特許 7602240 エステル化合物およびアセタール化合物の製造方法並びにＢｏｃ基の切断方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-12-10

(45)【発行日】2024-12-18

(54)【発明の名称】エステル化合物およびアセタール化合物の製造方法並びにＢｏｃ基の切断方法

(51)【国際特許分類】

   C07C 67/08 20060101AFI20241211BHJP

   C07C 69/14 20060101ALI20241211BHJP

   C07C 69/22 20060101ALI20241211BHJP

   C07C 69/63 20060101ALI20241211BHJP

   C07C 69/78 20060101ALI20241211BHJP

   C07C 67/03 20060101ALI20241211BHJP

   C07C 229/36 20060101ALI20241211BHJP

   C07C 227/14 20060101ALI20241211BHJP

   C07C 69/44 20060101ALI20241211BHJP

【ＦＩ】

C07C67/08

C07C69/14

C07C69/22

C07C69/63

C07C69/78

C07C67/03

C07C229/36

C07C227/14

C07C69/44

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2020124560

(22)【出願日】2020-07-21

(65)【公開番号】P2022021138

(43)【公開日】2022-02-02

【審査請求日】2023-06-28

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】504150450

【氏名又は名称】国立大学法人神戸大学

(74)【代理人】

【識別番号】110002837

【氏名又は名称】弁理士法人アスフィ国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】津田 明彦

【審査官】小森 潔

(56)【参考文献】

【文献】特開２００２－０８０４２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－１６０２２５（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０２０／０５０３６８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０２０－０８３７６５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０７Ｃ

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

エステル化合物を製造するための方法であって、
ジクロロメタン、カルボン酸化合物、およびアルコール化合物を含む組成物に、１５体積％以上、１００体積％以下の酸素を含む気体の気流下または前記気体をバブリングにより吹き込みつつ、波長が１８０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下のＵＶ－Ｃを含み、強度が１ｍＷ／ｃｍ²以上、５０ｍＷ／ｃｍ²以下の高エネルギー光を０．５時間以上、１０時間以下照射してジクロロメタンを分解する工程を含み、
前記カルボン酸化合物と前記アルコール化合物との組み合わせが、下記カルボン酸化合物（ＩＩ¹）と下記アルコール化合物（Ｉ¹）、下記カルボン酸化合物（ＩＩ²）と下記アルコール化合物（Ｉ²）、または下記カルボン酸化合物（ＩＩ¹）と下記アルコール化合物（Ｉ³）であることを特徴とする方法。

【化1】

［式中、
Ｒ¹とＲ²は、独立して、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 一価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 一価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 一価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した一価有機基、または式Ｒ ²² －［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、Ｒ ²² はＣ _1-6 アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示す。］

【化2】

［式中、
Ｒ¹とＲ²は、独立して、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 二価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 二価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 二価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した二価有機基、または式－［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される二価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示す。］

【化3】

［式中、
Ｒ¹は、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 三価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 三価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 三価芳香族炭化水素基、またはこれら２以上、５以下の基が結合した三価有機基を示し、
Ｒ²は、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 一価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 一価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 一価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した一価有機基、または式Ｒ ²² －［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、Ｒ ²² はＣ _1-6 アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示す。］

【請求項2】

エステル化合物を製造するための方法であって、
アルコール化合物のジクロロメタン溶液に、１５体積％以上、１００体積％以下の酸素を含む気体の気流下または前記気体をバブリングにより吹き込みつつ、波長が１８０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下のＵＶ－Ｃを含み、強度が１ｍＷ／ｃｍ²以上、５０ｍＷ／ｃｍ²以下の高エネルギー光を０．５時間以上、１０時間以下照射してジクロロメタンを分解する工程、および、
ジクロロメタンの分解物を含む前記ジクロロメタン溶液に、カルボン酸化合物を添加して反応させる工程を含み、
前記カルボン酸化合物と前記アルコール化合物との組み合わせが、下記カルボン酸化合物（ＩＩ¹）と下記アルコール化合物（Ｉ¹）、下記カルボン酸化合物（ＩＩ²）と下記アルコール化合物（Ｉ²）、または下記カルボン酸化合物（ＩＩ¹）と下記アルコール化合物（Ｉ³）であることを特徴とする方法。

【化4】

［式中、
Ｒ¹とＲ²は、独立して、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 一価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 一価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 一価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した一価有機基、または式Ｒ ²² －［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、Ｒ ²² はＣ _1-6 アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示す。］

【化5】

［式中、
Ｒ¹とＲ²は、独立して、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 二価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 二価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 二価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した二価有機基、または式－［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される二価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示す。］

【化6】

［式中、
Ｒ¹は、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 三価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 三価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 三価芳香族炭化水素基、またはこれら２以上、５以下の基が結合した三価有機基を示し、
Ｒ²は、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 一価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 一価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 一価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した一価有機基、または式Ｒ ²² －［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、Ｒ ²² はＣ _1-6 アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示す。］

【請求項3】

エステル化合物を製造するための方法であって、
カルボン酸化合物およびアルコール化合物のジクロロメタン溶液に、１５体積％以上、１００体積％以下の酸素を含む気体の気流下または前記気体をバブリングにより吹き込みつつ、波長が１８０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下のＵＶ－Ｃを含み、強度が１ｍＷ／ｃｍ²以上、５０ｍＷ／ｃｍ²以下の高エネルギー光を０．５時間以上、１０時間以下照射してジクロロメタンを分解する工程を含み、
前記カルボン酸化合物と前記アルコール化合物との組み合わせが、下記カルボン酸化合物（ＩＩ¹）と下記アルコール化合物（Ｉ¹）、下記カルボン酸化合物（ＩＩ²）と下記アルコール化合物（Ｉ²）、または下記カルボン酸化合物（ＩＩ¹）と下記アルコール化合物（Ｉ³）であることを特徴とする方法。

【化7】

［式中、
Ｒ¹とＲ²は、独立して、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 一価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 一価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 一価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した一価有機基、または式Ｒ ²² －［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、Ｒ ²² はＣ _1-6 アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示す。］

【化8】

［式中、
Ｒ¹とＲ²は、独立して、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 二価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 二価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 二価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した二価有機基、または式－［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される二価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示す。］

【化9】

［式中、
Ｒ¹は、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 三価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 三価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 三価芳香族炭化水素基、またはこれら２以上、５以下の基が結合した三価有機基を示し、
Ｒ²は、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 一価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 一価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 一価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した一価有機基、または式Ｒ ²² －［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、Ｒ ²² はＣ _1-6 アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示す。］

【請求項4】

エステル化合物を製造するための方法であって、
前記エステル化合物がカルボン酸とアルコールＡとのエステル化合物であり、
ジクロロメタン、前記アルコールＡとは異なるアルコールＢのエステル化合物、および前記アルコールＡを含む組成物に、１５体積％以上、１００体積％以下の酸素を含む気体の気流下または前記気体をバブリングにより吹き込みつつ、波長が１８０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下のＵＶ－Ｃを含み、強度が１ｍＷ／ｃｍ²以上、５０ｍＷ／ｃｍ²以下の高エネルギー光を０．５時間以上、１０時間以下照射してジクロロメタンを分解する工程を含み、
前記アルコールＢのエステル化合物と前記アルコールＡとの組み合わせが、下記ｐ価エステル化合物（ＩＩＩ¹）と下記一価アルコール化合物（ＩＶ¹）、または下記一価エステル化合物（ＩＩＩ²）と下記ｑ価アルコール化合物（ＩＶ²）であることを特徴とする方法。

