特許 7595059 流体を噴霧する装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-27

(45)【発行日】2024-12-05

(54)【発明の名称】流体を噴霧する装置

(51)【国際特許分類】

   B05B 14/00 20180101AFI20241128BHJP

【ＦＩ】

B05B14/00

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2022502166

(86)(22)【出願日】2020-07-10

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2022-09-16

(86)【国際出願番号】 EP2020069559

(87)【国際公開番号】W WO2021009046

(87)【国際公開日】2021-01-21

【審査請求日】2023-06-09

(31)【優先権主張番号】1907881

(32)【優先日】2019-07-12

(33)【優先権主張国・地域又は機関】FR

(73)【特許権者】

【識別番号】516299279

【氏名又は名称】エクセル インダストリー

(74)【代理人】

【識別番号】100099759

【弁理士】

【氏名又は名称】青木 篤

(74)【代理人】

【識別番号】100123582

【弁理士】

【氏名又は名称】三橋 真二

(74)【代理人】

【識別番号】100108903

【弁理士】

【氏名又は名称】中村 和広

(74)【代理人】

【識別番号】100123593

【弁理士】

【氏名又は名称】関根 宣夫

(74)【代理人】

【識別番号】100208225

【弁理士】

【氏名又は名称】青木 修二郎

(74)【代理人】

【識別番号】100217179

【弁理士】

【氏名又は名称】村上 智史

(72)【発明者】

【氏名】フィリップ フーリー

(72)【発明者】

【氏名】ジョゼフ タランチーニ

(72)【発明者】

【氏名】ディディエ フォール

【審査官】河村 勝也

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１０－１１９９２７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－２０７１４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１８－５１９１５３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０５Ｂ １４／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

流体噴霧装置（１０）であって、流体循環導管（１５）と、前記導管（１５）内で流動するように構成されたスクレーパ（２０）と、前記スクレーパ（２０）の保管位置で前記スクレーパ（２０）を受容するように構成された保管容積（６０，６０Ａ）を画定するエンベロープ（２４）とを含み、前記スクレーパ（２０）は、前記スクレーパ（２０）が前記導管を通って流動するのに伴って、前記導管（１５）内に存在する流体を前記スクレーパ（２０）の前に押すように形成されており、前記保管容積（６０，６０Ａ）が前記導管（１５）と流体連通していて、前記スクレーパ（２０）が前記保管容積（６０）と前記導管（１５）との間を流動するのを可能にするように形成されており、
前記装置（１０）は、前記スクレーパ（２０）が第１磁石（５０）を含むこと、そして前記エンベロープ（２４）が、前記保管容積（６０，６０Ａ）から前記導管（１５）へ前記スクレーパ（２０）を押し退ける傾向のある第１力を前記第１磁石（５０）に加えることができる第２磁石（７０）を含むことを特徴とする、流体噴霧装置（１０）。

【請求項2】

前記第１磁石（５０）が永久磁石である、請求項１に記載の装置。

【請求項3】

前記第２磁石（７０）が永久磁石である、請求項１又は２に記載の装置。

【請求項4】

前記第２磁石（７０）が電磁石である、請求項１又は２に記載の装置。

【請求項5】

前記第２磁石（７０）は、前記第２磁石（７０）が第１方向を有する電流を供給されると、前記第１力を加えることができ、そして前記第２磁石（７０）が前記第１方向とは反対方向の第２方向を有する電流を供給されると、前記スクレーパ（２０）を保管容積（６０，６０Ａ）内に保持する傾向のある、具体的には前記スクレーパ（２０）を前記第２磁石（７０）に接近させる傾向のある第２力を加えることができる、請求項４に記載の装置。

【請求項6】

前記エンベロープ（２４）が開口（８０）の境界を定めており、前記開口は、前記スクレーパ（２０）が前記保管容積（６０，６０Ａ）から前記導管（１５）へ循環しているときに前記スクレーパ（２０）によって横断されるように意図されており、前記スクレーパ（２０）が前記保管容積（６０，６０Ａ）内に受容されているときには前記スクレーパ（２０）は前記第２磁石（７０）と前記開口（８０）との間に介在し、前記第１力は具体的には、前記第２磁石（７０）から離れる方向に第１磁石（５０）を動かす傾向のある力である、請求項１から５までのいずれか１項に記載の装置。

【請求項7】

前記第２磁石（７０）が、前記エンベロープ（２４）の外面（８５）に当て付けられている、請求項１から６までのいずれか１項に記載の装置。

【請求項8】

前記エンベロープ（２４）が、前記保管容積（６０Ａ）を前記導管（１５）に接続する第１開口（８０）と、前記保管容積（６０）に通じる第２開口（８２）の境界を定めており、前記保管容積（６０Ａ）が前記２つの開口（８０，８２）の間に介在しており、前記装置（１０）が、前記第２開口（８２）を通して流体を前記エンベロープ（２４）内へ注入するための手段（１２）をさらに含み、前記第２磁石（７０）が前記エンベロープ（２４）の後部容積（６０Ｂ）内に収納され、前記第２開口（８２）と前記保管容積（６０Ａ）との間に介在しており、前記エンベロープ（２４）がさらに少なくとも１つの通路（１００）の境界を定めており、前記通路は、前記スクレーパ（２０）が保管位置にあるときには前記第２開口（８２）から前記第１開口（８０）へ、注入された流体を導くように形成されている、請求項１から６までのいずれか１項に記載の装置。

【請求項9】

前記第２磁石（７０）は、前記スクレーパ（２０）が保管位置にあるときには、１．５ニュートン～５ニュートンの力を前記第１磁石に加えるように形成されている、請求項１から８までのいずれか１項に記載の装置。

【請求項10】

アクチュエータ（７５）をさらに含み、前記アクチュエータは、ピン（９０）が保管位置から前記導管（１５）への前記スクレーパ（２０）の運動を妨げる第１位置と、前記ピン（９０）が前記保管位置から前記導管（１５）への前記スクレーパ（２０）の通過を許す第２位置との間で前記ピン（９０）を動かすように形成されている、請求項１から９までのいずれか１項に記載の装置。

【請求項11】

前記保管容積（６０，６０Ａ）内の前記スクレーパ（２０）の存在を検出するように形成されたセンサを含み、前記センサが、磁界の値を測定するように、且つ測定された磁界値に依存する前記スクレーパ（２０）の存在を検出するように形成されている、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の装置。

【請求項12】

前記センサが、測定された磁界値を閾値と比較するように、そして前記測定された値が前記閾値以上であるならば前記スクレーパ（２０）の存在を検出するように形成されている、請求項１１に記載の装置。

