特許 7594468 基板処理装置および供給弁

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-26

(45)【発行日】2024-12-04

(54)【発明の名称】基板処理装置および供給弁

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20241127BHJP

   B05C 5/00 20060101ALI20241127BHJP

   B05C 11/10 20060101ALI20241127BHJP

   F16K 51/00 20060101ALI20241127BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 564C

H01L21/30 569Z

B05C5/00 101

B05C11/10

F16K51/00 C

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2021038356

(22)【出願日】2021-03-10

(65)【公開番号】P2022138462

(43)【公開日】2022-09-26

【審査請求日】2023-12-18

(73)【特許権者】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100093056

【弁理士】

【氏名又は名称】杉谷 勉

(74)【代理人】

【識別番号】100142930

【弁理士】

【氏名又は名称】戸高 弘幸

(74)【代理人】

【識別番号】100175020

【弁理士】

【氏名又は名称】杉谷 知彦

(74)【代理人】

【識別番号】100180596

【弁理士】

【氏名又は名称】栗原 要

(74)【代理人】

【識別番号】100195349

【弁理士】

【氏名又は名称】青野 信喜

(72)【発明者】

【氏名】柏山 真人

【審査官】植木 隆和

(56)【参考文献】

【文献】特開２００１－２６９６０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００５－０９０６３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０４４６１９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－１９２８１４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｂ０５Ｃ １１／１０

Ｆ１６Ｋ ５１／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板に対して処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルに処理液を供給するための供給弁と、
前記ノズルと前記供給弁の出口を繋ぐノズル側配管と、を備え、
前記供給弁は、
流路ブロックと、
前記流路ブロックに形成された開閉弁室と、
前記流路ブロックに形成され、入口と前記開閉弁室との間で液体を流すように構成された入口側流路と、
前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室と前記出口との間で液体を流すように構成された出口側流路と、
前記開閉弁室内に配置された開閉弁体と、
前記開閉弁室と前記出口側流路との境界に設けられ、前記開閉弁室内で前記開閉弁体を受けるように構成された弁座と、
前記開閉弁体を前記弁座に押し当ることで前記開閉弁室から前記出口側流路への処理液の流れを停止し、また、押し当てた前記開閉弁体を前記弁座から離すことで、前記開閉弁室から前記出口側流路へ処理液を流す開閉駆動部と、
前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出するベント流路と、を備え、
前記ベント流路は、下方向に延びながら前記開閉弁室に接続することを特徴とする基板処理装置。

【請求項2】

請求項１に記載の基板処理装置において、
前記入口側流路は、下方向に延びながら前記開閉弁室に接続する共有流路を有し、
前記ベント流路は、前記共有流路を介して前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出することを特徴とする基板処理装置。

【請求項3】

請求項１または２に記載の基板処理装置において、
前記開閉弁室の天井面は、前記ベント流路に気泡を案内するために傾斜面を有することを特徴とする基板処理装置。

【請求項4】

基板に対して処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルに処理液を供給するための供給弁と、
前記ノズルと前記供給弁の出口を繋ぐノズル側配管と、を備え、
前記供給弁は、
流路ブロックと、
前記流路ブロックに形成された開閉弁室と、
前記流路ブロックに形成され、入口と前記開閉弁室との間で液体を流すように構成された入口側流路と、
前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室と前記出口との間で液体を流すように構成された出口側流路と、
前記開閉弁室内に配置された開閉弁体と、
前記開閉弁室と前記出口側流路との境界に設けられ、前記開閉弁室内で前記開閉弁体を受けるように構成された弁座と、
前記開閉弁体を前記弁座に押し当ることで前記開閉弁室から前記出口側流路への処理液の流れを停止し、また、押し当てた前記開閉弁体を前記弁座から離すことで、前記開閉弁室から前記出口側流路へ処理液を流す開閉駆動部と、
前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出するベント流路と、を備え、
前記供給弁は、
前記流路ブロックの前記入口側流路に形成され、処理液を収容する第１ポンプ室と、
前記第１ポンプ室内の容積を変化させる容積変化部材と、
前記容積変化部材を駆動してポンプ動作を行うポンプ駆動部と、
を更に備えることを特徴とする基板処理装置。

【請求項5】

請求項４に記載の基板処理装置において、
前記供給弁は、液処理ユニット内に前記ノズルおよび前記ノズル側配管と共に配置されることを特徴とする基板処理装置。

【請求項6】

請求項４に記載の基板処理装置において、
上下方向に配置され、基板を各々処理する複数の液処理ユニットと、
前記複数の液処理ユニットの各々に処理液を送るための上流ポンプと、を更に備え、
前記複数の液処理ユニットは各々、前記ノズル、前記供給弁および前記ノズル側配管を備え、
前記供給弁は、前記第１ポンプ室に接するように設けられ、前記第１ポンプ室内で処理液の圧力を計測する第１圧力センサを備え、
前記上流ポンプは、
処理液を収容する第２ポンプ室と、
前記第２ポンプ室に接するように設けられ、前記第２ポンプ室内で処理液の圧力を計測する第２圧力センサと、を備え、
前記上流ポンプは、前記複数の液処理ユニットのいずれか１つの液処理ユニットに選択的に処理液を送る場合に、処理液が送られる前記液処理ユニットの前記供給弁の前記ポンプ駆動部と連携して、処理液が送られる前記液処理ユニットの前記第１圧力センサで計測された第１圧力値が予め設定された圧力値になるように、前記第２圧力センサで計測された第２圧力値を調整することを特徴とする基板処理装置。

【請求項7】

流路ブロックと、
前記流路ブロックに形成された開閉弁室と、
前記流路ブロックに形成され、入口と前記開閉弁室との間で液体を流すように構成された入口側流路と、
前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室と出口との間で液体を流すように構成された出口側流路と、
前記開閉弁室内に配置された開閉弁体と、
前記開閉弁室と前記出口側流路との境界に設けられ、前記開閉弁室内で前記開閉弁体を受けるように構成された弁座と、
前記開閉弁体を前記弁座に押し当ることで前記開閉弁室から前記出口側流路への液体の流れを停止し、また、押し当てた前記開閉弁体を前記弁座から離すことで、前記開閉弁室から前記出口側流路へ液体を流す開閉駆動部と、
前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出するベント流路と、を備え、
前記ベント流路は、下方向に延びながら前記開閉弁室に接続することを特徴とする供給弁。

【請求項8】

流路ブロックと、
前記流路ブロックに形成された開閉弁室と、
前記流路ブロックに形成され、入口と前記開閉弁室との間で液体を流すように構成された入口側流路と、
前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室と出口との間で液体を流すように構成された出口側流路と、
前記開閉弁室内に配置された開閉弁体と、
前記開閉弁室と前記出口側流路との境界に設けられ、前記開閉弁室内で前記開閉弁体を受けるように構成された弁座と、
前記開閉弁体を前記弁座に押し当ることで前記開閉弁室から前記出口側流路への液体の流れを停止し、また、押し当てた前記開閉弁体を前記弁座から離すことで、前記開閉弁室から前記出口側流路へ液体を流す開閉駆動部と、
前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出するベント流路と、
前記流路ブロックの前記入口側流路に形成され、処理液を収容する第１ポンプ室と、
前記第１ポンプ室内の容積を変化させる容積変化部材と、
前記容積変化部材を駆動してポンプ動作を行うポンプ駆動部と、
を備えることを特徴とする供給弁。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板を処理する基板処理装置およびその基板処理装置に設けられる供給弁に関する。基板は、例えば、半導体基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）用の基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが挙げられる。ＦＰＤは、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などが挙げられる。

【背景技術】

【0002】

従来、基板処理装置は、ノズル、配管および処理液供給源を備える。ノズルは、処理液として例えばレジスト液を基板上に吐出する。配管は、ノズルと処理液供給源とを結ぶ。配管には、上流から下流のノズルに向けて、ポンプ、開閉弁が順番に設けられる。開閉弁を開状態にしながら、ポンプで配管を通じてレジスト液を送ることで、ノズルからレジスト液が吐出される（例えば、特許文献１，２参照）。

【0003】

特許文献１には、バッファタンクとノズルの間の配管にトラップタンクが設けられることが開示されている。バッファタンク内を加圧することにより、バッファタンク内の処理液はトラップタンクに供給される。更に、トラップタンク内を加圧することにより、トラップタンク内の処理液はノズルに供給される。

【0004】

特許文献２には、多段に積層されて設けられた複数の塗布モジュールに対して処理液を分配供給するディスペンス機構が開示されている。ディスペンス機構は、処理液供給源、加圧手段、および複数の塗布モジュールに対応する複数のディスペンスユニットを備える。複数のディスペンスユニットは各々、ポンプおよびノズルを備える。ノズルは、対応する塗布モジュールにおいて処理液を吐出する。ポンプは、対応する塗布モジュールの横（斜め下）に配置される。ポンプは、加圧手段によって処理液供給源から送られた処理液を内部に貯留する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開２０００－１７３９０２号公報

【文献】特開２００７－００５５７６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかし、従来の基板処理装置は次の問題を有する。開閉弁は、開閉時に処理液（例えばレジスト液）中に気泡が発生する場合がある。発生した気泡は、開閉弁室に留まって、ある程度の大きさに成長する。そして、ある程度の大きさに成長した気泡は、開閉弁が開状態のときに、ノズルに送られ、ノズルから処理液と共に気泡が基板上に供給されるおそれがある。また、気泡は、パーティクル源になるおそれがある。これらは製品欠陥の原因となるおそれがある。