【化10】

［式中、
Ｒ³は、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 ｐ価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 ｐ価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 ｐ価芳香族炭化水素基、またはこれら２以上、５以下の基が結合したｐ価有機基を示し、
Ｒ⁴～Ｒ⁷は、独立して、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 一価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 一価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 一価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した一価有機基、または式Ｒ ²² －［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、Ｒ ²² はＣ _1-6 アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基を示し、
Ｒ⁸は、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 ｑ価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 ｑ価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 ｑ価芳香族炭化水素基、またはこれら２以上、５以下の基が結合したｑ価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
ｐは、１以上、５以下の整数を示し、
ｑは、１以上、５以下の整数を示し、
但し、Ｒ⁴とＲ⁵は同一の有機基ではなく、Ｒ⁷とＲ⁸は同一の有機基ではない。］

【請求項5】

アセタール化合物を製造するための方法であって、
ジクロロメタンおよびアルコール化合物を含む組成物に、１５体積％以上、１００体積％以下の酸素を含む気体の気流下または前記気体をバブリングにより吹き込みつつ、波長が１８０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下のＵＶ－Ｃを含み、強度が１ｍＷ／ｃｍ²以上、５０ｍＷ／ｃｍ²以下の高エネルギー光を０．５時間以上、１０時間以下照射してジクロロメタンを分解する工程、および、
ジクロロメタンの分解物の存在下、カルボニル化合物を反応させる工程を含み、
前記カルボニル化合物と前記アルコール化合物との組み合わせが、下記カルボニル化合物（ＶＩ）と下記アルコール化合物（ＶＩＩ）、または下記カルボニル化合物（ＶＩ）と下記１，２－エタンジオールもしくは１，３－プロパンジオールであることを特徴とする方法。

【化11】

［式中、
Ｒ⁹～Ｒ¹¹は、独立して、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 一価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 一価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 一価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した一価有機基、または式Ｒ ²² －［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、Ｒ ²² はＣ _1-6 アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
ｔは、２または３を示す。］

【請求項6】

Ｂｏｃ基により保護されているアミノ基および／または水酸基を有する化合物からＢｏｃ基を切断して脱保護するための方法であって、
ジクロロメタン、並びに前記Ｂｏｃ基により保護されているアミノ基を有する化合物を含む組成物に、１５体積％以上、１００体積％以下の酸素を含む気体の気流下または前記気体をバブリングにより吹き込みつつ、波長が１８０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下のＵＶ－Ｃを含み、強度が１ｍＷ／ｃｍ²以上、５０ｍＷ／ｃｍ²以下の高エネルギー光を０．５時間以上、１０時間以下照射してジクロロメタンを分解する工程を含み、
前記Ｂｏｃ基により保護されているアミノ基および／または水酸基を有する化合物が、下記化合物（ＩＸ）、下記化合物（ＸＩ）または下記化合物（ＸＩＩＩ）であることを特徴とする方法。

【化12】

［式中、
Ｒ¹²とＲ¹³は、独立して、置換基αで置換されていてもよいＣ _1-10 一価鎖状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _3-10 一価環状脂肪族炭化水素基、置換基βで置換されていてもよいＣ _6-15 一価芳香族炭化水素基、これら２以上、５以下の基が結合した一価有機基、または式Ｒ ²² －［－Ｘ－Ｒ ²¹ －］ _r －（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ ²¹ はＣ _2-8 アルカンジイル基を示し、Ｒ ²² はＣ _1-6 アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基を示し、
置換基αは、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
置換基βは、Ｃ _1-6 アルキル基、Ｃ _1-6 アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ _1-6 アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基を示し、
Ｒ¹⁴はアミノ酸側鎖基を示し、
Ｒ¹⁵は、ＯＨ、ＯＲ¹⁶（式中、Ｒ¹⁶は、カルボキシ基の保護基または担体を示す）、または－［－ＮＨ－ＣＨＲ¹⁷－Ｃ（＝Ｏ）－］_s－Ｒ¹⁸（式中、Ｒ¹⁷はアミノ酸側鎖を示し、Ｒ¹⁸は、ＯＨ、またはＯＲ¹⁹（式中、Ｒ¹⁹は、カルボキシ基の保護基または担体を示す）を示し、ｓは１以上の整数を示し、ｓが２以上の整数の場合、複数のＲ¹⁷は互いに同一であっても異なってもよい）を示す。］

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、塩化水素の有機溶媒溶液製品や塩化水素ガスを使うことなくアルコール化合物とカルボキシ化合物から、またはエステル交換反応によりエステル化合物を製造する方法、塩化水素の有機溶媒溶液製品や塩化水素ガスを使うことなくアセタール化合物を製造する方法、および、塩化水素の有機溶媒溶液製品や塩化水素ガスを使うことなくＢｏｃ基を切断して脱保護する方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

エステル化合物は、古典的には、酸触媒の存在下、アルコール化合物とカルボキシ化合物を含む組成物を加熱するフィッシャーエステル合成反応により合成される。当該反応において、酸触媒としては水を含む塩酸が用いられることがある。しかし当該反応は、エステル化合物の加水分解反応も同時に起こる平衡反応である。よって、エステル化合物の収率を高めるためには、反応液中の水の量を低減すべく、酸触媒としては塩化水素の有機溶媒溶液が用いられることが多い。エステル交換反応によりエステル化合物を合成する場合でも同様である。

【0003】

また、カルボニル基は求電子性を示す一方で、カルボニル基を有する化合物にアルコール化合物を反応させて得られるアセタール化合物は求電子性が低く且つ求核性も低い。よって、酸触媒の存在下、カルボニル化合物とアルコール化合物を反応させてカルボニル基を保護することがある。逆に、１，２－ジオールや１，３－ジオールの水酸基をカルボニル化合物により保護することもある。この際、アセタール化合物は水の存在によりヘミアセタール化合物となり、ヘミアセタール化合物は一般的に不安定でアセタール化合物またはカルボニル化合物に戻るため、同じく酸触媒としては塩化水素の有機溶媒溶液が用いられることが多い。

【0004】

更に、Ｂｏｃ基（ｔ－ブトキシカルボニル基）は、アミノ基や水酸基の保護基として汎用されている。特に、Ｂｏｃ基は、酸性条件下で加水分解されるカルボキシ基のエステル型保護基を切断することなく、水の非存在下でも強酸性条件下で切断されるため、ペプチド合成に有用である。Ｂｏｃ基の切断にはトリフルオロ酢酸も用いられるが、トリフルオロ酢酸は毒性が高い。特にトリフルオロ酢酸は水性動物に対する毒性が高いため、環境中への放出が禁じられている。よって、Ｂｏｃ基の切断にも、塩化水素の有機溶媒溶液が用いられることが多い。

【0005】

しかし、市販の塩化水素－有機溶媒溶液製品は高価である。それに対して、塩化水素ガスを用いることも考えられるが、塩化水素ガスは高い毒性を持つガスであるため、その輸送、保管、使用に関して厳格な規制が存在する。例えば、塩化水素ガスを日本の法律に定められた条件で、環境中に放出することなく安全に使用するためには、ガスボンベのシリンダーキャビネット、耐酸性のドラフトチャンバー、湿式スクラバー、事故の際のためのスプリンクラー等、専用付帯設備が必要となる。

【0006】

ところで本発明者は、主にクロロホルムに酸素存在下で高エネルギー光を照射してホスゲンを生成させ、安全に利用する技術を開発している（特許文献１等）。また、本発明者は、ジブロモメタンに酸素存在下で高エネルギー光を照射した後、アニソールを添加して、４－ブロモアニソールが得られることを明らかにしている（特許文献１）。ベンゼン環へのブロモ基の付加反応では主に臭素（Ｂｒ₂）が用いられるため、この反応ではジブロモメタンが分解して臭素が発生していると考えられる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【文献】特開２０１３－１８１０２８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