【請求項13】

前記第１力は、前記保管容積（６０，６０Ａ）の軸線（Ａ４）に対して平行な方向に前記スクレーパ（２０）を動かす傾向があり、前記第１磁石（５０）と前記第２磁石（７０）とが前記軸線（Ａ４）に沿って互いにオフセットされており、前記センサが、所定の位置の磁界値を測定するように形成されており、前記位置が、前記軸線（Ａ４）に対して垂直な平面（Ｐ）に所属しており、前記平面（Ｐ）が前記軸線（Ａ４）に沿って、前記第１磁石（５０）と前記第２磁石（７０）との間に介在している、請求項１２に記載の装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は流体噴霧装置に関する。

【0002】

流体噴霧装置は、流体が通流する管の内部を清浄化するためにスクレーパをしばしば使用する。これらのスクレーパは、導管内の流体をこれらの前に押すことにより、スクレーパが通った後、導管内に残留する流体量を最小限にするデバイスである。従って、流体の性質が変わると、例えば異なる色の塗料のような異なる流体を連続して噴霧しようとする場合、最も新しく噴霧される流体が以前に噴霧された流体の残留物によって汚染されるリスクが制限される。

【0003】

使用していないときには、スクレーパは通常は流体循環システムの専用部分内に保管される。この部分は通常、スクレーパ保管容積の境界を定める剛性エンベロープによって形成される。スクレーパを使用しようとするときには、専用アクチュエータがスクレーパを回路部分内に押し込む。この回路部分内には駆出流体が注入される。このときスクレーパに対する流体の作用がスクレーパを回路内に追い込むので、スクレーパは回路内を循環し、回路壁上の流体残留物をスクレーパの前に押す。

【0004】

しかしながら、このアクチュエータの存在はエンベロープの局所的な脆弱性を生み出す。それというのも、エンベロープの外側に配置されたアクチュエータはスクレーパを押すために、エンベロープを貫通しなければならないからである。従ってエンベロープはこのアクチュエータの通過のための少なくとも１つの開口を有している。この開口は、アクチュエータが摩耗又は衝撃を被るようになるか、あるいは回路内に過剰圧力が形成された場合に、漏れのリスクを生じさせる。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

従って、回路内に存在する残留物による流体の汚染のリスクを限られたものに維持しながら、従来技術のシステムよりも漏れのリスクが少ない流体噴霧装置が必要である。

【課題を解決するための手段】

【0006】

これを目的として、流体噴霧装置であって、流体循環導管と、前記導管内で流動し得るスクレーパと、前記スクレーパの保管位置で前記スクレーパ（を受容するための保管容積を画定するエンベロープとを含み、前記スクレーパは、前記スクレーパが前記導管内を流動するのに伴って、前記導管内に存在する流体を、導管を擦過して押すように形成されており、前記保管容積が前記導管と流体連通していて、前記スクレーパが前記保管容積と前記導管との間を流動するように形成されており、前記スクレーパが第１磁石を含み、そして前記ハウジングが、前記保管容積から前記導管へ前記スクレーパを動かす傾向のある第１力を前記第１磁石に加えるように構成された第２磁石を含む、流体噴霧装置が提案される。

【0007】

特定の実施態様によれば、前記装置は下記特徴のうちの１つ又は２つ以上を単独で、又は技術的に可能な任意の組み合わせで含む。
－ 前記第１磁石が永久磁石であり、
－ 前記第２磁石が永久磁石であり、
－ 前記第２磁石が電磁石であり、
－ 前記第２磁石は、前記第２磁石が第１方向を有する電流を供給されると、前記第１力を加えることができ、そして前記第２磁石が前記第１方向とは反対方向の第２方向を有する電流を供給されると、前記スクレーパを保管容積内に保持する傾向のある、具体的には前記スクレーパを前記第２磁石に接近させる傾向のある第２力を加えることができ、
－ 前記エンベロープが開口の境界を定めており、前記開口は、前記スクレーパが前記保管容積から前記導管へ循環しているときに前記スクレーパによって横断されるように意図されており、前記スクレーパが前記保管容積内に受容されているときには前記スクレーパは前記第２磁石と前記開口との間に介在し、前記第１力は具体的には、前記第２磁石から離れる方向に第１磁石を動かす傾向のある力であり、
－ 前記第２磁石が、前記エンベロープの外面と接触しており、
－ 前記エンベロープが、前記保管容積を前記導管に接続する第１開口と、前記保管容積に通じる第２開口との境界を定めており、前記保管容積が前記２つの開口の間に介在しており、前記装置が、前記第２開口を通して流体を前記エンベロープ内へ注入するための手段をさらに含み、前記第２磁石が前記エンベロープの内部容積内に収納され、前記第２開口と前記保管容積との間に介在しており、前記エンベロープがさらに少なくとも１つの通路の境界を定めており、前記通路は、前記スクレーパが保管位置にあるときには前記第２開口から前記第１開口へ、注入された流体を導くように形成されており、
－ 前記第２磁石は、１．５ニュートン～５ニュートンの力を前記第１磁石に加えるように形成されており、そして
－ 前記装置がアクチュエータをさらに含み、前記アクチュエータは、ピンが保管位置から前記導管への前記スクレーパの運動を妨げる第１位置と、前記ピンが前記保管位置から前記導管への前記スクレーパの通過を許す第２位置との間で前記ピンを動かすように形成されている。

【0008】

添付の図面を参照しながら、非限定的な一例として挙げられる下記説明を読めば、本発明の特徴及び利点が明らかになる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】図１は、流体循環導管とスクレーパとスクレーパ保管容積とを含む流体噴霧装置の第１実施例を示す概略図である。

【図2】図２は、スクレーパの断面を示す部分的な概略図である。

【図3】図３は、スクレーパ保管容積及びこの保管容積の境界を定めるエンベロープの断面を示す部分的な概略図である。

【図4】図４は、流体噴霧装置の別の実施例の保管容積及びエンベロープを示す断面図である。

【図5】図５は、図４の装置の１実施態様を示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

流体噴霧装置１０の第１実施例が図１に示されている。

【0011】

装置１０は第１流体Ｆを噴霧するように形成されている。

【0012】

装置１０は例えば色変更ユニット１１と、ポンプ１２と、第１流体Ｆを噴霧するためのデバイス１３、例えば塗装ガン又は噴霧器を含む。

【0013】

装置１０はさらに流体循環導管１５と、スクレーパ２０と、少なくとも１つのインジェクタ２１と、エンベロープ２４とを含む。

【0014】

色変更ユニット１１と、ポンプ１２と、循環導管１５と、エンベロープ２４と、発射部材１３とは一緒に、第１流体Ｆを循環させるための回路を形成する。回路は具体的には、色変更ユニット１１から発射部材１３へ第１流体Ｆを導くのに適している。

【0015】

第１流体Ｆは、例えば液体、例えば塗料又は他の塗布材料である。

【0016】

１実施態様によれば、第１流体Ｆは一連の導電性粒子、具体的には金属粒子、例えばアルミニウム粒子を含む。

【0017】

具体的には、色変更ユニット１１は、ポンプ１２に第１流体Ｆを供給するように形成されている。具体的には、色変更ユニット１１は、ポンプ１２に複数の第１流体Ｆを供給し、そしてポンプ１２への供給を１つの第１流体Ｆから別の第１流体Ｆに切り換えるように形成されている。