【0007】

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、開閉弁に起因する気泡を除去することができる基板処理装置および供給弁を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係る基板処理装置は、基板に対して処理液を吐出するノズルと、前記ノズルに処理液を供給するための供給弁と、前記ノズルと前記供給弁の出口を繋ぐノズル側配管と、を備え、前記供給弁は、流路ブロックと、前記流路ブロックに形成された開閉弁室と、前記流路ブロックに形成され、入口と前記開閉弁室との間で液体を流すように構成された入口側流路と、前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室と前記出口との間で液体を流すように構成された出口側流路と、前記開閉弁室内に配置された開閉弁体と、前記開閉弁室と前記出口側流路との境界に設けられ、前記開閉弁室内で前記開閉弁体を受けるように構成された弁座と、前記開閉弁体を前記弁座に押し当ることで前記開閉弁室から前記出口側流路への処理液の流れを停止し、また、押し当てた前記開閉弁体を前記弁座から離すことで、前記開閉弁室から前記出口側流路へ処理液を流す開閉駆動部と、前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出するベント流路と、を備え、前記ベント流路は、下方向に延びながら前記開閉弁室に接続することを特徴とするものである。

【0009】

本発明に係る基板処理装置によれば、供給弁は、開閉弁（開閉弁室、弁座、開閉弁体および開閉駆動部）を備える。開閉弁室には、開閉弁室内の気泡を排出するベント流路が接続される。これにより、開閉弁の開閉時に気泡が発生したとしても、ベント流路を通じて開閉弁室内の気泡を排出することができる。すなわち、開閉弁に起因する気泡を除去することができる。そのため、気泡が基板上に供給されることなどで、製品欠陥となることを防止することができる。
また、浮力で気泡が移動する方向にベント流路が延びているので、開閉弁室内の気泡を容易に除去することができる。

【0011】

また、上述の基板処理装置において、前記入口側流路は、下方向に延びながら前記開閉弁室に接続する共有流路を有し、前記ベント流路は、前記共有流路を介して前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出することが好ましい。ベント流路は、入口側流路の共有流路に接続することで、共有流路を介して開閉弁室に接続する。そのため、流路ブロックを小さく形成することができる。また、共有流路が下方向に延びているので、ベント流路および共有流路は各々、下方向に延びることになる。そのため、開閉弁室内の気泡を更に容易に除去することができる。

【0012】

また、上述の基板処理装置において、前記開閉弁室の天井面は、前記ベント流路に気泡を案内するために傾斜面を有することが好ましい。傾斜面は、開閉弁室内に気泡を留めさせずにベント流路に容易に集めることができる。

【0013】

また、本発明に係る基板処理装置は、基板に対して処理液を吐出するノズルと、前記ノズルに処理液を供給するための供給弁と、前記ノズルと前記供給弁の出口を繋ぐノズル側配管と、を備え、前記供給弁は、流路ブロックと、前記流路ブロックに形成された開閉弁室と、前記流路ブロックに形成され、入口と前記開閉弁室との間で液体を流すように構成された入口側流路と、前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室と前記出口との間で液体を流すように構成された出口側流路と、前記開閉弁室内に配置された開閉弁体と、前記開閉弁室と前記出口側流路との境界に設けられ、前記開閉弁室内で前記開閉弁体を受けるように構成された弁座と、前記開閉弁体を前記弁座に押し当ることで前記開閉弁室から前記出口側流路への処理液の流れを停止し、また、押し当てた前記開閉弁体を前記弁座から離すことで、前記開閉弁室から前記出口側流路へ処理液を流す開閉駆動部と、前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出するベント流路と、を備え、前記供給弁は、前記流路ブロックの前記入口側流路に形成され、処理液を収容する第１ポンプ室と、前記第１ポンプ室内の容積を変化させる容積変化部材と、前記容積変化部材を駆動してポンプ動作を行うポンプ駆動部と、を更に備えることを特徴とするものである。

【0014】

本発明に係る基板処理装置によれば、供給弁は、開閉弁（開閉弁室、弁座、開閉弁体および開閉駆動部）を備える。開閉弁室には、開閉弁室内の気泡を排出するベント流路が接続される。これにより、開閉弁の開閉時に気泡が発生したとしても、ベント流路を通じて開閉弁室内の気泡を排出することができる。すなわち、開閉弁に起因する気泡を除去することができる。そのため、気泡が基板上に供給されることなどで、製品欠陥となることを防止することができる。
また、供給弁は、ポンプ（第１ポンプ室、容積変化部材およびポンプ駆動部）を備える。ポンプは、開閉弁が設けられる流路ブロックに設けられる。そのため、ポンプと開閉弁との距離が短くなる。そのため、ポンプと開閉弁との間の流路の長さによる圧力損失を小さく抑えると共に、ポンプと開閉弁との間の高低差による圧力損失を小さく抑えることができる。また、基板処理装置が複数の供給弁を備えた場合に、ポンプと開閉弁との距離および高低差が必ず一定となる。そのため、複数の供給弁の間で流路の長さによる圧力損失を揃えることが容易にできる。

【0015】

また、上述の基板処理装置において、前記供給弁は、液処理ユニット内に前記ノズルおよび前記ノズル側配管と共に配置されることが好ましい。供給弁のポンプ（第１ポンプ室、容積変化部材およびポンプ駆動部）をノズルにより近づけることができる。供給弁のポンプからノズルまでの流路および配管の長さによる圧力損失をより小さく抑えることができる。

【0016】

また、上述の基板処理装置において、上下方向に配置され、基板を各々処理する複数の液処理ユニットと、前記複数の液処理ユニットの各々に処理液を送るための上流ポンプと、を更に備え、前記複数の液処理ユニットは各々、前記ノズル、前記供給弁および前記ノズル側配管を備え、前記供給弁は、前記第１ポンプ室に接するように設けられ、前記第１ポンプ室内で処理液の圧力を計測する第１圧力センサを備え、前記上流ポンプは、処理液を収容する第２ポンプ室と、前記第２ポンプ室に接するように設けられ、前記第２ポンプ室内で処理液の圧力を計測する第２圧力センサと、を備え、前記上流ポンプは、前記複数の液処理ユニットのいずれか１つの液処理ユニットに選択的に処理液を送る場合に、処理液が送られる前記液処理ユニットの前記供給弁の前記ポンプ駆動部と連携して、処理液が送られる前記液処理ユニットの前記第１圧力センサで計測された第１圧力値が予め設定された圧力値になるように、前記第２圧力センサで計測された第２圧力値を調整することが好ましい。

【0017】

上流ポンプと各液処理ユニットとの高さ差は、ノズルからの処理液の吐出状態（吐出圧力、吐出量、吐出流量など）を不均一にさせる。そのため、各液処理ユニットの供給弁は、ポンプ（第１ポンプ室、容積変化部材およびポンプ駆動部など）を備える。これにより、各液処理ユニットにおける吐出状態を揃えることができる。また、各供給弁のポンプに送られる処理液の圧力が揃っていないと、各供給弁のポンプにおける圧力調整の負荷が増す。この点、本発明は、各供給弁のポンプに送られる処理液の圧力を揃えることができる。そのため、各供給弁のポンプにおける圧力調整の負荷を低減させることができる。

【0018】

また、本発明に係る供給弁は、流路ブロックと、前記流路ブロックに形成された開閉弁室と、前記流路ブロックに形成され、入口と前記開閉弁室との間で液体を流すように構成された入口側流路と、前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室と出口との間で液体を流すように構成された出口側流路と、前記開閉弁室内に配置された開閉弁体と、前記開閉弁室と前記出口側流路との境界に設けられ、前記開閉弁室内で前記開閉弁体を受けるように構成された弁座と、前記開閉弁体を前記弁座に押し当ることで前記開閉弁室から前記出口側流路への液体の流れを停止し、また、押し当てた前記開閉弁体を前記弁座から離すことで、前記開閉弁室から前記出口側流路へ液体を流す開閉駆動部と、前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出するベント流路と、を備え、前記ベント流路は、下方向に延びながら前記開閉弁室に接続することを特徴とするものである。
本発明に係る供給弁は、開閉弁（開閉弁室、弁座、開閉弁体および開閉駆動部）を備える。開閉弁室には、開閉弁室内の気泡を排出するベント流路が接続される。これにより、開閉弁の開閉時に気泡が発生したとしても、ベント流路を通じて開閉弁室内の気泡を排出することができる。すなわち、開閉弁に起因する気泡を除去することができる。そのため、気泡が基板上に供給されることなどで、製品欠陥となることを防止することができる。
また、浮力で気泡が移動する方向にベント流路が延びているので、開閉弁室内の気泡を容易に除去することができる。

【0019】

また、本発明に係る供給弁は、流路ブロックと、前記流路ブロックに形成された開閉弁室と、前記流路ブロックに形成され、入口と前記開閉弁室との間で液体を流すように構成された入口側流路と、前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室と出口との間で液体を流すように構成された出口側流路と、前記開閉弁室内に配置された開閉弁体と、前記開閉弁室と前記出口側流路との境界に設けられ、前記開閉弁室内で前記開閉弁体を受けるように構成された弁座と、前記開閉弁体を前記弁座に押し当ることで前記開閉弁室から前記出口側流路への液体の流れを停止し、また、押し当てた前記開閉弁体を前記弁座から離すことで、前記開閉弁室から前記出口側流路へ液体を流す開閉駆動部と、前記流路ブロックに形成され、前記開閉弁室に接続して前記開閉弁室内の気泡を排出するベント流路と、前記流路ブロックの前記入口側流路に形成され、処理液を収容する第１ポンプ室と、前記第１ポンプ室内の容積を変化させる容積変化部材と、前記容積変化部材を駆動してポンプ動作を行うポンプ駆動部と、を備えることを特徴とするものである。
本発明に係る供給弁は、開閉弁（開閉弁室、弁座、開閉弁体および開閉駆動部）を備える。開閉弁室には、開閉弁室内の気泡を排出するベント流路が接続される。これにより、開閉弁の開閉時に気泡が発生したとしても、ベント流路を通じて開閉弁室内の気泡を排出することができる。すなわち、開閉弁に起因する気泡を除去することができる。そのため、気泡が基板上に供給されることなどで、製品欠陥となることを防止することができる。
また、供給弁は、ポンプ（第１ポンプ室、容積変化部材およびポンプ駆動部）を備える。ポンプは、開閉弁が設けられる流路ブロックに設けられる。そのため、ポンプと開閉弁との距離が短くなる。そのため、ポンプと開閉弁との間の流路の長さによる圧力損失を小さく抑えると共に、ポンプと開閉弁との間の高低差による圧力損失を小さく抑えることができる。また、基板処理装置が複数の供給弁を備えた場合に、ポンプと開閉弁との距離および高低差が必ず一定となる。そのため、複数の供給弁の間で流路の長さによる圧力損失を揃えることが容易にできる。