上述したように、エステル化合物およびアセタール化合物の合成やＢｏｃ基の切断には塩化水素－有機溶媒溶液が主に用いられているが、塩化水素－有機溶媒溶液製品は高価であり、また、塩化水素ガスの使用も難しい。
そこで本発明は、塩化水素の有機溶媒溶液製品や塩化水素ガスを使うことなくアルコール化合物とカルボキシ化合物から、またはエステル交換反応によりエステル化合物を製造する方法、塩化水素の有機溶媒溶液製品や塩化水素ガスを使うことなくアセタール化合物を製造する方法、および、塩化水素の有機溶媒溶液製品や塩化水素ガスを使うことなくＢｏｃ基を切断して脱保護する方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明者は、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。その結果、ジクロロメタンに酸素存在下で高エネルギー光を照射して得られるジクロロメタンの分解物を用いれば、塩化水素－有機溶媒溶液や塩化水素ガスを用いる場合と同様にエステル化合物やアセタール化合物を合成できたりＢｏｃ基を切断できることを見出して、本発明を完成した。
以下、本発明を示す。

【0010】

［１］ エステル化合物を製造するための方法であって、
ジクロロメタンに酸素存在下で高エネルギー光を照射してジクロロメタンを分解する工程、および、
ジクロロメタンの分解物の存在下、カルボン酸化合物とアルコール化合物を反応させる工程を含むことを特徴とする方法。
［２］ ジクロロメタンと前記アルコール化合物を含む組成物に酸素存在下で高エネルギー光を照射してジクロロメタンを分解した後、前記カルボン酸化合物を添加する上記［１］に記載の方法。
［３］ ジクロロメタン、前記カルボン酸化合物および前記アルコール化合物を含む組成物に酸素存在下で高エネルギー光を照射する上記［１］に記載の方法。

【0011】

［４］ エステル化合物を製造するための方法であって、
前記エステル化合物がカルボン酸とアルコールＡとのエステル化合物であり、
ジクロロメタンに酸素存在下で高エネルギー光を照射してジクロロメタンを分解する工程、および、
ジクロロメタンの分解物の存在下、アルコールＡとは異なるアルコールＢのエステル化合物と、アルコールＡとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法。
［５］ ジクロロメタン、前記アルコールＢのエステル化合物、および前記アルコールＡを含む組成物に酸素存在下で高エネルギー光を照射する上記［４］に記載の方法。

【0012】

［６］ アセタール化合物を製造するための方法であって、
ジクロロメタンに酸素存在下で高エネルギー光を照射してジクロロメタンを分解する工程、および、
ジクロロメタンの分解物の存在下、カルボニル化合物とアルコール化合物を反応させる工程を含むことを特徴とする方法。

【0013】

［７］ Ｂｏｃ基により保護されているアミノ基および／または水酸基を有する化合物からＢｏｃ基を切断して脱保護するための方法であって、
ジクロロメタンに酸素存在下で高エネルギー光を照射してジクロロメタンを分解する工程、および、
ジクロロメタンの分解物の存在下、前記化合物からＢｏｃ基を切断して脱保護する工程を含むことを特徴とする方法。

【0014】

［８］ 前記高エネルギー光が１８０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下の波長の光を含む上記［１］～［７］のいずれかに記載の方法。

【発明の効果】

【0015】

本発明方法によれば、塩化水素－有機溶媒溶液や塩化水素ガスを用いなくても、エステル化合物およびアセタール化合物の合成やＢｏｃ基の切断など、塩化水素－有機溶媒溶液や塩化水素ガスを用いた場合と同様の反応を行うことができる。また、本発明方法で用いるジクロロメタンの分解物は、ジクロロメタンに酸素存在下で高エネルギー光を照射するという非常に簡便な条件で安全かつ容易に得られる。よって本発明は、高価な塩化水素－有機溶媒溶液や危険な塩化水素ガスを用いる反応の代替方法として、産業上非常に優れている。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】本発明に用いられる反応装置の構成の一例を示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

本発明では、ジクロロメタンに酸素存在下で高エネルギー光を照射してジクロロメタンを分解する。本発明者は、これまでクロロホルムに酸素存在下で高エネルギー光を照射してクロロホルムを分解して主にホスゲンを発生させ、カーボネート化合物などの製造に利用してきた。それに対して本発明では、カルボン酸化合物とアルコール化合物の共存下で本工程を行うと主生成物としてエステル化合物が得られ、カーボネート化合物の生成は確認されないか或いはほとんど確認されないため、ホスゲンは生成しないか或いはほとんど生成していない。また、本発明によれば、酸触媒で促進されるエステル化反応、アセタール化反応やＢｏｃの切断反応が促進されるため、ジクロロメタンが分解されて塩化水素が生成していると考えられるが、ジクロロメタンの分解物がいかなる化合物であるかは必ずしも明らかでない。

【0018】

酸素源としては、空気、精製された酸素ガスが挙げられる。精製された酸素ガスは、窒素ガスやアルゴン等の不活性ガスと混合してもよい。酸素源は、コストや調製容易の観点から、空気が好ましい。光照射によりジクロロメタンの分解効率を高める観点からは、酸素源中の酸素含有率は、１５体積％以上、１００体積％以下が好ましい。なお、酸素含有率１００体積％の酸素ガスを使用する場合であっても、反応系内への酸素流量を調節して酸素含有率を前記範囲内に制御してもよい。酸素を含む気体の供給方法は、特に限定されず、流量調整器を取り付けた酸素ボンベから反応系内に供給してもよく、酸素発生装置から反応系内に供給してもよい。

【0019】

なお、「酸素存在下」とは、ジクロロメタン等が酸素と接している状態か、ジクロロメタンを含む組成物中に酸素が存在する状態のいずれであってもよい。従って、本発明に係る反応は、酸素を含む気体の気流下で行ってもよいが、反応収率を高める観点からは、酸素を含む気体はバブリングによりジクロロメタンまたはジクロロメタンを含む組成物中へ供給することが好ましい。

【0020】

酸素を含む気体の量は、ジクロロメタンの量や、反応容器の形状などに応じて適宜決定され、反応容器中に存在するジクロロメタンに対する、反応容器へ供給する１分あたりの気体の量は、５容量倍以上が好ましい。当該量は、２５容量倍以上がより好ましく、５０容量倍以上がよりさらに好ましい。当該量の上限は、特に制限されないが、５００容量倍以下が好ましく、２５０容量倍以下がより好ましく、１５０容量倍以下が特に好ましい。また、反応容器中に存在するジクロロメタンに対する、反応容器へ供給する１分あたりの酸素の量は、５容量倍以上、２５容量倍以下が好ましい。気体の流量が多過ぎる場合には、ジクロロメタンが揮発する場合があり、少な過ぎると反応が進行しにくくなる場合がある。酸素の供給速度としては、例えば、０．１Ｌ／分以上、１０Ｌ／分以下とすることができる。

【0021】

ジクロロメタンまたはジクロロメタンを含む組成物に照射する高エネルギー光としては、短波長光を含む光が好ましく、紫外線を含む光がより好ましく、より詳細には１８０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下の波長の光を含む光、およびピーク波長が１８０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下に含まれる光が好ましい。なお、高エネルギー光の波長は適宜決定すればよいが、４００ｎｍ以下がより好ましく、３００ｎｍ以下がよりさらに好ましく、ピーク波長がこれら範囲に含まれる光も好ましい。照射光に前記波長範囲の光が含まれている場合には、ジクロロメタンを効率良く酸化的光分解できる。例えば、波長２８０ｎｍ以上、３１５ｎｍ以下のＵＶ－Ｂおよび／または波長１８０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下のＵＶ－Ｃを含む光を用いることができ、波長１８０ｎｍ以上、２８０ｎｍ以下のＵＶ－Ｃを含む光を用いることが好ましく、ピーク波長がこれら範囲に含まれる光も好ましい。

【0022】

光照射の手段は、前記波長の光を照射できるものである限り特に限定されないが、このような波長範囲の光を波長域に含む光源としては、例えば、太陽光、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、メタルハライドランプ、ＬＥＤランプ等が挙げられる。反応効率やコストの点から、低圧水銀ランプが好ましく用いられる。