【0018】

具体的には、色変更ユニット１１がポンプ１２に供給するのに適した第１流体Ｆのそれぞれは、例えば、他の第１流体Ｆの色とは異なる色を有する塗料である。

【0019】

ポンプ１２は、色変更ユニット１１から受容された第１流体Ｆの流れを循環導管１５内へ注入するのに役立つ。例えば、ポンプ１２は、弁１４によって循環導管１５に接続されている。具体的には、ポンプ１２はエンベロープ２４を通して循環導管１５に接続されている。

【0020】

ポンプ１２は例えば歯車ポンプである。

【0021】

発射部材１３は、第１流体Ｆを受容し、第１流体Ｆを発射するように構成されている。

【0022】

例えば、発射部材１３は弁２２と噴霧ヘッド２３とを含む。

【0023】

発射部材１３は例えば、第１流体エフを発射させようとする物体に発射部材１３を向けることができる可動アーム上に取り付けられている。

【0024】

弁２２は、循環導管１５を噴霧ヘッド２３に接続するように、そして循環導管１５から噴霧ヘッド２３への第１流体Ｆの通過を許す開形態と、このような通過を阻止する閉形態とを切り換えるように形成されている。

【0025】

噴霧ヘッド２３は、弁２２から受容された第１流体Ｆを噴霧するように形成されている。

【0026】

流体循環導管１５は、弁１４から受容された第１流体Ｆを発射部材１３へ導くように形成されている。

【0027】

流体循環導管１５は円筒形である。例えば流体循環導管１５は円形断面を有しており第１軸線Ａ１に沿って延びている。

【0028】

１実施態様によれば、流体循環導管１５は真直ぐである。別の実施態様では、流体循環導管１５は湾曲した導管である。この湾曲した導管の場合、第１軸線Ａ１は、流体循環導管１５の断面が円形である、その平面に対して垂直のものとして、流体循環導管１５の任意の位置で局所的に定義される。

【0029】

流体循環導管１５は図２に示された内面２５を有している。この内面は、第１軸線Ａ１に対して垂直な平面内に流体循環導管１５の孔を画定している。

【0030】

流体循環導管１５はさらに、図３で見ることができる外面２７を有している。

【0031】

循環導管１５に対して上流側及び下流側が定義される。上流側及び下流側は、第１流体Ｆを発射するときに、第１流体エフが循環導管１５を通って上流側から下流側へ流れるという点において定義される。

【0032】

例えば、ポンプは、循環導管１５の上流端部１５Ａで第１流体Ｆを注入するように形成されているのに対して、循環導管１５の下流端部１５Ｂは噴霧器に接続されており、これにより第１流体Ｆが上流側から下流側へ、ポンプから循環導管１５を通って噴霧器へ流れるのを可能にする。

【0033】

このことは図１において矢印２６において示されている。

【0034】

図１に示された実施例によれば、流体循環導管１５は第１部分２８と第２部分２９とを含む。

【0035】

循環導管１５の長さは５０センチメートル以上、例えば１メートル以上である。１実施態様では、第１部分２８及び第２部分２９のそれぞれは長さが１メートル以上である。

【0036】

第１部分２８は第２部分２９の上流側に配置されている。

【0037】

第１部分２８は例えば、変形することにより発射部材１３の運動に追従するように形成されている。

【0038】

第２部分２９は例えば発射部材１３内に受容され、発射部材と一緒に運動することができる。

【0039】

第２部分２９は例えば螺旋形である。

【0040】

流体循環導管１５のために内径Ｄｉが定義されている。内径Ｄｉは、内面２５の直径方向に対向する２つの位置間で、第１軸線Ａ１に対して垂直な平面内で測定される。

【0041】

内径Ｄｉは例えば３．８～６．２ｍｍである。なお、循環導管１５の内径Ｄｉは変化してよい。

【0042】

流体循環導管１５は、例えば金属材料から形成されている。あるいは、流体循環導管１５はポリマー材料から形成されている。

【0043】

スクレーパ２０は、流体循環導管１５を通流して、流体循環導管１５内を通過するのに伴って内面２５上の第１流体ＦＦをスクレーパの前に押すように形成されている。具体的には、スクレーパ２０は、内面２５を清浄化するように、すなわちスクレーパ２０の通過前に内面２５を覆っていた量よりも少ない量の第１流体Ｆで覆われた内面２５を残すように、例えば導管１５の、スクレーパ２０が循環する部分の内面２５を覆う第１流体ＦＦのすべてを除去するように形成されている。

【0044】

「その前に押す」とは、流体循環導管１５内で一方の方向に移動するスクレーパ２０が、スクレーパ２０が向かう先の導管１５の部分内に受容された第１流体Ｆに、その方向の動作を加えることを意味する。例えば、上流側から下流側へ動くスクレーパ２０は、スクレーパ２０の下流側に位置する第１流体Ｆに下流側に向かう運動を作用させる。

【0045】

スクレーパ２０は第２軸線Ａ２に沿って延びている。

【0046】

スクレーパ２０は、第２軸線Ａ２に対して垂直な平面内に円形断面を有する少なくとも１つの部分を含む。

【0047】

図２に示された実施例によれば、スクレーパ２０はほぼ円筒形であり、第２軸線Ａ２を中心として回転対称である。

【0048】

図２に示されているように、スクレーパ２０が循環導管１５の孔内に受容され、第１軸線Ａ１が第２軸線Ａ２と一致すると、スクレーパ２０は循環導管１５内を循環するように意図されている。

【0049】

スクレーパは外径Ｄｅを有している。外径Ｄｅは、第２軸線Ａ２に対して垂直な平面内に最大の外径を有するスクレーパ２０の部分の外径である。

【0050】

外径は例えば循環導管１５の内径Ｄｉに等しい。あるいは、外径Ｄｅは循環導管１５の内径Ｄｉよりも真に小さい。

【0051】

スクレーパ２０は、第２軸線Ａ２に沿ってスクレーパ２０の境界を定める２つの端面３０を有している。スクレーパ２０の長さは、２つの端面３０の間で第２軸線Ａ２に沿って測定して、例えば循環導管１５の内径Ｄｉ～内径Ｄｉの２倍である。

【0052】

スクレーパ２０はさらに、第２軸線Ａ２に対して垂直な平面内でスクレーパ２０の境界を定める側面３５を有している。スクレーパ２０がほぼ円筒形である場合、外径は側面３５上の直径方向に対向する２つの位置間で測定される。

【0053】

スクレーパ２０は例えば、チャンバ４５を画定するシェル４０を含む。この場合、端面３０及び側面３５はシェル４０の外面である。具体的には、シェル４０は２つの端壁４６を含む。これらの端壁は第２軸線Ａ２に沿って、シェル４０の外側からチャンバ４５を分離する。この場合、端面３０は端壁面４６である。

