防止層付き偏光板を得るためには、反射防止層１０１の厚みは、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、１２０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上２６０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１６０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下であることが更により好ましい。なお、本明細書において、「反射防止層の厚み」は、反射防止層を構成する各層の厚みの合計（合計厚み）である。
【0087】
反射防止層１０１の成膜方法は、特に限定されず、ウェットコーティング法及びドライコーティング法のいずれでもよい。膜厚が均一な薄膜を形成できることから、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法等のドライコーティング法が好ましく、スパッタ法がより好ましい。生産性を高める観点から、反射防止層１０１の成膜方法としては、図４に示すようなロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いて成膜する方法（ロールトゥロール方式のスパッタ法）が好ましい。スパッタ法では、アルゴン等の不活性ガス、及び必要に応じて酸素等の反応性ガスを成膜室内に導入しながら成膜が行われる。スパッタ法で酸化物膜を成膜する場合、酸化物ターゲットを用いる方法、及び金属（又は半金属）ターゲットを用いる反応性スパッタ法のいずれでも実施できる。
【0088】
酸化物ターゲットを用いて、酸化シリコン等の絶縁性の酸化物を成膜する場合、ＲＦ放電が必要であるため、成膜レートが小さく生産性が低くなる傾向がある。そのため、酸化物のスパッタ成膜は、金属ターゲットを用いた反応性スパッタ法が好ましい。反応性スパッタ法では、アルゴン等の不活性ガス及び酸素等の反応性ガスを成膜室内に導入しながら成膜が行われる。反応性スパッタ法では、金属領域と酸化物領域との中間の遷移領域となるように酸素量を調整することが好ましい。酸素量が不足する金属領域で成膜を行うと、得られる酸化物膜の酸素量が化学量論的組成に比して大幅に小さくなり、酸化物膜が金属光沢を帯びて透明性が低下する傾向がある。また、酸素量が大きい酸化物領域では、成膜レートが極端に低下する傾向がある。スパッタ成膜が遷移領域となるように酸素量を調整することにより、高レートで酸化物膜を成膜できる。反応性スパッタ法により反射防止層１０１を成膜する場合、上述したＰＥＭ制御により反応性ガスの導入量を制御できるため、反射防止層１０１の成膜条件の調整がより容易となる。反応性スパッタ法に用いるスパッタ電源としては、ＤＣ電源又はＭＦＡＣ電源（周波数帯が数ｋＨｚ～数ＭＨｚのＡＣ電源）が好ましい。
【0089】
スパッタ法を実施する際のパワー密度は、例えば０．１Ｗ／ｃｍ２以上２０Ｗ／ｃｍ２以下であり、好ましくは１Ｗ／ｃｍ２以上１５Ｗ／ｃｍ２以下である。スパッタ法を実施する際の成膜ロールの表面温度は、例えば－２５℃以上２５℃以下であり、好ましくは－２０℃以上０℃以下である。スパッタ法を実施する際の成膜室内の圧力は、例えば０．０１Ｐａ以上１０Ｐａ以下であり、好ましくは０．１Ｐａ以上１．０Ｐａ以下である。
【0090】
本実施形態に係る製造方法で得られた反射防止層付き偏光板は、例えば、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等のディスプレイに用いられる。特に、ディスプレイの最表面層として用いた場合に、反射防止によるディスプレイの視認性が向上する。
【0091】
［反射防止層付き偏光板の製造方法の好ましい態様］
本実施形態において、反射光特性を更に均一に保つためには、下記条件１を満たすことが好ましく、下記条件２を満たすことがより好ましく、下記条件３を満たすことが更に好ましい。
条件１：フィルム基材が上記第３接着剤層を更に備える。