【0023】

照射光の強度や照射時間などの条件は、出発原料の種類や使用量などによって適宜設定すればよいが、例えば、光源からジクロロメタンまたはジクロロメタンを含む組成物の最短距離位置における所望の光の強度としては、１ｍＷ／ｃｍ²以上、５０ｍＷ／ｃｍ²以下が好ましい。光の照射時間としては、０．５時間以上、１０時間以下が好ましい。当該照射時間は１時間以上がより好ましく、２時間以上がより更に好ましく、また、６時間以下がより好ましく、４時間以下がより更に好ましい。光照射の態様も特に限定されず、反応開始から終了まで連続して光を照射する態様、光照射と光非照射とを交互に繰り返す態様、反応開始から所定の時間のみ光を照射する態様など、いずれの態様も採用できる。光照射と光非照射とを交互に繰り返す場合には、ジクロロメタンの分解と、ジクロロメタン分解物により促進される反応が交互に行われることにより、反応が良好に促進される可能性がある。また、光源とハロゲン化メタンとの最短距離としては、１ｍ以下が好ましく、５０ｃｍ以下がより好ましく、１０ｃｍ以下または５ｃｍ以下がより更に好ましい。当該最短距離の下限は特に制限されないが、０ｃｍ、即ち、光源をジクロロメタンまたはジクロロメタンを含む組成物中に浸漬してもよい。

【0024】

反応時の温度は適宜調整すればよいが、例えば０℃以上、５０℃以下とすることができる。当該温度は、１０℃以上が好ましく、２０℃以上がより好ましく、また、４０℃以下が好ましく、３０℃以下がより好ましい。

【0025】

本発明方法に使用できる反応装置としては、反応容器に高エネルギー光照射手段を備えたものが挙げられる。図１に、本発明方法に使用できる反応装置の一態様を示す。図１に示す反応装置は、反応容器１内に光照射手段２を有し、反応容器が温度調整のための水浴３に浸漬されているものである。反応容器１内に、少なくともジクロロメタンを添加し、当該反応容器１内に少なくとも酸素を含有する気体を供給または上記混合物に酸素を含有する気体を反応液中にバブリングする。高エネルギー光照射手段２により反応液に高エネルギー光を照射することにより反応を行う。高エネルギー光照射手段２は、ジクロロメタンが分解されて発生する酸などによる腐食を防ぐため、ガラス製などのジャケット４で被覆することが好ましい。反応液の温度は、水浴３により一定または略一定に制御することが好ましい。また、反応液は、攪拌子５により攪拌してもよい。反応は発熱を伴うことが多いので、反応容器に冷却管６を備え付けることが好ましい。生成したジクロロメタン分解物が熱により気化しても、冷却管６で液化して反応液に再循環することが可能になる。更に、過剰なジクロロメタンやその分解物が反応系外へ漏出することを抑制するために、反応容器１から排出される気体はジクロロメタンやその分解物を捕捉するためのトラップへ導入することが好ましい。

【0026】

アルコール化合物は常温常圧下で液体であり溶媒として用い得るものがあるので、ジクロロメタンの分解工程は、アルコール化合物の共存下で行ってもよい。当該アルコール化合物としては、例えば、式Ｒ¹（ＯＨ）_m（式中、Ｒ¹はｍ価の有機基を示し、ｍは、１以上、５以下の整数を示す。）で表されるアルコール化合物（Ｉ）を用いることができる。

【0027】

アルコール化合物（Ｉ）中のＲ¹は、ｍ価の有機基を示す。以下、一価の有機基を代表的に説明する。Ｒ¹の一価有機基としては、例えば、Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基、Ｃ_3-10一価環状脂肪族炭化水素基、Ｃ_6-15一価芳香族炭化水素基、およびこれら２以上、５以下の基が結合した一価有機基が挙げられる。

【0028】

「Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基」は、炭素数１以上、１０以下の直鎖状または分枝鎖状の一価飽和または不飽和脂肪族炭化水素基をいう。例えばＣ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基としては、Ｃ_1-10アルキル基、Ｃ_2-10アルケニル基、およびＣ_2-10アルキニル基を挙げることができる。

【0029】

Ｃ_1-10アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、１－メチルプロピル、２－メチルプロピル、１，１－ジメチルエチル、２，２－ジメチルエチル、ｎ－ペンチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－デシル等である。好ましくはＣ_1-8アルキル基またはＣ_1-6アルキル基であり、より好ましくはＣ_1-4アルキル基またはＣ_1-2アルキル基であり、より更に好ましくはメチルである。

【0030】

Ｃ_2-10アルケニル基としては、例えば、エテニル（ビニル）、１－プロペニル、２－プロペニル（アリル）、ブテニル、ヘキセニル、オクテニル、デセニル等である。好ましくはＣ_2-8アルケニル基であり、より好ましくはＣ_2-6アルケニル基またはＣ_2-4アルケニル基であり、より更に好ましくはエテニル（ビニル）または２－プロペニル（アリル）である。また、Ｃ_2-10アルケニル基を有する一価アルコール化合物としては、例えば、ロジノール、ゲラニオール、ネロール、リナロール、ゲラニオールが挙げられる。

【0031】

Ｃ_2-10アルキニル基としては、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ヘキシニル、オクチニル、ペンタデシニル等である。好ましくはＣ_2-8アルキニル基であり、より好ましくはＣ_2-6アルキニル基またはＣ_2-4アルキニル基である。

【0032】

「Ｃ_3-10一価環状脂肪族炭化水素基」は、炭素数１以上、１０以下の環状の一価飽和または不飽和脂肪族炭化水素基をいう。例えば、Ｃ_3-10シクロアルキル基、Ｃ_3-10シクロアルケニル基、およびＣ_3-10シクロアルキニル基を挙げることができる。Ｃ_3-10シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルが挙げられ、Ｃ_3-10シクロアルケニル基としては，例えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセンが挙げられる。

【0033】

「Ｃ_6-15一価芳香族炭化水素基」とは、炭素数が６以上、１５以下の一価芳香族炭化水素基をいう。例えば、フェニル、インデニル、ナフチル、ビフェニル、フェナレニル、フェナントレニル、アントラセニル等であり、好ましくはＣ_6-12一価芳香族炭化水素基であり、より好ましくはフェニルである。

【0034】

Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基、Ｃ_3-10一価環状脂肪族炭化水素基、およびＣ_6-15一価芳香族炭化水素基から選択される２以上、５以下の基が結合した一価有機基としては、例えば、Ｃ_3-10一価環状脂肪族炭化水素基－Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基、Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基－Ｃ_3-10一価環状脂肪族炭化水素基、Ｃ_6-15一価芳香族炭化水素基－Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基、Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基－Ｃ_6-15一価芳香族炭化水素基、Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基－Ｃ_3-10一価環状脂肪族炭化水素基－Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基、Ｃ_3-10一価環状脂肪族炭化水素基－Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基－Ｃ_3-10一価環状脂肪族炭化水素基、およびＣ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基－Ｃ_6-15一価芳香族炭化水素基－Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基が挙げられる。

【0035】

アルコール化合物（Ｉ）中の前記一価有機基は、置換基で置換されていてもよい。Ｃ_1-10一価鎖状脂肪族炭化水素基の置換基αとしては、例えば、Ｃ_1-6アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基（－Ｏ－）、チオエーテル基（－Ｓ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、およびトリ（Ｃ_1-6アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基が挙げられ、Ｃ_3-10一価環状脂肪族炭化水素基の置換基βとしては、例えば、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、ハロゲノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、およびトリ（Ｃ_1-6アルキル）シリル基から選択される１以上の置換基が挙げられ、Ｃ_6-15一価芳香族炭化水素基の置換基γとしては、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、およびハロゲノ基から選択される１以上の置換基が挙げられる。なお、エーテル基、チオエーテル基、およびカルボニル基は、炭化水素鎖の炭素－炭素間に入り込む形で置換する。また、トリ（Ｃ_1-6アルキル）シリル基としては、例えばトリメチルシリル基が挙げられる。

