特許 7591919 収納装置、露光装置及び物品の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-21

(45)【発行日】2024-11-29

(54)【発明の名称】収納装置、露光装置及び物品の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20241122BHJP

   G03F 1/66 20120101ALI20241122BHJP

   H01L 21/673 20060101ALI20241122BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

G03F7/20 521

G03F1/66

H01L21/68 T

【請求項の数】 14

(21)【出願番号】P 2020208629

(22)【出願日】2020-12-16

(65)【公開番号】P2022095352

(43)【公開日】2022-06-28

【審査請求日】2023-11-29

(73)【特許権者】

【識別番号】000001007

【氏名又は名称】キヤノン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】藤野 康平

【審査官】植木 隆和

(56)【参考文献】

【文献】特開平１１－２４９２８６（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００２／０２１５８３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２００３－２２８１６３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１５－５３１５４６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｇ０３Ｆ ７／２０

Ｇ０３Ｆ １／６６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

パターンが形成されたパターン面を含む原版を収納する収納装置であって、
前記原版を収納する収納空間を規定するチャンバと、
前記原版の前記パターン面とは反対側の第１面に沿った第１気流、及び、前記パターン面から離間して設けられて前記パターン面を保護する保護部材の前記パターン面の側とは反対側の第２面に沿った第２気流の少なくとも一方の気流が形成されるように、気体を吹き出して供給する第１供給部と、
前記第１供給部によって形成された前記少なくとも一方の気流に干渉する第３気流が形成されるように、気体を吹き出して供給する第２供給部と、
前記第２供給部から吹き出される気体の吹出方向に対面し、前記第２供給部によって形成された前記第３気流を受けるための受面を含む部材と、
を有し、
前記第１供給部は、前記原版を搬送するための搬送口を基準として前記収納空間の奥側に配置され、
前記第２供給部は、前記搬送口を基準として前記収納空間の手前側に配置され、
前記第１供給部によって形成された前記少なくとも一方の気流は、前記収納空間の奥側から前記収納空間の手前側に向かう気流であることを特徴とする収納装置。

【請求項2】

前記第２供給部は、前記第３気流として、前記第１供給部によって形成された前記少なくとも一方の気流にあたる気流が形成されるように、気体を吹き出して供給することを特徴とする請求項１に記載の収納装置。

【請求項3】

前記部材は、前記受面が前記パターン面に直交する方向において前記第２面よりも下方に位置するように配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の収納装置。

【請求項4】

前記部材は、前記パターン面に直交する方向において前記受面と前記第２供給部の気体の吹出口との間の距離が１０ｍｍ以上５００ｍｍ以下となるように配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の収納装置。

【請求項5】

前記受面は、前記保護部材の前記第２面に対して、前記第２面に沿った方向において、前記第２面から外側に０ｍｍ以上３００ｍｍ以下の範囲で延在していることを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の収納装置。

【請求項6】

前記第１供給部は、前記第１気流及び前記第２気流が形成されるように、気体を吹き出して供給し、
前記第３気流の流量は、前記第１気流の流量と前記第２気流の流量との和よりも少ないことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の収納装置。

【請求項7】

前記受面は、前記第２供給部の側に突出した凸部を含むことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の収納装置。

【請求項8】

前記第１供給部は、前記第１気流のみが形成されるように、気体を吹き出して供給し、
前記保護部材の前記第２面に対向して設けられ、前記第２面に向けて気体を吹き出して供給する第３供給部を更に有することを特徴とする請求項１に記載の収納装置。

【請求項9】

前記部材に設けられ、前記第１供給部によって形成された前記少なくとも一方の気流に干渉し、且つ、前記第２供給部によって形成された前記第３気流に対向する第４気流が形成されるように、気体を吹き出して供給する第４供給部を更に有することを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の収納装置。

【請求項10】

前記収納装置は、前記原版を複数収納し、
前記第２供給部及び前記部材は、前記原版のそれぞれに対して設けられていることを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の収納装置。

【請求項11】

前記気体は、湿度が１％以下の気体を含むことを特徴とする請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の収納装置。

【請求項12】

前記第１供給部は、前記収納空間に前記原版が収納される位置よりも、前記収納空間の奥側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の収納装置。

