特許 7605275 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-12-16

(45)【発行日】2024-12-24

(54)【発明の名称】光学フィルム、偏光板、および画像表示装置

(51)【国際特許分類】

   G02B 5/30 20060101AFI20241217BHJP

   H10K 50/86 20230101ALI20241217BHJP

   H10K 59/10 20230101ALI20241217BHJP

   B32B 7/023 20190101ALI20241217BHJP

   B32B 27/18 20060101ALI20241217BHJP

   G09F 9/00 20060101ALI20241217BHJP

   G02B 1/14 20150101ALI20241217BHJP

   G02F 1/1335 20060101ALN20241217BHJP

【ＦＩ】

G02B5/30

H10K50/86

H10K59/10

B32B7/023

B32B27/18 A

G09F9/00 307A

G09F9/00 313

G02B1/14

G02F1/1335 510

【請求項の数】 7

(21)【出願番号】P 2023189158

(22)【出願日】2023-11-06

(62)【分割の表示】P 2019239844の分割

【原出願日】2019-12-27

(65)【公開番号】P2024021081

(43)【公開日】2024-02-15

【審査請求日】2023-11-09

(31)【優先権主張番号】P 2018247909

(32)【優先日】2018-12-28

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(31)【優先権主張番号】P 2019028249

(32)【優先日】2019-02-20

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002897

【氏名又は名称】大日本印刷株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003421

【氏名又は名称】弁理士法人フィールズ国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】磯嶋 征一

(72)【発明者】

【氏名】堀井 佳奈

(72)【発明者】

【氏名】野村 崇尚

(72)【発明者】

【氏名】堀尾 智之

【審査官】池田 博一

(56)【参考文献】

【文献】韓国公開特許第１０－２０１９－０１１８７９１（ＫＲ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０２Ｂ ５／３０

Ｈ１０Ｋ ５０／８６

Ｈ１０Ｋ ５９／１０

Ｂ３２Ｂ ７／０２３

Ｂ３２Ｂ ２７／１８

Ｇ０９Ｆ ９／００

Ｇ０２Ｂ １／１４

Ｇ０２Ｆ １／１３３５

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

光透過性基材および単層構造の機能層を備える光学フィルムであって、
前記光透過性基材が、光透過性樹脂を含み、
前記機能層が、電離放射線重合性化合物の重合物を含む樹脂と、窒素原子を含む紫外線吸収剤と、フッ素原子含有化合物およびケイ素原子含有化合物の少なくともいずれかと、を含み、
前記機能層の膜厚が、１μｍ以上１０μｍ以下であり、
前記機能層において、飛行時間型二次イオン質量分析法により前記機能層の深さ方向の二次イオンの強度を測定したとき、前記機能層の表面を含む厚さ０．３μｍの第１領域における前記紫外線吸収剤由来の窒素を含む二次イオンの強度に対する前記機能層の前記深さ方向に前記機能層を二等分する二等分線を含む厚さ０．３μｍの第２領域における前記紫外線吸収剤由来の窒素を含む二次イオンの強度の比が１．１以上４．０以下であり、かつ前記第２領域における前記紫外線吸収剤由来の窒素を含む二次イオンの強度に対する前記機能層の裏面を含む厚さ０．３μｍの第３領域における前記紫外線吸収剤由来の窒素を含む二次イオンの強度の比が１．２以上４．０以下である、光学フィルム。

【請求項2】

前記第１領域における前記紫外線吸収剤由来の窒素を含む二次イオンの最小強度が、前記機能層における前記第１領域の前記光透過性樹脂基材側の境界から前記裏面までの第４領域における前記紫外線吸収剤由来の窒素を含む二次イオンの最小強度よりも小さい、請求項１に記載の光学フィルム。

【請求項3】

前記機能層が、前記フッ素原子含有化合物を含み、前記飛行時間型二次イオン質量分析法により測定された前記第１領域における前記フッ素原子含有化合物由来の二次イオンの強度が、前記第２領域および前記第３領域における前記フッ素原子含有化合物由来の二次イオンのそれぞれの強度よりも大きい、請求項１または２に記載の光学フィルム。

【請求項4】

前記機能層が、前記ケイ素原子含有化合物を含み、前記飛行時間型二次イオン質量分析法により測定された前記第１領域における前記ケイ素原子含有化合物由来の二次イオンの強度が、前記第２領域および前記第３領域における前記ケイ素原子含有化合物由来の二次イオンのそれぞれ強度よりも大きい、請求項１または２に記載の光学フィルム。

【請求項5】

請求項１ないし４のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの一方の面側に設けられた偏光子と、
を備える、偏光板。

【請求項6】

表示素子と、
前記表示素子よりも観察者側に配置された請求項１ないし４のいずれか一項に記載の光学フィルムまたは請求項５に記載の偏光板と、
を備える、画像表示装置。

【請求項7】

前記表示素子が、有機発光ダイオード素子である、請求項６に記載の画像表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光学フィルム、偏光板、および画像表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、表示素子として、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）素子を用いたスマートフォン
等の画像表示装置の開発が進んでいる。有機発光ダイオード素子を用いた画像表示装置は
、液晶表示装置に代表される受光型の表示装置とは異なり、自発光型の表示装置であり、
バックライト装置などの光源が不要であるため、薄型化および軽量化を図ることが可能で
ある。

【0003】

一方で、ＯＬＥＤ素子は、紫外線によって劣化することがあるので、画像表示装置に組
み込まれている光学フィルムの粘着層等の機能層には、紫外線吸収剤が含まれていること
がある（例えば、特許文献１、２参照）。

【0004】

また、特許文献２には、紫外線吸収剤を含む硬化層上に、実質的に紫外線吸収剤を含ま
ないか、または紫外線吸収剤の含有量が硬化層よりも少ないオーバーコート層を設けるこ
とが開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開２０１７－１５５２１３号公報

【文献】特開２０１６－２００７０９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

現在、画像表示装置においては、更なる薄型化が求められている。このため、画像表示
装置に組み込まれている光学フィルムの薄型化も求められている。上記薄型化の要求に対
し、光学フィルムの機能層の薄膜化が検討されている。

【0007】

しかしながら、単に、機能層の膜厚を薄くすると、機能層中の紫外線吸収剤の濃度が高
くなってしまい、機能層を形成するための紫外線によって重合する重合性化合物の反応率
が低下してしまう。このため、紫外線吸収剤を含む機能層とこの機能層に隣接する他の機
能層との密着性が低くなってしまう。

【0008】

また、単に、機能層の膜厚を薄くすると、機能層中の紫外線吸収剤の濃度が高くなって
しまい、機能層の表面硬度および耐擦傷性が低下するおそれがある。なお、表面硬度や耐
擦傷性が低下すると、加工工程で傷が生じやすくなる。

【0009】

また、機能層中の紫外線吸収剤の濃度が高くなると、紫外線吸収剤が析出しやすくなり
、耐久性が低下してしまうおそれがある。

【0010】

なお、特許文献２のように硬化層およびオーバーコート層のような機能層が２層積層さ
れている場合において、機能層の合計の膜厚が薄い場合、これらの２層間で極端に紫外線
吸収剤の濃度差が生じると、耐久試験時に紫外線吸収剤が多く含まれている機能層と紫外
線吸収剤が少ない機能層との間の熱収縮差によりクラックが生じるおそれがある。

【0011】

本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、薄型化を図るこ
とができ、かつ第１機能層と第２機能層の密着性を向上させることができる光学フィルム
、このような光学フィルムを備える偏光板および画像表示装置を提供することを目的とす
る。

【0012】

また、薄型化を図ることができ、かつ良好な表面硬度、良好な耐擦傷性および良好な耐
久性を有する光学フィルム、このような光学フィルムを備える偏光板および画像表示装置
を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0013】

本発明は、以下の発明を含む。
［１］光透過性基材、第１機能層、および第２機能層をこの順に備える光学フィルムであ
って、前記光透過性基材が、トリアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー
系樹脂、および（メタ）アクリル系樹脂の少なくともいずれかを含み、前記第１機能層お
よび前記第２機能層の少なくともいずれかが、紫外線吸収剤を含み、前記第１機能層と前
記第２機能層の間に設けられ、前記第１機能層および前記第２機能層に隣接し、かつ前記
第１機能層の成分および前記第２機能層の成分を含む混合層をさらに備え、前記第１機能
層、前記第２機能層および前記混合層の合計膜厚が、１μｍ以上１０μｍ以下であり、前
記第１機能層、前記第２機能層および前記混合層の合計膜厚に対する前記混合層の膜厚の
割合が、０．６％以上４０％以下である、光学フィルム。

【0014】

［２］光透過性基材、第１機能層、および第２機能層をこの順に備える光学フィルムであ
って、前記第１機能層および前記第２機能層の少なくともいずれかが、紫外線吸収剤を含
み、前記第１機能層と前記第２機能層の間に設けられ、前記第１機能層および前記第２機
能層に隣接し、かつ前記第１機能層の成分および前記第２機能層の成分を含む混合層をさ
らに備え、前記第１機能層、前記第２機能層および前記混合層の合計膜厚が、１μｍ以上
１０μｍ以下であり、前記混合層の膜厚が、０．０２μｍ以上１μｍ以下である、光学フ
ィルム。

【0015】

［３］前記混合層が、前記光透過性基材の一方の面に少なくとも重合性化合物を含む第１
機能層用組成物の第１塗膜を塗布して第１塗膜を形成し、前記第１塗膜を半硬化させ、半
硬化させた前記第１塗膜に少なくとも重合性化合物を含む第２機能層用組成物の第２塗膜
を形成し、前記第１塗膜および前記第２塗膜を硬化させることによって形成される、上記
［１］または［２］に記載の光学フィルム。

【0016】

［４］前記混合層の膜厚が、０．１μｍ以上である、上記［１］ないし［３］のいずれか
一項に記載の光学フィルム。

【0017】

［５］前記第１機能層および前記第２機能層が、いずれも前記紫外線吸収剤を含む、上記
［１］ないし［４］のいずれか一項に記載の光学フィルム。

【0018】

[６]前記第１機能層が、前記紫外線吸収剤を含み、前記第１機能層のインデンテーション
硬さが、５０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下である、上記[１]に記載の光学フィルム。

【0019】

[７]光透過性基材および機能層を備える光学フィルムであって、前記機能層が、窒素原子
を含む紫外線吸収剤を含み、前記機能層の膜厚が、１μｍ以上１０μｍ以下であり、前記
機能層において、飛行時間型二次イオン質量分析法により前記機能層の深さ方向の二次イ
オンの強度を測定したとき、前記機能層の表面を含む厚さ０．３μｍの第１領域における
前記紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度に対する前記機能層の前記深さ方向に前記機能
層を二等分する二等分線を含む厚さ０．３μｍの第２領域における前記紫外線吸収剤由来
の二次イオンの強度の比が１．１以上４．０以下であり、かつ前記第２領域における前記
紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度に対する前記機能層の裏面を含む厚さ０．３μｍの
第３領域における前記紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度の比が１．２以上４．０以下
である、光学フィルム。

【0020】

[８]前記第１領域における前記紫外線吸収剤由来の二次イオンの最小強度が、前記機能層
における前記第１領域の前記光透過性基材側の境界から前記裏面までの第４領域における
前記紫外線吸収剤由来の二次イオンの最小強度よりも小さい、上記[７]に記載の光学フィ
ルム。

【0021】

[９]前記機能層が、フッ素原子含有化合物およびケイ素原子含有化合物の少なくともいず
れかを含む、上記[７]または[８]に記載の光学フィルム。

【0022】

[１０]前記機能層が、前記フッ素原子含有化合物を含み、前記飛行時間型二次イオン質量
分析法により測定された前記第１領域における前記フッ素原子含有化合物由来の二次イオ
ンの強度が、前記第２領域および前記第３領域における前記フッ素原子含有化合物由来の
二次イオンのそれぞれの強度よりも大きい、上記[９]に記載の光学フィルム。

【0023】

[１１]前記機能層が、前記ケイ素原子含有化合物を含み、前記飛行時間型二次イオン質量
分析法により測定された前記第１領域における前記ケイ素原子含有化合物由来の二次イオ
ンの強度が、前記第２領域および前記第３領域における前記ケイ素原子含有化合物由来の
二次イオンのそれぞれ強度よりも大きい、上記[９]または[１０]に記載の光学フィルム。

【0024】

[１２]上記［１］ないし［１１］のいずれか一項に記載の光学フィルムと、前記光学フィ
ルムの一方の面側に設けられた偏光子と、を備える、偏光板。

【0025】

［１３］表示素子と、前記表示素子よりも観察者側に配置された上記［１］ないし［１１
］のいずれか一項に記載の光学フィルムまたは上記［１２］に記載の偏光板と、を備える
、画像表示装置。

【0026】

［１４］前記表示素子が、有機発光ダイオード素子である、上記［１３］に記載の画像表
示装置。

【発明の効果】

【0027】

本発明の一の態様によれば、薄型化を図ることができ、かつ第１機能層と第２機能層の
密着性を向上させることができる光学フィルム、このような光学フィルムを備える偏光板
および画像表示装置を提供することができる。

【0028】

本発明の他の態様によれば、薄型化を図ることができ、かつ良好な表面硬度、良好な耐
擦傷性および良好な耐久性を有する光学フィルム、このような光学フィルムを備える偏光
板および画像表示装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0029】

【図1】図１は、第１実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。

【図2】図２（Ａ）～図２（Ｃ）は、折り畳み試験の様子を模式的に示した図である。

【図3】図３は、折り畳み試験に用いるサンプルの平面図である。

【図4】図４（Ａ）および図４（Ｂ）は、第１実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。

【図5】図５（Ａ）および図５（Ｂ）は、第１実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。

【図6】図６は、第１実施形態に係る偏光板の概略構成図である。

【図7】図７は、第１実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。

【図8】図８は、第２実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。

【図9】図９は、図８の光学フィルムの一部拡大図である。

【図10】図１０は、面内位相差を測定する位置を特定するためのサンプルの平面図である。

【図11】図１１（Ａ）および図１１（Ｂ）は、第２実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。

【図12】図１２（Ａ）および図１２（Ｂ）は、第２実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。

【図13】図１３は、第２実施形態に係る偏光板の概略構成図である。

【図14】図１４は、第２実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。

【図15】図１５は、実施例Ｂ１に係る光学フィルムにおける飛行時間型二次イオン質量分析法により測定されたハードコート層のデプスプロファイルである。

【発明を実施するための形態】

【0030】

[第１実施形態]
以下、本発明の第１実施形態に係る光学フィルムおよび画像表示装置について、図面を
参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称
の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィ
ルム」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図１は、本実施形態に
係る光学フィルムの概略構成図であり、図２（Ａ）～図２（Ｃ）は、折り畳み試験の様子
を模式的に示した図であり、図３は、折り畳み試験に用いるサンプルの平面図である。図
４および図５は、本実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。

【0031】

＜＜＜＜光学フィルム＞＞＞＞
図１に示される光学フィルム１０は、光透過性基材１１、第１機能層１２および第２機
能層１３をこの順で備えている。光学フィルム１０は、第１機能層１２と第２機能層１３
の間に形成された混合層１４をさらに備えている。本明細書における「機能層」とは、光
学フィルムにおいて、何らかの機能を発揮することを意図された層である。具体的には、
機能層としては、例えば、光透過性基材との密着性を向上させるための下地層、ハードコ
ート層、分光透過率調整層、防眩層、不可視化層、屈折率調整層、防汚層またはこれらの
組み合わせ等が挙げられる。本実施形態における「機能層」は、単層構造のものである。