【0036】

「Ｃ_1-6アルキル基」は、炭素数１以上、６以下の直鎖状または分枝鎖状の一価飽和脂肪族炭化水素基をいう。例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｎ－ヘキシル等である。好ましくはＣ_1-4アルキル基であり、より好ましくはＣ_1-2アルキル基であり、最も好ましくはメチルである。

【0037】

「Ｃ_1-6アルコキシ基」とは、炭素数１以上、６以下の直鎖状または分枝鎖状の飽和脂肪族炭化水素オキシ基をいう。例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、イソブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ、ｎ－ヘキソキシ等であり、好ましくはＣ_1-4アルコキシ基であり、より好ましくはＣ_1-2アルコキシ基である。

【0038】

ハロゲノ基としては、フルオロ、クロロ、ブロモ、およびヨードから選択される１以上のハロゲノ基が挙げられる。

【0039】

その他、アルコール化合物（Ｉ）中のＲ¹の一価有機基としては、式Ｒ²²－［－Ｘ－Ｒ²¹－］_r－（ＸはＯまたはＳを示し、Ｏが好ましく、Ｒ²¹はＣ_2-8アルカンジイル基を示し、Ｒ²²はＣ_1-6アルキル基を示し、ｒは１以上、１８０以下の整数を示す。）で表される一価有機基が挙げられる。

【0040】

Ｒ²¹としては、エチレン基（－ＣＨ₂ＣＨ₂－）、プロピレン基［－ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂－または－ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）－］、およびテトラメチレン基（－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－）が挙げられる。

【0041】

ｒとしては、５以上が好ましく、１０以上がより好ましく、２０以上がより更に好ましく、また、１６０以下が好ましく、１５０以下がより好ましい。

【0042】

アルコール化合物（Ｉ）中のｍが２以上である場合には、上記一価有機基はｍ価有機基に読み替えるものとする。例えば、ｍが２である場合、Ｃ_1-10アルキル基はＣ_1-10アルカンジイル基に、ｍが３である場合、Ｃ_1-10アルキル基はＣ_1-10アルカントリイル基に読み替えられる。式Ｒ²²－［－Ｘ－Ｒ²¹－］_r－は、ｍが２である場合、式－［－Ｘ－Ｒ²¹－］_r－とすることができる。

【0043】

ｍが２であるアルコール化合物（Ｉ）としては、例えば、１，２－エタンジオール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリカーボネートジオール等のグリコール化合物；カテコール、レゾルシノール等のジヒドロキシベンゼン化合物；４，６－ジヒドロキシ－２－メチルピリミジン、３，６－ジヒドロキシ－４－メチルピリダジンなどのジヒドロキシヘテロアリール化合物；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡＰ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＢＰ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＴＭＣ、ビスフェノールＺ等のビスフェノール化合物；イソソルビド、イソマンニド等の糖アルコール脱水物が挙げられる。ｍが３であるアルコール化合物（Ｉ）としては、例えばグリセリンが挙げられ、ｍが４であるアルコール化合物（Ｉ）としては、例えばエリスリトール、ペンタエリスリトール、リボースが挙げられる。ｍが５以上であるアルコール化合物（Ｉ）としては、グルコース、ガラクトース、ケトース、ラクトース、スクロース等の糖類が挙げられる。

【0044】

アルコール化合物の使用量は適宜調整すればよいが、例えば、ジクロロメタンの当初量に対して１容量倍以上、２０容量倍以下とすることができる。

【0045】

カルボン酸化合物のエステル化反応は、カルボキシ基へのプロトンの付加により促進される。よって、カルボン酸化合物は、ジクロロメタンの分解工程の後に添加してもよいが、カルボン酸化合物の共存下でジクロロメタンの分解工程を行ってもよい。当該カルボン酸化合物としては、例えば、式Ｒ²（ＣＯ₂Ｈ）_n（式中、Ｒ²はｎ価の有機基を示し、ｎは、１以上、５以下の整数を示す。）で表されるカルボン酸化合物（ＩＩ）を用いることができる。カルボン酸化合物（ＩＩ）のＲ²は、アルコール化合物（Ｉ）中のＲ¹と同様の有機基を示し、ｍとｎが同一である場合、Ｒ²とＲ¹は互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。

【0046】

カルボン酸化合物の使用量は適宜調整すればよいが、例えば、アルコール化合物１モルに対して０．５倍モル以上、２倍モル以下とすることができる。例えば、カルボン酸化合物とアルコール化合物の内、合成がより容易であったり安価である方をより多く用いることができる。当該モル比は、０．８倍モル以上が好ましく、０．９倍モル以上がより好ましく、また、１．２倍モル以下が好ましく、１．１倍モル以下がより好ましい。また、アルコール化合物を溶媒としても用いるような場合には、アルコール化合物１モルに対するカルボン酸化合物のモル比を０．０１倍モル以上、０．１倍モル以下とすることもできる。

【0047】

例えば、一価カルボン酸化合物（ＩＩ¹）と一価アルコール化合物（Ｉ¹）を用いる本発明に係るエステル化反応は、下記式で示される。

【0048】

【化1】

［式中、Ｒ¹とＲ²は独立して一価有機基を示す。］
また、二価カルボン酸化合物（ＩＩ²）と二価アルコール化合物（Ｉ²）を用いる本発明に係るエステル化反応により、ポリエステルが得られる。

【0049】

【化2】

［式中、Ｒ¹とＲ²は独立して二価有機基を示す。］

【0050】

更に、例えば、一価カルボン酸化合物（ＩＩ¹）と三価アルコール化合物（Ｉ³）を用いる本発明に係るエステル化反応は、下記式で示される。

【0051】

【化3】

［式中、Ｒ¹は三価有機基を示し、Ｒ²は一価有機基を示す。］

【0052】

カルボン酸化合物およびアルコール化合物は、ジクロロメタンの分解工程後に添加してもよいが、ジクロロメタンとカルボン酸化合物との共存下でジクロロメタンの分解工程を行ってもよいし、ジクロロメタンとアルコール化合物との共存下でジクロロメタンの分解工程を行ってもよいし、ジクロロメタンとカルボン酸化合物とアルコール化合物との共存下でジクロロメタンの分解工程を行ってもよい。

【0053】

また、ジクロロメタンの分解工程後、光照射と酸素供給を停止した上で、カルボン酸化合物とアルコール化合物を反応させてもよい。光照射と酸素供給を停止した後も、反応系内にはジクロロメタンの分解物が残留しているので、カルボン酸化合物とアルコール化合物の反応は促進される。また、光照射と酸素供給の停止により、ジクロロメタンの分解物の更なる分解や揮発が抑制される可能性もある。

【0054】

光照射と酸素供給の停止後の反応温度は、ジクロロメタンの分解工程の温度と同一であってもよいし、或いは反応促進のため高めてもよい。光照射と酸素供給の停止後の反応の温度としては、例えば、２０℃以上、１２０℃以下とすることができる。当該温度としては３０℃以上が好ましく、４０℃以上がより好ましく、また、１００℃以下または８０℃以下が好ましく、６０℃以下がより好ましい。或いは、加熱還流条件で反応を行ってもよい。

【0055】

光照射と酸素供給の停止後の反応の時間は、反応が十分に進行する範囲で適宜調整すればよいが、例えば、１時間以上、１００時間以下とすることができる。

【0056】

本発明は、エステル交換反応にも適用することができる。即ち、ジクロロメタンの分解工程を行い、ジクロロメタンの分解物の存在下、例えば、下記反応式の通り、ｐ価エステル化合物（ＩＩＩ¹）と一価アルコール化合物（ＩＶ¹）を反応させることにより、エステル化合物（Ｖ¹）を製造したり、一価エステル化合物（ＩＩＩ²）とｑ価アルコール化合物（ＩＶ²）を反応させることにより、エステル化合物（Ｖ²）を製造することができる。勿論、一価エステル化合物と一価アルコール化合物との間でエステル交換反応を行うことも可能である。

