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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-11-29
(45)【発行日】2024-12-09
(54)【発明の名称】電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
(51)【国際特許分類】
G03G 5/05 20060101AFI20241202BHJP
G03G 5/147 20060101ALI20241202BHJP
【ＦＩ】
G03G5/05 101
G03G5/05 104A
G03G5/147 502
G03G5/147 503
【請求項の数】
8
(21)【出願番号】P 2022188615
(22)【出願日】2022-11-25
(65)【公開番号】P2024076829
(43)【公開日】2024-06-06
【審査請求日】2023-11-20
(73)【特許権者】
【識別番号】000001007
【氏名又は名称】キヤノン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100094112
【弁理士】
【氏名又は名称】岡部 讓
(74)【代理人】
【識別番号】100101498
【弁理士】
【氏名又は名称】越智 隆夫
(74)【代理人】
【識別番号】100106183
【弁理士】
【氏名又は名称】吉澤 弘司
(74)【代理人】
【識別番号】100136799
【弁理士】
【氏名又は名称】本田 亜希
(72)【発明者】
【氏名】石塚 由香
(72)【発明者】
【氏名】樋山 史幸
(72)【発明者】
【氏名】榊原 彰
(72)【発明者】
【氏名】西田 孟
(72)【発明者】
【氏名】三浦 大祐
【審査官】塚田 剛士
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１４－０９５８６７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－１２２０３６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－１６４６５２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－１６４６５１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０３Ｇ ５／０５
Ｇ０３Ｇ ５／１４７
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有する電子写真感光体であって、該ポリアリレートが、下記式（１－１）で示される構造単位、下記式（１－２）で示される構造単位及び下記式（１－３）で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位を有し、
該ポリカーボネートが、下記式（２－１）で示される構造単位を有する
ことを特徴とする電子写真感光体。
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】
【請求項2】
前記表面層が、前記式（２－１）で示される構造単位を５ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下含有する請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項3】
前記ポリカーボネートが、前記式（２－１）で示される構造単位を２０ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下含有する請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項4】
ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有する電子写真感光体であって、該表面層から回収された高分子成分の成分分析において、
該ポリアリレートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍ及び２．３５±０．０２ｐｐｍにピークを有し、
該ポリカーボネートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍにピークを有することを特徴とする電子写真感光体。
【請求項5】
前記表面層が、シリカ微粒子を含有する請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項6】
前記シリカ微粒子の体積平均粒径が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下である請求項５に記載の電子写真感光体。
【請求項7】
請求項１～６のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選ばれた少なくとも１つの手段と、を一体に支持し、電子写真装置の本体に着脱自在であるプロセスカートリッジ。
【請求項8】
請求項１～６のいずれか１項に記載の電子写真感光体、並びに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有する電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
【背景技術】
【0002】
電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置において、長期使用時における画質向上のために、これまで幅広い検討がなされてきた。
その一例として、特許文献１には、感光層に、特定骨格を有するポリアリレートとポリカーボネートとを含有する電子写真感光体（以下、「感光体」ともいう。）が、感光体への負荷に対する耐摩耗性、耐傷性を向上させることができることに関し記載されている。しかし、層内において２種類の樹脂は、均一に分散され難いためと推察しているが、表面に微細な凹凸が形成されている。この構造は、外部物質との接触面積を減少させるように機能していると推察している。
その一例として、特許文献１には、感光層に、特定骨格を有するポリアリレートとポリカーボネートとを含有する電子写真感光体（以下、「感光体」ともいう。）が、感光体への負荷に対する耐摩耗性、耐傷性を向上させることができることに関し記載されている。しかし、層内において２種類の樹脂は、均一に分散され難いためと推察しているが、表面に微細な凹凸が形成されている。この構造は、外部物質との接触面積を減少させるように機能していると推察している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特許第０４８６２６６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、発明者らが、特許文献１に記載の感光体を用いて、低温低湿環境下で長期使用を行ったところ、傷起因によるスジ状の画像弊害が発生した。この原因は、感光体の表面層との接触部材との擦れ部において、トナーに含まれる外添剤、紙粉、又はその他硬い異物が、接触部材にはさまり、それを起点として、傷が発生することがわかった。この現象が低温低湿環境下で見られた理由は、低温の影響で接触部材自体が硬くなったことが原因の一つと考えている。
そこで、発明者らは、電子写真感光体の表面層を構成する樹脂に着目した結果、特定構造を有するポリアリレート及びポリカーボネートを混合した表面層を用いることで、外的な衝撃に対する耐傷性が向上することを見出し、本発明に至った。
そこで、発明者らは、電子写真感光体の表面層を構成する樹脂に着目した結果、特定構造を有するポリアリレート及びポリカーボネートを混合した表面層を用いることで、外的な衝撃に対する耐傷性が向上することを見出し、本発明に至った。
【0005】
したがって、本発明の目的は、外的な衝撃に対して、高い耐傷性を有する樹脂を選択し、画像弊害を抑制した電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記の目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明の第一の態様は、ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有する電子写真感光体であって、
該ポリアリレートが、下記式（１－１）で示される構造単位、下記式（１－２）で示される構造単位及び下記式（１－３）で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位を有し、
該ポリカーボネートが、下記式（２－１）で示される構造単位を有することを特徴とする電子写真感光体である。
該ポリアリレートが、下記式（１－１）で示される構造単位、下記式（１－２）で示される構造単位及び下記式（１－３）で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位を有し、
該ポリカーボネートが、下記式（２－１）で示される構造単位を有することを特徴とする電子写真感光体である。
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】
【0007】
また、第二の態様は、ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有する電子写真感光体であって、
該表面層から回収された高分子成分の成分分析において、
該ポリアリレートが
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍ及び２．３５±０．０２ｐｐｍにピークを有し、
該ポリカーボネートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍにピークを有することを特徴とする電子写真感光体である。
該表面層から回収された高分子成分の成分分析において、
該ポリアリレートが
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍ及び２．３５±０．０２ｐｐｍにピークを有し、
該ポリカーボネートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍにピークを有することを特徴とする電子写真感光体である。
【0008】
また、本発明に係るプロセスカートリッジは、前記電子写真感光体と、帯電手段及び現像手段からなる群より選ばれた少なくとも１つの手段と、を一体に支持し、電子写真装置の本体に着脱自在であるプロセスカートリッジである。
【0009】
また、本発明の電子写真装置は、前記電子写真感光体、並びに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有する電子写真装置である。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、電子写真感光体の表面層が、高い耐傷性を有するため、低温低湿環境下における長期使用を通して、スジ状の画像弊害を抑制できる電子写真感光体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、好適な実施の形態を挙げて、本開示を詳細に説明する。