【0020】

なお、本明細書は、次のような基板処理装置に係る発明も開示する。

【0021】

（１）本発明に係る基板処理装置は、上下方向に配置され、基板を各々処理する複数の液処理ユニットと、前記複数の液処理ユニットの各々に処理液を送るための上流ポンプと、を備え、前記複数の液処理ユニットは各々、基板に対して処理液を吐出するノズルと、前記ノズルに処理液を供給するための供給弁と、前記ノズルと前記供給弁の出口を繋ぐノズル側配管と、を備え、前記供給弁は、処理液を収容する第１ポンプ室と、前記第１ポンプ室に接するように設けられ、前記第１ポンプ室内で処理液の圧力を計測する第１圧力センサと、前記第１ポンプ室内の容積を変化させる容積変化部材と、前記容積変化部材を駆動してポンプ動作を行うポンプ駆動部と、を更に備え、前記上流ポンプは、処理液を収容する第２ポンプ室と、前記第２ポンプ室に接するように設けられ、前記第２ポンプ室内で処理液の圧力を計測する第２圧力センサと、を備え、前記上流ポンプは、前記複数の液処理ユニットのいずれか１つの液処理ユニットに選択的に処理液を送る場合に、処理液が送られる前記液処理ユニットの前記供給弁の前記ポンプ駆動部と連携して、処理液が送られる前記液処理ユニットの前記第１圧力センサで計測された第１圧力値が予め設定された圧力値になるように、前記第２圧力センサで計測された第２圧力値を調整することを特徴とするものである。

【0022】

前記（１）に記載の発明によれば、次の効果を有する。上流ポンプと各液処理ユニットとの高さ差は、ノズルからの処理液の吐出状態（吐出圧力、吐出量、吐出流量など）を不均一にさせる。そのため、各液処理ユニットの供給弁は、ポンプ（第１ポンプ室、容積変化部材およびポンプ駆動部など）を備える。これにより、各液処理ユニットにおける吐出状態を揃えることができる。また、各供給弁（各液処理ユニット）のポンプに送られる処理液の圧力が揃っていないと、各供給弁のポンプにおける圧力調整の負荷が増す。この点、本発明は、各供給弁のポンプに送られる処理液の圧力を揃えることができる。そのため、各供給弁のポンプにおける圧力調整の負荷を低減させることができる。

【発明の効果】

【0023】

本発明に係る基板処理装置および供給弁によれば、開閉弁に起因する気泡を除去することができる。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】（ａ）は、基板処理装置の概略構成を示す縦断面図であり、（ｂ）は、基板処理装置の概略構成を示す横断面図である。

【図2】基板処理装置の配管図である。

【図3】上流ポンプの構成を示す縦断面図である。

【図4】供給弁の構成を示す縦断面図である。

【図5】図４中の矢印Ａ－Ａから見た流路ブロックを部分的に示した図である。

【図6】開閉弁の動作を説明するための図である。

【図7】実施例２に係る供給弁の取り付け姿勢を示す縦断面図である。

【図8】実施例２に係る供給弁を一部拡大した縦断面図である。

【図9】変形例に係る基板処理装置の４個の塗布ユニットのうち、反射防止膜を形成する２個の塗布ユニットに塗布液を供給するための構成を示す配管図である。

【図10】変形例に係る基板処理装置の４個の塗布ユニットのうち、レジスト膜を形成する２個の塗布ユニットに塗布液を供給するための構成を示す配管図である。

【図11】変形例に係る供給弁の開閉弁およびベント流路等を示す縦断面図である。

【実施例1】

【0025】

以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。図１（ａ）は、基板処理装置の概略構成を示す縦断面図である。図１（ｂ）は、基板処理装置の概略構成を示す横断面図である。

【0026】

＜１．基板処理装置１の構成＞
図１（ａ）および図１（ｂ）を参照する。基板処理装置１は、基板Ｗを処理する。基板処理装置１は、インデクサブロック２と処理ブロック３を備える。

【0027】

インデクサブロック２は、複数（例えば２個または４個）のキャリア載置台５と、例えば２台の第１基板搬送機構６（ロボット）とを備える。キャリア載置台５には、基板Ｗを収容するキャリアＣが載置される。２台の第１基板搬送機構６は、キャリア載置台５の各々に載置されたキャリアＣと２個の基板載置部ＰＳ１，ＰＳ２との間で基板Ｗを搬送することができる。なお、２個の基板載置部ＰＳ１，ＰＳ２は、インデクサブロック２と処理ブロック３との境界およびその境界付近に配置される。２個の基板載置部ＰＳ１，ＰＳ２は、上下方向に配置される。

【0028】

処理ブロック３は、複数の処理ユニット７と第２基板搬送機構８（ロボット）を備える。第２基板搬送機構８は、Ｘ方向に長手の搬送スペース９に配置される（図１（ｂ）参照）。第２基板搬送機構８は、２個の基板載置部ＰＳ１，ＰＳ２と複数の処理ユニット７との間で基板Ｗを搬送することができる。第１基板搬送機構６および第２基板搬送機構８は各々、電動モータを備え、その電動モータによって駆動される。

【0029】

図１（ｂ）に示すように、複数の処理ユニット７は、搬送スペース９を挟み込むように配置される。複数の処理ユニット７は、４個の液処理ユニット１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ，１１Ｄとその他の処理ユニット１２（例えば、熱処理ユニット）とに分けられる。図１（ｂ）において、４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄは、矢印ＲＴで示すように搬送スペース９の第１の側面に配置される。また、その他の処理ユニット１２は、矢印ＬＴで示すように搬送スペース９の第２の側面に配置される。

【0030】

図１（ａ）に示すように、４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄ（モジュールとも呼ばれる）は、積み重ねるように上下方向に配置される。液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄは各々、基板Ｗ上に処理液を供給することで基板Ｗを処理する。液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄは各々、２個の保持回転部１４、ノズル１６およびノズル移動機構１８を備える。また、図２に示すように、液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄは各々、供給弁２１およびノズル側配管２２を備える。ノズル側配管２２は、ノズル１６と供給弁２１の出口部材６４とを繋ぐものである。

【0031】

なお、液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄに対応して、供給弁２１を区別するときは、供給弁２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄと呼ぶ。同様に、ノズル１６を区別するときは、ノズル１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ，１６Ｄと呼ぶ。ノズル側配管２２を区別するときは、ノズル側配管２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃ，２２Ｄと呼ぶ。

【0032】

２個の保持回転部１４は各々、水平姿勢で基板Ｗを保持して、保持した基板Ｗを回転させる。保持回転部１４は各々、スピンチャック２３と回転駆動部２４を備える。スピンチャック２３は、例えば、基板Ｗの載置面に設けられた吸引口から空気を吸引することで基板Ｗの裏面を保持する。回転駆動部２４は、電動モータを備え、スピンチャック２３を鉛直軸周りに回転させる。ノズル１６は、保持回転部１４に保持された基板Ｗに対して処理液を吐出する。ノズル移動機構１８は、電動モータを備え、ノズル１６を任意の位置に移動させる。

【0033】

図２を参照する。図２は、基板処理装置１の配管図である。なお、図示の便宜上、各液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄ内には、１つの保持回転部１４が示される。基板処理装置１は、送り配管２５、処理液ボトル２７（処理液供給源）、気体供給部２８、トラップタンク２９、上流ポンプ３１およびフィルタ３３、分岐部３４，３５，３６および４本の送り枝配管３７Ａ，３７Ｂ，３７Ｃ，３７Ｄを備える。４本の送り枝配管３７Ａ，３７Ｂ，３７Ｃ，３７Ｄを区別しないときは、送り枝配管３７と呼ぶ。

【0034】

送り配管２５の第１端は、処理液ボトル２７内に挿入される。また、送り配管２５の第２端は、第１分岐部３４に接続される。処理液ボトル２７は、処理液を収容する。処理液は、例えば、フォトレジスト液などのレジスト液、反射防止膜形成用の塗布液、レジストカバー膜形成用の塗布液、溶剤（例えばシンナー）、リンス液（例えばＤＩＷ）、現像液、またはエッチング液である。

【0035】

気体供給部２８は、配管および弁を備えて、処理液ボトル２７内に気体を供給する。これにより、処理液ボトル２７に収容される処理液を送り配管２５に送り出すことができる。気体は、例えば窒素などの不活性ガスである。トラップタンク２９は、送り配管２５に設けられている。トラップタンク２９は、処理液を溜めることができると共に、図示しない液面センサによってトラップタンク２９の残量を検出するように構成されている。

