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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-12-09
(45)【発行日】2024-12-17
(54)【発明の名称】発光素子、表示装置及び面発光装置
(51)【国際特許分類】
H10K 50/858 20230101AFI20241210BHJP
F21S 2/00 20160101ALI20241210BHJP
F21V 5/00 20180101ALI20241210BHJP
G02B 3/00 20060101ALI20241210BHJP
G02B 3/02 20060101ALI20241210BHJP
G03B 21/14 20060101ALI20241210BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20241210BHJP
H10K 50/852 20230101ALI20241210BHJP
H10K 50/856 20230101ALI20241210BHJP
H10K 59/121 20230101ALI20241210BHJP
H10K 59/80 20230101ALI20241210BHJP
H10K 59/95 20230101ALI20241210BHJP
F21Y 115/15 20160101ALN20241210BHJP
【ＦＩ】
H10K50/858
F21S2/00
F21V5/00
G02B3/00
G02B3/02
G03B21/14
G09F9/30 365
H10K50/852
H10K50/856
H10K59/121
H10K59/80
H10K59/95
F21Y115:15
【請求項の数】
17
(21)【出願番号】P 2021558238
(86)(22)【出願日】2020-10-23
(86)【国際出願番号】 JP2020039912
(87)【国際公開番号】W WO2021100406
(87)【国際公開日】2021-05-27
【審査請求日】2023-08-31
(31)【優先権主張番号】P 2019211180
(32)【優先日】2019-11-22
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000002185
【氏名又は名称】ソニーグループ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100112874
【弁理士】
【氏名又は名称】渡邊 薫
(72)【発明者】
【氏名】糸長 総一郎
(72)【発明者】
【氏名】金内 潔
(72)【発明者】
【氏名】外園 伸秋
【審査官】横川 美穂
(56)【参考文献】
【文献】米国特許出願公開第２０１８／０２８４４６５（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１１－０７６７９９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００１－２６５２４０（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１０／００６０１４９（ＵＳ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１８／１３９１７１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１９－１３３８１６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－１０７０３１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１２－０１４９０５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０００－２８４７２６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００３－３１７９３１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ１０Ｋ ５０／００－１０２／２０
Ｈ０５Ｂ ３３／００－３３／２８
Ｆ２１Ｓ ２／００
Ｆ２１Ｖ ５／００
Ｇ０２Ｂ ３／００
Ｇ０２Ｂ ３／０２
Ｇ０３Ｂ ２１／１４
Ｇ０９Ｆ ９／３０
Ｆ２１Ｙ １１５／１５
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の発光領域を有する発光部、及び、各発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備え、
マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する導光部を更に有し、
複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない発光素子。
【請求項2】
１つの発光領域を有する発光部、及び、１つの発光領域から出射された光の進行方向を制御する複数のマイクロレンズ部材、
を備え、
マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する導光部を更に有し、
複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない発光素子。
【請求項3】
複数の発光領域を有する発光部、及び、複数の発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備え、
マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する導光部を更に有し、
複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない発光素子。
【請求項4】
複数の発光領域を有する発光部、及び、各発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備え、
マイクロレンズ部材の光軸は、発光領域の中心を通過する中心線上に位置しておらず、
マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する導光部を更に有し、
複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない発光素子。
【請求項5】
マイクロレンズ部材の平面形状は、コーナー部が丸みを帯びた矩形又は正方形である請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項6】
マイクロレンズ部材の光軸が発光領域の中心を通過する中心線上に位置している場合、発光領域の正射影像は、マイクロレンズ部材の正射影像内に含まれる請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項7】
マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する第２のマイクロレンズ部材を更に有する請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項8】
発光部は、発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
更に、第１電極の下方に光反射層を備えており、
第２電極と有機層との界面と、光反射層との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極から出射させ、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項9】
発光部は、発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
発光層は、同色を発光する複数の発光層が積層されて成り、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項10】
マイクロレンズ部材は正の光学パワーを有する請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項11】
発光領域は、マイクロレンズ部材から離れる方向に凸状形状を有する請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項12】
マイクロレンズ部材は負の光学パワーを有する請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の発光素子。
【請求項13】
複数の発光領域を有する発光部、及び、各発光領域から出射された光の進行方向を制御する導光部、
を備えており、
発光領域は、導光部から離れる方向に凸状形状を有し、
複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない発光素子。
【請求項14】
複数の発光領域を有する発光部、及び、各発光領域から出射された光の進行方向を制御する導光部、
を備えており、
発光領域は、導光部から離れる方向に凸状形状を有し、
発光領域は正の光学パワーを有し、
複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない発光素子。
【請求項15】
第１基板、第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、請求項１乃至請求項１４のいずれか１項に記載の発光素子から構成されている表示装置。
【請求項16】
表示装置は投影型表示装置から成る請求項１５に記載の表示装置。
【請求項17】
第１基板、第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、請求項１乃至請求項１４のいずれか１項に記載の発光素子から構成されている面発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、発光素子、並びに、係る発光素子を備えた表示装置及び面発光装置に関し、より具体的には、自発光タイプの発光素子、並びに、係る自発光タイプの発光素子を備えた表示装置及び面発光装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、単に、有機ＥＬ素子と略称する）を発光素子として用いた照明装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、単に、有機ＥＬ表示装置と略称する）が普及しつつある。そして、有機ＥＬ表示装置にあっては、効率良く光を取り出す技術の開発が強く求められている。光取出し効率が低いと、有機ＥＬ素子における実際の発光量を有効に活用していないことになり、消費電力等の点で大きな損失を生じる要因となるからである。そして、有機ＥＬ素子において、共振器構造を導入することによって、発光色の色純度を向上させたり、発光効率を高めるなど、発光層で発生する光を制御する試みが行われてきている（例えば、国際公開第２００１／０３９５５４号参照）。更には、共振器構造の中で発生する光と、それぞれの反射端部で反射して戻ってきた光とを互いに強め合う関係にすることで、発光強度を最大にすることができることが、例えば、特開２００９－０４９１３５号公報に開示されている。
【0003】
また、従来の投影型表示装置は、例えば、光を出射する光源、この光源からの光を変調して画像を形成する空間変調器、及び、空間変調器からの画像を例えばスクリーンに投影する投影光学系から構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】国際公開第２００１／０３９５５４号
【文献】特開２００９－０４９１３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、光を出射する光源と画像を形成する空間変調器とが一体化された投影型表示装置、即ち、光源及び空間変調器の代わりに自発光タイプの発光素子によって画像を形成し得る投影型表示装置や面発光装置は、本発明者が調べた限りでは知られていない。
【0006】
従って、本開示の目的は、自発光タイプの発光素子によって画像を形成し得る投影型表示装置を含む表示装置、及び、自発光タイプの発光素子から構成された面発光装置、並びに、係る表示装置あるいは面発光装置での使用に適した発光素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記の目的を達成するための本開示の第１の態様に係る発光素子は、
複数の発光領域を有する発光部、及び、
各発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備えている。
複数の発光領域を有する発光部、及び、
各発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備えている。
【0008】
上記の目的を達成するための本開示の第２の態様に係る発光素子は、
１つの発光領域を有する発光部、及び、
１つの発光領域から出射された光の進行方向を制御する複数のマイクロレンズ部材、
を備えている。
１つの発光領域を有する発光部、及び、
１つの発光領域から出射された光の進行方向を制御する複数のマイクロレンズ部材、
を備えている。
【0009】
上記の目的を達成するための本開示の第３の態様に係る発光素子は、
複数の発光領域を有する発光部、及び、
複数の発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備えている。
複数の発光領域を有する発光部、及び、
複数の発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備えている。
【0010】
上記の目的を達成するための本開示の第４の態様に係る発光素子は、
複数の発光領域を有する発光部、及び、
各発光領域から出射された光の進行方向を制御する導光部、
を備えており、
発光領域は、導光部から離れる方向に凸状形状を有する。
複数の発光領域を有する発光部、及び、
各発光領域から出射された光の進行方向を制御する導光部、
を備えており、
発光領域は、導光部から離れる方向に凸状形状を有する。
【0011】
上記の目的を達成するための本開示の表示装置は、
第１基板、
第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、本開示の第１の態様～第４の態様に係る発光素子から構成されている。
第１基板、
第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、本開示の第１の態様～第４の態様に係る発光素子から構成されている。
【0012】
上記の目的を達成するための本開示の面発光装置は、
第１基板、
第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、本開示の第１の態様～第４の態様に係る発光素子から構成されている。
第１基板、
第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、本開示の第１の態様～第４の態様に係る発光素子から構成されている。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図3】図３Ａ及び図３Ｂは、それぞれ、実施例１の変形例－１において、１つの発光素子における複数の発光領域を有する発光部の模式的な平面図、及び、複数のマイクロレンズ部材を有する発光部の模式的な平面図である。
【図4】図４Ａ及び図４Ｂは、それぞれ、実施例１の変形例－２において、１つの発光素子における複数の発光領域を有する発光部の模式的な平面図、及び、複数のマイクロレンズ部材を有する発光部の模式的な平面図である。
【図5】図５Ａ及び図５Ｂは、それぞれ、実施例１の変形例－３において、１つの発光素子における複数の発光領域を有する発光部の模式的な平面図、及び、複数のマイクロレンズ部材を有する発光部の模式的な平面図である。
【図6】図６Ａ及び図６Ｂは、それぞれ、実施例１の変形例－４において、１つの発光素子における複数の発光領域を有する発光部の模式的な平面図、及び、複数のマイクロレンズ部材を有する発光部の模式的な平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、図面を参照して、実施例に基づき本開示を説明するが、本開示は実施例に限定されるものではなく、実施例における種々の数値や材料は例示である。尚、説明は、以下の順序で行う。
１．本開示の第１の態様～第４の態様に係る発光素子、本開示の表示装置、及び、本開示の面発光装置、全般に関する説明
２．実施例１（本開示の第１の態様に係る発光素子、第１形態の発光素子、及び、本開示の表示装置）
３．実施例２（本開示の第２の態様に係る発光素子）
４．実施例３（本開示の第３の態様に係る発光素子）
５．実施例４（本開示の第４の態様に係る発光素子）
６．実施例５（第２形態の発光素子）
７．実施例６（第１形態の発光素子と第２形態の発光素子との組合せ）
８．その他
１．本開示の第１の態様～第４の態様に係る発光素子、本開示の表示装置、及び、本開示の面発光装置、全般に関する説明
２．実施例１（本開示の第１の態様に係る発光素子、第１形態の発光素子、及び、本開示の表示装置）
３．実施例２（本開示の第２の態様に係る発光素子）
４．実施例３（本開示の第３の態様に係る発光素子）
５．実施例４（本開示の第４の態様に係る発光素子）
６．実施例５（第２形態の発光素子）
７．実施例６（第１形態の発光素子と第２形態の発光素子との組合せ）
８．その他
【0015】
〈本開示の第１の態様～第４の態様に係る発光素子、本開示の表示装置、及び、本開示の面発光装置、全般に関する説明〉
本開示の第１の態様に係る発光素子、本開示の表示装置に備えられた本開示の第１の態様に係る発光素子、本開示の面発光装置に備えられた本開示の第１の態様に係る発光素子を総称して、『本開示の第１の態様に係る発光素子等』と呼ぶ場合がある。また、本開示の第２の態様に係る発光素子、本開示の表示装置に備えられた本開示の第２の態様に係る発光素子、本開示の面発光装置に備えられた本開示の第２の態様に係る発光素子を総称して、『本開示の第２の態様に係る発光素子等』と呼ぶ場合がある。更には、本開示の第３の態様に係る発光素子、本開示の表示装置に備えられた本開示の第３の態様に係る発光素子、本開示の面発光装置に備えられた本開示の第３の態様に係る発光素子を総称して、『本開示の第３の態様に係る発光素子等』と呼ぶ場合がある。また、本開示の第４の態様に係る発光素子、本開示の表示装置に備えられた本開示の第４の態様に係る発光素子、本開示の面発光装置に備えられた本開示の第４の態様に係る発光素子を総称して、『本開示の第４の態様に係る発光素子等』と呼ぶ場合がある。更には、本開示の第１の態様に係る発光素子等、本開示の第２の態様に係る発光素子等、本開示の第３の態様に係る発光素子等及び本開示の第４の態様に係る発光素子等を総称して、『本開示の発光素子等』と呼ぶ場合がある。
本開示の第１の態様に係る発光素子、本開示の表示装置に備えられた本開示の第１の態様に係る発光素子、本開示の面発光装置に備えられた本開示の第１の態様に係る発光素子を総称して、『本開示の第１の態様に係る発光素子等』と呼ぶ場合がある。また、本開示の第２の態様に係る発光素子、本開示の表示装置に備えられた本開示の第２の態様に係る発光素子、本開示の面発光装置に備えられた本開示の第２の態様に係る発光素子を総称して、『本開示の第２の態様に係る発光素子等』と呼ぶ場合がある。更には、本開示の第３の態様に係る発光素子、本開示の表示装置に備えられた本開示の第３の態様に係る発光素子、本開示の面発光装置に備えられた本開示の第３の態様に係る発光素子を総称して、『本開示の第３の態様に係る発光素子等』と呼ぶ場合がある。また、本開示の第４の態様に係る発光素子、本開示の表示装置に備えられた本開示の第４の態様に係る発光素子、本開示の面発光装置に備えられた本開示の第４の態様に係る発光素子を総称して、『本開示の第４の態様に係る発光素子等』と呼ぶ場合がある。更には、本開示の第１の態様に係る発光素子等、本開示の第２の態様に係る発光素子等、本開示の第３の態様に係る発光素子等及び本開示の第４の態様に係る発光素子等を総称して、『本開示の発光素子等』と呼ぶ場合がある。
【0016】
本開示の第１の態様に係る発光素子等において、複数の発光領域を有する発光部、及び、各発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材が備えられているが、例えば、発光部は、Ｍ個×Ｎ個（但し、Ｍ及びＮは１以上の整数であり、Ｍ＝１且つＮ＝１の場合を除く）の発光領域を有しており、Ｍ個×Ｎ個の発光領域から出射された光の進行方向を制御するＰ個×Ｑ個（但し、Ｐ＝ｐ×Ｍ、Ｑ＝ｑ×Ｎであり、ｐ及びｑは１以上の整数）のマイクロレンズ部材が備えられている形態とすることができる。複数の発光領域は、所望の位置に配置されていればよく、規則正しく配列されていてもよいし（具体的には、例えば、発光領域の中心が仮想の格子の格子点上に配置されていてもよいし）、規則正しくは配列されていなくともよい。各発光領域から出射された光の進行方向を制御する１つのマイクロレンズ部材が備えられている場合、マイクロレンズ部材の光軸は、所望の位置に配置されていればよく、規則正しく配列されていてもよいし（具体的には、例えば、マイクロレンズ部材の光軸が仮想の格子の格子点上に配置されていてもよいし）、規則正しくは配列されていなくともよい。また、発光部における発光領域の大きさや形状は、表示装置あるいは面発光装置における発光部の配置位置に依存して変えてもよいし、一定としてもよい。複数のマイクロレンズ部材の大きさや形状、曲率半径、光学パワー等の諸物性、構成材料は、発光部における配置位置に依存して変えてもよいし、一定としてもよい。尚、仮想の格子として、限定するものではないが、正方形の格子、長方形の格子、正六角形の格子を例示することができる。以下においても同様である。
【0017】
本開示の第２の態様に係る発光素子等において、１つの発光領域から出射された光の進行方向を制御する複数のマイクロレンズ部材が備えられているが、例えば、１つの発光領域から出射された光の進行方向を制御するＰ個×Ｑ個（但し、Ｐ及びＱは１以上の整数であり、Ｐ＝１且つＱ＝１の場合を除く）のマイクロレンズ部材が備えられている形態とすることができる。複数のマイクロレンズ部材は、所望の位置に配置されていればよく、規則正しく配列されていてもよいし（具体的には、例えば、マイクロレンズ部材の光軸が仮想の格子の格子点上に配置されていてもよいし）、規則正しくは配列されていなくともよい。複数のマイクロレンズ部材の大きさや形状、曲率半径、光学パワー等の諸物性、構成材料は、発光部における配置位置に依存して変えてもよいし、一定としてもよい。
【0018】