条件２：上記条件１を満たし、かつ上記第３接着剤層が上記第１接着剤層及び上記第２接着剤層と一体的に形成されている。
条件３：上記条件２を満たし、かつ偏光子の幅方向の端面が上記第３接着剤層により封止されている。
本実施形態において、反射光特性を更に均一に保つためには、下記条件１を満たすことが好ましく、下記条件２を満たすことがより好ましく、下記条件３を満たすことが更に好ましい。
条件１：フィルム基材が上記第３接着剤層を更に備える。
条件２：上記条件１を満たし、かつ上記第３接着剤層が上記第１接着剤層及び上記第２接着剤層と一体的に形成されている。
条件３：上記条件２を満たし、かつ偏光子の幅方向の端面が上記第３接着剤層により封止されている。
【0092】
［他の実施形態］
以上、本実施形態に係る反射防止層付き偏光板の製造方法について説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されない。例えば、インライン反射光測定工程は、少なくとも１層の薄膜を形成した後であれば、いずれの段階で行われてもよい。例えば、第１成膜ロール２８１上で高屈折率層１０２及び低屈折率層１０３を形成後、光照射部２９７（図４参照）から低屈折率層１０３へ可視光を照射し、その反射光を、光検出部２９９で検出することにより、反射光のインライン検出が行われてもよい。また、２箇所以上で反射光のインライン検出が行われてもよい。例えば、高屈折率層１０２及び低屈折率層１０３を形成後、光照射部２９７及び光検出部２９９により反射光のインライン検出を行い、更に、高屈折率層１０４及び低屈折率層１０５を形成後、光照射部２９１及び光検出部２９３により反射光のインライン検出を行ってもよい。このように、２箇所以上でインライン測定を行えば、成膜条件を調整するべき成膜室の判定が容易となり、より緻密な制御が可能となる。
以上、本実施形態に係る反射防止層付き偏光板の製造方法について説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されない。例えば、インライン反射光測定工程は、少なくとも１層の薄膜を形成した後であれば、いずれの段階で行われてもよい。例えば、第１成膜ロール２８１上で高屈折率層１０２及び低屈折率層１０３を形成後、光照射部２９７（図４参照）から低屈折率層１０３へ可視光を照射し、その反射光を、光検出部２９９で検出することにより、反射光のインライン検出が行われてもよい。また、２箇所以上で反射光のインライン検出が行われてもよい。例えば、高屈折率層１０２及び低屈折率層１０３を形成後、光照射部２９７及び光検出部２９９により反射光のインライン検出を行い、更に、高屈折率層１０４及び低屈折率層１０５を形成後、光照射部２９１及び光検出部２９３により反射光のインライン検出を行ってもよい。このように、２箇所以上でインライン測定を行えば、成膜条件を調整するべき成膜室の判定が容易となり、より緻密な制御が可能となる。
【0093】
また、上述のように、反射防止層の形成方法はスパッタ法に限定されず、各種のドライコーティング法や、ウェットコーティング法が採用されてもよい。スパッタ法以外の方法により薄膜が形成される場合も、反射光のインライン検出結果に基づいて、薄膜の形成条件を調整することにより、反射光特性の均一性に優れる反射防止層付き偏光板が得られる。
【0094】
また、本発明の製造方法は、反射防止層形成工程の前に、フィルム基材の一方の主面側にプライマー層を成膜する工程Ｓｃを更に備えてもよい。本発明の製造方法が工程Ｓｃを更に備える場合、反射防止層形成工程において、プライマー層のフィルム基材側とは反対側の主面に反射防止層を成膜する。
【0095】
プライマー層を設けることにより、フィルム基材と反射防止層との密着性が高くなる。プライマー層の材料としては、シリコン、ニッケル、クロム、スズ、金、銀、白金、亜鉛、チタン、インジウム、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属（又は半金属）；これらの金属（又は半金属）の合金；これらの金属（又は半金属）の酸化物、フッ化物、硫化物又は窒化物等が挙げられる。プライマー層を構成する酸化物は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の複合酸化物でもよい。中でも、プライマー層の材料としては、無機酸化物が好ましく、酸化シリコン、酸化インジウム又はＩＴＯがより好ましく、ＳｉＯｘ（ｘ＜２）が更に好ましい。