【請求項13】

基板を露光する露光装置であって、
パターンが形成されたパターン面を含む原版を収納する収納部と、
前記収納部から搬送された前記原版を保持する原版保持部と、
前記原版保持部に保持された前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、を有し、
前記収納部は、
前記原版を収納する収納空間を規定するチャンバと、
前記原版の前記パターン面とは反対側の第１面に沿った第１気流、及び、前記パターン面から離間して設けられて前記パターン面を保護する保護部材の前記パターン面の側とは反対側の第２面に沿った第２気流の少なくとも一方の気流が形成されるように、気体を吹き出して供給する第１供給部と、
前記第１供給部によって形成された前記少なくとも一方の気流に干渉する第３気流が形成されるように、気体を吹き出して供給する第２供給部と、
前記第２供給部から吹き出される気体の吹出方向に対面し、前記第２供給部によって形成された前記第３気流を受けるための受面を含む部材と、
を有し、
前記第１供給部は、前記原版を搬送するための搬送口を基準として前記収納空間の奥側に配置され、
前記第２供給部は、前記搬送口を基準として前記収納空間の手前側に配置され、
前記第１供給部によって形成された前記少なくとも一方の気流は、前記収納空間の奥側から前記収納空間の手前側に向かう気流であることを特徴とする露光装置。

【請求項14】

請求項１３に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、
現像された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、収納装置、露光装置及び物品の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体素子や液晶表示素子の製造工程（リソグラフィ工程）では、原版（マスク又はレチクル）のパターンを、レジスト材が配置された基板（ウエハ）に投影して基板上にパターンを転写（形成）する露光装置が用いられている。露光装置では、原版のパターンを基板上に投影する際、即ち、基板の露光時に、原版上に異物などが存在していると、かかる異物がパターンとともに基板上に転写されて欠陥（不良）の原因となる。

【0003】

そこで、原版には、一般的に、原版のパターン面（パターンが形成されている面）に異物が付着することを防止するために、ペリクルと称される保護部材が設けられている。ペリクルには、例えば、合成樹脂からなる膜状のものがある。ペリクルは、ペリクル支持枠を介して、原版のパターン面から所定の距離だけオフセットして支持されている。これにより、異物は、原版のパターン面から所定の距離だけオフセットされたペリクル膜に付着するため、露光時に基板上で焦点を結ばず、照度むらとして現れるに過ぎない。このように、原版にペリクルを設けることによって、露光時における異物の影響を低減することができる。

【0004】

また、露光装置では、半導体素子の微細化に対応して高解像度を実現するために、露光波長の短波長化が進んでいる。現在では、露光波長は、ＫｒＦエキシマレーザの２４８ｎｍや真空紫外域に属するＡｒＦエキシマレーザの１９３ｎｍが主流となっているが、ＡｒＦエキシマレーザのような短波長（高エネルギー）を光源とする露光装置では、原版の曇りが問題となる。具体的には、まず、原版の表面や雰囲気中に存在する酸と塩基との反応、或いは、有機不純物の光化学反応に起因して、原版に曇りの種となる物質が形成される。そして、水分の介在と紫外線の照射（露光のエネルギー）によって曇りの種が凝集し、欠陥の原因となるサイズの曇りに成長する。

【0005】

原版の曇りに対しては、原版の保管環境及び搬送環境から、曇りの原因物質である揮発性不純物（主に、ＳＯ_ｘ、ＮＨ_３、有機物）や曇りの生成物質である水分を除去（低湿度化）することが、原版の曇りを包括的に抑制する効果的な対策とされている。このような対策の一例として、原版の周囲環境にクリーンドライエア（ＣＤＡ）などのガスを供給してガスパージする、即ち、原版の周囲環境をパージガスで置換する技術が提案されている（特許文献１及び２参照）。

【0006】

また、原版の曇りは、ペリクル膜内に存在する水分によっても形成される。但し、ペリクル膜内が低湿度環境にさらされても、ペリクル膜内が低湿度に置換されるまでには時間を要する。従って、原版の保管庫などの保管環境をガスパージすることは、ペリクル膜内の低湿度化に有効であり、原版の曇りを抑制するのに効果的である。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【文献】特開平１１－２４９２８６号公報

【文献】特許第４５８５５１４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

しかしながら、従来技術では、原版の保管環境などの周囲環境を低湿度化するために、大量（大流量）のパージガスが必要になるという課題がある。

【0009】

本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、原版の収納空間を低湿度化するのに有利な収納装置を提供することを例示的目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