本発明の第一の態様において、ポリアリレートが、上記式（１－１）で示される構造単位、上記式（１－２）で示される構造単位及び上記式（１－３）で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位を有していて、かつポリカーボネートが上記式（２－１）で示される構造単位を有することで、表面層の耐傷性が向上する。
本発明の第一の態様において、ポリアリレートが、上記式（１－１）で示される構造単位、上記式（１－２）で示される構造単位及び上記式（１－３）で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位を有していて、かつポリカーボネートが上記式（２－１）で示される構造単位を有することで、表面層の耐傷性が向上する。
【0013】
発明者らは、理由を以下のように推測している。
一般的に、印刷時、感光体の表面層と、紙又は当接している部材等の接触部材との間で、硬い異物が挟まれて、表面層が外的衝撃を受けることで傷になるとされている。この時の外的衝撃の受け方として２つの作用がある。１つめは、外的衝撃により表面層に対して、平行方向に表面層の表面が徐々に擦れることによって傷となる作用と、２つめは、外的衝撃により垂直方向に瞬間的に穴が発生し、成長して傷となる作用がある。
本発明に係るポリアリレートは、平行方向での擦れによる耐傷性に対しては本発明に係るポリカーボネートよりも強いが、垂直方向の衝撃に対しては本発明に係るポリカーボネートよりも弱い。一方、本発明のポリカーボネートは、平行方向での擦れによる耐傷性に対しては本発明に係るポリアリレートよりも弱いが、垂直方向の衝撃に対しては本発明に係るポリアリレートより強い。更に、本発明の電子写真感光体は、表面層に本発明に係るポリアリレート及びポリカーボネートを含有することで、芳香環についたメチル基の作用で、樹脂間の絡まりが高まり、外的衝撃を吸収でき、耐傷性をより一層高めていると推測している。よって、総合的に外的衝撃に対して、強い表面層となり、高い耐傷性を示すと推測している。
一般的に、印刷時、感光体の表面層と、紙又は当接している部材等の接触部材との間で、硬い異物が挟まれて、表面層が外的衝撃を受けることで傷になるとされている。この時の外的衝撃の受け方として２つの作用がある。１つめは、外的衝撃により表面層に対して、平行方向に表面層の表面が徐々に擦れることによって傷となる作用と、２つめは、外的衝撃により垂直方向に瞬間的に穴が発生し、成長して傷となる作用がある。
本発明に係るポリアリレートは、平行方向での擦れによる耐傷性に対しては本発明に係るポリカーボネートよりも強いが、垂直方向の衝撃に対しては本発明に係るポリカーボネートよりも弱い。一方、本発明のポリカーボネートは、平行方向での擦れによる耐傷性に対しては本発明に係るポリアリレートよりも弱いが、垂直方向の衝撃に対しては本発明に係るポリアリレートより強い。更に、本発明の電子写真感光体は、表面層に本発明に係るポリアリレート及びポリカーボネートを含有することで、芳香環についたメチル基の作用で、樹脂間の絡まりが高まり、外的衝撃を吸収でき、耐傷性をより一層高めていると推測している。よって、総合的に外的衝撃に対して、強い表面層となり、高い耐傷性を示すと推測している。
【0014】
次に、本開示の一形態に係る電子写真感光体について具体的に説明する。
［電子写真感光体］
本発明の電子写真感光体は、表面層を有する。図１は、電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図１中、支持体１０１上に、下引き層１０２、電荷発生層１０３及び電荷輸送層（表面層）１０４がこの順に積層されている。
該電子写真感光体を製造する方法としては、後述する各層の塗布液を調製し、所望の層の順番に塗布して、乾燥させる方法が挙げられる。このとき、塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、インクジェット塗布、ロール塗布、ダイ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、ワイヤーバー塗布、リング塗布などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布が好ましい。
以下、各層について説明する。
［電子写真感光体］
本発明の電子写真感光体は、表面層を有する。図１は、電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図１中、支持体１０１上に、下引き層１０２、電荷発生層１０３及び電荷輸送層（表面層）１０４がこの順に積層されている。
該電子写真感光体を製造する方法としては、後述する各層の塗布液を調製し、所望の層の順番に塗布して、乾燥させる方法が挙げられる。このとき、塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、インクジェット塗布、ロール塗布、ダイ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、ワイヤーバー塗布、リング塗布などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布が好ましい。
以下、各層について説明する。
【0015】
＜支持体＞
支持体は導電性を有する支持体であることが好ましい。また、支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状などが挙げられる。中でも、円筒状支持体であることが好ましい。また、支持体の外表面に、陽極酸化などの電気化学的な処理を施し酸化被膜を作る、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。支持体の材質としては、金属、樹脂、ガラスなどが好ましい。
金属としては、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金、ステンレスや、これらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウムを用いたアルミニウム製支持体であることが好ましく、より好ましくは、外表面に酸化被膜を有するアルミニウム合金である。酸化被膜を有することにより支持体からの電荷の注入を抑制できるため、帯電の安定性が高い。
また、樹脂やガラスに、導電性材料を混合又は被覆するなどの処理によって、導電性を付与してもよい。
支持体は導電性を有する支持体であることが好ましい。また、支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状などが挙げられる。中でも、円筒状支持体であることが好ましい。また、支持体の外表面に、陽極酸化などの電気化学的な処理を施し酸化被膜を作る、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。支持体の材質としては、金属、樹脂、ガラスなどが好ましい。
金属としては、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金、ステンレスや、これらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウムを用いたアルミニウム製支持体であることが好ましく、より好ましくは、外表面に酸化被膜を有するアルミニウム合金である。酸化被膜を有することにより支持体からの電荷の注入を抑制できるため、帯電の安定性が高い。
また、樹脂やガラスに、導電性材料を混合又は被覆するなどの処理によって、導電性を付与してもよい。
【0016】
＜導電層＞
支持体の上に、導電層を設けてもよい。導電層を設けることで、支持体の表面の傷や凹凸を隠蔽することや、支持体の表面における光の反射を制御することができる。
導電層は、導電性粒子と、樹脂と、を含有することが好ましい。
導電性粒子の材質としては、金属酸化物、金属、カーボンブラックなどが挙げられる。
金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマスなどが挙げられる。金属としては、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などが挙げられる。
これらの中でも、導電性粒子として、金属酸化物を用いることが好ましく、特に、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛を用いることがより好ましい。
導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、金属酸化物の表面をシランカップリング剤などで処理したり、金属酸化物にリンやアルミニウムなど元素やその酸化物をドーピングしたりしてもよい。
また、導電性粒子は、芯材粒子と、その粒子を被覆する被覆層とを有する積層構成としてもよい。芯材粒子としては、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛などが挙げられる。被覆層としては、酸化スズなどの金属酸化物が挙げられる。
また、導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、その体積平均粒径が、１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、３ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることがより好ましい。
支持体の上に、導電層を設けてもよい。導電層を設けることで、支持体の表面の傷や凹凸を隠蔽することや、支持体の表面における光の反射を制御することができる。
導電層は、導電性粒子と、樹脂と、を含有することが好ましい。
導電性粒子の材質としては、金属酸化物、金属、カーボンブラックなどが挙げられる。
金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマスなどが挙げられる。金属としては、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などが挙げられる。
これらの中でも、導電性粒子として、金属酸化物を用いることが好ましく、特に、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛を用いることがより好ましい。
導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、金属酸化物の表面をシランカップリング剤などで処理したり、金属酸化物にリンやアルミニウムなど元素やその酸化物をドーピングしたりしてもよい。
また、導電性粒子は、芯材粒子と、その粒子を被覆する被覆層とを有する積層構成としてもよい。芯材粒子としては、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛などが挙げられる。被覆層としては、酸化スズなどの金属酸化物が挙げられる。
また、導電性粒子として金属酸化物を用いる場合、その体積平均粒径が、１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、３ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0017】
樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられる。
また、導電層は、シリコーンオイル、樹脂粒子、酸化チタンなどの隠蔽剤などを更に含有してもよい。