【0096】
フィルム基材と反射防止層との密着性を高めつつ、プライマー層の光透過性を確保するためには、プライマー層の厚みは、０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがより好ましく、１．０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【0097】
プライマー層の成膜方法は、特に限定されず、ウェットコーティング法及びドライコーティング法のいずれでもよい。膜厚が均一な薄膜を形成できることから、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法等のドライコーティング法が好ましく、スパッタ法がより好ましい。生産性を高める観点から、プライマー層の成膜方法としては、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いて成膜する方法（ロールトゥロール方式のスパッタ法）が好ましい。ロールトゥロール方式のスパッタ法では、長尺のフィルム基材を長手方向（ＭＤ方向）に搬送しながら、例えば、プライマー層及び反射防止層を連続成膜できる。プライマー層をスパッタ法により成膜する際は、例えば、上述した［反射防止層１０１］で説明した条件の中で成膜条件を適宜設定することができる。
【0098】
また、本発明に係る反射防止層付き偏光板の製造方法は、インライン反射光測定工程後に、防汚層を形成する工程を備えてもよい。防汚層の材料としては、フッ素含有化合物が好ましい。
【0099】
また、本発明に係る反射防止層付き偏光板の製造方法は、インライン反射光測定工程後に、上記偏光子の幅方向の両端から張り出した箇所をスリットする工程を備えてもよい。
【0100】
また、本発明に係る反射防止層付き偏光板の製造方法は、成膜開始時の成膜初期条件の設定等を目的として、予備成膜工程を備えてもよい。この場合、上述した反射防止層形成工程及びインライン反射光測定工程は、予備成膜工程後の本成膜工程で実施される。予備成膜工程の詳細は、例えば、特開２０１７－２１８６７４号公報等に記載されている。
【実施例】
【0101】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【0102】
＜実施例＞
［予備成膜］
まず、予備成膜について説明する。予備成膜では、厚み１００μｍ、可視光透過率０．０１％、屈折率１．６５の黒色ＰＥＴフィルム（１３００ｍｍ幅）をロールトゥロール方式のスパッタ装置の巻出ロールにセットし、黒色ＰＥＴフィルム上に、反応性スパッタ法によりプライマー層及び反射防止層を順次成膜する際の各層の成膜条件を調整した。プライマー層としては、目標厚み３．５ｎｍのＳｉＯｘ層（ｘ＜２）を成膜した。反射防止層としては、第１層：目標厚み１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層（屈折率：２．３３）、第２層：目標厚み２８ｎｍのＳｉＯ２層（屈折率：１．４６）、第３層：目標厚み１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、及び第４層：目標厚み８５ｎｍのＳｉＯ２層をこの順に成膜した。各層（酸化物膜）を形成（成膜）する際は、アルゴンガスと酸素ガスとを成膜室内に導入しながら成膜した。
［予備成膜］