本開示の第３の態様に係る発光素子等において、発光部は複数の発光領域を有しており、複数の発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材が備えられているが、例えば、発光部は、Ｍ個×Ｎ個（但し、Ｍ及びＮは１以上の整数であり、Ｍ＝１且つＮ＝１の場合を除く）の発光領域を有しており、Ｍ個×Ｎ個の発光領域から出射された光の進行方向を制御するマイクロレンズ部材は、１つであってもよいし、複数であってもよく、例えば、複数のマイクロレンズ部材の個数をＰ’個×Ｑ’個（但し、Ｐ’＝Ｍ／ｐ’、Ｑ’＝Ｎ／ｑ’であり、ｐ’及びｑ’は１以上の整数）とすることができる。複数の発光領域は、所望の位置に配置されていればよく、規則正しく配列されていてもよいし（具体的には、例えば、発光領域の中心が仮想の格子の格子点上に配置されていてもよいし）、規則正しくは配列されていなくともよい。複数のマイクロレンズ部材は、所望の位置に配置されていればよく、規則正しく配列されていてもよいし（具体的には、例えば、マイクロレンズ部材の光軸が仮想の格子の格子点上に配置されていてもよいし）、規則正しくは配列されていなくともよい。発光部における発光領域の大きさや形状は、表示装置あるいは面発光装置における発光部の配置位置に依存して変えてもよいし、一定としてもよい。複数のマイクロレンズ部材の大きさや形状、曲率半径、光学パワー等の諸物性、構成材料は、発光部における配置位置に依存して変えてもよいし、一定としてもよい。
【0019】
本開示の第４の態様に係る発光素子等において、発光部は、複数の発光領域を有しており、各発光領域から出射された光の進行方向を制御する導光部が備えられているが、例えば、発光部は、Ｍ個×Ｎ個（但し、Ｍ及びＮは１以上の整数であり、Ｍ＝１且つＮ＝１の場合を除く）の発光領域を有しており、各発光領域から出射された光の進行方向を制御する導光部は、１つであってもよいし、複数であってもよい。即ち、複数の導光部の個数を、Ｐ個×Ｑ個（但し、Ｐ＝ｐ×Ｍ、Ｑ＝ｑ×Ｎであり、ｐ及びｑは１以上の整数）とすることができるし、あるいは又、Ｐ’個×Ｑ’個（但し、Ｐ’＝Ｍ／ｐ’、Ｑ’＝Ｎ／ｑ’であり、ｐ’及びｑ’は１以上の整数）とすることができる。複数の発光領域は、所望の位置に配置されていればよく、規則正しく配列されていてもよいし（具体的には、例えば、発光領域の中心が仮想の格子の格子点上に配置されていてもよいし）、規則正しくは配列されていなくともよい。複数の導光部は、所望の位置に配置されていればよく、規則正しく配列されていてもよいし（具体的には、例えば、導光部の軸線が仮想の格子の格子点上に配置されていてもよいし）、規則正しくは配列されていなくともよい。発光部における発光領域の大きさや形状は、表示装置あるいは面発光装置における発光部の配置位置に依存して変えてもよいし、一定としてもよい。複数の導光部の大きさや形状等の諸物性、構成材料は、発光部における配置位置に依存して変えてもよいし、一定としてもよい。
【0020】
そして、本開示の第１の態様～第３の態様に係る発光素子等においては、マイクロレンズ部材（レンズ部材、オンチップレンズ）を備えているので、発光素子の発光領域から出射される光を、平行光等、所望の状態とすることができる。また、本開示の第４の態様に係る発光素子等においては、導光部（光反射部、リフレクター部）を備えているので、発光素子の発光領域から出射される光を、平行光等、所望の状態とすることができる。
【0021】
本開示の第１の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材の光軸は、発光領域の中心を通過する中心線上に位置していない形態とすることができる。勿論、本開示の第１の態様に係る発光素子等には、マイクロレンズ部材の光軸が、発光領域の中心を通過する中心線上に位置している形態が含まれる。具体的には、前述したとおり、複数の発光領域は、規則正しく配列されており（具体的には、例えば、発光領域の中心が仮想の格子の格子点上に配置されており）、マイクロレンズ部材の光軸はこの格子点上に位置しない形態とすることができるし、あるいは又、複数の発光領域は、規則正しく配列されておらず（具体的には、例えば、発光領域の中心は仮想の格子の格子点上に配置されておらず）、マイクロレンズ部材の光軸はこの格子点上に位置する形態とすることができるし、これらの形態の組合せとすることもできる。
【0022】
本開示の第１の態様～第３の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材の平面形状は、コーナー部が丸みを帯びた矩形又は正方形である形態とすることができる。尚、この場合、発光領域の平面形状として、矩形、正方形、多角形、コーナー部が丸みを帯びた矩形又は正方形、コーナー部が丸みを帯びた多角形、円形、楕円形を例示することができる。マイクロレンズ部材の平面形状を、特に、矩形や正方形とすることで、発光領域の平面形状の形状に拘わらず、また、マイクロレンズ部材と発光領域との位置関係に拘わらず、発光領域から出射された光の進行方向を効率的に制御することができる。マイクロレンズ部材は、球面レンズあるいは非球面レンズである。マイクロレンズ部材を、例えば、平凸レンズから構成する場合、マイクロレンズ部材は、発光領域から離れる方向に向かって凸状の面を有していてもよいし、発光領域に近づく方向に向かって凸状の面を有していてもよい。
【0023】
更には、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様～第３の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材の光軸が発光領域の中心を通過する中心線上に位置している場合、発光領域の正射影像は、マイクロレンズ部材の正射影像内に含まれる形態とすることができる。具体的には、本開示の第１の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材の光軸が発光領域の中心を通過する中心線上に位置している場合、１つの発光領域の正射影像は、１つのマイクロレンズ部材の正射影像内に含まれる形態とすることができる。また、本開示の第２の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材の光軸が発光領域の中心を通過する中心線上に位置している場合、１つの発光領域の正射影像は、Ｐ個×Ｑ個のマイクロレンズ部材、全体の正射影像内に含まれる形態とすることができる。更には、本開示の第３の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材の光軸が発光領域の中心を通過する中心線上に位置している場合、Ｍ個×Ｎ個の発光領域の正射影像は、１つのマイクロレンズ部材の正射影像内に含まれる形態とすることができる。
【0024】
更には、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様～第３の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する第２のマイクロレンズ部材を更に有する形態とすることができる。
【0025】
更には、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様～第３の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する導光部を更に有する形態とすることができる。発光領域の法線方向と直交する仮想平面で切断したときの導光部の内面（マイクロレンズ部材から出射された光が衝突する導光部の面）は、発光領域の法線方向と平行であってもよいし、非平行であってもよい。即ち、導光部の内面は、発光領域を基準としたとき、順テーパー状であってもよいし、逆テーパー状であってもよいが、集光といった観点からは、逆テーパー状であることが好ましい。更には、この場合、複数の導光部が積層された構造を有しており；複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない形態とすることができる。勿論、複数の導光部の軸線は、同一の直線状にある形態とすることもできる。また、発光領域に最も近い導光部の底部における軸線は、発光領域の中心を通過する中心線上に位置していない形態とすることができる。勿論、発光領域に最も近い導光部の底部における軸線が、発光領域の中心を通過する中心線上に位置している形態が含まれる。また、発光領域に最も近い導光部の底部における軸線が発光領域の中心を通過する中心線上に位置している場合、発光領域の正射影像は、導光部の底部の正射影像内に含まれる形態とすることができる。以上の説明は、本開示の第４の態様に係る発光素子等に適用することができる。ここで、導光部の内面が順テーパー状であるとは、発光領域から離れるに従い、導光部の内面が広がる形状（第２基板に向かって広がっている形状）を指し、導光部の内面が逆テーパー状であるとは、発光領域から離れるに従い、導光部の内面が広がる窄まる形状（第２基板に向かって窄まっている形状）を指す。
【0026】
更には、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の発光素子等において、
発光部は、
発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
更に、第１電極の下方に光反射層を備えており、
第２電極と有機層との界面と、光反射層との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極から出射させ、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている形態とすることができる。尚、このような形態の発光素子を、便宜上、『第１形態の発光素子』と呼ぶ場合がある。光反射層の第１電極側の面を、便宜上、『第１界面』と呼び、第２電極と有機層との界面を、便宜上、『第２界面』と呼ぶとき、第１界面と第２界面との間で共振器構造が形成される。あるいは又、
発光部は、
発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
発光層は、同色を発光する複数の発光層が積層されて成り、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている形態とすることができる。ここで、複数の発光層は同じ組成を有する形態とすることができる。尚、このような形態の発光素子を、便宜上、『第２形態の発光素子』と呼ぶ場合がある。
発光部は、
発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
更に、第１電極の下方に光反射層を備えており、
第２電極と有機層との界面と、光反射層との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極から出射させ、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている形態とすることができる。尚、このような形態の発光素子を、便宜上、『第１形態の発光素子』と呼ぶ場合がある。光反射層の第１電極側の面を、便宜上、『第１界面』と呼び、第２電極と有機層との界面を、便宜上、『第２界面』と呼ぶとき、第１界面と第２界面との間で共振器構造が形成される。あるいは又、
発光部は、
発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
発光層は、同色を発光する複数の発光層が積層されて成り、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている形態とすることができる。ここで、複数の発光層は同じ組成を有する形態とすることができる。尚、このような形態の発光素子を、便宜上、『第２形態の発光素子』と呼ぶ場合がある。
【0027】
更には、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様～第３の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材は正の光学パワーを有する構成とすることができる。
【0028】
更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の第１の態様～第３の態様に係る発光素子等において、発光領域は、マイクロレンズ部材から離れる方向に凸状形状を有する構成とすることができる。
【0029】
あるいは又、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様～第３の態様に係る発光素子等において、マイクロレンズ部材は負の光学パワーを有する構成とすることができる。
【0030】
更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の第４の態様に係る発光素子等において、発光領域は正の光学パワーを有する形態とすることができるし、更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の第４の態様に係る発光素子等において、複数の導光部が積層された構造を有しており；複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない形態とすることができる。勿論、複数の導光部の軸線が、同一の直線状にある形態も含まれる。
【0031】
更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の表示装置において、表示装置は投影型表示装置から成る形態とすることができる。
【0032】
マイクロレンズ部材は、例えば、アクリル系樹脂等の透明樹脂材料から構成することができ、透明樹脂材料を、メルトフローさせることで得ることができるし、あるいは又、エッチバックすることで得ることができるし、ナノプリント法に基づき透明樹脂材料をレンズ形状に形成するといった方法によって得ることもできる。
【0033】
導光部は、具体的には、発光領域あるいはマイクロレンズ部材から出射された光を反射する材料から構成すればよく、例えば、金属材料や合金材料、発光領域あるいはマイクロレンズ部材から出射された光が通過する媒質の屈折率よりも小さな屈折率を有する誘電体材料（絶縁材料）や誘電体材料の多層構成を挙げることができる。具体的には、金属材料や合金材料として、例えば、アルミニウム（Ａｌ）層、アルミニウム合金層（例えば、Ａｌ－Ｎｄ層）、クロム（Ｃｒ）層、銀（Ａｇ）層、銀合金層（例えば、Ａｇ－Ｃｕ層、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ層、Ａｇ－Ｓｍ－Ｃｕ層）を挙げることができ、例えば、電子ビーム蒸着法や熱フィラメント蒸着法、真空蒸着法を含む蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法やイオンプレーティング法；メッキ法（電気メッキ法や無電解メッキ法）；リフトオフ法；レーザアブレーション法；ゾル・ゲル法等によって形成することができる。
【0034】
以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等において、発光素子から出射される光の半値全幅（ＦＷＨＭ）の値は３０ｎｍ以下である構成とすることができる。後述する従来の有機ＥＬ素子から出射される光の半値全幅（ＦＷＨＭ）の値は、屡々、６０ｎｍ乃至１００ｎｍであり、本開示の発光素子等は、従来の有機ＥＬ素子よりも鋭い発光スペクトルを有する。
【0035】
更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等において、発光素子の発光部中心を通る中心線における光強度（発光素子から出射される光の光強度）をＩ0、光反射層を備えていない発光素子の発光部中心を通る中心線における光強度（発光素子から出射される光の光強度）をＩconvとしたとき、
Ｉ0／Ｉconv≧５
を満足する形態とすることができる。
Ｉ0／Ｉconv≧５
を満足する形態とすることができる。
【0036】
更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等において、発光素子の発光部中心を通る中心線における光強度（発光部から出射される光の光強度）を１００％としたとき、５０％の光強度（発光部から出射される光の光強度）となる中心線に対する方向と、中心線との成す角度である指向半値角は２５度以下である形態とすることができる。尚、ランバーシアン放射における指向半値角は約７０度である。即ち、本開示の発光素子等から出射される光は、後述する従来の有機ＥＬ素子よりも指向性の高い光であり、あるいは又、平行光に近い光である。従って、従来の投影型表示装置（プロジェクタ）の光源から空間変調器の間に屡々必要とされるテレセントリック光学系は不要であり、投影型表示装置の簡素化を図ることができる。また、本開示の発光素子等から出射される光は、指向性の高い光であり、あるいは又、平行光に近い光であるが故に、発光層で生成した光が、第１基板と第２基板との間で全反射を繰り返し、第１基板と第２基板の接合部（パネルの端面）から出射され、パネルから出射される光にロスが発生するといった現象の発生を防止することができる。
【0037】
第１界面と第２界面との間で共振器構造が形成されている第１形態の発光素子において、発光層の最大発光位置から第１界面までの光学距離をＯＬ1、発光層の最大発光位置から第２界面までの光学距離をＯＬ2とし、ｍ1及びｍ2を整数としたとき、以下の式（１－１）及び式（１－２）を満たす構成とすることができる。
０．７｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝≦２×ＯＬ1／λ≦１．２｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝ （１－１）
０．７｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝≦２×ＯＬ2／λ≦１．２｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝ （１－２）
ここで、
λ ：発光層で発生した光のスペクトルの最大ピーク波長（あるいは又、発光層で発生した光の内の所望の波長）
Φ1：第１界面で生じる反射光（第１界面で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ1≦０
Φ2：第２界面で生じる反射光（第２界面で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ2≦０
である。
０．７｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝≦２×ＯＬ1／λ≦１．２｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝ （１－１）
０．７｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝≦２×ＯＬ2／λ≦１．２｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝ （１－２）
ここで、
λ ：発光層で発生した光のスペクトルの最大ピーク波長（あるいは又、発光層で発生した光の内の所望の波長）
Φ1：第１界面で生じる反射光（第１界面で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ1≦０
Φ2：第２界面で生じる反射光（第２界面で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ2≦０
である。
【0038】
ｍ1の値は０以上の値であり、ｍ2の値は、ｍ1の値と独立して、０以上の値であるが、ｍ1≧１，ｍ2≧１を満足することが、有機層におけるポテンシャル設計といった観点、即ち、有機層におけるポテンシャルの最適化といった観点から好ましく、これによって、後に説明するが、発光素子から出射される光の半値全幅（ＦＷＨＭ）の値を小さくすることができる。
【0039】
発光層の最大発光位置から第１界面までの距離Ｌ1とは、発光層の最大発光位置から第１界面までの実際の距離（物理的距離）を指し、発光層の最大発光位置から第２界面までの距離Ｌ2とは、発光層の最大発光位置から第２界面までの実際の距離（物理的距離）を指す。また、光学距離とは、光路長とも呼ばれ、一般に、屈折率ｎの媒質中を距離Ｌだけ光線が通過したときのｎ×Ｌを指す。以下においても、同様である。従って、平均屈折率をｎaveとしたとき、
ＯＬ1＝Ｌ1×ｎave
ＯＬ2＝Ｌ2×ｎave
の関係がある。ここで、平均屈折率ｎaveとは、有機層（あるいは、有機層及び層間絶縁層、あるいは、有機層、第１電極及び層間絶縁層）を構成する各層の屈折率と厚さの積を合計し、有機層（あるいは、有機層及び層間絶縁層、あるいは、有機層、第１電極及び層間絶縁層）の厚さで除したものである。
ＯＬ1＝Ｌ1×ｎave
ＯＬ2＝Ｌ2×ｎave
の関係がある。ここで、平均屈折率ｎaveとは、有機層（あるいは、有機層及び層間絶縁層、あるいは、有機層、第１電極及び層間絶縁層）を構成する各層の屈折率と厚さの積を合計し、有機層（あるいは、有機層及び層間絶縁層、あるいは、有機層、第１電極及び層間絶縁層）の厚さで除したものである。
【0040】
発光層で発生した光の内の所望の波長λ（具体的には、赤色の波長、緑色の波長、青色の波長）を決定し、式（１－１）及び式（１－２）に基づき発光素子におけるＯＬ1，ＯＬ2等の各種パラメータを求めて、発光素子を設計すればよい。
【0041】
光反射層及び第２電極は入射した光の一部を吸収し、残りを反射する。従って、反射される光に位相シフトが生じる。この位相シフト量Φ1，Φ2は、光反射層及び第２電極を構成する材料の複素屈折率の実数部分と虚数部分の値を、例えばエリプソメータを用いて測定し、これらの値に基づく計算を行うことで求めることができる（例えば、"Principles of Optic", Max Born and Emil Wolf, 1974 (PERGAMON PRESS) 参照）。有機層や層間絶縁層等、第１電極の屈折率も、あるいは又、第１電極が入射した光の一部を吸収し、残りを反射する場合の第１電極の屈折率も、エリプソメータを用いて測定することで求めることができる。
【0042】
光反射層を構成する材料として、アルミニウム、アルミニウム合金（例えば、Ａｌ－ＮｄやＡｌ－Ｃｕ）、Ａｌ／Ｔｉ積層構造、Ａｌ－Ｃｕ／Ｔｉ積層構造、クロム（Ｃｒ）、銀（Ａｇ）、銀合金（例えば、Ａｇ－Ｃｕ、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ、Ａｇ－Ｓｍ－Ｃｕ）を挙げることができる。そして、例えば、電子ビーム蒸着法や熱フィラメント蒸着法、真空蒸着法を含む蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法やイオンプレーティング法；メッキ法（電気メッキ法や無電解メッキ法）；リフトオフ法；レーザアブレーション法；ゾル・ゲル法等によって形成することができる。光反射層を構成する材料に依っては、成膜される光反射層の結晶状態の制御のために、例えば、ＴｉＮから成る下地膜を形成しておくことが好ましい。