【0054】

端壁４６は例えば第２軸線Ａ２に対して垂直な平らな壁である。

【0055】

シェル４０は例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリエチレン、ポリオレフィン、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、又はポリアミドから形成されている。

【0056】

あるいは、スクレーパ２０は中実であり、すなわちチャンバ４５がシェル４０によって境界を定められてはいない。この場合、スクレーパ２０は良好な弾性を有する材料、例えばエラストマー、特に耐溶剤性ペルフルオロエラストマーから形成される。

【0057】

スクレーパ２０は磁石５０を含む。

【0058】

磁石５０はスクレーパ２０と一体的である。磁石５０は例えばチャンバ４５内に収容されている。

【0059】

磁石５０は例えば永久磁石、例えばネオジム磁石である。

【0060】

しかしながら、磁石５０が電磁石である実施態様も可能である。

【0061】

磁石５０はＮ極Ｎ１とＳ極Ｓ１とを有している。磁石５０のＮ極Ｎ１とＳ極Ｓ１とは、例えば第２軸線Ａ２に沿って整列している。

【0062】

図２及び３には、それぞれの磁石のＮ極及びＳ極が、それぞれ磁石の縦縞で描かれた半分と斜め縞で描かれた半分とによって概略的に示されている。

【0063】

具体的には、磁石５０は、１ニュートン（Ｎ）以上、例えば１．５Ｎ～５Ｎの磁力を加えることができる。

【0064】

インジェクタ２１は、第２流体を回路、具体的には循環導管１５内へ注入するように形成されている。例えば、インジェクタ２１は、インジェクタ２１によって制御可能な流量を有する第２流体流を、循環導管１５内へ注入するように形成されている。

【0065】

具体的には、インジェクタは、第２流体をエンベロープ２４を介して循環導管１５内へ注入するように形成されている。換言すればエンベロープは、インジェクタから第２流体を受容するように、そして受容された第２流体を循環導管１５、具体的には上流端部１５Ａに送るように形成されている。

【0066】

図１に示された実施例では、インジェクタ２１は弁４７を介してエンベロープ２４に接続されている。

【0067】

第２流体は例えば噴霧されるべき第１流体Ｆとは別の流体である。例えば第２流体は、「クリーニング流体」と呼ばれることもある液体である。液体は具体的には、第１流体Ｆを溶解又は希釈するのに適した溶剤である。例えば、第１流体Ｆが水性塗料である場合、液体は水である。なお、使用される溶剤のタイプは、第１流体Ｆの性質に応じて変化し得る。

【0068】

また、念のために述べるならば、溶剤以外の液体を第２流体として使用することもできる。

【0069】

あるいは、第２流体は、循環導管１５内に存在する第１流体Ｆの後に噴霧されるように意図された第１流体Ｆ、例えば循環導管１５内に存在する第１流体Ｆとは異なる色を有する第１流体Ｆである。別の実施態様では、第２流体は気体、例えば圧縮空気である。

【0070】

注入されるべき第２流体に応じて、数多くの種々異なるタイプのインジェクタを装置１０内に使用することができる。例えばインジェクタ２１は、ガス流を生成するのに適した歯車ポンプ又は圧縮機である。

【0071】

なお、インジェクタ２１はポンプ１２とは別個のデバイスとして上述したが、例えば色変更ユニット１１が第２流体のリザーバを含み、次いでこの第２流体をポンプ１２がエンベロープ２４を介して導管１５内へ注入し得るならば、インジェクタ２１の役割がポンプ１２によって果たされることも考えられる。

【0072】

「ステーション」と呼ばれることもあるエンベロープ２４は内部容積６０の境界を定めている。この容積６０は以後「スクレーパ１０の保管容積」と呼ぶ。

【0073】

例えば、装置１０は２つのこのようなエンベロープ２４を含む。これらのエンベロープのそれぞれは循環導管１５の上流側１５Ａ又は下流側１５Ｂの端部に配置されている。

【0074】

エンベロープ２４は例えばプラスチック材料、具体的にはポリオキシメチレンから形成されている。あるいは、エンベロープ２４は非磁性金属材料、具体的にはステンレス鋼、例えばステンレス鋼３０３から形成されている。

【0075】

それぞれのエンベロープ２４は例えば保管容積６０の境界を定める中空ブロック６５を含む。ブロック６５は例えば単一片である。

【0076】

あるいは、ブロック６５の代わりに、互いに付着するいくつかの部分から成るハウジングが使用される。別の実施態様では、ブロック６５の代わりに、保管容積の境界を定める循環導管１５の一部が使用される。

【0077】

なお、ブロック６５又はハウジングは数多くの異なる材料から形成されてよい。

【0078】

エンベロープ２４はさらに磁石７０と、任意にはアクチュエータ７５とを含む。

【0079】

「保管容積」６０は、スクレーパ２０が導管１５内で循環していないときにスクレーパ２０を収容するように提供される容積を意味する。具体的には、装置１０は、スクレーパ２０が保管容積６０内に収容される保管位置においてスクレーパを保持するための手段を含む。

【0080】

保管容積６０は、スクレーパ２０が保管位置にあるときに、流体Ｆが導管１５の上流端部１５Ａから下流端部１５Ｂへ流れるのをスクレーパ２０が許すように形成されている。

【0081】

保管容積６０は例えば円筒形であり、第４軸線Ａ４に沿って延びている。しかしながら、保管容積６０の形状は種々様々であってよい。

【0082】

具体的には、保管容積６０は、スクレーパ２０が保管位置にあるときに流体Ｆがスクレーパ２０の周りを流れるように提供されている。例えば、スクレーパ２０が保管位置にあるときには、保管容積６０の直径はスクレーパ２０の外径よりも真に大きい。

【0083】

あるいは、スクレーパ２０が保管位置にあるときには、スクレーパ２０は、上流端部１５Ａをインジェクタ２１に接続する流路の外部に配置されている。

【0084】

保管容積６０は導管１５と流体接続している。換言すれば、保管容積６０は、流体Ｆが保管容積から導管１５へ、そしてその反対に流れるのを可能にするようになっている。

【0085】

例えば、保管容積６０は導管１５内へ、具体的にはエンベロープ２４の開口８０を介して上流端部１５Ａ内又は下流端部１５Ｂ内へ開いている。

【0086】

加えて、保管容積６０は、スクレーパ２０が保管容積６０と導管１５との間で循環するのを可能にするように形成されている。具体的には、スクレーパ２０が保管容積６０から循環導管１５へ、そしてその反対に循環しているときに、開口８０はスクレーパ２０によって通過されるように意図されている。この場合、開口８０は保管容積８０を上流端部１５Ａに接続する。具体的には、開口８０の直径は、スクレーパ２０の外径Ｄｅ以上である。