まず、予備成膜について説明する。予備成膜では、厚み１００μｍ、可視光透過率０．０１％、屈折率１．６５の黒色ＰＥＴフィルム（１３００ｍｍ幅）をロールトゥロール方式のスパッタ装置の巻出ロールにセットし、黒色ＰＥＴフィルム上に、反応性スパッタ法によりプライマー層及び反射防止層を順次成膜する際の各層の成膜条件を調整した。プライマー層としては、目標厚み３．５ｎｍのＳｉＯｘ層（ｘ＜２）を成膜した。反射防止層としては、第１層：目標厚み１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層（屈折率：２．３３）、第２層：目標厚み２８ｎｍのＳｉＯ２層（屈折率：１．４６）、第３層：目標厚み１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、及び第４層：目標厚み８５ｎｍのＳｉＯ２層をこの順に成膜した。各層（酸化物膜）を形成（成膜）する際は、アルゴンガスと酸素ガスとを成膜室内に導入しながら成膜した。
【0103】
また、プライマー層及び反射防止層の各層の成膜では、いずれも、電源をＭＦＡＣ電源（周波数：４０ｋＨｚ）とした。プライマー層の形成には、ターゲット材料として、Ｓｉターゲットを用い、パワー密度を３Ｗ／ｃｍ２とし、成膜室内の圧力を０．４Ｐａとした。反射防止層の第１層及び第３層の成膜では、いずれも、Ｎｂターゲットを用い、パワー密度を１３Ｗ／ｃｍ２とし、成膜室内の圧力を０．５Ｐａとした。反射防止層の第２層及び第４層の成膜では、いずれも、Ｓｉターゲットを用い、パワー密度を８Ｗ／ｃｍ２とし、成膜室内の圧力を０．５Ｐａとした。
【0104】
また、各層（酸化物膜）を形成（成膜）する際は、アルゴンガスの導入量及び排気量を調整することにより圧力を一定に保ちつつ、プラズマエミッションモニタリング（ＰＥＭ）制御により、成膜モードが遷移領域を維持するように酸素ガスの導入量を調整した。各層の成膜条件を調整する際は、特開２０１７－２１８６７４号公報の段落［０１２４］～［０１２６］に記載の方法で調整を行い、各層の幅方向の膜厚分布が許容範囲となるまで、膜厚の算出とプラズマ発光強度の設定値（ＳＰ）の変更とを繰り返した。
【0105】
次に、実施例で使用したフィルム基材の作製方法について説明する。
【0106】
［フィルム基材の作製］
（ハードコート層形成工程）
１００重量部の紫外線硬化型ウレタンアクリレート系モノマー（屈折率：１．５１）と、１４重量部のポリスチレンビーズ（屈折率：１．５９、個数平均一次粒子径：３．０μｍ）と、５重量部のアルキルフェノン系光重合開始剤と、１３５重量部のトルエンと、１０重量部の酢酸エチルとを混合し、固形分濃度４５重量％のハードコート層形成用組成物を調製した。次いで、透明フィルムとしてのＴＡＣフィルム（厚み：８０μｍ、屈折率：１．４９）の一方の主面に、上記ハードコート層形成用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、上記塗膜を、温度８０℃で２分間加熱することにより乾燥させた後、紫外線照射により硬化させた。これにより、ＴＡＣフィルムの一方の主面に厚み５μｍの防眩性ハードコート層（表面に凹凸構造を有するハードコート層）を形成し、ハードコート層付き透明フィルム（第２保護フィルム）を得た。
（ハードコート層形成工程）
１００重量部の紫外線硬化型ウレタンアクリレート系モノマー（屈折率：１．５１）と、１４重量部のポリスチレンビーズ（屈折率：１．５９、個数平均一次粒子径：３．０μｍ）と、５重量部のアルキルフェノン系光重合開始剤と、１３５重量部のトルエンと、１０重量部の酢酸エチルとを混合し、固形分濃度４５重量％のハードコート層形成用組成物を調製した。次いで、透明フィルムとしてのＴＡＣフィルム（厚み：８０μｍ、屈折率：１．４９）の一方の主面に、上記ハードコート層形成用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、上記塗膜を、温度８０℃で２分間加熱することにより乾燥させた後、紫外線照射により硬化させた。これにより、ＴＡＣフィルムの一方の主面に厚み５μｍの防眩性ハードコート層（表面に凹凸構造を有するハードコート層）を形成し、ハードコート層付き透明フィルム（第２保護フィルム）を得た。
【0107】
（偏光板の作製工程）