【0036】

また、トラップタンク２９には、ベント配管３０が接続される。ベント配管３０には、開閉弁Ｖ２１が設けられている。開閉弁Ｖ２１は通常、閉じている。開閉弁Ｖ２１が開状態でかつ後述する開閉弁Ｖ１，Ｖ７～Ｖ１０が閉状態のときに、気体供給部２８を作動させて処理液ボトル２７からトラップタンク２９に処理液を送る。これにより、気泡を含む処理液は、ベント配管３０を通じて押し出されて排出または再利用される。

【0037】

上流ポンプ３１は、４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄの各々に選択的に処理液を送る。上流ポンプ３１は、トラップタンク２９と第１分岐部３４との間の送り配管２５に設けられる。図３に示すように、上流ポンプ３１は、ポンプ室４１、ダイアフラム４３、ポンプ駆動部４４および圧力センサ５０を備える。ポンプ駆動部４４は、第１ロッド４５、変換機構４７、電動モータ４８を備えて、ポンプ動作を行う。

【0038】

ポンプ室４１は、処理液を収容する。ダイアフラム４３の周縁部は、ポンプ室４１の内側壁に固定される。第１ロッド４５の第１端は、ダイアフラム４３の中央部に連結する。また、第１ロッド４５の第２端は、変換機構４７を介して電動モータ４８の出力軸４８Ａ（ロータ）に連結する。変換機構４７は、２以上の歯車を備え、電動モータ４８の出力軸４８Ａの回転を第１ロッド４５の軸方向ＡＤ１の直線移動に変換する。すなわち、電動モータ４８は、ダイアフラム４３の中央部を軸方向ＡＤ１に沿って前進および後退させる。これにより、ダイアフラム４３が変形し、ポンプ室４１の容積が変化する。圧力センサ５０は、ポンプ室４１に接するように設けられる。圧力センサ５０は、ダイアフラム４３と対向するように配置される。圧力センサ５０は、ポンプ室４１内で処理液の圧力を計測する。

【0039】

ダイアフラム４３は、例えばローリングダイヤフラムが用いられる。なお、ポンプ室４１は、本発明の第２ポンプ室に相当する。圧力センサ５０は、本発明の第２圧力センサに相当する。

【0040】

図２を参照する。フィルタ３３は、上流ポンプ３１と第１分岐部３４との間の送り配管２５に設けられる。フィルタ３３は、図示しないフィルタ本体を備える。フィルタ本体に処理液を通過させると、フィルタ本体によって処理液中に含まれる異物（ゴミ）および気泡が取り除かれる。フィルタ３３には、ベント配管５１が接続される。ベント配管５１には、開閉弁Ｖ２２が設けられる。開閉弁Ｖ２２は通常、閉じている。開閉弁Ｖ２２および後述する開閉弁Ｖ２が開状態でかつ、後述する開閉弁Ｖ１，Ｖ３～Ｖ６が閉状態のときに、上流ポンプ３１を作動させて、上流ポンプ３１からフィルタ３３に処理液を送ることで、フィルタ本体を通過できなかった気泡を含む処理液は、ベント配管５１を通じて排出または再利用される。

【0041】

第１分岐部３４には、送り配管２５の第２端が接続される。更に、第１分岐部３４には、２本の送り枝配管３７Ａ，３７Ｄの第１端が接続される。また、送り枝配管３７Ｂは、第２分岐部３５を介して送り枝配管３７Ｄに接続される。送り枝配管３７Ｃは、第３分岐部３６を介して送り枝配管３７Ｄに接続される。これにより、送り配管２５を通じて第１分岐部３４に送られた処理液を４本の送り枝配管３７Ａ～３７Ｄの各々に送ることができる。そして、４本の送り枝配管３７Ａ～３７Ｄの第２端は、４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄの４個の供給弁２１Ａ～２１Ｄにそれぞれ接続される。例えば、送り枝配管３７Ａの第２端は、最下段の液処理ユニット１１Ａの供給弁２１Ａに接続される。また、送り枝配管３７Ｄの第２端は、最上段の液処理ユニット１１Ｄの供給弁２１Ｄに接続される。

【0042】

なお、図２において、送り枝配管３７Ｂは、第２分岐部３５を介して送り枝配管３７Ｄに接続し、また、送り枝配管３７Ｃは、第３分岐部３６を介して送り枝配管３７Ｄに接続している。この点、４本の送り枝配管３７Ａ～３７Ｄは各々、送り配管２５が接続される第１分岐部３４に直接接続してもよい。

【0043】

ノズル側配管２２Ａには、流量計５３Ａが設けられる。同様に、ノズル側配管２２Ｂには、流量計５３Ｂが設けられる。ノズル側配管２２Ｃには、流量計５３Ｃが設けられる。ノズル側配管２２Ｄには、流量計５３Ｄが設けられる。例えば流量計５３Ａは、ノズル側配管２２Ａ内の処理液の流量を計測する。同様に、３つの流量計５３Ｂ～５３Ｄは、ノズル側配管２２Ｂ～２２Ｄ内の処理液の流量をそれぞれ計測する。

【0044】

＜１－１．供給弁２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ）の構成＞
供給弁２１Ａは、図２に示すように、液処理ユニット１１Ａ内の処理空間にノズル１６Ａおよびノズル側配管２２Ａと共に配置される。また、供給弁２１Ｂは、液処理ユニット１１Ｂ内の処理空間にノズル１６Ｂおよびノズル側配管２２Ｂと共に配置される。供給弁２１Ｃ，２１Ｄも同様である。なお、図１（ｂ）に示すように、供給弁２１は、２つの保持回転部１４の中間に配置される。

【0045】

図４、図５を参照する。図４は、供給弁２１の構成を示す縦断面図である。図５は、図４中の矢印Ａ－Ａから見た流路ブロック６１を部分的に示した図である。供給弁２１は、ノズル１６に処理液を供給するために用いられる。供給弁２１は、開閉弁５５（ディスペンスバルブ）、ポンプ５７およびサックバック弁５９を備える。供給弁２１は、流路ブロック６１、入口部材６３および出口部材６４を備える。処理液は、管状の入口部材６３から供給弁２１の内部に流入する。供給弁２１の内部の処理液は、管状の出口部材６４から流出する。

【0046】

流路ブロック６１は、開閉弁５５、ポンプ５７およびサックバック弁５９で共有される。流路ブロック６１は、例えばＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン：perfluoroalkoxyalkane）などの熱可塑性および溶融流動性を有するフッ素樹脂その他の樹脂で形成されている。流路ブロック６１は、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン：polytetrafluoroethylene）などのフッ素樹脂で形成されていてもよい。

【0047】

流路ブロック６１は、上面６１Ｔ、下面６１Ｂ、左側面６１Ｌおよび右側面６１Ｒを備える。流路ブロック６１には、開閉弁室６５、入口側流路６７および出口側流路６９が形成される。

【0048】

入口側流路６７の第１端には、左側面６１Ｌに開口するように入口６７Ａが形成される。入口側流路６７の第２端は、開閉弁室６５と接続する。すなわち、入口側流路６７は、入口６７Ａと開閉弁室６５との間で処理液（液体）を流すように構成される。入口部材６３は、入口側流路６７と連通するように、流路ブロック６１の入口６７Ａに取り付けられる。

【0049】

出口側流路６９の第１端は、開閉弁室６５と接続する。出口側流路６９の第２端には、右側面６１Ｒに開口するように出口６９Ａが形成される。すなわち、出口側流路６９は、開閉弁室６５と出口６９Ａとの間で処理液を流すように構成される。出口部材６４は、出口側流路６９と連通するように、流路ブロック６１の出口６９Ａに取り付けられる。

【0050】

供給弁２１は、弁座７１、ダイアフラム７３（開閉弁体）および開閉駆動部７５を更に備える。弁座７１は、流路ブロック６１に形成される。弁座７１は、開閉弁室６５と出口側流路６９との境界（その境界付近を含む）に設けられる。弁座７１は、開閉弁室６５内で開閉弁体であるダイアフラム７３を受けるように構成される。

【0051】

ダイアフラム７３は、開閉弁室６５内に配置される。ダイアフラム７３は、肉厚部７３Ａと肉薄部７３Ｂを備える。肉厚部７３Ａは、弁座７１に押し当てられる部分である。肉厚部７３Ａの外縁部には、肉薄部７３Ｂが形成される。肉薄部７３Ｂの外縁部は、開閉弁室６５の内側壁に固定される。ダイアフラム７３は、開閉弁室６５と、図４に示す空間７６とを仕切る。ダイアフラム７３は、開閉弁室６５内の処理液が空間７６に漏れ出さないように構成される。

【0052】

開閉駆動部７５は、ダイアフラム７３を弁座７１に押し当ることで開閉弁室６５から出口側流路６９への処理液の流れを停止し、また、押し当てたダイアフラム７３を弁座７１から離すことで、開閉弁室６５から出口側流路６９へ処理液を流すように構成される。開閉駆動部７５は、第２ロッド７８、変換機構７９および電動モータ８０を備えている。第２ロッド７８の第１端は、ダイアフラム７３の肉厚部７３Ａと連結する。また、第２ロッド７８の第２端は、変換機構７９を介して電動モータ８０の出力軸８０Ａ（ロータ）に連結する。変換機構７９は、２以上の歯車を備え、電動モータ８０の出力軸８０Ａの回転を第２ロッド７８の軸方向ＡＤ２の直線移動に変換する。すなわち、電動モータ８０は、ダイアフラム７３の肉厚部７３Ａを軸方向ＡＤ２に沿って前進および後退させる。これにより、肉厚部７３Ａが弁座７１に押し付けられ、また、肉厚部７３Ａが弁座７１から離れる。

