特許 7591590 レーザ光導入装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-20

(45)【発行日】2024-11-28

(54)【発明の名称】レーザ光導入装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/268 20060101AFI20241121BHJP

   B23K 26/142 20140101ALI20241121BHJP

【ＦＩ】

H01L21/268 G

B23K26/142

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2022579410

(86)(22)【出願日】2022-01-12

(86)【国際出願番号】 JP2022000788

(87)【国際公開番号】W WO2022168551

(87)【国際公開日】2022-08-11

【審査請求日】2024-06-17

(31)【優先権主張番号】P 2021016475

(32)【優先日】2021-02-04

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002107

【氏名又は名称】住友重機械工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100105887

【弁理士】

【氏名又は名称】来山 幹雄

(72)【発明者】

【氏名】谷内 卓

【審査官】庄司 一隆

(56)【参考文献】

【文献】特開平０９－３０１８００（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１４－５３５１６４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－００６３５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－００９２７０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／２６８

Ｂ２３Ｋ ２６／１４２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

開口部が設けられ、相互に反対方向を向く上面と下面を持つ板状部材と、
前記板状部材の上面に取り付けられて前記開口部を塞ぎ、レーザ光を透過させる透過部材と、
先端が前記開口部の側面に開口する噴出し口とされ、前記噴出し口から、対向する側面に向かう方向にガスを噴き出すガス流路と
を備え、
平面視において前記噴出し口からのガスの噴き出し方向に対して直交する方向を幅方向と定義したとき、前記開口部の幅が前記板状部材の厚さ方向に変化しており、幅の最小値より下面における幅の方が広いレーザ光導入装置。

【請求項2】

前記板状部材の厚さ方向に関して前記開口部の幅が最も狭い箇所よりも上面側の部分の側面が、上面から下面に向かって幅が狭くなるように傾斜している請求項１に記載のレーザ光導入装置。

【請求項3】

前記開口部の、前記噴出し口に対向する側面が、上面から下面に向かって、前記噴出し口から遠ざかる向きに傾斜している請求項１または２に記載のレーザ光導入装置。

【請求項4】

前記噴出し口は幅方向に長い形状を有しており、前記ガス流路の内部に、前記ガス流路の先端の一部分を幅方向に複数の区画に区分する隔壁が設けられている請求項１乃至３のいずれか１項に記載のレーザ光導入装置。

【請求項5】

前記ガス流路の少なくとも先端の一部分が、ガスの流れの上流側から下流側に向かって、前記板状部材の上面から遠ざかる向きに傾斜している請求項１乃至４のいずれか１項に記載のレーザ光導入装置。

【請求項6】

前記板状部材と前記透過部材との間に間隙が確保されており、
前記ガス流路から分岐して、前記板状部材と前記透過部材との間の間隙にガスを噴き出す分岐路を、さらに備えた請求項１乃至５のいずれか１項に記載のレーザ光導入装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、レーザ光導入装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体ウエハに注入したドーパントを活性化させるアニール、非晶質膜を多結晶化させるアニール等に、レーザアニールが用いられる。レーザアニールを行う際には、半導体ウエハ等の加工対象物を処理室に収容し、処理室の天面に設けられたレーザ光透過窓を通して加工対象物にレーザ光を入射させる。

【0003】

レーザアニール時に加工対象物から飛散した飛散物がレーザ光透過窓に付着することにより、レーザ光透過窓が汚れる。レーザ光透過窓が汚れると、レーザ光の透過率が低下する。これにより、加工対象物の表面におけるレーザ光の強度が低下し、適切なレーザアニールを行うことができなくなってしまう。レーザ透過窓の汚れを抑制する種々のアニール装置が提案されている（例えば、特許文献１等参照。）。

【0004】

特許文献１に開示されたアニール装置においては、レーザ光透過窓の直下にボックスが設けられており、ボックス内のガス流路からレーザ光透過窓にガスを吹き付けている。これにより、ボックスの内部から外部に向かうガスの流れを形成し、加工対象物からの飛散物がレーザ光透過窓に向かわないようにしている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開２０００－０２１８０７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明の目的は、レーザ光を透過させる部材の汚れ抑制効果を高めることができるレーザ光導入装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一観点によると、
開口部が設けられ、相互に反対方向を向く上面と下面を持つ板状部材と、
前記板状部材の上面に取り付けられて前記開口部を塞ぎ、レーザ光を透過させる透過部材と、
先端が前記開口部の側面に開口する噴出し口とされ、前記噴出し口から、対向する側面に向かう方向にガスを噴き出すガス流路と
を備え、
平面視において前記噴出し口からのガスの噴き出し方向に対して直交する方向を幅方向と定義したとき、前記開口部の幅が前記板状部材の厚さ方向に変化しており、幅の最小値より下面における幅の方が広いレーザ光導入装置が提供される。