本発明の一側面は、パターンが形成されたパターン面を含む原版を収納する収納装置に係り、前記収納装置は、前記原版を収納する収納空間を規定するチャンバと、前記原版の前記パターン面とは反対側の第１面に沿った第１気流、及び、前記パターン面から離間して設けられて前記パターン面を保護する保護部材の前記パターン面の側とは反対側の第２面に沿った第２気流の少なくとも一方の気流が形成されるように、気体を吹き出して供給する第１供給部と、前記第１供給部によって形成された前記少なくとも一方の気流に干渉する第３気流が形成されるように、気体を吹き出して供給する第２供給部と、前記第２供給部から吹き出される気体の吹出方向に対面し、前記第２供給部によって形成された前記第３気流を受けるための受面を含む部材と、を有し、前記第１供給部は、前記原版を搬送するための搬送口を基準として前記収納空間の奥側に配置され、前記第２供給部は、前記搬送口を基準として前記収納空間の手前側に配置され、前記第１供給部によって形成された前記少なくとも一方の気流は、前記収納空間の奥側から前記収納空間の手前側に向かう気流である。

【0011】

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。

【発明の効果】

【0012】

本発明によれば、例えば、原版の収納空間を低湿度化するのに有利な収納装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0013】

【図1】本発明の第１実施形態における収納装置の構成を示す概略図である。

【図2】第１気流の流量と、第２気流の流量と、第３気流の流量との関係を説明するための図である。

【図3】本発明の第１実施形態における収納装置の構成を示す概略図である。

【図4】本発明の第１実施形態における収納装置の構成を示す概略図である。

【図5】本発明の第１実施形態における収納装置の構成を示す概略図である。

【図6】本発明の第１実施形態における収納装置の構成を示す概略図である。

【図7】本発明の第２実施形態における収納装置の構成を示す概略図である。

【図8】本発明の第３実施形態における収納装置の構成を示す概略図である。

【図9】本発明の第４実施形態における収納装置の構成を示す概略図である。

【図10】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。

【図11】従来技術における収納装置の構成を示す概略図である。

【図12】従来技術における収納装置の構成を示す概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0014】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。更に、添付図面においては、同一もしくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0015】

まず、本実施形態を説明する前に、原版を収納（保管）する収納装置（保管庫）に関する従来技術について説明する。

【0016】

図１１は、特許文献１に開示されている収納装置１０００の構成を示す概略図である。収納装置１０００は、パターンが形成されたパターン面を含む原版９１を収納する収納空間（原版９１の周囲環境）を一方向からガスパージしている。具体的には、供給部９４が、原版９１のパターン面とは反対側の裏面９２の周囲や原版９１のパターン面を保護する保護部材（ペリクル）の保護面９３の周囲に、ノズルを介して気体９５（低湿度ガス）を流すことで、収納空間のガスパージが行われている。このように、原版９１の収納空間を一方向からガスパージすると、図１１に示すように、原版９１に対して下流側で渦９６が発生し、原版９１の周囲の高湿度雰囲気を巻き込むため、収納空間を低湿度化することができないという課題がある。

【0017】

図１２は、特許文献２に開示されている収納装置２０００の構成を示す概略図である。収納装置２０００は、パターンが形成されたパターン面を含む原版１０１を収納する収納空間１１０をガスパージしている。具体的には、収納装置２０００では、原版１０１の収納空間１１０の開口側から内側に向けて気体１０４（低湿度ガス）を流し、かかる気体１０４は、収納空間１１０（の内側）をパージしてから開口側に流れる。この際、気体１０４は、原版１０１のパターン面とは反対側の裏面１０２の周囲や原版１０１のパターン面を保護する保護部材（ペリクル）の保護面１０３の周囲を流れる。なお、図１２では、原版１０１の収納空間１１０の内側から開口側に流れる気体１０４の流れを示している。また、収納装置２０００には、原版１０１の収納空間１１０の開口側（原版１０１に対して下流側）の上方に、下方に向けて、ノズルを介して気体１０６（低湿度ガス）を吹き出してエアカーテンを形成する供給部１０５が設けられている。更に、収納装置２０００には、原版１０１の収納空間１１０を規定するチャンバ１０８に設けられた開口を閉じて、収納空間１１０を密閉空間にする開閉機構１０９が設けられている。

【0018】

このような収納装置２０００では、開閉機構１０９によって収納空間１１０を密閉空間にしてガスパージしない場合、原版１０１に対して下流側で渦１０７が発生し、原版１０１の周囲の高湿度雰囲気を巻き込むため、収納空間１１０を低湿度化することができない。原版１０１の収納空間１１０を低湿度化するためには、渦１０７が発生する領域を狭めて周囲の高湿度雰囲気の巻き込みを低減しなければならない。そこで、供給部１０５によって、原版１０１の裏面１０２の周囲や保護部材の保護面１０３の周囲に流れる気体１０４の流れを遮断するようなエアカーテンを形成することが考えられる。但し、このようなエアカーテンを形成するためには、大量（大流量）の気体１０６が必要になるという課題がある。