【0053】

開閉弁室６５は、流路ブロック６１の下面６１Ｂに開口するように形成されている。ダイアフラム７３および開閉駆動部７５は、開閉弁室６５の開口を塞ぐように流路ブロック６１に取り付けられる。

【0054】

供給弁２１は、開閉弁５５の上流にポンプ５７を備える。ポンプ５７は、ポンプ室８２、ダイアフラム８３（容積変化部材）、ポンプ駆動部８５および圧力センサ８６を備える。ポンプ室８２は、処理液を収容する。ポンプ室８２は、流路ブロック６１の入口側流路６７に形成される。すなわち、ポンプ室８２は、入口側流路６７に介在するように形成される。ダイアフラム８３は、ポンプ室８２の容積を変化させるものである。ダイアフラム８３の周縁部は、ポンプ室８２の内側壁に固定される。ダイアフラム８３は、例えばローリングダイヤフラムが用いられる。

【0055】

なお、ポンプ室８２は、本発明の第１ポンプ室に相当する。圧力センサ８６は、本発明の第１圧力センサに相当する。

【0056】

ポンプ駆動部８５は、ダイアフラム８３を駆動して駆動してポンプ動作を行う。ポンプ駆動部８５は、第３ロッド８８、変換機構８９および電動モータ９０を備える。第３ロッド８８の第１端は、ダイアフラム８３の中央部に連結される。第３ロッド８８の第２端は、変換機構８９を介して電動モータ９０の出力軸９０Ａ（ロータ）に連結される。変換機構８９は、２以上の歯車を備え、電動モータ９０の出力軸９０Ａの回転を第３ロッド８８の軸方向ＡＤ３の直線移動に変換する。そのため、ダイアフラム８３の中央部は、軸方向ＡＤ３に沿って前進および後退する。これにより、ダイアフラム８３が変形し、ポンプ室８２内の容積が変化される。圧力センサ８６は、ポンプ室８２に接するように設けられる。圧力センサ８６は、ダイアフラム８３と対向するように配置される。圧力センサ８６は、ポンプ室８２内で処理液の圧力を計測する。

【0057】

また、供給弁２１は、開閉弁５５の下流にサックバック弁５９を備える。サックバック弁５９は、サックバック弁室９２、ダイアフラム９３およびサックバック駆動部９５を備える。サックバック弁室９２は、流路ブロック６１の出口側流路６９に形成される。すなわち、サックバック弁室９２は、出口側流路６９に介在するように形成される。ダイアフラム９３の周縁部は、サックバック弁室９２の内側壁に固定される。

【0058】

サックバック駆動部９５は、第４ロッド９８、変換機構１００および電動モータ１０１を備える。第４ロッド９８の第１端は、ダイアフラム９３の中央部に連結される。また、第４ロッド９８の第２端は、変換機構１００を介して電動モータ１０１の出力軸１０１Ａ（ロータ）に連結される。変換機構１００は、２以上の歯車を備え、電動モータ１０１の出力軸１０１Ａの回転を第４ロッド９８の軸方向ＡＤ４の直線移動に変換する。そのため、ダイアフラム９３の中央部は、軸方向ＡＤ４に沿って前進および後退する。これにより、サックバック弁室９２の容積が変化する。

【0059】

また、図４に示すように、供給弁２１は、ベント流路１０３と気泡排出部材１０５を備える。ベント流路１０３は、開閉弁室６５に接続して開閉弁室６５内の気泡を排出するためのものである。ベント流路１０３は、流路ブロック６１に形成される。ベント流路１０３の第１端には、流路ブロック６１の上面６１Ｔに開口する排出口１０３Ａが形成される。管状の気泡排出部材１０５は、ベント流路１０３と連通するように、流路ブロック６１の排出口１０３Ａに取り付けられる。ベント流路１０３の第２端は、入口側流路６７（後述する共有流路６７Ｂ）に接続する。すなわち、ベント流路１０３は、下方向に延びながら、入口側流路６７（後述する共有流路６７Ｂ）を介して開閉弁室６５に接続される。更に具体的に説明する。

【0060】

入口側流路６７は、入口部材６３から水平方向に延びた後に、開閉弁室６５の上方で下方向に方向転換し、開閉弁室６５に接続する。入口側流路６７のうち、ベント流路１０３と開閉弁室６５の間の部分を共有流路６７Ｂと呼ぶものとする。共有流路６７Ｂは、下方向に延びながら開閉弁室６５に接続する。更に、ベント流路１０３は、下方向に延びながら共有流路６７Ｂに接続する。図４において、入口側流路６７は、Ｌ字状に形成される。そのため、入口側流路６７とベント流路１０３は、Ｔ字状の流路を形成する。これにより、ベント流路１０３は、共有流路６７Ｂを介して開閉弁室６５に接続して開閉弁室６５内の気泡を排出する。このような構成により、開閉弁室６５から共有流路６７Ｂおよびベント流路１０３が上方向に直線状に延びるので、開閉弁室６５内の気泡を円滑に排出することができる。なお、図４において、出口側流路６９も、Ｌ字状に形成される。

【0061】

図２を参照する。基板処理装置１の残りの構成を説明する。基板処理装置１は、４本の戻り枝配管１０７Ａ，１０７Ｂ，１０７Ｃ，１０７Ｄ、第１合流部１０９、第２合流部１１０、第３合流部１１１、戻り配管１１２および第４合流部１１４を備える。

【0062】

４本の戻り枝配管１０７Ａ～１０７Ｄの第１端は、４個の供給弁２１Ａ～２１Ｄにそれぞれ接続される。例えば、最下段の液処理ユニット１１Ａの供給弁２１Ａの気泡排出部材１０５には、戻り枝配管１０７Ａが接続される。同様に、３個の供給弁２１Ｂ～２１Ｄの３個の気泡排出部材１０５には、戻り枝配管１０７Ｂ～１０７Ｄがそれぞれ接続される。

【0063】

戻り枝配管１０７Ｂの第２端は、第１合流部１０９を介して戻り枝配管１０７Ａに接続される。同様に、戻り枝配管１０７Ｃの第２端は、第２合流部１１０を介して戻り枝配管１０７Ａに接続される。そして、２本の戻り枝配管１０７Ａ，１０７Ｄの第２端は、第３合流部１１１に接続される。第３合流部１１１には、更に戻り配管１１２の第１端が接続される。また、戻り配管１１２の第２端は、第４合流部１１４を介して送り配管２５に接続される。第４合流部１１４は、処理液ボトル２７とトラップタンク２９との間に配置される。また、供給弁２１Ａを上流とし、第４合流部１１４を下流とするとき、上流側から、第１合流部１０９、第２合流部１１０、第３合流部１１１および第４合流部１１４の順番に配置される。このような構成により、供給弁２１からトラップタンク２９の上流に処理液または気泡を戻すことができる。

【0064】

なお、分岐部３４，３５，３６および合流部１０９，１１０，１１１は各々、例えばＴ字管で構成される。第４合流部１１４は、三方弁で構成される。また、４本の戻り枝配管１０７Ａ～１０７Ｄは各々、戻り配管１１２が接続される第３合流部１１１に直接接続していてもよい。

【0065】

また、基板処理装置１は、図２に示すように、１０個の開閉弁Ｖ１～Ｖ１０を備えている。開閉弁Ｖ１～Ｖ１０および上述の開閉弁Ｖ２１，Ｖ２２は、例えば気体、ソレノイドまたは電動モータなどで駆動される。

【0066】

開閉弁Ｖ１は、トラップタンク２９と上流ポンプ３１との間の送り配管２５に設けられる。開閉弁Ｖ２は、上流ポンプ３１とフィルタ３３との間の送り配管２５に設けられる。開閉弁Ｖ３は、第１分岐部３４と供給弁２１Ａとの間の送り枝配管３７Ａに設けられる。開閉弁Ｖ４は、第２分岐部３５と供給弁２１Ｂとの間の送り枝配管３７Ｂに設けられる。開閉弁Ｖ５は、第３分岐部３６と供給弁２１Ｃとの間の送り枝配管３７Ｃに設けられる。開閉弁Ｖ６は、第３分岐部３６と供給弁２１Ｄとの間の送り枝配管３７Ｄに設けられる。

【0067】

開閉弁Ｖ７は、供給弁２１Ａと第１合流部１０９との間の戻り枝配管１０７Ａに設けられる。開閉弁Ｖ８は、供給弁２１Ｂと第１合流部１０９との間の戻り枝配管１０７Ｂに設けられる。開閉弁Ｖ９は、供給弁２１Ｃと第２合流部１１０との間の戻り枝配管１０７Ｃに設けられる。開閉弁Ｖ１０は、供給弁２１Ｄと第３合流部１１１との間の戻り枝配管１０７Ｄに設けられる。

【0068】

上流ポンプ３１は、４つの開閉弁Ｖ３～Ｖ６の開閉状態によって、４個の供給弁２１Ａ～２１Ｄのいずれか１つに選択的に処理液を送り出す。具体的に説明する。供給弁２１Ａは、上流ポンプ３１および開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ７，Ｖ２２と連携して液送り動作を行う。供給弁２１Ｂは、上流ポンプ３１および開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ４，Ｖ８，Ｖ２２と連携して液送り動作を行う。供給弁２１Ｃは、上流ポンプ３１および開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ５，Ｖ９，Ｖ２２と連携して液送り動作を行う。供給弁２１Ｄは、上流ポンプ３１および開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ６，Ｖ１０，Ｖ２２と連携して液送り動作を行う。

