特許 7598553 検査システム、検査方法、及び検査システムの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-12-04

(45)【発行日】2024-12-12

(54)【発明の名称】検査システム、検査方法、及び検査システムの製造方法

(51)【国際特許分類】

   G01N 21/3563 20140101AFI20241205BHJP

   G01N 21/359 20140101ALI20241205BHJP

【ＦＩ】

G01N21/3563

G01N21/359

【請求項の数】 22

(21)【出願番号】P 2020183918

(22)【出願日】2020-11-02

(65)【公開番号】P2022073745

(43)【公開日】2022-05-17

【審査請求日】2023-09-27

(73)【特許権者】

【識別番号】000002897

【氏名又は名称】大日本印刷株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100091487

【弁理士】

【氏名又は名称】中村 行孝

(74)【代理人】

【識別番号】100105153

【弁理士】

【氏名又は名称】朝倉 悟

(74)【代理人】

【識別番号】100127465

【弁理士】

【氏名又は名称】堀田 幸裕

(74)【代理人】

【識別番号】100208188

【弁理士】

【氏名又は名称】榎並 薫

(72)【発明者】

【氏名】北村 明子

(72)【発明者】

【氏名】山本 学

(72)【発明者】

【氏名】北村 満

(72)【発明者】

【氏名】上羽 陽介

(72)【発明者】

【氏名】川崎 啓史

(72)【発明者】

【氏名】山本 星子

(72)【発明者】

【氏名】小池 秀明

(72)【発明者】

【氏名】北島 一輝

【審査官】齋藤 卓司

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－０８６４９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００７／０５８１０２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特表２０１９－５３７０１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０４５２４０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１５－５２０３９８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０１Ｎ ２１／１７－２１／６１

Ｇ０１Ｎ ２１／００－２１／０１

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成され、
前記複製標準スペクトルを生成する際に前記標準スペクトルを波長方向にどれだけ平行移動させるかは、前記検査システムが置かれることが想定される雰囲気温度に基づいて決定される、検査システム。

【請求項2】

前記複製標準スペクトルは、前記標準スペクトルを波長方向に－０．５ｎｍ～＋１．０ｎｍの範囲で平行移動させることにより生成される、請求項１に記載の検査システム。

【請求項3】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成され、
前記第１の雰囲気温度で取得された前記第１標準スペクトルの前記複数の波長点に基づいて得られる前記値、及び、前記第２の雰囲気温度で取得された前記第２標準スペクトルの前記複数の波長点に基づいて得られる前記値が、前記複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す１つの前記回帰式に反映されている、検査システム。

【請求項4】

前記回帰式は、前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第３標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項３に記載の検査システム。

【請求項5】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第１の回帰式、第２の回帰式及び、第３の回帰式を含む複数の回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記第１の回帰式と、前記第２の回帰式と、前記第３の回帰式とを含む複数の前記回帰式の中から選択された一の回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記第１の回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第２の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第３の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第３標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記解析部は、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度モニタで測定された前記雰囲気温度に応じて前記第１の回帰式と前記第２の回帰式と前記第３の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、検査システム。

【請求項6】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式と前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて算出された前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を前記雰囲気温度に応じて補正する温度別補正式とが予め記憶された記憶部と、前記予測分子量を算出し、当該予測分子量を前記雰囲気温度に応じて前記温度別補正式で補正した補正分子量を算出する解析部と、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成され、
前記複製標準スペクトルを生成する際に前記標準スペクトルを波長方向にどれだけ平行移動させるかは、前記検査システムが置かれることが想定される雰囲気温度に基づいて決定される、検査システム。

【請求項7】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式と前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて算出された前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を前記雰囲気温度に応じて補正する温度別補正式とが予め記憶された記憶部と、前記予測分子量を算出し、当該予測分子量を前記雰囲気温度に応じて前記温度別補正式で補正した補正分子量を算出する解析部と、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準試料の反射光又は透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成され、
前記第１の雰囲気温度で取得された前記第１標準スペクトルの前記複数の波長点に基づいて得られる前記値、及び、前記第２の雰囲気温度で取得された前記第２標準スペクトルの前記複数の波長点に基づいて得られる前記値が、前記複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す１つの前記回帰式に反映されている、検査システム。

【請求項8】

前記回帰式は、前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準試料の反射光又は透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第３標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項７に記載の検査システム。

【請求項9】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成され、
前記複製標準スペクトルを生成する際に前記標準スペクトルを波長方向にどれだけ平行移動させるかは、前記検査方法を実施する検査システムが置かれることが想定される雰囲気温度に基づいて決定される、検査方法。

【請求項10】

前記複製標準スペクトルは、前記標準スペクトルを波長方向に－０．５ｎｍ～＋１．０ｎｍの範囲で平行移動させることにより生成される、請求項９に記載の検査方法。

【請求項11】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成され、
前記第１の雰囲気温度で取得された前記第１標準スペクトルの前記複数の波長点に基づいて得られる前記値、及び、前記第２の雰囲気温度で取得された前記第２標準スペクトルの前記複数の波長点に基づいて得られる前記値が、前記複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す１つの前記回帰式に反映されている、検査方法。

【請求項12】

前記回帰式は、前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第３標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項１１に記載の検査方法。

【請求項13】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
雰囲気温度を測定する温度測定工程と、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第１の回帰式、第２の回帰式及び第３の回帰式を含む複数の回帰式の中から選択された一の回帰式と前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記第１の回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第２の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第３の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記判定工程では、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度測定工程で測定された前記雰囲気温度に応じて前記第１の回帰式と前記第２の回帰式と前記第３の回帰式とを含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理工程で算出された複数の前記パラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、検査方法。

【請求項14】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
雰囲気温度を測定する温度測定工程と、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量を前記温度測定工程で測定された雰囲気温度に応じた温度別補正式で補正することにより補正分子量を算出し、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成され、
前記複製標準スペクトルを生成する際に前記標準スペクトルを波長方向にどれだけ平行移動させるかは、前記検査方法を実施する検査システムが置かれることが想定される雰囲気温度に基づいて決定される、検査方法。

【請求項15】

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
雰囲気温度を測定する温度測定工程と、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量を前記温度測定工程で測定された雰囲気温度に応じた温度別補正式で補正することにより補正分子量を算出し、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成され、
前記第１の雰囲気温度で取得された前記第１標準スペクトルの前記複数の波長点に基づいて得られる前記値、及び、前記第２の雰囲気温度で取得された前記第２標準スペクトルの前記複数の波長点に基づいて得られる前記値が、前記複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す１つの前記回帰式に反映されている、検査方法。

【請求項16】

前記回帰式は、前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項１５に記載の検査方法。

【請求項17】

請求項６に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料に照射光を照射する標準試料照射工程と、
前記照射光を複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む、複数の標準スペクトルを取得する標準スペクトル生成工程と、
複数の標準スペクトルの複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、複数の前記標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値としてそれぞれ算出する標準試料処理工程と、
各標準試料の複数のパラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。

【請求項18】

請求項１又は６に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料に照射光を照射する標準試料照射工程と、
前記照射光を複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む、複数の標準スペクトルを取得する標準スペクトル生成工程と、
前記標準スペクトル及び前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトル及び前記複製標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値としてそれぞれ算出する標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。

【請求項19】

請求項３又は７に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第１の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第１標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第１の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第１標準反射光又は第１標準透過光の強度を検出する第１標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第１標準スペクトルを取得する第１標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第１標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第１標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第１標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第２標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第２の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第２標準反射光又は第２標準透過光の強度を検出する第２標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第２標準スペクトルを取得する第２標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第２標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第２標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第２標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第１標準パラメータ値及び複数の前記第２標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。

【請求項20】

請求項４又は８に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第１の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第１標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第１の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第１標準反射光又は第１標準透過光の強度を検出する第１標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第１標準スペクトルを取得する第１標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第１標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第１標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第１標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第２標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第２の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第２標準反射光又は第２標準透過光の強度を検出する第２標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第２標準スペクトルを取得する第２標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第２標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第２標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第２標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第３標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第３の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第３標準反射光又は第３標準透過光の強度を検出する第３標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第３標準反射光又は前記第３標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第３標準スペクトルを取得する第３標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第３標準スペクトルの複数の波長点における前記第３標準反射光又は前記第３標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第３標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第３標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第３標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第１標準パラメータ値、複数の前記第２標準パラメータ値及び複数の前記第３標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。

【請求項21】

請求項５に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第１の雰囲気温度に置いて前記標準試料に照射光を照射する第１標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第１の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第１標準反射光又は第１標準透過光の強度を検出する第１標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第１標準スペクトルを取得する第１標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第１標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第１標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第１標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第１標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第１の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第１解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第２標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第２の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第２標準反射光又は第２標準透過光の強度を検出する第２標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第２標準スペクトルを取得する第２標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第２標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第２標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第２標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第２標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第２の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第２解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。

【請求項22】

請求項５に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第１の雰囲気温度に置いて前記標準試料に照射光を照射する第１標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第１の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第１標準反射光又は第１標準透過光の強度を検出する第１標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第１標準スペクトルを取得する第１標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第１標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第１標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第１標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第１標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第１の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第１解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第２標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第２の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第２標準反射光又は第２標準透過光の強度を検出する第２標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第２標準スペクトルを取得する第２標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第２標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第２標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第２標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第２標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第２の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第２解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第３標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第３の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第３標準反射光又は第３標準透過光の強度を検出する第３標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第３標準反射光又は前記第３標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第３標準スペクトルを取得する第３標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第３標準スペクトルの複数の波長点における前記第３標準反射光又は前記第３標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第３標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第３標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第３標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第２標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第３の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第３解析工程と、
を備える、検査システムの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示の実施形態は、検査システム、検査方法、及び検査システムの製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

対象物を非破壊で検査する方法が提案されている。例えば特許文献１は、光を樹脂に照射することによって得られたスペクトルに基づいて、樹脂の予測分子量を算出し、予測分子量に基づいて対象物の状態を検査する方法を開示している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２０１９－８６４９９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

予測分子量の算出に用いられるスペクトルは、当該スペクトルを生成するために用いられる反射光を取得する際の検査システムの温度や検査システムが置かれている雰囲気温度の影響を受ける。この結果、検査システムにより得られる検査結果も、検査システムの温度や雰囲気温度の影響を受ける。

【0005】

本開示の実施形態は、このような課題を解決し得る検査システム、検査方法、及び検査システムの製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
前記照射装置及び／又は前記検出装置を冷却する冷却部と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備える、検査システムである。

【0007】

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記冷却部は送風機であってもよい。

【0008】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査システムである。

【0009】

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記複製標準スペクトルは、前記標準スペクトルを波長方向に－０．５ｎｍ～＋１．０ｎｍの範囲で平行移動させることにより生成されてもよい。

【0010】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査システムである。

【0011】

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、
前記回帰式は、前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第３標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。

【0012】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第１の回帰式及び第２の回帰式を含む複数の回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記第１の回帰式及び前記第２の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から選択された一の回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記第１の回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を前記第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第２の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記解析部は、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度モニタで測定された前記雰囲気温度に応じて前記第１の回帰式及び前記第２の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、検査システムである。

【0013】

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、
複数の前記回帰式は、前記第１の回帰式と、前記第２の回帰式と、複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第３の回帰式とを含み、
前記第３の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第３標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記解析部は、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度モニタで測定された前記雰囲気温度に応じて前記第１の回帰式と前記第２の回帰式と前記第３の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出してもよい。

【0014】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式と前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて算出された前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を前記雰囲気温度に応じて補正する温度別補正式とが予め記憶された記憶部と、前記予測分子量を算出し、当該予測分子量を前記雰囲気温度に応じて前記温度別補正式で補正した補正分子量を算出する解析部と、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備える、検査システムである。

【0015】

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。

【0016】

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準試料の反射光又は透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。

【0017】

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記回帰式は、前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準試料の反射光又は透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第３標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。

【0018】

本開示の一実施形態による検査システムは、前記照射装置及び／又は前記検出装置を冷却する冷却部を更に備えていてもよい。

【0019】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
照射装置を用いて前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出装置によって検出する検出工程と、
前記照射装置及び／又は前記検出装置を冷却する冷却工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程において算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備える、検査方法である。

【0020】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査方法である。

【0021】

本開示の一実施形態による検査方法において、前記複製標準スペクトルは、前記標準スペクトルを波長方向に－０．５ｎｍ～＋１．０ｎｍの範囲で平行移動させることにより生成されてもよい。

【0022】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査方法である。

【0023】

本開示の一実施形態による検査方法において、前記回帰式は、前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第３標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。

【0024】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
雰囲気温度を測定する温度測定工程と、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第１の回帰式及び第２の回帰式を含む複数の回帰式の中から選択された一の回帰式と前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記第１の回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第２の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記判定工程では、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度測定工程で測定された前記雰囲気温度に応じて前記第１の回帰式及び前記第２の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理工程で算出された複数の前記パラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、検査方法。

【0025】

本開示の一実施形態による検査方法において、複数の前記回帰式は、前記第１の回帰式と、前記第２の回帰式と、複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第３の回帰式とを含み、
前記第３の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記判定工程では、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度測定工程で測定された前記雰囲気温度に応じて前記第１の回帰式と前記第２の回帰式と前記第３の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理工程で算出された複数の前記パラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出してもよい。

【0026】

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
雰囲気温度を測定する温度測定工程と、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量を前記温度測定工程で測定された雰囲気温度に応じた温度別補正式で補正することにより補正分子量を算出し、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備える、検査方法である。

【0027】

本開示の一実施形態による検査方法において、前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。

【0028】

本開示の一実施形態による検査方法において、前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第１の雰囲気温度で取得することにより得られる第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度で取得することにより得られる第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。

【0029】

本開示の一実施形態による検査方法において、前記回帰式は、前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第１標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度で取得することにより得られる第３標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第２標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。