【0019】

以下、各実施形態において、原版の収納空間を低湿度化するのに有利な収納装置について説明する。

【0020】

＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態における収納装置１Ａの構成を示す概略図である。収納装置１Ａは、収納チャンバ（不図示）によって規定される収納空間ＡＳにおいて、パターンが形成されたパターン面１４を含む原版１１を収納（保管）する。

【0021】

原版１１は、例えば、収納チャンバに設けられた保持溝や保持部材を介して、収納空間ＡＳで保持されている。原版１１には、原版１１のパターン面１４に異物が付着することを防止するために、ペリクルと称される保護部材１２が設けられている。保護部材１２は、支持枠１２ａを介して、原版１１のパターン面１４から所定の距離だけ離間（オフセット）して支持されている。

【0022】

収納装置１Ａには、原版１１を収納する収納空間ＡＳ（原版１１の周囲環境）を一方向からガスパージするために、第１供給部１３（ノズル）が設けられている。第１供給部１３は、原版１１のパターン面１４とは反対側の裏面１５（第１面）の周囲や保護部材１２のパターン面１４の側とは反対側の保護面１６（第２面）の周囲に気体を供給して、かかる気体で収納空間ＡＳを置換する。具体的には、第１供給部１３は、原版１１の裏面１５に沿った（即ち、裏面１５の周囲を流れる）第１気流１７、及び、保護部材１２の保護面１６に沿った（即ち、保護面１６の周囲を流れる）第２気流１８の少なくとも一方の気流を形成する機能を有する。本実施形態では、第１供給部１３は、第１気流１７及び第２気流１８の両方の気流が形成されるように、収納空間ＡＳに対して、気体を吹き出して供給する。このように、第１供給部１３は、収納空間ＡＳの奥側から収納空間ＡＳの手前側に向かう一方向の気流（第１気流１７及び第２気流１８）を形成する。なお、第１供給部１３は、第１気流１７と第２気流１８とを１つのノズルで形成してもよいし、第１気流１７及び第２気流１８のそれぞれを別のノズル（２つのノズル）で形成してもよい。第１気流１７及び第２気流１８のそれぞれを別のノズルで形成することで、第１気流１７の流量と第２気流１８の流量とを個別に制御（設定）することが可能となる。

【0023】

また、収納装置１Ａには、収納チャンバに設けられた開口側、具体的には、収納装置１Ａと外部との間で原版１１を搬送するための搬送口ＣＰの側の上方に、第２供給部２１が設けられている。第２供給部２１は、搬送口ＣＰと外部とを遮断するためのエアカーテンを形成する。具体的には、第２供給部２１は、第１供給部１３によって形成された第１気流１７及び第２気流１８の少なくとも一方の気流に干渉する第３気流１９が形成されるように、気体を吹き出して供給する。本実施形態では、第２供給部２１は、第１供給部１３によって形成された第１気流１７及び第２気流１８の両方の気流にあたる（交差する）第３気流１９が形成されるように、下方に向けて、気体を吹き出して供給する。

【0024】

図１に示すように、収納装置１Ａでは、第１供給部１３は、搬送口ＣＰを基準として収納空間ＡＳの奥側に配置され、第２供給部２１は、搬送口ＣＰを基準として収納空間ＡＳの手前側に配置されている。また、収納空間ＡＳに収納された原版１１を基準とすれば、第１供給部１３は、原版１１の一方の側（－Ｙ方向）に配置され、第２供給部１３は、原版１１の他方の側（＋Ｙ方向）に配置されている。このような配置によって、収納装置１Ａでは、収納空間ＡＳを一方向からガスパージすることを可能としている。

【0025】

第１供給部１３及び第２供給部２１から供給する気体（パージガス）としては、例えば、クリーンドライエア（ＣＤＡ）が挙げられる。ＣＤＡは、原版１１の曇り生成物質である水分（水蒸気）を含む割合が通常の空気に比べて極端に低く、本実施形態では、その湿度が１％以下の気体である。また、第１供給部１３及び第２供給部２１から供給する気体は、水分を含む割合が少ない不活性ガス、例えば、窒素（Ｎ_２）であってもよい。湿度が１％以下のＣＤＡで収納空間ＡＳをパージすることで、原版１１の周囲環境の湿度を、例えば、１．５％以下の低湿度にすることが可能であり、原版１１の曇りの発生を抑制することができる。

【0026】

なお、原版１１の周囲環境の湿度を目標湿度以下にすることができれば、第１供給部１３から供給する気体と第２供給部２１から供給する気体とが異なっていてもよい。換言すれば、第３気流１９を形成する気体が第１気流１７及び第２気流１８を形成する気体と別の気体であってもよい。但し、装置構成の複雑化の観点から、第１供給部１３から供給する気体と第２供給部２１から供給する気体とは同じ気体であることが好ましい。