【発明の効果】

【0008】

噴出し口から噴出されたガスの流れにより、板状部材の下面側から開口部に進入して透過部材に向かう飛散物が遮蔽される。板状部材の下面における開口部の幅を、幅の最小値より広くすることにより、ガスが下方に向かって流れやすくなり、透過部材に向かうガスの流れが抑制され、飛散物を遮蔽する効果を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】図１は、実施例によるレーザ光導入装置が搭載されたレーザ加工装置の概略図である

【図2】図２は、本実施例によるレーザ光導入装置の平面図である。

【図3】図３Ａ及び図３Ｂは、それぞれ図２の一点鎖線３Ａ－３Ａ、一点鎖線３Ｂ－３Ｂにおける断面図である。

【図4】図４Ａは、実施例によるレーザ光導入装置の概略平面図であり、図４Ｂは、一比較例によるレーザ光導入装置の概略平面図である。

【図5】図５Ａは、実施例によるレーザ光導入装置の断面図であり、図５Ｂは、一比較例によるレーザ光導入装置の断面図である。

【図6】図６Ａは、実施例によるレーザ光導入装置の概略平面図であり、図６Ｂは、一比較例によるレーザ光導入装置１０の概略平面図である。

【図7】図７は、実施例によるレーザ光導入装置の断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

図１～図７を参照して、本願発明の一実施例によるレーザ光導入装置について説明する。
図１は、本実施例によるレーザ光導入装置１０が搭載されたレーザ加工装置の概略図である。本実施例によるレーザ加工装置は、例えば、半導体ウエハに注入されたドーパントの活性化アニールに用いられる。処理室５０に収容された可動ステージ５１に、半導体ウエハ等の加工対象物５２が保持される。処理室５０の天面に、レーザ光導入装置１０が取りつけられている。レーザ光導入装置１０を通過してレーザビーム７０が処理室５０内に導入され、加工対象物５２に入射する。

【0011】

ガス供給源４０から配管４１を通ってレーザ光導入装置１０にガスが供給される。ガスとして、窒素ガス、クリーンドライエア等が用いられる。レーザ光導入装置１０に供給されたガスは、処理室５０内に導入され、排気口５３から排気される。

【0012】

次に、レーザ光学系について説明する。本実施例によるレーザ加工装置には、レーザ光源６１として、レーザダイオードが用いられる。なお、レーザ光源６１として、その他のレーザ発振器、例えばＮｄ：ＹＡＧレーザ等の固体レーザ発振器を用いてもよい。レーザ光源６１が、例えば波長８０８ｎｍの準連続発振（ＱＣＷ）のレーザビーム７０を出力する。なお、波長８００ｎｍ以上９５０ｎｍ以下の赤外域のレーザビームを出力するレーザ光源を用いてもよい。または緑色の波長域、紫外線の波長域のレーザビームを出力するレーザ光源を用いてもよい。

【0013】

レーザ光源６１から出力されたレーザビーム７０が、アッテネータ６２、ビームエキスパンダ６３、ホモジナイザ６４を経由し、折り返しミラー６５で下方に向けて反射される。下方に向けて反射されたレーザビーム７０は、集光レンズ６６及びレーザ光導入装置１０を経由して処理室５０内に導入される。処理室５０内に導入されたレーザビーム７０は、加工対象物５２に入射する。

【0014】

ビームエキスパンダ６３は、レーザビーム７０をコリメートするとともに、ビーム径を拡大する。ホモジナイザ６４及び集光レンズ６６は、加工対象物５２の表面におけるビームスポットを長尺形状に整形するとともに、ビーム断面内の光強度分布を均一化する。可動ステージ５１が加工対象物５２を集光レンズ６６の光軸に対して直交する二方向に移動させることにより、加工対象物５２の表面のほぼ全域にレーザビーム７０を入射させることができる。