【0030】

本開示の一実施形態による検査方法において、
前記照射光は照射装置によって照射され、
前記反射光又は前記透過光の強度は検出装置によって検出され、
前記検査方法は、前記照射装置及び／又は前記検出装置を冷却する冷却工程を更に備えてもよい。

【0031】

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料に照射光を照射する標準試料照射工程と、
前記照射光を複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む、複数の標準スペクトルを取得する標準スペクトル生成工程と、
複数の標準スペクトルの複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、複数の前記標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値としてそれぞれ算出する標準試料処理工程と、
各標準試料の複数のパラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。

【0032】

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料に照射光を照射する標準試料照射工程と、
前記照射光を複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む、複数の標準スペクトルを取得する標準スペクトル生成工程と、
前記標準スペクトル及び前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトル及び前記複製標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値としてそれぞれ算出する標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。

【0033】

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第１の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第１標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第１の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第１標準反射光又は第１標準透過光の強度を検出する第１標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第１標準スペクトルを取得する第１標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第１標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第１標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第１標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第２標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第２の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第２標準反射光又は第２標準透過光の強度を検出する第２標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第２標準スペクトルを取得する第２標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第２標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第２標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第２標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第１標準パラメータ値及び複数の前記第２標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。

【0034】

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第１の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第１標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第１の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第１標準反射光又は第１標準透過光の強度を検出する第１標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第１標準スペクトルを取得する第１標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第１標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第１標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第１標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第２標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第２の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第２標準反射光又は第２標準透過光の強度を検出する第２標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第２標準スペクトルを取得する第２標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第２標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第２標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第２標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第３標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第３の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第３標準反射光又は第３標準透過光の強度を検出する第３標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第３標準反射光又は前記第３標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第３標準スペクトルを取得する第３標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第３標準スペクトルの複数の波長点における前記第３標準反射光又は前記第３標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第３標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第３標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第３標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第１標準パラメータ値、複数の前記第２標準パラメータ値及び複数の前記第３標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。

【0035】

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第１の雰囲気温度に置いて前記標準試料に照射光を照射する第１標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第１の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第１標準反射光又は第１標準透過光の強度を検出する第１標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第１標準スペクトルを取得する第１標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第１標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第１標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第１標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第１標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第１の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第１解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第２標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第２の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第２標準反射光又は第２標準透過光の強度を検出する第２標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第２標準スペクトルを取得する第２標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第２標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第２標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第２標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第２標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第２の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第２解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。

【0036】

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第１の雰囲気温度に置いて前記標準試料に照射光を照射する第１標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第１の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第１標準反射光又は第１標準透過光の強度を検出する第１標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第１標準スペクトルを取得する第１標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第１標準スペクトルの複数の波長点における前記第１標準反射光又は前記第１標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第１標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第１標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第１標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第１標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第１の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第１解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第２標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第２の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第２標準反射光又は第２標準透過光の強度を検出する第２標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第２標準スペクトルを取得する第２標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第２標準スペクトルの複数の波長点における前記第２標準反射光又は前記第２標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第２標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第２標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第２標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第２標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第２の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第２解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第１の雰囲気温度及び前記第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第３標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第３の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第３標準反射光又は第３標準透過光の強度を検出する第３標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第３標準反射光又は前記第３標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第３標準スペクトルを取得する第３標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第３標準スペクトルの複数の波長点における前記第３標準反射光又は前記第３標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第３標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第３標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第３標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第２標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第３の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第３解析工程と、
を備える、検査システムの製造方法である。

【発明の効果】

【0037】

本開示の一実施形態によれば、検査システムの温度や雰囲気温度が検査結果に与える影響を低減させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0038】

【図1】一実施形態に係る対象物を示す断面図である。

【図2】一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。

【図3】一実施形態に係る検査システムの照射装置及び検出装置を模式的に示す図である。

【図4】照射装置及び検出装置を収容するケースの一例を示す斜視図である。

【図5】検査システムの一使用例を示す図である。

【図6】検査工程の一例を示すフローチャートである。

【図7】検査用校正スペクトル生成工程の一例を示すフローチャートである。

【図8】校正試料に照射光を照射する工程の一例を示す図である。

【図9】対象パラメータ値算出工程の一例を示すフローチャートである。

【図10】検査システム製造工程の一例を示すフローチャートである。

【図11】回帰式作成工程の一例を示すフローチャートである。

【図12】標準パラメータ値算出工程の一例を示すフローチャートである。

【図13】第１ノイズ評価工程の一例を示すフローチャートである。

【図14】対象スペクトルの一例を示す図である。

【図15】平均化スペクトルの一例を示す図である。

【図16】対象スペクトルと平均化スペクトルの差の一例を示す図である。

【図17】第２ノイズ評価工程の一例を示すフローチャートである。

【図18】校正スペクトルの一例を示す図である。

【図19】対象スペクトルの例を示す図である。

【図20】対象スペクトルの例を示す図である。

【図21】対象スペクトルの例を示す図である。

【図22】予測分子量の例を示す図である。

【図23】予測分子量の例を示す図である。

【図24】一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。

【図25】標準スペクトル及び複製標準スペクトルの一例を示す図である。

【図26】対象物の樹脂材料の予測分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。

【図27】対象物の樹脂材料の予測分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。

【図28】一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。

【図29】標準試料の樹脂材料の予測分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。

【図30】対象物の樹脂材料の補正分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。

【図31】一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。

【図32】対象物の樹脂材料の補正分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。

【図33】一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。

【図34】ケースの一例を示す斜視図である。

【図35】ケースの一例を示す斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0039】

本開示の実施形態に係る対象物及び検査システムの構成について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態に限定して解釈されるものではない。本発明において、「基材」や「シート」などの用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基材」は、シートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。

【0040】

本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈する。

【0041】

本明細書において、あるパラメータに関して複数の上限値の候補及び複数の下限値の候補が挙げられている場合、そのパラメータの数値範囲は、任意の１つの上限値の候補と任意の１つの下限値の候補とを組み合わせることによって構成されてもよい。例えば、「パラメータＰは、例えばＱ１以上であり、Ｑ２以上であってもよく、Ｑ３以上であってもよい。パラメータＰは、例えばＱ４以下であり、Ｑ５以下であってもよく、Ｑ６以下であってもよい。」と記載されている場合を考える。この場合、パラメータＰの数値範囲は、Ｑ１以上Ｑ４以下であってもよく、Ｑ１以上Ｑ５以下であってもよく、Ｑ１以上Ｑ６以下であってもよく、Ｑ２以上Ｑ４以下であってもよく、Ｑ２以上Ｑ５以下であってもよく、Ｑ２以上Ｑ６以下であってもよく、Ｑ３以上Ｑ４以下であってもよく、Ｑ３以上Ｑ５以下であってもよく、Ｑ３以上Ｑ６以下であってもよい。

【0042】

本実施形態で参照する図面において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号又は類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。

【0043】

（第１の実施の形態）
図１は、対象物１０の一例を示す図である。対象物１０は、例えば樹脂シートである。樹脂シートは、床材などの建材の化粧シート、農業用シート、半導体素子の封止シート、包装用シートなど、様々な用途で用いられる。

【0044】

対象物１０は、基材シート１１と、基材シート１１に積層された樹脂層１２と、を備える。樹脂層１２は、基材シート１１の面の全域に設けられていてもよく、若しくは、模様を呈するように基材シート１１の面に部分的に設けられていてもよい。以下の説明において、樹脂層１２側に位置する対象物１０の面を第１面１０ｘと称し、基材シート１１側に位置する対象物１０の面を第２面１０ｙと称する。

【0045】

基材シート１１は、例えば紙、合成樹脂、金属、セラミック、薬剤などを含む。より具体的には、基材シート１１は、セルロース樹脂を含んでいてもよく、ポリプロピレンなどのオレフィン系合成樹脂を含んでいてもよい。基材シート１１の坪量は、例えば５０ｇ／ｍ^２以上である。基材シート１１の坪量は、例えば３００ｇ／ｍ^２以下であり、１２０ｇ／ｍ^２以下であってもよい。

【0046】

樹脂層１２は、樹脂材料を含む。樹脂層１２に含まれる樹脂材料は、特に限定されないが、例えば高分子樹脂である。高分子樹脂の例としては、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール樹脂（ＰＶＡ）、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミドなどを挙げることができる。
ポリエチレン系樹脂の例としては、ポリエチレンの他、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂（ＥＶＡ）、エチレン－αオレフィン共重合体などの、エチレンとエチレン以外の成分とをモノマーとするエチレン共重合体などを挙げることができる。また、樹脂層１２は、ゴムを含んでいてもよい。ゴムの例としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル－ブタジエン共重合ゴム、スチレン－ブタジエン共重合ゴムなどを挙げることができる。樹脂層１２の厚みは、例えば５０μｍ以上である。樹脂層１２の厚みは、例えば４０μｍ以上である。樹脂層１２の厚みは、７００μｍ以下であってもよい。
後述するように、樹脂層１２は、樹脂材料に加えて、発泡剤又は発泡助剤を含んでいてもよい。この場合、発泡前の樹脂層１２の厚みは、例えば４０μｍ以上１００μｍ以下である。発泡後の樹脂層１２の厚みは、例えば３００μｍ以上７００μｍ以下である。

【0047】

樹脂層１２は、顔料などの着色材を更に含んでいてもよい。顔料は、無機顔料であってもよく、有機顔料であってもよい。無機顔料の例としては、酸化チタン、亜鉛華、カーボンブラック、黒色酸化鉄、黄色酸化鉄、黄鉛、モリブデートオレンジ、カドミウムイエロー、ニッケルチタンイエロー、クロムチタンイエロー、酸化鉄（弁柄）、カドミウムレッド、群青、紺青、コバルトブルー、酸化クロム、コバルトグリーン、アルミニウム粉、ブロンズ粉、雲母チタン、硫化亜鉛等が挙げられる。また、有機顔料の例としては、アニリンブラック、ペリレンブラック、アゾ系（アゾレーキ、不溶性アゾ、縮合アゾ）、多環式（イソインドリノン、イソインドリン、キノフタロン、ペリノン、フラバントロン、アントラピリミジン、アントラキノン、キナクリドン、ペリレン、ジケトピロロピロール、ジブロムアンザントロン、ジオキサジン、チオインジゴ、フタロシアニン、インダントロン、ハロゲン化フタロシアニン）等が挙げられる。樹脂層１２における顔料の含有量は、樹脂成分１００質量部に対して、例えば５質量部以上であってもよく、１５質量部以上であってもよい。樹脂層１２における顔料の含有量は、樹脂成分１００質量部に対して、例えば５０質量部以下であってもよく、３０質量部以下であってもよい。

【0048】

樹脂層１２は、フィラーを含んでいてもよい。これにより、樹脂層１２の強度、硬度などを高めることができる。フィラーは、例えば、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、三酸化アンチモン、ホウ酸亜鉛、モリブデン化合物、タルクなどの無機材料を含む。樹脂層１２におけるフィラーの含有量は、樹脂材料１００質量部に対して、例えば０．１質量部以上であってもよく、２０質量部以上であってもよい。樹脂層１２におけるフィラーの含有量は、樹脂材料１００質量部に対して、例えば１００質量部以下であってもよく、７０質量部以下であってもよい。

【0049】

樹脂層１２は、防カビ剤、防虫剤、防腐剤、抗菌剤、消臭剤、重合開始剤、重合禁止剤、増感剤、架橋剤、可塑剤、難燃剤、帯電制御剤、熱安定剤、光安定剤、導電剤、消泡剤、防錆剤、酸化防止剤、発泡剤、発泡助剤、近赤外吸収剤、紫外吸収剤、乳化剤などの添加剤を含んでいてもよい。

【0050】

〔検査システム〕
図２は、対象物１０を検査するための検査システム１５を示すブロック図である。検査システム１５は、樹脂層１２の特徴を表すスペクトルを測定する。検査システム１５は、樹脂層１２を構成する材料の予測分子量を、スペクトルに基づいて算出する。また、検査システム１５は、算出した予測分子量に基づいて、対象物１０の脆化などの状態を判定する。この場合、対象物１０の状態と樹脂層１２に含まれる樹脂材料の分子量との関係を示す情報は、予め検査システム１５に記憶されている。なお、検査システム１５で判定される対象物１０の状態は、対象物１０の脆化に関する状態に限定されない。

【0051】

検査システム１５は、照射装置２１、検出装置２４、生成装置２５、処理装置２７、判定装置２８及び冷却部２９を備える。照射装置２１及び検出装置２４は、分光モジュール２０を構成する。分光モジュール２０は、後述するケース４０に収容される。生成装置２５、処理装置２７、判定装置２８及び冷却部２９の一部又は全部は、分光モジュール２０に含まれていてもよく、分光モジュール２０以外の構成要素に含まれていてもよい。例えば、生成装置２５、処理装置２７及び判定装置２８の一部又は全部は、分光モジュール２０と通信可能なコンピュータによって実現されてもよい。

【0052】

〔照射装置〕
照射装置２１は、対象物１０に近赤外線などの照射光Ｌ１を照射する。照射装置２１は、照射部２１１を含む。照射部２１１は、対象物１０の第１面１０ｘに照射光Ｌ１を照射する。照射光Ｌ１の波長は、例えば８００ｎｍ以上であり、９００ｎｍ以上であってもよい。照射光Ｌ１の波長は、例えば２５００ｎｍ以下であり、２０００ｎｍ以下であってもよく、１７００ｎｍ以下であってもよい。近赤外線を照射する照射装置２１としては、例えば、オーシャンフォトニクス社製の重水素ハロゲン光源 ＤＨ－２０００を用いることができる。