【0087】

図３に示された実施例によれば、第４軸線Ａ４は第１軸線Ａ１と一致する。この場合、開口８０は第４軸線Ａ４に沿って保管容積６０の境界を定めている。

【0088】

図１に示された実施例によれば、インジェクタ２１は例えば、エンベロープ２４の側壁内、すなわち第４軸線Ａ４に対して垂直な平面内で保管容積６０の境界を定める壁内に設けられた開口８２を通して第２流体を注入するように形成されている。

【0089】

しかしながら、考えられ得る変更実施形によれば、インジェクタ２１はエンベロープ２４の長手方向壁内、すなわち第４軸線Ａ４に沿って保管容積６０の境界を定める壁内に設けられた開口８２を通して第２流体を注入するように形成されている。例えば、保管容積６０は第４軸線Ａ４に沿って且つ第１軸線Ａ１に沿って開口８０と８２との間に介在している。

【0090】

なお、ただ１つの開口８２が図３に示されてはいるものの、開口８２の数は様々であってよい。

【0091】

磁石７０は例えば永久磁石である。例えば磁石７０はネオジム磁石である。

【0092】

磁石７０は例えばエンベロープ２４の外面８５と接触している。具体的には、外面８５は、とりわけ開口８０とは反対側の、第４軸線Ａ４に沿ってエンベロープ２４の境界を定めるブロックの面６５である。

【0093】

あるいは、磁石７０はブロック６５内へ組み込まれて、磁石７０が保管容積６０とエンベロープ２４の外面８５との間に少なくとも部分的に介在するか、あるいは保管容積６０内に収容され、保管容積６０によって且つ外面８５によって第４軸線Ａ４に沿っての境界を定められたブロック６５の部分に当て付けられるようになっている。

【0094】

スクレーパ２０が保管位置にあるときには、スクレーパ２０は磁石７０と開口８０との間に介在している。

【0095】

磁石７０はＮ極Ｎ２とＳ極Ｓ２とを有している。

【0096】

磁石７０は、保管容積６０から導管１５へスクレーパ２０を動かす傾向のある第１力を磁石５０に加えるように形成されている。例えば、第１力は、保管容積６０から開口８０を通して循環導管１５へスクレーパ２０を動かす傾向のある力である。

【0097】

具体的には、第１力は、磁石７０から離れる方向に磁石５０を動かす傾向のある力である。

【0098】

例えばスクレーパ２０が保管位置にあるときには、磁石７０のＮ極Ｎ２はスクレーパ２０に指向されるとともに、スクレーパ２０が保管位置にあるときには、Ｎ極Ｎ１は磁石７０に指向される。換言すれば、スクレーパ２０が保管位置にあるときには、Ｎ極Ｎ１及びＮ２は第４軸線に沿って極Ｓ１とＳ２との間に介在する。

【0099】

この場合、スクレーパ２０が保管位置にあるときには、Ｎ極Ｎ２は例えば磁石７０のＳ極Ｓ２とスクレーパ２０との間に介在し、Ｎ極Ｎ１はＳ極Ｓ１と磁石７０との間に介在する。

【0100】

１実施態様では、磁石５０のＮ極Ｎ１とＳ極Ｓ１とは、磁石７０のＮ極Ｎ２及びＳ極Ｓ２と同様に空間的に相互に交換可能である。

【0101】

具体的には、磁石７０は、磁石５０によって生成される磁力以上の磁力を生成することができる。具体的には、磁石７０は、スクレーパ２０が保管位置にあるときに１Ｎ以上、具体的には１．５Ｎ～５Ｎの力を磁石５０に加えるように形成されている。

【0102】

スクレーパ２０が保管位置にあるときには、磁石５０と磁石７０との間隔は１ミリメートル（ｍｍ）～５ｍｍである。

【0103】

例えば、軸線Ａ４に沿って外面８５と保管容積６０とによっての境界を定められるエンベロープ２４の仕切りの厚さは０ｍｍ～５ｍｍであり、スクレーパ２０が保管位置にあるときには、スクレーパ２０はこの仕切りに当て付けられている。

【0104】

アクチュエータ７５は、スクレーパ２０を保管位置に保持する傾向のある第２力をスクレーパ２０に加えるように形成されている。

【0105】

例えば、アクチュエータ７５は、第１位置と第２位置との間にピン９０を動かすように形成されている。

【0106】

アクチュエータ７５は例えば液圧式又は空気圧式シリンダ、又は電動モータである。

【0107】

ピン９０は、エンベロープ２４を通ってエンベロープ２４の外部から保管容積６０へ延びる通路内に収納されている。

【0108】

ピン９０が第１位置にあるときには、ピン９０は保管容積６０から導管１５へのスクレーパ２０の運動を妨げる。例えば、ピン９０が第１位置にあるときには、ピン９０はエンベロープ２４の内面から突出することにより、開口８０を部分的に閉じる。

【0109】

ピン９０が第２位置にあるときには、ピン９０はスクレーパ２０が保管容積６９から導管１５に達するのを許す。例えばピン９０はエンベロープ２４のキャビティ内に収納されるので、ピン９０はエンベロープ２４の前記内面からもはや突出しない。

【0110】

導管１５の内面２５を清浄化する方法の第１実施例を以下に説明する。

【0111】

最初の工程では、第１流体Ｆは循環導管１５の孔内に存在する。第１流体ＦＦは循環導管１５の内面を部分的に覆う。

【0112】

最初に、スクレーパ２０は保管位置にある。具体的にはピン９０は第１位置にある。従って磁石７０は第１力をスクレーパ２０に加えるが、しかしこのような運動は、アクチュエータ７５によってピン９０を介してスクレーパ２０に加えられる第２力により阻止される。

【0113】

加えて、第１流体Ｆは循環導管１５内に注入されるので、第１流体Ｆは発射部材１３によってそこで噴霧されるべき下流端部１５Ｂに達する。具体的には、第１流体Ｆは保管容積６０内に注入され、開口８０を通過することにより循環導管１５の上流端部１５Ａに達する。

【0114】

注入工程中、スクレーパ２０は保管位置から導管１５へ動かされる。例えば、アクチュエータ７５はピン９０をその第２位置へ動かし、そして磁石７０によって磁石５０に加えられた第１力は次いで、保管位置から導管１５の上流端部１５Ａへスクレーパ２０を動かす。

【0115】

循環工程中、スクレーパ２０は循環導管１５内を循環する。具体的にはスクレーパ２０は循環導管１５の一方の端部１５Ａ，１５Ｂのところで挿入され、そして、スクレーパ２０の上流側で循環導管内へ注入された第２流体流によって、例えば保管容積６０内へ注入され開口８０を通過する第２流体流によって、循環導管１５の他方の端部１５Ａ，１５Ｂへ推進される。