【0032】

光学フィルム１０の厚み（全体厚み）は、５μｍ以上８０μｍ以下となっていることが
好ましい。光学フィルム１０の厚みが５μｍ以上であれば、所望の鉛筆硬度を得ることが
でき、また８０μｍ以下であれば、光学フィルム１０の薄型化を図ることができる。また
、このように光学フィルム１０の厚みを制御することにより、光学フィルム１０を画像表
示装置に組み込んだ際に画像表示装置全体の厚みを薄くすることが可能となり、その結果
、軽量化も可能となる。光学フィルム１０の厚みの下限は、光学フィルム１０の機械強度
の確保の観点から、８μｍ以上、１０μｍ以上、または１５μｍ以上が好ましい。また、
光学フィルム１０の更なる薄型化を図る観点から、５０μｍ以下、４０μｍ以下、または
３０μｍ以下が好ましい。

【0033】

また、後述するように光学フィルム１０にフレキシブル性を付与するためには、光透過
性基材１１の樹脂系にもよるが、光学フィルム１０の厚みは、７３μｍ以下、更には６３
μｍ以下が好ましい。特に、後述する折り畳み試験での辺部の間隔φが小さくても、折り
畳み方向に寄らない観点から、光学フィルム１０の厚みは、４８μｍ以下、更には４３μ
ｍ以下が好ましい。また、フレキシブル性を得る一方で、機械強度も確保したいため、光
学フィルム１０の厚みは２１μｍ以上、更には２８μｍ以上が好ましい。

【0034】

第１機能層１２、第２機能層１３および混合層１４の合計膜厚は、１μｍ以上１０μｍ
以下となっている。この合計膜厚が１μｍ以上であれば、これらの層において強固な密着
性を確保できる。またこの合計膜厚が１０μｍ以下であれば、薄型化を図ることができる
。ここで、本発明の光学フィルムにおいては、厚みの大部分を光透過性基材で占められて
いる。したがって、最終的な画像表示装置の設計によっては、光透過性基材を薄くできな
い場合もある。このような場合、混合層１４の厚みを薄くしない限り、上記したような光
学フィルム全体の厚みを８０μｍ以下や、特にフレキシブル性が良好となる５０μｍ以下
にすることが困難となる。従来においては、例えば１０μｍの単層の機能層で十分な機能
を確保しようとすると、機能層に機能を発揮する成分を大量に添加しなくてはならず、そ
の結果、機能層中の光透過性基材との密着性を付与できる成分が不足してしまい、良好な
密着性は到底得られない。このため、光透過性基材との密着性を付与する成分の量を得る
ためには、機能層中の機能を発揮する成分の濃度を低下させる必要がある。この成分の濃
度を低下させた状態で、上述したような１０μｍの単層の機能層で得られたような十分な
機能を確保しようする場合には、機能層の膜厚を増やさざるを得ない。また、従来におい
ては、上記したように光透過性基材との密着性を付与する成分が不足しているため、光学
フィルムの物理的強度も不足していた。

【0035】

この合計膜厚の下限は、機械的強度の確保の観点から、１．５μｍ以上、２μｍ以上、
または２．５μｍ以上であることが好ましい。また、この合計膜厚の上限は、更なる薄型
化を図る観点から、９μｍ以下、８μｍ以下、または５μｍ以下となっていてもよい。

【0036】

図１に示される光学フィルム１０の表面１０Ａは、第２機能層１３の表面１３Ａとなっ
ている。ただし、第２機能層の表面に第３機能層が形成されている場合には、光学フィル
ムの表面は、第３機能層の表面となる。本明細書における「機能層の表面」とは、機能層
における光透過性基材側の面とは反対側の面を意味するものとする。

【0037】

光学フィルム１０においては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１０％未満となっ
ていることが好ましい。光学フィルム１０の波長３８０ｎｍにおける分光透過率が、１０
％未満であれば、偏光子の光劣化を抑制できる。上記波長３８０ｎｍにおける分光透過率
は、偏光子の光劣化をより抑制する観点から、８％以下、５％以下、または１％以下であ
ることがより好ましい。

【0038】

光学フィルム１０においては、波長４１０ｎｍにおける分光透過率が２０％以下となっ
ていることが好ましい。光学フィルム１０の波長４１０ｎｍにおける分光透過率が、２０
％以下であれば、表示素子、例えばＯＬＥＤ素子の光劣化をより抑制できる。上記波長４
１０ｎｍにおける分光透過率は、表示素子の光劣化を抑制する観点から、１８％以下、１
５％以下、または１０％以下であることがより好ましい。

【0039】

光学フィルム１０においては、波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７５％以上となっ
ていることが好ましい。光学フィルム１０の波長４４０ｎｍにおける分光透過率が、７５
％以上であれば、着色による視認性低下を抑制できる。上記波長４４０ｎｍにおける分光
透過率は、着色による視認性低下をより抑制する観点から、７８％以上、８０％以上、ま
たは８５％以上であることがより好ましい。

【0040】

上記分光透過率は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、透過率
を０．５ｎｍ刻みにて測定可能な分光光度計（製品名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島津
製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内に光学フィルムの光透過性
基材側が光源側となるように配置した状態で、以下の測定条件で、波長３８０ｎｍ、４１
０ｎｍ、および４４０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率
を測定し、その平均値を算出することによって求めるものとする。なお、波長３８０ｎｍ
、４１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおける分光透過率は、それぞれ３回測定して得られた
値の算術平均値とする。また、分光透過率のスペクトルにうねりが出るようであれば、デ
ルタ５．０ｎｍでスムージング処理を行ってもよい。また、光学フィルムを上記大きさに
切り出すことができない場合には、１５ｍｍ×４０ｍｍの大きさ以上であれば、上記大き
さでなくともよい。
（測定条件）
・波長域：３００ｎｍ～７８０ｎｍ
・スキャン速度：高速
・スリット幅：２．０
・サンプリング間隔：オート（０．５ｎｍ間隔）
・照明：Ｃ
・光源：Ｄ２およびＷＩ
・視野：２°
・光源切替波長：３６０ｎｍ
・Ｓ／Ｒ切替：標準
・検出器：ＰＭ
・オートゼロ：ベースラインのスキャン後５５０ｎｍにて実施
・温度：２３±５℃
・相対湿度：３０％以上７０％以下

【0041】

光学フィルム１０の分光透過率は、波長３８０ｎｍまでは１％未満と極めて低く、波長
４１０ｎｍから徐々に大きくなり、波長４４０ｎｍ付近で急激に大きくなっていてもよい
。具体的には、例えば、光学フィルム１０では、波長３８０ｎｍから４４０ｎｍの間で分
光透過率がシグモイド型の曲線を描くように変化していてもよい。

【0042】

光学フィルム１０は、ブルーライトの遮蔽率が２０％以上であることが好ましい。ブル
ーライトの遮蔽率が２０％以上であれば、後述するブルーライトに起因した問題が充分に
解消できる。上記ブルーライトの遮蔽率は、例えば、まず、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさ
に切り出した光学フィルムを、分光透過率を０．５ｎｍ刻みにて測定可能な分光光度計（
製品名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重
水素ランプ）内に光学フィルムの光透過性基材側が光源側となるように配置した状態で、
波長３００ｎｍ～７８０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過
率を測定する。そして、ブルーライトカット率（％）をＡとし、波長３８０ｎｍ～５００
ｎｍの透過率の平均値（％）をＢとし、波長５００ｎｍ～６５０ｎｍの透過率の平均値（
％）をＣとして、ブルーカット率を下記数式（１）によって求める。なお、ブルーライト
の遮蔽率は、３回測定して得られた値の算術平均値とする。また、分光透過率の測定条件
は、上記波長３８０ｎｍ、４１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおける分光透過率の測定条件
と同様である。
Ａ＝｛１－（Ｂ／Ｃ）｝×１００ …（１）

【0043】

光学フィルム１０は、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい
。光学フィルム１０のＹＩが１５以下であれば、光学フィルム１０の黄色味を抑制でき、
透明性が求められる用途にも適用できる。イエローインデックス（ＹＩ）は、５０ｍｍ×
５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、温度２３±５℃および相対湿度３０％以
上７０％以下の環境下で、分光光度計（製品名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島津製作所
製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内に光透過性基材側が光源側となる
ように配置した状態で測定した光学フィルムの波長３００ｎｍ～７８０ｎｍの透過率から
、ＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを
計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ Ｄ１９２５：１９６２に記載された演算式に
従って算出される値である。イエローインデックス（ＹＩ）は、光学フィルム１枚に対し
て波長３００ｎｍ～７８０ｎｍの透過率を３回測定することによって３回算出し、３回算
出して得られた値の算術平均値とする。なお、ＵＶ－２４５０においては、イエローイン
デックスは、ＵＶ－２４５０に接続されたパーソナルコンピュータ（ＰＣ）上で、上記透
過率の測定データを読み込み、計算項目にて「ＹＩ」の項目にチェックを入れることによ
って算出される。波長３００ｎｍ～７８０ｎｍの透過率の測定条件は、上記波長３８０ｎ
ｍ、４１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおける分光透過率の測定条件と同様である。ＹＩの
下限は、本来は高透明性の確保という観点から低い方が好ましいが、紫外線吸収性能も付
与することを考えると、１以上、２以上、または３以上であることがより好ましい。ただ
し、ＹＩが大きすぎると今度は黄色味が強くなってしまう場合がある。このため、ＹＩの
上限は、光学フィルム１０の黄色味をより抑制する観点から、１０以下、７以下、または
６以下であることがより好ましい。

【0044】

光学フィルム１０は、全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。光学フィルム
１０の全光線透過率が８０％以上であれば、充分な光学的性能を得ることができる。光学
フィルム１０の全光線透過率は、光学的性能をより得る観点から、８８％以上、８９％以
上、または９０％以上であることがより好ましい。

【0045】

上記全光線透過率は、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で
、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ－１５
０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いて、光学フィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの
大きさに切り出した後、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で光透過性基材が
光源側となるように設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定を行い、３回測定して得
られた値の算術平均値とする。本明細書における「３回測定する」とは、同じ場所を３回
測定するのではなく、異なる３箇所を測定することを意味するものとする。光学フィルム
１０は、目視した表面は平坦であり、かつ第１機能層１２等の積層する層も平坦であり、
また厚みのばらつきも厚みの平均値の±１０％の範囲内、好ましくは±５％の範囲内に収
まる。したがって、切り出した光学フィルムの異なる３箇所の全光線透過率を測定するこ
とで、おおよその光学フィルムの面内全体の全光線透過率の平均値が得られると考えられ
る。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ－１５０は
測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるような大きさの
サンプルが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光学フィルムを適
宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範
囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。光学フィルム
１０においては、得られる全光線透過率のばらつきは、測定対象が１ｍ×３０００ｍと長
尺であっても、５インチのスマートフォン程度の大きさであっても、全光線透過率の平均
値の±１０％以内である。

【0046】

光学フィルム１０は、ヘイズ値（全ヘイズ値）が１％以下であることが好ましい。光学
フィルム１０のヘイズ値が１％以下であれば、光学フィルム１０をモバイル機器に用いた
場合、画面の白化を抑制できる。光学フィルム１０のヘイズ値の上限は、白化をより抑制
する観点から、０．５％以下、０．４％以下、０．３％以下、または０．２％以下である
ことがより好ましい。

【0047】

上記ヘイズ値は、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で、ヘ
イズメーター（製品名「ＨＭ－１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩ
Ｓ Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。具体的には、ヘ
イズ値は、全光線透過率の測定方法と同様の方法により測定する。

【0048】

光学フィルム１０の表面１０Ａにおける鉛筆硬度は、３Ｂ～２Ｈであることが好ましい
。鉛筆硬度試験は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面に対
し鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精
機製作所製）を用いて、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で
、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に３００ｇの荷重を加えながら３ｍｍ／
秒の移動速度で移動させることにより行うものとする。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験におい
て光学フィルム１０の表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測
定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験
を行い、５回のうち４回以上光学フィルム１０の表面に傷が付かなかった場合には、この
硬度の鉛筆においては光学フィルム１０の表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は
、鉛筆硬度試験を行った光学フィルム１０の表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるも
のを指す。

【0049】

温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で、光学フィルム１０に
対し光学フィルム１０の対向する辺部の間隔φが６ｍｍとなり、かつ第２機能層１３が内
側となるように１８０°折り畳む試験（折り畳み試験）を１０万回、２０万回、５０万回
、または１００万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断
が生じないことが好ましい。光学フィルム１０に対し折り畳み試験を１０万回繰り返し行
った場合に、光学フィルム１０に割れや破断等が生じると、光学フィルム１０の折り畳み
性が不充分となる。なお、上記折り畳み回数が多いほど、割れやすくまたは破断しやすく
なるので、上記折り畳み回数が２０万回、３０万回、５０万回または１００万回の折り畳
み試験後の光学フィルムにおいて割れや破断しないことは、上記折り畳み回数が１０万回
の折り畳み試験後の光学フィルムにおいて割れまたは破断が生じないことに対して技術的
に顕著な差がある。また、上記折り畳み試験の折り畳み回数を少なくとも１０万回で評価
しているのは、以下の理由からである。例えば、光学フィルムを折り畳み可能なスマート
フォンに組み込むことを想定すると、折り畳みを行う頻度（開閉する頻度）が非常に多く
なる。このため、上記折り畳み試験の折り畳み回数を例えば１万回や５万回とする評価で
は、実用的なレベルでの評価を行うことができないおそれがある。具体的には、例えば、
常にスマートフォンを使用する人を想定すると、朝、電車やバス等の通勤時だけでも５回
～１０回はスマートフォンを開閉することが想定されるので、１日だけでも少なくとも３
０回はスマートフォンを開閉することが想定される。したがって、スマートフォンを１日
３０回開閉することを想定すると、折り畳み回数が１万回の折り畳み試験は、３０回×３
６５日＝１０９５０回となるので、１年間の使用を想定した試験となる。すなわち、折り
畳み回数が１万回の折り畳み試験の結果が良好であったとしても、１年経過後は、光学フ
ィルムに割れや破断が生じるおそれがある。したがって、折り畳み試験における折り畳み
回数が１万回の評価とは、製品として使用できないレベルしか確認できないものであり、
使用できるが不十分なものも良好となってしまい、評価することができない。このため、
実用的なレベルであるか否かを評価するためには、上記折り畳み試験の折り畳み回数は少
なくとも１０万回で評価する必要がある。また、光学フィルム１０に対し光学フィルム１
０の対向する辺部の間隔φが６ｍｍとなり、かつ第２機能層１３が外側となるように光学
フィルム１０を１０万回折り畳む場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が
生じないことがより好ましい。

【0050】

上記折り畳み試験においては、光学フィルム１０の対向する辺部の間隔φが６ｍｍの状
態で行うが、画像表示装置の薄型化を図る観点から、光学フィルム１０の対向する辺部の
間隔φは、更に狭い範囲、具体的には４ｍｍとなるように１０万回繰り返し１８０°折り
畳む折り畳み試験を行った場合であっても、割れまたは破断が生じないことがより好まし
い。なお、上記折り畳み回数が同じであっても、上記間隔φが狭くなるほど、割れまたは
破断が生じないようにすることは難しくなるので、上記間隔φが４ｍｍの折り畳み試験後
の光学フィルムにおいて割れまたは破断が生じないことは、上記間隔φが６ｍｍの折り畳
み試験後の光学フィルムにおいて割れまたは破断が生じないことに対して技術的に顕著な
差がある。

【0051】

折り畳み試験を行う際には、まず、折り畳み試験前の光学フィルム１０の任意の箇所か
ら所定の大きさ（例えば、１２５ｍｍ×５０ｍｍの長方形形状）のサンプルＳ１を切り出
す（図２（Ａ）参照）。なお、１２５ｍｍ×５０ｍｍの大きさにサンプルを切り出せない
場合には、折り畳み試験後に行う後述する各評価ができる大きさであれば良く、例えば、
８０ｍｍ×２５ｍｍの大きさの長方形状にサンプルを切り出してもよい。折り畳み試験前
の光学フィルム１０からサンプルＳ１を切り出した後、サンプルＳ１に対し、折り畳み試
験を行う。