導電層の平均膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上４０μｍ以下であることが特に好ましい。
導電層は、上記の各材料及び溶剤を含有する導電層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。導電層用塗布液中で導電性粒子を分散させるための分散方法としては、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。
また、導電層は、シリコーンオイル、樹脂粒子、酸化チタンなどの隠蔽剤などを更に含有してもよい。
導電層の平均膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上４０μｍ以下であることが特に好ましい。
導電層は、上記の各材料及び溶剤を含有する導電層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。導電層用塗布液中で導電性粒子を分散させるための分散方法としては、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。
【0018】
＜下引き層＞
支持体又は導電層の上に、下引き層を設けてもよい。下引き層を設けることで、層間の接着機能が高まり、電荷注入阻止機能を付与することができる。
下引き層は、樹脂を含有することが好ましい。また、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで硬化膜として下引き層を形成してもよい。
樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、アルキッド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリプロピレンオキシド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、セルロース樹脂などが挙げられる。
重合性官能基を有するモノマーが有する重合性官能基としては、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、メチロール基、アルキル化メチロール基、エポキシ基、金属アルコキシド基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、カルボン酸無水物基、炭素－炭素二重結合基などが挙げられる。
支持体又は導電層の上に、下引き層を設けてもよい。下引き層を設けることで、層間の接着機能が高まり、電荷注入阻止機能を付与することができる。
下引き層は、樹脂を含有することが好ましい。また、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで硬化膜として下引き層を形成してもよい。
樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、アルキッド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリプロピレンオキシド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、セルロース樹脂などが挙げられる。
重合性官能基を有するモノマーが有する重合性官能基としては、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、メチロール基、アルキル化メチロール基、エポキシ基、金属アルコキシド基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、カルボン酸無水物基、炭素－炭素二重結合基などが挙げられる。
【0019】
また、下引き層は、電気特性を高める目的で、電子輸送物質、金属酸化物、金属、導電性高分子などを更に含有してもよい。これらの中でも、電子輸送物質、金属酸化物を用いることが好ましい。
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。電子輸送物質として、重合性官能基を有する電子輸送物質を用い、上記の重合性官能基を有するモノマーと共重合させることで、硬化膜として下引き層を形成してもよい。
金属酸化物としては、酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素などが挙げられる。金属としては、金、銀、アルミなどが挙げられる。
また、下引き層は、添加剤を更に含有してもよい。
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。電子輸送物質として、重合性官能基を有する電子輸送物質を用い、上記の重合性官能基を有するモノマーと共重合させることで、硬化膜として下引き層を形成してもよい。
金属酸化物としては、酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素などが挙げられる。金属としては、金、銀、アルミなどが挙げられる。
また、下引き層は、添加剤を更に含有してもよい。
【0020】
下引き層の平均膜厚は、０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以上３０μｍ以下であることが特に好ましい。
下引き層は、上記の各材料及び溶剤を含有する下引き層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥及び／又は硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
下引き層は、上記の各材料及び溶剤を含有する下引き層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥及び／又は硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【0021】
＜感光層＞
電子写真感光体の感光層は、支持体、導電層若しくは下引き層上に設けられ、主に、（１）積層型感光層と、（２）単層型感光層とに分類される。（１）積層型感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、を有する。（２）単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を共に含有する感光層を有する。
電子写真感光体の感光層は、支持体、導電層若しくは下引き層上に設けられ、主に、（１）積層型感光層と、（２）単層型感光層とに分類される。（１）積層型感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、を有する。（２）単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を共に含有する感光層を有する。
【0022】
（１）積層型感光層
積層型感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層と、を有する。
積層型感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層と、を有する。
【0023】
（１－１）電荷発生層
電荷発生層は、電荷発生物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン顔料、クロロガリウムフタロシアニン顔料、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が好ましい。
電荷発生層中の電荷発生物質の含有量は、電荷発生層の全質量に対して、４０質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。
樹脂としては、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルブチラール樹脂がより好ましい。
また、電荷発生層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤を更に含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、などが挙げられる。
電荷発生層は、電荷発生物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン顔料、クロロガリウムフタロシアニン顔料、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が好ましい。
電荷発生層中の電荷発生物質の含有量は、電荷発生層の全質量に対して、４０質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。
樹脂としては、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルブチラール樹脂がより好ましい。
また、電荷発生層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤を更に含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、などが挙げられる。
【0024】
電荷発生層の平均膜厚は、０．１μｍ以上０．８μｍ以下であることが好ましく、０．１５μｍ以上０．４μｍ以下であることがより好ましい。
電荷発生層は、上記の各材料及び溶剤を含有する電荷発生層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
電荷発生層は、上記の各材料及び溶剤を含有する電荷発生層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【0025】
（１－２）電荷輸送層
電荷輸送層は、電荷輸送物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が黒ポチの発生の抑制効果が高いため好ましい。
電荷輸送層は、電荷輸送物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が黒ポチの発生の抑制効果が高いため好ましい。
【0026】
以下に、好ましい電荷輸送物質を示す。
【表1】
【0027】
電荷輸送層中の電荷輸送物質の含有量は、電荷輸送層の全質量に対して、２５質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上５５質量％以下であることがより好ましい。
樹脂としては、ポリアリレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。電荷輸送層が表面層となる場合、これらの中でも、本発明に係る構造を有するポリアリレート及びポリカーボネートを含有することが耐傷性の観点から必要である。
樹脂としては、ポリアリレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。電荷輸送層が表面層となる場合、これらの中でも、本発明に係る構造を有するポリアリレート及びポリカーボネートを含有することが耐傷性の観点から必要である。
【0028】
以下に、本発明の第一の態様で使用する樹脂を示す。
ポリアリレートが、下記式（１－１）で示される構造単位、下記式（１－２）で示される構造単位及びび下記式（１－３）で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位を有し、