【0116】

第２流体流は次いで、第１軸線Ａ１に沿って循環導管１５内でスクレーパを推進する傾向のある第３力を端面３０の一方に加える。

【0117】

循環工程２０中、第１軸線Ａ１と第２軸線Ａ２とは合致する。

【0118】

第２流体流の影響下で、スクレーパ２０は循環導管１５内を循環する。例えば第２流体流が導管１５の上流端部１５Ａ内に流入されると、スクレーパ２０は上流から下流へ流れる。なお、スクレーパ２０の流れ方向は、例えば第２流体流が導管１５の下流端部１５Ｂ内へ注入される場合に、変化することができる。

【0119】

スクレーパの循環中、スクレーパ２０は、循環導管１５内に存在する第１流体Ｆをその前に押し、ひいては第１流体Ｆの回収を可能にする。例えば、導管１５の下流端部１５Ｂ内へ開く、第１流体Ｆの回収のための弁が、スクレーパ２０によって推し進められた第１流体Ｆの排出を可能にする。あるいは、第１流体Ｆは発射部材１３の弁２２を通る循環導管から流出する。

【0120】

スクレーパが導管１５の内面２５上に存在する第１流体Ｆを推し進めるのに伴って、循環導管１５の内面２５はこのように清浄化される。

【0121】

保管工程中、スクレーパ２０は、例えば下流端部１５Ｂのところで注入された第２流体流の影響を受けて、その保管位置に戻される。第２流体流は、上流端部１５Ａへ向かって、次いで保管位置へ向かってスクレーパ２０を動かす傾向のある第４力をスクレーパ２０に加える。次いでスクレーパ２０はピン９０の作用によって保管位置でロックされる。ピンは、第２位置から第１位置へアクチュエータ７５によって動かされる。

【0122】

磁石７０によって、従来技術の設備の場合のようにこの目的のためにエンベロープ２４に開口を穿孔する必要なしに、スクレーパ２０をその保管位置から導管１５へ効率的に動かすことができる。エンベロープ２４の開口の数が減らされるので、漏れのリスクが軽減される。

【0123】

永久磁石７０はシステム１０を極めて使用しやすくする。同じ符号の極が互いに近接した２つの磁石５０及び７０の間の反発を極めてシンプルに利用できる。

【0124】

保管位置においてスクレーパ２０が開口８０と磁石７０との間に介在していると、システムの動作が特にシンプルになる。

【0125】

磁石７０がエンベロープ２４の外面と接触していると、システム１０はやはり実行及び操作が特にシンプルになる。

【0126】

アクチュエータ７５及びピン９０は、スクレーパ２０が保管位置の所定の位置に容易に保持されるのを可能にする。

【0127】

装置１０の第２実施例を以下に説明する。

【0128】

第１実施例と同一のエレメントに関しては再び説明することはしない。異なるものだけを明らかにする。

【0129】

磁石７０は電磁石である。具体的には、磁石７０は、第４軸線Ａ４に沿って配向された磁界を生成するように形成されている。

【0130】

例えば、磁石７０は、第４軸線Ａ４に対して平行な、又は第４軸線Ａ４と一致する軸線の周りに巻かれた導電体によって形成されたコイルを含む。

【0131】

磁石７０は、第１力及び第２力をスクレーパ２０に加えるように形成されている。

【0132】

装置１０はさらに、磁石７０に第１力及び／又は第２力を生成させるのに適した電流を磁石７０に供給するのに適した電源を含む。

【0133】

例えば、電源は、第１流れ方向を有する第１電流、及び第２流れ方向を有する第２電流を磁石７０に供給するように形成されている。これら２つは互いに対向することを意味する。

【0134】

例えば、２つの電流は、それぞれ特定の強度を有する電流である。第１電流の強度は第２電流の強度とは逆の符号を有する。具体的には、この電流がそれぞれの電流は、電磁石内、具体的には電磁石７０のコイル内に流れると、それぞれの電流は相応の電流強度として定義される。

【0135】

強度は例えば絶対値において等しい。あるいはこれらの絶対値は互いに異なる。

【0136】

電磁石７０に第１電流が供給されると、電磁石は第１力を加える。

【0137】

電磁石７０に第２電流が供給されると、電磁石は第２力を加える。第２力はこの場合、磁石７０と５０とを互いに接近させる傾向のある力である。

【0138】

システム１０はまたアクチュエータ７５もピン９０も有していない。

【0139】

装置１０の第２実施例によって実施される清浄化方法の第２実施例を以下に説明する。第１実施例の方法と同一のエレメントについては再び説明することはしない。異なるものだけを明らかにする。

【0140】

初期工程及び保管工程において、電磁石７０に第２電流を供給することによって、スクレーパ２０を電磁石７０に引き付け、これにより電磁石を保管位置に動かし、又は保管位置内に保持する。

【0141】

注入工程中、電磁石７０には第１電流を供給し、ひいては電磁石を導管１５に向かって動かす。

【0142】

このことはシステム１０の漏れの発生を少なくする。それというのも、ピン９０の通過のために必要となる開口がもはや必要でないからである。これにより、エンベロープ２４のタイトネスがさらに改善される。

【0143】

装置１０の第３実施例を以下に説明する。第１実施例の装置１０と同一のエレメントについては再び説明することはしない。異なるものだけを明らかにする。

【0144】

第３実施例は図４に示されている。

【0145】

第３実施例の装置１０では、磁石７０はエンベロープ２４内に収容されている。具体的には磁石７０は保管容積６０内に収納されている。

【0146】

例えば、エンベロープ２４は、図４に符号６５Ａ，６５Ｂによって示された少なくとも２つの別個のブロックを含む。これらのブロックは一緒に、エンベロープ２４の内部容積と少なくとも部分的に隣接している。

【0147】

エンベロープ２４の内部容積は、以後符号６０Ａで示される保管容積と、以後「後部容積」６０Ｂと呼ばれる、磁石７０を収納する容積６０Ｂとを含む。

【0148】

ブロック６５Ａは保管容積６０Ａと開口８０の境界を定めている。ブロック６５Ａは循環導管１５とブロック６５Ｂとの間に介在している。

【0149】

加えて、ブロック６５Ａは後部容積６０Ｂの境界を部分的に定めている。具体的には、ブロック６５Ａは少なくとも第１軸線Ａ１に沿って後部容積６０Ｂの境界を定めている。

【0150】

具体的には、ブロック６５Ａは、保管容積６０と後部容積６０Ｂとの間に延びる突起９５を有することにより、スクレーパ２０が保管位置にあるときに磁石７０が軸線Ａ１に沿ってスクレーパ２０へ向かって動くのを阻止する。例えば、突起９５は保管容積６０Ａを後部容積６０Ｂから分離している。