【0053】

図３は、照射装置２１及び検出装置２４を模式的に示す図である。
照射装置２１は、拡散部２１２を含んでいてもよい。拡散部２１２は、照射部２１１から放射された照射光Ｌ１を拡散させる。これにより、様々な方向から照射光Ｌ１を対象物１０に照射できる。このため、検査システム１５は、反射スペクトルを得ることができる。拡散部２１２は、例えば、照射部２１１と対象物１０との間に配置される拡散板である。

【0054】

〔検出装置〕
検出装置２４は、対象物１０によって反射された反射光Ｌ２を受光する。検出装置２４は、反射光Ｌ２の強度を検出できる。

【0055】

検出装置２４は、複数の波長点において反射光Ｌ２を検出する検出部２４１を含む。波長点の数は、検出部２４１の分解能に応じて定まる。例えば、検出部２４１が９００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲内において、３ｎｍの分解能で反射光Ｌ２の強度を検出する場合、波長点の数は３０１である。検出部２４１としては、近赤外分光器、近赤外ハイパースペクトルカメラなどを用いることができる。

【0056】

検出部２４１は、対象物１０によって正反射された反射光Ｌ２を検出する。検出部２４１は、対象物１０によって正反射された反射光Ｌ２に加えて、対象物１０によって拡散反射された反射光Ｌ２を検出してもよい。これにより、樹脂材料に関する情報をより多く得ることができる。このため、樹脂層１２の組成の判定の精度を向上させることができる。図３において、符号Ｈ１は、検出部２４１と対象物１０との距離を表し、符号Ｗ１は、検出部２４１の幅を表す。距離Ｈ１及び幅Ｗ１は、対象物１０によって拡散反射された反射光Ｌ２が検出部２４１に入射するよう適切に定められている。

【0057】

なお、照射装置２１及び検出装置２４としては、照射光Ｌ１の照射機能と反射光Ｌ２の検出機能とが一体化した分光器を用いてもよい。そのような分光器としては、例えば、ｉｎｎｏＳｐｅｃｔｒａ製の近赤外線分光組込み反射モジュール Ｍ－Ｒ２を用いることができる。

【0058】

〔生成装置〕
生成装置２５は、第１生成部２５１及び第２生成部２５２を含む。第１生成部２５１は、複数の波長点における反射光Ｌ２の強度に関する情報を含むスペクトルを生成する。以下の説明において、対象物１０によって反射された反射光Ｌ２の強度に関する情報を含むスペクトルのことを、対象スペクトルとも称する。

【0059】

本明細書において、「スペクトル」は、波長点に対応するデータのグループを意味する。データのグループを図示すると、後述する図１４に示すようなグラフが生成される。データは、波長点における反射光Ｌ２の強度に関する情報を含む。データは、反射光Ｌ２の強度そのものであってもよい。データは、波長点における反射光Ｌ２の強度に何らかの処理を施すことによって算出されたものであってもよい。例えば、データは、吸光度であってもよい。吸光度とは、対象物１０が光を吸収する程度を表す無次元量である。吸光度Ａｂｓは、例えば以下の式により算出される。
Ａｂｓ＝－ｌｏｇ_１０（Ｉｔａｒ／Ｉｒｅｆ）
Ｉｔａｒは、対象物１０によって反射された反射光の強度である。Ｉｒｅｆは、校正試料によって反射された反射光の強度である。校正試料は、例えば標準反射板である。標準反射板は、標準白色板、白色板などとも称される。このような校正試料としては、例えばＬａｂｓｐｈｅｒｅ製のスペクトラロンを採用可能である。

【0060】

第２生成部２５２は、複数の波長点における、校正試料によって反射された反射光の強度に関する情報を含むスペクトルを生成する。以下の説明において、校正試料によって反射された反射光の強度に関する情報を含むスペクトルのことを、校正スペクトルとも称する。第１生成部２５１は、上述の式で表されているように、校正スペクトルを基準として用いることにより対象スペクトルを生成してもよい。

【0061】

なお、検出装置２４及び生成装置２５としては、反射光の受光機能及び反射スペクトルの取得機能とが一体化した装置を用いてもよい、そのような装置としては、例えば、ＪＦＥテクノリサーチ株式会社製の近赤外線用イメージング分光解析装置ＳＷＩＲ－２４００や、ＶＩＶＡ社製のＭｉｃｒｏ ＮＩＲ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ等を用いることができる。

【0062】

〔処理装置〕
処理装置２７は、第１処理部２７１及び第２処理部２７２を含む。第１処理部２７１は、対象スペクトルに何らかの処理を施す。例えば、第１処理部２７１は、対象スペクトルを局所的に平均化することにより平均化スペクトルを生成する局所平均化を実施してもよい。第１処理部２７１は、対象スペクトルと局所平均化スペクトルの差に基づいて第１ノイズ指標を算出する第１ノイズ評価を実施してもよい。第１処理部２７１は、第１ノイズ指標が第１閾値ＴＨ１以上である場合に、対象スペクトルを記録する第１記録を実施してもよい。

【0063】

第１処理部２７１は、第１記録によって記録又は生成された対象スペクトルに更に何らかの処理を施してもよい。例えば、第１処理部２７１は、平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を対象スペクトルに施してもよい。これにより、第１処理部２７１は、複数の波長点に対応する複数のパラメータ値を算出できる。これらの処理の詳細は、例えば特開２０１９－８６４９９号公報に記載されている。

【0064】

第２処理部２７２は、校正スペクトルに何らかの処理を施してもよい。例えば、第２処理部２７２は、校正スペクトルを二次微分することにより二次微分スペクトルを生成する二次微分を実施してもよい。第２処理部２７２は、二次微分スペクトルに基づいて第２ノイズ指標を算出する第２ノイズ評価を実施してもよい。第２処理部２７２は、第２ノイズ指標が第２閾値ＴＨ２以上である場合に、校正スペクトルを記録する第２記録を実施してもよい。

【0065】

〔判定装置〕
判定装置２８は、第１処理部２７１による処理によって記録又は生成された情報に基づいて樹脂層１２の樹脂材料の予測分子量を算出することにより、対象物１０の状態を判定する。例えば、判定装置２８は、第１処理部２７１が算出したパラメータ値に基づいて、樹脂層１２の樹脂材料の予測分子量を算出する。判定装置２８は、処理装置２７と一体化していてもよい。判定装置２８は、記憶部２８１と、解析部２８２と、判定部２８３と、を含む。

【0066】

記憶部２８１は、複数のパラメータ値と樹脂層１２の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式が予め記憶された構成要素である。記憶部２８１は、例えばＲＯＭやＲＡＭなどのメモリーである。回帰式は、後述するように、照射装置２１の照射部２１１から標準試料に照射されて検出装置２４の検出部２４１で検出される反射光の強度に基づいて作成される。回帰式の詳細は、例えば特開２０１９－８６４９９号公報に記載されている。
なお、図２に示す例では、回帰式は、記憶部２８１には特定の（単一の）雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた標準試料から得られる反射光の反射強度に基づいて作成され、以下では標準回帰式とも呼ぶ。

【0067】

解析部２８２は、記憶部２８１の回帰式（図２に示す例では標準回帰式）を、複数のパラメータ値にそれぞれ適用する。これにより、樹脂層１２の樹脂材料の予測分子量を算出できる。解析部２８２は、例えばＣＰＵである。予測分子量の算出方法の詳細は、例えば特開２０１９－８６４９９号公報に記載されている。

【0068】

判定部２８３は、解析部２８２が算出した予測分子量に基づいて、樹脂層１２の状態を判定する。判定部２８３により対象物１０の状態を判定する方法は、特に限定されない。例えば、樹脂材料としてポリエチレン系樹脂を含む樹脂層１２を備える対象物１０が脆化しているか否かを判定する場合には、樹脂材料の分子量が８００００以上と算出された対象物１０は脆化しておらず、８００００未満と算出された樹脂シート１０は脆化している、と判定してもよい。判定部２８３は、例えばＣＰＵである。

【0069】

図示はしないが、判定装置２８は、判定結果を表示する表示部を有していてもよい。表示部における判定結果の表示の仕方は、表示から判定結果が理解できる限り、特に限定されない。例えば、対象物１０が脆化しているか否かを判定する場合には、解析部２８２において算出された予測分子量を表示してもよく、判定部２８３において対象物１０が脆化していないと判定された場合には丸等の記号を表示してもよい。また、予測分子量と丸等の記号との両方を表示してもよい。また、判定結果によって異なる色を表示部に表示してもよい。

【0070】

〔冷却部〕
冷却部２９は、照射装置２１及び／又は検出装置２４を冷却する。図示された例では、冷却部２９は、ファンを含む送風機であり、ファンによって分光モジュール２０に送風することにより照射装置２１及び／又は検出装置２４を冷却するが、これに限られない。冷却部２９は、ベルチェ素子や放熱板により照射装置２１及び／又は検出装置２４を冷却するものであってもよい。

【0071】

分光モジュール２０が冷却部２９により冷却されることにより、検査システム１５が稼働中に検査システム１５に内蔵されたランプや電子回路等が発する熱によって分光モジュール２０の温度が上昇する、ということが抑制される。ここで、本件発明者らは、照射装置２１又は検出装置２４の温度が、検出装置２４で検出される反射光の強度（生成装置２５で生成されるスペクトルのピーク位置）に影響を与えることを見出した。すなわち、同じ対象物１０或いは同じ試料によって反射された反射光であっても、検出装置２４で検出される反射光の強度は当該反射光を検出する際の照射装置２１又は検出装置２４の温度によって異なることを見出した。そして、検査システム１５が稼働中に分光モジュール２０を冷却部２９で冷却することにより、分光モジュール２０の温度上昇が抑制され、検出装置２４で検出される反射光の強度が安定することを見出した。

【0072】

次に、検査システム１５の具体的な構造を説明する。図４に示すように、検査システム１５は、分光モジュール２０及び冷却部２９を収容するケース４０を備えていてもよい。分光モジュール２０は、照射装置２１及び検出装置２４を含む。ケース４０は、持ち運び可能な形態を有することが好ましい。照射装置２１及び検出装置２４が収容されているケース４０の重量は、例えば５ｋｇ以下であり、２ｋｇ以下であってもよく、好ましくは１ｋｇ以下である。ケース４０を持ち運ぶことにより、様々な場所に配置されている対象物１０を検査できる。

【0073】

ケース４０は、第１面４１、第２面４２及び側面を含んでいてもよい。第１面４１は、検査システム１５を用いる検査方法を実施するとき、対象物１０に対向する。第１面４１は、光が通過するウインドウ４８を含む。光は、照射装置２１から放射された光、又は、検出装置２４によって受光される反射光である。ウインドウ４８は、第１面４１に形成されている開口を含んでいてもよい。第２面４２は、第１面４１に対向している。側面は、第１面４１と第２面４２の間に位置している。側面は、例えば、第１側面４３、第２側面４４、第３側面４５及び第４側面４６を含んでいてもよい。第２面４２は第１面４１に対向している。第２側面４４は第１側面４３に対向している。第１側面４３及び第２側面４４は第１面４１と第２面４２の間に位置している。

【0074】

ケース４０は、例えば、第１外縁４１１、第２外縁４１２、第３外縁４１３及び第４外縁４１４を含んでいてもよい。第１外縁４１１、第２外縁４１２、第３外縁４１３及び第４外縁４１４は、対象物１０に対向するケース４０の部分の外縁を構成する。

【0075】

第１外縁４１１、第２外縁４１２、第３外縁４１３及び第４外縁４１４の一部又は全部は、第１面４１の外縁であってもよい。第１外縁４１１、第２外縁４１２、第３外縁４１３及び第４外縁４１４の一部又は全部は、第１側面４３、第２側面４４、第３側面４５及び第４側面４６などの側面の外縁であってもよい。

【0076】

第１外縁４１１の寸法Ｋ１は、例えば５００ｍｍ以下であり、４００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以下であってもよい。第１外縁４１１の寸法Ｋ１は、例えば５０ｍｍ以上であり、１００ｍｍ以上であってもよく、１５０ｍｍ以上であってもよい。
第３外縁４１３の寸法Ｋ２は、例えば５００ｍｍ以下であり、４００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以下であってもよい。第３外縁４１３の寸法Ｋ２は、例えば５０ｍｍ以上であり、１００ｍｍ以上であってもよく、１５０ｍｍ以上であってもよい。
第１面４１と第２面４２の間の距離Ｋ３は、例えば５００ｍｍ以下であり、４００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以下であってもよい。距離Ｋ３は、例えば５０ｍｍ以上であり、１００ｍｍ以上であってもよく、１５０ｍｍ以上であってもよい。

【0077】

図５は、検査システム１５の一使用例を示す図である。図５に示す例においては、人の右手６１及び左手６２によってケース４０が保持されている。ケース４０の第１面４１は、対象物１０に対向している。検査システム１５を用いる検査方法を実施するとき、第１外縁４１１、第２外縁４１２、第３外縁４１３及び第４外縁４１４の一部又は全部が対象物１０に接していてもよい。

【0078】

〔検査方法〕
次に、上述の検査システム１５を用いて対象物１０の状態を検査する方法の一例を説明する。検査方法は、対象物１０の状態の検査を実施する検査工程を含む。

【0079】

〔検査工程〕
検査工程について説明する。図６に示す例では、検査工程は、検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１と、対象パラメータ値算出工程Ｓ２と、判定工程Ｓ３とを含む。