【0043】
更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む第１形態の発光素子において、隣接する発光素子のマイクロレンズ部材あるいは導光部の間には光吸収層（ブラックマトリクス層）が形成されている形態とすることができる。隣接する発光素子のマイクロレンズ部材あるいは導光部の間に光吸収層（ブラックマトリクス層）を形成することで、隣接した発光素子間における微小画像の重複の発生を確実に抑制することができる。即ち、或る発光素子によって形成される単位画像と、この或る発光素子に隣接した、あるいは又、近傍に位置する発光素子によって形成される単位画像が部分的に重複するといった現象（以下、便宜上、『単位画素の部分的重複』と呼ぶ）の発生を確実に抑制することができる。光吸収層は、例えば、黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜（具体的には、例えば、黒色のポリイミド系樹脂）から成り、あるいは又、薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタから構成されている。薄膜フィルタは、例えば、金属、金属窒化物あるいは金属酸化物から成る薄膜を２層以上積層して成り、薄膜の干渉を利用して光を減衰させる。薄膜フィルタとして、具体的には、Ｃｒと酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ2Ｏ3）とを交互に積層したものを挙げることができる。
【0044】
更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む第１形態の発光素子において、第１電極と光反射層とは、遮光部によって囲まれている形態とすることができる。即ち、発光素子と発光素子との間に遮光部を設けてもよい。このような形態を採用することで、単位画素の部分的重複の発生を確実に防止することができる。遮光部を構成する遮光材料として、具体的には、チタン（Ｔｉ）やクロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、アルミニウム（Ａｌ）、ＭｏＳｉ2等の光を遮光することができる材料を挙げることができる。遮光部は、電子ビーム蒸着法や熱フィラメント蒸着法、真空蒸着法を含む蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法やイオンプレーティング法等によって形成することができる。
【0045】
更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む第１形態の発光素子において、第１電極と光反射層との間には、更に、金属薄膜フィルタ層が形成されている形態とすることができる。金属薄膜フィルタ層は、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、あるいは、これらの材料を含む合金から成り、例えば２００ｎｍ程度の大きさの平面形状が円形や楕円形、矩形、「コ」の字、十文字等の平面形状を有する空孔が、多数、形成され、２次元状に配列されており（例えば、格子点上に配置されており、あるいは又、千鳥状に配置されており）、あるいは又、スリットが、多数、形成されている。尚、金属薄膜フィルタ層は、例えば、特開２０１５－２３２５９９号公報に開示されている。金属薄膜フィルタ層にあっては、金属表面の自由電子が電磁波と結合した表面プラズモンポラリトン（ＳＰＲ）を媒介として特定の波長の光のみが透過する。このような周期的な微細加工が施された金属薄膜フィルタ層は、プラズモニックフィルタ（ホールアレイフィルタ）とも呼ばれている。金属薄膜フィルタ層は撮像装置の分野において広く知られているが、自発光タイプの発光素子を備えた投影型表示装置における使用は、本発明者が調べた限りでは知られていない。発光素子が出射する光の波長に依存するが（例えば、発光素子が赤外線を出射する場合）、光反射層の代わりに以上に説明した金属薄膜フィルタ層を形成し、金属薄膜フィルタ層によって光を反射させてもよい。
【0046】
第２電極を構成する材料（半光透過材料あるいは光透過材料）として、第２電極をカソード電極として機能させる場合、発光光を透過し、しかも、有機層（発光層）に対して電子を効率的に注入できるように仕事関数の値の小さな導電材料から構成することが望ましく、Ａｇ、Ａｇ－Ｍｇ、Ａｇ－Ｎｄ－Ｃｕ、Ａｇ－Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ及びＡｌ－Ｃｕから成る群から選択された少なくとも１種類の材料から成る形態とすることができる。あるいは又、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ナトリウム（Ｎａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、アルカリ金属又はアルカリ土類金属と銀（Ａｇ）の合金［例えば、マグネシウム（Ｍｇ）と銀（Ａｇ）の合金（Ｍｇ－Ａｇ合金）］、マグネシウム－カルシウムの合金（Ｍｇ－Ｃａ合金）、アルミニウム（Ａｌ）とリチウム（Ｌｉ）の合金（Ａｌ－Ｌｉ合金）等の仕事関数の小さい金属あるいは合金を挙げることができ、中でも、Ｍｇ－Ａｇ合金が好ましく、マグネシウムと銀との体積比として、Ｍｇ：Ａｇ＝５：１～３０：１を例示することができる。あるいは又、マグネシウムとカルシウムとの体積比として、Ｍｇ：Ｃａ＝２：１～１０：１を例示することができる。あるいは又、第２電極を、有機層側から、上述した材料層と、例えばＩＴＯやＩＺＯから成る所謂透明電極（例えば、厚さ３×１０-8ｍ乃至１×１０-6ｍ）との積層構造とすることもできる。第２電極に対して、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金、銅、銅合金、金、金合金等の低抵抗材料から成るバス電極（補助電極）を設け、第２電極全体として低抵抗化を図ってもよい。一方、第２電極をアノード電極として機能させる場合、発光光を透過し、しかも、仕事関数の値の大きな導電材料から構成することが望ましい。第２電極の厚さとして、４ｎｍ乃至５０ｎｍ、好ましくは、４ｎｍ乃至２０ｎｍ、より好ましくは６ｎｍ乃至１２ｎｍを例示することができる。第２電極の平均光透過率は５０％乃至９０％、好ましくは６０％乃至９０％であることが望ましい。
【0047】
第１電極に透明性が要求されない場合、第１電極を構成する材料として、第１電極をアノード電極として機能させる場合には、例えば、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、タンタル（Ｔａ）といった仕事関数の高い金属あるいは合金（例えば、銀を主成分とし、０．３質量％乃至１質量％のパラジウム（Ｐｄ）と０．３質量％乃至１質量％の銅（Ｃｕ）とを含むＡｇ－Ｐｄ－Ｃｕ合金や、Ａｌ－Ｎｄ合金、Ａｌ－Ｃｕ合金、Ａｌ－Ｃｕ－Ｎｉ合金）を挙げることができる。更には、アルミニウム（Ａｌ）及びアルミニウムを含む合金等の仕事関数の値が小さく、且つ、光反射率の高い導電材料を用いる場合には、適切な正孔注入層を設けるなどして正孔注入特性を向上させることで、アノード電極として用いることができる。第１電極の厚さとして、０．１μｍ乃至１μｍを例示することができる。あるいは又、誘電体多層膜やアルミニウム（Ａｌ）あるいはその合金（例えば、Ａｌ－Ｃｕ－Ｎｉ合金）といった光反射性の高い反射膜上に、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）や、インジウムと亜鉛の酸化物（ＩＺＯ）等の正孔注入特性に優れた透明導電材料を積層した構造とすることもできる。
【0048】
第１電極に透明性が要求される場合、第１電極を構成する材料として、インジウム－錫酸化物（ＩＴＯ，Indium Tin Oxide，ＳｎドープのＩｎ2Ｏ3、結晶性ＩＴＯ及びアモルファスＩＴＯを含む）、インジウム－亜鉛酸化物（ＩＺＯ，Indium Zinc Oxide）以外にも、酸化インジウム、インジウム－ガリウム酸化物（ＩＧＯ）、インジウム・ドープのガリウム－亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ，Ｉｎ－ＧａＺｎＯ4）、ＩＦＯ（ＦドープのＩｎ2Ｏ3）、ＩＴｉＯ（ＴｉドープのＩｎ2Ｏ3）、ＩｎＳｎ、ＩｎＳｎＺｎＯ、酸化錫（ＳｎＯ2）、ＡＴＯ（ＳｂドープのＳｎＯ2）、ＦＴＯ（ＦドープのＳｎＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化アルミニウム・ドープの酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム・ドープの酸化亜鉛（ＧＺＯ）、ＢドープのＺｎＯ、ＡｌＭｇＺｎＯ（酸化アルミニウム及び酸化マグネシウム・ドープの酸化亜鉛）、酸化アンチモン、酸化チタン、ＮｉＯ、スピネル型酸化物、ＹｂＦｅ2Ｏ4構造を有する酸化物、ガリウム酸化物、チタン酸化物、ニオブ酸化物、ニッケル酸化物等を母層とする透明導電性材料といった各種透明導電材料を挙げることができる。尚、第１電極をカソード電極として機能させる場合、仕事関数の値が小さく、且つ、光反射率の高い導電材料から構成することが望ましいが、アノード電極として用いられる光反射率の高い導電材料に適切な電子注入層を設けるなどして電子注入特性を向上させることで、カソード電極として用いることもできる。
【0049】
第１電極や第２電極の形成方法として、例えば、電子ビーム蒸着法や熱フィラメント蒸着法、真空蒸着法を含む蒸着法、スパッタリング法、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）やＭＯＣＶＤ法、イオンプレーティング法とエッチング法との組合せ；スクリーン印刷法やインクジェット印刷法、メタルマスク印刷法といった各種印刷法；メッキ法（電気メッキ法や無電解メッキ法）；リフトオフ法；レーザアブレーション法；ゾル・ゲル法等を挙げることができる。各種印刷法やメッキ法によれば、直接、所望の形状（パターン）を有する第１電極や第２電極を形成することが可能である。尚、有機層を形成した後、第２電極を形成するので、特に真空蒸着法のような成膜粒子のエネルギーが小さな成膜方法、あるいは又、ＭＯＣＶＤ法といった成膜方法に基づき形成することが、有機層のダメージ発生を防止するといった観点から好ましい。有機層にダメージが発生すると、リーク電流の発生による「滅点」と呼ばれる非発光画素（あるいは非発光副画素）が生じる虞がある。
【0050】
第２形態の発光素子において、発光層と発光層との間に中間層（電荷発生層）が形成されている形態とすることができる。ここで、中間層を構成する材料として、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、ナトリウム（Ｎａ）、セシウム（Ｃｓ）、酸化モリブデン（ＭｏＯ3）、酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ5）及び酸化タングステン（ＷＯ3）から成る群から選択された少なくとも１種類の材料を挙げることができるし、広くは、導電性を有する金属材料、合金材料、金属化合物を挙げることができる。中間層の成膜に起因して発光層に損傷が発生することを防止しなければならない。中間層は、有機材料から成る発光層の上に、例えば、スパッタリング法に基づき成膜されるが、中間層の成膜温度が、例えば、１００゜Ｃを超えると、発光層に損傷が生じる虞がある。従って、スパッタリング法に基づき中間層を成膜する場合、中間層を構成する材料は、成膜温度を１００゜Ｃ以下とすることができる材料から選択する必要がある。中間層の厚さとして、限定するものではないが、２ｎｍ乃至１０ｎｍを挙げることができる。
【0051】
第２形態の発光素子において、
更に、光反射層を備えており、
第２電極と有機層との第２界面と、光反射層との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極から出射させる形態とすることができる。ここで、光反射層は、第１電極の下方に配設された形態とすることもできるし、第１電極の上方であって、発光層の下方に配設された構成とすることもできる。尚、第２形態の発光素子の好ましいこのような構成は、上記の第１形態の発光素子を包含することができるが、この場合、同色を発光する複数の発光層が積層されて成る発光層における発光層の最大発光位置とは、複数の発光層の平均な厚さ方向の位置を指す。具体的には、第１電極と有機層の界面（第１界面）と各発光層の厚さ方向中心との間の距離の平均値に相当する位置を、最大発光位置とする。光反射層が第１電極よりも上方であって、発光層の下方に配設された構成にあっては、第１電極は、必ずしも、透明性を要求されない。また、場合によっては、光反射層の形成を省略して、第１電極が光反射層を兼ねる形態とすることもでき、この場合、発光層の最大発光位置から第１電極までの距離をＬ1、光学距離をＯＬ1とし、第１電極で生じる反射光（光反射層で反射される光）の位相シフト量をΦ1とする。
更に、光反射層を備えており、
第２電極と有機層との第２界面と、光反射層との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極から出射させる形態とすることができる。ここで、光反射層は、第１電極の下方に配設された形態とすることもできるし、第１電極の上方であって、発光層の下方に配設された構成とすることもできる。尚、第２形態の発光素子の好ましいこのような構成は、上記の第１形態の発光素子を包含することができるが、この場合、同色を発光する複数の発光層が積層されて成る発光層における発光層の最大発光位置とは、複数の発光層の平均な厚さ方向の位置を指す。具体的には、第１電極と有機層の界面（第１界面）と各発光層の厚さ方向中心との間の距離の平均値に相当する位置を、最大発光位置とする。光反射層が第１電極よりも上方であって、発光層の下方に配設された構成にあっては、第１電極は、必ずしも、透明性を要求されない。また、場合によっては、光反射層の形成を省略して、第１電極が光反射層を兼ねる形態とすることもでき、この場合、発光層の最大発光位置から第１電極までの距離をＬ1、光学距離をＯＬ1とし、第１電極で生じる反射光（光反射層で反射される光）の位相シフト量をΦ1とする。
【0052】
第２形態の発光素子において、発光層の数（ＮＬ）は２以上であるが、限定するものではないが、上限値として「４」を例示することができる。中間層の層数は（ＮＬ－１）である。一般に、発光層の層数ＮＬが多くなると、発光素子を駆動するための電圧が高くなるので、発光層の層数ＮＬは、発光素子を駆動するための電圧、更には、発光素子駆動部の耐圧によって制限される。
【0053】
本開示の表示装置（例えば、投影型表示装置）、あるいは、本開示の面発光装置において、パネルは、単色光［例えば、赤色光（波長：６２０ｎｍ乃至７５０ｎｍの範囲内に発光スペクトルピークを有する）、緑色光（波長：４９５ｎｍ乃至５７０ｎｍの範囲内に発光スペクトルピークを有する）、青色光（波長：４５０ｎｍ乃至４９５ｎｍの範囲内に発光スペクトルピークを有する）］を出射する。
【0054】
本開示の表示装置（例えば、投影型表示装置）は、
赤色光を出射する１枚の赤色光出射パネル、
緑色光を出射する１枚の緑色光出射パネル、及び、
青色光を出射する１枚の青色光出射パネルの３枚のパネルから構成されている形態とすることができる。更には、この場合、青色光を出射する１枚の青色光出射パネルあるいは緑色光を出射する１枚の緑色光出射パネルを更に有し、４枚のパネルから構成されている形態とすることができる。そして、この場合、４枚のパネルがアレイ状（１×４の状態）に配列されている構成とすることもできるし、４枚のパネルが２×２の状態に配列されている構成とすることもできる。
赤色光を出射する１枚の赤色光出射パネル、
緑色光を出射する１枚の緑色光出射パネル、及び、
青色光を出射する１枚の青色光出射パネルの３枚のパネルから構成されている形態とすることができる。更には、この場合、青色光を出射する１枚の青色光出射パネルあるいは緑色光を出射する１枚の緑色光出射パネルを更に有し、４枚のパネルから構成されている形態とすることができる。そして、この場合、４枚のパネルがアレイ状（１×４の状態）に配列されている構成とすることもできるし、４枚のパネルが２×２の状態に配列されている構成とすることもできる。
【0055】
上記の好ましい形態、構成を含む本開示の表示装置、具体的には、投影型表示装置にあっては、更に、光出射側に投影レンズ系を備えている形態とすることができる。あるいは又、
複数のパネルから出射された画像を１つの画像に合成する画像合成手段（例えば、無偏光ダイクロイックプリズム又はフィリップス・プリズム）、及び、
画像合成手段（例えば、無偏光ダイクロイックプリズム又はフィリップス・プリズム）の光出射側に投影レンズ系を備えている形態とすることができ、この場合、投影型表示装置を構成する３枚のパネルあるいは４枚のパネルは、画像合成手段において最適な位置に配置すればよい。
複数のパネルから出射された画像を１つの画像に合成する画像合成手段（例えば、無偏光ダイクロイックプリズム又はフィリップス・プリズム）、及び、
画像合成手段（例えば、無偏光ダイクロイックプリズム又はフィリップス・プリズム）の光出射側に投影レンズ系を備えている形態とすることができ、この場合、投影型表示装置を構成する３枚のパネルあるいは４枚のパネルは、画像合成手段において最適な位置に配置すればよい。
【0056】
投影レンズ系を構成するレンズとして、高Ｆナンバー、高被写界深度（ＤＯＦ）のレンズを用いることが好ましい。また、投影レンズ系あるいは画像合成手段に入射する光は、レンズの近軸領域においてレンズの光軸に対して平行光であることが好ましい。尚、高Ｆナンバーのレンズを用いる場合、発光素子から出射される光の発散角（指向半値角）を小さくする必要があるが、そのために、発光素子の光出射側に、マイクロレンズ部材が設けられており、あるいは又、導光部が設けられているし、例えば、共振器構造の最適化が図られている。
【0057】
更には、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の表示装置にあっては、パネルは、平坦である形態とすることができるだけでなく、湾曲している形態とすることもできる。
【0058】
以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の表示装置、具体的には、投影型表示装置において、複数のパネルから出射された画像を１つの画像に合成する手段を備えていない場合、複数のパネルからの画像を、例えば、スクリーン上において適切に表示（合成）するために、複数のパネルの適切な位置合わせを行うと同時に、スクリーンに形成する画像の台形補正、歪み補正、倍率補正等の各種の補正をソフトウェアを用いて行えばよい。複数のパネルからの画像を、例えば、スクリーン上において適切に表示（合成）するために、複数のパネルからの画像の画素が完全に重なっておらず、部分的に重なった状態であってもよい。観察者の目の解像限界以下であれば画素がずれていても問題は生じない。
【0059】
以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の発光素子等において、発光素子を構成する発光部は、有機エレクトロルミネッセンス層を含む形態とすることができる。即ち、以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の表示装置（例えば、投影型表示装置）を構成するパネルや面発光装置は有機エレクトロルミネッセンス・パネル（有機ＥＬパネル）から成る形態とすることができるし、発光素子は有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）から成る形態とすることができるし、有機層は有機エレクトロルミネッセンス層から成る形態とすることができる。また、有機ＥＬパネルは、第２基板から光を出射するトップエミッション方式（上面発光方式）の有機ＥＬパネル（上面発光型有機ＥＬパネル）とすることができ、有機層からの光が第２基板を介して外部に出射される。
【0060】
以下、発光素子を構成する発光部が有機エレクトロルミネッセンス層を含む形態に関して、また、パネルがトップエミッション方式有機ＥＬパネルから成る形態に関して、説明を行う。
【0061】
発光素子における発光部は、第１電極、有機層及び第２電極から構成される。そして、第１電極が有機層の一部と接している構成とすることができるし、あるいは又、有機層が第１電極の一部と接している構成とすることができる。具体的には、第１電極の大きさは有機層よりも小さい構成とすることができるし、あるいは又、第１電極の大きさは有機層と同じ大きさであるが、第１電極と有機層との間の一部分に絶縁層が形成されている構成とすることもできるし、あるいは又、第１電極の大きさは有機層より大きい構成とすることもできる。第１電極と有機層とが接する領域であって、絶縁層に設けられた開口部の領域が、発光領域である。あるいは又、第１電極と有機層とが接する領域が、発光領域である。
【0062】
第１電極は、発光素子毎に設けられている。有機層は、発光素子毎に設けられており、あるいは又、発光素子に共通して設けられている。第２電極は、複数の発光素子において共通電極とされていてもよい。即ち、第２電極は、所謂ベタ電極とされていてもよい。基体の下方あるいは下には第１基板が配置されており、第２電極の上方に第２基板が配置されている。発光領域は基体上に設けられている。第１基板側に発光素子が形成されている。
【0063】
基体を構成する材料として、絶縁材料、例えば、ＳｉＯ2、ＳｉＮ、ＳｉＯＮを例示することができる。基体は、基体を構成する材料に適した形成方法、具体的には、例えば、各種ＣＶＤ法、各種塗布法、スパッタリング法や真空蒸着法を含む各種ＰＶＤ法、スクリーン印刷法といった各種印刷法、メッキ法、電着法、浸漬法、ゾル－ゲル法等の公知の方法に基づき形成することができる。
【0064】
基体の下あるいは下方には、限定するものではないが、発光素子駆動部が設けられている。発光素子駆動部は、例えば、第１基板を構成するシリコン半導体基板に形成されたトランジスタ（具体的には、例えば、ＭＯＳＦＥＴ）や、第１基板を構成する各種基板に設けられた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）から構成されている。発光素子駆動部を構成するトランジスタやＴＦＴと第１電極とは、基体等に形成されたコンタクトホール（コンタクトプラグ）を介して接続されている形態とすることができる。発光素子駆動部は、周知の回路構成とすることができる。第２電極は、有機ＥＬパネルの外周部において、基体等に形成されたコンタクトホール（コンタクトプラグ）を介して発光素子駆動部と接続される。
【0065】