ポリカーボネートが、下記式（２－１）で示される構造単位を有する。
ポリアリレートが、下記式（１－１）で示される構造単位、下記式（１－２）で示される構造単位及びび下記式（１－３）で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位を有し、
ポリカーボネートが、下記式（２－１）で示される構造単位を有する。
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【0029】
本発明に係る表面層において、好ましくは、前記式（２－１）で示される構造単位を５ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下含有することが耐傷性の観点で好ましく、樹脂間の絡まりが増えて、耐傷性が向上する。
更に、本発明に係るポリカーボネートが、前記式（２－１）で示される構造単位を２０ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下含有することで、より一層樹脂間の絡まりが増えて、耐傷性が向上する。
更に、本発明に係るポリカーボネートが、前記式（２－１）で示される構造単位を２０ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下含有することで、より一層樹脂間の絡まりが増えて、耐傷性が向上する。
【0030】
また本発明の第二の態様は、ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有する電子写真感光体であって、
該表面層から回収された高分子成分の成分分析において、
該ポリアリレートが
水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、トータルイオンクロマトグラム（ＴＩＣ）が、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍ及び２．３５±０．０２ｐｐｍにピークを有し、
該ポリカーボネートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍにピークを有する。
該表面層から回収された高分子成分の成分分析において、
該ポリアリレートが
水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、トータルイオンクロマトグラム（ＴＩＣ）が、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍ及び２．３５±０．０２ｐｐｍにピークを有し、
該ポリカーボネートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍにピークを有する。
【0031】
トータルイオンクロマトグラム（ＴＩＣ）が、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍにピークを有することは、上記式（２－１）の構造単位を有することを示す。
【0032】
また、トータルイオンクロマトグラム（ＴＩＣ）が、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．３５±０．０２ｐｐｍにピークを有することは、下記式（２－２）の構造単位を有することを示す。
【化9】
【0033】
したがって、上記スペクトルを有する場合、ポリアリレートが少なくとも上記式（２－１）及び式（２－２）の構造を含有していることを示し、ポリカーボネートが少なくとも式（２－１）の構造を含有していることを示している。
【0034】
尚、本発明の感光体の表面層が式（１－３）で示されるポリアリレートを含有する場合も、上記スペクトルを示すため、ポリカーボネートとポリアリレート両者が混ざったスペクトルとなる。
【0035】
電子写真感光体が、ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有し、ポリアリレートとポリカーボネートが上記特有のスペクトルを有することで、表面層の耐傷性が向上する。ポリアリレートが上記式（２－１）の構造部分とそれに類似する構造部分を骨格とし、ポリカーボネートが共通の上記式（２－１）の構造部分を有することにより樹脂間の絡まりが高まり、外的衝撃を吸収でき、耐傷性をより一層高めていると推測している。
具体的な表面層の分析手法を以下に説明する。
具体的な表面層の分析手法を以下に説明する。
【0036】
■感光体表面層中の樹脂の再沈
・感光体を切る
感光体端部から母線方向１０ｃｍの位置で糸鋸を用いて切る。
・切り出した１０ｃｍのドラム内面を洗う
クロロホルムを浸み込ませたシルボン紙を使ってシリンダー内面を拭き取る。
・表面層を溶出する
切口側のドラム端部３ｃｍ分をクロロホルムに浸漬する。
（１００ｍＬビーカーにクロロホルム約６０ｃｃを入れ、常温で５分浸漬する。）
・濃縮する（濃厚液化）
ロータリーエバポレーターで濃縮を行い、２ｍＬまで濃縮し、停止する。
・再沈する
メタノール／アセトン混合液（体積比１：１）５０ｍＬを用意し、攪拌しながら上記濃厚液を全量滴下する。
・濾過する
桐山ロートで吸引濾過を行う。
（ロート：ＳＵ－４０、濾紙：Ｎｏ．５Ｃ－４０ いずれも（有）桐山製作所製）
・乾燥する
濾紙上の残渣をスパチュラで回収して真空乾燥する（７０℃１時間）
・感光体を切る
感光体端部から母線方向１０ｃｍの位置で糸鋸を用いて切る。
・切り出した１０ｃｍのドラム内面を洗う
クロロホルムを浸み込ませたシルボン紙を使ってシリンダー内面を拭き取る。
・表面層を溶出する
切口側のドラム端部３ｃｍ分をクロロホルムに浸漬する。
（１００ｍＬビーカーにクロロホルム約６０ｃｃを入れ、常温で５分浸漬する。）
・濃縮する（濃厚液化）
ロータリーエバポレーターで濃縮を行い、２ｍＬまで濃縮し、停止する。
・再沈する
メタノール／アセトン混合液（体積比１：１）５０ｍＬを用意し、攪拌しながら上記濃厚液を全量滴下する。
・濾過する
桐山ロートで吸引濾過を行う。
（ロート：ＳＵ－４０、濾紙：Ｎｏ．５Ｃ－４０ いずれも（有）桐山製作所製）
・乾燥する
濾紙上の残渣をスパチュラで回収して真空乾燥する（７０℃１時間）
【0037】
■熱分解ＧＣＭＳ
装置構成：熱分解装置＋ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）装置＋質量分析（ＭＳ）装置
熱分解装置：日本分析工業（株）社製 ＪＰＳ－７００
ＧＣ装置：サーモフィッシャーサイエンティフィック（株）社製 ＦＯＣＵＳ－ＧＣ
ＭＳ装置：サーモフィッシャーサイエンティフィック（株）社製 ＩＳＱ
サンプル量：０．１ｍｇ（ＴＭＡＨ（多摩化学工業（株）製）含有）
熱分解温度：５９０℃（日本分析工業（株）社製 パイロホイル Ｆ５９０使用）
カラム：「ＨＰ５－ＭＳ」（アジレントテクノロジー（株）社製 １９０９１Ｓ－４３３、長さ３０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）
ＧＣ注入口条件：
Ｉｎｌｅｔ Ｔｅｍｐ：２５０℃
Ｓｐｌｉｔ Ｆｌｏｗ：５０ｍＬ／ｍｉｎ
ＧＣ昇温条件：４０℃（５ｍｉｎ）→１０℃／ｍｉｎ（３００℃）→３００℃（２０ｍｉｎ）
ＭＳ条件：
Ｉｏｎ Ｓｏｕｒｃｅ Ｔｅｍｐ：２００℃
ＭＳ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｌｉｎｅ Ｔｅｍｐ：２５０℃
装置構成：熱分解装置＋ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）装置＋質量分析（ＭＳ）装置
熱分解装置：日本分析工業（株）社製 ＪＰＳ－７００
ＧＣ装置：サーモフィッシャーサイエンティフィック（株）社製 ＦＯＣＵＳ－ＧＣ
ＭＳ装置：サーモフィッシャーサイエンティフィック（株）社製 ＩＳＱ
サンプル量：０．１ｍｇ（ＴＭＡＨ（多摩化学工業（株）製）含有）
熱分解温度：５９０℃（日本分析工業（株）社製 パイロホイル Ｆ５９０使用）
カラム：「ＨＰ５－ＭＳ」（アジレントテクノロジー（株）社製 １９０９１Ｓ－４３３、長さ３０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）
ＧＣ注入口条件：
Ｉｎｌｅｔ Ｔｅｍｐ：２５０℃
Ｓｐｌｉｔ Ｆｌｏｗ：５０ｍＬ／ｍｉｎ
ＧＣ昇温条件：４０℃（５ｍｉｎ）→１０℃／ｍｉｎ（３００℃）→３００℃（２０ｍｉｎ）
ＭＳ条件：
Ｉｏｎ Ｓｏｕｒｃｅ Ｔｅｍｐ：２００℃
ＭＳ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｌｉｎｅ Ｔｅｍｐ：２５０℃
【0038】
■ＮＭＲ測定
・測定試料調製
サンプル２０ｍｇを基準物質テトラメチルシラン入りの重クロロホルム１ｇに溶解し、全量ＮＭＲチューブへ移す。
（重クロロホルム：シグマアルドリッチジャパン（株）製、クロロホルム－ｄ、型番６１２２００）
（ＮＭＲチューブ：Ｎｏｒｅｌｌ社製、ＳＴ５００－７、型番Ｓ３０１０）
・ＮＭＲ測定
装置：ブルカー社製、ＡＶＡＮＣＥ５００
条件：プロトンＮＭＲ、ＩＣＯＮ－ＮＭＲによる自動測定
積算回数：３２回
基準ピーク：テトラメチルシランのメチル基ピークを０ｐｐｍとする。
■ポリアリレートとポリカーボネートの分取
感光体表面層中の樹脂を再沈させた成分をサイズ排除クロマトグラフィーや高速液体クロマトグラフィーのような成分を分離回収可能な分取装置で、樹脂を分取する。
・測定試料調製
サンプル２０ｍｇを基準物質テトラメチルシラン入りの重クロロホルム１ｇに溶解し、全量ＮＭＲチューブへ移す。
（重クロロホルム：シグマアルドリッチジャパン（株）製、クロロホルム－ｄ、型番６１２２００）
（ＮＭＲチューブ：Ｎｏｒｅｌｌ社製、ＳＴ５００－７、型番Ｓ３０１０）
・ＮＭＲ測定
装置：ブルカー社製、ＡＶＡＮＣＥ５００
条件：プロトンＮＭＲ、ＩＣＯＮ－ＮＭＲによる自動測定
積算回数：３２回
基準ピーク：テトラメチルシランのメチル基ピークを０ｐｐｍとする。
■ポリアリレートとポリカーボネートの分取
感光体表面層中の樹脂を再沈させた成分をサイズ排除クロマトグラフィーや高速液体クロマトグラフィーのような成分を分離回収可能な分取装置で、樹脂を分取する。
【0039】
電荷輸送物質と樹脂との含有量比は、質量比で４：１０～２０：１０が好ましく、５：１０～１０：１０がより好ましい。
【0040】
また、電荷輸送層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤などの添加剤を含有してもよい。
具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂微粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、窒化ホウ素微粒子などが挙げられる。これらの中でも、シリカ微粒子が耐傷性の観点で好ましく、体積平均粒径が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることが本発明の電荷輸送層において、外的衝撃を吸収しやすく、傷を抑制できる。
具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂微粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、窒化ホウ素微粒子などが挙げられる。これらの中でも、シリカ微粒子が耐傷性の観点で好ましく、体積平均粒径が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることが本発明の電荷輸送層において、外的衝撃を吸収しやすく、傷を抑制できる。