【0052】

折り畳み試験は、以下のようにして行われる。図２（Ａ）に示すように折り畳み試験に
おいては、まず、サンプルＳ１の辺部Ｓ１ａと、辺部Ｓ１ａと対向する辺部Ｓ１ｂとを、
平行に配置された折り畳み耐久試験機（例えば、製品名「Ｕ字伸縮試験機ＤＬＤＭＬＨ－
ＦＳ」、ユアサシステム機器株式会社製、ＩＥＣ６２７１５－６－１準拠）の固定部１５
、１６にそれぞれ固定する。固定部１５、１６による固定は、サンプルＳ１の長手方向に
片側約１０ｍｍのサンプルＳ１の部分を保持することによって行われる。ただし、サンプ
ルＳ１が上記大きさよりも更に小さい場合、サンプルＳ１におけるこの固定に要する部分
が約２０ｍｍまでであれば、固定部１５、１６にテープで貼り付けることで測定が可能で
ある（つまり、最小サンプルは、６０ｍｍ×２５ｍｍである）。また、図２（Ａ）に示す
ように、固定部１５は水平方向にスライド移動可能になっている。なお、上記装置である
と、従来のロッドにサンプルを巻きつける方法などと異なり、サンプルに張力や摩擦を発
生させることなく、曲げの負荷に対しての耐久評価することが可能で好ましい。

【0053】

次に、図２（Ｂ）に示すように、固定部１６を固定した状態で、固定部１５と固定部１
６が近接するように固定部１５が移動することで、サンプルＳ１の中央部Ｓ１ｃを折り畳
むように変形させ、更に、図２（Ｃ）に示すように、サンプルＳ１の固定部１５、１６で
固定された対向する２つの辺部Ｓ１ａ、Ｓ１ｂの間隔φが６ｍｍとなる位置まで固定部１
５を移動させた後、固定部１５を逆方向に移動させてサンプルＳ１の変形を解消させる。

【0054】

図２（Ａ）～（Ｃ）に示すように固定部１５を移動させることで、サンプルＳ１を中央
部Ｓ１ｃで１８０°折り畳むことができる。また、サンプルＳ１の屈曲部Ｓ１ｄが固定部
１５、１６の下端からはみ出さないようにし、以下の条件で折り畳み試験を行い、かつ固
定部１５が最も固定部１６に接近したときの間隔を６ｍｍに制御することで、サンプルＳ
１の対向する２つの辺部Ｓ１ａ、Ｓ１ｂの間隔φを６ｍｍにできる。この場合、屈曲部Ｓ
１ｄの外径を６ｍｍとみなす。なお、サンプルＳ１の厚みは、固定部１５、１６の間隔（
６ｍｍ）と比較して充分に小さな値であるため、サンプルＳ１の折り畳み試験の結果は、
サンプルＳ１の厚みの違いによる影響は受けないとみなすことができる。
（折り畳み条件）
・往復速度：８０ｒｐｍ（回毎分）
・試験ストローク：６０ｍｍ
・屈曲角度：１８０°

【0055】

サンプルＳ１に対し上記折り畳み試験を行うと、折り畳み試験後のサンプルＳ１に割れ
または破断が生じなかったとしても、屈曲部に折り癖が生じ、またマイクロクラックが生
じてしまい、外観不良、具体的には白濁現象やマイクロクラックを起点とした層間剥離（
密着不良）が生じるおそれがある。白濁現象の原因の１つには、光学フィルムのいずれか
の層の材質である有機化合物の結晶状態が変化することと考えられる。密着不良が局所で
生じた場合、温度・湿度の変化によって、層間剥離部に水分が溜まったり、この剥離部に
空気が入ることがあるため、白濁が増すおそれがある。近年、ディスプレイは単なる平面
ではなく、折り畳んだり、曲面にしたり、多様な３次元デザインが増えている。このため
、屈曲部の折り癖やマイクロクラックの抑制は、画像表示装置として用いる上で、極めて
重要である。このようなことから、光学フィルム１０は、フレキシブル性を有しているこ
とが好ましい。本実施形態における「フレキシブル性」とは、上記折り畳み試験後におい
て、割れや破断が生じないことのみならず、折り癖およびマイクロクラックが確認されな
いことを意味する。したがって、本実施形態における「フレキシブル性」とは、上記折り
畳み試験後において、割れまたは破断が生じないことのみを要件とするフレキシブル性と
は異なるものである。

【0056】

上記折り癖の観察は、目視で行うものとするが、折り癖の観察の際には、白色照明の明
室（８００ルクス～２０００ルクス）で、屈曲部を透過光および反射光によって満遍なく
観察するともに、折り畳んだときに屈曲部における内側となる部分および外側となる部分
を両方観察するものとする。上記折り癖の観察は、温度２３±５℃および相対湿度３０％
以上７０％以下の環境下で行うものとする。

【0057】

上記マイクロクラックの観察は、デジタルマイクロスコープ（デジタル顕微鏡）で行う
ものとする。デジタルマイクロスコープとしては、例えば、キーエンス株式会社製のＶＨ
Ｘ－５０００が挙げられる。マイクロクラックは、デジタルマイクロスコープの照明とし
てリング照明を選択するとともに、暗視野および反射光で観察するものとする。具体的に
は、まず、折り畳み試験後のサンプルをゆっくり広げ、マイクロスコープのステージにテ
ープでサンプルを固定する。このとき、折り癖が強い場合には、観察する領域がなるべく
平らになるようにする。ただし、サンプルの中央付近の観察予定領域（屈曲部）は手で触
れず、力が加わらない程度とする。そして、折り畳んだときに内側となる部分および外側
となる部分を両方観察するものとする。上記マイクロクラックの観察は、温度２３±５℃
および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で行うものとする。

【0058】

上記折り癖および上記マイクロクラックの観察においては、観察すべき位置が容易に把
握できるように、折り畳み試験前のサンプルを耐久試験機の固定部に設置し、１回折り畳
んだときに、図３に示されるように、屈曲部Ｓ１ｄにおける折り畳み方向ＦＤと直交する
方向に位置する両端Ｓ１ｄ_１に、屈曲部であることを示す目印Ｍ１を油性ペンなどで付け
ておくとよい。また、折り畳み試験後に全く折り癖等が観察されないサンプルの場合は、
サンプルを観察位置が不明になるのを防ぐため、折り畳み試験後に耐久試験機から取り外
した状態で、屈曲部Ｓ１ｄの上記両端Ｓ１ｄ_１の目印Ｍ１同士を結ぶ線Ｍ２（図３におけ
る点線）を油性ペンなどで引いておいてもよい。そして、折り癖の観察においては、屈曲
部Ｓ１ｄの両端Ｓ１ｄ_１の目印Ｍ１とこの目印Ｍ１同士を結ぶ線Ｍ２とで形成される領域
である屈曲部Ｓ１ｄ全体を目視観察する。またマイクロクラックの観察においては、マイ
クロスコープ視野範囲（図３における二点鎖線で囲まれる範囲）の中心が屈曲部Ｓ１ｄの
中央となるようにマイクロスコープの位置を合わせる。なお、油性ペンなどによる目印は
、実測に必要なサンプル領域には記載しないよう注意する。

【0059】

また、サンプルＳ１に対し上記折り畳み試験を行うと、光透過性基材と第１機能層の間
の密着性が低下するおそれがある。このため、上記折り畳み試験後の光学フィルムの屈曲
部において、光透過性基材１１と第１機能層１２の間の界面付近を、デジタルマイクロス
コープで観察したとき、光透過性基材１１と第１機能層１２の界面付近で剥がれ等が観察
されないことが好ましい。デジタルマイクロスコープとしては、例えば、キーエンス株式
会社製のＶＨＸ－５０００が挙げられる。

【0060】

光学フィルムに粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設けられている場合
には、粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、分光透過率、ＹＩ、全光線
透過率、ヘイズ値、鉛筆硬度を測定し、また折り畳み試験を行うものとする。他のフィル
ムの剥離は、例えば、以下のようにして行うことができる。まず、光学フィルムに粘着層
や接着層を介して他のフィルムが付いた積層体をドライヤーで加熱し、光学フィルムと他
のフィルムの界面と思われる部位にカッターの刃先を入れて、ゆっくりと剥離していく。
このような加熱と剥離を繰り返すことで、粘着層や接着層および他のフィルムを剥離する
ことができる。なお、このような剥離工程があったとしても、分光透過率等の測定には大
きな影響はない。

【0061】

また、上記したように、光学フィルム１０の分光透過率、ＹＩ、全光線透過率、ヘイズ
値、鉛筆硬度を測定する際には、光学フィルム１０を上記各大きさに切り出す必要がある
が、光学フィルム１０の大きさが大きい場合（例えば、ロール状のような場合）には、任
意の位置からＡ５サイズ（１４８ｍｍ×２１０ｍｍ）に切り出した後、各測定項目の大き
さに切り出すものとする。例えば、光学フィルム１０がロール状になっている場合におい
ては、光学フィルム１０のロールから所定の長さを繰り出すとともに、ロールの長手方向
に沿って延びる両端部を含む非有効領域ではなく、品質が安定している中心部付近の有効
領域から切り出すものとする。また、光学フィルム１０の分光透過率、ＹＩ、全光線透過
率、ヘイズ値、鉛筆硬度を測定する際には、上記装置を用いて測定するが、または光学フ
ィルム１０の折り畳み試験を行う際には、上記装置を用いて行うが、上記装置でなくとも
、後継機種などの同程度の装置によって測定や折り畳み試験を行ってもよい。

【0062】

光学フィルム１０の用途は、特に限定されないが、光学フィルム１０の用途としては、
例えば、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ウェアラ
ブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン、カーナビゲーション等の画像表示装置が
挙げられる。また、光学フィルム１０は、車載用途にも適している。上記各画像表示装置
の形態としては、フォルダブル、ローラブルといったフレキシブル性を必要とする用途に
も好ましい。

【0063】

光学フィルム１０は、所望の大きさに切り出されていてもよいが、ロール状であっても
よい。光学フィルム１０が所望の大きさに切り出されている場合、光学フィルムの大きさ
は、特に制限されず、画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定される。具体的に
は、光学フィルム１０の大きさは、例えば、２．８インチ以上５００インチ以下となって
いてもよい。本明細書における「インチ」とは、光学フィルムが四角形状である場合には
対角線の長さを意味し、円形状である場合には直径を意味し、楕円形状である場合には、
短径と長径の和の平均値を意味するものとする。ここで、光学フィルムが四角形状である
場合、上記インチを求める際の光学フィルムの縦横比は、画像表示装置の表示画面として
問題がなければ特に限定されない。例えば、縦：横＝１：１、４：３、１６：１０、１６
：９、２：１等が挙げられる。ただし、特に、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイ
ネージにおいては、このような縦横比に限定されない。なお、例えば、光学フィルム１０
がロール状になっている場合においては、光学フィルム１０のロールから所定の長さを繰
り出すとともに、ロールの長手方向に沿って延びる両端部を含む非有効領域ではなく、品
質が安定している中心部付近の有効領域から所望の大きさに切り出すものとする。

【0064】

＜＜＜光透過性基材＞＞＞
光透過性基材１１は、光透過性を有する基材である。光透過性基材１１は、アセチルセ
ルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー系樹脂、および（メタ）アクリル系樹脂の少
なくともいずれかを含むものである。屋外等ではサングラスを装着して、画像表示装置の
表示画像を観察することがあるが、サングラスが偏光サングラスである場合、偏光サング
ラス越しに表示画像を観察すると、虹むらが発生して、視認性が低下するおそれがある。
これは、光透過性基材の面内位相差（面内リタデーション、Ｒｅ）が高いからであると考
えられる。したがって、現在、偏光サングラス越しに表示画像を観察した場合であっても
視認性の低下を抑制できることが求められている。これに対し、アセチルセルロース系樹
脂や（メタ）アクリル系基材を含む基材であれば、面内位相差は、１０ｎｍ以下である。
シクロオレフィンポリマー系樹脂を含む光透過性基材には、位相差を調整していない基材
と、例えばλ／４となるように位相差を調整した基材とがあるが、位相差を調整していな
い基材の面内位相差は１０ｎｍ以下であり、また位相差を調整した基材であっても面内位
相差は１５０ｎｍ以下である。したがって、アセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィ
ンポリマー系樹脂、または（メタ）アクリル系樹脂を含む光透過性基材１１はいずれも面
内位相差が低いので、偏光サングラス越しに表示画像を観察したときの視認性低下を抑制
することができる。上記面内位相差は、波長５８９ｎｍで測定したときの値である。

【0065】

アセチルセルロース系樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース系樹脂、ジアセ
チルセルロース系樹脂が挙げられる。トリアセチルセルロース系樹脂は、可視光域３８０
～７８０ｎｍにおいて、平均光透過率を５０％以上とすることが可能な樹脂である。トリ
アセチルセルロース系樹脂の平均光透過率は７０％以上、更に８５％以上であることが好
ましい。

【0066】

なお、トリアセチルセルロース系樹脂としては、純粋なトリアセチルセルロース以外に
、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロ
ースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用したものであってもよい。
また、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他
のセルロース低級脂肪酸エステルが添加されていてもよい。

【0067】

シクロオレフィンポリマー系樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィ
ン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、およびこれらの水素化
物等を挙げることができる。これらの中でも、ノルボルネン系樹脂は、透明性と成形性が
良好であるため、好適に用いることができる。

【0068】

ノルボルネン系樹脂としては、ノルボルネン構造を有するモノマーの開環重合体もしく
はノルボルネン構造を有するモノマーと他のモノマーとの開環共重合体またはそれらの水
素化物、ノルボルネン構造を有するモノマーの付加重合体もしくはノルボルネン構造を有
するモノマーと他のモノマーとの付加共重合体またはそれらの水素化物等を挙げることが
できる。

【0069】

シクロオレフィンポリマー系樹脂の市販品としては、例えば、日本ゼオン株式会社製の
商品名「ゼオネックス（登録商標）」や「ゼオノア（登録商標）」（ノルボルネン系樹脂
）、住友ベークライト株式会社製の商品名「スミライト（登録商標）ＦＳ－１７００」、
ＪＳＲ株式会社製の商品名「アートン（登録商標）」（変性ノルボルネン系樹脂）、三井
化学株式会社製の商品名「アペル（登録商標）」（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏ
ｎａ社製の商品名「Ｔｏｐａｓ（登録商標）」（環状オレフィン共重合体）、日立化成株
式会社製の商品名「オプトレッツＯＺ－１０００シリーズ」（脂環式アクリル樹脂）等が
挙げられる。このようなシクロオレフィンポリマー系樹脂を製膜して、光透過性基材を得
ることができる。製膜としては、特に限定されず、溶剤キャスト法や溶融押出法など、公
知の製膜方法を用いることができる。また、製膜されたシクロオレフィンポリマー系フィ
ルムも市販されており、これを光透過性基材として用いることもできる。シクロオレフィ
ンポリマー系フィルムとしては、例えば、積水化学株式会社製の商品名「エスシーナ（登
録商標）」や「ＳＣＡ４０」、日本ゼオン株式会社の商品名「ゼオノアフィルム（登録商
標）」、ＪＳＲ株式会社製の商品名「アートン（登録商標）フィルム」等が挙げられる。