第１基板あるいは第２基板を、シリコン半導体基板、高歪点ガラス基板、ソーダガラス（Ｎａ2Ｏ・ＣａＯ・ＳｉＯ2）基板、硼珪酸ガラス（Ｎａ2Ｏ・Ｂ2Ｏ3・ＳｉＯ2）基板、フォルステライト（２ＭｇＯ・ＳｉＯ2）基板、鉛ガラス（Ｎａ2Ｏ・ＰｂＯ・ＳｉＯ2）基板、表面に絶縁材料層が形成された各種ガラス基板、石英基板、表面に絶縁材料層が形成された石英基板、ポリメチルメタクリレート（ポリメタクリル酸メチル，ＰＭＭＡ）やポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルフェノール（ＰＶＰ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）に例示される有機ポリマー（高分子材料から構成された可撓性を有するプラスチックフィルムやプラスチックシート、プラスチック基板といった高分子材料の形態を有する）から構成することができる。第１基板と第２基板を構成する材料は、同じであっても、異なっていてもよい。但し、発光素子からの光を透過する基板は、発光素子からの光に対して透明であることが要求される。
【0066】
有機層は有機発光材料から成る発光層を備えているが、具体的には、例えば、正孔輸送層と発光層と電子輸送層との積層構造、正孔輸送層と電子輸送層を兼ねた発光層との積層構造、正孔注入層と正孔輸送層と発光層と電子輸送層と電子注入層との積層構造等から構成することができる。有機層の形成方法として、真空蒸着法等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）；スクリーン印刷法やインクジェット印刷法といった印刷法；転写用基板上に形成されたレーザ吸収層と有機層の積層構造に対してレーザを照射することでレーザ吸収層上の有機層を分離して、有機層を転写するといったレーザ転写法、各種の塗布法を例示することができる。有機層を真空蒸着法に基づき形成する場合、例えば、所謂メタルマスクを用い、係るメタルマスクに設けられた開口を通過した材料を堆積させることで有機層を得ることができる。
【0067】
第２電極と第２基板との間には保護層（平坦化層）が形成されていることが好ましい。保護層を構成する材料として、アクリル系樹脂を例示することができるし、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ、ＳｉＣ、アモルファスシリコン（α－Ｓｉ）、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2を例示することもできる。保護層の形成方法として、各種ＣＶＤ法、各種塗布法、スパッタリング法や真空蒸着法を含む各種ＰＶＤ法、スクリーン印刷法といった各種印刷法等の公知の方法に基づき形成することができる。また、保護層の形成方法として、更には、ＡＬＤ（Atomic Layer Deposition）法を採用することもできる。保護層は、複数の発光素子において共通化されていてもよいし、各発光素子において個別に設けられていてもよい。保護層と第２基板とは、例えば、樹脂層（封止樹脂層）を介して接合される。樹脂層（封止樹脂層）を構成する材料として、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコン系接着剤、シアノアクリレート系接着剤といった熱硬化型接着剤や、紫外線硬化型接着剤を挙げることができる。
【0068】
有機ＥＬパネルの光を出射する最外面（具体的には、第２基板の外面）には、紫外線吸収層、汚染防止層、ハードコート層、帯電防止層を形成してもよいし、保護部材（例えば、カバーガラス）を配してもよい。
【0069】
有機ＥＬパネルにおいては、基体や絶縁層、層間絶縁層が形成されるが、これらを構成する絶縁材料として、ＳｉＯ2、ＮＳＧ（ノンドープ・シリケート・ガラス）、ＢＰＳＧ（ホウ素・リン・シリケート・ガラス）、ＰＳＧ、ＢＳＧ、ＡｓＳＧ、ＳｂＳＧ、ＰｂＳＧ、ＳＯＧ（スピンオングラス）、ＬＴＯ（Low Temperature Oxide、低温ＣＶＤ－ＳｉＯ2）、低融点ガラス、ガラスペースト等のＳｉＯX系材料（シリコン系酸化膜を構成する材料）；ＳｉＯＮ系材料を含むＳｉＮ系材料；ＳｉＯＣ；ＳｉＯＦ；ＳｉＣＮを挙げることができる。あるいは又、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化クロム（ＣｒＯx）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化バナジウム（ＶＯx）といった無機絶縁材料を挙げることができる。あるいは又、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂といった各種樹脂や、ＳｉＯＣＨ、有機ＳＯＧ、フッ素系樹脂といった低誘電率絶縁材料（例えば、誘電率ｋ（＝ε／ε0）が例えば３．５以下の材料であり、具体的には、例えば、フルオロカーボン、シクロパーフルオロカーボンポリマー、ベンゾシクロブテン、環状フッ素系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、アモルファステトラフルオロエチレン、ポリアリールエーテル、フッ化アリールエーテル、フッ化ポリイミド、アモルファスカーボン、パリレン（ポリパラキシリレン）、フッ化フラーレン）を挙げることができるし、Ｓｉｌｋ（The Dow Chemical Co. の商標であり、塗布型低誘電率層間絶縁膜材料）、Ｆｌａｒｅ（Honeywell Electronic Materials Co. の商標であり、ポリアリルエーテル（ＰＡＥ）系材料）を例示することもできる。そして、これらを、単独あるいは適宜組み合わせて使用することができる。絶縁層や層間絶縁層、基体は、各種ＣＶＤ法、各種塗布法、スパッタリング法や真空蒸着法を含む各種ＰＶＤ法、スクリーン印刷法といった各種印刷法、メッキ法、電着法、浸漬法、ゾル－ゲル法等の公知の方法に基づき形成することができる。
【0070】
有機ＥＬパネルにあっては、正孔輸送層（正孔供給層）の厚さと電子輸送層（電子供給層）の厚さは、概ね等しいことが望ましい。あるいは又、正孔輸送層（正孔供給層）よりも電子輸送層（電子供給層）を厚くしてもよく、これによって、低い駆動電圧で高効率化に必要、且つ、発光層への十分な電子供給が可能となる。即ち、アノード電極に相当する第１電極と発光層との間に正孔輸送層を配置し、しかも、電子輸送層よりも薄い膜厚で形成することで、正孔の供給を増大させることが可能となる。そして、これにより、正孔と電子の過不足がなく、且つ、キャリア供給量も十分多いキャリアバランスを得ることができるため、高い発光効率を得ることができる。また、正孔と電子の過不足がないことで、キャリアバランスが崩れ難く、駆動劣化が抑制され、発光寿命を長くすることができる。
【実施例1】
【0071】
実施例１は、本開示の第１の態様に係る発光素子及び本開示の表示装置に関し、また、第１形態の発光素子に関する。実施例１の発光素子及び実施例１の表示装置（具体的には、投影型表示装置）を構成するパネルの模式的な一部断面図を図１に示し、１つの発光素子における複数（Ｍ個×Ｎ個）の発光領域を有する発光部の模式的な平面図を図２Ａに示し、複数（Ｐ個×Ｑ個）のマイクロレンズ部材を有する発光部の模式的な平面図を図２Ｂに示す。また、実施例１の投影型表示装置を構成する４枚のパネルの模式的な配置を図７Ａ及び図７Ｂに示し、図７Ａ及び図７Ｂに示す実施例１の投影型表示装置を構成する４枚のパネルの画像投影状態を模式的に図８及び図９に示す。更には、実施例１の発光素子の模式的な一部断面図を図２０Ａに示す。
【0072】
尚、図２Ａ、図３Ａ、図４Ａ、図５Ａ、図６Ａ、図２１Ａ、図２２Ａ及び図２３Ａにおいて、１つの発光領域を実線で示し、図２Ｂ、図３Ｂ、図４Ｂ、図５Ｂ、図６Ｂ、図２１Ｂ、図２２Ｂ及び図２３Ｂにおいて、１つのマイクロレンズ部材を実線で示し、１つの発光領域を一点鎖線で示し、図２Ａ、図２Ｂ、図３Ａ、図３Ｂ、図４Ａ、図４Ｂ、図５Ａ、図５Ｂ、図６Ａ、図６Ｂ、図２１Ａ、図２１Ｂ、図２２Ａ、図２２Ｂ、図２３Ａ及び図２３Ｂにおいて、１つの発光部を二点鎖線で囲み、１つの発光領域を含む領域を点線で囲んだ。また、発光領域の中心を通過する中心線を白丸で示し、マイクロレンズ部材の光軸を黒丸で示す。
【0073】
実施例１の発光素子１０は、
複数の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
各発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材６０、
を備えている。
複数の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
各発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材６０、
を備えている。
【0074】
具体的には、実施例１の発光素子１０は、
Ｍ個×Ｎ個（但し、Ｍ及びＮは１以上の整数であり、Ｍ＝１且つＮ＝１の場合を除く）の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
Ｍ個×Ｎ個の発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御するＰ個×Ｑ個（但し、Ｐ＝ｐ×Ｍ、Ｑ＝ｑ×Ｎであり、ｐ及びｑは１以上の整数）のマイクロレンズ部材６０、
を備えている。
Ｍ個×Ｎ個（但し、Ｍ及びＮは１以上の整数であり、Ｍ＝１且つＮ＝１の場合を除く）の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
Ｍ個×Ｎ個の発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御するＰ個×Ｑ個（但し、Ｐ＝ｐ×Ｍ、Ｑ＝ｑ×Ｎであり、ｐ及びｑは１以上の整数）のマイクロレンズ部材６０、
を備えている。
【0075】
また、実施例１、あるいは、後述する実施例２～実施例６の表示装置、具体的には、投影型表示装置（プロジェクタ）は、
第１基板１１、
第２基板４１、及び、
第１基板１１と第２基板４１によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、実施例１、あるいは、後述する実施例２～実施例６の発光素子１０から構成されている。
第１基板１１、
第２基板４１、及び、
第１基板１１と第２基板４１によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、実施例１、あるいは、後述する実施例２～実施例６の発光素子１０から構成されている。
【0076】
そして、実施例１の発光素子１０は第１形態の発光素子であり、
発光部３０は、
発光領域３０’において共有された第１電極３１、
第１電極３１上に形成され、有機発光材料から成る発光層３３Ａを含む有機層３３、及び、
有機層３３上に形成された第２電極３２、
を備えており、
更に、第１電極３１の下方に光反射層５０を備えており、
第２電極３２と有機層３３との界面と、光反射層５０との間で、発光層３３Ａで発光した光を共振させて、光の一部を第２電極３２から出射させる。また、
第１電極３１と有機層３３との間には絶縁層２８が形成されており、
絶縁層２８には発光領域３０’を規定する開口部２９が設けられている。そして、光反射層５０の第１電極３１側の面（第１界面）と、第２電極３２と有機層３３との界面（第２界面）との間で共振器構造が形成される。
発光部３０は、
発光領域３０’において共有された第１電極３１、
第１電極３１上に形成され、有機発光材料から成る発光層３３Ａを含む有機層３３、及び、
有機層３３上に形成された第２電極３２、
を備えており、
更に、第１電極３１の下方に光反射層５０を備えており、
第２電極３２と有機層３３との界面と、光反射層５０との間で、発光層３３Ａで発光した光を共振させて、光の一部を第２電極３２から出射させる。また、
第１電極３１と有機層３３との間には絶縁層２８が形成されており、
絶縁層２８には発光領域３０’を規定する開口部２９が設けられている。そして、光反射層５０の第１電極３１側の面（第１界面）と、第２電極３２と有機層３３との界面（第２界面）との間で共振器構造が形成される。
【0077】
ここで、実施例１にあっては、具体的には、Ｍ＝Ｎ＝３、Ｐ＝Ｑ＝３、ｐ＝ｑ＝１とした。限定するものではないが、１つの発光部３０の大きさを７．８μｍ×７．８μｍとし、１つの開口部２９（１つの発光領域３０’）の大きさを２．２μｍ×２．２μｍとし、１つの発光領域３０’を含む領域の大きさを２．６μｍ×２．６μｍとした。１つの開口部２９（１つの発光領域３０’）の平面形状は正方形である。また、マイクロレンズ部材６０の平面形状は、コーナー部が丸みを帯びた正方形であり、大きさは、例えば、２．２μｍ×２．２μｍである。尚、開口部２９（発光領域３０’）よりもマイクロレンズ部材６０が大きい方が望ましい。発光部３０から出射される光は発散角を有するので、その発散角をカバーするマイクロレンズ部材６０の方が集光効率の向上を図ることができるためである。マイクロレンズ部材６０は、一種の非球面レンズであり、平凸レンズから構成されており、発光領域３０’から離れる方向に向かって凸状の面を有している。図２Ａ及び図２Ｂに示した例では、マイクロレンズ部材６０の光軸が発光領域３０’の中心を通過する中心線上に位置しており、発光領域３０’の正射影像は、マイクロレンズ部材６０の正射影像内に含まれる。具体的には、１つの発光領域３０’の正射影像は、１つのマイクロレンズ部材６０の正射影像内に含まれる。マイクロレンズ部材６０は正の光学パワーを有する。複数の発光領域３０’は、所望の位置に配置されていればよく、具体的には、規則正しく配列されている。即ち、例えば、発光領域３０’の中心は、仮想の格子（正方形の格子）の格子点上に配置されている。
【0078】
発光領域１３０’の平面形状が正方形であり、マイクロレンズ部材１６０’の平面形状が円形である場合、発光領域１３０’から出射された光を通過させるためのマイクロレンズ部材１６０’の大きさは、図２８Ｂに示すように、発光領域１３０’に対して大きくなる。あるいは又、図２８Ｃに示すように、発光領域１３０’の隅の領域において発光した光をマイクロレンズ部材１６０’は効率良く集光することが困難である。一方、発光領域１３０’の平面形状が正方形であり、マイクロレンズ部材１６０の平面形状が正方形である場合、発光領域１３０’から出射された光を通過させるためのマイクロレンズ部材１６０の大きさは、図２８Ａに示すように余り大きくはならないし、発光領域１３０’の隅の領域において発光した光をマイクロレンズ部材１６０は効率良く集光することができる。以上のとおり、発光領域１３０’の平面形状が正方形であり、マイクロレンズ部材１６０の平面形状が正方形である場合、マイクロレンズ部材１６０の占める面積を縮小化することができ、しかも、発光領域１３０’からの光を効率良く集光することができる。
【0079】
実施例１あるいは後述する実施例２～実施例６において、投影型表示装置を構成するパネルは有機ＥＬパネルから成り、発光素子１０は有機ＥＬ素子から成り、有機層３３は有機エレクトロルミネッセンス層から成る。また、有機ＥＬパネルは、第２基板４１から光を出射するトップエミッション方式の有機ＥＬパネルであり、有機層３３からの光が第２基板４１を介して外部に出射される。
【0080】
そして、実施例１あるいは後述する実施例２～実施例６の投影型表示装置は、
赤色光を出射する１枚の赤色光出射パネル（第１パネル１Ｒ）、
緑色光を出射する１枚の緑色光出射パネル（第２パネル１Ｇ）、及び、
青色光を出射する１枚の青色光出射パネル（第３パネル１Ｂ1）から構成されており、更には、青色光を出射する１枚の青色光出射パネル（第４パネル１Ｂ2）を更に有し、４枚のパネル１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ1，１Ｂ2から構成されている。そして、投影型表示装置の光出射側に投影レンズ系７０を備えている。図７Ａ及び図８に示すように、４枚のパネルがアレイ状（１×４の状態）に配列されていてもよいし、図７Ｂ及び図９に示すように、４枚のパネルが２×２の状態に配列されていてもよい。尚、図８及び図９において、パネルから出射される光線を点線及び一点鎖線で示す。パネルの画素数は、例えば１９２０×１０８０であり、１つの発光素子１０は１つの画素を構成する。また、パネルの大きさは、例えば、１０ｍｍ×１０ｍｍである。
赤色光を出射する１枚の赤色光出射パネル（第１パネル１Ｒ）、
緑色光を出射する１枚の緑色光出射パネル（第２パネル１Ｇ）、及び、
青色光を出射する１枚の青色光出射パネル（第３パネル１Ｂ1）から構成されており、更には、青色光を出射する１枚の青色光出射パネル（第４パネル１Ｂ2）を更に有し、４枚のパネル１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ1，１Ｂ2から構成されている。そして、投影型表示装置の光出射側に投影レンズ系７０を備えている。図７Ａ及び図８に示すように、４枚のパネルがアレイ状（１×４の状態）に配列されていてもよいし、図７Ｂ及び図９に示すように、４枚のパネルが２×２の状態に配列されていてもよい。尚、図８及び図９において、パネルから出射される光線を点線及び一点鎖線で示す。パネルの画素数は、例えば１９２０×１０８０であり、１つの発光素子１０は１つの画素を構成する。また、パネルの大きさは、例えば、１０ｍｍ×１０ｍｍである。
【0081】
各パネルは単色光を出射する。第１パネル１Ｒを構成する発光素子における発光層は赤色を発光する赤色光発光層から成り、第１パネル１Ｒが出射する光は、赤色光（波長：６２０ｎｍ乃至７５０ｎｍの範囲内に発光スペクトルピークを有する）であり、具体的には、ピーク波長λRは以下の表１のとおりである。また、第２パネル１Ｇを構成する発光素子における発光層は緑色を発光する緑色光発光層から成り、第２パネル１Ｇが出射する光は、緑色光（波長：４９５ｎｍ乃至５７０ｎｍの範囲内に発光スペクトルピークを有する）であり、具体的には、ピーク波長λGは以下の表１のとおりである。更には、第３パネル１Ｂ1及び第４パネル１Ｂ2を構成する発光素子における発光層は青色を発光する青色光発光層から成り、第３パネル１Ｂ1及び第４パネル１Ｂ2が出射する光は、青色光（波長：４５０ｎｍ乃至４９５ｎｍの範囲内に発光スペクトルピークを有する）であり、ピーク波長λBは以下の表１のとおりである。
【0082】
ここで、実施例１の発光素子１０にあっては、前述した式（１－１）及び式（１－２）を満足する。具体的には、ｍ1＝ｍ2＝１とした。但し、これらの値に限定されるものではなく、例えば、ｍ1＝ｍ2＝０とすることもできる。式（１－１）及び式（１－２）から求めた光学距離（ＯＬ1＋ＯＬ2）の値を以下の表１に示す。
【0083】
〈表１〉
ｍ1 ｍ2 ピーク波長λ ＯＬ1＋ＯＬ2
第１パネル １ １ ５３０ｎｍ ２８０ｎｍ
第２パネル １ １ ６３０ｎｍ ２３０ｎｍ
第３パネル／第４パネル １ １ ４４０ｎｍ １７０ｎｍ
ｍ1 ｍ2 ピーク波長λ ＯＬ1＋ＯＬ2
第１パネル １ １ ５３０ｎｍ ２８０ｎｍ
第２パネル １ １ ６３０ｎｍ ２３０ｎｍ
第３パネル／第４パネル １ １ ４４０ｎｍ １７０ｎｍ
【0084】
第２電極３２は、アクリル系樹脂から成る保護層（平坦化層）３４で覆われている。有機層３３の光出射側にマイクロレンズ部材６０が配設されている。即ち、保護層３４の上には、周知の方法で、周知の材料から成るマイクロレンズ部材６０が形成されている。マイクロレンズ部材６０から出射される光は平行光（テレセントリックな光）とされる。保護層３４及びマイクロレンズ部材６０は、第２基板４１に封止樹脂層３５を介して亙って貼り合わされている。封止樹脂層３５を構成する材料として、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコン系接着剤、シアノアクリレート系接着剤といった熱硬化型接着剤や、紫外線硬化型接着剤を挙げることができる。
【0085】
ＣＶＤ法に基づき形成されたＳｉＯ2から成る基体（層間絶縁層）２６の内部には、Ａｌ－Ｃｕや、Ａｇ、Ａｇ－Ｃｕから成る光反射層５０が形成されている。即ち、基体（層間絶縁層）２６は下層層間絶縁層２６Ａと上層層間絶縁層２６Ｂの２層から構成されており、光反射層５０は下層層間絶縁層２６Ａと上層層間絶縁層２６Ｂとの間に形成されている。光反射層５０を銀（Ａｇ）から構成する場合、成膜される光反射層５０の結晶状態の制御のために、例えば、ＴｉＮから成る下地膜を下層層間絶縁層２６Ａの上に形成しておくことが好ましい。光反射層５０の上にＴｉＮ層を形成する必要はない。また、下層層間絶縁層と上層層間絶縁層とを、同じ材料から構成してもよいし、ＯＬ1を適切な値とするために、異なる材料から構成してもよい。
【0086】
また、基体（層間絶縁層）２６の下方には、発光素子駆動部が設けられている。発光素子駆動部は周知の回路構成とすることができる。発光素子駆動部は、第１基板１１に相当するシリコン半導体基板に形成されたトランジスタ（具体的には、ＭＯＳＦＥＴ）から構成されている。ＭＯＳＦＥＴから成るトランジスタ２０は、第１基板１１上に形成されたゲート絶縁層２２、ゲート絶縁層２２上に形成されたゲート電極２１、第１基板１１に形成されたソース／ドレイン領域２４、ソース／ドレイン領域２４の間に形成されたチャネル形成領域２３、並びに、チャネル形成領域２３及びソース／ドレイン領域２４を取り囲む素子分離領域２５から構成されている。トランジスタ２０と第１電極３１とは、基体２６に設けられたコンタクトプラグ２７を介して電気的に接続されている。尚、図面においては、１つの発光素子駆動部につき、１つのトランジスタ２０を図示した。
【0087】
第２電極３２は、有機ＥＬパネルの外周部において、基体（層間絶縁層）２６に形成された図示しないコンタクトホール（コンタクトプラグ）を介して発光素子駆動部と接続されている。有機ＥＬパネルの外周部において、第２電極３２の下方に第２電極３２に接続された補助電極を設け、補助電極を発光素子駆動部と接続してもよい。
【0088】
第１電極３１はアノード電極として機能し、第２電極３２はカソード電極として機能する。そして、第１電極３１は光透過材料から成り、第２電極３２は半光透過材料から成る。具体的には、第１電極３１は、透明導電性材料層、より具体的には、ＩＴＯやＩＺＯから成り、第２電極３２は、銀（Ａｇ）から成る。第１電極３１は、真空蒸着法とエッチング法との組合せに基づき、基体（層間絶縁層）２６の上に形成されている。また、第２電極３２は、特に真空蒸着法のような成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法によって成膜されており、パターニングされていない。有機層３３もパターニングされていない。但し、これに限定するものではなく、有機層３３をパターニングしてもよい。
【0089】
実施例１において、有機層３３は、例えば、正孔注入層（ＨＩＬ：Hole Injection Layer）、正孔輸送層（ＨＴＬ：Hole Transport Layer）、発光層３３Ａ、電子輸送層（ＥＴＬ：Electron Transport Layer）、及び、電子注入層（ＥＩＬ：Electron InjectionLayer）の積層構造を有する。図２０Ａにおいて、正孔注入層及び正孔輸送層を纏めて参照番号３３Ｃで示し、電子輸送層及び電子注入層を纏めて参照番号３３Ｅで示す。