【0041】
電荷輸送層の平均膜厚は、５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下であることが特に好ましい。
電荷輸送層は、上記の各材料及び溶剤を含有する電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤又は芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。
電荷輸送層は、上記の各材料及び溶剤を含有する電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤又は芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。
【0042】
■体積平均粒径
粒子の体積平均粒径の測定方法は、以下のとおりである。
層中から粒子を分離し、このシリカ粒子の一次粒子１００個をＳＥＭ（走査型顕微鏡）により１００，０００倍で観察し、一次粒子ごとの最長径、最短径を測定し、この中間値から球相当径を測定する。得られた球相当径の累積頻度における５０％径（Ｄ５０ｖ）を求め、これを粒子の体積平均粒径とした。
粒子の体積平均粒径の測定方法は、以下のとおりである。
層中から粒子を分離し、このシリカ粒子の一次粒子１００個をＳＥＭ（走査型顕微鏡）により１００，０００倍で観察し、一次粒子ごとの最長径、最短径を測定し、この中間値から球相当径を測定する。得られた球相当径の累積頻度における５０％径（Ｄ５０ｖ）を求め、これを粒子の体積平均粒径とした。
【0043】
（２）単層型感光層
単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂及び溶剤を含有する感光層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂としては、上記「（１）積層型感光層」における材料の例示と同様である。
単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂及び溶剤を含有する感光層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂としては、上記「（１）積層型感光層」における材料の例示と同様である。
【0044】
＜保護層＞
保護層が表面層の場合は、本発明に係る樹脂を含有する。
保護層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐傷/耐摩耗性向上剤、重合反応開始剤などの添加剤を含有してもよい。
具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂微粒子、ポリスチレン樹脂微粒子、ポリエチレン樹脂微粒子、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、窒化ホウ素微粒子、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムなどが挙げられる。これらの中でも、シリカ微粒子が耐傷性の観点で好ましく、体積平均粒径が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることが本発明の保護層において、外的衝撃を吸収しやすく、傷を抑制できる。
保護層が表面層の場合は、本発明に係る樹脂を含有する。
保護層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐傷/耐摩耗性向上剤、重合反応開始剤などの添加剤を含有してもよい。
具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂微粒子、ポリスチレン樹脂微粒子、ポリエチレン樹脂微粒子、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、窒化ホウ素微粒子、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムなどが挙げられる。これらの中でも、シリカ微粒子が耐傷性の観点で好ましく、体積平均粒径が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることが本発明の保護層において、外的衝撃を吸収しやすく、傷を抑制できる。
【0045】
更に、シロキサン樹脂あるいは電荷輸送物質を添加することができる。電荷輸送物質としては、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物、トリアリルメタン化合物などが挙げられる。保護層の平均膜厚は、０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上７μｍ以下であることが好ましい。上記各層の塗布液を塗布する際は、浸漬塗布法（ディッピング法）、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、ビームコーティング法などの塗布方法を用いることができる。
【0046】
［プロセスカートリッジ及び電子写真装置］
本開示の一態様に係るプロセスカートリッジは、これまで述べてきた電子写真感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とする。
また、本開示の一態様に係る電子写真装置は、少なくとも電子写真感光体と帯電部材とを有するプロセスカートリッジと、露光手段、現像手段及び転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを有することを特徴とする。
本開示の一態様に係るプロセスカートリッジは、これまで述べてきた電子写真感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とする。
また、本開示の一態様に係る電子写真装置は、少なくとも電子写真感光体と帯電部材とを有するプロセスカートリッジと、露光手段、現像手段及び転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを有することを特徴とする。
【0047】
図２に、プロセスカートリッジ２１とプロセスカートリッジ２１を有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
円筒状の電子写真感光体１１は、軸１２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。電子写真感光体１１の表面は、帯電手段１３により、正又は負の所定電位に帯電される。尚、本実施形態においては、帯電手段１３はローラー型の帯電部材によるローラー帯電方式を採用してもよい。帯電された電子写真感光体１１の表面には、露光手段（不図示）から露光光１４が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。電子写真感光体１１の表面に形成された静電潜像は、現像手段１５に収容されたトナーを供給することで現像され、電子写真感光体１１の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体１１の表面に形成されたトナー像は、転写手段１６により、転写材１７に転写される。トナー像が転写された転写材１７は、定着手段１８へ搬送され、トナー像の定着処理を受け、電子写真装置の外へプリントアウトされる。電子写真装置は、転写後の電子写真感光体１１の表面に残ったトナーなどの付着物を除去するための、クリーニング手段１９を有していてもよい。クリーニング手段はウレタン樹脂を有するクリーニングブレードであることが好ましい。また、クリーニング手段を別途設けず、上記付着物を現像手段などで除去する、所謂、クリーナーレスシステムを用いてもよい。電子写真装置は、電子写真感光体１１の表面を、前露光手段（不図示）からの前露光光２０により除電処理する除電機構を有していてもよい。また、本開示の一態様に係るプロセスカートリッジ２１を電子写真装置本体に着脱可能にするために、レールなどの案内手段２２を設けてもよい。
円筒状の電子写真感光体１１は、軸１２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。電子写真感光体１１の表面は、帯電手段１３により、正又は負の所定電位に帯電される。尚、本実施形態においては、帯電手段１３はローラー型の帯電部材によるローラー帯電方式を採用してもよい。帯電された電子写真感光体１１の表面には、露光手段（不図示）から露光光１４が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。電子写真感光体１１の表面に形成された静電潜像は、現像手段１５に収容されたトナーを供給することで現像され、電子写真感光体１１の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体１１の表面に形成されたトナー像は、転写手段１６により、転写材１７に転写される。トナー像が転写された転写材１７は、定着手段１８へ搬送され、トナー像の定着処理を受け、電子写真装置の外へプリントアウトされる。電子写真装置は、転写後の電子写真感光体１１の表面に残ったトナーなどの付着物を除去するための、クリーニング手段１９を有していてもよい。クリーニング手段はウレタン樹脂を有するクリーニングブレードであることが好ましい。また、クリーニング手段を別途設けず、上記付着物を現像手段などで除去する、所謂、クリーナーレスシステムを用いてもよい。電子写真装置は、電子写真感光体１１の表面を、前露光手段（不図示）からの前露光光２０により除電処理する除電機構を有していてもよい。また、本開示の一態様に係るプロセスカートリッジ２１を電子写真装置本体に着脱可能にするために、レールなどの案内手段２２を設けてもよい。
【0048】
本開示の一態様に係る電子写真感光体は、レーザービームプリンター、ＬＥＤプリンター、複写機、ファクシミリ、及びこれらの複合機などに用いることができる。
【実施例】
【0049】
以下、実施例及び比較例を用いて本開示に係るプロセスカートリッジ、電子写真装置について更に詳細に説明する。尚、本開示は、下記の実施例によって具現化される構成に何ら限定されるものではない。尚、以下の実施例の記載において、「部」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。
【0050】
＜ポリアリレートＡ１の製造例＞
攪拌装置を備えた反応容器中に、二価フェノール成分として下記構造式（Ｂ－１）１００．００質量部、末端封止剤としてｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）１．７７質量部、アルカリとして水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）３４．６７質量部、重合触媒としてトリ－ｎ－ブチルベンジルアンモニウムクロライド（ＴＢＢＡＣ）の５０質量％水溶液を１．０４質量部、酸化防止剤としてハイドロサルファイトナトリウム０．５０質量部を仕込み、水３３００質量部に溶解させた（水相）。また、これとは別に、塩化メチレン２６００質量部に、下記構造式（Ｂ－２）１２１．７９質量部、を溶解させた（有機相）。
ｍｏｌ比は以下の通りである。
構造式（Ｂ－１）：ＰＴＢＰ：構造式（Ｂ－２）：ＴＢＢＡＣ：ＮａＯＨ