【0080】

まず、検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１について説明する。検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１は、図７に示すように、校正試料準備工程Ｓ１１と、校正試料照射工程Ｓ１２と、校正試料検出工程Ｓ１３と、校正スペクトル生成工程Ｓ１４と、第２ノイズ評価工程Ｓ１５と、第２記録工程Ｓ１６と、を含む。
校正試料準備工程Ｓ１１では、校正試料５１を準備する。
校正試料照射工程Ｓ１２では、冷却部２９によって分光モジュール２０を冷却した状態（図示された例では、冷却部２９によって分光モジュール２０へ送風した状態）で、照射装置２１が、校正試料５１に照射光として近赤外線を照射する。
校正試料検出工程Ｓ１３では、冷却部２９によって分光モジュール２０を冷却した状態（図示された例では、冷却部２９によって分光モジュール２０へ送風した状態）で、検出装置２５が、校正試料５１によって反射された反射光（「校正反射光」といい、以下同じ）の強度を検出する。
校正試料照射工程Ｓ１２及び校正試料検出工程Ｓ１３は、図８に示すように、ウインドウ４８を覆うように校正試料５１を第１面４１に接触させた状態で実施されてもよい。この場合、ケース４０に対して校正試料５１が固定されていてもよい。例えば、ケース４０に巻き付けたゴムバンド５２によって校正試料５１がウインドウ４８に押し付けられていてもよい。図示はしないが、校正試料５１が第１面４１から離れていてもよい。なお、校正試料５１が第１面４１から離れている場合、周囲を暗室にすることが好ましい。これにより、検査システム１５が外光を検出することを抑制できる。また、対象物１０の検出を行う工程において、対象物１０と第１面４１との間の距離が校正試料５１と第１面４１との間の距離と同一であることが好ましい。
また、図２に示す例では、校正試料照射工程Ｓ１２及び校正試料検出工程Ｓ１３は、特定の（単一の）雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた校正試料５１に対して行われる。
校正スペクトル生成工程Ｓ１４では、生成装置２５の第２生成部２５２が、校正スペクトルを生成する。校正スペクトルは、複数の波長点における校正反射光の強度に関する情報を含む。
第２ノイズ評価工程Ｓ１５では、校正スペクトルに二次微分を施して、二次微分スペクトルを生成し、二次微分スペクトルに基づいて第２ノイズ指標を算出する。第２ノイズ指標は、校正スペクトルに含まれるノイズの程度の指標である。
第２記録工程Ｓ１６では、第２処理部２７２が、第２ノイズ指標が第２閾値ＴＨ２以上である校正スペクトルを記録する。

【0081】

次に、対象パラメータ値算出工程Ｓ２について説明する。対象パラメータ値算出工程Ｓ２は、図９に示すように、対象物照射工程Ｓ２１と、対象物検出工程Ｓ２２と、対象スペクトル生成工程Ｓ２３と、対象物第１ノイズ評価工程Ｓ２４と、対象物第１記録工程Ｓ２５と、対象物処理工程Ｓ２６と、を含む。
対象物照射工程Ｓ２１では、冷却部２９によって分光モジュール２０を冷却した状態（図示された例では、冷却部２９によって分光モジュール２０へ送風した状態）で、照射装置２１が、対象物１０に照射光Ｌ１として近赤外線を照射する。
対象物検出工程Ｓ２２では、冷却部２９によって分光モジュール２０を冷却した状態（図示された例では、冷却部２９によって分光モジュール２０へ送風した状態）で、検出装置２５が、対象物１０によって反射された反射光（対象反射光）Ｌ２の強度を検出する。
図２に示す例では、対象物照射工程Ｓ２１及び対象物検出工程Ｓ２２は、図７の校正試料照射工程Ｓ１２及び校正試料検出工程Ｓ１３で校正試料５１が置かれた雰囲気温度と概ね同じ雰囲気温度に置かれた対象物１０に対して行われることが望ましい。
対象スペクトル生成工程Ｓ２３は、第１対象スペクトル生成工程と、第２対象スペクトル生成工程とを含む。第１対象スペクトル生成工程では、生成装置２５の第１生成部２５１が、第１対象スペクトルを生成する。第１対象スペクトルは、複数の波長点における対象反射光Ｌ２の強度に関する情報を含む。第２対象スペクトル生成工程では、第１対象スペクトルと第２記録工程Ｓ１６で記録された校正スペクトルとに基づいて複数の波長点における吸光度を算出し、複数の波長点における吸光度を含む吸光度スペクトル（第２対象スペクトル）を算出する。
対象物第１ノイズ評価工程Ｓ２４では、第１処理部２７１が、第２対象スペクトルを局所的に平均化して、局所平均化スペクトル（局所平均化対象スペクトル）を生成する。また、対象物第１ノイズ評価工程Ｓ２４では、第１処理部２７１が、第２対象スペクトルと局所平均化対象スペクトルの差に基づいて第１ノイズ指標（対象物第１ノイズ指標）を算出する。対象物第１ノイズ指標は、対象スペクトルに含まれるノイズの程度の指標である。算出された対象物第１ノイズ指標は、処理装置２７を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。
対象物第１記録工程Ｓ２５では、第１処理部２７１が、第１ノイズ指標が第１閾値ＴＨ１以上である第２対象スペクトルを記録する。第１ノイズ指標と第１閾値ＴＨ１の比較結果は、処理装置２７を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。
対象物処理工程Ｓ２６では、対象物第１記録工程Ｓ２５で記録された第２対象スペクトルの各々に、処理装置２７により、平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数のパラメータ値を算出する。このような処理の詳細は、例えば特開２０１９－８６４９９号公報に記載されている。

【0082】

次に、判定工程Ｓ３について説明する。
判定工程Ｓ３では、解析部２８２が、判定装置２８の記憶部２８１に記憶された回帰式（図２に示す例では標準回帰式）、及び対象物処置工程Ｓ２６において算出したパラメータ値に基づいて、対象物１０の樹脂材料の予測分子量を算出する。そして、算出した予測分子量に基づいて、判定部２８３において対象物１０の状態を判定する。このような判定の詳細は、例えば特開２０１９－８６４９９号公報に記載されている。

【0083】

以上の方法により、対象物１０の状態を判定することができる。

【0084】

なお、検査工程は検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１を含まなくてもよい。この場合、対象パラメータ算出工程Ｓ２の対象スペクトル生成工程Ｓ２３は、第２対象スペクトル生成工程を含まなくてもよい。また、この場合、対象パラメータ算出工程Ｓ２の対象物第１ノイズ評価工程Ｓ２４では、第１対象スペクトルを局所的に平均化して、局所平均化対象スペクトルを生成し、第１対象スペクトルと局所平均化対象スペクトルとの差に基づいて第１ノイズ指標を算出してもよい。また、この場合、対象物第１記録工程Ｓ２５では、第１処理部２７１が、第１ノイズ指標が第１閾値ＴＨ１以上である第１対象スペクトルを記録してもよい。そして、対象物処理工程Ｓ２６では、記録された第１対象スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数の対象パラメータ値を算出してもよい。

【0085】

また、検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１は、第２ノイズ評価工程Ｓ１５を含まなくてもよい。この場合、第２記録工程Ｓ１６では、校正スペクトル生成工程Ｓ１４で生成された全ての校正スペクトルが記録されてよい。

【0086】

また、対象パラメータ値算出工程Ｓ２は、対象物第１ノイズ評価工程Ｓ２４を含まなくてもよい。この場合、対象物第１記録工程Ｓ２５では、対象スペクトル生成工程Ｓ２３で生成された全ての第１対象スペクトルが記録されてよい。

【0087】

〔検査システムの製造方法〕
次に、上述の検査システム１５の製造方法について説明する。検査システム１５の製造方法は、検査システム製造工程を含む。図１０に示す例では、検査システム製造工程は、準備工程Ｓ４と、回帰式作成工程Ｓ５とを含む。

【0088】

準備工程Ｓ４では、図２に示すような分光モジュール２０（照射装置２１及び検出装置２４）、処理装置２７、判定装置２８及び冷却部２９を準備する。

【0089】

〔回帰式作成工程〕
次に、回帰式作成工程Ｓ５について説明する。回帰式作成工程Ｓ５は、図１１に示すように、標準試料準備工程Ｓ５１と、回帰式用校正スペクトル記録工程Ｓ５２と、標準パラメータ値算出工程Ｓ５３と、解析工程Ｓ５４と、回帰式記録工程Ｓ５５とを含む。回帰式用校正スペクトル記録工程Ｓ５２は、上述した検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１と同様の工程であるため、ここでは説明を省略する。

【0090】

標準試料準備工程Ｓ５１では、複数の標準試料を準備する。各標準試料は、対象物１０と同様に構成されており、樹脂材料を含む樹脂層を備えている。樹脂材料の分子量は既知である。例えば、各標準試料の樹脂材料の分子量は、事前に液体クロマトグラフ付属のゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）システムにより測定されている。各標準試料の分子量は、例えば、１００００以上２２００００以下である。

【0091】

標準パラメータ値算出工程Ｓ５３は、図１２に示すように、標準試料照射工程Ｓ５３１と、標準試料検出工程Ｓ５３２と、標準スペクトル生成工程Ｓ５３３と、標準試料第１ノイズ評価工程Ｓ５３４と、標準試料第１記録工程Ｓ５３５と、標準試料処理工程Ｓ５３６と、を含む。
標準試料照射工程Ｓ５３１では、冷却部２９によって分光モジュール２０を冷却した状態（図示された例では、冷却部２９によって分光モジュール２０へ送風した状態）で、照射装置２１が、標準試料準備工程Ｓ５１で準備した標準試料に照射光として近赤外線を照射する。
標準試料検出工程Ｓ５３２では、冷却部２９によって分光モジュール２０を冷却した状態（図示された例では、冷却部２９によって分光モジュール２０へ送風した状態）で、検出装置２５が、標準試料によって反射された反射光（標準反射光）の強度を検出する。
なお、標準試料照射工程Ｓ５３１及び標準試料検出工程Ｓ５３２は、図９に示す対象物照射工程Ｓ２１及び対象物検出工程Ｓ２２が行われる際に対象物１０が置かれる雰囲気温度と概ね同じ雰囲気温度に置かれた標準試料に対して行われることが望ましい。図２に示す例では、標準試料照射工程Ｓ５３１及び標準試料検出工程Ｓ５３２は、特定の（単一の）雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた標準試料に対して行われる。
標準スペクトル生成工程Ｓ５３３は、第１標準スペクトル生成工程と、第２標準スペクトル生成工程とを含む。第１標準スペクトル生成工程では、生成装置２５の第１生成部２５１が、標準スペクトル（第１標準スペクトル）を生成する。第１標準スペクトルは、複数の波長点における標準反射光の強度に関する情報を含む。第２対象スペクトル生成工程では、第１標準スペクトルと回帰式用校正スペクトル記録工程Ｓ５２の第２記録工程で記録された校正スペクトルとに基づいて複数の波長点における吸光度を算出し、複数の波長点における吸光度を含む吸光度スペクトル（第２標準スペクトル）を算出する。
標準試料第１ノイズ評価工程Ｓ５３４では、第１処理部２７１が、第２標準スペクトルを局所的に平均化して、局所平均化スペクトル（局所平均化標準スペクトル）を生成する。また、標準試料第１ノイズ評価工程Ｓ５３４では、第１処理部２７１が、第２標準スペクトルと局所平均化標準スペクトルの差に基づいて第１ノイズ指標（標準試料第１ノイズ指標）を算出する。標準試料第１ノイズ指標は、標準スペクトルに含まれるノイズの程度の指標である。算出された標準試料第１ノイズ指標は、処理装置２７を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。
標準試料第１記録工程Ｓ５３５では、第１処理部２７１が、標準試料第１ノイズ指標が第１閾値ＴＨ１以上である第２標準スペクトルを記録する。標準試料第１ノイズ指標と第１閾値ＴＨ１の比較結果は、処理装置２７を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。
標準試料処理工程Ｓ５３６では、標準試料第１記録工程Ｓ５３５で記録された第２標準スペクトルの各々に、処理装置２７により、平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数のパラメータ値（標準パラメータ値）を算出する。

【0092】

解析工程Ｓ５４では、判定装置２８の解析部２８２が、各標準試料の複数の標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式（図２に示す例では標準回帰式）を、多変量解析手法を用いて作成する。多変量解析は、記憶部２８１に多変量解析用のプログラムを記録しておき、このプログラムを解析部２８２において実行することによって行うことができる。
多変量解析手法として、例えばＰＬＳ回帰分析を行うことができる。ＰＬＳ回帰分析を実施するためのソフトウエアとして、カモソフトウェア製の多変量解析ソフト Ｔｈｅ Ｕｎｓｃｒａｍｂｌｅｒ Ｘを用いることができる。
解析工程Ｓ５４においては、ＰＬＳ回帰分析以外の多変量解析が採用されてもよい。例えば、ＣＬＳ（Ｃｌａｓｓｉｃａｌ ｌｅａｓｔ ｓｑｕａｒｅ）、ＩＬＳ（Ｉｎｖｅｒｓｅ ｌｅａｓｔ ｓｑｕａｒｅ）、ＭＬＲ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ ｌｉｎｅｒ ｒｅｇｒｅｓｓｉｏｎ）、ＰＣＲ（Ｐｒｉｎｃｉｃａｌ ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ ｒｅｇｒｅｓｓｉｏｎ ａｎａｌｙｓｉｓ）などの多変量解析手法が採用されてもよい。

【0093】

回帰式記録工程Ｓ５５では、判定装置２８の記憶部２８１が、解析工程で作成した回帰式を記録する。

【0094】

以上の方法により、上述の検査システム１５を製造することができる。

【0095】

なお、回帰式作成工程Ｓ５は、回帰式用校正スペクトル記録工程Ｓ５２を含まなくてもよい。この場合、標準パラメータ値算出工程Ｓ５３の標準スペクトル生成工程Ｓ５３３は、第２標準スペクトル生成工程を含まなくてもよい。また、この場合、標準パラメータ値算出工程Ｓ５３の標準試料第１ノイズ評価工程Ｓ５３４では、第１標準スペクトルを局所的に平均化して、局所平均化標準スペクトルを生成し、第１標準スペクトルと局所平均化標準スペクトルとの差に基づいて標準試料第１ノイズ指標を算出してもよい。また、この場合、標準試料第１記録工程Ｓ５３５では、第１処理部２７１が、標準試料第１ノイズ指標が第１閾値ＴＨ１以上である第１標準スペクトルを記録してもよい。そして、標準試料処理工程Ｓ５３６では、記録された第１標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数の標準パラメータ値を算出してもよい。