【0057】

【化4】

［式中、
Ｒ³はｐ価の有機基を示し、
Ｒ⁴～Ｒ⁷は独立して一価有機基を示し、
Ｒ⁸はｑ価の有機基を示し、
ｐは、１以上、５以下の整数を示し、
ｑは、１以上、５以下の整数を示し、
但し、Ｒ⁴とＲ⁵は同一の有機基ではなく、Ｒ⁷とＲ⁸は同一の有機基ではない。］
上記反応式中のＲ³～Ｒ⁸としては、アルコール化合物（Ｉ）中のＲ¹のうち価数が同一である有機基を挙げることができる。

【0058】

エステル交換反応におけるエステル化合物（ＩＩＩ）とアルコール化合物（ＩＶ）の量は、反応が良好に進行する範囲で適宜調整すればよい。例えば、ジクロロメタンの当初量に対するアルコール化合物（ＩＶ）の使用量は１容量倍以上、２０容量倍以下とすることができる。また、エステル化合物（ＩＩＩ）の使用量については、エステル交換反応の促進のため、エステル化合物（ＩＩＩ）とアルコール化合物（ＩＶ）のいずれか一方を過剰量用いることが好ましい。例えば、エステル化合物（ＩＩＩ）またはアルコール化合物（ＩＶ）のうち一方１モルに対する他方のモル比を０．０１倍モル以上、０．１倍モル以下とすることもできる。

【0059】

エステル交換反応においても、エステル化合物（ＩＩＩ）およびアルコール化合物（ＩＶ）は、ジクロロメタンの分解工程後に添加してもよいが、ジクロロメタンとエステル化合物（ＩＩＩ）との共存下でジクロロメタンの分解工程を行ってもよいし、ジクロロメタンとアルコール化合物（ＩＶ）との共存下でジクロロメタンの分解工程を行ってもよいし、ジクロロメタンとエステル化合物（ＩＩＩ）とアルコール化合物（ＩＶ）との共存下でジクロロメタンの分解工程を行ってもよい。

【0060】

また、ジクロロメタンの分解工程後、光照射と酸素供給を停止した上で、エステル化合物（ＩＩＩ）とアルコール化合物（ＩＶ）を反応させてもよい。光照射と酸素供給を停止した後も、反応系内にはジクロロメタンの分解物が残留しているので、エステル化合物（ＩＩＩ）とアルコール化合物（ＩＶ）の反応は促進される。また、光照射と酸素供給の停止により、ジクロロメタンの分解物の更なる分解や揮発が抑制される可能性もある。

【0061】

光照射と酸素供給の停止後の反応温度は、ジクロロメタンの分解工程の温度と同一であってもよいし、或いは反応促進のため高めてもよい。光照射と酸素供給の停止後の反応の温度としては、例えば、２０℃以上、１２０℃以下とすることができる。当該温度としては３０℃以上が好ましく、４０℃以上がより好ましく、また、１００℃以下または８０℃以下が好ましく、６０℃以下がより好ましい。或いは、加熱還流条件で反応を行ってもよい。

【0062】

光照射と酸素供給の停止後の反応の時間は、反応が十分に進行する範囲で適宜調整すればよいが、例えば、１時間以上、１００時間以下とすることができる。

【0063】

本発明は、カルボニル化合物とアルコール化合物からアセタール化合物を得る反応にも適用することができる。即ち、ジクロロメタンの分解工程を行い、ジクロロメタンの分解物の存在下、例えば、下記反応式の通り、カルボニル化合物（ＶＩ）とアルコール化合物（ＶＩＩ）を反応させることにより、アセタール化合物（ＶＩＩＩ）を製造することができる。なお、下記式の通りアルコール化合物として１，２－エタンジオールまたは１，３－プロパンジオールを用いた場合には、安定な２，５－ジオキソラン構造または２，６－ジオキサン構造が形成される。

【0064】

【化5】

［式中、
Ｒ⁹～Ｒ¹¹は独立して一価有機基を示し、
ｔは、２または３を示す。］

【0065】

上記反応式中のＲ⁹～Ｒ¹¹としては、アルコール化合物（Ｉ）中の一価有機基を挙げることができる。

【0066】

カルボニル化合物とアルコール化合物の量は、反応が良好に進行する範囲で適宜調整すればよい。例えば、一般的にアルコール化合物の方が安価であり、またアルコール化合物は溶媒としても使える場合があることから、カルボニル化合物１モルに対するアルコール化合物の割合を２倍モル以上、５０倍モル以下とすることができる。

【0067】

アセタール化合物の合成反応においても、カルボニル化合物およびアルコール化合物は、ジクロロメタンの分解工程後に添加してもよいが、アルコール化合物の水酸基の活性が酸触媒により高まる可能性があるため、ジクロロメタンとアルコール化合物との共存下でジクロロメタンの分解工程を行ってもよいし、ジクロロメタンとカルボニル化合物およびアルコール化合物との共存下でジクロロメタンの分解工程を行ってもよい。

【0068】

また、ジクロロメタンの分解工程後、光照射と酸素供給を停止した上で、カルボニル化合物およびアルコール化合物を反応させてもよい。光照射と酸素供給を停止した後も、反応系内にはジクロロメタンの分解物が残留しているので、カルボニル化合物およびアルコール化合物の反応は促進される。また、光照射と酸素供給の停止により、ジクロロメタンの分解物の更なる分解や揮発が抑制される可能性もある。

【0069】

光照射と酸素供給の停止後の反応温度は、ジクロロメタンの分解工程の温度と同一であってもよいし、或いは反応促進のため高めてもよい。光照射と酸素供給の停止後の反応の温度としては、例えば、２０℃以上、１２０℃以下とすることができる。当該温度としては３０℃以上が好ましく、４０℃以上がより好ましく、また、１００℃以下または８０℃以下が好ましく、６０℃以下がより好ましい。或いは、加熱還流条件で反応を行ってもよい。

【0070】

光照射と酸素供給の停止後の反応の時間は、反応が十分に進行する範囲で適宜調整すればよいが、例えば、１時間以上、１００時間以下とすることができる。

【0071】

本発明は、保護基であるＢｏｃ基の切断にも適用することができる。Ｂｏｃ基はアミノ基や水酸基の保護基として一般的なものであり、酸性条件で切断できるが、塩酸など水を含む酸で脱保護する際、例えばエステル系のカルボキシ基保護基など加水分解により切断される保護基は同時に切断され、選択的な脱保護ができないおそれがある。それに対して本発明によれば、水を介在させずにＢｏｃを選択的に保護することができる。よって本発明に係るＢｏｃ基の切断方法は、特にＢｏｃ基によりアミノ基および／または水酸基が保護されたアミノ酸やペプチドの脱保護に有用である。

【0072】

例えば、本発明に係るＢｏｃの切断による脱保護方法は、下記式で示される。

【化6】

［式中、
Ｒ¹²とＲ¹³は独立して一価有機基を示し、
Ｒ¹⁴はアミノ酸側鎖基を示し、
Ｒ¹⁵は、ＯＨ、ＯＲ¹⁶（式中、Ｒ¹⁶は、カルボキシ基の保護基または担体を示す）、または－［－ＮＨ－ＣＨＲ¹⁷－Ｃ（＝Ｏ）－］_s－Ｒ¹⁸（式中、Ｒ¹⁷はアミノ酸側鎖を示し、Ｒ¹⁸は、ＯＨ、またはＯＲ¹⁹（式中、Ｒ¹⁹は、カルボキシ基の保護基または担体を示す）を示し、ｓは１以上の整数を示し、ｓが２以上の整数の場合、複数のＲ¹⁷は互いに同一であっても異なってもよい）を示す。］