【0069】

なお、ノズル１６から処理液を吐出する場合は、上流ポンプ３１と連携せずに供給弁２１のポンプ５７だけで処理液を送り出す。

【0070】

また、上流ポンプ３１は、４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄのいずれか１つの例えば液処理ユニット１１Ｄに選択的に処理液を送る場合に、処理液が送られる液処理ユニット１１Ｄの供給弁２１Ｄのポンプ駆動部８５（すなわちポンプ５７）と連携して、処理液が送られる液処理ユニット１１Ｄの圧力センサ８６で計測された第１圧力値Ｐ１が予め設定された正の圧力値ＰＰになるように、上流ポンプ３１の圧力センサ５０で計測された第２圧力値Ｐ２を調整する。予め設定された正の圧力値ＰＰは、４個の供給弁２１Ａ～２１Ｄで同じ値が用いられる。この圧力調整は、開閉弁Ｖ２，Ｖ６を開状態にして、液処理ユニット１１Ｄに処理液を送りながら行われる。この圧力調整は、第１圧力値Ｐ１と第２圧力値Ｐ２の差圧値ＤＰを管理しながら行われる。

【0071】

ここで、予め設定された正の圧力値ＰＰは、例えば５ｋＰａであると仮定する。圧力センサ８６（図４参照）で計測された第１圧力値Ｐ１は、例えば５ｋＰａであり、高低差で決まる理論上の差圧値ＤＰ（第２圧力値Ｐ２－第１圧力値Ｐ１）は、例えば９ｋＰａであると仮定する。この場合、上流ポンプ３１は第２圧力値Ｐ２が１４ｋＰａとなるように、加圧する。差圧値ＤＰは、上流ポンプ３１と供給弁２１Ａ～２１Ｄの各々との高低差によって決まる値である。そのため、差圧値ＤＰは、供給弁２１が高い位置にあるほど大きくなる。例えば、第２圧力値Ｐ２が１４ｋＰａであるにも関わらず、第１圧力値Ｐ１が例えば４ｋＰａと低い場合には、ポンプ５７の圧力センサ８６で計測される第１圧力値Ｐ１が５ｋＰａになるように、例えば上流ポンプ３１は、上流ポンプ３１の圧力センサ５０で計測された第２圧力値Ｐ２を調整する。すなわち、ダイアフラム４３および第１ロッド４５の前進速度を上げることで、処理液を更に加圧する。上流ポンプ３１は、更に加圧された処理液をポンプ５７に送り出す。なお、ダイアフラム４３および第１ロッド４５の前進速度を下げることで、処理液が減圧される。

【0072】

なお、第２圧力値Ｐ２は、処理液が送られる液処理ユニット１１Ｄのポンプ５７で調整してもよいし、上流ポンプ３１および、処理液が送られる液処理ユニット１１Ｄのポンプ５７の両方で調整してもよい。この場合、上流ポンプ３１が処理液を送り出しているときに、ポンプ５７は、ダイアフラム８３および第３ロッド８８の後退速度を下げることで、処理液を加圧する。また、ポンプ５７は、ダイアフラム８３および第３ロッド８８の後退速度を上げることで、処理液を減圧する。

【0073】

図１（ａ）において、４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄの下方には、収納エリアＰＡ１が設けられる。収納エリアＰＡ１内には、供給弁２１Ａ～２１Ｄよりも上流の構成が配置される。例えば、収納エリアＰＡ１内には、図２に示すような、送り配管２５、処理液ボトル２７、トラップタンク２９、上流ポンプ３１、フィルタ３３、３個の分岐部３４～３６、および６個の開閉弁Ｖ１～Ｖ６などが配置される。また、図１（ａ）において、４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄの側方には、配管エリアＰＡ２が設けられる。配管エリアＰＡ２内には、例えば、４本の送り枝配管３７Ａ～３７Ｄ（一部）、４本の戻り枝配管１０７Ａ～１０７Ｄ（一部）などが配置される。

【0074】

基板処理装置１は、図１（ｂ）に示すコントローラ１１５と、図示しない記憶部（例えばメモリ）とを備えている。コントローラ１１５は、１つまたは複数の中央演算処理装置（ＣＰＵ）を備えている。コントローラ１１５は、基板処理装置１の各構成（例えば保持回転部１４、供給弁２１、気体供給部２８、上流ポンプ３１、および開閉弁Ｖ１～Ｖ１０，Ｖ２１～Ｖ２２）を制御する。記憶部には、基板処理装置１の動作に必要なコンピュータプログラムが記憶されている。

【0075】

＜２．基板処理装置１の動作＞
基板処理装置１の動作について説明する。基板Ｗは、４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄのうち、例えば最上段の液処理ユニット１１Ｄで液処理が行われるものとする。まず、液処理ユニット１１Ｄの保持回転部１４上に基板Ｗを搬送する。

【0076】

図１（ａ）、図１（ｂ）において、キャリア載置台５には、キャリアＣが搬送されている。第１基板搬送機構６は、キャリア載置台５に載置されたキャリアＣから基板Ｗを取り出して、取り出した基板Ｗを２個の基板載置部ＰＳ１，ＰＳ２の一方に搬送する。この説明では、取り出した基板Ｗは、上段に配置された基板載置部ＰＳ２に搬送する。

【0077】

第２基板搬送機構８は、基板載置部ＰＳ２から基板Ｗを受け取って、受け取った基板Ｗを任意の処理ユニット７（１１Ａ～１１Ｂ，１２）に搬送する。例えば、その他の処理ユニット１２で熱処理または冷却処理がされた後、基板Ｗは、最上段の液処理ユニット１１Ｄに搬送されるものとする。また、基板Ｗは、液処理ユニット１１Ｄの２個の保持回転部１４の一方のスピンチャック２３上に載置される。保持回転部１４は、載置された基板Ｗを保持する。

【0078】

次に、図２、図４、図６を参照しつつ上流ポンプ３１と供給弁２１Ｄ等による液送り動作について説明する。図６は、開閉弁Ｖ１～Ｖ１０，Ｖ２２および供給弁２１の開閉弁５５の動作を説明するための図である。なお、図６において、４個の開閉弁Ｖ３～Ｖ６に関する項目「Ｖ３／Ｖ４／Ｖ５／Ｖ６」において、「開」は、４個の開閉弁Ｖ３～Ｖ６のいずれか１つが選択的に開状態になることを示す。また、「閉」は、４個の開閉弁Ｖ３～Ｖ６の全てが閉状態になることを示す。このことは、４個の開閉弁Ｖ７～Ｖ１０に関する項目「Ｖ７／Ｖ８／Ｖ９／Ｖ１０」および、４個の供給弁２１Ａ～２１Ｄの４個の開閉弁５５に関する項目「５５」も同様である。

【0079】

〔ステップＳ０１〕上流ポンプ３１の吸引工程
図２において、開閉弁Ｖ１を開状態（ＯＮ状態）にし、また、開閉弁Ｖ２～Ｖ１０，Ｖ２２および４個の供給弁２１Ａ～２１Ｄの開閉弁５５を閉状態（ＯＦＦ状態）にする。この状態で、上流ポンプ３１は、上流ポンプ３１のダイアフラム４３および第１ロッド４５を圧力センサ５０から離れる方向に後退させる。これにより、ポンプ室４１の容量が大きくなり、上流ポンプ３１のポンプ室４１内に処理液が吸引される。

【0080】

〔ステップＳ０２〕フィルタ３３による濾過工程
上流ポンプ３１のポンプ室４１内に吸引した処理液を送り配管２５およびフィルタ３３を通じて供給弁２１Ｄのポンプ５７のポンプ室８２に送る。上流ポンプ３１から供給弁２１Ｄのポンプ５７に処理液が送られる際に、処理液中の異物および気泡は、フィルタ３３で除去される。

【0081】

具体的に説明する。まず、開閉弁Ｖ１～Ｖ１０，Ｖ２２および４個の供給弁２１Ａ～２１Ｄの開閉弁５５を閉状態にする。この状態で、上流ポンプ３１は、圧力センサ５０で計測された第２圧力値Ｐ２が予め設定された吐出圧になるように、ポンプ室４１の容積を変化させる。

【0082】

そして、開閉弁Ｖ２，Ｖ６を開状態にし、また、開閉弁Ｖ１，Ｖ３～Ｖ５，Ｖ７～Ｖ１０，Ｖ２２および供給弁２１Ａ～２１Ｄの開閉弁５５を閉状態にする。この状態で、上流ポンプ３１は、ダイアフラム４３および第１ロッド４５を圧力センサ５０に近づける方向に前進させる。これにより、上流ポンプ３１のポンプ室４１の容積が小さくなり、ポンプ室４１からフィルタ３３に向けて処理液が送り出される。この上流ポンプ３１の動作と同時に、液処理ユニット１１Ｄの供給弁２１Ｄのポンプ５７は、ダイアフラム８３および第３ロッド８８を圧力センサ８６から離す方向に後退させる。これにより、ポンプ５７のポンプ室８２の容積が大きくなり、供給弁２１Ｄのポンプ５７のポンプ室８２内に処理液が吸引される。

【0083】

ここで、上流ポンプ３１は、４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄのいずれか１つの例えば液処理ユニット１１Ｄに選択的に処理液を送る場合に、処理液が送られる液処理ユニット１１Ｄの供給弁２１Ｄのポンプ駆動部８５（ポンプ５７）と連携して、処理液が送られる液処理ユニット１１Ｄの圧力センサ８６（図４参照）で計測された第１圧力値Ｐ１が予め設定された正の圧力値ＰＰになるように、上流ポンプ３１の圧力センサ５０で計測された第２圧力値Ｐ２を調整する。