【0027】

更に、収納装置１Ａには、第２供給部２１に対向して、壁部材２０が設けられている。壁部材２０は、第２供給部２１から吹き出される気体の吹出方向ＢＤに交差し、第２供給部２１によって形成された第３気流１９を受けるための受面２０ａを含む部材である。具体的には、受面２０ａが、保護部材１２の保護面１６に対して、Ｙ方向（保護面１６に沿った方向）において、保護面１６から外側に０ｍｍ以上３００ｍｍ以下の範囲で延在するように、壁部材２０を構成する。壁部材２０は、収納空間ＡＳを規定する収納チャンバの一部として構成されていてもよいし、収納チャンバとは別に構成されていてもよい。

【0028】

収納装置１Ａにおいても、上述したように、第１気流１７及び第２気流１８に起因して、原版１１に対して下流側で渦２２が発生する。但し、本実施形態では、第２供給部２１によって形成される第３気流１９と壁部材２０とで第１気流１７及び第２気流１８を挟み込むことで、渦２２が発生する領域（発生領域）を狭めることができる。従って、原版１１の周囲の高湿度雰囲気の巻き込みを低減し、収納空間ＡＳを低湿度化することができる。また、第２供給部２１と壁部材２０との間のＺ方向（原版１１のパターン面１４に直交する方向）の距離は、渦２２の発生領域を狭める観点から、短い方が好ましい。具体的には、壁部材２０は、Ｚ方向において、受面２０ａと第２供給部２１の気体の吹出口との間の距離が１０ｍｍ以上５００ｍｍ以下となるように配置されているとよい。

【0029】

ここで、図２を参照して、第１気流１７の流量Ｑ１と、第２気流１８の流量Ｑ２と、第３気流１９の流量Ｑ３との関係について説明する。図２では、第３気流１９の流量Ｑ３が第１気流１７の流量Ｑ１と第２気流１８の流量Ｑ２との和（第１気流１７と第２気流１８の総流量）以上である場合、即ち、Ｑ３≧Ｑ１＋Ｑ２である場合における原版１１の周辺での気体の流れを示している。この場合、図２に示すように、第３気流１９が壁部材２０の受面２０ａにあたることで、その一部が原版１１の側に流れる（逆流する）気流１９ａが発生する。これにより、原版１１の周囲の高湿度雰囲気が巻き込まれて、高湿度の気体が原版１１の側に向かう気流８１が生成されるため、原版１１の周囲環境である収納空間ＡＳの低湿度化に不利となる。従って、第３気流１９の流量Ｑ３は、第１気流１７の流量Ｑ１と第２気流１８の流量Ｑ２との和（第１気流１７と第２気流１８の総流量）よりも少ないこと、即ち、Ｑ３＜Ｑ１＋Ｑ２であることが好ましい。

【0030】

また、収納装置１Ａは、図３に示すように、収納空間ＡＳを複数段設ける、即ち、原版１１の収納棚を複数段積み重ねることで、原版１１を複数収納するように構成することも可能である。なお、図３では、収納棚を２段積み重ねているが、収納棚の段数は限定されるものではなく、３段以上の収納棚を積み重ねてもよい。図３は、複数の原版１１を収納可能な収納装置１Ａの構成を示す図である。この場合、第２供給部２１及び壁部材２０は、複数の収納空間ＡＳ（複数の原版１１）のそれぞれに対して設けられる。この際、図３に示す収納装置１Ａのように、上段の収納空間ＡＳに設けられた壁部材２０に、下段の収納空間ＡＳに第３気流１９を形成するための第２供給部２１を設けてもよい。一方、第１供給部１３は、複数の収納空間ＡＳのそれぞれに対して設ける必要はなく、図３に示すように、１つの第１供給部１３によって、複数の収納空間ＡＳのそれぞれにおける第１気流１７及び第２気流１８を形成してもよい。この場合、複数の収納空間ＡＳのそれぞれに対して第１供給部１３を設ける場合と比べて、装置構成の点で有利である。

【0031】

また、図１では、壁部材２０は、第２供給部２１に対向する部分のみに存在している。但し、壁部材２０は、図４に示すように、原版１１の裏面１５や保護部材１２の保護面１６よりも第１供給部１３の側に延在していてもよい。この場合、第２供給部２１によって形成される第２気流１８が壁部材２０で整流される。同様に、第１気流１７の整流という観点から、第２供給部２１を、図４に示すように、原版１１の裏面１５や保護部材１２の保護面１６よりも第１供給部１３の側に延在させてもよい。