【0090】
正孔注入層は、正孔注入効率を高める層であると共に、リークを防止するバッファ層として機能し、厚さは、例えば２ｎｍ乃至１０ｎｍ程度である。正孔注入層は、例えば、以下の式（Ａ）又は式（Ｂ）で表されるヘキサアザトリフェニレン誘導体から成る。尚、正孔注入層の端面が第２電極と接した状態になると、画素間の輝度バラツキ発生の主たる原因となり、表示画質の低下につながる。
【0091】
【0092】
ここで、Ｒ1～Ｒ6は、それぞれ、独立に、水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、アミノ基、アルールアミノ基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のカルボニル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のカルボニルエステル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルキル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルケニル基、炭素数２０以下の置換あるいは無置換のアルコキシ基、炭素数３０以下の置換あるいは無置換のアリール基、炭素数３０以下の置換あるいは無置換の複素環基、ニトリル基、シアノ基、ニトロ基、又は、シリル基から選ばれる置換基であり、隣接するＲm（ｍ＝１～６）は環状構造を介して互いに結合してもよい。また、Ｘ1～Ｘ6は、それぞれ、独立に、炭素又は窒素原子である。
【0093】
【0094】
正孔輸送層は発光層３３Ａへの正孔輸送効率を高める層である。発光層３３Ａでは、電界が加わると電子と正孔との再結合が起こり、光を発生する。電子輸送層は発光層３３Ａへの電子輸送効率を高める層であり、電子注入層は発光層３３Ａへの電子注入効率を高める層である。
【0095】
正孔輸送層は、例えば、厚さが４０ｎｍ程度の４，４’，４”－トリス（３－メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ－ＭＴＤＡＴＡ）又はα－ナフチルフェニルジアミン（αＮＰＤ）から成る。
【0096】
赤色光発光層では、電界が加わることにより、第１電極３１から注入された正孔の一部と、第２電極３２から注入された電子の一部とが再結合して、赤色の光が発生する。このような赤色光発光層は、例えば、赤色光発光材料、正孔輸送性材料、電子輸送性材料及び両電荷輸送性材料の内、少なくとも１種類の材料を含んでいる。赤色光発光材料は、蛍光性の材料であってもよいし、燐光性の材料であってもよい。厚さが５ｎｍ程度の赤色光発光層は、例えば、４，４－ビス（２，２－ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）に、２，６－ビス［（４’－メトキシジフェニルアミノ）スチリル］－１，５－ジシアノナフタレン（ＢＳＮ）を３０質量％混合したものから成る。
【0097】
緑色光発光層では、電界が加わることにより、第１電極３１から注入された正孔の一部と、第２電極３２から注入された電子の一部とが再結合して、緑色の光が発生する。このような緑色光発光層は、例えば、緑色光発光材料、正孔輸送性材料、電子輸送性材料及び両電荷輸送性材料の内、少なくとも１種類の材料を含んでいる。緑色光発光材料は、蛍光性の材料であってもよいし、燐光性の材料であってもよい。厚さが１０ｎｍ程度の緑色光発光層は、例えば、ＤＰＶＢｉに、クマリン６を５質量％混合したものから成る。
【0098】
青色光発光層では、電界が加わることにより、第１電極３１から注入された正孔の一部と、第２電極３２から注入された電子の一部とが再結合して、青色の光が発生する。このような青色光発光層は、例えば、青色光発光材料、正孔輸送性材料、電子輸送性材料及び両電荷輸送性材料の内、少なくとも１種類の材料を含んでいる。青色光発光材料は、蛍光性の材料であってもよいし、燐光性の材料であってもよい。厚さが３０ｎｍ程度の青色光発光層は、例えば、ＤＰＶＢｉに、４，４’－ビス［２－｛４－（Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）を２．５質量％混合したものから成る。
【0099】
厚さが２０ｎｍ程度の電子輸送層は、例えば、８－ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）から成る。厚さが０．３ｎｍ程度の電子注入層は、例えば、ＬｉＦあるいはＬｉ2Ｏ等から成る。
【0100】
但し、各層を構成する材料は例示であり、これらの材料に限定するものではない。発光層３３Ａを燐光性の材料から構成すれば、蛍光性の材料から構成した場合と比較して２．５倍～３倍程度の輝度増加を図ることができる。また、発光層３３Ａを、熱活性化遅延蛍光（ＴＡＤＦ，Thermally Activated Delayed Fluorescence）材料から構成することもできる。
【0101】
以下、図１に示した実施例１の発光素子１０の製造方法の概要を説明する。
【0102】
［工程－１００］
先ず、シリコン半導体基板（第１基板１１）に発光素子駆動部を公知のＭＯＳＦＥＴ製造プロセスに基づき形成する。
先ず、シリコン半導体基板（第１基板１１）に発光素子駆動部を公知のＭＯＳＦＥＴ製造プロセスに基づき形成する。
【0103】
［工程－１１０］
次いで、全面に基体（層間絶縁層）２６を形成する。具体的には、先ず、ＣＶＤ法に基づき下層層間絶縁層２６Ａを形成し、下層層間絶縁層２６Ａの上にスパッタリング法に基づき光反射層５０を形成し、エッチング法に基づき光反射層５０をパターニングし、更に、下層層間絶縁層２６Ａ及び光反射層５０の上にＣＶＤ法に基づき上層層間絶縁層２６Ｂを形成する。図示した層間絶縁層２６は、下層層間絶縁層２６Ａ及び上層層間絶縁層２６Ｂから構成されている。
次いで、全面に基体（層間絶縁層）２６を形成する。具体的には、先ず、ＣＶＤ法に基づき下層層間絶縁層２６Ａを形成し、下層層間絶縁層２６Ａの上にスパッタリング法に基づき光反射層５０を形成し、エッチング法に基づき光反射層５０をパターニングし、更に、下層層間絶縁層２６Ａ及び光反射層５０の上にＣＶＤ法に基づき上層層間絶縁層２６Ｂを形成する。図示した層間絶縁層２６は、下層層間絶縁層２６Ａ及び上層層間絶縁層２６Ｂから構成されている。
【0104】
［工程－１２０］
そして、トランジスタ２０の一方のソース／ドレイン領域の上方に位置する基体２６の部分（光反射層５０を含む）に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に基づき接続孔を形成する。そして、接続孔を含む基体２６の上に金属層を、例えば、スパッタリング法に基づき形成し、次いで、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に基づき金属層をパターニングすることで、基体２６の一部分の上に第１電極３１を形成することができる。第１電極３１は、発光素子毎に分離されている。併せて、接続孔内に第１電極３１とトランジスタ２０とを電気的に接続するコンタクトホール（コンタクトプラグ）２７を形成することができる。コンタクトホール（コンタクトプラグ）２７は、例えば、タングステン（Ｗ）から成る。光反射層５０はコンタクトホール（コンタクトプラグ）２７に接続されている。
そして、トランジスタ２０の一方のソース／ドレイン領域の上方に位置する基体２６の部分（光反射層５０を含む）に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に基づき接続孔を形成する。そして、接続孔を含む基体２６の上に金属層を、例えば、スパッタリング法に基づき形成し、次いで、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に基づき金属層をパターニングすることで、基体２６の一部分の上に第１電極３１を形成することができる。第１電極３１は、発光素子毎に分離されている。併せて、接続孔内に第１電極３１とトランジスタ２０とを電気的に接続するコンタクトホール（コンタクトプラグ）２７を形成することができる。コンタクトホール（コンタクトプラグ）２７は、例えば、タングステン（Ｗ）から成る。光反射層５０はコンタクトホール（コンタクトプラグ）２７に接続されている。
【0105】
［工程－１３０］
次に、例えば、ＣＶＤ法に基づき、全面に絶縁層２８を形成した後、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に基づき、第１電極３１と第１電極３１との間の基体２６の上に絶縁層２８を残す。また、第１電極３１の上の絶縁層２８に開口部２９を形成する。
次に、例えば、ＣＶＤ法に基づき、全面に絶縁層２８を形成した後、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術に基づき、第１電極３１と第１電極３１との間の基体２６の上に絶縁層２８を残す。また、第１電極３１の上の絶縁層２８に開口部２９を形成する。
【0106】
［工程－１４０］
その後、開口部２９の底部に露出した第１電極３１及び絶縁層２８の上に、有機層３３を、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法といったＰＶＤ法、スピンコート法やダイコート法等のコーティング法等によって成膜する。場合によっては、有機層３３を所望の形状にパターニングしてもよい。
その後、開口部２９の底部に露出した第１電極３１及び絶縁層２８の上に、有機層３３を、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法といったＰＶＤ法、スピンコート法やダイコート法等のコーティング法等によって成膜する。場合によっては、有機層３３を所望の形状にパターニングしてもよい。
【0107】
［工程－１５０］
次いで、例えば真空蒸着法等に基づき、全面に第２電極３２を形成する。場合によっては、第２電極３２を所望の形状にパターニングしてもよい。このようにして、第１電極３１上に、有機層３３及び第２電極３２を形成することができる。
次いで、例えば真空蒸着法等に基づき、全面に第２電極３２を形成する。場合によっては、第２電極３２を所望の形状にパターニングしてもよい。このようにして、第１電極３１上に、有機層３３及び第２電極３２を形成することができる。
【0108】
［工程－１６０］
その後、塗布法に基づき、全面に保護層３４を形成した後、保護層３４の頂面を平坦化処理する。塗布法に基づき保護層３４を形成することができるので、加工プロセスの制約が少なく、材料選択幅が広い。その後、保護層３４の上に、開口部２９に対向したマイクロレンズ部材６０を形成する。マイクロレンズ部材６０の形成は、周知の方法に準じて行えばよい。即ち、保護層３４の上に、例えば、平面形状が正方形のレジスト材料を設け、このレジスト材料を加熱処理することで、コーナー部が丸みを帯びた正方形の平面形状を有するマイクロレンズ部材６０を得ることができる。
その後、塗布法に基づき、全面に保護層３４を形成した後、保護層３４の頂面を平坦化処理する。塗布法に基づき保護層３４を形成することができるので、加工プロセスの制約が少なく、材料選択幅が広い。その後、保護層３４の上に、開口部２９に対向したマイクロレンズ部材６０を形成する。マイクロレンズ部材６０の形成は、周知の方法に準じて行えばよい。即ち、保護層３４の上に、例えば、平面形状が正方形のレジスト材料を設け、このレジスト材料を加熱処理することで、コーナー部が丸みを帯びた正方形の平面形状を有するマイクロレンズ部材６０を得ることができる。
【0109】
［工程－１７０］
そして、保護層３４及びマイクロレンズ部材６０と第２基板４１とをアクリル系接着剤から成る封止樹脂層３５によって貼り合わせる。こうして、図１に示した発光素子（有機ＥＬ素子）１０、実施例１の有機ＥＬパネルを得ることができる。
そして、保護層３４及びマイクロレンズ部材６０と第２基板４１とをアクリル系接着剤から成る封止樹脂層３５によって貼り合わせる。こうして、図１に示した発光素子（有機ＥＬ素子）１０、実施例１の有機ＥＬパネルを得ることができる。
【0110】
発光素子１０からの光の出射状態を模式的に図１９に示すが、光線を矢印で示し、指向半値角を「θhalf」で表す。
【0111】
ここで、従来の有機ＥＬ素子では、有機ＥＬ素子を構成する発光層を、例えば、赤色光発光層、緑色光発光層及び青色光発光層を積層することで構成し、白色光を出射させ、赤色カラーフィルタ層を設けることで赤色光有機ＥＬ素子１００Ｒとし、緑色カラーフィルタ層を設けることで緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇとし、青色カラーフィルタ層を設けることで青色光有機ＥＬ素子１００Ｂとする。このような赤色光発光層、緑色光発光層及び青色光発光層の積層構造を、以下、便宜上、『ＲＧＢ積層構造』と呼ぶ場合がある。また、共振器構造が採用されており、通常、式（１－１）及び式（１－２）におけるｍ1，ｍ2の値のそれぞれを「０」あるいは「１」としているが、これらの値に限定するものではない。
【0112】
実施例１の発光素子１０において、発光素子１０の発光部３０の中心を通る中心線における光強度（発光素子１０から出射される光の光強度）をＩ0、光反射層５０を備えていない発光素子１０の発光部３０の中心を通る中心線における光強度（発光素子１０から出射される光の光強度）をＩconvとしたとき、
Ｉ0／Ｉconv≧５
を満足する。
Ｉ0／Ｉconv≧５
を満足する。
【0113】
図３０Ａ及び図３０Ｂに、従来の有機ＥＬ素子におけるカラーフィルタ層の模式的な配置図及び発光領域の模式的な配置図を示す。正方形の平面形状を有する１画素の一辺の長さを「ａ」とする。赤色光有機ＥＬ素子１００Ｒ、緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇ及び青色光有機ＥＬ素子１００Ｂの占める面積は（１／３）ａ2である。また、赤色光有機ＥＬ素子１００Ｒ、緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇ及び青色光有機ＥＬ素子１００Ｂは、相互に離間して設けられているので、発光領域は、例えば、（１／３）×０．７５＝０．２５ａ2となる。赤色光有機ＥＬ素子１００Ｒ、緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇ及び青色光有機ＥＬ素子１００Ｂの発光のためにこれらの有機ＥＬ素子に流す電流を「１．００」としたとき、例えば緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇに流す電流の割合は、例えば「０．３８」である。また、赤色光有機ＥＬ素子１００Ｒ、緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇ及び青色光有機ＥＬ素子１００Ｂのそれぞれにはカラーフィルタ層が設けられており、有機ＥＬ素子の発光層において発光した光は１０％程度がカラーフィルタ層によって吸収される。従って、従来の緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇにおける輝度効率は、
（緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇに流す電流の割合）×（カラーフィルタ層の光透過率）×（１画素中の緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇの発光領域が占める割合）
＝０．３８×０．９×０．２５ａ2
＝０．０８５５×ａ2
となる。
（緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇに流す電流の割合）×（カラーフィルタ層の光透過率）×（１画素中の緑色光有機ＥＬ素子１００Ｇの発光領域が占める割合）
＝０．３８×０．９×０．２５ａ2
＝０．０８５５×ａ2
となる。
【0114】
一方、実施例１の発光素子１０にあっては、発光素子１０に流す電流の割合は１．００であるし、カラーフィルタ層は設けられておらず、１画素中の発光素子１０が占める面積はａ2である。従って、実施例１の発光素子１０の輝度効率は、従来の緑色光有機ＥＬ素子Ｇにおける輝度効率と比較して、
１／０．０８５５＝１２倍
となる。このように、実施例１の発光素子１０にあっては、従来の有機ＥＬ素子と比較して、非常に高い輝度効率を達成することができる。
１／０．０８５５＝１２倍
となる。このように、実施例１の発光素子１０にあっては、従来の有機ＥＬ素子と比較して、非常に高い輝度効率を達成することができる。
【0115】
また、従来の有機ＥＬ素子にあっては、発光層における最大発光位置の設計や、発光層の製造時の最大発光位置制御に困難を伴う。また、青色光発光層を構成する材料は、赤色光発光層及び緑色光発光層を構成する材料と比較して、一般に、寿命が短い。従って、青色光発光層の発光状態が劣化すると白色の色度点が所望の色度点から移動してしまい、パネルが使用不可となる。即ち、ＲＧＢ積層構造を有する発光素子の寿命は、青色光発光層を構成する材料によって規定されてしまう。また、ＲＧＢ積層構造としたとき、意図しない干渉が発生する虞がある。
【0116】
一方、実施例１の投影型表示装置は、赤色光を出射する１枚の赤色光出射パネル、緑色光を出射する１枚の緑色光出射パネル、及び、青色光を出射する２枚の青色光出射パネルの４枚のパネルから構成されているので、青色光出射パネルにおける駆動電流を低減させることができる結果、青色光出射パネルの長寿命化を図ることができる。しかも、青色光出射パネルの長寿命化を図ることができるので、赤色光出射パネル、緑色光出射パネルを構成する発光素子の発光層を構成する材料の選択幅、選択自由度が高くなる。そして、以上に説明したとおり、実施例１にあっては、自発光タイプの発光素子によって画像を形成し得る投影型表示装置、及び、係る投影型表示装置あるいは面発光装置での使用に適した発光素子を提供することができる。また、従来の有機ＥＬ素子よりも有機層を構成する層の層数を低減することができるので、発光素子の駆動電圧の低電圧化を図ることができる。
【0117】
従来の有機ＥＬ素子はランバーシアン放射であり、ランバーシアン放射における指向半値角は約７０度である。従って、従来の表示装置において、広視野角化のためには、即ち、視野角依存性を少なくするためには、ランバーシアン放射を有する有機ＥＬ素子を用いることが好ましい。
【0118】
ところで、投影型表示装置にあっては、図２９Ａに概念図を示すように、投影レンズ系７０を構成する開口数ＮＡが小さいレンズ（例えば、Ｆ＝１．８。以下、便宜上、『レンズ－Ａ』と呼ぶ）を用いる場合、有機ＥＬ素子２００から出射された光（小さな矢印で示す）の相当の部分はレンズ－Ａに入射しない。一方、図２９Ｃに概念図を示すように、投影レンズ系７０を構成する開口数ＮＡが大きいレンズ（例えば、Ｆ＝１．１。以下、便宜上、『レンズ－Ｂ』と呼ぶ）を用いる場合、有機ＥＬ素子２００から出射された光の相当の部分がレンズ－Ｂに入射する。このように開口数ＮＡが大きいレンズ－Ｂを用いれば、従来の有機ＥＬ素子２００から出射される光の利用効率は高い。しかしながら、開口数ＮＡが大きいレンズ－Ｂは、高価であるし、大きく、重たいし、被写界深度（ＤＯＦ）が浅い。
【0119】
一方、実施例１の発光素子１０にあっては、発光部３０は複数の発光領域３０’を有しており、各発光領域３０’に対応してマイクロレンズ部材６０が設けられているので、発光素子１０から出射される光の方向の精密で細かい制御（光線角度の制御）、光の平行性の制御（光線発散角度の制御）を、容易に、且つ、確実に行うことができるし、高輝度を達成することができる。それ故、自発光タイプの発光素子１０によって画像を形成し得る高輝度の表示装置を提供することができる。
【0120】
即ち、図２９Ｂ、図２９Ｄに示すように、マイクロレンズ部材２６０を配設することで、有機ＥＬ素子２００から出射される光の光線発散角度の制御を行うことができる。図２９Ａ、図２９Ｂ、図２９Ｃ及び図２９Ｄに示す状態における有機ＥＬ素子２００の指向半値角、有機ＥＬ素子２００の輝度及び表示装置の正面照度を表２に示す。尚、表２では、指向半値角を「θhalf」（単位：度）、有機ＥＬ素子２００の輝度の相対値を「相対輝度」、表示装置の照度の相対値を「相対照度」で示す。ここで、相対輝度ａは、図２９Ｂで示した例におけるマイクロレンズ部材２６０を備えた有機ＥＬ素子２００の輝度（マイクロレンズ部材２６０から出射される光の輝度）の値を、図２９Ａで示した例における有機ＥＬ素子２００の輝度の値で除した値である。また、相対輝度ｂは、図２９Ｄで示した例におけるマイクロレンズ部材２６０を備えた有機ＥＬ素子２００の輝度（マイクロレンズ部材２６０から出射される光の輝度）の値を、図２９Ｃで示した例における有機ＥＬ素子２００の輝度の値で除した値である。また、相対照度Ａは、図２９Ｂで示した例における表示装置の照度の値を、図２９Ａで示した例における表示装置の照度の値で除した値であるし、相対照度Ｂは、図２９Ｄで示した例における表示装置の照度の値を、図２９Ｃで示した例における表示装置の照度の値で除した値である。
【0121】
〈表２〉
θhalf 相対輝度 相対照度
レンズ－Ａ（図２９Ａ参照） ６０ －－－ －－－
レンズ－Ａ（図２９Ｂ参照） １９ ａ＝２ Ａ＝１．７
レンズ－Ｂ（図２９Ｃ参照） ６０ －－－ －－－
レンズ－Ａ（図２９Ｂ参照） １９ ｂ＝２ Ｂ＝１．０７
θhalf 相対輝度 相対照度
レンズ－Ａ（図２９Ａ参照） ６０ －－－ －－－
レンズ－Ａ（図２９Ｂ参照） １９ ａ＝２ Ａ＝１．７
レンズ－Ｂ（図２９Ｃ参照） ６０ －－－ －－－
レンズ－Ａ（図２９Ｂ参照） １９ ｂ＝２ Ｂ＝１．０７
【0122】
表２から、発光領域にマイクロレンズ部材６０を配設することで、発光部の輝度を増加させることが可能であることを導くことができる。そして、暗いレンズ－Ａを用いた場合、発光領域にマイクロレンズ部材６０を配設することで、１．７倍の照度向上を図ることができることが判る。一方、明るいレンズ－Ｂを用いた場合、発光領域にマイクロレンズ部材６０を配設しても、１．０７倍の照度向上しか図ることができない。以上のとおり、暗いレンズ－Ａを用いる場合であっても、発光領域にマイクロレンズ部材６０を配設することで、発光領域にマイクロレンズ部材６０を配設しない場合と比較して、表示装置の照度の大幅な増加を達成することができることが判る。
【0123】
以上に説明したとおり、投影レンズ系を構成するレンズとして、高Ｆナンバー、高被写界深度（ＤＯＦ）のレンズを用いることが、発光領域にマイクロレンズ部材を配設することで、可能となる。また、投影レンズ系あるいは画像合成手段に入射する光は、レンズの近軸領域においてレンズの光軸に対して平行光であることが好ましいし、高Ｆナンバーのレンズを用いる場合、発光素子から出射される光の発散角（指向半値角）を小さくする必要があるが、そのために、発光素子の光出射側にはマイクロレンズ部材が設けられており、また、共振器構造の最適化が図られている。特に、パネルの周辺部から出射される光はレンズの周辺部に入射するので、このような光の投影レンズ系を構成するレンズへの入射の最適化を、マイクロレンズ部材を設けることで達成することができる。即ち、実施例１の発光素子を用いることで、高Ｆナンバー、高被写界深度（ＤＯＦ）のレンズを用いることが可能となる。そして、発光素子の製造時、共振器構造におけるＯＬ1、ＯＬ2の値にバラツキが生じた場合であっても、マイクロレンズ部材を設けることで、共振器構造におけるバラツキによる影響を抑制することができる。