【0084】

〔ステップＳ０３〕ポンプ５７のエア抜き工程
開閉弁Ｖ１０を開状態にし、開閉弁Ｖ１～Ｖ９，Ｖ２２および供給弁２１Ａ～２１Ｄの開閉弁５５を閉状態にする。この状態で、供給弁２１Ｄのポンプ５７は、ダイアフラム８３および第３ロッド８８を圧力センサ８６に近づける方向に少し前進させる。この移動量は予め設定される。これにより、図４において、ポンプ室８２の容積が少し小さくなり、ポンプ室８２内の処理液が開閉弁室６５側でなく、ベント流路１０３および気泡排出部材１０５側に送り出される。なお、ポンプ室８２内から送り出された処理液は、入口側流路６７、ベント流路１０３、気泡排出部材１０５および戻り枝配管１０７Ｄの順番で流れる。

【0085】

ここで、開閉弁５５の開閉弁室６５には、共有流路６７Ｂ（入口側流路６７）を介してベント流路１０３が接続されている。開閉弁室６５内の気泡は、ベント流路１０３に移動することができる。ベント流路１０３に移動した気泡は更に、ポンプ５７による処理液の流れにより、気泡排出部材１０５または戻り枝配管１０７Ｄに送られる。また、この工程において、ポンプ５７またはポンプ５７よりも上流で生じた気泡も戻り枝配管１０７Ｄ等に送ることができる。

【0086】

なお、戻り枝配管１０７Ｄに送られた気泡および処理液は、第３合流部１１１、戻り配管１１２、第４合流部１１４の順番で戻される。第４合流部１１４に戻された処理液は、処理液ボトル２７に送られる。これにより、コストが高い処理液を廃棄するのではなく有効活用できる。

【0087】

〔ステップＳ０４〕ポンプ５７による吐出工程
まず、開閉弁Ｖ１～Ｖ１０，Ｖ２２および４個の供給弁２１Ａ～２１Ｄの開閉弁５５を閉状態にする。この状態で、供給弁２１Ｄのポンプ５７は、供給弁２１Ｄの圧力センサ８６で計測された第１圧力値Ｐ１が予め設定された吐出圧になるように、ポンプ室８２の容積を変化させる。

【0088】

そして、供給弁２１Ｄの開閉弁５５を開状態にし、開閉弁Ｖ１～Ｖ１０，Ｖ２２および３個の供給弁２１Ａ～２１Ｃの開閉弁５５を閉状態にする。この状態で、供給弁２１Ｄのポンプ５７は、ダイアフラム８３および第３ロッド８８を前進させる。これにより、ダイアフラム８３および第３ロッド８８の移動量に応じて、ポンプ室８２の容積が小さくなる。そのため、供給弁２１Ｄのポンプ室８２内の処理液が開閉弁室６５および出口側流路６９側に送り出され、ノズル１６から処理液が吐出される。なお、ポンプ室８２内の処理液は、入口側流路６７および出口側流路６９を通じて、開閉弁室６５、サックバック弁室９２、出口部材６４の順番で送られる。出口部材６４に送られた処理液は、ノズル側配管２２Ｄ、ノズル１６Ｄの順番で送られる（図２参照）。

【0089】

また、ポンプ室８２から処理液を送り出している間、供給弁２１Ｄのポンプ５７は、供給弁２１Ｄの圧力センサ８６で計測された第１圧力値Ｐ１が予め設定された吐出圧を維持するように、ダイアフラム８３および第３ロッド８８の前進速度を上下させる。

【0090】

処理液が吐出されている間、保持回転部１４は、保持された基板Ｗを回転してもよいし、回転せずに静止していてもよい。ノズル１６Ｄから予め設定された量の処理液が吐出されると、供給弁２１Ｄの開閉弁５５を閉じると共に、供給弁２１Ｄのポンプ５７のダイアフラム８３および第３ロッド８８の移動を停止する。

【0091】

また、弁座７１からダイアフラム７３を離して供給弁２１Ｄの開閉弁５５を開状態にする場合（すなわち、ノズル１６Ｄから処理液を吐出する場合）、供給弁２１Ｄのサックバック弁５９は、ダイアフラム９３および第４ロッド９８を前進させることで、サックバック弁室９２の容積を小さくする。また、弁座７１にダイアフラム７３を押し付けて供給弁２１Ｄの開閉弁５５を閉状態にする場合（すなわち、ノズル１６Ｄからの処理液の吐出を停止する場合）供給弁２１Ｄのサックバック弁５９は、ダイアフラム９３および第４ロッド９８を後退させることで、サックバック弁室９２の容積を大きくする。容積が大きくなると、ノズル１６Ｄ内の処理液が供給弁２１Ｄ側に吸い込まれ、ノズル１６Ａから処理液の滴が落下することを防止できる。

【0092】

なお、吸引工程と吐出工程が同時に行われてもよい。この場合、例えば、吸引および吐出工程（ステップＳ０１＋Ｓ０４）、濾過工程（ステップＳ０２）、パージ（ステップＳ０３）がこの順番で繰り返される。

【0093】

また、ステップＳ０２において、例えば５ｍｌ（ミリリットル）の処理液がポンプ５７のポンプ室８２に送られて、ステップＳ０４の吐出工程の後、ポンプ室８２に例えば１ｍｌの処理液が残っていたと仮定する。この場合、図６に示すステップＳ２１のように動作させて、残りの処理液を第４合流部１１４側に戻してもよい。

【0094】

具体的には、開閉弁Ｖ１０を開状態にし、開閉弁Ｖ１～Ｖ９，Ｖ２２および供給弁２１Ａ～２１Ｄの開閉弁５５を閉状態にする。この状態で、供給弁２１Ｄのポンプ５７は、ダイアフラム８３および第３ロッド８８を圧力センサ８６に近づける方向に前進させる。これにより、残りの処理液が戻り配管１１２を通じて第４合流部１１４側に戻される。処理液を流動させることで、処理液（例えばレジスト液）が固まって異物を発生させることを防止できる。この場合、ステップＳ０１、ステップＳ０２、ステップＳ０３、ステップＳ０４、ステップＳ２１の順番で動作が行われる。なお、ステップＳ０１は、ステップＳ０４またはステップＳ２１と並行して行われてもよい。

【0095】

なお、上流ポンプ３１は、供給弁２１Ｄに処理液を送った後、再度、供給弁２１Ｄに処理液を送ってもよいし、他の３個の供給弁２１Ａ～２１Ｃのいずれか（例えば供給弁２１Ａ）に選択的に処理液を送ってもよい。

【0096】

基板Ｗに処理液が吐出されて処理が行われた後、保持回転部１４は、基板Ｗの回転を停止した状態で、基板Ｗの保持を解除する。第２基板搬送機構８は、液処理ユニット１１Ｄの保持回転部１４上の基板Ｗを受け取る。第２基板搬送機構８は、受け取った基板Ｗを必要に応じてその他の処理ユニット１２に送った後、基板Ｗを基板載置部ＰＳ２に搬送する。第１基板搬送機構６は、基板載置部ＰＳ２に搬送された基板Ｗを受け取り、受け取った基板Ｗをキャリア載置台５に載置されたキャリアＣに戻す。

【0097】

本実施例によれば、供給弁２１は、開閉弁５５（開閉弁室６５、弁座７１、ダイアフラム７３および開閉駆動部７５）を備える。開閉弁室６５には、開閉弁室６５内の気泡を排出するベント流路１０３が接続される。これにより、開閉弁５５の開閉時に気泡が発生したとしても、ベント流路１０３を通じて開閉弁室６５内の気泡を排出することができる。すなわち、開閉弁５５に起因する気泡を除去することができる。そのため、気泡が基板Ｗ上に供給されることなどで、製品欠陥となることを防止することができる。

【0098】

また、ベント流路１０３は、下方向に延びながら開閉弁室６５に接続する。浮力で気泡が移動する方向にベント流路１０３が延びているので、開閉弁室６５内の気泡を容易に除去することができる。

【0099】

また、入口側流路６７は、下方向に延びながら開閉弁室６５に接続する共有流路６７Ｂを有する。そして、ベント流路１０３は、共有流路６７Ｂを介して開閉弁室６５に接続して開閉弁室６５内の気泡を排出する。ベント流路１０３は、入口側流路６７の共有流路６７Ｂに接続することで、共有流路６７Ｂを介して開閉弁室６５に接続する。そのため、流路ブロック６１を小さく形成することができる。また、共有流路６７Ｂが下方向に延びているので、ベント流路１０３および共有流路６７Ｂが共に下方向に延びることになる。そのため、開閉弁室６５内の気泡を更に容易に除去することができる。

【0100】

また、供給弁２１は、ポンプ５７（ポンプ室８２、ダイアフラム８３およびポンプ駆動部８５）を備える。ポンプ５７は、開閉弁５５が設けられる流路ブロック６１に設けられる。そのため、ポンプ５７と開閉弁５５との距離が短くなる。そのため、ポンプ５７と開閉弁５５との間の流路の長さによる圧力損失を小さく抑えると共に、ポンプ５７と開閉弁５５との間の高低差による圧力損失を小さく抑えることができる。また、基板処理装置１が複数の供給弁２１を備えた場合に、ポンプ５７と開閉弁５５との距離および高低差が必ず一定となる。そのため、複数の供給弁２１の間で流路の長さによる圧力損失を揃えることができる。

【0101】

また、例えば供給弁２１Ａは、液処理ユニット１１Ａ内の処理空間にノズル１６Ａおよびノズル側配管２２Ｄと共に配置される。供給弁２１Ａのポンプ５７（ポンプ室８２、ダイアフラム８３およびポンプ駆動部８５）をノズル１６Ａにより近づけることができる。供給弁２１Ａのポンプ５７からノズル１６Ａまでの流路および配管の長さによる圧力損失をより小さく抑えることができる。また、供給弁２１Ａの電動モータ９０は、例えば上流ポンプ３１の電動モータ４８よりも小さいトルクの電動モータを用いることができる。その他の３個の供給弁２１Ｂ～２１Ｄも同様である。