別途用意した偏光子の一方の主面に、上記第２保護フィルムのＴＡＣフィルムを貼り合わせ、偏光子の他方の主面に、別途用意した第１保護フィルムとしてのＴＡＣフィルム（厚み：８０μｍ、屈折率：１．４９）を貼り合わせて、偏光板を作製した。偏光子としては、平均重合度２７００かつ厚み７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素染色しながら６倍に延伸したＰＶＡ系偏光子を用いた。また、ＰＶＡ系偏光子とＴＡＣフィルムとの貼り合わせ（接着）には、アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール樹脂（平均重合度：１２００、ケン化度：９８．５モル％、アセトアセチル化度：５モル％）とメチロールメラミンとを重量比３：１で含有する水溶液からなる接着剤を用い、ロール貼合機で貼り合わせた後、オーブン内で加熱乾燥させた。
別途用意した偏光子の一方の主面に、上記第２保護フィルムのＴＡＣフィルムを貼り合わせ、偏光子の他方の主面に、別途用意した第１保護フィルムとしてのＴＡＣフィルム（厚み：８０μｍ、屈折率：１．４９）を貼り合わせて、偏光板を作製した。偏光子としては、平均重合度２７００かつ厚み７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素染色しながら６倍に延伸したＰＶＡ系偏光子を用いた。また、ＰＶＡ系偏光子とＴＡＣフィルムとの貼り合わせ（接着）には、アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール樹脂（平均重合度：１２００、ケン化度：９８．５モル％、アセトアセチル化度：５モル％）とメチロールメラミンとを重量比３：１で含有する水溶液からなる接着剤を用い、ロール貼合機で貼り合わせた後、オーブン内で加熱乾燥させた。
【0108】
（粘着剤層付き偏光板の作製工程）
厚み３８μｍのはく離ライナー（シリコーン系離型剤で離型処理されたＰＥＴフィルム）を別途用意し、上記はく離ライナーの一方の主面にアクリル系粘着剤を塗布した後、温度１２０℃で２分間乾燥させて、はく離ライナーの一方の主面に粘着剤層を形成した。次いで、得られた粘着剤層と、上記偏光板のＴＡＣフィルム（詳しくは、ハードコート層に接していない方のＴＡＣフィルム）とを貼り合わせて、粘着剤層付き偏光板（フィルム基材）を得た。得られたフィルム基材における各層の幅は、はく離ライナー：１３１７ｍｍ、粘着剤層：１２５０ｍｍ、第１保護フィルム：１３３０ｍｍ、偏光子：１２８０ｍｍ、及び第２保護フィルム：１３３０ｍｍであった。
厚み３８μｍのはく離ライナー（シリコーン系離型剤で離型処理されたＰＥＴフィルム）を別途用意し、上記はく離ライナーの一方の主面にアクリル系粘着剤を塗布した後、温度１２０℃で２分間乾燥させて、はく離ライナーの一方の主面に粘着剤層を形成した。次いで、得られた粘着剤層と、上記偏光板のＴＡＣフィルム（詳しくは、ハードコート層に接していない方のＴＡＣフィルム）とを貼り合わせて、粘着剤層付き偏光板（フィルム基材）を得た。得られたフィルム基材における各層の幅は、はく離ライナー：１３１７ｍｍ、粘着剤層：１２５０ｍｍ、第１保護フィルム：１３３０ｍｍ、偏光子：１２８０ｍｍ、及び第２保護フィルム：１３３０ｍｍであった。
【0109】
得られたフィルム基材では、第１保護フィルムと偏光子とが、上記接着剤の硬化物からなる第１接着剤層を介して接着されており、かつ第２保護フィルムと偏光子とが、上記接着剤の硬化物からなる第２接着剤層を介して接着されていた。また、第１保護フィルム及び第２保護フィルムは、いずれも、偏光子の幅方向の両端から張り出していた。
【0110】
また、得られたフィルム基材では、上記両端から張り出した箇所における第１保護フィルムと第２保護フィルムとの間隔が、偏光子の幅方向の端部を挟持する箇所における第１保護フィルムと第２保護フィルムとの間隔よりも狭かった。更に、得られたフィルム基材は、上記両端から張り出した箇所の幅方向の一部において、第１保護フィルムと第２保護フィルムとを接着する第３接着剤層（上記接着剤の硬化物からなる接着剤層）を備えていた。この第３接着剤層は、第１接着剤層及び第２接着剤層と一体的に形成されていた。また、偏光子の幅方向の端面は、第３接着剤層により封止されていた。