【0032】

図５は、図１に示す収納装置１ＡのＸＹ平面図である。第１気流１７は、図５に示すように、Ｘ方向において、原版１１の裏面１５よりも広い範囲で流れることが好ましい。同様に、第２気流１８は、Ｘ方向において、保護部材１２の保護面１６よりも広い範囲で流れることが好ましい。従って、第１供給部１３は、Ｘ方向において、原版１１の裏面１５や保護部材１２の保護面１６よりも広い範囲に第１気流１７及び第２気流１８が形成されるように、気体を吹き出して供給するとよい。また、第３気流１９は、Ｘ方向において、第１気流１７及び第２気流１８よりも広い範囲で流れることが好ましい。従って、第２供給部２１は、Ｘ方向において、第１気流１７及び第２気流１８よりも広い範囲に第３気流１９が形成されるように、気体を吹き出して供給するとよい。

【0033】

第２供給部２１（の気体の吹出口）は、Ｙ方向において、原版１１の近傍に配置されることが好ましい。これは、第２供給部２１を原版１１から離れた位置に配置すると、第３気流１９と第１気流１７及び第２気流１８とが干渉する（交差する）位置が原版１１から離れ、渦２２の発生領域が＋Ｙ方向に広がり、収納空間ＡＳの低湿度化に時間を要してしまうからである。

【0034】

また、上述したように、第３気流１９は、壁部材２０と協同して、原版１１に対して下流側で第１気流１７及び第２気流１８を挟み込めればよい。従って、図６に示すように、第２供給部２１と壁部材２０とがＺ方向において対向している必要はなく、第２供給部２１から吹き出される気体の吹出方向ＢＤと受面２０ａとが交差するように、第２供給部２１と壁部材２０とを配置すればよい。第２供給部２１と壁部材２０とがＹ方向にずれていても、第２供給部２１から吹き出される気体の吹出方向ＢＤと壁部材２０の受面２０ａとが交差していればよい。

【0035】

＜第２実施形態＞
図７（ａ）及び図７（ｂ）を参照して、本発明の第２実施形態における収納装置１Ｂについて説明する。図７（ａ）は、本発明の第２実施形態における収納装置１Ｂの構成を示す概略図であって、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示す収納装置１ＢのＸＹ平面図である。収納装置１Ｂは、収納チャンバ（不図示）によって規定される収納空間ＡＳにおいて、パターンが形成されたパターン面１４を含む原版１１を収納（保管）する。収納装置１Ｂは、収納装置１Ａと同様な構成を有するが、収納装置１Ａと比較して、壁部材２０の構成が異なる。

【0036】

壁部材２０は、本実施形態では、受面２０ａにおいて、第２供給部２１の側に突出した凸部４１を含む。凸部４１は、第２供給部２１に対向し、第２供給部２１から吹き出される気体の吹出方向ＢＤに交差するように設けられている。壁部材２０の受面２０ａに凸部４１を設けることによって、第２供給部２１と壁部材２０との間のＺ方向の距離を狭めることができる。また、凸部４１の第２供給部２１の側の面は、Ｚ方向において、第２供給部２１の側の面が保護部材１２の保護面１６よりも高い位置（＋Ｚ方向）になるようにするとよい。

【0037】

第１実施形態で説明したように、第２供給部２１によって形成される第３気流１９と壁部材２０とによって、渦４２の発生領域を狭めることができるが、本実施形態のように、凸部４１を設けることによって、渦４２の発生領域を更に狭めることができる。従って、原版１１の周囲の高湿度雰囲気の巻き込みを低減し、収納空間ＡＳを低湿度化することができる。このように、凸部４１は、原版１１の周囲環境の低湿度化に効果的である。

【0038】

また、本実施形態では、図７（ｂ）に示すように、原版１１に対してＸ方向に側壁４３を設けている。図７（ｂ）を参照するに、第１供給部１３によって形成された第１気流１７は、一般的に、Ｘ方向に拡散する。但し、本実施形態では、側壁４３が設けられているため、第１気流１７のＸ方向への拡散を抑制することができる。従って、本実施形態では、第１気流１７を、Ｘ方向において、原版１１の裏面１５よりも狭い範囲で流すことが可能となる。同様に、第２気流１８を、Ｘ方向において、保護部材１２の保護面１６よりも狭い範囲で流すことが可能となる。一方、第３気流１９は、Ｘ方向において、第１気流１７及び第２気流１８よりも広い範囲で流れることが好ましい。

