特許7595573真空処理装置、および、少なくとも１つの基板の真空プラズマ処理または基板の製造のための方法

発明の名称　真空処理装置、および、少なくとも１つの基板の真空プラズマ処理または基板の製造のための方法

出願人　エヴァテック・アーゲー　（識別番号 518031387）

　　　　特許公開件数ランキング 13870 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 3848 位（1件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7595573

公報発行日　2024年12月6

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7595573

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