【0096】

また、標準パラメータ値算出工程Ｓ５３は、標準試料第１ノイズ評価工程Ｓ５３４を含まなくてもよい。この場合、標準試料第１記録工程Ｓ５３５では、標準スペクトル生成工程Ｓ５３３で生成された全ての第１標準スペクトルが記録されてよい。

【0097】

また、標準試料処理工程Ｓ５３６及び解析工程Ｓ５４では、生成装置２５で生成された第１標準スペクトル（反射スペクトル）又は第２標準スペクトル（吸光度スペクトル）に微分などの処理を施すことによって得られる標準パラメータ値に基づいて、多変量解析を実施する例を示した。しかしながら、これに限られることはない。例えば、第１標準スペクトル（反射スペクトル）を反転させることによって得られる吸収スペクトル（標準吸収スペクトル）に微分などの処理を施すことによって得られるパラメータ値に基づいて、多変量解析を実施してもよい。また、第１標準スペクトル（反射スペクトル）、第２標準スペクトル（吸光度スペクトル）又は標準吸収スペクトルに含まれる、各波長点における強度、反射率、吸収率などの値に基づいて、多変量解析を実施してもよい。

【0098】

さらに、標準試料第１記録工程Ｓ５３５で使用される第１閾値ＴＨ１は、対象物第１記録工程Ｓ２５で使用される第１閾値ＴＨ１と同じであってもよいし、異なっていてもよい。
同様に、回帰式用校正スペクトル記録工程Ｓ５２で使用される第２閾値ＴＨ２は、検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１で使用される第２閾値ＴＨ２と同じであってもよいし、異なっていてもよい。

【0099】

回帰式作成工程Ｓ５の具体例については、例えば特開２０１９－８６４９９号公報に記載されている。

【0100】

〔第１ノイズ評価工程の詳細〕
次に、第１ノイズ評価工程Ｓ２４，Ｓ５３４について詳述する。図１３に示す例では、第１ノイズ評価工程Ｓ２４，Ｓ５３４は、局所平均化スペクトル生成工程Ｓ６と、第１ノイズ指標算出工程Ｓ７とを含む。ここでは、対象物第１ノイズ評価工程Ｓ２４を例に挙げて説明する。

【0101】

まず、局所平均化スペクトル生成工程Ｓ６について説明する。局所平均化スペクトル生成工程Ｓ６では、局所平均化スペクトルを生成する。ここでは、局所平均化スペクトルとして局所平均化対象スペクトルを生成する場合を例に挙げて説明する。図１４は、対象スペクトルＡ１の一例を示す図である。

【0102】

まず、対象スペクトルＡ１を局所的に平均化する。例えば、対象スペクトルＡ１の各波長点において局所平均値を算出する工程を実施する。局所平均値は、対象となる波長点における対象スペクトルＡ１の値、及び対象となる波長点の近傍に位置する複数の波長点における対象スペクトルＡ１の値を平均することによって算出される。

【0103】

対象スペクトルＡ１の値が吸光度である例を説明する。例えば１２００ｎｍの波長点における局所平均値は、以下のように算出される。
まず、１２００ｎｍにおける吸光度Ａｂｓ（１２００）を取得する。続いて、１２００ｎｍの近傍に位置する複数の波長点における対象スペクトルＡ１の値を取得する。検出装置２４の分解能が３ｎｍである場合、例えば、１１８８ｎｍにおける吸光度Ａｂｓ（１１８８）、１１９１ｎｍにおける吸光度Ａｂｓ（１１９１）、１１９４ｎｍにおける吸光度Ａｂｓ（１１９４）、１１９７ｎｍにおける吸光度Ａｂｓ（１１９７）、１２０３ｎｍにおける吸光度Ａｂｓ（１２０３）、１２０６ｎｍにおける吸光度Ａｂｓ（１２０６）、１２０９ｎｍにおける吸光度Ａｂｓ（１２０９）及び１２１２ｎｍにおける吸光度Ａｂｓ（１２１２）を取得する。続いて、これらの９個の波長点における吸光度の平均値を算出する。この平均値が、１２００ｎｍの波長点における局所平均値である。

【0104】

各波長点において局所平均値を算出する。これによって、図１５に示すように、局所平均化スペクトルＡ２を生成できる。図１５においては、対象スペクトルＡ１が一点鎖線で表され、平均化スペクトルＡ２が実線で表されている。

【0105】

局所平均値を算出する時の波長点の数は、上述の９個には限られない。波長点の数は、例えば５個以上であり、７個以上であってもよい。波長点の数は、例えば１５個以下であり、１３個以下であってもよい。

【0106】

なお、局所平均化標準スペクトルは、局所平均化対象スペクトルを生成する場合と同様に、標準スペクトルを局所的に平均化して各波長点における局所平均値を算出することにより生成される。

【0107】

次に、第１ノイズ指標算出工程Ｓ７について説明する。第１ノイズ指標算出工程Ｓ７では、第１ノイズ指標を算出する。ここでは、第１ノイズ指標として対象物第１ノイズ指標を算出する場合を例に挙げて説明する。

【0108】

第１ノイズ指標算出工程Ｓ７においては、対象スペクトルＡ１と局所平均化スペクトルＡ２の差を算出する。例えば、各波長点において、対象スペクトルＡ１の吸光度から平均化スペクトルＡ２の局所平均値を減算する。これによって生成されるスペクトルを、差分スペクトルとも称する。図１６は、差分スペクトルＡ３の一例を示す図である。図１６においては、対象スペクトルＡ１が一点鎖線で表され、平均化スペクトルＡ２が二点鎖線で表され、差分スペクトルＡ３が実線で表されている。

【0109】

続いて、第１ノイズ指標算出工程Ｓ７においては、対象スペクトルＡ１と局所平均化スペクトルＡ２の差の標準偏差を算出する。標準偏差は、対象スペクトルＡ１と局所平均化スペクトルＡ２の差のばらつきの程度を表す。仮に、対象スペクトルＡ１にノイズが含まれていない場合、対象スペクトルＡ１と局所平均化スペクトルＡ２の差がほぼゼロになると予想される。従って、標準偏差が小さいことは、対象スペクトルＡ１に含まれるノイズが少ないことを意味する。標準偏差が大きいことは、対象スペクトルＡ１に含まれるノイズが多いことを意味する。

【0110】

なお、ノイズとは関係なく、対象スペクトルＡ１のピークの位置では対象スペクトルＡ１と局所平均化スペクトルＡ２の差が大きい。対象スペクトルＡ１に含まれるノイズを適切に評価するためには、対象スペクトルＡ１のピークから離れた位置において差の標準偏差を算出することが好ましい。例えば図１６に示すように、ピークから離れている安定領域Ｒ１において差の標準偏差を算出してもよい。具体的には、まず、安定領域Ｒ１に含まれる複数の波長点における差の値を取得する。続いて、複数の差の値の標準偏差を算出する。

【0111】

安定領域Ｒ１は、対象物１０に含まれると予想される材料の情報に基づいて予め定められていてもよい。例えば、対象物１０にポリエチレンが含まれると予想される場合、対象スペクトルＡ１は、約１２００ｎｍに現れるピークを含む。この場合、９７０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の波長域が安定領域Ｒ１として予め定められていてもよい。

【0112】

続いて、第１ノイズ指標算出工程Ｓ７においては、標準偏差に基づいて第１ノイズ指標を算出する。第１ノイズ指標は、対象スペクトルＡ１に含まれるノイズの程度の指標である。第１ノイズ指標は、例えば、標準偏差の逆数である。第１ノイズ指標が大きいことは、対象スペクトルＡ１に含まれるノイズが少ないことを意味する。第１ノイズ指標が小さいことは、対象スペクトルＡ１に含まれるノイズが多いことを意味する。算出された第１ノイズ指標は、処理装置２７を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。

【0113】

なお、標準試料第１ノイズ指標は、対象物第１ノイズ指標を算出する場合と同様に、標準スペクトルとその局所平均化スペクトルの差の標準偏差に基づいて算出される。

【0114】

対象物第１ノイズ指標が第１閾値ＴＨ１未満である場合、図９に示すように、工程Ｓ２１、Ｓ２２、Ｓ２３及びＳ２４を再び対象物１０に対して実施してもよい。同様に、標準試料第１ノイズ指標が第１閾値ＴＨ１未満である場合、図１２に示すように、工程Ｓ５３１、Ｓ５３２、Ｓ５３３及びＳ５３４を再び標準試料に対して実施してもよい。図５に示すようにケース４０を手で保持する場合、検査工程又は検査システム製造工程（回帰式作成工程Ｓ５）の間に手が動くことなどに起因して対象スペクトルＡ１又は標準スペクトルにノイズが生じることが考えられる。図６に示す検査工程又は図１０に示す検査システム製造工程によれば、手の動きなどに起因して生じたノイズを多く含む対象スペクトルＡ１又は標準スペクトルを排除できる。例えば、分光モジュール２０の振動に起因して生じたノイズを多く含む対象スペクトルＡ１又は標準スペクトルを排除できる。また、例えば、図９の対象物検出工程Ｓ２２又は図１２の標準試料検出工程Ｓ５３２において空気の反射光を取得し、この反射光が対象スペクトルＡ１や標準スペクトルの生成に用いられることに起因して生じたノイズを多く含む対象スペクトルＡ１又は標準スペクトルを排除できる。また、第１閾値ＴＨ１以上の第１ノイズ指標を有する対象スペクトルＡ１又は標準スペクトルが得られるまで検査工程又は回帰式作成工程Ｓ５を繰り返し実施できる。このため、適切な対象スペクトルＡ１又は標準スペクトルを記録できる。

【0115】

〔第２ノイズ評価工程の詳細〕
次に、第２ノイズ評価工程Ｓ１５について詳述する。図１７に示す例では、第２ノイズ評価工程Ｓ１５は、二次微分スペクトル生成工程Ｓ１５１と、第２ノイズ指標算出工程Ｓ１５２とを含む。

【0116】

まず、二次微分スペクトル生成工程Ｓ１５１について説明する。二次微分スペクトル生成工程Ｓ１５１においては、校正スペクトルを二次微分する。二次微分スペクトルを生成する。二次微分スペクトルの値が小さいことは、校正スペクトルに含まれているノイズが少ないことを意味する。

【0117】

第２ノイズ指標算出工程Ｓ１５２においては、二次微分スペクトルに基づいて標準偏差を算出する。例えば、まず、複数の波長点における二次微分スペクトルの値の標準偏差を算出する。二次微分スペクトルの全波長域に基づいて標準偏差が算出されてもよく、二次微分スペクトルの一部の波長域に基づいて標準偏差が算出されてもよい。例えば、図１８に示すように１６００ｎｍ以上の波長域においては校正スペクトルの値が低下することが予想される場合、１６００ｎｍ以上の波長域における二次微分スペクトルの値を考慮せずに標準偏差を算出してもよい。

【0118】

続いて、第２ノイズ指標算出工程Ｓ１５２においては、標準偏差に基づいて第２ノイズ指標を算出する。第２ノイズ指標は、校正スペクトルに含まれるノイズの程度の指標である。第２ノイズ指標は、例えば、標準偏差の逆数である。第２ノイズ指標が大きいことは、校正スペクトルに含まれるノイズが少ないことを意味する。第２ノイズ指標が小さいことは、校正スペクトルに含まれるノイズが多いことを意味する。

【0119】

なお、第２ノイズ指標が第２閾値ＴＨ２未満である場合、校正試料５１の表面の全体又は一部が汚れていることが考えられる。この場合、校正試料５１を別のものに変更するか、若しくは、校正試料５１における測定位置を変更してもよい。その後、新たな校正試料５１に対して、若しくは校正試料５１の新たな測定位置に対して、図７に示すように、工程Ｓ１２、Ｓ１３、Ｓ１４及びＳ１５を再び実施してもよい。
或いは、第２ノイズ指標が第２閾値ＴＨ２未満である場合、校正反射光の受光中に、手の動きなどに起因して分光モジュール２０が校正試料５１に対して移動したことが考えられる。この場合、同じ校正試料５１の同じ測定位置に対して、若しくは同じ校正試料５１の新たな測定位置に対して、図７に示すように、工程Ｓ１２、Ｓ１３、Ｓ１４及びＳ１５を再び実施してもよい。
このような第２ノイズ評価工程Ｓ１５を行うことにより、校正試料５１の表面の汚れや手の動きなどに起因して生じたノイズを多く含む校正スペクトルを排除できる。また、第２閾値ＴＨ２以上の第２ノイズ指標を有する校正スペクトルが得られるまで校正工程を繰り返し実施できる。このため、適切な校正スペクトルを記録できる。

【0120】

検査用校正スペクトル生成工程Ｓ１では、第２閾値ＴＨ２以上の第２ノイズ指標を有するＮ個の校正スペクトルが得られるまで、工程Ｓ１２、Ｓ１３、Ｓ１４及びＳ１５が繰り返されてもよい。例えば、記録されている校正スペクトルの数がＮ個未満である場合、校正試料５１における測定位置を変更してもよい。その後、校正試料５１の新たな測定位置に対して、Ｓ１２、Ｓ１３、Ｓ１４及びＳ１５を再び実施してもよい。このような検査用校正スペクトル生成工程Ｓ１によれば、第２閾値ＴＨ２以上の第２ノイズ指標を有するＮ個の校正スペクトルを得ることができる。Ｎは、例えば２以上であり、３以上であってもよく、４以上であってもよい。Ｎは、例えば１０以下であってもよい。