【0073】

Ｒ¹²とＲ¹³の一価有機基としては、アルコール化合物（Ｉ）中のＲ¹のうち一価有機基と同様の一価有機基が挙げられる。これら一価有機基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

【0074】

カルボキシ基の保護基としては、メチルエステル、エチルエステル、シクロヘキシルエステル、フェナシルエステル、アリルエステル等、アミノ酸中のカルボキシ基の一般的な保護基が挙げられる。

【0075】

担体としては、Ｆｍｏｃ－ＡＡ－Ｗａｎｇ ｒｅｓｉｎ、ＮｏｖａＳｙｎ ＴＧＡ ｒｅｓｉｎ、Ｒｉｎｋ ａｍｉｄｅ ＰＥＧＡ ｒｅｓｉｎ、ＮｏｖａＳｙｎ ＴＧＲ ｒｅｓｉｎ、Ｒｉｎｋ Ａｍｉｄｅ ＡＭ ｒｅｓｉｎ、Ｒｉｎｋ Ａｍｉｄｅ ＡＭ ｒｅｓｉｎ、Ｒｉｎｋ Ａｍｉｄｅ ＮｏｖａＧｅｌ、２－Ｃｈｌｏｒｏｔｒｉｔｙｌ ｃｈｌｏｒｉｄｅ ｒｅｓｉｎ、ＮｏｖａＳｙｎ ＴＧＴ ａｌｃｏｈｏｌ ｒｅｓｉｎ、Ｓｉｅｂｅｒ Ａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ等、ペプチドの固相合成で一般的に用いられている担体が挙げられる。

【0076】

アミノ酸側鎖基に含まれる反応性基は、ペプチド合成で一般的に用いられる保護基で保護されていてもよい。

【0077】

本発明に係る脱保護方法では、ジクロロメタンに酸素存在下で高エネルギー光を照射してジクロロメタンを分解し、ジクロロメタンの分解物により、Ｂｏｃ基により保護されているアミノ基および／または水酸基を有する化合物（以下、「アミノ基／水酸基含有化合物」という）からＢｏｃ基を切断してアミノ基／水酸基含有化合物を脱保護する。

【0078】

アミノ基／水酸基含有化合物をジクロロメタンのみで十分に溶解できない場合には、アミノ基／水酸基含有化合物を適度に溶解できる溶媒を用いてもよい。かかる溶媒としては、例えば、アセトニトリル等のニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒などが挙げられる。

【0079】

アミノ基／水酸基含有化合物、ジクロロメタン、および溶媒それぞれの量は、アミノ基／水酸基含有化合物が十分に溶解される範囲で適宜調整すればよいが、例えば、ジクロロメタンと溶媒の合計使用量に対するアミノ基／水酸基含有化合物の量を、１ｍｇ／ｍＬ以上、５００ｍｇ／ｍＬ以下とすることができる。当該量としては、５ｍｇ／ｍＬ以上が好ましく、１０ｍｇ／ｍＬ以上がより好ましく、２０ｍｇ／ｍＬ以上がより更に好ましく、また、２００ｍｇ／ｍＬ以下が好ましく、１００ｍｇ／ｍＬ以下がより好ましく、５０ｍｇ／ｍＬ以下がより更に好ましい。

【0080】

Ｂｏｃ基の切断反応においても、アミノ基／水酸基含有化合物はジクロロメタンの分解工程後に添加してもよいが、ジクロロメタンとアミノ基／水酸基含有化合物との共存下でジクロロメタンを分解してもよい。

【0081】

また、ジクロロメタンの分解工程後、光照射と酸素供給を停止した上で、ジクロロメタンの分解物によりアミノ基／水酸基含有化合物からのＢｏｃ基の切断を継続するか、或いはアミノ基／水酸基含有化合物を添加して脱保護を行ってもよい。光照射と酸素供給を停止した後も、反応系内にはジクロロメタンの分解物が残留しているので、アミノ基／水酸基含有化合物からのＢｏｃ基切断反応は促進される。また、光照射と酸素供給の停止により、ジクロロメタンの分解物の更なる分解や揮発が抑制される可能性もある。

【0082】

光照射と酸素供給の停止後の反応温度は、ジクロロメタンの分解工程の温度と同一であってもよいし、或いは反応促進のため高めてもよい。光照射と酸素供給の停止後の反応の温度としては、例えば、２０℃以上、１２０℃以下とすることができる。当該温度としては３０℃以上が好ましく、４０℃以上がより好ましく、また、１００℃以下または８０℃以下が好ましく、６０℃以下がより好ましい。或いは、加熱還流条件で反応を行ってもよい。

【0083】

光照射と酸素供給の停止後の反応の時間は、反応が十分に進行する範囲で適宜調整すればよいが、例えば、１時間以上、１００時間以下とすることができる。

【0084】

本発明方法では、反応後、一般的な後処理を行ってもよい。例えば、反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液などを加えて中和し、分液し、有機相を無水硫酸マグネシウムや無水硫酸ナトリウム等で乾燥した後、濃縮すればよい。分液時に有機相の量が少ない場合などには、ジクロロメタン、クロロホルム、酢酸エチル等の水不溶性有機溶媒を添加してもよい。また、炭酸水素ナトリウム水溶液の代わりに飽和食塩水を使ったり、有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水、水などで洗浄してもよい。得られた濃縮物から、クロマトグラフィーや再結晶などで目的化合物を更に精製してもよい。

【0085】

或いは、目的化合物が常温で固体である場合には、反応後反応液にｎ－ヘキサン等の貧溶媒を加えて目的化合物を析出させ、濾取し、更に貧溶媒で洗浄してから乾燥してもよい。得られた目的化合物は、クロマトグラフィーや再結晶などで更に精製してもよい。

【実施例】

【0086】

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。

【0087】

実施例１： 酢酸メチルの合成

【化7】

直径４２ｍｍ、容量１００ｍＬの筒状反応容器内に、直径３０ｍｍの石英ガラスジャケットを装入し、石英ガラスジャケット内に低圧水銀ランプ（「ＵＶＬ２０ＰＨ－６」ＳＥＮ Ｌｉｇｈｔ社製，２０Ｗ，φ２４×１２０ｍｍ）を装入した反応システムを構築した。気化した反応試薬や溶媒を再液化するための冷却器（０℃）をその筒状反応容器に取り付けた。当該反応システムの模式図を図１に示す。なお、当該低圧水銀ランプからの照射光には波長２５４ｎｍのＵＶ－Ｃが含まれ、管壁から５ｍｍの位置における波長２５４ｎｍの光の照度は６．２３～９．０７ｍＷ／ｃｍ²であった。
反応容器内にメタノール（２０ｍＬ，４９４ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（３．５ｍＬ，５５ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。
次いで、高エネルギー光の照射と酸素ガスの供給を停止し、当該サンプル溶液に酢酸（０．５７ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を添加して、２０℃で３時間撹拌した。
反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、変換率＞９９％で酢酸メチルが生成していることが確認された。

【0088】

実施例２： ノナン酸メチルの合成

【化8】

実施例１と同様の反応容器内にメタノール（３０ｍＬ，７４１ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（５．３ｍＬ，８２ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。次いで、高エネルギー光の照射と酸素ガスの供給を停止し、当該サンプル溶液にノナン酸（８．７３ｍＬ，５０ｍｍｏｌ）を添加して、５０℃で４時間撹拌した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、変換率＞９９％でノナン酸メチルが生成していることが確認された。

【0089】

実施例３： 酢酸２，２，２－トリフルオロエチルの合成

【化9】

実施例１と同様の反応容器内に２，２，２－トリフルオロエタノール（１０ｍＬ，１３９ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（０．９６ｍＬ，１５ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。次いで、高エネルギー光の照射と酸素ガスの供給を停止し、当該サンプル溶液に酢酸（０．５７ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を添加して、５０℃で６日間撹拌した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、変換率８９％で酢酸２，２，２－トリフルオロエチルが生成していることが確認された。