【0111】
（ボンバード処理工程）
ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、圧力０．６Ｐａかつ実効パワー密度０．３４Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２・ｍの条件で、上記フィルム基材を搬送しながら、上記フィルム基材のハードコート層の主面（詳しくは、ハードコート層のＴＡＣフィルム側とは反対側の主面）をボンバード処理した。ボンバード処理する際は、アルゴンガス（流量：１０４９ｓｃｃｍ）及び酸素ガス（流量：１ｓｃｃｍ）を装置内に導入しながら処理した。
ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、圧力０．６Ｐａかつ実効パワー密度０．３４Ｗ・ｍｉｎ／ｃｍ２・ｍの条件で、上記フィルム基材を搬送しながら、上記フィルム基材のハードコート層の主面（詳しくは、ハードコート層のＴＡＣフィルム側とは反対側の主面）をボンバード処理した。ボンバード処理する際は、アルゴンガス（流量：１０４９ｓｃｃｍ）及び酸素ガス（流量：１ｓｃｃｍ）を装置内に導入しながら処理した。
【0112】
［本成膜］
次に、本成膜について説明する。本成膜では、上記ボンバード処理後のフィルム基材をロールトゥロール方式のスパッタ装置の巻出ロールにセットし、上記ハードコート層の一方の主面（ハードコート層のＴＡＣフィルム側とは反対側の主面）に、上記［予備成膜］で調整された成膜条件を初期の成膜条件として、ＳｉＯｘ層、Ｎｂ２Ｏ５層、ＳｉＯ２層、Ｎｂ２Ｏ５層及びＳｉＯ２層をこの順に成膜し（反射防止層形成工程）、得られた反射防止層のインライン反射光測定を行った（インライン反射光測定工程）。反射防止層形成工程及びインライン反射光測定工程は、フィルム基材を一方向に搬送しながら、連続して実施した。インライン反射光測定は、反射防止層（幅：１２７４ｍｍ）の幅方向の２３箇所で実施し、得られた反射光スペクトルに基づいて、幅方向の２３箇所の膜厚を算出し、膜厚が幅方向で均一となるように、プラズマ発光強度の設定値（ＳＰ）を変更した。これにより、反射防止層の成膜条件を調整した。なお、本成膜では、インライン反射光測定において、偏光子を含むフィルム基材からの反射光をカットするために、光照射部から照射される可視光を偏光するための偏光板を配置した。
次に、本成膜について説明する。本成膜では、上記ボンバード処理後のフィルム基材をロールトゥロール方式のスパッタ装置の巻出ロールにセットし、上記ハードコート層の一方の主面（ハードコート層のＴＡＣフィルム側とは反対側の主面）に、上記［予備成膜］で調整された成膜条件を初期の成膜条件として、ＳｉＯｘ層、Ｎｂ２Ｏ５層、ＳｉＯ２層、Ｎｂ２Ｏ５層及びＳｉＯ２層をこの順に成膜し（反射防止層形成工程）、得られた反射防止層のインライン反射光測定を行った（インライン反射光測定工程）。反射防止層形成工程及びインライン反射光測定工程は、フィルム基材を一方向に搬送しながら、連続して実施した。インライン反射光測定は、反射防止層（幅：１２７４ｍｍ）の幅方向の２３箇所で実施し、得られた反射光スペクトルに基づいて、幅方向の２３箇所の膜厚を算出し、膜厚が幅方向で均一となるように、プラズマ発光強度の設定値（ＳＰ）を変更した。これにより、反射防止層の成膜条件を調整した。なお、本成膜では、インライン反射光測定において、偏光子を含むフィルム基材からの反射光をカットするために、光照射部から照射される可視光を偏光するための偏光板を配置した。
【0113】
＜比較例＞
第１保護フィルム及び第２保護フィルムの両端部分（詳しくは、偏光子の幅方向の両端から張り出した部分）をスリットしたフィルム基材を用いたこと以外は、上記実施例と同じ方法で本成膜を行い、同様に反射防止層の成膜条件を調整した。
第１保護フィルム及び第２保護フィルムの両端部分（詳しくは、偏光子の幅方向の両端から張り出した部分）をスリットしたフィルム基材を用いたこと以外は、上記実施例と同じ方法で本成膜を行い、同様に反射防止層の成膜条件を調整した。