【実施例2】

【0102】

次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。なお、実施例１と重複する説明は省略する。

【0103】

実施例１の図４、図５において、開閉弁室６５の天井面６５Ａは、水平である。天井面６５Ａは、図５において、ドットのハッチングで示す部分である。この点、実施例２では、開閉弁室６５の天井面６５Ａは、ベント流路１０３に気泡を案内するために傾斜面６５Ａを有している。傾斜面６５Ａは、開閉弁室６５内に気泡を留めさせずにベント流路１０３に容易に集めることができる。

【0104】

図７は、実施例２に係る供給弁２１の取り付け姿勢を示す図である。図７および後述する図８において、符号Ｚで示す矢印は、鉛直方向を示す。図７に示す実施例２の供給弁２１は、図４に示す供給弁２１を傾けたものである。すなわち、図７に示す供給弁２１は、傾けられた姿勢で液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄ内に取り付けられる。

【0105】

どちらに傾けるかについて説明する。共有流路６７Ｂと開閉弁室６５との接続部分は、開閉弁室６５内において入口部材６３側に配置される。そのため、供給弁２１は、入口部材６３よりも出口部材６４が低くなるように配置される。これにより、天井面６５Ａの略全面が傾斜するので、開閉弁室６５内の気泡は、共有流路６７Ｂおよびベント流路１０３に容易に案内される。

【0106】

なお、天井面６５Ａが傾斜すると共に、ベント流路１０３および共有流路６７Ｂが開閉弁室６５から上方向（斜め上方向を含む）に延びていることが求められる。これは、開閉弁室６５の気泡を気泡排出部材１０５から排出し易くするためである。

【0107】

図８は、実施例２の変形例に係る供給弁２１を一部拡大した縦断面図である。水平な上面６１Ｔおよび下面６１Ｂに対して、図８に示す天井面６５Ａは傾斜する。すなわち、天井面６５Ａの略全面が傾斜面６５Ａである。図５のドットのハッチングで示される天井面６５Ａは、弁座７１を取り囲むように、ドーナツ状に形成される。そのため、図８に示す気泡ＢＢは、弁座７１の周りを通りながら天井面（傾斜面）６５Ａに沿って案内される。これにより、開閉弁室６５内の気泡ＢＢは、共有流路６７Ｂおよびベント流路１０３に容易に案内される。なお、図７、図８において、天井面（傾斜面）６５Ａは、曲面であってもよい。

【0108】

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

【0109】

（１）上述した各実施例では、図１（ａ）、図２に示すように、基板処理装置１は、４段（４層）の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄを備えていた。この点、基板処理装置１は、１段または２段以上の液処理ユニットを備えていてもよい。なお、２段以上の液処理ユニットは、上下方向に配置される。

【0110】

（２）上述した各実施例および各変形例では、基板処理装置１は、１個の処理液ボトル２７から４個の液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄに処理液が送られるように構成されていた。この点、基板処理装置１は、複数（例えば２個）処理液ボトル２７から１個または複数の液処理ユニットに処理液が送られるように構成されていてもよい。図９、図１０に示すように、例えば、基板処理装置１は、２個の塗布ユニットＲＥＳＩＳＴおよび２個の塗布ユニットＢＡＲＣを備えているものとする。４個の塗布ユニットＲＥＳＩＳＴ，ＢＡＲＣ（液処理ユニット１１Ａ～１１Ｄ）は、上下方向に積み重ねるように配置される。

【0111】

図９は、２個の塗布ユニットＢＡＲＣに塗布液を供給するための構成を示す配管図である。２個の塗布ユニットＢＡＲＣは各々、基板Ｗ上に反射防止膜を形成するものである。処理液ボトル１２０には、反射防止膜を形成するための塗布液が収容される。送り配管２５Ｐの第１端は、処理液ボトル１２０内に挿入される。送り配管２５Ｐの第２端は、分岐部１２１に接続する。また、分岐部１２１には、２本の送り枝配管３７Ａ，３７Ｃが接続される。

【0112】

また、戻り枝配管１０７Ａ，１０７Ｃの２個の第１端は、供給弁２１Ａ，２１Ｃの２個の気泡排出部材１０５にそれぞれ接続される。戻り枝配管１０７Ａ，１０７Ｃの２個の第２端は、合流部１２２に接続される。合流部１２２には、戻り配管１１２Ｐが接続される。なお、図９において、塗布ユニットＢＡＲＣに関連する構成は、符号２５Ｐのように、数字に「Ｐ」を付している。「Ｐ」を付した例えば送り配管２５Ｐの機能は、図２に示す送り配管２５の機能と同じである。

【0113】

図１０は、２個の塗布ユニットＲＥＳＩＳＴに塗布液を供給するための構成を示す配管図である。２個の塗布ユニットＲＥＳＩＳＴは各々、基板Ｗの反射防止膜上にレジスト膜を形成するものである。処理液ボトル１２４には、レジスト液（塗布液）が収容される。送り配管２５Ｑの第１端は、処理液ボトル１２４内に挿入される。送り配管２５Ｑの第２端は、分岐部１２５に接続する。また、分岐部１２５には、２本の送り枝配管３７Ｂ，３７Ｄが接続される。

【0114】

また、戻り枝配管１０７Ｂ，１０７Ｄの２個の第１端は、供給弁２１Ｂ，２１Ｄの２個の気泡排出部材１０５にそれぞれ接続される。戻り枝配管１０７Ｂ，１０７Ｄの２個の第２端は、合流部１２６に接続される。合流部１２６には、戻り配管１１２Ｑが接続される。なお、図１０において、塗布ユニットＲＥＳＩＳＴに関連する構成は、符号２５Ｑのように、数字に「Ｑ」を付している。「Ｑ」を付した例えば送り配管２５Ｑの機能は、図２に示す送り配管２５の機能と同じである。また、例えば送り配管２５Ｑは、図９に示す送り配管２５Ｐとは別に設けられる。

【0115】

（３）上述した各実施例および各変形例では、図４に示すベント流路１０３は、鉛直下方向に延びながら共有流路６７Ｂに接続し、また、共有流路６７Ｂは、鉛直下方向に延びながら開閉弁室６５に接続していた。この点、ベント流路１０３は、斜め下方向に延びながら共有流路６７Ｂに接続し、また、共有流路６７Ｂは、斜め下方向に延びながら開閉弁室６５に接続してもよい。なお、本明細書において、下方向は斜め下方向を含み、上方向は斜め上方向を含む。

【0116】

また、ベント流路１０３および共有流路６７Ｂは、開閉弁室６５から直線状に伸びている。この点、ベント流路１０３および共有流路６７Ｂは、開閉弁室６５から円弧状を含む曲線状に延びてもよい。

【0117】

（４）上述した各実施例および各変形例では、図４に示す供給弁２１の開閉弁５５およびポンプ５７は、１個の流路ブロック６１に設けられていた。この点、必要に応じて、開閉弁５５およびポンプ５７は、２個の流路ブロックにそれぞれ設けられてもよい。この場合、２個の流路ブロックは、中空円筒状（管状）の中間配管で接続される。そして、ポンプ５７が設けられる第１の流路ブロックから開閉弁５５が設けられる第２の流路ブロックにその中間配管を通じて処理液が送られる。なお、図４に示す流路ブロック６１は、２つの流路ブロック６１が中間配管で繋がれるように構成されていない。

【0118】

また、開閉弁５５とサックバック弁５９は、２個の流路ブロックにそれぞれ設けられてもよい。この場合も同様に、２個の流路ブロックは、中空円筒状（管状）の中間配管で接続される。また、開閉弁５５、ポンプ５７、サックバック弁５９は、３つの流路ブロックにそれぞれ設けられてもよい。

【0119】

（５）上述した各実施例および各変形例では、図４に示すように、ベント流路１０３は、入口側流路６７の共有流路６７Ｂを介して開閉弁室６５に接続されていた。この点、図１１に示すように、ベント流路１０３は、入口側流路６７（共有流路６７Ｂ）を介さずに開閉弁室６５に直接接続されてもよい。この場合、図１１の開閉弁室６５は、図４の開閉弁室６５よりも大きくなる。そのため、流路ブロック６１、すなわち供給弁２１が大型化する。また、ベント流路１０３を通じて処理液を第４合流部１１４側に戻すとき、処理液は、入口側流路６７、開閉弁室６５、ベント流路１０３の順番で送られる。

【0120】

また、図５の矢印ＶＮＴが指す位置にベント流路１０３を入口側流路６７と個別に設けた場合は、矢印ＷＤに示す方向に流路ブロック６１を厚く形成しなければならない可能性がある。この場合も同様に、流路ブロック６１、すなわち供給弁２１が大型化する。

【符号の説明】

【0121】

１ … 基板処理装置
１１Ａ～１１Ｄ … 液処理ユニット
１６（１６Ａ～１６Ｄ） … ノズル
２１（２１Ａ～２１Ｄ） … 供給弁
２２ … ノズル側配管
３１ … 上流ポンプ
４１ … ポンプ室
５０ … 圧力センサ
５５ … 開閉弁
５７ … ポンプ
６１ … 流路ブロック
６５ … 開閉弁室
６５Ａ … 天井面（傾斜面）
６７ … 入口側流路
６７Ａ … 入口
６７Ｂ … 共有流路
６９ … 出口側流路
６９Ａ … 出口
７１ … 弁座
７３ … ダイアフラム
７５ … 開閉駆動部
８２ … ポンプ室
８３ … ダイアフラム
８５ … ポンプ駆動部
８６ … 圧力センサ
１０３ … ベント流路
１０５ … 気泡排出部
１１５ … コントローラ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】