【0015】

図２は、本実施例によるレーザ光導入装置１０の平面図である。図３Ａ及び図３Ｂは、それぞれ図２の一点鎖線３Ａ－３Ａ、及び一点鎖線３Ｂ－３Ｂにおける断面図である。加工対象物５２の上面に平行な二方向をｘ方向及びｙ方向とし、加工対象物５２の上面の法線方向をｚ方向とするｘｙｚ直交座標系を定義する。加工対象物５２に入射するレーザビーム７０（図１）の長尺形状のビームスポット７１の長手方向をｙ方向とする。

【0016】

処理室５０の天面に開口部５０Ａが設けられている。レーザ光導入装置１０は、この開口部５０Ａを内側から塞ぐように処理室５０の天面に取り付けられている。レーザ光導入装置１０は、板状部材１１及び透過部材１２を含む。板状部材１１に開口部１５が設けられている。板状部材１１の両面のうち処理室５０の外側を向く方の面を上面１１Ｔといい、その反対側の面（処理室５０の内側を向く面）を下面１１Ｂということとする。

【0017】

板状部材１１の上面側に、透過部材ホルダ１３を介して透過部材１２が支持されている。透過部材１２は、平面視において円形の形状を有し、板状部材１１の開口部１５を塞いでいる。透過部材１２はレーザビーム７０を透過させる光学材料で形成されている。レーザビーム７０は、透過部材１２を透過し、板状部材１１の開口部１５及び処理室５０の開口部５０Ａを通って処理室５０内に導入される。開口部１５を通過するレーザビーム７０は収束ビームである。

【0018】

板状部材１１に、ガス流路２０が設けられている。ガス供給源４０から配管４１を通ってガス流路２０にガスが供給される。なお、図３Ａにおいては、配管４１を模式的に表している。ガス流路２０に供給されたガスは、開口部１５の側面の一部に配置された噴出し口２１から、対向する側面１５Ｃに向かう方向に噴出される。図２及び図３Ａにおいて、ガスの噴出し方向を矢印で示している。開口部１５の平面視における形状は、角が丸められた長方形である。噴出し口２１は、長方形の１つの辺に対応する側面に設けられている。

【0019】

平面視においてガスの噴出し方向（ｘ方向）に対して直交する方向（ｙ方向）を幅方向と定義する。開口部１５の幅が、板状部材１１の厚さ方向に変化している。開口部１５の幅の最小値より、下面１１Ｂにおける幅の方が広い。幅が最も狭い箇所よりも上面１１Ｔ側の部分を、開口部１５の上側部分１５Ａといい、下面１１Ｂ側の部分を、開口部１５の下側部分１５Ｂということとする。上側部分１５Ａのｘ方向に延びる側面は、ｙｚ断面（図３Ｂ）において収束されるレーザビーム７０の形状に応じて傾斜している。すなわち、上面１１Ｔから下面１１Ｂに向かって、上側部分１５Ａの幅が徐々に狭くなっている。

【0020】

上側部分１５Ａと下側部分１５Ｂとの境界において、下側部分１５Ｂの幅が上側部分１５Ａの幅より不連続に広くなるように、開口部１５の側面に段差が設けられている。下側部分１５Ｂの幅も、上面１１Ｔから下面１１Ｂに向かって徐々に狭くなっている。下側部分１５Ｂの下端における幅は、上側部分１５Ａの下端における幅より広い。板状部材１１の厚さ方向に関して、噴出し口２１の上端の位置は、上側部分１５Ａと下側部分１５Ｂとの境界の位置に一致する。

【0021】

噴出し口２１が設けられている開口部１５の側面（図３Ａにおいて左側の側面）は、ｚｘ断面において収束されるレーザビーム７０の形状に応じて傾斜している。噴出し口２１に対向する開口部１５の側面１５Ｃ（図３Ａにおいて右側の側面）は、上面１１Ｔから下面１１Ｂに向かって、噴出し口２１から遠ざかる向きに傾斜している。言い換えると、側面１５Ｃの外側を向く法線ベクトルが、斜め下方を向いている。

【0022】

ガス流路２０は、平面視においてガスの流れの上流側から下流側に向かって幅方向（ｙ方向）に広がっている。噴出し口２１は、幅方向に長い形状を有する。ガス流路２０の内部に複数の隔壁２２が設けられている。ガス流路２０の噴出し口２１側の一部分が、複数の隔壁２２によって幅方向に複数の区画に区分されている。隔壁２２は、噴出し口２１から、ガスの流れの上流側に向かって延び、ガス流路２０の幅が狭まる領域まで達している。