【0039】

＜第３実施形態＞
図８を参照して、本発明の第３実施形態における収納装置１Ｃについて説明する。図８は、本発明の第３実施形態における収納装置１Ｃの構成を示す概略図である。収納装置１Ｃは、収納チャンバ（不図示）によって規定される収納空間ＡＳにおいて、パターンが形成されたパターン面１４を含む原版１１を収納（保管）する。収納装置１Ｃは、収納装置１Ａと同様な構成を有するが、収納装置１Ａと比較して、第３供給部５１を更に有する。なお、本実施形態では、第１供給部１３は、第１気流１７のみが形成されるように、気体を吹き出して供給する。

【0040】

第３供給部５１は、保護部材１２の保護面１６に対向して設けられ、保護面１６に向けて気体を吹き出して供給する。これにより、図８に示すように、原版１１の収納空間ＡＳには、気流５２が形成される。

【0041】

第３供給部５１から供給する気体（パージガス）は、原版１１の曇り生成物質である水分（水蒸気）を含む割合が通常の空気に比べて極端に低く、本実施形態では、その湿度が１％以下の気体である。また、第３供給部５１から供給する気体は、第１供給部１３から供給する気体やと第２供給部２１から供給する気体と異なっていてもよいし、同じであってもよい。

【0042】

第１実施形態で説明したように、第２供給部２１によって形成される第３気流１９と壁部材２０とによって、渦５３の発生領域を狭めることができるが、本実施形態のように、気流５２を形成することによって、渦５３の発生領域を更に狭めることができる。従って、原版１１の周囲の高湿度雰囲気の巻き込みを低減し、収納空間ＡＳを低湿度化することができる。このように、保護部材１２の保護面１６に対して第３供給部５１から気体を吹き出して気流５２を形成することは、原版１１の周囲環境の低湿度化に効果的である。

【0043】

なお、本実施形態では、第３供給部５１を壁部材２０に設けているが、これに限定されるものではない。例えば、第３供給部５１は、保護部材１２の保護面１６の全域に向けて気体を吹き出すことができるように構成されていればよく、壁部材２０とは別に、第３供給部５１を設けてもよい。また、第３供給部５１の気体の吹出口の形状は、スリット形状や円形状など任意の形状を選択可能である。

【0044】

＜第４実施形態＞
図９を参照して、本発明の第４実施形態における収納装置１Ｄについて説明する。図９は、本発明の第４実施形態における収納装置１Ｄの構成を示す概略図である。収納装置１Ｄは、収納チャンバ（不図示）によって規定される収納空間ＡＳにおいて、パターンが形成されたパターン面１４を含む原版１１を収納（保管）する。収納装置１Ｄは、収納装置１Ａと同様な構成を有するが、収納装置１Ａと比較して、第４供給部６１を更に有する。

【0045】

第４供給部６１は、第２供給部２１に対向して、壁部材２０に設けられている。第４供給部６１は、第１供給部１３によって形成された第１気流１７や第２気流１８に干渉し、且つ、第２供給部２１によって形成された第３気流１９に対向する第４気流６２が形成されるように、気体を吹き出して供給する。なお、第４気流６２は、Ｘ方向において、第３気流１９と同程度の範囲で流れることが好ましい。

【0046】

第４供給部６１から供給する気体（パージガス）は、原版１１の曇り生成物質である水分（水蒸気）を含む割合が通常の空気に比べて極端に低く、本実施形態では、その湿度が１％以下の気体である。また、第４供給部６１から供給する気体は、第１供給部１３から供給する気体やと第２供給部２１から供給する気体と異なっていてもよいし、同じであってもよい。

【0047】

第４気流６２は、本実施形態では、第１気流１７及び第２気流１８に干渉する（あたる）ように形成されるため、第３実施形態と同様な効果を得ることができる。具体的には、第２供給部２１によって形成される第３気流１９と壁部材２０とによって、渦６３の発生領域を狭めることができるが、本実施形態のように、第４気流６２を形成することによって、渦６３の発生領域を更に狭めることができる。従って、原版１１の周囲の高湿度雰囲気の巻き込みを低減し、収納空間ＡＳを低湿度化することができる。このように、第４供給部６１から気体を吹き出して第３気流１９に対向する第４気流６２を形成することは、原版１１の周囲環境の低湿度化に効果的である。