【0070】

（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸ブチル共重合体
等が挙げられる。

【0071】

光透過性基材１１の厚みは、特に限定されないが、６０μｍ以下であることが好ましい
。光透過性基材１１の厚みが６０μｍ以下であれば、薄型化をより図ることができる。光
透過性基材１１の厚みの下限は、光学フィルム１０の機械的強度確保の観点から５μｍ以
上、１０μｍ以上、または１５μｍ以上であることがより好ましい。光透過性基材１１の
厚みの上限は、更なる薄型化を図る観点から、５０μｍ以下、４５μｍ以下、４０μｍ以
下、３５μｍ以下、または３０μｍ以下であることがより好ましい。

【0072】

光透過性基材の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、光透過性基材の断面を
撮影し、その断面の画像において光透過性基材の厚みを１０箇所測定し、その１０箇所の
厚みの算術平均値を求めることによって求めることができる。なお、走査型電子顕微鏡に
よる撮影は、光透過性基材の厚みに適した倍率にて、光透過性基材と機能層との界面ライ
ンを明確にした上で行うものとする。具体的には、例えば、光透過性基材の厚みが５０μ
ｍの場合には１０００倍、また１００μｍの場合には５００倍のように光透過性基材の厚
みによって倍率を適宜調整する。光透過性基材１１の厚みのバラツキは、１５％以下、１
０％以下、または７％以下であることが好ましい。走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を
用いて光透過性基材の厚みを測定する場合、機能層の膜厚の測定方法と同様の方法により
測定できる。ただし、光透過性基材の断面写真を撮影する際の倍率は、１００～２万倍と
する。

【0073】

光学フィルムにフレキシブル性（例えば、折り畳み性）が求められる場合、光透過性基
材や機能層の厚みが厚いと、折り畳み時に屈曲部における光透過性基材や機能層に割れが
生じるおそれがあり、また屈曲部における光透過性基材や機能層に折り癖やマイクロクラ
ックが生じてしまうことがある。割れ、折り癖やマイクロクラックが生じると、外観不良
、具体的には、白濁現象やクラック起因の密着不良などが生じてしまうおそれがある。こ
のため、光学フィルムをフレキシブル用途に用いる場合には、光透過性基材や機能層の厚
み制御や各層間の密着性（材料が影響する化学的結合による密着や、クラックが生じない
という物理的な密着）が重要になる。特に、光透過性基材１１が、アセチルセルロース系
樹脂、シクロオレフィンポリマー系樹脂、または（メタ）アクリル系樹脂を含む場合には
、厚みによって割れにくさが変わるので、光透過性基材の厚み制御が重要となる。ただし
、第２機能層１３が内側となるように光学フィルム１０を折り畳む（内曲げ）と、第２機
能層１３が外側となるように光学フィルム１０を折り畳む（外曲げ）では、光透過性基材
１１の好ましい厚みが異なる。

【0074】

（光学フィルムが内曲げで用いられる場合）
光透過性基材１１が、例えば、アセチルセルロース系樹脂を含む場合には、光透過性基
材１１の厚みは、１５μｍ以上６０ｍ以下であることが好ましい。光透過性基材の厚みが
薄すぎると、折り畳み時に光透過性基材が裂けてしまうおそれがあるが、この光透過性基
材１１の厚みが１５μｍ以上であれば、折り畳み時に光透過性基材１１が裂けることを抑
制できる。また光透過性基材１１の厚みが６０μｍ以下であれば、折り畳み時の屈曲部に
おける光透過性基材１１の割れを抑制でき、また屈曲部における白濁現象を抑制できる。
この場合の光透過性基材１１の厚みの上限は、更なる折り畳み時の屈曲部の上記割れおよ
び白濁化を抑制する観点から、４５μｍ以下、４０μｍ以下、３５μｍ以下、特に３０μ
ｍ以下であることが好ましい。

【0075】

光透過性基材１１が、例えば、シクロオレフィンポリマー系樹脂を含む場合には、光透
過性基材１１の厚みは、５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。この光透過性基
材１１の厚みが５μｍ以上であれば、ハンドリング性が良好であり、また５０μｍ以下で
あれば、折り畳み時に屈曲部における光透過性基材１１の割れを抑制でき、また屈曲部に
おける白濁現象を抑制できる。この場合の光透過性基材１１の厚みの上限は、更なる折り
畳み時に屈曲部の上記割れおよび白濁化を抑制する観点から、４５μｍ以下、４０μｍ以
下、特に３０μｍ以下、または１８μｍ以下であることが好ましい。

【0076】

光透過性基材１１が、例えば、（メタ）アクリル系樹脂を含む場合には、光透過性基材
１１の厚みは、１５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。この光透過性基材１１
の厚みが１５μｍ以上であれば、ハンドリング性が良好であり、また５０μｍ以下であれ
ば、折り畳み時の屈曲部における光透過性基材１１の割れを抑制でき、また屈曲部におけ
る白濁現象を抑制できる。この場合の光透過性基材１１の厚みの上限は、更なる折り畳み
時の屈曲部の上記割れおよび白濁化を抑制する観点から、４５μｍ以下、４０μｍ以下、
特に３５μｍ以下、または３０μｍ以下であることが好ましい。

【0077】

上記した各光透過性基材の厚みが３５μｍ以下の場合には、製造時に光透過性基材１１
に保護フィルムを貼ると加工適性が向上するので、好ましい。

【0078】

（光学フィルムが外曲げで用いられる場合）
光透過性基材１１が、例えば、アセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー
系樹脂、または（メタ）アクリル系樹脂を含む場合には、光透過性基材１１の厚みは、１
０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。この光透過性基材１１の厚みが１０μｍ
以上であれば、外側に用いるために外部から受ける様々な衝撃を吸収することができ、ま
た５０μｍ以下であれば、折り畳み時に屈曲部における光透過性基材１１の割れを抑制で
き、また屈曲部における白濁現象を抑制できる。この場合の光透過性基材１１の厚みの上
限は、４５μｍ以下、または３０μｍ以下であることが好ましい。

【0079】

光透過性基材１１としては、光透過性基材１１と第１機能層１２との密着性の観点から
、第１機能層１２の形成の際に、第１機能層１２の成分（例えば、重合性化合物）が入り
込む浸透性基材であってもよいが、寸法安定性の観点から、第１機能層１２の成分が入り
込まない非浸透性基材を用いることが好ましい。浸透性基材としては、例えば、アセチル
セルロース系樹脂や（メタ）アクリル系樹脂等を含む基材が挙げられ、また非浸透性基材
としては、シクロオレフィンポリマー系樹脂等を含む基材が挙げられる。

【0080】

光透過性基材１１は、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照
射、化成、酸化等のエッチング処理や下塗り処理が施されていてもよい。これらの処理が
予め施されていることで、上記光透過性基材１１上に形成される機能層等との密着性を向
上させることができる。また、第１機能層１２等を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄
や超音波洗浄等により、光透過性基材１１の表面は、除塵、清浄化されていてもよい。

【0081】

＜＜＜第１機能層＞＞＞
第１機能層１２は、光透過性基材１１と第２機能層の密着性を向上させる下地層となっ
ている。ただし、第１機能層１２は、他の機能を有する層であってもよい。特に、光透過
性基材１１がシクロオレフィンポリマー系樹脂を含んでいる場合には、光透過性基材１１
は、第２機能層１３と密着しにくいので、第１機能層１２を光透過性基材１１と第２機能
層１３の間に配置することが好ましい。第１機能層１２は、光透過性基材１１に密着して
いる。また、第１機能層１２は、光透過性を有している。

【0082】

第１機能層１２の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下となっていることが好ましい。第
１機能層１２の膜厚が０．１μｍ以上であれば、第２機能層１３との強固な密着性を確保
できる。また、第１機能層１２の膜厚が５μｍ以下であれば、所望の鉛筆硬度を維持でき
るとともに折り曲げ時や湾曲時におけるクラックの発生を抑制できる。第１機能層１２の
膜厚の下限は、第２機能層１３との密着性の観点から、０．３μｍ以上、０．５μｍ以上
、または１μｍ以上であることが好ましい。第１機能層１２の膜厚が０．５μｍ以上であ
れば、生産工程での傷付き防止可能な硬度を得ることができる。第１機能層１２の膜厚の
上限は、より高い鉛筆硬度を得る観点から、４．５μｍ以下、４μｍ以下、または３μｍ
以下であることが好ましい。

【0083】

本実施形態における「第１機能層の膜厚」とは、顕微鏡画像のコントラスト差により光
透過性基材と第１機能層との界面ラインを認識でき、また第１機能層と混合層との界面ラ
インを認識できるので、これらの界面ライン間の距離を意味する。第１機能層の膜厚は、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡
（ＳＴＥＭ）等を用いて、機能層の断面を撮影し、その断面の画像において第１機能層の
膜厚を１０箇所測定し、その１０箇所の膜厚の算術平均値を求めることによって求めるこ
とができる。

【0084】

具体的な断面写真の撮影方法は以下の通りとする。まず、１ｍｍ×１０ｍｍの大きさに
切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックか
ら一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ～３００ｎｍ程度の切
片を切り出す。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイ
クロシステムズ株式会社）等を用いる。そして、この穴等がない均一な切片を測定サンプ
ルとする。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ－４８００」、株式
会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。上記Ｓ
－４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を「３０ｋ
Ｖ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォー
カスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら１００～１
０万倍、好ましくは第１機能層の膜厚に応じて１万倍～１０万倍で適宜調節する。なお、
膜厚の測定ぶれを低減するために、第１機能層の膜厚を極力低倍率で測定することが推奨
される。例えば、第１機能層の膜厚が１μｍ程度の場合には倍率２万倍、０．５μｍ程度
の場合には倍率３万～１０万倍が好ましい。さらに、コンデンサレンズ１を「５．０」に
し、またＷ．Ｄ．を「８．９ｍｍ」にする。

【0085】

第１機能層１２のインデンテーション硬さは、５０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下である
ことが好ましい。第１機能層１２のインデンテーション硬さが、５０ＭＰａ以上であれば
、所望の鉛筆硬度を得ることができるとともに耐擦傷性の低下を抑制できる。また、第１
機能層１２のインデンテーション硬さが、６００ＭＰａ以下であれば、良好な柔軟性を得
ることができるとともにチップカットでのクラック発生を抑制できる。本明細書における
「インデンテーション硬さ」とは、圧子の負荷から除荷までの荷重－変位曲線から求めら
れる値である。なお、粘着層のような硬さが柔らかい過ぎる層においては、インデンテー
ション硬さを測定しようとしても、測定不能となることがある。第１機能層１２のインデ
ンテーション硬さの下限は、より高い鉛筆硬度および良好な耐擦傷性を得る観点から、７
０ＭＰａ以上、８５ＭＰａ以上、１００ＭＰａ以上、または１５０ＭＰａ以上であること
がより好ましい。また、第１機能層１２のインデンテーション硬さの上限は、優れた柔軟
性を得るとともにチップカットでのクラック発生をより抑制する観点から、５００ＭＰａ
以下、４５０ＭＰａ以下、４００ＭＰａ以下、または３５０ＭＰａ以下であることがより
好ましい。

【0086】

インデンテーション硬さ（Ｈ_ＩＴ）は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製のＴＩ
９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒを用いて測定することができる。具体的には、まず
、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作
製し、ナノインデンテーション法での硬度測定に適した測定用サンプルを作製する。測定
用サンプルの作製には、「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシス
テムズ株式会社）等を用いることができる。次いで、測定サンプルの圧子を押し込む面が
ステージの載置面と平行となるように測定サンプルをＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）
社製のＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒのステージに固定する。そして、第１機
能層の断面中央の平坦な部分に、荷重制御方法で、最大押し込み荷重が３００μＮとなる
ように、荷重速度１０μＮ／秒でバーコビッチ型圧子を、３０秒で荷重０μＮから３００
μＮまで負荷を加えながら第１機能層に押し込む。ここで、第１機能層の側縁の影響を避
けるために、第１機能層の両側端からそれぞれ第１機能層の中央側に少なくとも５００ｎ
ｍ離れた第１機能層の部分内にバーコビッチ型圧子を押し込むものとする。その後３００
μＮで５秒間保持した後、３０秒で３００μＮから０μＮまで除荷する。そして、このと
きの押し込み荷重Ｆ（Ｎ）に対応する押し込み深さｈ（ｎｍ）を連続的に測定し、荷重－
変位曲線を作成する。作成された荷重－変位曲線からインデンテーション硬さＨ_ＩＴを、
下記数式（２）のように最大押し込み荷重Ｆ_ｍａｘ（Ｎ）を、圧子と第１機能層が接して
いる投影面積Ａ_ｐ（ｍｍ^２）で除した値により求めることができる。インデンテーション
硬さは、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする。また、インデンテーション硬
さの測定は、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で行うものと
する。
Ｈ_ＩＴ＝Ｆ_ｍａｘ／Ａ_ｐ …（２）
ここで、Ａ_ｐは下記数式（３）によって求められる値である。
Ａ_ｐ＝２３．９６（ｈ_ｍａｘ－０．７５（ｈ_ｍａｘ－ｈ_ｒ））^２ …（３）
上記数式（３）中、ｈ_ｍａｘは最大押し込み深さであり、ｈ_ｒはＦ_ｍａｘにおける除荷
曲線の接線が横軸（変位）の交点の値である。

【0087】

第１機能層１２は、樹脂および紫外線吸収剤を含んでいる。なお、紫外線吸収剤は、第
１機能層１２および第２機能層１３のいずれかに含まれていればよく、第１機能層１２に
必ずしも含まれていなくともよい。第１機能層１２は、樹脂および紫外線吸収剤の他に、
重合開始剤やその残渣を含んでいてもよい。

【0088】

＜＜樹脂＞＞
第１機能層１２に含まれる樹脂としては、重合性化合物の重合物（硬化物）を含むもの
である。樹脂は、重合性化合物の重合物の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性化合物を含んで
いてもよい。

【0089】

（重合性化合物）
重合性化合物は、重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。本明細書における
、「重合性官能基」とは、重合反応し得る官能基である。重合性官能基としては、例えば
、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。
なお、本明細書における「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」や「メタ
クリロイル基」を含む意味である。また、重合性化合物を重合する際に照射される電離放
射線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる
。

【0090】

エチレン性不飽和基を１つ有する重合性化合物としては、例えば、エチル（メタ）アク
リレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ－ビニ
ルピロリドン等を挙げることができる。エチレン性不飽和基を２以上有する重合性化合物
としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオー
ル（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート
、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（
メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物
、又は、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコー
ルのポリ（メタ）アクリレートエステル）等が挙げられる。

【0091】

重合性化合物としては、重合性モノマー、重合性オリゴマー、および／または重合性プ
レポリマーを適宜調製して用いることができる。

【0092】

（溶剤乾燥型樹脂）
溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を
乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を併用することによっ
て、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。上記重合性化合物と併用して使用
することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用
することができる。

【0093】

上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリ
ル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフ
ィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロ
ース誘導体、シリコーン系樹脂、またはシリコーン系ゴム等が挙げられる。

【0094】

上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや重合性化合物
を溶解可能な共通溶剤）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の
観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

【0095】

（熱硬化性化合物）
熱硬化性化合物としては、特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジア
リルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン－尿素共縮合樹脂、ケイ素
樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。

【0096】

＜紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤は、少なくとも紫外線（波長１０ｎｍ～４００ｎｍ）を吸収するものであ
る。紫外線吸収剤は、紫外線を吸収するものであれば、可視光域に最大吸収波長を有して
いてもよい。紫外線吸収剤においては、波長３６０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の波長域内で
の最大吸光度は、０．５以上であることが好ましい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベ
ンゾトリアゾール系化合物、インドール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン
系化合物等が挙げられる。これらの中でも、着色による視認性低下を抑制する観点から、
ベンゾトリアゾール系化合物やインドール系化合物が好ましい。