【0121】

検査用校正スペクトル生成工程Ｓ１においては、記録されているＮ個の校正スペクトルの平均を算出してもよい。これによって、平均化校正スペクトルを生成できる。平均化校正スペクトルの各波長点におけるスペクトル値は、Ｎ個の校正スペクトルのスペクトル値の平均値である。例えば、１２００ｎｍの波長点における平均化校正スペクトルの値は、Ｎ個の校正スペクトルの、１２００ｎｍの波長点における値の平均値である。

【0122】

上述の第１生成部２５１は、平均化校正スペクトルを基準として用いることにより対象スペクトルを生成してもよい。これにより、校正スペクトルのノイズの影響が対象スペクトルに現れることを更に抑制できる。

【0123】

〔ノイズが対象スペクトルに与える影響〕
次に、図１９乃至図２３を参照して、上述したノイズが対象スペクトル及び予測分子量に与える影響について説明する。ここでは校正スペクトルに含まれるノイズが対象スペクトル及び予測分子量に与える影響について説明する。

【0124】

図１９は、対象物１０の第１スペクトルとノイズの少ない校正スペクトルとを用いて生成された、対象物１０の第２対象スペクトル（吸光度スペクトル）を示す図である。具体的には、図１９に示す例では、表面の汚れが無い校正試料５１が用いられ、校正試料５１に対して分光モジュール２０がしっかりと固定された状態で校正反射光が受光された。そして、このような適切な条件で受光された校正反射光に基づいて、校正スペクトルが生成された。
図１９には、１つの対象物１０の９つの測定位置に対して行われた検査工程で生成された第２対象スペクトルが示されている。
図１９に示す例では、生成された９つの第２対象スペクトルのノイズ指標は、それぞれ、９６５２．８３、１４２１６．５、１０５４２．８、１２７８３．５、１２０８４．６、１０２３１．１、１３０３４．２、１３４４０．５及び１１９０７．５であった。

【0125】

図２０は、対象物１０の第１スペクトルとノイズの多い校正スペクトルとを用いて生成された、対象物１０の第２対象スペクトル（吸光度スペクトル）を示す図である。図２０に示す例では、図１９に示す例で使用された対象物１０及び校正試料５１と同じ対象物１０及び同じ校正試料５１が用いられた。しかし、図２０に示す例では、校正スペクトルは、校正試料５１から適切に受光された校正反射光と空気からの反射光とに基づいて生成された。空気からの反射光は、手の動きなどに起因して分光モジュール２０が校正試料５１から離れた状態で、検出装置２４によって受光されたものと考えられる。
図２０には、図１９に示す例と同様に、対象物１０の９つの測定位置に対して行われた検査工程で生成された第２対象スペクトルが示されている。
図２０に示す９つの第２対象スペクトルのノイズ指標は、それぞれ、７７．０７３９、７７．１０６７、７７．００１０、７７．０６１８、７７．０８６２、７７．０７６４、７７．０７９１、７７．０１４３及び７７．１１２３であった。

【0126】

図２１は、対象物１０の第１スペクトルとノイズの多い校正スペクトルとを用いて生成された、対象物１０の第２対象スペクトル（吸光度スペクトル）を示す図である。図２１に示す例では、図１９に示す例で使用された対象物１０及び校正試料５１と同じ対象物１０及び同じ校正試料５１が用いられた。しかし、図２１に示す例では、校正反射光を受光する際、手の動きなどに起因して分光モジュール２０が校正試料５１に対して振動した。
図２１には、図１９に示す例と同様に、対象物１０の９つの測定位置に対して行われた検査工程で生成された第２対象スペクトルが示されている。
図２１に示す９つの第２対象スペクトルのノイズ指標は、それぞれ、３７６．２５６、３７７．２１９、３８１．００４、３８１．０９４、３７７．３０６、３７９．４９３、３７７．３８３、３７７．８２４及び３７６．８１９であった。

【0127】

図１９乃至図２１から理解されるように、校正スペクトルのノイズは、校正スペクトルを用いて生成される対象スペクトルに影響を与える。そして、対象スペクトルに基づいて算出される予測分子量に影響を与える。

【0128】

図２２には、分子量が１３００００、４００００及び９５０００の樹脂材料を含む対象物１０について、図１９に示す条件と同様の条件で算出された予測分子量と、図２０に示す条件と同様の条件で算出された予測分子量とが示されている。図２２において、図１９に示す条件で算出された予測分子量は、四角の記号で示されている。また、図２２において、図２０に示す条件で算出された予測分子量は、三角の記号で示されている。図２２から理解されるように、算出された予測分子量は、実際の分子量と大きく異なっていることがわかる。

【0129】

図２３には、分子量が１３００００、４００００及び９５０００の樹脂材料を含む対象物１０について、図１９に示す条件と同様の条件で算出された予測分子量と、図２１に示す条件と同様の条件で算出された予測分子量とが示されている。図２３において、図１９に示す条件で算出された予測分子量は、四角の記号で示されている。また、図２３において、図２１に示す条件で算出された予測分子量は、丸の記号で示されている。図２３に示すように、算出された予測分子量のいくつかは負の値となっている。このことは、予測分子量を適切に算出できていないことを示している。

【0130】

なお、図示された例では、対象物１０、校正試料５１及び標準試料の反射光を利用して対象スペクトル、校正スペクトル及び標準スペクトルを生成したが、これに限られない。対象物１０、校正試料５１及び標準試料の透過光を利用して対象スペクトル、校正スペクトル及び標準スペクトルを生成してもよい。
この場合、パラメータ値算出工程Ｓ２、Ｓ５３では、複数の波長点における透過光の強度の値が、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出されもよい。
また、この場合、吸光度Ａｂｓは、例えば以下の式により算出される。
Ａｂｓ＝－ｌｏｇ_１０（Ｉ／Ｉｏ）
Ｉは、対象物１０を透過した透過光の強度である。Ｉｏは、校正試料を透過した透過光の強度である。

【0131】

また、図示された例では、回帰式は、対象物１０の反射光又は透過光に基づいて得られる複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示すが、これに限られない。回帰式は、対象物１０の反射光又は透過光に基づいて得られる複数のパラメータ値と、対象物１０の樹脂材料の破断強度、線膨張係数、弾性係数、硬度、結晶度、その他の物性値との関係を示すものであってもよい。言い換えると、判定工程Ｓ３では、対象物１０の樹脂材料の破断強度、線膨張係数、弾性係数、硬度、結晶度、その他の物性値が算出されてもよい。この場合も、算出された物性値に基づいて、対象物１０の状態を判定することができる。

【0132】

〔第１の実施の形態の効果〕
第１の実施の形態によれば、照射装置２１及び／又は検出装置２４が冷却部２９により冷却されることにより、対象物１０、校正試料５１又は標準試料からの反射光の強度を検出中に分光モジュール２０の温度が上昇することが抑制される。これにより、対象物１０、校正試料５１又は標準試料からの反射光の強度を安定して検出するこができ、信頼性の高い検査結果を得ることができる。

【0133】

なお、検出システム１５が置かれている雰囲気温度が低い場合は、分光モジュール２０の温度が分光モジュール２０で検出される反射光の強度に影響を与えるほど上昇する、という虞は低い。この場合、照射装置２１及び／又は検出装置２４を冷却部２９により冷却しなくてもよい。

【0134】

また、検出システム１５が置かれている雰囲気温度が低く、当該雰囲気温度が分光モジュール２０により検出される反射光の強度に影響を与える場合は、照射装置２１及び／又は検出装置２４を断熱性の高い材料で覆って、照射装置２１及び／又は検出装置２４の温度低下を防止してもよい。言い換えると、検査システム１５は、照射装置２１及び／又は検出装置２４を覆う断熱材を備えていてもよい。あるいは、この場合、照射装置２１及び／又は検出装置２４をヒーター等で加熱してもよい。言い換えると、検査システム１５は、照射装置２１及び／又は検出装置２４を加熱する加熱部を備えていてもよい。

【0135】

さらに、分光モジュール２０による反射光の強度の検出は、分光モジュール２０の電源を入れてからある程度の時間が経過してから行うことが好ましい。言い換えると、反射光を検出する前に、分光モジュール２０を暖機運転することが好ましい。この場合、暖機運転中に照射装置２１及び／又は検出装置２４の温度が安定して、反射光の強度を安定して検出することができる。

【0136】

また、第１の実施の形態によれば、図９に示す対象物第１ノイズ評価工程Ｓ２４を実施することにより、対象スペクトルに含まれるノイズを評価できる。このため、手の動きなどに起因して生じたノイズを多く含む対象スペクトルを排除できる。また、第１閾値ＴＨ１以上の第１ノイズ指標を有する対象スペクトルが得られるまで対象パラメータ値算出工程Ｓ２を繰り返し実施できる。このため、適切な対象スペクトルを記録できる。従って、樹脂層１２を構成する材料の状態を適切に判定できる。

【0137】

また、第１の実施の形態によれば、図１２に示す標準試料第１ノイズ評価工程Ｓ５３４を実施することにより、標準スペクトルに含まれるノイズを評価できる。このため、手の動きなどに起因して生じたノイズを多く含む標準スペクトルを排除できる。また、第１閾値ＴＨ１以上の第１ノイズ指標を有する標準スペクトルが得られるまで標準パラメータ値算出工程Ｓ５３を繰り返し実施できる。このため、適切な標準スペクトルを記録できる。従って、樹脂層１２を構成する材料の予測分子量を適切に算出可能な回帰式を作成することができる。

【0138】

また、第２ノイズ評価工程Ｓ１５を実施することにより、校正スペクトルに含まれるノイズを評価できる。このため、校正試料５１の表面が汚れていることなどに起因して生じたノイズを多く含む校正スペクトルを排除できる。また、第２閾値ＴＨ２以上の第２ノイズ指標を有する校正スペクトルが得られるまで検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１を繰り返し実施できる。このため、適切な校正スペクトルを記録できる。従って、樹脂層１２を構成する材料の組成を適切に判定できる。

【0139】

上述した一実施形態を様々に変更できる。以下、必要に応じて図面を参照しながら、その他の実施形態について説明する。以下の説明及び以下の説明で用いる図面では、上述した一実施形態と同様に構成され得る部分について、上述の一実施形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いる。重複する説明は省略する。また、上述した一実施形態において得られる作用効果がその他の実施形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略する場合もある。

【0140】

（第２の実施の形態）
次に、図２４乃至図２７を参照して、第２の実施の形態による検査システムについて説明する。第２の実施の形態による検査システムは、第１の実施の形態による検査システム１５と比較して、判定工程Ｓ３で用いられる回帰式（すなわち、回帰式作成工程Ｓ５における回帰式の作成方法）が異なっている。その他の点は、第１の実施の形態による検査システム１５と同様である。第２の実施の形態において、第１の実施の形態による検査システム１５と同様の部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

【0141】

図２４は、第２の実施の形態による検査システム１５を示すブロック図である。
図２４に示す検査システム１５で用いられる回帰式には、次のような工夫がなされている。まず、本件発明者らは、同じ対象物１０であっても、対象物１０が置かれている雰囲気温度が変化すると、得られる反射スペクトルが変化することがあることを発見した。このことは、対象物１０の樹脂材料の予測分子量及び予測分子量に基づく検査結果が、雰囲気温度による影響を受けることを意味する。そこで、第２の実施の形態の回帰式には、対象物１０が置かれている雰囲気温度の変化に起因する予測分子量の変化を低減させるための工夫がなされている。

【0142】

対象物１０が置かれている雰囲気温度が変化すると生成装置２５で生成される反射スペクトルが変化する原因として、本件発明者らは、上記雰囲気温度が検出装置２４で検出される反射光の強度（生成装置２５で生成される反射スペクトルのピーク位置）に影響を与えることを見出した。すなわち、同じ対象物１０によって反射された反射光であっても、対象物１０が置かれている雰囲気温度によって、検出装置２４で検出される反射光の強度が異なることを見出した。

【0143】

この点について、本件発明者らは、様々な（複数の）雰囲気温度に置かれた標準試料のパラメータ値に基づいて回帰式を作成すれば、対象反射光Ｌ２が取得される雰囲気温度の違いが予測分子量に与える影響を抑制することができることを発見した。すなわち、従来、回帰式の作成は、一の雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた標準試料の反射スペクトルに基づいて行われた。これに対し、標準試料を様々な雰囲気温度（例えば５℃、１５℃、２５℃、３５℃）に置いて標準スペクトルを得、これら様々な雰囲気温度における標準スペクトルの情報を回帰式に反映させることにより、対象反射光Ｌ２が取得される雰囲気温度の違いが予測分子量に与える影響を抑制することができることを発見した。

【0144】

さらに、本件発明者らは、標準試料が置かれた雰囲気温度の違いによって標準スペクトルのピーク位置が概ね波長方向にのみ変化することを発見した。つまり、ある雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた標準試料から取得された標準反射光に基づいて生成された標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより、上記雰囲気温度とは異なる雰囲気温度（例えば５℃、１５℃、３５℃）に置かれた標準試料から取得される標準反射光に基づいて生成される標準スペクトルに似たスペクトルを得ることができることを発見した。したがって、標準反射光を実際に様々な雰囲気温度（例えば５℃、１５℃、２５℃、３５℃）に置かれた標準試料から取得しなくても、一つの雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた標準試料から取得された標準反射光に基づいて生成される標準スペクトルから、上記複数の雰囲気温度に置かれた標準試料から取得される標準反射光に基づいて生成される標準スペクトルに似たスペクトルを、簡単に生成することができることを見出した。