【0023】

ガス流路２０のうち、噴出し口２１に連続する先端の一部分２０Ａが、ガスの流れの上流側から下流側に向かって上面１１Ｔから遠ざかる向きに傾斜している。このため、ガスは、ｘｙ面に平行な方向に対してやや下方に向かって噴出される。

【0024】

板状部材１１の上面１１Ｔと透過部材１２との間に間隙３０が確保されている。ガス流路２０から分岐した分岐路２５が、間隙３０まで延びている。例えば、分岐路２５は、平面視において透過部材１２の円形の外周線に沿って配置された円周状の部分２５Ａ、円周状の部分２５Ａから間隙３０に向かう部分２５Ｂ、及び円周状の部分２５Ａとガス流路２０とを接続する部分２５Ｃを含む。ガス流路２０に導入されたガスが、分岐路２５を通って間隙３０内に噴き出す。

【0025】

次に、上記実施例の優れた効果について説明する。
加工対象物５２にレーザビーム７０が入射すると、加工対象物５２から飛散物が飛散する。噴出し口２１から噴出したガスによって、開口部１５内を、主としてｘ方向に流れるガス流が形成される。加工対象物５２からの飛散物が、このガス流に乗ってｘ方向に流されることにより、透過部材１２に向かう飛散物が遮蔽され、透過部材１２への飛散物の付着が抑制される。これにより、透過部材１２が汚れにくくなる。

【0026】

次に、レーザ光導入装置１０の特徴的な種々の構成ごとに、実施例の優れた効果について説明する。

【0027】

［開口部１５の下面１１Ｂにおける幅を広くする構成による効果］
図４Ａは、実施例によるレーザ光導入装置１０の概略平面図であり、図４Ｂは、比較例によるレーザ光導入装置１０の概略平面図である。

【0028】

実施例によるレーザ光導入装置１０（図４Ａ）においては、板状部材１１（図３Ｂ）に設けられた上側部分１５Ａの幅が下方に向かって徐々に狭くなり、上側部分１５Ａと下側部分１５Ｂとの境界において、幅が不連続に広くなっている。さらに、下側部分１５Ｂの幅も、下方に向かって徐々に狭くなっている。下側部分１５Ｂの下端における幅が、上側部分１５Ａの下端における幅より広い。

【0029】

これに対して比較例（図４Ｂ）においては、開口部１５の幅が不連続に変化しておらず、上面１１Ｔから下面１１Ｂまで連続的に徐々に狭くなっている。幅方向の両側の側面は、図３Ｂの上側部分１５Ａの側面と同様に、収束するレーザビーム７０の形状に応じて傾斜している。噴出し口２１は、開口部１５の幅方向に延びる側面に、幅方向のほぼ全域に亘って配置されている。

【0030】

比較例（図４Ｂ）においては、噴出し口２１から噴出されたガスが、噴出し口２１に対向する側面１５Ｃに向かって流れ、さらに噴出し口２１に対向する側面１５Ｃの傾斜に沿って斜め下方に向かう。開口部１５の幅が下方に向かって徐々に狭くなっているため、ガスの一部が開口部１５の側方の斜面１５Ｄにあたって下方に抜けにくくなる。このため、斜面１５Ｄの下端の近傍の圧力が上昇して、一部のガスは開口部１５内に戻る。開口部１５内に戻ったガスの一部は、透過部材１２の表面まで達する。このように、ガスの流れに乱れが生じるため、加工対象物５２（図３Ａ、図３Ｂ）から透過部材１２に向かう飛散物を遮蔽する機能が低下してしまう。

【0031】

実施例（図４Ａ）においては、噴出し口２１は、上側部分１５Ａの幅方向のほぼ全域に亘って配置されており、下側部分１５Ｂは、噴出し口２１が配置されている幅方向の範囲よりもさらに幅方向に広がっている。噴出し口２１から噴出されたガスは、噴出し口２１に対向する側面１５Ｃに沿って斜め下方に流れ、下側部分１５Ｂに達すると、幅方向に広がる。このため、側面１５Ｃの下端近傍における圧力の上昇の程度が、比較例（図４Ｂ）と比べて少ない。このため、ほとんどのガスは、側面１５Ｃの下端近傍で折り返されることなく、処理室５０（図３Ａ、図３Ｂ）内に流入する。ガスの流れに乱れが生じにくいため、加工対象物５２（図３Ａ、図３Ｂ）から透過部材１２に向かう飛散物を遮蔽する機能の低下が生じにくい。