【0097】

第１機能層１２が、紫外線吸収剤を含むか否かは、まず、第１機能層１２の欠片を採取
して、その欠片を赤外分光分析（ＩＲ）によって測定し、得られた赤外吸収スペクトルを
市販の紫外線吸収剤と比べることによって調べることができる。紫外線吸収剤は、第１機
能層１２を構成する樹脂中に共重合体として含まれていてもよい。

【0098】

ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば、下記一般式（Ａ）で表されるセサモー
ル型ベンゾトリアゾール系単量体、２－[２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α,α－ジメチ
ルベンジル）フェニル]－２Ｈ－ベンゾトリアゾール（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４」
、ＢＡＳＦ社製）、２－（５－クロロ－２－ベンゾトリアゾリル）－６－ｔｅｒｔ－ブチ
ル－ｐ－クレゾール（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６」、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる
。これらの中でも、分光スペクトルの傾きが大きく、より選択的に紫外線を吸収すること
ができることから、下記一般式（Ａ）で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系単量
体が好ましい。

【化1】

式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２は炭素数１～６の直鎖状または分岐
鎖状のアルキレン基、あるいは炭素数１～６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアルキレン
基を表す。

【0099】

上記一般式（Ａ）で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、第１機能層
１２を構成する樹脂中に単量体単位として含まれる。また、上記一般式（Ａ）で表される
セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、ベンゾトリアゾール環の２位の窒素原子に
セサモールを結合させた化合物からの誘導体であり、ベンゾトリアゾール環のベンゼン部
位に重合性２重結合を導入した分子構造を有する。この単量体は、最大吸収波長λ_ｍａｘ
は３６５ｎｍ以上であり、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長域を包括する広い範
囲の紫外線吸収スペクトルを有し、４００ｎｍ付近の長波長域まで紫外線吸収能力を有す
る。

【0100】

上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体としては特に制限されないが、具体的な
物質名としては、２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル
）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレート、２－［２－（６－ヒ
ドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－
イル］エチルアクリレート、３－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール
－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］プロピルメタクリレート、３－［
２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリア
ゾール－５－イル］プロピルアクリレート、４－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３
］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］ブチルメタクリレ
ート、４－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－
ベンゾトリアゾール－５－イル］ブチルアクリレート、２－［２－（６－ヒドロキシベン
ゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イルオキシ］
エチルメタクリレート、２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５
－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イルオキシ］エチルアクリレート、２－［３
－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾト
リアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２－［３－{２－（
６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール
－５－イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、４－［３－{２－（６－ヒドロキ
シベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}
プロパノイルオキシ］ブチルメタクリレート、４－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ
［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノ
イルオキシ］ブチルアクリレート、２－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］
ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ
］エチルメタクリレート、２－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソ
ール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］エチル
アクリレート、２－（メタクリロイルオキシ）エチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，
３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５カルボキシレート、２－
（アクリロイルオキシ）エチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５
－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボキシレート、４－（メタクリロイルオ
キシ）ブチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－
ベンゾトリアゾール－５－カルボキシレート、４－（アクリロイルオキシ）ブチル２－（
６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール
－５－カルボキシレート等を挙げることができる。また、これらセサモール型ベンゾトリ
アゾール系単量体は１種類で用いることもできるし、２種類以上を用いることもできる。

【0101】

（インドール系化合物）
インドール系化合物としては、例えば、下記一般式（Ｂ）で表される化合物が挙げられ
る。下記一般式（Ｂ）で表される化合物であれば、波長３８０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の
波長域の光を吸収することができる。

【化2】

式（Ｂ）中、Ｒ^３は、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基またはアラルキル基を表し、
Ｒ^４は、－ＣＮまたは－ＣＯＯＲ^５を表し、ここで、Ｒ^５は、置換基を有していてもよい
アルキル基またはアラルキル基（ただし、Ｒ^３がメチル基である場合はエチル基を除く。
）を表す。

【0102】

Ｒ^３の炭素数は、炭素数１～１２とすることが可能である。Ｒ^３の具体例としては、メ
チル基、エチル基、（イソ）ブチル基、ｔ－ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２－エ
チルヘキシル基、ドデシル基、ベンジル基等が挙げられる。Ｒ^５の具体例としては、例え
ば上記Ｒ^３で例示した基およびβ－シアノエチル基、β－クロロエチル基、エトキシプロ
ピル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基が挙げられる。ただし、Ｒ^３がメ
チル基である場合、Ｒ^５はエチル基ではない。

【0103】

インドール系化合物としては、オリヱント化学工業株式会社製のＢＯＮＡＳＯＲＢ Ｕ
Ａ－３９１１等が挙げられる。

【0104】

上記紫外線吸収剤は、例えば、第１機能層１２中に０．０５質量％以上５０質量％以下
で含有されていてもよい。このような範囲で紫外線吸収剤が含有されていることで、紫外
線を有効に吸収することができる。なお、上記紫外線吸収剤がセサモール型ベンゾトリア
ゾール系化合物である場合には、第１機能層１２中に０．１質量％以上５０質量％以下で
含有されていてもよい。

【0105】

第１機能層１２は、例えば、重合性化合物および紫外線吸収剤を含む第１機能層用組成
物を用いることによって形成することが可能である。第１機能層用組成物は、上記重合性
化合物等を含むが、その他、必要に応じて、重合開始剤、溶剤、レベリング等を含んでい
てもよい。

【0106】

（重合開始剤）
重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができる。重合開始剤は
、１種類であってもよいが、２種類以上用いてもよい。重合開始剤としては、具体例には
、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α
－アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾ
イン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いるこ
とが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ－ブチルアミン、トリエチルアミン、ポ
リ－ｎ－ブチルホスフィン等が挙げられる。

【0107】

重合開始剤としては、上記重合性化合物がラジカル重合性官能基を有する場合は、アセ
トフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル等のラジカル重合開始剤を単独または混合して用いることが好ましい。ラジカル重
合開始剤の中でも、紫外線吸収性能による硬化阻害を抑制する点から、２，４，６－トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド（例えば、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．
Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェ
ニルホスフィンオキサイド（例えば、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａ
ｄ８１９）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（例えば、ＩＧＭ Ｒｅｓｉ
ｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４）、オリゴ（２－ヒドロキシ－２－メチル－
１－（４－（１－メチルビニル）フェニル）プロパノン）（ＤＫＳＨジャパン社製のＥＳ
ＡＣＵＲＥ ＯＮＥ）またはこれらの混合物等がより好ましい。

【0108】

また、上記重合性化合物がカチオン重合性官能基を有する場合は、重合開始剤としては
、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化
合物、ベンゾインスルホン酸エステル等のカチオン重合開始剤を単独または混合物として
用いることが好ましい。カチオン重合開始剤の中でも、硬化性に優れる点から、芳香族ス
ルホニウム塩等がより好ましい。

【0109】

また、光透過性基材１１がシクロオレフィンポリマー系樹脂を含んでいる場合には、第
１機能層１２を光透過性基材１１に密着させることが重要となる。このような第１機能層
１２を光透過性基材１１に密着させるためには、重合開始剤としてオキシムエステル系化
合物を用いることが好ましい。オキシムエステル系化合物の市販品としては、例えば、Ｉ
ＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ０２、Ｉ
ＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ０３（いずれもＢＡＳＦジャパン社製）が挙げられる
。

【0110】

第１機能層用組成物における上記重合開始剤の含有量は、上記重合性化合物１００質量
部に対して、１質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。上記重合開始剤の含有
量が１質量部以上であれば、第１機能層の硬度が十分となり、また１０質量部以下であれ
ば、塗膜の深部まで電離放射線が届くので、内部硬化が促進され、目標とする光学フィル
ムの表面の硬度（例えば、後述する鉛筆硬度で３Ｂ以上）を得ることができる。

【0111】

上記重合開始剤の含有量の下限は２質量部以上であることがより好ましく、上限は８質
量部以下であることがより好ましい。上記光重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで
、膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。

【0112】

（溶剤）
溶剤としては、使用する重合性化合物の種類および溶解性に応じて選択して使用するこ
とができ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロ
ヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロ
ロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）
、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール
等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート
類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等）等が例示でき、またこれらの混合溶剤であってもよい。

【0113】

（レベリング剤）
レベリング剤としては、特に限定されないが、フッ素系レベリング剤が好ましい。フッ
素系レベリング剤を用いることにより、高いレベリング性により平滑性、リコート性を付
与できる。フッ素系レベリング剤の市販品としては、例えば、Ｆ－５５５（ＤＩＣ株式会
社製）、Ｆ－５６８（ＤＩＣ株式会社製）、フタージェント（登録商標）６８３（株式会
社ネオス製）が挙げられる。

【0114】

第１機能層用組成物中における原料の含有割合（固形分）として特に限定されないが、
５質量％以上７０質量％以下が好ましく、１５質量％以上６０質量％以下がより好ましい
。

【0115】

第１機能層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、
例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用し
て行うことができる。

【0116】

第１機能層用組成物を光透過性基材１１上に塗布する方法としては特に限定されず、例
えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロール
コーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコータ
ー法等の公知の方法が挙げられる。

【0117】

第１機能層用組成物の硬化に用いられる電離放射線源としては、主に１９０～４５０ｎ
ｍの波長域に発光ピークを有するものが好ましい。電離放射線源としては、例えば、超高
圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタル
ハライドランプ灯等の光源が挙げられる。

【0118】

＜＜第２機能層＞＞
第２機能層１３は、ハードコート層となっている。ただし、第２機能層１３は、他の機
能を有する層であってもよい。本実施形態における「ハードコート層」とは、インデンテ
ーション硬さが、第１機能層のインデンテーション硬さよりも大きい層を意味する。第２
機能層のインデンテーション硬さも、第１機能層のインデンテーション硬さと同様に求め
る。

【0119】

第２機能層１３のインデンテーション硬さは、７５ＭＰａ以上１０００ＭＰａ以下であ
ることが好ましい。第２機能層１３のインデンテーション硬さが、７５ＭＰａ以上であれ
ば、所望の鉛筆硬度を得ることができ、また１０００ＭＰａ以下であれば、クラック発生
を抑制できる。第２機能層１３のインデンテーション硬さの下限は、より高い鉛筆硬度を
得る観点から、１００ＭＰａ以上、１５０ＭＰａ以上、または２００ＭＰａ以上であるこ
とがより好ましい。また、第２機能層１３のインデンテーション硬さの上限は、クラック
発生をより抑制する観点から、９００ＭＰａ以下、７５０ＭＰａ以下、６００ＭＰａ以下
、または５００ＭＰａ以下であることがより好ましい。第２機能層１３のインデンテーシ
ョン硬さが６００ＭＰａ以下であれば、柔軟性に優れた第２機能層１３を得ることができ
る。

【0120】

第２機能層１３の膜厚は、０．１μｍ以上９．８μｍ以下であることが好ましい。第２
機能層１３の膜厚が０．１μｍ以上であれば、所望の鉛筆硬度を確保でき、また第２機能
層１３の膜厚が９．８μｍ以下であれば、より薄膜化を図ることができるとともに折り曲
げ時や湾曲時におけるクラックの発生を抑制できる。第２機能層１３の膜厚の下限は、よ
り高い鉛筆硬度を得る観点から、０．３μｍ以上、０．５μｍ以上、または１μｍ以上で
あることが好ましい。第２機能層１３の膜厚が０．５μｍ以上であれば、生産工程での傷
付き防止可能な高度を得ることができる。第２機能層１３の膜厚の上限は、更なる薄型化
を図る観点から、８μｍ以下、５μｍ以下、４μｍ以下、または３μｍ以下であることが
好ましい。第２機能層１３の膜厚は、第１機能層１２と同様の方法によって求めることが
できる。

【0121】

第２機能層１３は、樹脂および紫外線吸収剤を含んでいる。ただし、第１機能層１２が
紫外線吸収剤を含んでいる場合には、紫外線吸収剤を含まなくともよい。第２機能層１３
は、さらに光学フィルム１０をロール状に巻回したときの光学フィルム１０同士の貼り付
きを防止するためのブロッキング防止剤を含んでいてもよい。第２機能層１３に含まれる
樹脂としては、重合性化合物の重合物を含むものである。樹脂は、重合性化合物の重合物
の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性化合物を含んでいてもよい。

【0122】

第２機能層１３中の紫外線吸収剤の濃度は、第１機能層１２中の紫外線吸収剤の濃度よ
りも低くなっていることが好ましい。第２機能層１３中の紫外線吸収剤の濃度が第１機能
層１２中の紫外線吸収剤の濃度よりも低いことにより、紫外線吸収剤のブリードアウトを
低減でき、第２機能層１３の表面の耐擦傷性をより向上させることができる。

【0123】

第２機能層１３を構成する重合性化合物としては、重合性モノマー、重合性オリゴマー
、または重合性プレポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。
重合性化合物としては、重合性モノマーと、重合性オリゴマーまたは重合性プレポリマー
との組み合わせが好ましい。

【0124】

重合性モノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート等
の水酸基を含むモノマーや、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テ
トラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタ
ントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸
エステル類が挙げられる。

【0125】

重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましく、重合性官能基
が３つ（３官能）以上の多官能オリゴマーが好ましい。上記多官能オリゴマーとしては、
例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエス
テル－ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール
（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アク
リレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0126】

重合性プレポリマーは、重量平均分子量が１万を超えるものであり、重量平均分子量と
しては１万以上８万以下が好ましく、１万以上４万以下がより好ましい。重量平均分子量
が８万を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる光透過性樹
脂の外観が悪化するおそれがある。多官能プレポリマーとしては、ウレタン（メタ）アク
リレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル－ウレタン（メタ）ア
クリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0127】

＜紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤は、第１機能層１２の欄で説明した紫外線吸収剤と同様の紫外線吸収剤を
用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。

【0128】

第２機能層１３は、重合性化合物等を含む第２機能層用組成物を用いることによって形
成することが可能である。第２機能層用組成物は、重合性化合物および紫外線吸収剤の他
、溶剤乾燥型樹脂、熱硬化性化合物、重合開始剤、溶剤等を含んでいてもよい。また、第
２機能層用組成物は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、以下の各種添加
剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、無機粒子、帯電防止剤、接
着性向上剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤
、着色剤等が挙げられる。

【0129】

第２機能層用組成物は、溶剤乾燥型樹脂、熱硬化性化合物、重合開始剤、溶剤、レベリ
ング剤等は、上記第１機能層用組成物で説明した溶剤乾燥型樹脂、熱硬化性化合物、重合
開始剤、溶剤、レベリング剤等と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。

【0130】

第２機能層用組成物中の重合開始剤は、第１機能層用組成物中の重合開始剤と同じもの
であってもよいが、異なるものであることが好ましい。第２機能層用組成物中の重合開始
剤を第１機能層用組成物中の重合開始剤と異なるものであることにより、第１機能層用組
成物においては半硬化させやすい重合開始剤を選択し、第２機能層用組成物においては表
面硬化性の良い重合開始剤を選択することができる。

【0131】

＜＜混合層＞＞
混合層１４は、第１機能層１２の成分と第２機能層１３の成分を含み、第１機能層１２
および第２機能層１３に隣接している。このような混合層１４を形成することにより、第
１機能層１２と第２機能層１３との間の密着性を向上させることができる。混合層１４が
第１機能層１２の成分と第２機能層１３の成分を含むか否かは、飛行時間型二次イオン質
量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）によって確認することができる。