【0145】

図２５には、ある雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた標準試料から取得された標準反射光に基づいて生成された標準スペクトルＢ１が実線で示されている。また、図２５には、標準スペクトルＢ１を波長方向（図２５の横軸方向）に平行移動させることにより生成された複製標準スペクトルＢ１１、Ｂ１２、Ｂ１３、Ｂ１４、Ｂ１５、Ｂ１６が示されている。第１複製標準スペクトルＢ１１は、標準スペクトルＢ１を波長方向に－１ｎｍ平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第２複製標準スペクトルＢ１２は、標準スペクトルＢ１を波長方向に－０．５ｎｍ平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第３複製標準スペクトルＢ１３は、標準スペクトルＢ１を波長方向に＋０．５ｎｍ平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第４複製標準スペクトルＢ１４は、標準スペクトルＢ１を波長方向に＋１ｎｍ平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第５複製標準スペクトルＢ１５は、標準スペクトルＢ１を波長方向に＋１．５ｎｍ平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第６複製標準スペクトルＢ１６は、標準スペクトルＢ１を波長方向に＋２ｎｍ平行移動させることにより生成されたスペクトルである。複製標準スペクトルＢ１１、Ｂ１２、Ｂ１３、Ｂ１４、Ｂ１５、Ｂ１６は、標準スペクトルＢ１が取得された標準試料を約－１５～約４５℃の雰囲気温度に置いて取得された標準反射光から生成される標準スペクトルに似ている。

【0146】

以上の点を考慮して、図２４に示す検査システム１５で用いられる回帰式（汎用回帰式）は、次のようにして作成される。
まず、図１２の標準試料検出工程Ｓ５３２において、ある雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた標準試料からの標準反射光を取得する。そして、標準スペクトル生成工程Ｓ５３３において、上記標準反射光に基づいて標準スペクトル（図１２に示す例では第２標準スペクトル）を算出する。次に、標準スペクトルを波長方向に平行移動させて複製標準スペクトルを生成する。なお、複製標準スペクトルを生成する際に標準スペクトルを波長方向にどれだけ平行移動させるかは、検査システム１５が置かれることが想定される雰囲気温度に基づいて決定される。例えば、検査システム１５が５℃～３５℃の雰囲気温度に置かれることが想定される場合には、２５℃の雰囲気温度に置かれた標準試料からの標準反射光に基づいて生成された標準スペクトルを、波長方向（図２５の横軸方向）に－０．５ｎｍ～＋１．０ｎｍ平行移動させて複製標準スペクトルを生成ればよい。この場合、５℃～３５℃の雰囲気温度に置かれた標準試料からの標準反射光に基づいて生成される標準スペクトルに似た複製標準スペクトルを得ることができる。
次に、標準スペクトル及び複製標準スペクトルの各々に、平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数のパラメータ値をそれぞれ算出する。
そして、各標準試料の複数のパラメータ値（各標準試料の標準スペクトルに基づいて算出されたパラメータ値及び各標準スペクトルから生成された複製標準スペクトルに基づいて算出されたパラメータ値）と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する。

【0147】

このようにして得られた汎用回帰式を用いることにより、対象物１０が置かれた雰囲気温度の変化が当該対象物１０の樹脂材料の予測分子量に与える影響を、低減させることができる。とりわけ、標準反射光が取得された雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた対象物１０からの対象反射光に基づいて算出された予測分子量と、標準反射光が取得された雰囲気温度（例えば２５℃）以外の雰囲気温度（例えば０～２４℃、２６～４０℃）に置かれた対象物１０からの対象反射光に基づいて算出された予測分子量との違いを、小さくすることができる。このことは、標準反射光が取得された雰囲気温度（例えば２５℃）以外の雰囲気温度（例えば０～２４℃、２６～４０℃）に置かれた対象物１０からの対象反射光に基づいて予測分子量を算出した場合であっても、当該対象物１０の樹脂材料の実際の分子量に近い予測分子量を算出することができることを意味する。

【0148】

なお、上述の実施の形態においては、標準スペクトル及び複製標準スペクトルを用いて汎用回帰式を作成したが、これに限られない。汎用回帰式は、複製標準スペクトルのみを用いて作成されてもよい。

【0149】

図２６に、５℃、１５℃、２５℃及び３５℃の雰囲気温度に置かれた対象物１０に対して、図２に示す検査システム１５を用いることにより算出された当該対象物１０の樹脂材料の予測分子量と、当該樹脂材料の実際の分子量との関係が示されている。図２６に示す例では、回帰式として、２５℃の雰囲気温度に置かれた標準試料からの標準反射光から生成された標準スペクトルに基づいて作成された標準回帰式が用いられている。また、図２７には、図２６に示す例と同じ雰囲気温度に置かれた同じ対象物１０に対し、図２４に示す検査システム１５を用いることにより算出された対象物１０の樹脂材料の予測分子量と、当該樹脂材料の実際の分子量との関係が示されている。図２７に示す例では、回帰式として、２５℃の雰囲気温度に置かれた標準試料からの標準反射光から生成された標準スペクトルと、当該標準スペクトルを波長方向に－０．５ｎｍ～＋１．０ｎｍの範囲で平行移動させることにより生成された複製標準スペクトルとに基づいて作成された汎用回帰式が用いられている。図２６及び図２７から理解されるように、図２４に示す検査システム１５を用いて予測分子量を算出した場合、図２に示す検査システム１５を用いて予測分子量を算出した場合と比較して、対象物１０が置かれていた雰囲気温度による予測分子量の違いが全体的に小さい。

【0150】

〔第２の実施の形態の効果〕
第２の実施の形態によれば、回帰式は、様々な雰囲気温度で取得される複数の標準スペクトルに各々対応する複数のスペクトル（標準スペクトル及び複製標準スペクトル）に基づいて作成されている。これにより、対象物１０が置かれた雰囲気温度が変化することによる予測分子量の変化が抑制される。とりわけ、標準反射光が取得された雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた対象物１０からの対象反射光に基づいて算出された予測分子量と、標準反射光が取得された雰囲気温度（例えば２５℃）以外の雰囲気温度（例えば０～２４℃、２６～４０℃）に置かれた対象物１０からの対象反射光に基づいて算出された予測分子量との違いを、小さくすることができる。そして、標準反射光が取得された雰囲気温度（例えば２５℃）以外の雰囲気温度（例えば０～２４℃、２６～４０℃）に置かれた対象物１０からの対象反射光に基づいて予測分子量を算出した場合であっても、当該対象物１０の樹脂材料の実際の分子量に近い予測分子量を算出することができる。

【0151】

（第２の実施の形態の変形例）
第２の実施の形態の変形例では、複製標準スペクトルを用いずに、様々な雰囲気温度で実際に取得された標準反射光から生成された標準スペクトルを用いて汎用回帰式を作成する。例えば、第１の雰囲気温度（例えば５℃）に置かれた標準試料の標準スペクトルである第１標準スペクトルと、第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度（例えば１５℃）に置かれた標準試料の標準スペクトルである第２標準スペクトルと、第１～第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度（例えば２５℃）に置かれた標準試料の標準スペクトルである第３標準スペクトルと、第１～第３の雰囲気温度とは異なる第４の雰囲気温度（例えば３５℃）に置かれた標準試料の標準スペクトルである第４標準スペクトルと、に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して得られるパラメータ値に基づいて、汎用回帰式を作成する。この場合も、第２の実施の形態と同様の効果を得ることができる。

【0152】

（第３の実施の形態）
次に、図２８乃至図３０を参照して、第３の実施の形態による検査システムについて説明する。第３の実施の形態による検査システムは、第１の実施の形態による検査システム１５と比較して、判定工程Ｓ３で算出された予測分子量を温度別補正式で補正する点が異なっている。また、第１の実施の形態による検査システム１５と比較して、温度モニタ３０を備える点が異なっている。その他の点は、第１の実施の形態による検査システム１５と同様である。第３の実施の形態において、第１の実施の形態による検査システム１５と同様の部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

【0153】

図２８は、第３の実施の形態による検査システム１５を示すブロック図である。図２８に示す検査システム１５は、温度モニタ３０を備えている。また、判定装置２８の記憶部２８１は、回帰式（図２８に示す例では標準回帰式）に加えて温度別補正式を記憶している。

【0154】

〔温度モニタ〕
温度モニタ３０は、検査システム１５の雰囲気温度（より具体的には、分光モジュール２０が置かれている雰囲気温度）を測定する。温度モニタ３０は、分光モジュール２０に含まれていてもよい。温度モニタ３０は、後述するケース４０に収容されていてもよい。温度モニタ３０は、分光モジュール２０及びケース４０から分離された構造を有していてもよい。温度モニタ３０は、雰囲気温度に関する情報を判定装置２８に伝える。

【0155】

上述したように、同じ対象物１０であっても、対象物１０が置かれている雰囲気温度が変化すると、得られる反射スペクトルが変化することがある。このため、対象物１０の樹脂材料の予測分子量及び予測分子量に基づく検査結果が、雰囲気温度によって変化することがある。この点に関し、本件発明者らは、回帰式に基づいて算出された予測分子量を以下のようにして作成された温度別補正式で補正することにより、検査システム１５で算出される分子量（補正分子量）を実際の分子量に近づけることができることを見出した。すなわち、回帰式だけでなく温度別補正式も用いて対象物１０の状態を検査することにより、検査の精度が向上することを見出した。なお、温度別補正式は、判定装置２８の記憶部２８１に予め記録されている。

【0156】

〔温度別補正式の作成方法〕
まず、温度別補正式の作成方法について説明する。
標準試料を第１の雰囲気温度（例えば５℃）に置いて、図１１及び図１２に示す標準パラメータ値算出工程Ｓ５３を行う。次に、得られたパラメータ値を回帰式（図２８に示す例では標準回帰式）に回帰させて予測分子量を算出し、図２９に示すような散布図を描く。図２９では、縦軸ｙが回帰式に基づいて得られた標準試料の樹脂材料の予測分子量を示し、横軸ｘが標準試料の樹脂材料の実際の分子量を示す。そして、第１の雰囲気温度に置かれた標準試料の散布図の近似直線（第１の近似線Ｃ１）を求める。その後、第１の近似線Ｃ１の傾きを１にし、切片を零にするような、第１の温度別補正式ｙ１を求める。例えば、第１の近似直線Ｃ１がｙ＝ａｘ＋ｂで表される場合、第１の温度別補正式はｙ１＝（ｙ－ｂ）／ａとなる。
同様に、標準試料を第１の雰囲気温度とは異なる第２の雰囲気温度（例えば１５℃）に置いて、図１１及び図１２に示す標準パラメータ値算出工程Ｓ５３を行う。次に、得られたパラメータ値を回帰式に回帰させて予測分子量を算出し、図２９に示すような散布図を描く。そして、第２の雰囲気温度に置かれた標準試料の散布図の近似直線（第２の近似線Ｃ２）を求める。その後、第２の近似線Ｃ２の傾きを１にし、切片を零にするような、第２の温度別補正式ｙ２を求める。第２の温度別補正式ｙ２の求め方は、第１温度別補正式ｙ１の求め方と同様である。
同様に、標準試料を第１～第２の雰囲気温度とは異なる第３の雰囲気温度（例えば２５℃）に置いて、図１１及び図１２に示す標準パラメータ値算出工程Ｓ５３を行う。次に、得られたパラメータ値を回帰式に回帰させて予測分子量を算出し、図２９に示すような散布図を描く。そして、第３の雰囲気温度に置かれた標準試料の散布図の近似直線（第３の近似線Ｃ３）を求める。その後、第３の近似線Ｃ３の傾きを１にし、切片を零にするような、第３の温度別補正式ｙ３を求める。第３の温度別補正式ｙ３の求め方も、第１温度別補正式ｙ１の求め方と同様である。
同様に、標準試料を第１～第３の雰囲気温度とは異なる第４の雰囲気温度（例えば３５℃）に置いて、図１１及び図１２に示す標準パラメータ値算出工程Ｓ５３を行う。次に、得られたパラメータ値を回帰式に回帰させて予測分子量を算出し、図２９に示すような散布図を描く。そして、第４の雰囲気温度に置かれた標準試料の散布図の近似直線（第４の近似線Ｃ４）を求める。その後、第４の近似線Ｃ４の傾きを１にし、切片を零にするような、第４の温度別補正式ｙ４を求める。第４の温度別補正式ｙ４の求め方も、第１温度別補正式ｙ１の求め方と同様である。

【0157】

〔温度別補正式を用いた検査方法〕
次に、上述の温度別補正式を用いて対象物１０の状態を検査するための検査方法について説明する。
まず、図６及び図７に示す検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１、並びに、図６及び図９に示す対象パラメータ値算出工程Ｓ２を行う。対象パラメータ値算出工程Ｓ２は、温度モニタ３０によって対象物１０の雰囲気温度（より具体的には、対象反射光Ｌ２を取得した際の雰囲気温度）を測定する温度測定工程を含む。
次に、図６に示す判定工程Ｓ３を行う。判定工程Ｓ３においては、まず判定装置２８の記憶部２８１に記憶された回帰式、及び対象パラメータ値算出工程Ｓ２において算出したパラメータ値に基づいて、解析部２８２が対象物１０の樹脂材料の予測分子量を算出する。また、温度モニタ３０によって測定された上記測定温度に基づいて、記憶部２８１に記録された第１～第４温度別補正式ｙ１，ｙ２，ｙ３，ｙ４のうち一の温度別補正式を選択する。次に、解析部２８２は、選択した温度補正式で予測分子量を補正することにより、補正分子量を算出する。
最後に、補正分子量に基づいて、判定部２８３において対象物１０の状態を判定する。