【0151】

突起９５の厚さは例えば０．５ｍｍ～４ｍｍである。突起９５の厚さは第１軸線Ａ１に沿って測定される。

【0152】

ブロック６５Ｂは後部容積６０Ｂと少なくとも部分的に隣接している。具体的には、ブロック６５Ｂは後部容積６０Ｂと少なくとも第１軸線Ａ１に沿って仕切っている。

【0153】

ブロック６５Ｂはまた開口８２の境界を定めている。

【0154】

保管容積６０Ａは後部容積６０Ｂと開口８０との間に第１軸線Ａ１に沿って介在している。

【0155】

開口８０は保管容積６０Ａ内へ通じている。開口８０は軸線Ａ１に沿って延びることにより、スクレーパ２０が保管容積６０Ａからアパーチャ８０を通って循環導管１５へ、軸線Ａ１に沿った並進運動によって動くことを可能にする。

【0156】

後部容積６０Ｂは磁石７０を収容する。例えば、後部容積６０Ｂは保管容積６０Ａと同軸的である。

【0157】

具体的には、後部容積６０Ｂは第１軸線Ａ１を中心として回転対照的である。後部容積６０Ｂは具体的には２つの円筒形端部と中央部分とを有している。

【0158】

それぞれの端部の直径は、例えば保管容積６０Ａの直径と等しい。

【0159】

中央部分は２つの端部の間に介在している。中央部分は例えば、共通の基部を有する２つの直円錐体によって境界を定められている。共通の基部は、端部の直径よりも真に大きい直径を有している。

【0160】

具体的には、共通の基部は、ブロック６５Ａと６５Ｂとの界面に配置されているので、一方の円錐体がブロック６５Ａと隣接し、他方の円錐体がブロック６５Ｂと隣接する。

【0161】

後部容積６０Ｂは保管部分６０Ａと開口８２との間に、第１軸線Ａ１に沿って介在している。

【0162】

開口８２は第５軸線Ａ５に沿って延びている。この第５軸線Ａ５は具体的には軸線Ａ１と一致する。

【0163】

具体的には、開口８２は円筒形である。開口８２の直径は例えば２ｍｍ～１０ｍｍである。開口８２の直径は具体的には、開口８０及び／又は循環導管１５の直径と等しい。

【0164】

エンベロープ２４の内部容積はさらに、スクレーパ２０が保管位置にあるときに、流体、具体的には第２流体の開口８０と８２との間の通過を可能にするように形成されている。具体的には、内部容積は、容積６０Ａ及び６０Ｂに加えて、開口８２と開口８０との間で第６軸線Ａ６に沿って延びる少なくとも１つの通路１００を含む。

【0165】

例えば、エンベロープ２４は、それぞれが開口８２から開口８０へ延びる複数の通路１００の境界を定めている。具体的にはエンベロープ２４は３つの通路１００の境界を定めている。

【0166】

なお、任意には、ブロック６５Ｂは軸線Ａ５に沿ってブロック６５の外側に向かって延びる突起１０５を有している。この突起１０５は開口８２内部に配置されている。突起１０５は例えばほぼ円錐形である。

【0167】

具体的には、突起１０５は開口８２内に含まれる流体の量を制限し、流体流を通路１００へより良好に導く。

【0168】

それぞれの通路１００は相応する第６軸線Ａ６に沿って延びている。第６軸線Ａ６は例えば第１軸線Ａ１に対して平行である。

【0169】

それぞれの通路１００を具体的には、容積６０Ａ，６０Ｂから半径方向に延び且つ相応の第６軸線Ａ６に沿って延びる孔又は溝によって形成することにより、スクレーパ２０が保管位置にあるときに、流体が通路１００を通って開口８２から開口８０へ達するのを可能にする。

【0170】

少なくとも１つの通路１００が具体的には、開口８２から開口８０へ、又は保管容積６０Ａへ延びる例えば円筒形の孔によって形成されている。

【0171】

それぞれの孔の直径は例えば開口８２の半分～４分の３である。具体的にはそれぞれの孔の直径は軸Ａ５とＡ６との間のオフセットの２倍以上である。

【0172】

それぞれの通路１００は容積６０Ａ及び６０Ｂから容積６０Ａ及び６０Ｂの軸線Ａ１に対して垂直方向に延び、そしてこれらの容積６０Ａ，６０Ｂと連通している。

【0173】

それぞれの通路１００はこの場合、例えば、通路１００の直径を有し且つ軸線Ａ５に沿って延びる円筒体によって、軸線Ａ１及びＡ５に対して垂直な平面内に境界を定められた形状を有している。この円筒体から、容積６０Ａ，６０Ｂの直径を有し且つ軸線Ａ１上にセンタリングされた円筒体によって境界を定められた容積が除外されている。

【0174】

こうして、流体が開口８２と８０との間で流れるのに伴って、流体は少なくともスクレーパ２０、例えばスクレーパ２０と磁石７０とに沿って通過する。具体的には、流体はスクレーパ２０及び／又は磁石７０の少なくとも一部と接触している。

【0175】

なお、通路１００は別の形態を成していてもよい。例えばそれぞれの通路１００は多角形断面を有している。

【0176】

通路１００は例えば第１軸線Ａ１の周りに所定の角度で分配されており、具体的には図１に示されているように等距離に間隔を置いて配置されている。例えば２つの連続する第６軸線Ａ６を軸線Ａ１に結合するセグメント間の角度は、考えられる軸線Ａ６対とは無関係に１２０°である。

【0177】

従って、開口８２を通して注入された流体は、通路１００を通って磁石７０及びスクレーパ２０の周りを流れる。

【0178】

具体的には、それぞれの第６軸線Ａ６と軸線Ａ１との間の距離はすべての軸線Ａ６に関して同一である。

【0179】

通路１００は、流体流が軸線Ａ１に対して主に平行な方向に開口８０と８２との間を循環するのを可能にし、ひいてはその運動中に被る圧力損失はほとんどない。それというのもこの運動は主に直線状であるからである。このことはシステム１０、具体的には保管容積のフラッシングをより容易にする。具体的には、エンベロープ２４の内部容積６０Ａ，６０Ｂ，１００には、流体が蓄積して効果的にフラッシングができないデッドゾーンがない。

【0180】

なお、単一の通路１００が存在する実施態様、又は３つ以外の複数の通路１００が存在する実施態様も可能である。

【0181】

図５に示された実施態様によれば、装置１０は、保管容積６０，６０Ａ内のスクレーパ２０の存在のためのセンサ１１０を含む。

【0182】

具体的には、センサ１１０は、所定の位置の磁界の値を測定し、そして測定値に基づいてスクレーパ２０の存在を検出するように形成されている。

【0183】

例えば、センサ１１０は、測定値を閾値と比較し、具体的には測定値の絶対値を閾値と比較し、そして測定値又は絶対値が閾値以上であるときにはスクレーパ２０の存在を検出するように形成されている。

【0184】

後で明らかになるように、「磁界の値を測定する」とは、磁界の値（例えばテスラ）が直接には計算されない場合にも、磁界に直接に相関されたパラメータを測定することを意味する。このような測定の一例は、磁界に依存する電気抵抗、電流又は電圧の測定である。