【0032】

噴出し口２１の幅方向の寸法を変えることなく、上側部分１５Ａの幅を下側部分１５Ｂの幅と同程度まで広げると、平面視において、開口部１５内で十分なガスの流れが形成されない領域が発生してしまう。ガスの流れが十分でない領域においては、透過部材１２に向かう飛散物を遮蔽する機能が低い。実施例においては、下側部分１５Ｂのみを幅方向に広げることにより、平面視において、ガスの流れが十分ではない領域が開口部１５の上側部分１５Ａ内に発生することが回避されている。

【0033】

また、下側部分１５Ｂの幅を広くしても、上側部分１５Ａの平面視における大きさを、レーザビーム７０の断面よりやや大きい程度に止めておくことにより、加工対象物５２から透過部材１２（図３Ａ、図３Ｂ）に向かう飛散物の経路の断面が不要に大きくなってしまうことが抑制される。

【0034】

実施例においては、下側部分１５Ｂの幅方向の両側に位置する側面（図３Ｂに現れている側面）が、下側部分１５Ｂの幅が下方に向かって徐々に狭くなるように傾斜しているが、必ずしもこれらの側面を傾斜させる必要はない。これらの側面を、下面１１Ｂに対して垂直にしてもよい。

【0035】

また、下側部分１５Ｂの側面を逆方向に傾斜させてもよい。すなわち、下側部分１５Ｂの幅が下方に向かって徐々に広くなるように、下側部分１５Ｂの側面を傾斜させてもよい。この場合、上側部分１５Ａと下側部分１５Ｂとの境界に、段差を形成する必要はない。すなわち、下側部分１５Ｂの上端における幅と、上側部分１５Ａの下端における幅とを等しくしてもよい。

【0036】

［噴出し口２１に対向する側面１５Ｃの法線ベクトルが斜め下方を向く構成の効果］
図５Ａは、実施例によるレーザ光導入装置１０の断面図であり、図５Ｂは、比較例によるレーザ光導入装置１０の断面図である。

【0037】

比較例（図５Ｂ）においては、噴出し口２１に対向する開口部１５の側面１５Ｃが、収束するレーザビーム７０の形状に応じて傾斜している。すなわち、側面１５Ｃが、下方に向かって噴出し口２１に近づく向きに傾斜している。噴出し口２１から噴出されたガスが対向する側面１５Ｃまで達すると、ガスの一部は、図５Ｂに矢印で示したように、側面１５Ｃに沿って斜め上方に向かって流れ、透過部材１２に達する。このため、加工対象物５２から透過部材１２に向かう飛散物を遮蔽する機能が低下してしまう。

【0038】

これに対して実施例（図５Ａ）においては、側面１５Ｃが、下方に向かって噴出し口２１から遠ざかる向きに傾斜している。このため、噴出し口２１から噴出されて側面１５Ｃに達したガスの大部分は図５Ａに矢印で示したように、側面１５Ｃに沿って斜め下方に向かって流れ、処理室５０内に導入される。透過部材１２に向かうガスの流れが生じにくいため、加工対象物５２から透過部材１２に向かう飛散物を遮蔽することができる。さらに、加工対象物５２からの飛散物が、ガス流に乗って横方向に流され、加工対象物５２の上方の空間から排除されるため、加工対象物５２への飛散物の再付着を抑制することができる。

【0039】

飛散物の十分な遮蔽機能を得るために、上面１１Ｔと側面１５Ｃとのなす角度を鋭角とすることが好ましく、６０°以下とすることがより好ましい。

【0040】

［ガス流路２０の先端近傍を複数の区画に区分する効果］
図６Ａは、実施例によるレーザ光導入装置１０の概略平面図であり、図６Ｂは、比較例によるレーザ光導入装置１０の概略平面図である。

【0041】

実施例によるレーザ光導入装置１０（図６Ａ）においては、ガス流路２０の先端の近傍部分が、幅方向に関して複数の隔壁２２によって複数の区画に区分されている。これに対して比較例（図６Ｂ）においては、ガス流路２０が幅方向に複数の区画に区分されていない。図６Ａ及び図６Ｂにおいて、ガス流の向きを示す矢印の長さの分布の傾向が、流速の分布の傾向を表している。