【0132】

混合層１４が第１機能層１２の成分と第２機能層１３の成分を含み、かつ第１機能層１
２および第２機能層１３に隣接する層であれば、混合層１４の形成方法は、特に限定され
ない。例えば、混合層１４は、第１機能層１２の表面に第１機能層１２の成分と第２機能
層１３の成分を含む組成物を塗布することによって形成してもよく、また第１機能層用組
成物の塗膜を半硬化した状態で、この塗膜の表面に第２機能層用組成物を塗布することに
よって形成してもよい。ただし、密着性をより向上させ、かつより薄型化を図るためには
、第１機能層用組成物の塗膜を半硬化した状態で、この塗膜の表面に第２機能層用組成物
を塗布することによって形成することが好ましい。なお、第１機能層用組成物の後述する
第１塗膜２１を半硬化した状態で、この第１塗膜２１の表面に第２機能層用組成物を塗布
することによって混合層を形成する場合、理由は定かではないが、第２機能層用組成物の
溶剤が半硬化状態の塗膜に浸透することによって重合性化合物の成分も半硬化状態の後塗
膜内に引き込まれて、混合層が形成されると考えられる。

【0133】

混合層１４中の第２機能層１３の成分の濃度は、第２機能層１３から第１機能層１２に
向けて徐々に低くなっていることが好ましい。混合層１４がこのような濃度勾配を有する
ことにより、第１機能層１２と第２機能層１３の間において強固な密着性を確保できる。
このような濃度勾配は、ＴＯＦ－ＳＩＭＳによって確認することができる。このような濃
度分布を有する混合層１４は、第１機能層用組成物の塗膜を半硬化した状態で、この塗膜
の表面に第２機能層用組成物を塗布することによって形成できる。

【0134】

第１機能層１２、第２機能層１３および混合層１４の合計膜厚に対する混合層１４の膜
厚の割合（混合層１４の膜厚／（第１機能層１２の膜厚＋第２機能層１３の膜厚＋混合層
１４の膜厚）×１００）が、０．６％以上４０％以下であることが好ましい。上記割合が
０．６％以上であれば、耐久試験前の密着性（初期密着性）が良好となる。一方で、混合
層は比較的柔らかいので、上記割合が大きすぎると、光学フィルムが柔らかくなってしま
うおそれがある。上記割合が４０％以下であれば、光学フィルム１０の表面硬度の低下を
抑制できる。上記割合の下限は、初期密着性のみならず、耐久試験後の密着性も向上させ
る観点から、１％以上、３％以上、５％以上、または１０％以上であることが好ましく、
上記割合の膜厚の上限は、薄型化の観点から、３５％以下、３０％以下、または２０％以
下であることが好ましい。

【0135】

混合層１４の膜厚は、０．０２μｍ以上３μｍ以下であることが好ましい。混合層１４
の膜厚が０．０２μｍ以上であれば、初期密着性が良好となり、また３μｍ以下であれば
、光学フィルム１０の表面硬度の低下を抑制できる。混合層１４の膜厚が大きいほど、密
着性は向上するので、混合層１４の膜厚の下限は、初期密着性のみならず、耐久試験後の
密着性も向上させる観点から、０．１μｍ以上、０．２μｍ以上、または０．４μｍ以上
であることが好ましく、混合層１４の膜厚の上限は、光学フィルム１０の表面硬度の低下
を抑制する観点から、２μｍ以下または１μｍ以下であることがより好ましい。混合層１
４の膜厚は、第１機能層１２の半硬化の度合いを調整することによって調整することがで
きる。すなわち、第１機能層１２の半硬化の度合いを低くすると、混合層１４の膜厚は大
きくなり、半硬化の度合いを高くすると、混合層１４の膜厚は小さくなる。

【0136】

＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１０は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、図４（
Ａ）に示されるように、光透過性基材１１における一方の面１１Ａに第１機能層用組成物
を塗布して、乾燥させて、第１塗膜２１を形成する。次いで、図４（Ｂ）に示されるよう
に、第１塗膜２１に紫外線等の電離放射線を照射して、重合性化合物を重合（架橋）させ
ることにより第１塗膜２１を半硬化させる。本明細書における「半硬化」とは、電離放射
線をさらに照射すると硬化が実質的に進行することを意味する。

【0137】

第１塗膜２１を半硬化させた後、第１塗膜２１の表面に第２機能層用組成物を塗布し、
乾燥させると、図５（Ａ）に示されるように、第２塗膜２２の他に、第１塗膜２１と第２
塗膜２２の間に第１塗膜２１の成分と第２塗膜２２の成分を含む混合塗膜２３が形成され
る。

【0138】

次いで、図５（Ｂ）に示されるように、第１塗膜２１、第２塗膜２２および混合塗膜２
３に紫外線等の電離放射線を照射して、重合性化合物を重合（架橋）させることにより第
１塗膜２１、第２塗膜２２および混合塗膜２３を硬化（例えば、完全硬化）させる。本明
細書における「完全硬化」とは、これ以上電離放射線を照射しても硬化が実質的に進行し
ないことを意味する。これにより、第１機能層１２、第２機能層１３、および第１機能層
１２と第２機能層１３の間に混合層１４が形成されるので、光学フィルム１０が得られる
。

【0139】

本実施形態によれば、第１機能層１２、第２機能層１３および混合層１４の合計膜厚が
、１μｍ以上１０μｍ以下であるので、薄型化を図ることができる。また、第１機能層１
２および第２機能層１３の少なくともいずれかが紫外線吸収剤を含む場合において、第１
機能層１２と第２機能層１３の間に、第１機能層１２および第２機能層１３に隣接し、か
つ第１機能層１２、第２機能層１３および混合層１４の合計膜厚に対する混合層１４の膜
厚の割合が０．６％以上４０％以下となる混合層１４を形成しているので、表面硬度の低
下を抑制できるとともに、第１機能層１２と第２機能層１３の間の密着性を向上させるこ
とができる。

【0140】

本実施形態によれば、第１機能層１２および第２機能層１３の少なくともいずれかが紫
外線吸収剤を含む場合において、第１機能層１２と第２機能層１３の間に、第１機能層１
２および第２機能層１３に隣接し、かつ膜厚が０．０２μｍ以上１μｍ以下となる混合層
１４を形成しているので、表面硬度の低下を抑制できるとともに、第１機能層１２と第２
機能層１３の間の密着性を向上させることができる。

【0141】

本実施形態によれば、光透過性基材１１が、アセチルセルロース系樹脂、シクロオレフ
ィンポリマー系樹脂、または（メタ）アクリル系樹脂を含んでいるので、光透過性基材１
１の面内位相差Ｒｅは高くても１５０ｎｍ程度である。これにより、偏光サングラス越し
に表示画像を観察したときの視認性低下を抑制することができる。

【0142】

＜＜＜偏光板＞＞＞
光学フィルム１０は、偏光板に組み込んで使用することが可能である。図６は、本実施
形態に係る偏光板の概略構成図である。図６に示されるように、偏光板３０は、光学フィ
ルム１０と、偏光子３１と、保護フィルム３２とをこの順で備えている。また、偏光板３
０においては、光学フィルム１０の光透過性基材１１側に偏光子３１が設けられているが
、光学フィルムの機能層側に偏光子が設けられていてもよい。

【0143】

光学フィルム１０と偏光子３１、および偏光子３１と保護フィルム３２は、例えば、水
系接着剤または紫外線硬化性接着剤によって貼り合わせられている。

【0144】

＜＜偏光子＞＞
偏光子３１は、光透過性基材１１における第１機能層１２側の面とは反対側の面に設け
られている。偏光子３１としては、ヨウ素または二色性色素により染色し、一軸延伸させ
たポリビニルアルコール系樹脂フィルムが挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂とし
ては、ポリ酢酸ビニル系樹脂を鹸化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹
脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共
重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量
体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和ス
ルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。ポリビニルアル
コール系樹脂は、変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニル
ホルマールやポリビニルアセタール等を用いることもできる。

【0145】

＜＜保護フィルム＞＞
保護フィルム３２としては、例えば、トリアセチルセルロース系フィルムや（メタ）ア
クリル樹脂フィルム、シクロオレフィンポリマー系フィルム等が挙げられる。

【0146】

＜＜＜画像表示装置＞＞＞
光学フィルム１０または偏光板３０は、画像表示装置に組み込んで使用することが可能
である。図７は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図７に示される画
像表示装置４０は、観察者側に向けて、表示素子５０と、円偏光板６０と、タッチセンサ
７０と、カバー部材８０とをこの順で備えている。表示素子５０と円偏光板６０の間、円
偏光板６０とタッチセンサ７０の間、タッチセンサ７０とカバー部材８０との間は、接着
層９１～９３を介して接着されている。本明細書における「接着」とは粘着を含む概念で
ある。

【0147】

＜＜＜表示素子＞＞＞
表示素子５０としては、液晶素子、有機発光ダイオード素子（以下、「ＯＬＥＤ素子」
と称することもある。）、無機発光ダイオード素子、マイクロＬＥＤ、プラズマ素子等が
挙げられる。有機発光ダイオード素子としては、公知の有機発光ダイオード素子を用いる
ことができる。また、液晶表示素子は、タッチパネル機能を素子内に備えたインセルタッ
チパネル液晶表示素子であってもよい。

【0148】

＜＜＜円偏光板＞＞＞
円偏光板６０は、外光反射を抑制する機能を有するので、表示素子としてＯＬＥＤ素子
を用いる場合に、円偏光板６０は、特に有効である。円偏光板６０は、例えば、観察者側
に向けて、第１位相差フィルム６１（以下、単に「位相差フィルム６１」と称することも
ある。）と、接着層６２と、第２位相差フィルム６３（以下、単に「位相差フィルム６３
」と称することもある。）と、接着層６４と、偏光板３０とを、この順で備えている。

【0149】

円偏光板６０においては、光学フィルム１０の第２機能層１３が第１機能層１２よりも
観察者側に位置している。このように偏光板３０を配置することにより、所望の鉛筆硬度
や耐擦傷性を得ることができる。

【0150】

円偏光板６０の厚みは、薄型化を図る観点から、１００μｍ以下であることが好ましい
。円偏光板６０の厚みの下限は、強度低下による加工性の観点から、２０μｍ以上、３０
μｍ以上、または５０μｍ以上であることが好ましい。また、円偏光板６０の厚みの上限
は、９５μｍ以下、９０μｍ以下、８０μｍ以下であることがより好ましい。円偏光板６
０の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、円偏光板６０の断面を撮影し、その
断面の画像において円偏光板６０の厚みを１０箇所測定し、その１０箇所の厚みの算術平
均値を求めることによって求めることができる。

【0151】

円偏光板６０は、チップカット方式やロール・トゥ・パネル方式のいずれの方式によっ
て画像表示装置に組み込んでもよい。チップカット方式は、画像表示装置のサイズに合わ
せてロール状の円偏光板から所定の大きさの円偏光板を切り出して、接着層を介してガラ
ス等のカバー部材に貼り付ける方式である。また、ロール・トゥ・パネル方式は、画像表
示装置の製造ラインにおいてロール状の円偏光板を送り出しながら切断し、接着層を介し
てガラス等のカバー部材に貼り合わせる方式である。

【0152】

＜＜第１の位相差フィルム＞＞
位相差フィルム６１としては、ポジティブＣプレートまたはλ／４位相差フィルムを用
いることができる。

【0153】

＜ポジティブＣプレート＞
ポジティブＣプレートは、面内方向の屈折率をｎｘ、ｎｙとし、厚さ方向の屈折率をｎ
ｚとすると、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚの関係を満たすフィルムである。ポジティブＣプレートを
配置することにより、表示画面の法線方向に対して斜め方向から見たときの色味を改善で
きる。ポジティブＣプレートは、例えば、垂直配向した液晶層から構成されていてもよい
。

【0154】

＜λ／４位相差フィルム＞
λ／４位相差フィルムとは、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム
の面内位相差が約１／４となる特性を備えるフィルムである。λ／４位相差フィルムを配
置することにより、直線偏光を円偏光に、または円偏光を直線偏光に変換することができ
る。

【0155】

λ／４位相差フィルムとしては、正の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムや負の
波長分散性を有するλ／４位相差フィルムが挙げられる。正の波長分散性を有するλ／４
位相差フィルムは、長波長になるほど位相差が小さくなる性質を有するフィルムであり、
負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムは、長波長になるほど位相差が大きくなる
性質を有するフィルムである。

【0156】

正の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムは、延伸倍率を調整しながら樹脂フィル
ムを延伸することによって得ることができる。λ／４位相差フィルムを得るための樹脂フ
ィルムを構成する樹脂としては、例えば、シクロオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂等
が挙げられる。負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムは、例えば、ポリカーボネ
ート系樹脂、芳香族構造を有する樹脂によって得ることができる。

【0157】

＜＜接着層＞＞
接着層６２、６４は、重合性化合物を含む液状の電離放射線硬化性接着剤（例えば、Ｏ
ＣＲ：Optically Clear Resin）の硬化物や粘着剤（例えば、ＯＣＡ：Optical Clear Adh
esive）から構成することが可能である。接着層６２、６４の膜厚は、０．５μｍ以上５
０μｍ以下であることが好ましい。

【0158】

＜＜第２の位相差フィルム＞＞
位相差フィルム６１がポジティブＣプレートである場合には、位相差フィルム６３とし
ては、負の波長分散性（逆波長分散性）を有するλ／４位相差フィルムを用いることがで
き、また位相差フィルム６１がλ／４位相差フィルムである場合には、λ／２位相差フィ
ルムを用いることができる。

【0159】

＜負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルム＞
負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムとしては、上記λ／４位相差フィルムの
欄で説明した負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムと同様であるので、ここでは
説明を省略するものとする。

【0160】

＜λ／２位相差フィルム＞
λ／２位相差フィルムとは、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム
の面内位相差が約１／２となる特性を備えたフィルムである。λ／４位相差フィルムの他
にλ／２位相差フィルムを配置することにより、広い波長帯域において円偏光に変換する
ことができる。

【0161】

λ／２位相差フィルムは、延伸倍率を調整しながら樹脂フィルムを延伸することによっ
て得ることができる。λ／２位相差フィルムを得るための樹脂フィルムを構成する樹脂と
しては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、シクロオレフィンポリマー系樹脂等が挙げら
れる。

【0162】

＜＜＜タッチセンサ＞＞＞
タッチセンサ７０としては、公知のタッチセンサを用いることができる。タッチセンサ
７０の種類としては、特に限定されないが、例えば、静電容量方式のタッチセンサを用い
ることができる。タッチセンサ７０は、円偏光板６０とカバー部材８０との間に配置され
ているが、表示素子５０と円偏光板６０との間に配置されていてもよい。

【0163】

＜＜＜カバー部材＞＞＞
カバー部材８０の表面８０Ａは、画像表示装置４０の表面４０Ａとなっている。カバー
部材８０は、カバーガラスまたは樹脂からなるカバーフィルムであってもよい。画像表示
装置４０が、屈曲性を有する場合には、カバー部材８０は屈曲性を有するガラスや屈曲性
を有する樹脂から構成されていることが好ましい。屈曲性を有する樹脂としては、例えば
、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂
（例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂やポリエチレンナフタレート樹脂）、または
これらの樹脂を２以上混合した混合物等が挙げられる。

【0164】

＜＜＜接着層＞＞＞
接着層９１～９３は、重合性化合物を含む液状の電離放射線硬化性接着剤（例えば、Ｏ
ＣＲ：Optically Clear Resin）の硬化物や粘着剤（例えば、ＯＣＡ：Optical Clear Adh
esive）から構成することが可能である。