【0185】

センサ１１０が保管容積６０，６０Ａ内にスクレーパ２０の存在を検出すると、センサ１１０は、例えば電気信号を別のデバイス、例えば装置１０の制御モジュールに発生させるか、又はランプ又は発光体に給電するように信号を発生させる。

【0186】

具体的には、スクレーパ２０が保管位置にあるときには、前記位置は第４軸線Ａ４に沿って２つの磁石５０と７０との間に介在する平面Ｐに所属する。平面Ｐは第４軸線Ａ４に対して垂直である。

【0187】

１つの実施態様によれば、スクレーパ２０が保管位置にあるときには、２つの磁石５０，７０は、第４軸線Ａ４に沿って互いにオフセットされている。具体的には、２つの磁石５０，７０は、第４軸線Ａ４に沿った並進運動によって、互いに少なくとも部分的に重なることができる。

【0188】

スクレーパ２０が保管位置にあるときには、第１磁石５０と第２磁石７０とは、これらの間に、第４軸線Ａ４に沿って、以後「中間空間」と呼ぶ空間の一部の境界を定めている。具体的には、中間空間１１５は第１磁石５０の一方の端部と、第２磁石７０の一方の端部によって境界を定められている。なお、中間空間１１５は必ずしも空ではなく、具体的には空間１１５は、スクレーパ２０の少なくとも一部とエンベロープ２４の一部とを含有することが可能である。

【0189】

平面Ｐは、中間空間１１５と共通する少なくとも１つの位置、及び／又は中間空間１１５を仕切る端部のうちの一方と共通する少なくとも１つの位置を有している。図５の実施例によれば、スクレーパ２０が保管位置にあるときには、平面Ｐは中間空間１１５の境界を定める第１磁石５０の端部と共通する位置を有している。

【0190】

換言すれば、磁界測定位置は２つの磁石５０，７０間のギャップ１１５に位置している。

【0191】

軸線Ａ４に対して垂直方向の、位置Ｐと位置Ｐに最も近い磁石５０，７０との間の距離は、例えば５～１０ｍｍである。

【0192】

スクレーパ２０が保管位置にあるときの、２つの磁石５０，７０の間の距離は例えば２ｍｍ～１０ｍｍ、具体的には２ｍｍ～５ｍｍである。具体的には、その距離は３．５ｍｍである。

【0193】

センサ１１０は例えば、磁界の半径方向成分、すなわち第４軸線Ａ４に対して垂直な成分の値を測定するように形成されている。なお、磁界の他の成分の測定も可能である。

【0194】

センサ１１０は例えば、磁界値を測定するように形成された測定モジュールと、測定値からスクレーパ２０の存在を検出するように形成された検出モジュールとを含む。

【0195】

測定モジュールは例えば磁気抵抗測定モジュールである。磁気抵抗測定モジュールでは、エレメントが磁界の関数として変化する電気抵抗を有する。エレメントを貫流する電流、及び／又はエレメントを横切る電圧の強度は、この場合にはまた磁界の値に対して相関される。

【0196】

加えて、非磁気抵抗測定モジュールを使用する他のタイプのセンサも可能である。例えば１実施態様では、測定モジュールは磁界値（テスラ）を計算し、そして計算値を検出モジュールに伝送する。検出モジュールは次いで計算値を閾値と比較し、そして計算値が閾値以上であるならば、スクレーパの存在を検出する。

【0197】

測定モジュールが磁気抵抗モジュールであるときには、検出モジュールは抵抗値、電流値、及び／又は電圧値を相応する抵抗閾値、電流閾値、又は電圧閾値と比較し、そして比較に基づいてスクレーパ２０の存在を検出する。

【0198】

抵抗閾値、電流閾値、又は電圧閾値は、磁界閾値に相応する閾値である。すなわち磁界値が磁界閾値に等しいときには、抵抗値は抵抗閾値に等しく、電流値は電流閾値に等しく、あるいは電圧値は電圧値閾値に等しい。

【0199】

なお、電流、電圧、及び抵抗は使用される測定モジュールのタイプに応じて、磁界が増大するのに伴って増大するか、又は磁界が増大するのに伴って減少する。

【0200】

従って、１実施態様によれば、検出モジュールは電流値、電圧値、又は抵抗値をそれぞれ抵抗閾値、電流閾値、又は電圧閾値と比較し、そして抵抗値、電流値、又は電圧値が相応する抵抗閾値、電流閾値、又は電圧閾値以上であるならば、スクレーパの存在を検出する。これは、測定された磁界値が磁界閾値以上であるというのと同等のことである。

【0201】

別の実施態様によれば、検出モジュールは、電流値、電圧値、又は抵抗値をそれぞれ抵抗閾値、電流閾値、又は電圧閾値と比較し、そして抵抗値、電流値、又は電圧値が相応する抵抗閾値、電流閾値、又は電圧閾値以下であるならば、スクレーパの存在を検出する。これは、測定された磁界値が磁界閾値以上であるというのと同等のことである。

【0202】

磁気抵抗測定モジュールはよく知られており、多くの用途、例えばハードドライブの読み出しに使用されている。

【0203】

なお、センサ１１０は別個の測定モジュール及び検出モジュールを有するものとして上述されているが、これら２つのモジュールが組み合わされた実施態様も可能である。

【0204】

磁界値を測定するセンサ１１０を使用することにより、機械的な検出デバイスの通過を可能にするためにエンベロープ２４に付加的な開口を設ける必要なしに、第１磁石５０の存在を利用して、スクレーパ２０の存在が検出されるのを可能にする。従って漏れのリスクが低減される。

【0205】

さらに、磁気センサの使用は爆発性雰囲気内での作業と相容れないものではない。

【0206】

測定値を閾値と比較することにより、スクレーパ２０の存在を最小限の数学的処理によって容易に検出することができる。磁石５０，７０の場合のように、２つの磁石が互いに近接して配置され、同じ符号のこれらの極が互いに向き合っているときには、磁石５０，７０の間のギャップ１１５における磁界値は、磁石５０，７０のうちの一方だけが存在する場合に同じ位置で測定された値と比較して、磁石５０，７０からの距離が比較的大きくても著しく増大する。換言すれば、磁力線は中間空間１１５において磁石５０，７０から遠ざけられる。

【0207】

従って、測定位置が２つの磁石５０，７０の間に介在する平面Ｐに属する場合、第２磁石７０から比較的大きな距離を置いてセンサ１１０を位置決めすることにより保管容積６０，６０Ａ内のスクレーパ２０の存在を検出し、ひいてはスクレーパ２０の存在しない場合にセンサ１１０が第１磁石７０を検出するのを回避することが可能である。この場合、誤判定のリスクが低減されるため、スクレーパ２０の検出はより正確になる。

【0208】

本発明は上述の実施態様のあらゆる技術的に可能な組み合わせに相応する。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】