【0124】
また、１つの発光部において複数のマイクロレンズ部材を設けることによって、マイクロレンズ部材が、例えば、平凸レンズから構成されている場合、平凸レンズの底面の面積を小さくできるので、平凸レンズの底面からの凸レンズ面の頂面の高さを高くでき、凸レンズ面の曲率半径を小さくすることができる。従って、マイクロレンズ部材の光学パワーの最適化を容易に行うことができる。また、１つの発光部において複数の発光領域を設けることで、発光部の外縁部の上方に向かう光の光量を減少させることが可能となるので、発光部、全体として、発光効率の増加を図ることができる。そして、発光効率が増加すれば、低い電流値で発光素子を駆動することでも高輝度化を達成することができる結果、発光素子の長寿命化を達成することが可能となる。
【0125】
実施例１の変形例－１及び変形例－２において、１つの発光素子１０における複数（Ｍ個×Ｎ個）の発光領域３０’を有する発光部３０の模式的な平面図を図３Ａ及び図４Ａに示し、複数（Ｐ個×Ｑ個）のマイクロレンズ部材６０を有する発光部３０の模式的な平面図を図３Ｂ及び図４Ｂに示す。実施例１の変形例－１において、マイクロレンズ部材６０は、図２Ｂに示したマイクロレンズ部材６０と同じ位置に位置する。一方、発光領域３０’は、図２Ａに示した発光素子１０における発光領域３０’よりも、発光部３０の外側に向かって位置している。このように、実施例１の変形例－１にあっては、マイクロレンズ部材６０の光軸は、発光領域３０’の中心を通過する中心線上に位置しておらず、これによって、１つの発光部３０から出射される光の向かう方向を所望の方向とすることができる。また、実施例１の変形例－２にあっては、発光領域３０’は、図２Ａに示した発光領域３０’と同じ位置に位置する。一方、マイクロレンズ部材６０は、図２Ｂに示した発光素子１０におけるマイクロレンズ部材６０よりも、発光部３０の外側に向かって位置している。このように、実施例１の変形例－２にあっても、マイクロレンズ部材６０の光軸は、発光領域３０’の中心を通過する中心線上に位置しておらず、これによって、１つの発光部３０から出射される光の向かう方向を所望の方向とすることができる。これらの変形例－１及び変形例－２にあっては、１つの発光部３０において、中央に位置する発光領域３０’の上方に向かって、周辺に位置する発光領域３０’から出射された光が集まる。
【0126】
実施例１の変形例－３において、１つの発光素子１０における複数（Ｍ個×Ｎ個）の発光領域３０’を有する発光部３０の模式的な平面図を図５Ａに示し、複数（Ｐ個×Ｑ個）のマイクロレンズ部材６０を有する発光部３０の模式的な平面図を図５Ｂに示す。この変形例－３にあっては、Ｐ＝ｐ×Ｍ、Ｑ＝ｑ×Ｎにおいて、Ｍ＝Ｎ＝３、ｐ＝ｑ＝３、Ｐ＝Ｑ＝９である。このようにｐ、ｑの値を２以上の値とすることで、即ち、１つの発光領域３０’に対して複数のマイクロレンズ部材６０を配設することで、発光領域３０’とマイクロレンズ部材６０との間の位置合わせに高い精度が要求されなくなる。それ故、表示装置の製造工程の簡素化を図ることができるし、表示装置の製造コストの低減を図ることができる。
【0127】
実施例１の変形例－４において、１つの発光部３０は正六角形の平面形状を有し、１つの発光部３０には６個の発光領域３０’が設けられており（図６Ａの模式的な平面図を参照）、６個のマイクロレンズ部材６０が、６個の発光領域３０’に対向して設けられている（図６Ｂの模式的な平面図を参照）。
【0128】
マイクロレンズ部材６０は負の光学パワーを有する形態とすることもでき、これによって、広角の表示装置を提供することが可能になる。あるいは又、マイクロレンズ部材６０及び発光領域３０’の配置を変形例－１及び変形例－２とは逆にすることで、１つの発光部３０において、中央に位置する発光領域３０’の上方から離れる方向に向かって、発光領域３０’から出射された光が発散する構成とすることもできる。
【0129】
実施例１の発光素子１０及び実施例１の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－５の模式的な一部断面図を図１０に示す。図１に示した実施例１の発光素子１０にあっては、光反射層５０がコンタクトホール（コンタクトプラグ）２７に接続されていたが、この変形例－５の発光素子１０にあっては、光反射層５０はコンタクトホール（コンタクトプラグ）２７に接続されていない。
【0130】
実施例１の発光素子１０及び実施例１の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－６の模式的な一部断面図を図１１に示す。この変形例－６にあっては、第１電極３１及び光反射層５０は、遮光部又は光反射部（リフレクター部）によって囲まれている。発光素子１０と発光素子１０との間に遮光部５１が設けられており、あるいは又、光反射部５１が設けられている。遮光部５１あるいは光反射部５１は、光反射層５０及び第１電極３１と接続されている。
【0131】
実施例１の発光素子１０及び実施例１の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－７の模式的な一部断面図を図１２に示し、実施例１の発光素子１０及び実施例１の投影型表示装置を構成するパネルにおける金属薄膜フィルタ層を模式的に示す平面図を図１３に示す。この変形例－７にあっては、第１電極３１と光反射層５０との間に、更に、金属薄膜フィルタ層５２が形成されている。金属薄膜フィルタ層５２は、例えば、金（Ａｕ）薄膜や銀（Ａｇ）薄膜から構成され、これらの薄膜に２００ｎｍ程度の空孔５３が、多数、形成されており、２次元状に配列されている。
【0132】
実施例１の発光素子１０及び実施例１の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－８の模式的な一部断面図を図１４に示す。この変形例－８にあっては、隣接する発光素子１０のマイクロレンズ部材６０の間には光吸収層（ブラックマトリクス層）５４が形成されている。これによって、単位画素の部分的重複の発生を確実に抑制することができる。
【0133】
実施例１の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－９の概念図を図１５に示すが、この変形例－９にあっては、複数（具体的には３枚）のパネル１Ｒ，１Ｇ，１Ｂから出射された画像を１つの画像に合成する画像合成手段７１（具体的には、無偏光ダイクロイックプリズム７２）、及び、画像合成手段７１の光出射側に投影レンズ系７０を備えている。あるいは又、実施例１の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－１０の概念図を図１６Ａ及び図１６Ｂに示すが、この変形例－１０にあっては、複数（具体的には、３枚あるいは４枚）のパネル１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ(図１６Ａ参照）あるいはパネル１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ1，１Ｂ2（図１６Ｂ参照）から出射された画像を１つの画像に合成する画像合成手段７１（具体的には、フィリップス・プリズム７３）、及び、画像合成手段７１の光出射側に投影レンズ系７０を備えている。フィリップス・プリズム７３にあっては２つのプリズムの間にエアーギャップが設けられているが、エアーギャップの無いギャップレスとすることもできる。ここで、画像合成手段７１に入射する光は平行光であることが好ましく、これによって、明るい光を画像合成手段７１に入射させることができ、３枚あるいは４枚のパネルを１つのモジュールに纏めることができる。
【0134】
図１７は、実施例１の発光素子１０及び実施例１の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－１１の模式的な一部断面図である。図１に示した例では、マイクロレンズ部材６０は、一種の非球面レンズであり、平凸レンズから構成されており、発光領域３０’から離れる方向に向かって凸状の面を有している。一方、図１７に示す変形例－１１では、マイクロレンズ部材６０は、一種の非球面レンズであり、平凸レンズから構成されているが、発光領域３０’に近づく方向に向かって凸状の面を有している。具体的には、第２基板４１の内面に下地層３６が形成されており、下地層３６の上にマイクロレンズ部材６０が形成されている。マイクロレンズ部材６０及び下地層３６と保護層３４とは、封止樹脂層３５によって貼り合わされている。
【0135】
マイクロレンズ部材６０から出射された光の進行方向を制御する第２のマイクロレンズ部材６０’を、マイクロレンズ部材６０の上方に配設してもよい。第２のマイクロレンズ部材６０’は、マイクロレンズ部材６０に対向して設けてもよいし、即ち、Ｐ×Ｑ個のマイクロレンズ部材６０に対して、Ｐ×Ｑ個の第２のマイクロレンズ部材６０’を配設してもよいし、Ｐ×Ｑ個のマイクロレンズ部材６０に対して、１つの第２のマイクロレンズ部材６０’を配設してもよい。具体的には、図１と図１７に図示した例の組合せを、実施例１の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－１２の概念図として、図１８に示す。
【実施例2】
【0136】
実施例２は、本開示の第２の態様に係る発光素子に関し、また、第１形態の発光素子に関する。実施例２において、１つの発光素子における１つの発光領域を有する発光部の模式的な平面図を図２１Ａに示し、複数（Ｍ個×Ｎ個）のマイクロレンズ部材を有する発光部の模式的な平面図を図２１Ｂに示す。
【0137】
実施例２の発光素子は、
１つの発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
１つの発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する複数のマイクロレンズ部材６０、
を備えている。具体的には、実施例２の発光素子は、
１つの発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
１つの発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御するＰ個×Ｑ個（但し、Ｐ及びＱは１以上の整数であり、Ｐ＝１且つＱ＝１の場合を除く）のマイクロレンズ部材６０、
を備えている。
１つの発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
１つの発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する複数のマイクロレンズ部材６０、
を備えている。具体的には、実施例２の発光素子は、
１つの発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
１つの発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御するＰ個×Ｑ個（但し、Ｐ及びＱは１以上の整数であり、Ｐ＝１且つＱ＝１の場合を除く）のマイクロレンズ部材６０、
を備えている。
【0138】
このように、実施例２の発光素子にあっては、発光部に複数のマイクロレンズ部材が設けられているので、発光素子から出射される光の方向の精密で細かい制御（光線角度の制御）、光の平行性の制御（光線発散角度の制御）を、容易に、且つ、確実に行うことができるし、高輝度を達成することができる。それ故、自発光タイプの発光素子によって画像を形成し得る高輝度の表示装置を提供することができる。
【0139】
尚、マイクロレンズ部材６０の光軸が発光領域３０’の中心を通過する中心線上に位置している場合、１つの発光領域３０’の正射影像は、Ｐ個×Ｑ個のマイクロレンズ部材６０、全体の正射影像内に含まれる形態とすることができる。
【0140】
以上の点を除き、実施例２の発光素子、表示装置の構成、構造は、実質的に、実施例１の発光素子、表示装置の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
【実施例3】
【0141】
実施例３は、本開示の第３の態様に係る発光素子に関し、また、第１形態の発光素子に関する。実施例３において、１つの発光素子における複数（Ｍ×Ｎ個）の発光領域を有する発光部の模式的な平面図を図２２Ａに示し、１又は複数（Ｐ個×Ｑ個の）のマイクロレンズ部材を有する発光部の模式的な平面図を図２２Ｂに示す。
【0142】
実施例３の発光素子は、
複数の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
複数の発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材６０（図示した例では、１つマイクロレンズ部材６０）、
を備えている。具体的には、実施例３の発光素子は、
Ｍ個×Ｎ個（但し、Ｍ及びＮは１以上の整数であり、Ｍ＝１且つＮ＝１の場合を除く）の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
Ｍ個×Ｎ個の発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する１つのマイクロレンズ部材６０、
を備えている。
複数の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
複数の発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材６０（図示した例では、１つマイクロレンズ部材６０）、
を備えている。具体的には、実施例３の発光素子は、
Ｍ個×Ｎ個（但し、Ｍ及びＮは１以上の整数であり、Ｍ＝１且つＮ＝１の場合を除く）の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
Ｍ個×Ｎ個の発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する１つのマイクロレンズ部材６０、
を備えている。
【0143】
このように、実施例３の発光素子１０にあっては、発光部３０は複数の発光領域を有しているので、発光素子から出射される光の方向の精密で細かい制御（光線角度の制御）、光の平行性の制御（光線発散角度の制御）を、容易に、且つ、確実に行うことができるし、高輝度を達成することができる。それ故、自発光タイプの発光素子によって画像を形成し得る高輝度の表示装置を提供することができる。
【0144】
尚、マイクロレンズ部材６０の光軸が発光領域３０’の中心を通過する中心線上に位置している場合、Ｍ個×Ｎ個の発光領域３０’の正射影像は、１つのマイクロレンズ部材６０の正射影像内に含まれる形態とすることができる。
【0145】
以上の点を除き、実施例３の発光素子、表示装置の構成、構造は、実質的に、実施例１の発光素子、表示装置の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
【0146】
実施例３の変形例－１において、１つの発光素子における複数（Ｍ個×Ｎ個）の発光領域３０’を有する発光部３０の模式的な平面図を図２３Ａに示し、３つのマイクロレンズ部材６０を有する発光部３０の模式的な平面図を、図２３Ｂに示す。この実施例３の変形例－１にあっては、
複数の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
複数の発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材６０（図示した例では、３つマイクロレンズ部材６０）、
を備えている。即ち、複数のマイクロレンズ部材６０の個数をＰ’個×Ｑ’個（但し、Ｐ’＝Ｍ／ｐ’、Ｑ’＝Ｎ／ｑ’であり、ｐ’及びｑ’は１以上の整数）とすることができる。ここで、Ｍ＝Ｎ＝３、Ｐ’＝１、ｐ’＝３、Ｑ’＝３、ｑ’＝１である。
複数の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
複数の発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材６０（図示した例では、３つマイクロレンズ部材６０）、
を備えている。即ち、複数のマイクロレンズ部材６０の個数をＰ’個×Ｑ’個（但し、Ｐ’＝Ｍ／ｐ’、Ｑ’＝Ｎ／ｑ’であり、ｐ’及びｑ’は１以上の整数）とすることができる。ここで、Ｍ＝Ｎ＝３、Ｐ’＝１、ｐ’＝３、Ｑ’＝３、ｑ’＝１である。
【実施例4】
【0147】
実施例４は、本開示の第４の態様に係る発光素子に関し、また、第１形態の発光素子に関する。実施例４の発光素子及び実施例４の投影型表示装置を構成するパネルにおける１つの発光部の模式的な一部断面図を図２４に示す。
【0148】
実施例４の発光素子は、
複数の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
各発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する導光部６１、
を備えており、
発光領域３０’は、導光部６１から離れる方向に凸状形状を有する。具体的には、実施例４の発光素子は、
Ｍ個×Ｎ個（但し、Ｍ及びＮは１以上の整数であり、Ｍ＝１且つＮ＝１の場合を除く）の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
各発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する導光部６１、
を備えており、
発光領域３０’は、導光部６１から離れる方向に凸状形状を有する。
複数の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
各発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する導光部６１、
を備えており、
発光領域３０’は、導光部６１から離れる方向に凸状形状を有する。具体的には、実施例４の発光素子は、
Ｍ個×Ｎ個（但し、Ｍ及びＮは１以上の整数であり、Ｍ＝１且つＮ＝１の場合を除く）の発光領域３０’を有する発光部３０、及び、
各発光領域３０’から出射された光の進行方向を制御する導光部６１、
を備えており、
発光領域３０’は、導光部６１から離れる方向に凸状形状を有する。
【0149】
具体的には、１つの発光領域３０’に対して１つの導光部６１が設けられている。図示した例では、Ｍ＝Ｎ＝３である。第２電極３２を構成する材料の屈折率の値は、導光部６１の内部（内側）を埋める材料３７の屈折率の値よりも高い。それ故、発光領域３０’は正の光学パワーを有する。また、導光部６１の内部（内側）を埋める材料３７の屈折率の値は、導光部６１を囲む保護層３４の屈折率の値よりも高い。それ故、発光領域３０’から出射された光の少なくとも一部は、導光部６１において反射される。材料３７及び保護層３４は、封止樹脂層３５（図示せず）を介して第２基板４１（図示せず）に貼り合わされている。また、発光領域３０’の正射影像は、導光部６１の底部の正射影像内に含まれる。更には、導光部６１の底部における軸線ＡＸ2は、発光領域３０’の中心を通過する中心線ＡＸ1上に位置している。発光領域３０’の法線方向と直交する仮想平面で切断したときの導光部６１の内面（発光領域３０’から出射された光が衝突する導光部６１の面）は、発光領域３０’の法線方向と平行であってもよいし、非平行であってもよい。図示した例では、法線方向と平行である。但し、これに限定するものではなく、導光部６１の内面は、発光領域３０’を基準としたとき、順テーパー状（第２基板４１に向かって広がっている形状）であってもよいし、逆テーパー状（第２基板４１に向かって窄まっている形状）であってもよいが、集光といった観点からは、逆テーパー状（第２基板４１に向かって窄まっている形状）であることが好ましい。
【0150】
このように、実施例４の発光素子にあっては、発光部は複数の発光領域を有しており、各発光領域３０’に対応して導光部６１が設けられているので、発光素子から出射される光の方向の精密で細かい制御（光線角度の制御）、光の平行性の制御（光線発散角度の制御）を、容易に、且つ、確実に行うことができるし、高輝度を達成することができる。それ故、自発光タイプの発光素子によって画像を形成し得る高輝度の表示装置を提供することができる。
【0151】
以上の点を除き、実施例４の発光素子、表示装置の構成、構造は、実質的に、実施例１～実施例３の発光素子、表示装置の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
【0152】
実施例４の発光素子及び実施例４の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－１の模式的な一部断面図を図２５に示すが、複数の導光部６１が積層された構造を有しており、複数の導光部６１の軸線は、同一の直線状にはない形態とすることができる。これによって、導光部６１の最終段から出射される光の進行方向の制御を行うことができる。
【0153】
また、実施例４の発光素子及び実施例４の投影型表示装置を構成するパネルの変形例－２の模式的な一部断面図を図２６に示すが、導光部６１の軸線ＡＸ2は、発光領域３０’の中心を通過する中心線ＡＸ1上に位置していない形態とすることもできる。具体的には、複数の発光領域３０’は、規則正しく配列されており（具体的には、例えば、発光領域３０’の中心が仮想の格子の格子点上に配置されており）、導光部６１の軸線はこの格子点上に位置しない形態とすることができるし、あるいは又、複数の発光領域３０’は、規則正しく配列されておらず（具体的には、例えば、発光領域３０’の中心は仮想の格子の格子点上に配置されておらず）、導光部６１の軸線はこの格子点上に位置する形態とすることができるし、これらの形態の組合せとすることもできる。
【0154】
また、図示した例では、Ｍ個×Ｎ個の発光領域３０’を有する発光部３０に対して、Ｐ×Ｑ個の導光部６１が設けられている形態を挙げたが、Ｍ個×Ｎ個の発光領域３０’を有する発光部３０に対して、例えば、１つの導光部６１が設けられている形態とすることもできる。
【0155】
尚、以上に説明した実施例４における発光領域３０’の構成、構造を、実施例１～実施例３に適用することができるし、実施例４における導光部６１を、実施例１～実施例３におけるマイクロレンズ部材６０の光出射側に配設することで、導光部６１によって、マイクロレンズ部材６０から出射された光の進行方向を制御することができる。
【実施例5】
【0156】