【0114】
＜結果＞
図６は、上記実施例の成膜条件の調整前（本成膜の成膜開始直後）における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフ（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊ｂ＊色度図）である。また、図７は、上記実施例の成膜条件の調整後（１５回のフィードバック操作後）における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。また、図８は、上記比較例の成膜条件の調整前（本成膜の成膜開始直後）における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。また、図９は、上記比較例の成膜条件の調整後（５２回のフィードバック操作後）における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。なお、図６～図９では、いずれも、反射光の測定個所（反射防止層の幅方向の２３箇所）のうち、両端（２箇所）、中央（１箇所）、及び両端のそれぞれと中央との間の箇所（２箇所）の合計５箇所について、ａ＊及びｂ＊の値をプロットした。また、図６～図９において破線で示す領域は、いずれも、色相の許容範囲を示す領域である。
図６は、上記実施例の成膜条件の調整前（本成膜の成膜開始直後）における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフ（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のａ＊ｂ＊色度図）である。また、図７は、上記実施例の成膜条件の調整後（１５回のフィードバック操作後）における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。また、図８は、上記比較例の成膜条件の調整前（本成膜の成膜開始直後）における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。また、図９は、上記比較例の成膜条件の調整後（５２回のフィードバック操作後）における、反射防止層からの反射光の色相を示すグラフである。なお、図６～図９では、いずれも、反射光の測定個所（反射防止層の幅方向の２３箇所）のうち、両端（２箇所）、中央（１箇所）、及び両端のそれぞれと中央との間の箇所（２箇所）の合計５箇所について、ａ＊及びｂ＊の値をプロットした。また、図６～図９において破線で示す領域は、いずれも、色相の許容範囲を示す領域である。
【0115】
図７に示すように、上記実施例では、１５回のフィードバック操作で、色相が許容範囲内となった。一方、図９に示すように、上記比較例では、５２回のフィードバック操作を経ても、両端（２箇所）の色相が許容範囲内に収まらなかった。また、図６及び図８に示すように、上記実施例は、上記比較例よりも、成膜条件の調整前（本成膜の成膜開始直後）において幅方向の色相のばらつきが小さかった。
【0116】
以上の結果から、本発明によれば、反射光特性を均一に保つことができる反射防止層付き偏光板の製造方法を提供できることが示された。
【符号の説明】
【0117】
１０、２０、３０ フィルム基材
１１ 第１保護フィルム
１２ 第１接着剤層
１３ 偏光子
１４ 第２接着剤層
１５ 第２保護フィルム
１６ 透明フィルム
１７ ハードコート層
２１ 第３接着剤層
３１ 粘着剤層
３２ はく離ライナー
１００ 反射防止層付き偏光板
１０１ 反射防止層
１１ 第１保護フィルム
１２ 第１接着剤層
１３ 偏光子
１４ 第２接着剤層
１５ 第２保護フィルム
１６ 透明フィルム
１７ ハードコート層
２１ 第３接着剤層
３１ 粘着剤層
３２ はく離ライナー
１００ 反射防止層付き偏光板
１０１ 反射防止層
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