【0042】

比較例（図６Ｂ）においては、噴出し口２１の幅方向の中央部分におけるガスの流速が、両端の部分におけるガスの流速より速い。平面視において流速が遅い領域では、加工対象物５２から透過部材１２に向かう飛散物を遮蔽する機能が低下する。これに対して実施例においては、ガス流路２０の先端近傍部分が、複数の隔壁２２によって幅方向に複数の区画に区分されている。隔壁２２は、噴出し口２１からガスの流れの上流側に向かって、ガス流路２０の幅が狭まる領域まで延びているため、幅方向に関する流速の分布が均一に近付く。このため、加工対象物５２から透過部材１２に向かう飛散物を遮蔽する効果を、開口部１５内の全域に亘ってほぼ均一化することがきる。

【0043】

［ガス流路２０の先端の一部分２０Ａを斜め下方に向けた構成による効果］
実施例においては、ガス流路２０の先端の一部分２０Ａ（図３Ａ）が斜め下方を向いているため、噴出し口２１から噴き出たガスが斜め下方に向かって流れる。このため、透過部材１２に向かうガスの流れが発生しにくくなり、加工対象物５２から透過部材１２に向かう飛散物を遮蔽する効果の低下が抑制される。

【0044】

［分岐路２５を設ける効果］
図７は、実施例によるレーザ光導入装置１０の断面図である。実施例においては、ガス流路２０に導入されたガスの一部が、分岐路２５を通って板状部材１１と透過部材１２との間の間隙３０に供給される。間隙３０に供給されたガスは、矢印で示すように、開口部１５を通って処理室５０内に導入される。このため、開口部１５内を上方に向かい透過部材１２に至るガス流の発生が抑制される。これにより、加工対象物５２から透過部材１２に向かう飛散物を遮蔽する効果を高めることができる。

【0045】

以上、実施例によるレーザ光導入装置１０の５つの特徴的な構成のそれぞれについて、その構成によって得られる優れた効果について説明した。実施例によるレーザ光導入装置１０は、上述の５つの特徴的な構成をすべて備えているが、透過部材１２の汚れを抑制するために、上述の５つの特徴的な構成を全て備える必要はない。５つの特徴的な構成のうち、少なくとも１つの構成を備えたレーザ光導入装置においても、透過部材１２の汚れを抑制するという優れた効果が得られる。

【0046】

次に、上記実施例の種々の変形例について説明する。
上記実施例では、板状部材１１に設けられた開口部１５（図２）の平面視における形状が、角を丸めた長方形であるが、その他の形状にしてもよい。例えば、円形、楕円形等にしてもよい。開口部１５の形状は、レーザビーム７０のビーム断面の形状に応じて設定するとよい。開口部１５の平面視における形状を円形や楕円形にした場合には、開口部１５の幅がｘ方向に変化する。この場合には、ｘ方向に対して直交する断面（図３Ｂの断面図に相当）のそれぞれにおいて、開口部１５の幅の最小値より、下面１１Ｂにおける幅を広くすればよい。

【0047】

また、上記実施例では、レーザ光導入装置１０を、ドーパントを活性化させるためのレーザアニール装置に搭載した例について説明しているが、その他のレーザ加工装置に搭載することも可能である。

【0048】

また、上記実施例では、レーザ光導入装置１０の板状部材１１（図３Ａ、図３Ｂ）を、処理室５０の天面に取り付けているが、処理室５０の壁面自体を、レーザ光導入装置１０の板状部材１１としてもちいてもよい。

【0049】

上述の実施例は例示であり、本発明は上述の実施例に制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。

【符号の説明】

【0050】

１０ レーザ光導入装置
１１ 板状部材
１１Ｂ 板状部材の下面
１１Ｔ 板状部材の上面
１２ 透過部材
１３ 透過部材ホルダ
１５ 開口部
１５Ａ 上側部分
１５Ｂ 下側部分
１５Ｃ 開口部の側面
１５Ｄ 開口部の側方の斜面
２０ ガス流路
２０Ａ ガス流路の先端の一部分
２１ 噴出し口
２２ 隔壁
２５ 分岐路
２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃ 分岐の部分
３０ 間隙
４０ ガス供給源
４１ 配管
５０ 処理室
５０Ａ 処理室の開口部
５１ 可動ステージ
５２ 加工対象物
５３ 排気口
６１ レーザ光源
６２ アッテネータ
６３ ビームエキスパンダ
６４ ホモジナイザ
６５ 折り返しミラー
６６ 集光レンズ
７０ レーザビーム
７１ ビームスポット

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】