実施例５は、本開示の第１の態様～第４の態様に係る発光素子に関し、また、第２形態の発光素子に関する。実施例５の発光素子の模式的な一部断面図を図２０Ｂに示し、実施例５の発光素子及び実施例５の投影型表示装置を構成するパネルの模式的な一部断面図を図２７に示す。
【0157】
実施例５の発光素子１０’において、
発光部３０は、
発光領域３０’において共有された第１電極３１、
第１電極３１上に形成され、有機発光材料から成る発光層３３Ａを含む有機層３３、及び、
有機層３３上に形成された第２電極３２、
を備えており、
発光層３３Ａは、同色を発光する複数（実施例５にあっては、具体的には、ＮＬ＝２層）の発光層３３Ａ，３３Ｂが積層されて成り、
第１電極３１と有機層３３との間には絶縁層２８が形成されており、
絶縁層２８には発光領域３０’を規定する開口部２９が設けられている。
発光部３０は、
発光領域３０’において共有された第１電極３１、
第１電極３１上に形成され、有機発光材料から成る発光層３３Ａを含む有機層３３、及び、
有機層３３上に形成された第２電極３２、
を備えており、
発光層３３Ａは、同色を発光する複数（実施例５にあっては、具体的には、ＮＬ＝２層）の発光層３３Ａ，３３Ｂが積層されて成り、
第１電極３１と有機層３３との間には絶縁層２８が形成されており、
絶縁層２８には発光領域３０’を規定する開口部２９が設けられている。
【0158】
また、実施例５の表示装置（例えば、投影型表示装置）において、発光層は、同色を発光する複数の発光層３３Ａ，３３Ｂが積層されて成る。尚、発光素子は共振器構造を有していない。これらの点を除き、実施例５の発光素子、表示装置、投影型表示装置の構成、構造は、実施例１～実施例４の発光素子、表示装置、投影型表示装置の構成、構造と実質的に同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
【0159】
ここで、発光層３３Ａと発光層３３Ｂとの間に、例えば、Ｌｉから成る中間層（電荷発生層）３３Ｄが、スパッタリング法に基づき形成されている。中間層３３Ｄの厚さは、例えば、２ｎｍ乃至１０ｎｍである。複数の発光層３３Ａ，３３Ｂは同じ組成を有する。
【0160】
従来の有機ＥＬ素子は、ランバーシアン放射である。一方、実施例５の発光素子１０にあっては、指向半値角θhalfは２５度以下であることが判った。尚、従来の有機ＥＬ素子のランバーシアン放射における指向半値角は、前述したとおり、約７０度である。このように、実施例５の発光素子から出射される光は、従来の有機ＥＬ素子よりも指向性の高い光であり、あるいは又、平行光に近い光であることが判った。
【0161】
実施例５の発光素子にあっては、従来の有機ＥＬ素子よりもθの値を小さくすることができる。従って、第２電極３２から出射される光の電場強度Ｅtの値を大きくすることができる。即ち、発光素子からの光強度の増加を図ることができる。
【0162】
また、実施例５の発光素子１０において、発光素子から出射される光の半値全幅（ＦＷＨＭ）の値は３０ｎｍ以下である。即ち、実施例５の発光素子は、従来の有機ＥＬ素子よりも鋭い発光スペクトルを有する。
【0163】
しかも、実施例５において、発光層は同色を発光する複数の発光層が積層されて成る。従って、同色を発光する複数の発光層が積層されて成る発光層を備えた発光素子から構成されたパネルにあっては、１層の発光層を備えた発光素子から構成された実施例１のパネルと比較して、光強度を略２倍とすることができる。即ち、実施例５の発光素子の輝度効率は、従来の緑色光有機ＥＬ素子における輝度効率と比較して約２４倍（＝２×１２倍）となる。
【実施例6】
【0164】
実施例６の投影型表示装置におけるパネルは、実施例１～実施例４の投影型表示装置におけるパネルと、実施例５の投影型表示装置におけるパネルとの組み合わせである。即ち、実施例６の投影型表示装置（プロジェクタ）における発光素子は、第１形態の発光素子と第２形態の発光素子の組合せから構成される。
【0165】
即ち、実施例６において、パネルを構成する発光素子における発光層は、同色を発光する複数の発光層３３Ａ，３３Ｂが積層されて成る。しかも、実施例６の発光素子は、更に、光反射層５０を備えており、第２電極３２と有機層３３との第２界面と、光反射層５０との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極３２から出射させる。光反射層５０は、実施例１と同様に、第１電極３１の下方に配設されていてもよいし、第１電極３１の上方であって、発光層３３Ａの下方に配設されていてもよい。あるいは又、光反射層５０の形成を省略して、第１電極３１が光反射層５０を兼ねていてもよい。このような共振器構造は、実質的に、実施例１において説明した共振器構造を同様とすることができる。
【0166】
実施例１において説明したように光反射層５０と第２界面との間で共振器構造を形成する場合、ファブリーペローの光共振器は、光反射層５０の光反射率をｒF、光透過率をｔFとし、第２電極３２の光反射率をｒB、光透過率をｔBとし、発光層３３Ａにおいて発光する光の電場強度をＥi、第２電極３２から出射される光の電場強度をＥtとすると、
｜Ｅt／Ｅi｜2
＝ｔF 2／｛１＋（ａ・ｒF）2＋２ａ・ｒF・ｃｏｓ（δ）｝ （２）
但し、ａを光強度の絶対値とし、発光層３３Ａで発生した光のスペクトルの最大ピーク波長をλ、共振器長をＬ、共振器内で共振する光が第２界面と衝突するときの第２界面への光の入射角をθとしたとき、
δ＝２π（２ｎＬ／λ）ｃｏｓ（θ） （３）
である。ここで、ｎは正の整数であり、Ｌは光学距離（ＯＬ1＋ＯＬ2）の値である。
｜Ｅt／Ｅi｜2
＝ｔF 2／｛１＋（ａ・ｒF）2＋２ａ・ｒF・ｃｏｓ（δ）｝ （２）
但し、ａを光強度の絶対値とし、発光層３３Ａで発生した光のスペクトルの最大ピーク波長をλ、共振器長をＬ、共振器内で共振する光が第２界面と衝突するときの第２界面への光の入射角をθとしたとき、
δ＝２π（２ｎＬ／λ）ｃｏｓ（θ） （３）
である。ここで、ｎは正の整数であり、Ｌは光学距離（ＯＬ1＋ＯＬ2）の値である。
【0167】
また、発光素子から出射される光の半値全幅（ＦＷＨＭ）の値は、ｃを光速としたとき、
ＦＷＨＭ＝ｃ（１－ｒF）／｛２πＬ（ｒF）1/2｝ （４）
で表すことができる。実施例６においては、ｍ1，ｍ2の値のそれぞれを「１」としている。即ち、共振器長Ｌの値を大きな値としている。それ故、式（４）で表されるＦＷＨＭの値を、従来の有機ＥＬ素子よりも小さな値とすることができる。
ＦＷＨＭ＝ｃ（１－ｒF）／｛２πＬ（ｒF）1/2｝ （４）
で表すことができる。実施例６においては、ｍ1，ｍ2の値のそれぞれを「１」としている。即ち、共振器長Ｌの値を大きな値としている。それ故、式（４）で表されるＦＷＨＭの値を、従来の有機ＥＬ素子よりも小さな値とすることができる。
【0168】
実施例６の発光素子にあっても、前述した式（１－１）及び式（１－２）を満足する。具体的には、上述したとおり、ｍ1＝ｍ2＝１とした。但し、これらの値に限定されるものではなく、例えば、ｍ1＝ｍ2＝０とすることもできる。ｍ1＝ｍ2＝０としたときの、式（１－１）及び式（１－２）から求めた光学距離（ＯＬ1＋ＯＬ2）の値を以下の表３に示す。尚、ピーク波長λは、表１に示したとおりである。
【0169】
〈表３〉
ｍ1 ｍ2 ＯＬ1＋ＯＬ2
第１パネル ０ ０ １１０ｎｍ
第２パネル ０ ０ ７０～９０ｎｍ
第３パネル／第４パネル ０ ０ ６０ｎｍ
ｍ1 ｍ2 ＯＬ1＋ＯＬ2
第１パネル ０ ０ １１０ｎｍ
第２パネル ０ ０ ７０～９０ｎｍ
第３パネル／第４パネル ０ ０ ６０ｎｍ
【0170】
以上の点を除き、実施例６の発光素子、表示装置、投影型表示装置の構成、構造は、実施例１～実施例４及び実施例５の発光素子、表示装置、投影型表示装置の構成、構造と実質的に同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
【0171】
以上、本開示を好ましい実施例に基づき説明したが、本開示はこれらの実施例に限定するものではない。実施例において説明した発光素子や表示装置、投影型表示装置、パネルの構成、構造の構成は例示であり、適宜、変更することができるし、発光素子の製造方法も例示であり、適宜、変更することができる。パネルは、平坦である形態とすることができるだけでなく、湾曲している形態とすることもできる。また、可視光以外の光、例えば、赤外光を出射する発光素子を備えたパネル、あるいは、このようなパネル及び可視光を出射する発光素子を備えたパネルの組合せから、表示装置、投影型表示装置を構成することもできる。
【0172】
以上に説明した各種の好ましい形態を含む本開示の表示装置、投影型表示装置は、例えば、パーソナルコンピュータや、携帯電話、ＰＤＡ（携帯情報端末，Personal Digital Assistant）、ゲーム機器、腕時計、ブレスレット、指輪等に組み込むこともできる。
【0173】
実施例において説明した発光素子やパネルから面発光装置を構成することもできる。即ち、面発光装置は、
第１基板１１、
第２基板４１、及び、
第１基板１１と第２基板４１によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、実施例１～実施例６の発光素子１０，１０’から成る。このような面発光装置によって、例えば、看板、ポスター、黒板等の掲示板、電子広告、電子ＰＯＰを構成することができるし、各種バックライト装置や面状光源装置を含む各種照明装置を構成することもできる。
第１基板１１、
第２基板４１、及び、
第１基板１１と第２基板４１によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、実施例１～実施例６の発光素子１０，１０’から成る。このような面発光装置によって、例えば、看板、ポスター、黒板等の掲示板、電子広告、電子ＰＯＰを構成することができるし、各種バックライト装置や面状光源装置を含む各種照明装置を構成することもできる。
【0174】
発光部や発光領域に対するマイクロレンズ部材あるいは導光部の位置を最適化することで、表示装置から出射される画像や面発光装置の光束を、表示装置の正面ではなく、斜め方向等、所望の方向に出射させることができる。これによって、この所望の方向において、明るい、鮮明な画像を観察者は観察することができる。あるいは又、発光部や発光領域に対するマイクロレンズ部材あるいは導光部の諸元を最適化することで、表示装置から出射される画像や面発光装置の光束を発散させることもできる。
【0175】
或る発光素子に隣接した発光素子に、或る発光素子から出射した光が侵入し、光学的クロストークが発生することを防止するために、発光素子と発光素子との間に遮光領域を設けてもよい。即ち、発光素子と発光素子との間に溝部を形成し、この溝部を遮光材料で埋め込んで遮光領域を形成してもよい。このように遮光領域を設ければ、或る発光素子から出射した光が隣接する発光素子に侵入する割合を低減させることができ、単位画素の部分的重複の発生を確実に抑制することができる。
【0176】
実施例の投影型表示装置は、種々の技術的分野への応用が可能である。例えば、頭部装着型ディスプレイ（Head Mounted Display，ＨＭＤ）を構成する表示装置に適用する場合、この表示装置は、
観察者の頭部に装着されるフレーム、及び、
フレームに取り付けられた画像表示装置、
を備えており、
画像表示装置は、
実施例１～実施例６の発光素子を有する投影型表示装置を備えた画像形成装置、及び、
画像形成装置から出射された光が入射され、出射される光学装置、
を備えており、
光学装置は、
画像形成装置から入射された光が内部を全反射により伝播した後、観察者に向けて出射される導光板、
導光板に入射された光が導光板の内部で全反射されるように、導光板に入射された光を偏向させる第１偏向手段、及び、
導光板の内部を全反射により伝播した光を導光板から出射させるために、導光板の内部を全反射により伝播した光を複数回に亙り偏向させる第２偏向手段、
から成る。あるいは又、直接、画像（光束）を観察者の網膜に投影することにより画像を表示する、マクスウェル視に基づく網膜投影型ディスプレイ、具体的には、網膜投影型ヘッドマウントディスプレイにおける画像形成装置に、実施例１～実施例６の発光素子を有する投影型表示装置を適用することもできる。
観察者の頭部に装着されるフレーム、及び、
フレームに取り付けられた画像表示装置、
を備えており、
画像表示装置は、
実施例１～実施例６の発光素子を有する投影型表示装置を備えた画像形成装置、及び、
画像形成装置から出射された光が入射され、出射される光学装置、
を備えており、
光学装置は、
画像形成装置から入射された光が内部を全反射により伝播した後、観察者に向けて出射される導光板、
導光板に入射された光が導光板の内部で全反射されるように、導光板に入射された光を偏向させる第１偏向手段、及び、
導光板の内部を全反射により伝播した光を導光板から出射させるために、導光板の内部を全反射により伝播した光を複数回に亙り偏向させる第２偏向手段、
から成る。あるいは又、直接、画像（光束）を観察者の網膜に投影することにより画像を表示する、マクスウェル視に基づく網膜投影型ディスプレイ、具体的には、網膜投影型ヘッドマウントディスプレイにおける画像形成装置に、実施例１～実施例６の発光素子を有する投影型表示装置を適用することもできる。
【0177】
あるいは又、ストラクチャード・ライト（Structured Light）用の光源（プロジェクター）に適用することもでき、この場合、３次元センシング装置は、
実施例１～実施例６の発光素子を有する投影型表示装置を備えた画像形成装置、及び、
投影型表示装置によって物体上に投影された画像を撮像する撮像装置、
を備えている。
実施例１～実施例６の発光素子を有する投影型表示装置を備えた画像形成装置、及び、
投影型表示装置によって物体上に投影された画像を撮像する撮像装置、
を備えている。
【0178】
あるいは又、例えば、腕時計、ブレスレット、指輪等のウェアラブル機器として、実施例１～実施例６の発光素子を有する投影型表示装置を備えた構成とすることもできる。
【0179】
尚、本開示は、以下のような構成を取ることもできる。
［Ａ０１］《発光素子：第１の態様》
複数の発光領域を有する発光部、及び、
各発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備えている発光素子。
［Ａ０２］《発光素子：第２の態様》
１つの発光領域を有する発光部、及び、
１つの発光領域から出射された光の進行方向を制御する複数のマイクロレンズ部材、
を備えている発光素子。
［Ａ０３］《発光素子：第３の態様》
複数の発光領域を有する発光部、及び、
複数の発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備えている発光素子。
［Ａ０４］マイクロレンズ部材の光軸は、発光領域の中心を通過する中心線上に位置していない［Ａ０１］に記載の発光素子。
［Ａ０５］マイクロレンズ部材の平面形状は、コーナー部が丸みを帯びた矩形又は正方形である［Ａ０１］乃至［Ａ０４］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ０６］マイクロレンズ部材の光軸が発光領域の中心を通過する中心線上に位置している場合、発光領域の正射影像は、マイクロレンズ部材の正射影像内に含まれる［Ａ０１］乃至［Ａ０５］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ０７］マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する第２のマイクロレンズ部材を更に有する［Ａ０１］乃至［Ａ０６］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ０８］マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する導光部を更に有する［Ａ０１］乃至［Ａ０７］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ０９］複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない［Ａ０８］に記載の発光素子。
［Ａ１０］発光部は、
発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
更に、第１電極の下方に光反射層を備えており、
第２電極と有機層との界面と、光反射層との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極から出射させ、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている［Ａ０１］乃至［Ａ０９］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１１］発光部は、
発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
発光層は、同色を発光する複数の発光層が積層されて成り、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている［Ａ０１］乃至［Ａ０９］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１２］マイクロレンズ部材は正の光学パワーを有する［Ａ０１］乃至［Ａ１１］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１３］発光領域は、マイクロレンズ部材から離れる方向に凸状形状を有する［Ａ０１］乃至［Ａ１２］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１４］マイクロレンズ部材は負の光学パワーを有する［Ａ０１］乃至［Ａ１１］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１５］《発光素子：第４の態様》
複数の発光領域を有する発光部、及び、
各発光領域から出射された光の進行方向を制御する導光部、
を備えており、
発光領域は、導光部から離れる方向に凸状形状を有する発光素子。
［Ａ１６］発光領域は正の光学パワーを有する［Ａ１５］に記載の発光素子。
［Ａ１７］複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない［Ａ１５］又は［Ａ１６］に記載の発光素子。
［Ｂ０１］発光層の最大発光位置から光反射層までの光学距離をＯＬ1、発光層の最大発光位置から界面までの光学距離をＯＬ2とし、ｍ1及びｍ2を整数としたとき、以下の式（１－１）及び式（１－２）を満たす［Ａ１０］、又は、［Ａ１０］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項に記載の発光素子。
０．７｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝≦２×ＯＬ1／λ≦１．２｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝ （１－１）
０．７｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝≦２×ＯＬ2／λ≦１．２｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝ （１－２）
ここで、
λ ：発光層で発生した光のスペクトルの最大ピーク波長（あるいは又、発光層で発生した光の内の所望の波長）
Φ1：光反射層で生じる反射光（光反射層で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ1≦０
Φ2：界面で生じる反射光（界面で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ2≦０
である。
［Ｂ０２］ｍ1≧１，ｍ2≧１を満足する［Ｂ０１］に記載の発光素子。
［Ｂ０３］第１電極と光反射層との間に、更に、金属薄膜フィルタ層が形成されている［Ａ１０］、又は、［Ａ１０］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｂ０１］、又は、［Ｂ０２］に記載の発光素子。
［Ｂ０４］第１電極及び光反射層は、遮光部又は光反射部によって囲まれている［Ａ１０］、又は、［Ａ１０］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｂ０１］乃至［Ｂ０３］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｂ０５］第１電極は光透過材料から成り、第２電極は半光透過材料から成る［Ａ１０］、又は、［Ａ１０］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｂ０１］乃至［Ｂ０４］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｂ０６］第１電極は、ＩＴＯ又はＩＺＯから成り、
第２電極は、Ａｇ、Ａｇ－Ｍｇ、Ａｇ－Ｎｄ－Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ－Ｃｕ、Ａｌ及びＡｌ－Ｃｕから成る群から選択された少なくとも１種類の材料から成る［Ｂ０５］に記載の発光素子。
［Ｃ０１］発光層と発光層との間に中間層が形成されている［Ａ１１］、又は、［Ａ１１］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｃ０２］中間層は、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、ナトリウム（Ｎａ）、セシウム（Ｃｓ）、酸化モリブデン（ＭｏＯ3）、酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ5）及び酸化タングステン（ＷＯ3）から成る群から選択された少なくとも１種類の材料から成る［Ｃ０１］に記載の発光素子。
［Ｃ０３］複数の発光層は同じ組成を有する［Ａ１１］、又は、［Ａ１１］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｃ０１］、又は、［Ｃ０２］に記載の発光素子。
［Ｃ０４］更に、光反射層を備えており、
第２電極と有機層との界面と、光反射層との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極から出射させる［Ａ１１］、又は、［Ａ１１］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｃ０１］乃至［Ｃ０３］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｃ０５］光反射層は第１電極の下方に配設されている［Ｃ０４］に記載の発光素子。
［Ｃ０６］光反射層は、第１電極の上方であって、発光層の下方に配設されている［Ｃ０４］に記載の発光素子。
［Ｃ０７］発光層の最大発光位置から光反射層までの光学距離をＯＬ1、発光層の最大発光位置から界面までの光学距離をＯＬ2とし、ｍ1及びｍ2を整数としたとき、以下の式（１－１）及び式（１－２）を満たす［Ｃ０４］乃至［Ｃ０６］のいずれか１項に記載の発光素子。