【0158】

なお、記憶部２８１は、上記対象物１０の雰囲気温度と温度補正式ｙ１，ｙ２，ｙ３，ｙ４との対応関係に関する情報を、予め記憶している。例えば、１０℃未満の雰囲気温度に対応する温度補正式は第１の温度別補正式ｙ１である、という情報を記憶している。また、１０℃以上２０℃未満の雰囲気温度に対応する温度補正式は第２の温度別補正式ｙ２である、という情報を記憶している。また、２０℃以上３０℃未満の雰囲気温度に対応する温度補正式は第３の温度別補正式ｙ３である、という情報を記憶している。また、３０℃以上の雰囲気温度に対応する温度補正式は第４の温度別補正式ｙ４である、という情報を記憶している。この場合、上記対象物１０の雰囲気温度が１０℃未満であれば、解析部２８２は、予測分子量を第１の温度別補正式ｙ１で補正して、補正分子量を算出する。また、上記対象物１０の雰囲気温度が１０℃以上２０℃未満であれば、解析部２８２は、予測分子量を第２の温度別補正式ｙ２で補正して、補正分子量を算出する。また、上記対象物１０の雰囲気温度が２０℃以上３０℃未満であれば、解析部２８２は、予測分子量を第３の温度別補正式ｙ３で補正して、補正分子量を算出する。また、上記対象物１０の雰囲気温度が３０℃以上であれば、解析部２８２は、予測分子量を第４の温度別補正式ｙ４で補正して、補正分子量を算出する。

【0159】

図３０に、図２６に示す例と同じ雰囲気温度に置かれた同じ対象物１０に対し、図２８に示す検査システム１５を用いることにより算出された対象物１０の樹脂材料の補正分子量と、当該樹脂材料の実際の分子量との関係を示す。図２６及び図３０から理解されるように、図２８に示す検査システム１５を用いて算出された補正分子量は、図２に示す検査システム１５を用いて算出された予測分子量と比較して、対象物１０が置かれていた雰囲気温度による違いが全体的に小さい。このことは、図２８に示す検査システム１５によれば、対象物１０が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができる、ということを意味する。

【0160】

〔第３の実施の形態の効果〕
第３の実施の形態によれば、予測分子量を温度別補正式で補正した補正分子量を用いて対象物１０の検査を行っている。これにより、対象物１０が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができる。

【0161】

（第４の実施の形態）
図３１及び図３２を参照して、第４の実施の形態による検査システム１５について説明する。第４の実施の形態による検査システム１５は、第３の実施の形態の検査システム１５と比較して、回帰式として第２の実施の形態の回帰式を用いる点が異なっている。その他の点は、第３の実施の形態の検査システム１５と同様である。

【0162】

図３１は、第４の実施の形態による検査システム１５を示すブロック図である。図３１に示す検査システム１５は、温度モニタ３０を備えている。また、判定装置２８の記憶部２８１は、汎用回帰式及び温度別補正式を記憶している。

【0163】

図３２に、図２６に示す例と同じ雰囲気温度に置かれた同じ対象物１０に対し、図３１に示す検査システム１５を用いることにより算出された対象物１０の樹脂材料の補正分子量と、当該樹脂材料の実際の分子量との関係を示す。図２６及び図３２から理解されるように、図３１に示す検査システム１５を用いて算出された補正分子量は、図２に示す検査システム１５を用いて算出された予測分子量と比較して、対象物１０が置かれていた雰囲気温度による違いが全体的に小さい。このことは、図３１に示す検査システム１５によれば、対象物１０が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができる、ということを意味する。

【0164】

さらに、図３０及び図３２から理解されるように、図３１に示す検査システム１５を用いて算出された補正分子量は、図２８に示す検査システム１５を用いて算出された補正分子量と比較して、実際の分子量に近いことが分かる。このことは、図３１に示す検査システム１５によれば、対象物１０をより精度高く検査することができる、ということを意味する。

【0165】

〔第４の実施の形態の効果〕
第４の実施の形態によれば、回帰式として、様々な雰囲気温度で取得される複数の標準スペクトルに各々対応する複数のスペクトル（標準スペクトル及び複製標準スペクトル）に基づいて作成された回帰式を用いている。そして、当該回帰式に基づいて算出された予測分子量を温度別補正式で補正して補正分子量を算出し、補正分子量を用いて対象物１０の検査を行っている。これにより、対象物１０が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができるだけでなく、対象物１０をより精度高く検査することができる。

【0166】

（第５の実施の形態）
図３３を参照して、第５の実施の形態による検査システム１５について説明する。第５の実施の形態による検査システム１５は、第１の実施の形態の検査システム１５と比較して、温度モニタ３０を備える点で異なっている。また、第５の実施の形態による検査システム１５は、第１の実施の形態の検査システム１５と比較して、対象物１０が置かれた雰囲気温度によって判定工程Ｓ３で用いられる回帰式が異なる点が異なっている。その他の点は、第１の実施の形態の検査システム１５と同様である。第５の実施の形態において、第１の実施の形態による検査システム１５と同様の部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

【0167】

図３３は、第５の実施の形態による検査システム１５を示すブロック図である。図３３に示す検査システム１５は、図２８に示す温度モニタ３０と同様の温度モニタ３０を備えている。また、判定装置２８の記憶部２８１は、複数の回帰式を記憶している。

【0168】

上述したように、同じ対象物１０であっても、対象物１０が置かれている雰囲気温度が変化すると、得られる反射スペクトルが変化することがある。このため、対象物１０の樹脂材料の予測分子量及び予測分子量に基づく検査結果が、雰囲気温度によって変化することがある。この点に関し、本件発明者らは、互いに異なる複数の回帰式を準備し、対象物１０が置かれた雰囲気温度に応じて異なる回帰式を用いて予測分子量を算出することにより、予測分子量を実際の分子量に近づけることができることを見出した。
より具体的には、第１の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された第１標準スペクトルに基づいて作成された第１の回帰式と、第２の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された第２標準スペクトルに基づいて作成された第２の回帰式とを準備する。そして、対象物１０の対象反射光が取得された際に温度モニタ３０で測定された雰囲気温度に応じて、第１の回帰式及び第２の回帰式から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式を用いて予測分子量を算出する。

【0169】

図示された例では、制御装置２８の記憶部２８１は、第１の回帰式と、第２の回帰式と、第３の回帰式と、第４の回帰式とを記憶している。
第１の回帰式は、５℃の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された標準スペクトル（すなわち、５℃の雰囲気温度で取得された標準反射光から生成された標準スペクトル）に基づいて作成されている。
第２の回帰式は、１５℃の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された標準スペクトル（すなわち、１５℃の雰囲気温度で取得された標準反射光から生成された標準スペクトル）に基づいて作成されている。
第３の回帰式は、２５℃の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された標準スペクトル（すなわち、２５℃の雰囲気温度で取得された標準反射光から生成された標準スペクトル）に基づいて作成されている。
第４の回帰式は、３５℃の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された標準スペクトル（すなわち、３５℃の雰囲気温度で取得された標準反射光から生成された標準スペクトル）に基づいて作成されている。

【0170】

〔複数の回帰式を用いた検査方法〕
次に、上述の複数の回帰式を用いて対象物１０の状態を検査するための検査方法について説明する。
まず、図６及び図７に示す検査用校正スペクトル記録工程Ｓ１、並びに、図６及び図９に示す対象パラメータ値算出工程Ｓ２を行う。対象パラメータ値算出工程Ｓ２は、温度モニタ３０によって対象物１０の雰囲気温度（より具体的には、対象反射光Ｌ２を取得した際の雰囲気温度）を測定する温度測定工程を含む。
次に、図６に示す判定工程Ｓ３を行う。判定工程Ｓ３においては、まず、制御装置２８の解析部２８２は、対象反射光Ｌ２が取得された際に温度モニタ３０により測定された雰囲気温度に応じて、第１～第４の回帰式の中から一の回帰式を選択する。次に、解析部２８２は、選択した回帰式に基づいて予測分子量を算出する。
最後に、予測分子量に基づいて、判定部２８３において対象物１０の状態を判定する。

【0171】

なお、記憶部２８１は、上記対象物１０の雰囲気温度と第１～第４の回帰式との対応関係に関する情報を、予め記憶している。例えば、１０℃未満の雰囲気温度に対応する回帰式は第１の回帰式である、という情報を記憶している。また、１０℃以上２０℃未満の雰囲気温度に対応する回帰式は第２の回帰式である、という情報を記憶している。また、２０℃以上３０℃未満の雰囲気温度に対応する回帰式は第３の回帰式である、という情報を記憶している。また、３０℃以上の雰囲気温度に対応する回帰式は第４の回帰式である、という情報を記憶している。この場合、上記対象物１０の雰囲気温度が１０℃未満であれば、解析部２８２は、第１～第４の回帰式の中から第１の回帰式を選択し、第１の回帰式に基づいて予測分子量を算出する。また、上記対象物１０の雰囲気温度が１０℃以上２０℃未満であれば、解析部２８２は、第１～第４の回帰式の中から第２の回帰式を選択し、第２の回帰式に基づいて予測分子量を算出する。また、上記対象物１０の雰囲気温度が２０℃以上３０℃未満であれば、解析部２８２は、第１～第４の回帰式の中から第３の回帰式を選択し、第３の回帰式に基づいて予測分子量を算出する。また、上記対象物１０の雰囲気温度が３０℃以上であれば、解析部２８２は、第１～第４の回帰式の中から第４の回帰式を選択し、第４の回帰式に基づいて予測分子量を算出する。

【0172】

〔第５の実施の形態の効果〕
第５の実施の形態によれば、互いに異なる複数の回帰式を準備し、対象物１０が置かれた雰囲気温度に応じて異なる回帰式を用いて予測分子量を算出している。これにより、検査システム１５で算出される予測分子量を実際の分子量に近づけることができる。そして、このようにして算出された予測分子量を用いて対象物１０の検査を行うことにより、対象物１０が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができる。

【0173】

（第６の実施の形態）
第６の実施の形態による検査システム１５は、第１の実施の形態の検査システム１５と比較して、検査工程の間にケース４０が動くことを抑制するための工夫がなされている。これにより、対象スペクトルや校正スペクトルにノイズが生じる虞を抑制することができる。その他の点は、第１の実施の形態の検査システム１５と同様である。

【0174】

図３４は、第６の実施の形態による検査システム１５のケース４０の一例を示す斜視図である。図３４に示すように、ケース４０は、第１面４１又は外縁に設けられている第１摩擦層５３を備えている。図３４に示す例において、第１摩擦層５３は、第３外縁４１３及び第４外縁４１４に沿って第１面４１に設けられている。

【0175】

第１摩擦層５３と対象物１０との間の静摩擦力は、第１面４１と対象物１０との間の静摩擦力よりも大きい。第１摩擦層５３をケース４０に設けることにより、検査工程の間にケース４０が動くことを抑制できる。これにより、手の動きなどに起因して生じたノイズが対象スペクトルや校正スペクトルに現れることを抑制できる。

【0176】

第１摩擦層５３の構成は任意である。例えば、第１摩擦層５３は、第１面４１に貼り付けられているテープの表面の層によって構成されていてもよい。テープとしては、株式会社マイスト製の滑り止めテープ アイテムＮｏ．５１８７などを用いることができる。

【0177】

（第６の実施の形態の変形例）
第６の実施の形態の変形例による検査システム１５も、検査工程の間にケース４０が動くことを抑制するための工夫がなされている。第６の実施の形態の変形例による検査システム１５は、第６の実施の形態の検査システム１５と比較して、第１摩擦層５３に代えて支持部材５４を備えている点が異なっている。その他の点は、第６の実施の形態の検査システム１５と同様である。

【0178】

図３５は、第６の実施の形態の変形例による検査システム１５のケース４０の一例を示す斜視図である。図３５に示すように、ケース４０は、側面に固定されている支持部材５４を備えている。図３５に示す例において、ケース４０は、第１側面４３に固定されている１本の支持部材５４、及び、第２側面４４に固定されている２本の支持部材５４を備える。図示はしないが、ケース４０は、１本又は２本の支持部材５４を備えていてもよく、４本以上の支持部材５４を備えていてもよい。支持部材５４は、第３側面４５又は第４側面４６に固定されていてもよい。

【0179】

支持部材５４は、側面に固定されている第１部分５４１と、第１部分５４１に接続されている第２部分５４２を含んでいてもよい。第１部分５４１は、側面から第１面４１に向かって延びていてもよい。第２部分５４２は、第１面４１に平行に広がる面を含んでいてもよい。第２部分５４２は、検査工程の時に対象物１０に接してもよい。これにより、検査工程の間、ケース４０の姿勢をより安定に維持できる。このため、手の動きなどに起因して生じたノイズが対象スペクトルや校正スペクトルに現れることを抑制できる。

【0180】

図３５に示すように、ケース４０は、第２部分５４２に設けられている第２摩擦層５５を備えていてもよい。第２摩擦層５５は、例えばゴムを含む。第２摩擦層５５は、検査工程の時に対象物１０に接してもよい。第２摩擦層５５と対象物１０との間の静摩擦力は、第１面４１と対象物１０との間の静摩擦力よりも大きい。第２摩擦層５５を第２部分５４２に設けることにより、検査工程の間にケース４０が動くことを更に抑制できる。

【0181】

なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。

【符号の説明】

【0182】

１０ 対象物
１０ｘ 第１面
１０ｙ 第２面
１１ 基材シート
１２ 樹脂層
１５ 検査システム
２０ 分光モジュール
２１ 照射装置
２１１ 照射部
２４ 検出装置
２４１ 検出部
２５ 生成装置
２５１ 第１生成部
２５２ 第２生成部
２７ 処理装置
２７１ 第１処理部
２７２ 第２処理部
２８ 判定装置
２８１ 記憶部
２８２ 解析部
２８３ 判定部
２９ 冷却部
３０ 温度モニタ
４０ ケース
４１ 第１面
４２ 第２面
４８ ウインドウ
５１ 校正試料
５３ 第１摩擦層
５４ 支持部材
５４１ 第１部分
５４２ 第２部分
５５ 第２摩擦層

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】

【図32】

【図33】

【図34】

【図35】