【0165】

ＯＬＥＤ素子は、外光等によって劣化するおそれがある。このため、現在、ＯＬＥＤ素
子を用いた画像表示装置においては、ＯＬＥＤ素子の劣化を抑制することが望まれている
。また、ＯＬＥＤ素子は、ブルーライトと呼ばれる光を発している。ブルーライトは、波
長３８０ｎｍ～５００ｎｍの波長域の光で紫外線に近い性質を持っており、強いエネルギ
ーを有しているため、角膜や水晶体で吸収されずに網膜に到達することで、網膜の損傷、
眼精疲労、睡眠への悪影響等の原因になると言われている。このため、現在、ブルーライ
トを遮蔽することが望まれている。本実施形態によれば、表示素子５０がＯＬＥＤ素子で
ある場合、ＯＬＥＤ素子よりも観察者側に紫外線吸収剤を含む第１機能層１２を備えてい
るので、第１機能層１２により外光のうち紫外線を吸収することができる。これにより、
ＯＬＥＤ素子の外光による劣化を抑制できる。また、ＯＬＥＤ素子から発せられる紫外線
を吸収することができるので、ブルーライトを遮蔽できる。

【0166】

本実施形態によれば、表示素子５０がＯＬＥＤ素子である場合、ＯＬＥＤ素子よりも観
察者側にセサモール型ベンゾトリアゾール系化合物およびインドール系化合物の少なくと
もいずれかを含む第１機能層１２を備えているので、第１機能層１２により外光のうち紫
外線を吸収することができる。これにより、ＯＬＥＤ素子の外光による劣化を抑制できる
とともに、ＯＬＥＤ素子から発せられるブルーライトを遮蔽できる。

【0167】

本実施形態によれば、偏光子３１よりも観察者側に紫外線を吸収する紫外線吸収剤を含
む第１機能層１２を備えているので、表示素子５０がＯＬＥＤ素子である場合、ＯＬＥＤ
素子のみならず、偏光子の外光による劣化を抑制できる。

【0168】

接着層に上記紫外線吸収剤を含ませた場合にも、ＯＬＥＤ素子の外光による劣化を抑制
できるとともに、ブルーライトを遮蔽できるが、接着層に紫外線吸収剤を含ませると、接
着力が低下しやすい。このため、接着層の薄膜化を図ることは困難である。また、円偏光
板等の構成によって、接着層の種類を変えることもあるので、接着層の種類毎に紫外線吸
収剤を含ませる必要がある。これに対し、本実施形態において、インデンテーション硬さ
が５０ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下の第１機能層１２に紫外線吸収剤を含ませた場合には
、第１機能層１２の薄膜化を図ることができる。また、第１機能層１２に紫外線吸収剤を
含ませているので、円偏光板６０等の構成によって接着層の種類が変わったとしても、第
１機能層１２で対応することができる。

【0169】

[第２実施形態]
以下、本発明の第２実施形態に係る光学フィルムおよび画像表示装置について、図面を
参照しながら説明する。図８は、本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図
９は、図８の光学フィルムの一部拡大図であり、図１０は、面内位相差を測定する位置を
特定するためのサンプルの平面図である。図１１および図１２は、本実施形態に係る光学
フィルムの製造工程を模式的に示した図である。

【0170】

＜＜＜＜光学フィルム＞＞＞＞
図８に示される光学フィルム１００は、光透過性基材１０１および機能層１０２を備え
ている。機能層１０２は、窒素原子を含む紫外線吸収剤を含んでいる。図８に示される機
能層１０２は、光透過性基材１０１に隣接しているが、光透過性基材１０１と機能層１０
２の間には他の機能層が設けられていてもよい。

【0171】

図８に示される光学フィルム１００の表面１００Ａは、機能層１０２の表面１０２Ａと
なっている。ただし、機能層の表面に他の機能層が形成されている場合には、光学フィル
ムの表面は、他の機能層の表面となる。本明細書における「機能層の表面」とは、機能層
における光透過性基材側の面とは反対側の面を意味するものとする。

【0172】

光学フィルム１００の厚み（合計厚み）、分光透過率、イエローインデックス、全光線
透過率、ヘイズ値、鉛筆硬度等の物性値およびその測定方法、フレキシブル性およびその
評価方法、ならびに光学フィルム１００の用途および大きさは、光学フィルム１０の厚み
、分光透過率、イエローインデックス、全光線透過率、ヘイズ値、鉛筆硬度等の物性値お
よびその測定方法、フレキシブル性およびその評価方法、ならびに光学フィルム１０の用
途および大きさと同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。

【0173】

＜＜＜光透過性基材＞＞＞
光透過性基材１０１としては、光透過性を有する基材である。光透過性基材１０１とし
ては、特に限定されないが、光透過性基材１０１と機能層１０２との密着性の観点から、
機能層１０２の形成の際に、機能層１０２の成分（例えば、重合性化合物）が入り込む浸
透性基材であってもよい。

【0174】

光透過性基材を構成材料としては、特に限定されず、例えば、アセチルセルロース系樹
脂、シクロオレフィンポリマー系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ
塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレ
ート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等の光透過性樹脂やこれらの混合物が挙
げられる。第１実施形態で説明したように、偏光サングラス越しに表示画像を観察した場
合であっても視認性の低下を抑制できることから、アセチルセルロース系樹脂、シクロオ
レフィンポリマー系樹脂または（メタ）アクリル樹脂が好ましい。また、フレキシブル性
の点からポリイミド系樹脂やポリアミド系樹脂がより好ましい。光透過性基材は必要に応
じて、可塑剤、紫外線吸收剤、易滑剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。

【0175】

アセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー系樹脂、（メタ）アクリル系樹
脂は、第１実施形態で説明したので、ここでは説明を省略するものとする。

【0176】

ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ
エチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリブチレ
ンナフタレート（ＰＢＮ）の少なくとも１種を構成成分とする樹脂等が挙げられる。ポリ
エステル系樹脂を用いた場合、紫外光が照射されると励起されて蛍光を発する性質を有す
ることが知られている。このような蛍光は、表示面の色味に影響を及ぼすことがあったが
、光学フィルム１０では、上述のように波長３８０ｎｍ以下の光はほぼ遮蔽するものであ
るため、光透過性基材１１にポリエステル系樹脂を用いたとしても、蛍光が生じることを
好適に防止することができる。

【0177】

ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ
る。ポリカーボネート系樹脂としては、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等
）をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト等の脂肪族ポリカーボネート等が挙げられる。

【0178】

ポリイミド系樹脂は、脂肪族のポリイミド系樹脂であってもよいが、芳香族環を含む芳
香族系ポリイミド樹脂であることが好ましい。芳香族系ポリイミド樹脂は、テトラカルボ
ン酸成分およびジアミン成分の少なくとも一方に芳香族環を含むものである。

【0179】

ポリイミド系樹脂は、その一部にポリアミド構造を含んでいても良い。含んでいても良
いポリアミド構造としては、例えば、トリメリット酸無水物のようなトリカルボン酸残基
を含むポリアミドイミド構造や、テレフタル酸のようなジカルボン酸残基を含むポリアミ
ド構造が挙げられる。ポリアミド系樹脂は、脂肪族ポリアミドのみならず、芳香族ポリア
ミド（アラミド）を含む概念である。

【0180】

光透過性基材１０１の厚み（光学フィルム１００にフレキシブル性が求められるときの
光透過性基材１０１の厚みを含む）および厚みの測定方法、ならびに表面処理は、光透過
性基材１１の厚みおよび厚みの測定方法、ならびに表面処理と同様であるので、ここでは
説明を省略するものとする。なお、光透過性基材１０１が、ポリエステル系樹脂を含む場
合であって、光学フィルム１００にフレキシブル性が求められる場合には、光透過性基材
１０１の厚みは、シクロオレフィンポリマー系樹脂を含む光透過性基材１１の厚みと同様
である。

【0181】

光透過性基材１０１が、ポリエステル系樹脂を含む場合、光透過性基材１０１内のポリ
マーが均一である方がフレキシブル性に優れる。光透過性基材１０１がポリエステル系樹
脂を含む場合には、物理的強度を得るために延伸が欠かせないため、ポリマー状態をなる
べく均一にするためには、縦横にほぼ同倍率で逐次または同時２軸延伸によって製造する
とよい。その結果、従来のポリエステル系樹脂を含む光透過性基材よりも面内位相差が小
さいポリエステル系樹脂を含む光透過性基材が得られる。ポリエステル系樹脂を含む光透
過性基材における「面内位相差が小さい」とは、ポリエステル系樹脂を含む光透過性基材
の厚みが１０μｍ以上９０μｍ以下の範囲内で、面内位相差が１５００ｎｍ以下であるこ
とを意味し、好ましくは１２００ｎｍ以下、より好ましくは１０００ｎｍ以下、さらに好
ましくは８００ｎｍ以下である。なお、二軸延伸ポリエステル系樹脂を含む光透過性基材
としての物理特性を良好にするには、面内位相差は小さすぎない方が良く、２００ｎｍ以
上、更には４００ｎｍ以上が好ましい。

【0182】

光透過性基材１０１が、ポリエステル系樹脂を含む場合、光透過性基材１０１の面内位
相差は、光透過性基材の面内において屈折率が最も大きい方向である遅相軸方向の屈折率
ｎｘ、前記面内において前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率ｎｙ、
および光透過性基材の厚みｔ（ｎｍ）により、下記数式（４）によって表わされるもので
ある。下記数式（４）より、面内位相差が小さいことで、配向性の程度が低いため折り曲
げ耐性を良好にし得る傾向があることが分かる。面内位相差（Ｒｅ）は、例えば、大塚電
子社製の商品名「ＲＥＴＳ－１００」、王子計測機器社製の商品名「ＫＯＢＲＡ－ＷＲ」
、「ＰＡＭ－ＵＨＲ１００」により測定できる。
面内位相差（Ｒｅ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｔ …（４）

【0183】

ＲＥＴＳ－１００を用いて上記Ｒｅを測定する場合には、以下の手順に従って測定する
ことができる。まず、ＲＥＴＳ－１００の光源を安定させるため、光源を点灯させてから
６０分以上放置する。その後、回転検光子法を選択するとともに、θモード（角度方向位
相差測定モード）選択する。このθモードを選択することにより、ステージは傾斜回転ス
テージとなる。

【0184】

次いで、ＲＥＴＳ－１００に以下の測定条件を入力する。
（測定条件）
・リタデーション測定範囲：回転検光子法
・測定スポット径：φ５ｍｍ
・傾斜角度範囲：－４０°～４０°
・測定波長範囲：４００ｎｍ～８００ｎｍ
・サンプル（ポリエチレンテレフタレート）の平均屈折率：１．６１７
・厚み：ＳＥＭや光学顕微鏡で別途測定した厚み

【0185】

次いで、この装置にサンプルを設置せずに、バックグラウンドデータを得る。装置は閉
鎖系とし、光源を点灯させる毎にこれを実施する。

【0186】

その後、この装置内のステージ上にサンプルを設置する。サンプルの形状は、どのよう
な形状であってもよく、例えば、長方形状であってもよい。サンプルの大きさは、５０ｍ
ｍ×５０ｍｍであってもよい。サンプルが複数存在する場合には、全て同じ向きで設置す
る必要がある。例えば、サンプルを全て同じ向きで設置するために予め印を全サンプルに
付けておくことが好ましい。

【0187】

サンプルを設置した後、温度２３±５℃および相対湿度５０±２０％の環境下で、ＸＹ
平面上でステージを３６０°回転させて、進相軸および遅相軸を測定する。測定終了後、
遅相軸を選択する。その後、遅相軸を中心にステージが設定した角度範囲に傾きながら測
定が行われ、１０°刻みで、設定傾斜角度範囲および設定波長範囲のデータ（Ｒｅ）が得
られる。面内位相差Ｒｅは、入射角０°および波長５８９ｎｍの光で測定したときの値と
する。面内位相差Ｒｅは、位置が異なる５点で測定する。具体的には、まず、図１０に示
されるようにサンプルＳ２の中心Ａ１を通る２本の直交する仮想線ＩＬ１、ＩＬ２を引く
。この仮想線ＩＬ１、ＩＬ２を引くと、サンプルが４つの区画に分かれる。そして、各区
画において中心Ａ１から等距離にある１点、合計４点Ａ２～Ａ４を設定し、中心Ａ１およ
び点Ａ２～Ａ４の合計５点で測定する。そして、５点の測定値中、最大値と最小値を除い
た３点の算術平均値を面内位相差Ｒｅとする。

【0188】

また、更に物理特性を良好にするには、面内方向の複屈折とともに膜厚方向の複屈折と
のバランスも考慮した方がよい。その指標としてはＮｚ係数がある。Ｎｚ係数は光透過性
基材の内部の結晶性や配向性が影響するものなので、光透過性基材全体の特性に関わって
いる。Ｎｚ係数は、例えばポリエチレンテレフタレートである場合は、２～４が一般的で
あるが、本発明においては、５以上、更には好ましくは８以上、最も好ましくは１０以上
である。Ｎｚ係数の上限は８０程度であり、好ましくは７０以下、最も好ましくは５０以
下である。Ｎｚ係数は、光透過性基材の厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、下記数式（
５）によって表わされるものである。なお、下記数式（５）におけるｎｘおよびｎｙは、
上記数式（４）のｎｘおよびｎｙと同様である。
Ｎｚ係数＝（ｎｚ－ｎｘ）／（ｎｙ－ｎｘ） …（５）

【0189】

＜＜＜機能層＞＞＞
図８に示される機能層１０２は、単層構造となっているが、２以上の多層構造であって
もよい。また、機能層１０２は、ハードコート層として機能する層である。ただし、機能
層１０２は、他の機能を有する層であってもよい。本実施形態における「ハードコート層
」とは、インデンテーション硬さが、光透過性基材のインデンテーション硬さよりも大き
い層を意味する。

【0190】

機能層１０２の膜厚は、１μｍ以上１０μｍ以下となっている。機能層１０２の膜厚が
、この範囲内にあることにより、薄型化を図ることができる。この膜厚の上限は、９μｍ
以下、８μｍ以下、または７μｍ以下となっていてもよい。

【0191】

本実施形態における「機能層の膜厚」とは、顕微鏡画像のコントラスト差により光透過
性基材と機能層との界面ラインを認識できるので、この界面ラインから機能層の表面まで
の距離を意味する。機能層の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（
ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）等を用いて、機能層の断面を撮影し、
その断面の画像において機能層の膜厚を１０箇所測定し、その１０箇所の膜厚の算術平均
値を求めることによって求めることができる。具体的な断面写真の撮影方法は、第１実施
形態で記載した断面写真の撮影方法と同様であるので、ここでは説明を省略するものとす
る。