０．７｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝≦２×ＯＬ1／λ≦１．２｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝ （１－１）
０．７｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝≦２×ＯＬ2／λ≦１．２｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝ （１－２）
ここで、
λ ：発光層で発生した光のスペクトルの最大ピーク波長（あるいは又、発光層で発生した光の内の所望の波長）
Φ1：光反射層で生じる反射光（光反射層で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ1≦０
Φ2：界面で生じる反射光（界面で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ2≦０
である。
［Ｃ０８］ｍ1≧１，ｍ2≧１を満足する［Ｃ０７］に記載の発光素子。
［Ｃ０９］第１電極と光反射層との間に、更に、金属薄膜フィルタ層が形成されている［Ｃ０５］に記載の発光素子。
［Ｃ１０］第１電極及び光反射層は、遮光部又は光反射部によって囲まれている［Ｃ０４］乃至［Ｃ０９］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｃ１１］第１電極は光透過材料から成り、第２電極は半光透過材料から成る［Ｃ０１］乃至［Ｃ１０］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｃ１２］第１電極は、ＩＴＯ又はＩＺＯから成り、
第２電極は、Ａｇ、Ａｇ－Ｍｇ、Ａｇ－Ｎｄ－Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ－Ｃｕ、Ａｌ及びＡｌ－Ｃｕから成る群から選択された少なくとも１種類の材料から成る［Ｃ１１］に記載の発光素子。
［Ｄ０１］発光素子から出射される光の半値全幅の値は３０ｎｍ以下である［Ａ０１］乃至［Ｃ１２］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｄ０２］発光素子の発光部中心を通る中心線における光強度をＩ0、光反射層を備えていない発光素子の発光部中心を通る中心線における光強度をＩconvとしたとき、
Ｉ0／Ｉconv≧５
を満足する［Ａ０１］乃至［Ｄ０１］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｄ０３］発光素子の発光部中心を通る中心線における光強度を１００％としたとき、５０％の光強度となる中心線に対する方向と、中心線との成す角度である指向半値角は２５度以下である［Ａ０１］乃至［Ｄ０２］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｅ０１］《表示装置》
第１基板、
第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、［Ａ０１］乃至［Ｄ０３］のいずれか１項に記載の発光素子から構成されている表示装置。
［Ｅ０２］表示装置は投影型表示装置から成る［Ｅ０１］に記載の表示装置。
［Ｅ０３］赤色光を出射する１枚の赤色光出射パネル、
緑色光を出射する１枚の緑色光出射パネル、及び、
青色光を出射する１枚の青色光出射パネルの３枚のパネルから構成されている［Ｅ０２］に記載の表示装置。
［Ｅ０４］青色光を出射する１枚の青色光出射パネルを更に有し、
４枚のパネルから構成されている［Ｅ０３］に記載の表示装置。
［Ｅ０５］４枚のパネルがアレイ状に配列されている［Ｅ０４］に記載の表示装置。
［Ｅ０６］４枚のパネルが２×２の状態に配列されている［Ｅ０４］に記載の表示装置。
［Ｅ０７］更に、光出射側に投影レンズ系を備えている［Ｅ０２］乃至［Ｅ０６］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｅ０８］複数のパネルから出射された画像を１つの画像に合成する画像合成手段、及び、
画像合成手段の光出射側に投影レンズ系を備えている［Ｅ０３］乃至［Ｅ０６］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｅ０９］画像合成手段は無偏光ダイクロイックプリズムから成る［Ｅ０８］に記載の表示装置。
［Ｅ１０］画像合成手段はフィリップス・プリズムから成る［Ｅ０８］に記載の表示装置。
［Ｅ１１］投影レンズ系に入射する光は、平行光である「Ｃ０８］乃至［Ｅ１０］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｅ１２］パネルは湾曲している［Ｅ０１］乃至［Ｅ１１］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｆ０１］《面発光装置》
第１基板、
第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、［Ａ０１］乃至［Ｄ０３］のいずれか１項に記載の発光素子から構成されている面発光装置。
［Ｆ０２］《表示装置（ＨＭＤ）》
観察者の頭部に装着されるフレーム、及び、
フレームに取り付けられた画像表示装置、
を備えており、
画像表示装置は、
［Ｅ０１］乃至［Ｅ１２］のいずれか１項に記載の表示装置を備えた画像形成装置、及び、
画像形成装置から出射された光が入射され、出射される光学装置、
を備えており、
光学装置は、
画像形成装置から入射された光が内部を全反射により伝播した後、観察者に向けて出射される導光板、
導光板に入射された光が導光板の内部で全反射されるように、導光板に入射された光を偏向させる第１偏向手段、及び、
導光板の内部を全反射により伝播した光を導光板から出射させるために、導光板の内部を全反射により伝播した光を複数回に亙り偏向させる第２偏向手段、
から成る表示装置。
［Ｆ０３］《３次元センシング装置》
［Ｅ０１］乃至［Ｅ１２］のいずれか１項に記載の表示装置を備えた画像形成装置、及び、
表示装置によって物体上に投影された画像を撮像する撮像装置、
を備えている３次元センシング装置。
［Ｆ０４］《ウェアラブル機器》
［Ｅ０１］乃至［Ｅ１２］のいずれか１項に記載の表示装置を備えたウェアラブル機器。
［Ａ０１］《発光素子：第１の態様》
複数の発光領域を有する発光部、及び、
各発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備えている発光素子。
［Ａ０２］《発光素子：第２の態様》
１つの発光領域を有する発光部、及び、
１つの発光領域から出射された光の進行方向を制御する複数のマイクロレンズ部材、
を備えている発光素子。
［Ａ０３］《発光素子：第３の態様》
複数の発光領域を有する発光部、及び、
複数の発光領域から出射された光の進行方向を制御する１又は複数のマイクロレンズ部材、
を備えている発光素子。
［Ａ０４］マイクロレンズ部材の光軸は、発光領域の中心を通過する中心線上に位置していない［Ａ０１］に記載の発光素子。
［Ａ０５］マイクロレンズ部材の平面形状は、コーナー部が丸みを帯びた矩形又は正方形である［Ａ０１］乃至［Ａ０４］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ０６］マイクロレンズ部材の光軸が発光領域の中心を通過する中心線上に位置している場合、発光領域の正射影像は、マイクロレンズ部材の正射影像内に含まれる［Ａ０１］乃至［Ａ０５］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ０７］マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する第２のマイクロレンズ部材を更に有する［Ａ０１］乃至［Ａ０６］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ０８］マイクロレンズ部材から出射された光の進行方向を制御する導光部を更に有する［Ａ０１］乃至［Ａ０７］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ０９］複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない［Ａ０８］に記載の発光素子。
［Ａ１０］発光部は、
発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
更に、第１電極の下方に光反射層を備えており、
第２電極と有機層との界面と、光反射層との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極から出射させ、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている［Ａ０１］乃至［Ａ０９］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１１］発光部は、
発光領域において共有された第１電極、
第１電極上に形成され、有機発光材料から成る発光層を含む有機層、及び、
有機層上に形成された第２電極、
を備えており、
発光層は、同色を発光する複数の発光層が積層されて成り、
第１電極と有機層との間には絶縁層が形成されており、
絶縁層には発光領域を規定する開口部が設けられている［Ａ０１］乃至［Ａ０９］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１２］マイクロレンズ部材は正の光学パワーを有する［Ａ０１］乃至［Ａ１１］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１３］発光領域は、マイクロレンズ部材から離れる方向に凸状形状を有する［Ａ０１］乃至［Ａ１２］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１４］マイクロレンズ部材は負の光学パワーを有する［Ａ０１］乃至［Ａ１１］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ａ１５］《発光素子：第４の態様》
複数の発光領域を有する発光部、及び、
各発光領域から出射された光の進行方向を制御する導光部、
を備えており、
発光領域は、導光部から離れる方向に凸状形状を有する発光素子。
［Ａ１６］発光領域は正の光学パワーを有する［Ａ１５］に記載の発光素子。
［Ａ１７］複数の導光部が積層された構造を有しており、
複数の導光部の軸線は、同一の直線状にはない［Ａ１５］又は［Ａ１６］に記載の発光素子。
［Ｂ０１］発光層の最大発光位置から光反射層までの光学距離をＯＬ1、発光層の最大発光位置から界面までの光学距離をＯＬ2とし、ｍ1及びｍ2を整数としたとき、以下の式（１－１）及び式（１－２）を満たす［Ａ１０］、又は、［Ａ１０］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項に記載の発光素子。
０．７｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝≦２×ＯＬ1／λ≦１．２｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝ （１－１）
０．７｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝≦２×ＯＬ2／λ≦１．２｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝ （１－２）
ここで、
λ ：発光層で発生した光のスペクトルの最大ピーク波長（あるいは又、発光層で発生した光の内の所望の波長）
Φ1：光反射層で生じる反射光（光反射層で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ1≦０
Φ2：界面で生じる反射光（界面で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ2≦０
である。
［Ｂ０２］ｍ1≧１，ｍ2≧１を満足する［Ｂ０１］に記載の発光素子。
［Ｂ０３］第１電極と光反射層との間に、更に、金属薄膜フィルタ層が形成されている［Ａ１０］、又は、［Ａ１０］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｂ０１］、又は、［Ｂ０２］に記載の発光素子。
［Ｂ０４］第１電極及び光反射層は、遮光部又は光反射部によって囲まれている［Ａ１０］、又は、［Ａ１０］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｂ０１］乃至［Ｂ０３］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｂ０５］第１電極は光透過材料から成り、第２電極は半光透過材料から成る［Ａ１０］、又は、［Ａ１０］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｂ０１］乃至［Ｂ０４］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｂ０６］第１電極は、ＩＴＯ又はＩＺＯから成り、
第２電極は、Ａｇ、Ａｇ－Ｍｇ、Ａｇ－Ｎｄ－Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ－Ｃｕ、Ａｌ及びＡｌ－Ｃｕから成る群から選択された少なくとも１種類の材料から成る［Ｂ０５］に記載の発光素子。
［Ｃ０１］発光層と発光層との間に中間層が形成されている［Ａ１１］、又は、［Ａ１１］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｃ０２］中間層は、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、ナトリウム（Ｎａ）、セシウム（Ｃｓ）、酸化モリブデン（ＭｏＯ3）、酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ5）及び酸化タングステン（ＷＯ3）から成る群から選択された少なくとも１種類の材料から成る［Ｃ０１］に記載の発光素子。
［Ｃ０３］複数の発光層は同じ組成を有する［Ａ１１］、又は、［Ａ１１］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｃ０１］、又は、［Ｃ０２］に記載の発光素子。
［Ｃ０４］更に、光反射層を備えており、
第２電極と有機層との界面と、光反射層との間で、発光層で発光した光を共振させて、光の一部を第２電極から出射させる［Ａ１１］、又は、［Ａ１１］を引用する［Ａ１２］乃至［Ａ１４］のいずれか１項、又は、［Ｃ０１］乃至［Ｃ０３］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｃ０５］光反射層は第１電極の下方に配設されている［Ｃ０４］に記載の発光素子。
［Ｃ０６］光反射層は、第１電極の上方であって、発光層の下方に配設されている［Ｃ０４］に記載の発光素子。
［Ｃ０７］発光層の最大発光位置から光反射層までの光学距離をＯＬ1、発光層の最大発光位置から界面までの光学距離をＯＬ2とし、ｍ1及びｍ2を整数としたとき、以下の式（１－１）及び式（１－２）を満たす［Ｃ０４］乃至［Ｃ０６］のいずれか１項に記載の発光素子。
０．７｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝≦２×ＯＬ1／λ≦１．２｛－Φ1／（２π）＋ｍ1｝ （１－１）
０．７｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝≦２×ＯＬ2／λ≦１．２｛－Φ2／（２π）＋ｍ2｝ （１－２）
ここで、
λ ：発光層で発生した光のスペクトルの最大ピーク波長（あるいは又、発光層で発生した光の内の所望の波長）
Φ1：光反射層で生じる反射光（光反射層で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ1≦０
Φ2：界面で生じる反射光（界面で反射される光）の位相シフト量（単位：ラジアン）。但し、－２π＜Φ2≦０
である。
［Ｃ０８］ｍ1≧１，ｍ2≧１を満足する［Ｃ０７］に記載の発光素子。
［Ｃ０９］第１電極と光反射層との間に、更に、金属薄膜フィルタ層が形成されている［Ｃ０５］に記載の発光素子。
［Ｃ１０］第１電極及び光反射層は、遮光部又は光反射部によって囲まれている［Ｃ０４］乃至［Ｃ０９］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｃ１１］第１電極は光透過材料から成り、第２電極は半光透過材料から成る［Ｃ０１］乃至［Ｃ１０］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｃ１２］第１電極は、ＩＴＯ又はＩＺＯから成り、
第２電極は、Ａｇ、Ａｇ－Ｍｇ、Ａｇ－Ｎｄ－Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ－Ｃｕ、Ａｌ及びＡｌ－Ｃｕから成る群から選択された少なくとも１種類の材料から成る［Ｃ１１］に記載の発光素子。
［Ｄ０１］発光素子から出射される光の半値全幅の値は３０ｎｍ以下である［Ａ０１］乃至［Ｃ１２］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｄ０２］発光素子の発光部中心を通る中心線における光強度をＩ0、光反射層を備えていない発光素子の発光部中心を通る中心線における光強度をＩconvとしたとき、
Ｉ0／Ｉconv≧５
を満足する［Ａ０１］乃至［Ｄ０１］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｄ０３］発光素子の発光部中心を通る中心線における光強度を１００％としたとき、５０％の光強度となる中心線に対する方向と、中心線との成す角度である指向半値角は２５度以下である［Ａ０１］乃至［Ｄ０２］のいずれか１項に記載の発光素子。
［Ｅ０１］《表示装置》
第１基板、
第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、［Ａ０１］乃至［Ｄ０３］のいずれか１項に記載の発光素子から構成されている表示装置。
［Ｅ０２］表示装置は投影型表示装置から成る［Ｅ０１］に記載の表示装置。
［Ｅ０３］赤色光を出射する１枚の赤色光出射パネル、
緑色光を出射する１枚の緑色光出射パネル、及び、
青色光を出射する１枚の青色光出射パネルの３枚のパネルから構成されている［Ｅ０２］に記載の表示装置。
［Ｅ０４］青色光を出射する１枚の青色光出射パネルを更に有し、
４枚のパネルから構成されている［Ｅ０３］に記載の表示装置。
［Ｅ０５］４枚のパネルがアレイ状に配列されている［Ｅ０４］に記載の表示装置。
［Ｅ０６］４枚のパネルが２×２の状態に配列されている［Ｅ０４］に記載の表示装置。
［Ｅ０７］更に、光出射側に投影レンズ系を備えている［Ｅ０２］乃至［Ｅ０６］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｅ０８］複数のパネルから出射された画像を１つの画像に合成する画像合成手段、及び、
画像合成手段の光出射側に投影レンズ系を備えている［Ｅ０３］乃至［Ｅ０６］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｅ０９］画像合成手段は無偏光ダイクロイックプリズムから成る［Ｅ０８］に記載の表示装置。
［Ｅ１０］画像合成手段はフィリップス・プリズムから成る［Ｅ０８］に記載の表示装置。
［Ｅ１１］投影レンズ系に入射する光は、平行光である「Ｃ０８］乃至［Ｅ１０］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｅ１２］パネルは湾曲している［Ｅ０１］乃至［Ｅ１１］のいずれか１項に記載の表示装置。
［Ｆ０１］《面発光装置》
第１基板、
第２基板、及び、
第１基板と第２基板によって挟まれた、複数の発光素子、
を有するパネルを備えており、
各発光素子は、［Ａ０１］乃至［Ｄ０３］のいずれか１項に記載の発光素子から構成されている面発光装置。
［Ｆ０２］《表示装置（ＨＭＤ）》
観察者の頭部に装着されるフレーム、及び、
フレームに取り付けられた画像表示装置、
を備えており、
画像表示装置は、
［Ｅ０１］乃至［Ｅ１２］のいずれか１項に記載の表示装置を備えた画像形成装置、及び、
画像形成装置から出射された光が入射され、出射される光学装置、
を備えており、
光学装置は、
画像形成装置から入射された光が内部を全反射により伝播した後、観察者に向けて出射される導光板、
導光板に入射された光が導光板の内部で全反射されるように、導光板に入射された光を偏向させる第１偏向手段、及び、
導光板の内部を全反射により伝播した光を導光板から出射させるために、導光板の内部を全反射により伝播した光を複数回に亙り偏向させる第２偏向手段、
から成る表示装置。
［Ｆ０３］《３次元センシング装置》
［Ｅ０１］乃至［Ｅ１２］のいずれか１項に記載の表示装置を備えた画像形成装置、及び、
表示装置によって物体上に投影された画像を撮像する撮像装置、
を備えている３次元センシング装置。
［Ｆ０４］《ウェアラブル機器》
［Ｅ０１］乃至［Ｅ１２］のいずれか１項に記載の表示装置を備えたウェアラブル機器。
【符号の説明】
【0180】
１Ｒ・・・赤色光出射パネル（第１パネル）、１Ｇ・・・緑色光出射パネル（第２パネル）、１Ｂ1，１Ｂ2・・・青色光出射パネル（第３パネル、第４パネル）、１０，１０’・・・発光素子、１１・・・第１基板、２０・・・トランジスタ、２１・・・ゲート電極、２２・・・ゲート絶縁層、２３・・・チャネル形成領域、２４・・・ソース／ドレイン領域、２５・・・素子分離領域、２６・・・基体（層間絶縁層）、２６Ａ・・・下層層間絶縁層、２６Ｂ・・・上層層間絶縁層、２７・・・コンタクトプラグ、２８・・・絶縁層、２９・・・開口部、３０・・・発光部、３０’・・・発光領域、３１・・・第１電極、３２・・・第２電極、３３・・・有機層、３３Ａ，３３Ｂ・・・発光層、３３Ｃ・・・正孔注入層及び正孔輸送層、３３Ｄ・・・中間層（電荷発生層）、３３Ｅ・・・電子輸送層及び電子注入層、３４・・・保護層（平坦化層）、３５・・・封止樹脂層、３６・・・下地層、３７・・・導光部の内部（内側）を埋める材料、４１・・・第２基板、５０・・・光反射層、５１・・・遮光部あるいは光反射部、５２・・・金属薄膜フィルタ層、５３・・・金属薄膜フィルタ層に設けられた空孔、５４・・・光吸収層（ブラックマトリクス層）、６０・・・マイクロレンズ部材、６１・・・導光部（光反射部、リフレクター部）、７０・・・投影レンズ系、７１・・・画像合成手段、７２・・・無偏光ダイクロイックプリズム、７３・・・フィリップス・プリズム
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】