＝１００．００：２．８６：１００．００：０．６８：２１０．００（モル比）。
水相をあらかじめ攪拌しておき、有機相を水相中に強攪拌下で添加し、１５℃で２時間、界面重合法で重合をおこなった。この後、攪拌を停止し、水相と有機相をデカンテーションして分離した。水相を除去した後、塩化メチレン５００質量部、純水３０００質量部と酢酸１０質量部を添加して反応を停止し、１５℃で３０分間攪拌した。その後、有機相を純水で１０回洗浄し、有機相をメタノール中に添加してポリマーを沈殿させた。沈殿させたポリマーを濾過した後、１５０℃真空下で２４時間乾燥し、ポリアリレートＡ１を得た。得られたポリアリレートＡ１の粘度平均分子量は４７，０００であった。
攪拌装置を備えた反応容器中に、二価フェノール成分として下記構造式（Ｂ－１）１００．００質量部、末端封止剤としてｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）１．７７質量部、アルカリとして水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）３４．６７質量部、重合触媒としてトリ－ｎ－ブチルベンジルアンモニウムクロライド（ＴＢＢＡＣ）の５０質量％水溶液を１．０４質量部、酸化防止剤としてハイドロサルファイトナトリウム０．５０質量部を仕込み、水３３００質量部に溶解させた（水相）。また、これとは別に、塩化メチレン２６００質量部に、下記構造式（Ｂ－２）１２１．７９質量部、を溶解させた（有機相）。
ｍｏｌ比は以下の通りである。
構造式（Ｂ－１）：ＰＴＢＰ：構造式（Ｂ－２）：ＴＢＢＡＣ：ＮａＯＨ
＝１００．００：２．８６：１００．００：０．６８：２１０．００（モル比）。
水相をあらかじめ攪拌しておき、有機相を水相中に強攪拌下で添加し、１５℃で２時間、界面重合法で重合をおこなった。この後、攪拌を停止し、水相と有機相をデカンテーションして分離した。水相を除去した後、塩化メチレン５００質量部、純水３０００質量部と酢酸１０質量部を添加して反応を停止し、１５℃で３０分間攪拌した。その後、有機相を純水で１０回洗浄し、有機相をメタノール中に添加してポリマーを沈殿させた。沈殿させたポリマーを濾過した後、１５０℃真空下で２４時間乾燥し、ポリアリレートＡ１を得た。得られたポリアリレートＡ１の粘度平均分子量は４７，０００であった。
【化10】
【化11】
【0051】
＜ポリアリレートＡ２の製造例＞
攪拌装置を備えた反応容器中に、二価フェノール成分として構造式（Ｂ－１）５０．００質量部、下記構造式（Ｂ－３）５０．００質量部、末端封止剤としてｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）１．７７質量部、アルカリとして水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）３４．６７質量部、重合触媒としてトリ－ｎ－ブチルベンジルアンモニウムクロライド（ＴＢＢＡＣ）の５０質量％水溶液を１．０４質量部、酸化防止剤としてハイドロサルファイトナトリウム０．５０質量部を仕込み、水３３００質量部に溶解させた（水相）。また、これとは別に、上記構造式（Ｂ－２）１２１．７９質量部、を溶解させた（有機相）。
ｍｏｌ比は以下の通りである。
構造式（Ｂ－１）：構造式（Ｂ－３）：ＰＴＢＰ：構造式（Ｂ－２）：ＴＢＢＡＣ：ＮａＯＨ
＝５０.００：５０.００： ２．８６：１００．００：０．６８：２１０.００（モル比）。
水相をあらかじめ攪拌しておき、有機相を水相中に強攪拌下で添加し、１５℃で２時間、界面重合法で重合をおこなった。この後、攪拌を停止し、水相と有機相をデカンテーションして分離した。水相を除去した後、塩化メチレン５００質量部、純水３０００質量部と酢酸１０質量部を添加して反応を停止し、１５℃で３０分間攪拌した。その後、有機相を純水で１０回洗浄し、有機相をメタノール中に添加してポリマーを沈殿させた。沈殿させたポリマーを濾過した後、１５０℃真空下で２４時間乾燥し、ポリアリレートＡ２を得た。
得られたポリアリレートＡ２の粘度平均分子量は４８，０００であった。
攪拌装置を備えた反応容器中に、二価フェノール成分として構造式（Ｂ－１）５０．００質量部、下記構造式（Ｂ－３）５０．００質量部、末端封止剤としてｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）１．７７質量部、アルカリとして水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）３４．６７質量部、重合触媒としてトリ－ｎ－ブチルベンジルアンモニウムクロライド（ＴＢＢＡＣ）の５０質量％水溶液を１．０４質量部、酸化防止剤としてハイドロサルファイトナトリウム０．５０質量部を仕込み、水３３００質量部に溶解させた（水相）。また、これとは別に、上記構造式（Ｂ－２）１２１．７９質量部、を溶解させた（有機相）。
ｍｏｌ比は以下の通りである。
構造式（Ｂ－１）：構造式（Ｂ－３）：ＰＴＢＰ：構造式（Ｂ－２）：ＴＢＢＡＣ：ＮａＯＨ
＝５０.００：５０.００： ２．８６：１００．００：０．６８：２１０.００（モル比）。
水相をあらかじめ攪拌しておき、有機相を水相中に強攪拌下で添加し、１５℃で２時間、界面重合法で重合をおこなった。この後、攪拌を停止し、水相と有機相をデカンテーションして分離した。水相を除去した後、塩化メチレン５００質量部、純水３０００質量部と酢酸１０質量部を添加して反応を停止し、１５℃で３０分間攪拌した。その後、有機相を純水で１０回洗浄し、有機相をメタノール中に添加してポリマーを沈殿させた。沈殿させたポリマーを濾過した後、１５０℃真空下で２４時間乾燥し、ポリアリレートＡ２を得た。
得られたポリアリレートＡ２の粘度平均分子量は４８，０００であった。
【化12】
【0052】
＜ポリアリレートＡ３～Ａ１４の製造例＞
ポリアリレートＡ２の製造例に対して、表２に記載の構造（本発明の構造単位に含まれる構成単位）及び比率に変更した以外は、ポリアリレートＡ２の製造例と同様に作製した。
ポリアリレートＡ２の製造例に対して、表２に記載の構造（本発明の構造単位に含まれる構成単位）及び比率に変更した以外は、ポリアリレートＡ２の製造例と同様に作製した。
【0053】
【表2】
【0054】
＜ポリカーボネートＰ１の製造例＞
９．０ｗ／ｗ％の水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液５.４Ｌに、下記構造式（Ｂ－４）６７７．００ｇ（２.５２ｍｏｌ）と下記構造式（Ｂ－５）３６０．３６ｇ（１．６８ｍｏｌ）、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド０．４ｇ、及びハイドロサルファイト５．０ｇを溶解した。これにメチレンクロライド２．４Ｌを加えて撹拌しつつ、１５℃に保ちながら、引き続き、ホスゲン５４０ｇを３０分間で吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、ｐ－ｔ－ブチルフェノール２１ｇを加え、激しく撹拌して、反応液を乳化させ、乳化後、１１ｍｌのトリエチルアミンを加え、温度２０～２５℃にて約１時間撹拌し、重合させた。
重合終了後、反応液を水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和した。洗浄水の導電率が１０μＳ／ｃｍ以下になるまで有機相の水洗を繰り返した。得られた有機相を、６２℃に保った温水に滴下し、溶媒を蒸発除去して白色粉末状沈殿物を得た。得られた沈殿物を濾過し、温度１２０℃、２４時間乾燥して、目的のポリカーボネートＰ１を得た。得られたポリカーボネートの粘度平均分子量は４１，０００であった。
９．０ｗ／ｗ％の水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液５.４Ｌに、下記構造式（Ｂ－４）６７７．００ｇ（２.５２ｍｏｌ）と下記構造式（Ｂ－５）３６０．３６ｇ（１．６８ｍｏｌ）、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド０．４ｇ、及びハイドロサルファイト５．０ｇを溶解した。これにメチレンクロライド２．４Ｌを加えて撹拌しつつ、１５℃に保ちながら、引き続き、ホスゲン５４０ｇを３０分間で吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、ｐ－ｔ－ブチルフェノール２１ｇを加え、激しく撹拌して、反応液を乳化させ、乳化後、１１ｍｌのトリエチルアミンを加え、温度２０～２５℃にて約１時間撹拌し、重合させた。
重合終了後、反応液を水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和した。洗浄水の導電率が１０μＳ／ｃｍ以下になるまで有機相の水洗を繰り返した。得られた有機相を、６２℃に保った温水に滴下し、溶媒を蒸発除去して白色粉末状沈殿物を得た。得られた沈殿物を濾過し、温度１２０℃、２４時間乾燥して、目的のポリカーボネートＰ１を得た。得られたポリカーボネートの粘度平均分子量は４１，０００であった。
【化13】
【化14】
【0055】
粘度平均分子量の測定方法
測定対象である樹脂をジクロロメタンに溶解し、濃度が６．００ｇ／Ｌの溶液を調製する。ウベローデ（Ｕｂｂｅｌｏｈｄｅ）型粘度計を用いて、２５℃における比粘度を測定する。この比粘度から 極限粘度を求め、マーク－ホーウィンク（Ｍａｒｋ－Ｈｏｕｗｉｎｋ）の粘度式のＫ（比例定数部分）とａ（指数部分；αで表記されることもある）をそれぞれ１．２３×１０－４と０．８３として粘度平均分子量を算出した。
測定対象である樹脂をジクロロメタンに溶解し、濃度が６．００ｇ／Ｌの溶液を調製する。ウベローデ（Ｕｂｂｅｌｏｈｄｅ）型粘度計を用いて、２５℃における比粘度を測定する。この比粘度から 極限粘度を求め、マーク－ホーウィンク（Ｍａｒｋ－Ｈｏｕｗｉｎｋ）の粘度式のＫ（比例定数部分）とａ（指数部分；αで表記されることもある）をそれぞれ１．２３×１０－４と０．８３として粘度平均分子量を算出した。
【0056】
＜ポリカーボネートＰ２～Ｐ１２の製造例＞
ポリカーボネートＰ１の製造例に対して、表３に記載の構造単位及び比率に変更した以外は、ポリカーボネートＰ１の製造例と同様に作製した。
ポリカーボネートＰ１の製造例に対して、表３に記載の構造単位及び比率に変更した以外は、ポリカーボネートＰ１の製造例と同様に作製した。
【0057】
【表3】
【0058】
〔実施例１〕
（支持体）
切削された外径２４ｍｍ、長さ２５７ｍｍ、肉厚０．７５ｍｍのアルミニウム合金よりなるシリンダーを支持体とした。
（支持体）
切削された外径２４ｍｍ、長さ２５７ｍｍ、肉厚０．７５ｍｍのアルミニウム合金よりなるシリンダーを支持体とした。
【0059】
（下引き層の形成）
下引き層用分散液は以下のように作製した。平均一次粒径４０ｎｍのルチル型酸化チタン（石原産業社製「ＴＴＯ５５Ｎ」）と、該酸化チタンに対して３質量％のメチルジメトキシシラン（東芝シリコーン社製「ＴＳＬ８１１７」）とを、高速流動式混合混練機（（株）カワタ社製「ＳＭＧ３００」）に投入し、回転周速３４．５ｍ／秒で高速混合して得られた表面処理酸化チタンを、メタノール／１－プロパノールのボールミルにより分散させることにより、疎水化処理酸化チタンの分散スラリーとした。該分散スラリーと、メタノール／１－プロパノール／トルエンの混合溶媒、及び、ε－カプロラクタム［下記式（Ａ）で表される化合物］／ビス（４－アミノ－３－メチルシクロヘキシル）メタン［下記式（Ｂ）で表される化合物］／ヘキサメチレンジアミン［下記式（Ｃ）で表される化合物］／デカメチレンジカルボン酸［下記式（Ｄ）で表される化合物］／オクタデカメチレンジカルボン酸［下記式（Ｅ）で表される化合物］の組成モル比率が、７５％／９．５％／３％／９．５％／３％からなる共重合ポリアミドのペレットとを加熱しながら撹拌、混合してポリアミドペレットを溶解させた後、超音波分散処理を行うことにより、メタノール／１－プロパノール／トルエンの質量比が７／１／２で、疎水性処理酸化チタン／共重合ポリアミドを質量比３／１で含有する、固形分濃度１８．０％の下引き層用分散液とした。この下引き層用塗布液を前記支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、２．００μｍ下引き層を形成した。