【0048】

ここで、第１気流１７の流量Ｑ１と、第２気流１８の流量Ｑ２と、第３気流１９の流量Ｑ３と、第４気流６２の流量Ｑ４との関係について説明する。例えば、第３気流１９の流量Ｑ３と第４気流６２の流量Ｑ４との和（総流量）が、第１気流１７の流量Ｑ１と第２気流１８の流量Ｑ２との和（総流量）以上である場合、即ち、Ｑ３＋Ｑ４≧Ｑ１＋Ｑ２である場合を考える。この場合、第３気流１９と第４気流６２とがあたることで、その一部が原版１１の側に流れる（逆流する）気流が発生する。これにより、原版１１の周囲の高湿度雰囲気が巻き込まれて、高湿度の気体が原版１１の側に向かう気流が生成されるため、原版１１の周囲環境である収納空間ＡＳの低湿度化に不利となる。従って、第３気流１９の流量Ｑ３と第４気流６２の流量Ｑ４との和は、第１気流１７の流量Ｑ１と第２気流１８の流量Ｑ２との和よりも少ないこと、即ち、Ｑ３＋Ｑ４＜Ｑ１＋Ｑ２であることが好ましい。

【0049】

このように、第１実施形態、第２実施形態、第３実施形態及び第４実施形態によれば、大量（大流量）の気体（パージガス）を必要とせずに、原版１１の周囲環境である収納空間ＡＳを低湿度化するのに有利な収納装置を提供することができる。なお、第１実施形態と、第２実施形態と、第３実施形態と、第４実施形態とは、適宜組み合わせることが可能である。

【0050】

以下、図１０を参照して、原版を収納する収納部として収納装置１Ａが適用された露光装置について説明する。なお、ここでは、収納装置１Ａを露光装置に適用しているが、収納装置１Ｂ、１Ｃ又は１Ｄを露光装置に適用することも可能である。図１０は、本発明の一側面としての露光装置５０５の構成を示す概略図である。

【0051】

露光装置５０５は、半導体素子や液晶表示素子などのデバイスの製造工程であるリソグラフィ工程に採用され、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置５０５は、原版を介して基板を露光して、原版のパターンを基板に転写する。露光装置５０５には、ステップ・アンド・スキャン方式、ステップ・アンド・リピート方式、その他の露光方式を採用することができる。

【0052】

露光装置５０５は、図１０に示すように、照明光学系５０１と、原版を保持して移動する原版ステージ５０２（原版保持部）と、投影光学系５０３と、基板を保持して移動する基板ステージ５０４と、収納装置１Ａとを有する。

【0053】

照明光学系５０１は、光源からの光で、原版ステージ５０２に保持された原版１１を照明する。照明光学系５０１は、レンズ、ミラー、オプティカルインテグレータ、絞りなどを含む。なお、光源には、例えば、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５７ｎｍのＦ_２レーザ、ＹＡＧレーザなどのレーザを用いることができる。光源に用いられるレーザの個数は、限定されるものではない。光源にレーザが用いられる場合、照明光学系５０１は、レーザ光（平行光）を所望の形状に整形する整形光学系やコヒーレントなレーザ光をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を含むとよい。また、光源はレーザに限定されるものではなく、１つ又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプを用いてもよい。

【0054】

投影光学系５０３は、原版１１のパターンを、基板ステージ５０４に保持された基板に投影する。投影光学系５０３は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子と少なくとも１つの凹面ミラーとを含む光学系（カタディオプトリック光学系）を用いることができる。また、投影光学系５０３は、複数のレンズ素子と１つのキノフォームなどの回折光学素子とを含む光学系や全ミラー型の光学系などを用いることもできる。

【0055】

収納装置１Ａは、露光装置５０５の外部から露光装置５０５に搬入され、原版ステージ５０２に搬送される原版１１を収納（保管）する。収納装置１Ａは、上述したように、大量（大流量）の気体（パージガス）を必要とせずに、原版１１の周囲環境である収納空間ＡＳを低湿度化することができる。従って、収納装置１Ａから原版ステージ５０２に搬送され、原版ステージ５０２に保持された原版１１は、露光時において、曇りの発生が抑制される。これにより、露光装置５０５は、半導体素子や液晶表示素子などのデバイスの製造工程であるリソグラフィ工程において、従来よりも高品位のデバイスを低コストで製造することができる。

【0056】

本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置５０５を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する（パターンを基板に形成する）工程と、露光された基板を現像する（基板を処理する）工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。なお、上述した物品の製造方法は、インプリント装置や描画装置などのリソグラフィ装置を用いて行ってもよい。

【0057】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【符号の説明】

【0058】

１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ：収納装置 １１：原版 １４：パターン面 １５：裏面 １２：保護部材 １６：保護面 １７：第１気流 １８：第２気流 １９：第３気流 ２０：壁部材 ２０ａ：受面 ２１：第２供給部 ２２：渦

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】