【0090】

実施例４： 酢酸２，２，３，３－テトラフルオロ－１－プロピルの合成

【化10】

実施例１と同様の反応容器内に２，２，３，３－テトラフルオロ－１－プロパノール（１０ｍＬ，１１２ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（０．８ｍＬ，１２ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。次いで、高エネルギー光の照射と酸素ガスの供給を停止し、当該サンプル溶液に酢酸（０．５７ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を添加して、５０℃で４日間撹拌した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、変換率８２％で酢酸２，２，３，３－テトラフルオロ－１－プロピルが形成していることが確認された。

【0091】

実施例５： イソ酪酸メチルの合成

【化11】

実施例１と同様の反応容器内にメタノール（２０ｍＬ，４９４ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（３．５ｍＬ，５５ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。次いで、高エネルギー光の照射と酸素ガスの供給を停止し、当該サンプル溶液にイソ酪酸（０．９３ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を添加し、５０℃で３時間撹拌した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、変換率＞９９％でイソ酪酸メチルが形成していることが確認された。

【0092】

実施例６： 酢酸メチルの合成

【化12】

実施例１と同様の反応容器内にメタノール（２０ｍＬ，４９４ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（３．５ｍＬ，５５ｍｍｏｌ）、および酢酸（０．５７ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を５時間照射した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、変換率＞９９％で酢酸メチルが形成していることが確認された。

【0093】

実施例７： 安息香酸メチルの合成

【化13】

実施例１と同様の反応容器内にメタノール（２０ｍＬ，４９４ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（３．５ｍＬ，５５ｍｍｏｌ）、および安息香酸（１．２２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を７時間照射した。次いで、高エネルギー光の照射と酸素ガスの供給を停止し、５０℃で更に３日間撹拌した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、変換率４３％で安息香酸メチルが形成していることが確認された。

【0094】

実施例８： エステル交換法による酢酸メチルの合成

【化14】

実施例１と同様の反応容器内にメタノール（２０ｍＬ，４９４ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（３．５ｍＬ，５５ｍｍｏｌ）、および酢酸エチル（０．９８ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を５時間照射した。次いで、高エネルギー光の照射と酸素ガスの供給を停止し、５０℃で更に２日間撹拌した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、変換率７４％で酢酸メチルが形成していることが確認された。

【0095】

比較例１： アルコールと酢酸の混合溶液の加熱によるエステル化反応

【化15】

５０ｍＬのナス型フラスコに、表１に示すアルコール（２０ｍＬ）と酢酸（０．５７ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を入れ、５０℃で２４時間撹拌した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、目的の酢酸エステルへの変換率は表１に示す通りであった。表１に示される結果の通り、触媒無しで加熱のみではエステル化反応は進行し難いことが明らかとなった。

【0096】

【表1】

【0097】

比較例２： メタノールと安息香酸の混合溶液の加熱によるエステル化反応

【化16】

５０ｍＬのナス型フラスコにメタノール（２０ｍＬ，４９４ｍｍｏｌ）と安息香酸（１．２２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を入れ、５０℃で２４時間撹拌した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したが、生成物は確認されなかった。

【0098】

実施例９： ＢＯＣ保護アミノ酸の脱保護反応

【化17】

実施例１と同様の反応容器内にＮ－（ｔ－ブトキシカルボニル）－Ｌ－フェニルアラニンメチルエステル（１．４ｇ，５ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（３０ｍＬ，４６８ｍｍｏｌ）、およびアセトニトリル（１０ｍＬ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２５℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を４時間照射した。次いで、当該反応液にｎ－ヘキサンを添加すると、白色の沈殿が析出した。吸引ろ過によって沈殿物を濾取して、真空乾燥させることによって、Ｌ－フェニルアラニンメチル塩酸塩を４８％単離収率で得た。

【0099】

実施例１０： オクタフルオロアジピン酸ジメチルの合成

【化18】

実施例１と同様の反応容器内にメタノール（２０ｍＬ，５２０ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（３．５ｍＬ，５６ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。次いで、反応液にオクタフルオロアジピン酸（２２ｇ，７６ｍｍｏｌ）を添加し、５０℃で２日間撹拌した。反応液にジクロロメタンと水を加えて分液し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、エバポレータを用いて溶媒を留去した。得られた残渣を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、目的化合物であるオクタフルオロアジピン酸ジメチルが生成していることを確認できた（収率＞９９％）。

【0100】

実施例１１： アジピン酸ビス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］の合成

【化19】

実施例１と同様の反応容器内にジエチレングリコールモノメチルエーテル（３２．４ｍＬ，３３０ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（３．５ｍＬ，５６ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。次いで、当該反応液にアジピン酸（１．４６ｇ，１０ｍｍｏｌ）を添加し、５０℃で２日間撹拌した。反応液から未反応のジエチレングリコールモノメチルエーテルを減圧留去し、残渣にジクロロメタンと水を加えて分液し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、エバポレータを用いて溶媒を留去し、更に１００℃で真空乾燥した。得られた残渣を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、目的化合物であるアジピン酸ビス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］が生成していることを確認できた（収率：５６％）。

【0101】

実施例１２： １，４－ブタンジオールとアジピン酸からのポリエステルの合成

【化20】

実施例１と同様の反応容器内に１，４－ブタンジオール（４．５ｍＬ，５０ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（０．３２ｍＬ，５．６ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。次いで、当該反応液にアセトニトリル（２０ｍＬ）に溶解させたアジピン酸（７．３ｇ，５０ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、９０℃で２日間撹拌した。反応液にジクロロメタンと水を添加して分液し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、エバポレータを用いて溶媒を留去した。得られた薄黄色オイルを¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、目的のポリエステルが生成していることを確認できた（収率：６４％）。
得られたポリエステルをＨＰＬＣにより分析し、数平均分子量Ｍｎ（ポリスチレン標準）と重量平均分子量Ｍｗを求めた。結果を表２に示す。

【0102】

【表2】

【0103】

実施例１３： １，４－ブタンジオールとアジピン酸からのポリエステルの合成

【化21】

実施例１と同様の反応容器内にテトラエチレングリコール（８．７ｍＬ，５０ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（０．８ｍＬ，１３ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。次いで、当該反応液に、２０ｍＬのアセトニトリルに溶解させたアジピン酸（７．３ｇ，５０ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、９０℃で２日間撹拌した。反応液にジクロロメタンと水を添加して分液し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、エバポレータを用いて溶媒を留去した。得られた薄黄色オイルを¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、目的のポリエステルが形成していることを確認できた（収率：４４％）。
得られたポリエステルをＨＰＬＣにより分析し、数平均分子量Ｍｎ（ポリスチレン標準）と重量平均分子量Ｍｗを求めた。結果を表３に示す。

【0104】

【表3】

【0105】

実施例１４： シクロヘキサノンのアセタール保護

【化22】

実施例１と同様の反応容器内にエチレングリコール（２０ｍＬ，３６０ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（２．５ｍＬ，４０ｍｍｏｌ）を入れ、攪拌混合した。当該反応液を攪拌しつつ、２０℃で０．５Ｌ／ｍｉｎの酸素ガスをバブリングで吹き込み、ＵＶ－Ｃを含む高エネルギー光を３時間照射した。次いで、当該反応液にシクロヘキサノン（１．０ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を添加し、３時間加熱還流した。反応液を¹Ｈ ＮＭＲで分析したところ、目的の１，４－ジオキサスピロ［４．５］デカンが生成しており、シクロヘキサノンのカルボニル基が保護されていることが確認された（変換率＞９９％）。

【符号の説明】

【0106】

１： 反応容器， ２： 高エネルギー光照射手段， ３： 水浴，
４： ジャケット， ５： 攪拌子， ６： 冷却管

【図1】