下引き層用分散液は以下のように作製した。平均一次粒径４０ｎｍのルチル型酸化チタン（石原産業社製「ＴＴＯ５５Ｎ」）と、該酸化チタンに対して３質量％のメチルジメトキシシラン（東芝シリコーン社製「ＴＳＬ８１１７」）とを、高速流動式混合混練機（（株）カワタ社製「ＳＭＧ３００」）に投入し、回転周速３４．５ｍ／秒で高速混合して得られた表面処理酸化チタンを、メタノール／１－プロパノールのボールミルにより分散させることにより、疎水化処理酸化チタンの分散スラリーとした。該分散スラリーと、メタノール／１－プロパノール／トルエンの混合溶媒、及び、ε－カプロラクタム［下記式（Ａ）で表される化合物］／ビス（４－アミノ－３－メチルシクロヘキシル）メタン［下記式（Ｂ）で表される化合物］／ヘキサメチレンジアミン［下記式（Ｃ）で表される化合物］／デカメチレンジカルボン酸［下記式（Ｄ）で表される化合物］／オクタデカメチレンジカルボン酸［下記式（Ｅ）で表される化合物］の組成モル比率が、７５％／９．５％／３％／９．５％／３％からなる共重合ポリアミドのペレットとを加熱しながら撹拌、混合してポリアミドペレットを溶解させた後、超音波分散処理を行うことにより、メタノール／１－プロパノール／トルエンの質量比が７／１／２で、疎水性処理酸化チタン／共重合ポリアミドを質量比３／１で含有する、固形分濃度１８．０％の下引き層用分散液とした。この下引き層用塗布液を前記支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、２．００μｍ下引き層を形成した。
【化15】
【0060】
（電荷発生層の形成）
電荷発生物質としてＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の２７．３°に強いピークを有するＹ型オキシチタニウムフタロシアニン結晶１０部、４－メトキシ－４－メチルペンタノン－２ １５０部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、１．５時間サンドグラインドミルによって粉砕分散処理した。
次にあらかじめ、４－メトキシ－４－メチルペンタノン－２ １００部にポリアセタール樹脂（商品名：エスレックＢＸ－１、積水化学工業（株）製）５部を加えて溶解させていた溶液１０５部を加え、０．５時間分散処理した。
その後、１，２－ジメトキシエタン２５０部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を作製した。この電荷発生層用塗布液を得られた下引き層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、０．１５μｍ電荷発生層を形成した。
電荷発生物質としてＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の２７．３°に強いピークを有するＹ型オキシチタニウムフタロシアニン結晶１０部、４－メトキシ－４－メチルペンタノン－２ １５０部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、１．５時間サンドグラインドミルによって粉砕分散処理した。
次にあらかじめ、４－メトキシ－４－メチルペンタノン－２ １００部にポリアセタール樹脂（商品名：エスレックＢＸ－１、積水化学工業（株）製）５部を加えて溶解させていた溶液１０５部を加え、０．５時間分散処理した。
その後、１，２－ジメトキシエタン２５０部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を作製した。この電荷発生層用塗布液を得られた下引き層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、０．１５μｍ電荷発生層を形成した。
【0061】
尚、Ｘ線回折の測定は、次の条件で行ったものである。
［粉末Ｘ線回折測定］
使用測定機：理学電気（株）製、Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ－ＴＴＲＩＩ
Ｘ線管球：Ｃｕ
管電圧：５０ＫＶ
管電流：３００ｍＡ
スキャン方法：２θ／θスキャン
スキャン速度：４．０°／ｍｉｎ
サンプリング間隔：０．０２°
スタート角度（２θ）：５．０°
ストップ角度（２θ）：４０．０°
アタッチメント：標準試料ホルダー
フィルター：不使用
インシデントモノクロメーター：使用
カウンターモノクロメーター：不使用
発散スリット：開放
発散縦制限スリット：１０．００ｍｍ
散乱スリット：開放
受光スリット：開放
平板モノクロメーター：使用
カウンター：シンチレーションカウンター
［粉末Ｘ線回折測定］
使用測定機：理学電気（株）製、Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ－ＴＴＲＩＩ
Ｘ線管球：Ｃｕ
管電圧：５０ＫＶ
管電流：３００ｍＡ
スキャン方法：２θ／θスキャン
スキャン速度：４．０°／ｍｉｎ
サンプリング間隔：０．０２°
スタート角度（２θ）：５．０°
ストップ角度（２θ）：４０．０°
アタッチメント：標準試料ホルダー
フィルター：不使用
インシデントモノクロメーター：使用
カウンターモノクロメーター：不使用
発散スリット：開放
発散縦制限スリット：１０．００ｍｍ
散乱スリット：開放
受光スリット：開放
平板モノクロメーター：使用
カウンター：シンチレーションカウンター
【0062】
（電荷輸送層の形成）
次に、ＣＴＭ１で示される電荷輸送物質６部、Ａ１で示されるポリアリレート7部、Ｐ１で示されるポリカーボネート３部をオルトキシレン２３部／安息香酸メチル２３部／ジメトキシメタン２３部の混合溶剤に溶解させることによって電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を３０分間１２５℃で乾燥させることによって、膜厚が２４μｍの電荷輸送層を形成した。
得られた感光体の表面層中の樹脂の熱分解ＧＣＭＳの結果から、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有しており、また１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４ｐｐｍにピークを有していたため、式（２－１）を含んでいることを特定した。
次に、ＣＴＭ１で示される電荷輸送物質６部、Ａ１で示されるポリアリレート7部、Ｐ１で示されるポリカーボネート３部をオルトキシレン２３部／安息香酸メチル２３部／ジメトキシメタン２３部の混合溶剤に溶解させることによって電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を３０分間１２５℃で乾燥させることによって、膜厚が２４μｍの電荷輸送層を形成した。
得られた感光体の表面層中の樹脂の熱分解ＧＣＭＳの結果から、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有しており、また１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４ｐｐｍにピークを有していたため、式（２－１）を含んでいることを特定した。
【0063】
電子写真装置には、ヒューレットパッカード社製のレーザービームプリンター、商品名ＨＰＣｏｌｏｒ ＬａｓｅｒＪｅｔ ＥｎｔｅｒｐｒｉｓｅＭ６５３ｄｎの改造機を使用した。
最初に電子写真装置、及び作成した電子写真感光体を、温度１５℃／湿度１０％ＲＨの環境下に２４時間以上放置した後に、電子写真装置のシアン色のカートリッジに装着し、本体に挿入した。
その後、１００枚ハーフトーン画像を出し、カートリッジを取り出し、感光体上に存在している傷について、目視で認識できる深い傷についてのみカウントした。更に、カウントした傷について、それぞれ最大谷深さを示すＲｖを測定し、最大値を表５に示した。
その後、１枚内で１．５％濃度となるような横線の画像で、４００００枚を通紙し、カートリッジを取り出し、感光体上に存在している傷について、目視で認識できる深い傷についてのみカウントした。更に、カウントした傷について、Ｒｖを測定し、最大値を表５に示した。尚、Ｒｖが１．０μｍを超えると、画像弊害が出る傾向にあった。結果を表５に示す。
Ｒｖの測定は、以下の条件で行った。
会社名：株式会社 小坂研究所
粗さ計装置名：ＳＥ３５００
カットオフ値：０．０８ｍｍ
予備長さ：カットオフ×１
フィルター特性：２ＣＲ
評価長さ：２．５ｍｍ
縦倍率：１００００
横倍率：５０
送り長さ：０．１ｍｍ／ｓｅｃ
レベリング：直線（全域）
ＪＩＳＢ０６０１－１９８２
評価長さ全長から処理：間隔評価長さ８０００等分
λｓフィルター：なし
極性：ｎｏｒｍａｌ
最初に電子写真装置、及び作成した電子写真感光体を、温度１５℃／湿度１０％ＲＨの環境下に２４時間以上放置した後に、電子写真装置のシアン色のカートリッジに装着し、本体に挿入した。
その後、１００枚ハーフトーン画像を出し、カートリッジを取り出し、感光体上に存在している傷について、目視で認識できる深い傷についてのみカウントした。更に、カウントした傷について、それぞれ最大谷深さを示すＲｖを測定し、最大値を表５に示した。
その後、１枚内で１．５％濃度となるような横線の画像で、４００００枚を通紙し、カートリッジを取り出し、感光体上に存在している傷について、目視で認識できる深い傷についてのみカウントした。更に、カウントした傷について、Ｒｖを測定し、最大値を表５に示した。尚、Ｒｖが１．０μｍを超えると、画像弊害が出る傾向にあった。結果を表５に示す。
Ｒｖの測定は、以下の条件で行った。
会社名：株式会社 小坂研究所
粗さ計装置名：ＳＥ３５００
カットオフ値：０．０８ｍｍ
予備長さ：カットオフ×１
フィルター特性：２ＣＲ
評価長さ：２．５ｍｍ
縦倍率：１００００
横倍率：５０
送り長さ：０．１ｍｍ／ｓｅｃ
レベリング：直線（全域）
ＪＩＳＢ０６０１－１９８２
評価長さ全長から処理：間隔評価長さ８０００等分
λｓフィルター：なし
極性：ｎｏｒｍａｌ
【0064】
〔実施例２～７３、比較例１～１１〕
表４に示すポリアリレート種、ポリカーボネート種、ＣＴＭ種、バインダー比率、ＣＴＭ/バインダー比率で作成した以外は実施例１と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
表４に示すポリアリレート種、ポリカーボネート種、ＣＴＭ種、バインダー比率、ＣＴＭ/バインダー比率で作成した以外は実施例１と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
【0065】
〔実施例７４〕
Ａ１で示されるポリアリレート7部、Ｐ１で示されるポリカーボネート３部をオルトキシレン２３部／安息香酸メチル２３部の混合溶剤に溶解させ、その後、シリカ微粒子ＱＳＧ－１７０（信越化学工業（株）製 体積平均粒径１７０ｎｍ）１部を加え、マイクロフルイダイザ―（（株）パウレック Ｍ１１０－Ｐ）にて分散を行った。
その後、電荷輸送層として、上記分散液に、ＣＴＭ３で示される電荷輸送物質８部、ジメトキシメタン２３部を加え、溶解させることによって電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を３０分間１２５℃で乾燥させることによって、膜厚が１８μｍの電荷輸送層を形成した。結果を表５に示す。
Ａ１で示されるポリアリレート7部、Ｐ１で示されるポリカーボネート３部をオルトキシレン２３部／安息香酸メチル２３部の混合溶剤に溶解させ、その後、シリカ微粒子ＱＳＧ－１７０（信越化学工業（株）製 体積平均粒径１７０ｎｍ）１部を加え、マイクロフルイダイザ―（（株）パウレック Ｍ１１０－Ｐ）にて分散を行った。
その後、電荷輸送層として、上記分散液に、ＣＴＭ３で示される電荷輸送物質８部、ジメトキシメタン２３部を加え、溶解させることによって電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を３０分間１２５℃で乾燥させることによって、膜厚が１８μｍの電荷輸送層を形成した。結果を表５に示す。
【0066】
〔実施例７５〕
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＫＥ－Ｓ１０（日本触媒（株）体積平均粒径０．１μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＫＥ－Ｓ１０（日本触媒（株）体積平均粒径０．１μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
【0067】
〔実施例７６〕
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＫＥ－Ｓ３０（日本触媒（株）体積平均粒径０．３μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＫＥ－Ｓ３０（日本触媒（株）体積平均粒径０．３μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
【0068】
〔実施例７７〕
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＫＥ－Ｐ５０（日本触媒（株）体積平均粒径０．５μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＫＥ－Ｐ５０（日本触媒（株）体積平均粒径０．５μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
【0069】
〔実施例７８〕
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子４３－００－７０１（コアフロント（株）体積平均粒径０．０７μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子４３－００－７０１（コアフロント（株）体積平均粒径０．０７μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
【0070】
〔実施例７９〕
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＳＯ－Ｃ４（アドマテックス韓国（株）体積平均粒径０．９～１．２μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＳＯ－Ｃ４（アドマテックス韓国（株）体積平均粒径０．９～１．２μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
【0071】
〔実施例８０〕
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、アルミナ微粒子ＡＫＰ－５３（住友化学（株）体積平均粒径０．１７μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、アルミナ微粒子ＡＫＰ－５３（住友化学（株）体積平均粒径０．１７μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
【0072】
〔実施例８１〕
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＳＯ－Ｃ１（アドマテックス韓国（株）体積平均粒径０．２～０．４μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＳＯ－Ｃ１（アドマテックス韓国（株）体積平均粒径０．２～０．４μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
【0073】
〔実施例８２〕
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＱＣＢ－１００（信越化学工業（株）体積平均粒径０．２μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
実施例７４において、表４に示すポリカーボネートと微粒子として、シリカ微粒子ＱＣＢ－１００（信越化学工業（株）体積平均粒径０．２μｍ）に変更した以外は、実施例７４と同様にして感光体を作製した。結果を表５に示す。
【0074】
【表4】
【0075】
【表5】
【0076】
本実施形態の開示は以下の構成を含む。
［構成１］
ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有する電子写真感光体であって、
該ポリアリレートが、下記式（１－１）で示される構造単位、下記式（１－２）で示される構造単位及び下記式（１－３）で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位を有し、
該ポリカーボネートが、下記式（２－１）で示される構造単位を有する
ことを特徴とする電子写真感光体。
［構成２］
前記表面層が、前記式（２－１）で示される構造単位を５ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下含有する構成１に記載の電子写真感光体。
［構成３］
前記ポリカーボネートが、前記式（２－１）で示される構造単位を２０ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下含有する構成１又は２に記載の電子写真感光体。
［構成４］
ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有する電子写真感光体であって、
該表面層から回収された高分子成分の成分分析において、
該ポリアリレートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍ及び２．３５±０．０２ｐｐｍにピークを有し、
該ポリカーボネートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍにピークを有することを特徴とする電子写真感光体。
［構成５］
前記表面層が、シリカ微粒子を含有する構成１～４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
［構成６］
前記シリカ微粒子の体積平均粒径が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下である構成５に記載の電子写真感光体。
［構成７］
構成１～６のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選ばれた少なくとも１つの手段と、を一体に支持し、電子写真装置の本体に着脱自在であるプロセスカートリッジ。
［構成８］
構成１～６のいずれか１項に記載の電子写真感光体、並びに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有する電子写真装置。
［構成１］
ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有する電子写真感光体であって、
該ポリアリレートが、下記式（１－１）で示される構造単位、下記式（１－２）で示される構造単位及び下記式（１－３）で示される構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位を有し、
該ポリカーボネートが、下記式（２－１）で示される構造単位を有する
ことを特徴とする電子写真感光体。
【化16】
【化17】
【化18】
【化19】
前記表面層が、前記式（２－１）で示される構造単位を５ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下含有する構成１に記載の電子写真感光体。
［構成３］
前記ポリカーボネートが、前記式（２－１）で示される構造単位を２０ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下含有する構成１又は２に記載の電子写真感光体。
［構成４］
ポリアリレート及びポリカーボネートを含有する表面層を有する電子写真感光体であって、
該表面層から回収された高分子成分の成分分析において、
該ポリアリレートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍ及び２．３５±０．０２ｐｐｍにピークを有し、
該ポリカーボネートが、
ＴＭＡＨ共存下での熱分解ガスクロマトグラフ質量分析にて、ＴＩＣが、ｍ／ｚ＝２４２及びｍ／ｚ＝２２７の成分が検出されるＭＳスペクトルを有するピークを有し、
重クロロホルムを用いた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて、２．４０±０．０２ｐｐｍにピークを有することを特徴とする電子写真感光体。
［構成５］
前記表面層が、シリカ微粒子を含有する構成１～４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
［構成６］
前記シリカ微粒子の体積平均粒径が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下である構成５に記載の電子写真感光体。
［構成７］
構成１～６のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選ばれた少なくとも１つの手段と、を一体に支持し、電子写真装置の本体に着脱自在であるプロセスカートリッジ。
［構成８］
構成１～６のいずれか１項に記載の電子写真感光体、並びに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有する電子写真装置。
【符号の説明】
【0077】
１０１：支持体
１０２：下引き層
１０３：電荷発生層
１０４：電荷輸送層（表面層）
１１：電子写真感光体
１２：軸
１３：帯電手段
１４：像露光光
１５：現像手段
１６：転写手段
１７：転写材
１８：定着手段
１９：クリーニング手段
２０：前露光光
２１：プロセスカートリッジ
２２：案内手段
１０２：下引き層
１０３：電荷発生層
１０４：電荷輸送層（表面層）
１１：電子写真感光体
１２：軸
１３：帯電手段
１４：像露光光
１５：現像手段
１６：転写手段
１７：転写材
１８：定着手段
１９：クリーニング手段
２０：前露光光
２１：プロセスカートリッジ
２２：案内手段
【図1】
【図2】