【0192】

機能層１０２において、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）により
機能層１０２の深さ方向Ｄ１に二次イオンの強度を測定したとき、機能層１０２の表面１
０２Ａを含む厚さ０．３μｍの第１領域１０２Ｃ（図９参照）における紫外線吸収剤由来
の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ１に対する機能層１０２の深さ方向Ｄ１に機能層１０２を二等分
する二等分線ＩＬ（図９参照）を含む厚さ０．３μｍの第２領域１０２Ｄ（図９参照）に
おける紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ２の比（Ｉ_Ｕ２／Ｉ_Ｕ１）が１．１以上
４．０以下となり、かつ第２領域１０２Ｄにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度
Ｉ_Ｕ２に対する機能層１０２の裏面１０２Ｂを含む厚さ０．３μｍの第３領域１０２Ｅ（
図９参照）における紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ３の比（Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ２）
が１．２以上４．０以下となっている。Ｉ_Ｕ２／Ｉ_Ｕ１が１．１以上であれば、第１領域
１０２Ｃに含まれる紫外線吸収剤が多すぎないために、表面硬度や耐擦傷性の低下をより
抑制できるとともに紫外線吸収剤の析出をより抑制できる。また、Ｉ_Ｕ２／Ｉ_Ｕ１が４．
０以下であれば、第１領域１０２Ｃと第２領域１０２Ｄとの間に極端な紫外線吸収剤の濃
度差が出来にくいので、第１領域１０２Ｃより紫外線吸収剤が多く含まれている第２領域
１０２Ｄが柔らかくなりすぎることを抑制でき、表面硬度の低下や耐久試験時における第
１領域１０２Ｃと第２領域１０２Ｄの間の熱収縮差により生じるクラックを抑制できる。
Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ２が１．２以上であれば、第２領域１０２Ｄに含まれる紫外線吸収剤が多す
ぎないために、紫外線吸収剤の析出をより抑制できる。Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ２が４．０以下であ
れば、第２領域１０２Ｄと第３領域１０２Ｅとの間に極端な紫外線吸収剤の濃度差が出来
にくいので、第２領域１０２Ｄより紫外線吸収剤が多く含まれている第３領域１０２Ｅが
柔らかくなりすぎることを抑制でき、表面硬度の低下や耐久試験時における第２領域１０
２Ｄと第３領域１０２Ｅの間の熱収縮差により生じるクラックを抑制できる。Ｉ_Ｕ２／Ｉ
_Ｕ１の下限は、１．２以上、１．３以上、または１．４以上であることがより好ましく、
上限は、３．５以下、３．０以下、２．５以下、２．０以下、または１．６以下であるこ
とがより好ましい。また、Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ２の下限は、１．３以上、１．４以上、１．６以
上、または２．０以上であることがより好ましく、上限は、３．５以下、３．２以下、２
．８以下、２．６以下、または２．５以下であることがより好ましい。

【0193】

第１領域１０２Ｃにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ１に対する第３領
域１０２Ｅにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ３の比（Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ１）
は、１．５以上６．５以下となっていることが好ましい。Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ１が１．５以上で
あれば、第１領域１０２Ｃに含まれる紫外線吸収剤が多すぎないために、表面硬度や耐擦
傷性の低下をより抑制できるとともに紫外線吸収剤の析出をより抑制できる。また、Ｉ_Ｕ
３／Ｉ_Ｕ１が６．５以下であれば、第３領域１０２Ｅが柔らかくなりすぎることを抑制で
き、表面硬度の低下を抑制できる。Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ１の下限は１．８以上、２．０以上、ま
たは２．２以上であることがより好ましく、上限は、６．２以下、６．０以下、または５
．８以下であることがより好ましい。

【0194】

ＴＯＦ－ＳＩＭＳでのデプスプロファイルの横軸は、深さであるが、この深さは機能層
のエッチング速度から換算した深さであるので、上記断面写真から求められる機能層の膜
厚および各領域の厚さと、デプスプロファイル上での機能層の膜厚および各領域とは必ず
しも一致しないこともある。上記「機能層の深さ方向に機能層を二等分する二等分線」は
、機能層の深さ方向に機能層の膜厚を二等分する仮想線であり、上記デプスプロファイル
から求められる機能層の膜厚に基づいて求められ、また上記「機能層の裏面」は、上記デ
プスプロファイルにおける光透過性基材由来の二次イオンの強度と紫外線吸収剤由来の二
次イオンの強度の交点とする。また「第１領域の厚さ」、「第２領域の厚さ」、「第３領
域の厚さ」も上記デプスプロファイルから求められる厚さとする。また、本明細書におけ
る「二次イオンの強度」とは、特に言及しない限り、各領域において深さが異なる少なく
とも３箇所で測定された強度の算術平均値とする。また、上記二等分線ＩＬは、深さ方向
Ｄ１と直交する方向Ｄ２（図９参照）に延びるものであり、第２領域１０２Ｄは、上記二
等分線ＩＬが第２領域１０２Ｄの中央に位置するように設定される。

【0195】

上記二次イオン強度の測定は、飛行時間型二次イオン質量分析装置（例えば、ＩＯＮ－
ＴＯＦ社製のＴＯＦ．ＳＩＭＳ５）を用いて行うことができる。具体的には、まず、１０
ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、飛行時間型二次イオン質量分析装
置の試料室に、一次イオンが機能層の表面に照射されるように設置する。そして、一次イ
オンを機能層の表面に照射して、第１領域、第２領域、および第３領域における紫外線吸
収剤由来の二次イオンの強度を測定する。なお、窒素原子を含む紫外線吸収剤は窒素原子
を含むので、紫外線吸収剤由来の二次イオンとしてＣＮ^－が検出される。また、窒素原子
を含む紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系化合物である場合には、紫外線吸収剤由来の
二次イオンとしてＣＮ^－やＣ_６Ｈ_４Ｎ_３ ^－が検出される。

【0196】

上記ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５を用いて、紫外線吸収剤に由来する二次イオンの強度を測定す
る際には、例えば、以下の測定条件で行うことができる。なお、測定条件に記載されてい
るようにエッチングイオンとしてＡｒガスクラスターイオンビームを用いているが、Ａｒ
ガスクラスターイオンビームを用いることにより、有機物の構造物において低ダメージの
エッチングが可能となる。
・２次イオン極性：負
・質量範囲（ｍ／ｚ）：０～３０００
・ラスターサイズ：２００μｍ□
・スキャン数：１ｓｃａｎ／ｃｙｃｌｅ
・ピクセル数（１辺）：１２８ピクセル
・測定真空度（サンプル導入前）：４×１０^－７Ｐａ以下
・帯電中和：有り
・後段加速：１０ｋＶ
・１次イオン：Ｂｉ_３ ^＋＋
・１次イオン加速電圧：３０ｋＶ
・パルス幅：１１．３ｎｓ
・バンチング：有り（高質量分解能測定）
・エッチングイオン：Ａｒガスクラスターイオンビーム（Ａｒ－ＧＣＩＢ）
・エッチングイオン加速電圧：２０ｋＶ
・Ａｒクラスターサイズ（中央値）：約１４００

【0197】

機能層１０２において、第１領域１０２Ｃにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの最
小強度Ｉ_{Ｕ１(ｍｉｎ)}が、第２領域１０２Ｄにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの最
小強度Ｉ_{Ｕ２(ｍｉｎ)}よりも小さく、かつ第２領域１０２Ｄにおける紫外線吸収剤由来の
二次イオンの最小強度Ｉ_{Ｕ２(ｍｉｎ)}が、第３領域１０２Ｅにおける紫外線吸収剤由来の
二次イオンの最小強度Ｉ_{Ｕ３(ｍｉｎ)}よりも小さくなっていることが好ましい。機能層１
０２において、このような関係を有することにより、機能層１０２の表面１０２Ａから裏
面１０２Ｂに向けて徐々に紫外線吸収剤が多くなるので、紫外線吸収剤の極端な濃度差が
生じることを抑制でき、耐久試験時に機能層１０２にクラックが生じることをより抑制で
きる。

【0198】

機能層１０２においては、第１領域１０２Ｃにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの
最大強度Ｉ_{Ｕ１(ｍａｘ)}が、第２領域１０２Ｄにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの
最小強度Ｉ_{Ｕ２(ｍｉｎ)}よりも小さく、かつ第２領域１０２Ｄにおける紫外線吸収剤由来
の二次イオンの最大強度Ｉ_{Ｕ２(ｍａｘ)}が、第３領域１０２Ｅにおける紫外線吸収剤由来
の二次イオンの最小強度Ｉ_{Ｕ３(ｍｉｎ)}よりも小さくなっていることが好ましい。機能層
１０２において、このような関係を有することにより、機能層１０２の表面１０２Ａから
裏面１０２Ｂに向けて徐々に紫外線吸収剤が多くなるので、紫外線吸収剤の極端な濃度差
が生じることを抑制でき、耐久試験時に機能層１０２にクラックが生じることをより抑制
できる。

【0199】

機能層１０２においては、第１領域１０２Ｃにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの
最小強度Ｉ_{Ｕ１(ｍｉｎ)}が、機能層１０２における第１領域１０２Ｃの光透過性基材１１
側の境界１０２Ｃ１から裏面１０２Ｂまでの第４領域１０２Ｆにおける紫外線吸収剤由来
の二次イオンの最小強度Ｉ_{Ｕ４(ｍｉｎ)}よりも小さいことが好ましい。機能層１０２にお
いて、このような関係を有することにより、機能層１０２においては、第１領域１０２Ｃ
中の紫外線吸収剤が最も少ないので、紫外線吸収剤の析出、表面硬度の低下、および耐擦
傷性の低下をより抑制できる。

【0200】

機能層１０２は後述するようにフッ素原子含有化合物を含んでいてもよいが、機能層１
０２がフッ素原子含有化合物を含む場合、ＴＯＦ－ＳＩＭＳにより測定された第１領域１
０２Ｃにおけるフッ素原子含有化合物由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｆ１が、第２領域１０２
Ｄおよび第３領域１０２Ｅにおけるフッ素原子含有化合物由来の二次イオンのそれぞれの
強度Ｉ_Ｆ２、Ｉ_Ｆ３よりも大きくなっていることが好ましい。すなわち、フッ素原子含有
化合物は、機能層１０２の表面１０２Ａ側（第１領域１０２Ｃ）に偏在している。上記強
度Ｉ_Ｆ１が、上記強度Ｉ_Ｆ２、Ｉ_Ｆ３よりも大きくなっていることにより、フッ素原子含
有化合物が機能層１０２の第１領域１０２Ｃに多いので、紫外線吸収剤が表面１０２Ａに
析出するのを抑制できる。

【0201】

第２領域１０２Ｄおよび第３領域１０２Ｅにおけるフッ素原子含有化合物由来の二次イ
オンの強度Ｉ_Ｆ２、Ｉ_Ｆ３に対する第１領域１０２Ｃにおけるフッ素原子含有化合物由来
の二次イオンの強度Ｉ_Ｆ１の比（Ｉ_Ｆ１／Ｉ_Ｆ２、Ｉ_Ｆ１／Ｉ_Ｆ３）が、それぞれ３０以
上であることが好ましい。Ｉ_Ｆ１／Ｉ_Ｆ２およびＩ_Ｆ１／Ｉ_Ｆ３がそれぞれ３０以上であ
れば、紫外線吸収剤が表面１０２Ａに析出するのをより抑制できる。Ｉ_Ｆ１／Ｉ_Ｆ２およ
びＩ_Ｆ１／Ｉ_Ｆ３の下限は、それぞれ４０以上、５０以上、６０以上、または７０以上で
あることがより好ましい。

【0202】

機能層１０２は後述するようにケイ素原子含有化合物を含んでいてもよいが、機能層１
０２がケイ素原子含有化合物を含む場合、ＴＯＦ－ＳＩＭＳにより測定された第１領域１
０２Ｃにおけるケイ素原子含有化合物由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｓ１が、第２領域１０２
Ｄおよび第３領域１０２Ｅにおけるケイ素原子含有化合物由来の二次イオンのそれぞれの
強度Ｉ_Ｓ２、Ｉ_Ｓ３よりも大きくなっていることが好ましい。すなわち、ケイ素原子含有
化合物は、機能層１０２の表面１０２Ａ側（第１領域１０２Ｃ）に偏在している。上記強
度Ｉ_Ｓ１が、上記強度Ｉ_Ｓ２、Ｉ_Ｓ３よりも大きくなっていることにより、ケイ素原子含
有化合物が機能層１０２の第１領域１０２Ｃに多いので、紫外線吸収剤が表面１０２Ａに
析出するのを抑制できる。

【0203】

第２領域１０２Ｄおよび第３領域１０２Ｅにおけるケイ素原子含有化合物由来の二次イ
オンの強度Ｉ_Ｓ２、Ｉ_Ｓ３に対する第１領域１０２Ｃにおけるケイ素原子含有化合物由来
の二次イオンの強度Ｉ_Ｓ１の比（Ｉ_Ｓ１／Ｉ_Ｓ２、Ｉ_Ｓ１／Ｉ_Ｓ３）が、それぞれ３以上
であることが好ましい。Ｉ_Ｓ１／Ｉ_Ｓ２およびＩ_Ｓ１／Ｉ_Ｓ３がそれぞれ３以上であれば
、紫外線吸収剤が表面１０２Ａに析出するのをより抑制できる。Ｉ_Ｓ１／Ｉ_Ｓ２およびＩ
_Ｓ１／Ｉ_Ｓ３の下限は、それぞれ５以上、１０以上、または１５以上であることがより好
ましい。

【0204】

ＴＯＦ－ＳＩＭＳによるフッ素原子含有化合物由来の二次イオンの強度およびケイ素原
子含有化合物由来の二次イオンの強度は、上記紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度と同
様の方法によって測定できる。なお、フッ素原子含有化合物はフッ素原子を含むので、フ
ッ素原子含有化合物由来の二次イオンとしてＦ^－が検出される。また、ケイ素原子含有化
合物はケイ素原子を含むので、ケイ素原子含有化合物由来の二次イオンとしてＳｉＯ_２ ^－
が検出される。

【0205】

機能層１０２のインデンテーション硬さは、７５ＭＰａ以上１０００ＭＰａ以下である
ことが好ましい。機能層１０２のインデンテーション硬さが、７５ＭＰａ以上であれば、
所望の鉛筆硬度を得ることができ、また１０００ＭＰａ以下であれば、クラック発生を抑
制できる。機能層１０２のインデンテーション硬さの下限は、１００ＭＰａ以上、１５０
ＭＰａ以上、または２００ＭＰａ以上であることがより好ましい。また、機能層１０２の
インデンテーション硬さの上限は、９００ＭＰａ以下、７５０ＭＰａ以下、または６００
ＭＰａ以下であることがより好ましい。機能層１０２のインデンテーション硬さは、第１
実施形態に記載した方法によって測定するものとする。

【0206】

機能層１０２は、樹脂および窒素原子を含む紫外線吸収剤を含んでいる。機能層１０２
は、樹脂および紫外線吸収剤の他に、フッ素原子含有化合物、ケイ素原子含有化合物、重
合開始剤を含んでいてもよい。

【0207】

＜樹脂＞
機能層１０２に含まれる樹脂としては、重合性化合物の重合物（硬化物）を含むもので
ある。樹脂は、重合性化合物の重合物の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性化合物を含んでい
てもよい。重合性化合物は、第２機能層１３の欄に記載した重合性化合物と同様であるの
で、ここでは説明を省略するものとする。溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性化合物は、第１機能
層１２の欄に記載した溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性化合物と同様であるので、ここでは説明
を省略するものとする。

【0208】

＜紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤は、第１実施形態に記載した紫外線吸収剤と同様であるので、ここでは説
明を省略するものとする。

【0209】

＜フッ素原子含有化合物＞
フッ素原子含有化合物は、フッ素原子を含んでいる化合物であれば、特に限定されない
。フッ素原子含有化合物としては、例えば、フッ素系レベリング剤等が挙げられる。フッ
素系レベリング剤を用いることにより、高いレベリング性により平滑性、リコート性を付
与できる。フッ素系レベリング剤の市販品としては、例えば、Ｆ－５５５（ＤＩＣ株式会
社製）、Ｆ－５６８（ＤＩＣ株式会社製）、フタージェント（登録商標）６８３（株式会
社ネオス製）が挙げられる。

【0210】

＜ケイ素原子含有化合物＞
ケイ素原子含有化合物は、ケイ素原子を含んでいる化合物であれば、特に限定されない
。ケイ素原子含有化合物としては、例えば、シリカ粒子やケイ素系レベリング剤等が挙げ
られる。シリカ粒子を用いる場合、機能層１０２に易滑性を付与することができる。

【0211】

シリカ粒子の平均粒径は、１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましい。シリカ
粒子の平均粒径が１ｎｍ以上であれば、シリカ粒子を容易に製造することができ、また１
０００ｎｍ以下であれば、易滑性を付与できるとともに、高い透明性を維持できる。シリ
カ粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥ
Ｍ）を用いて倍率４万倍～２０万倍で撮影したシリカ粒子の断面の画像から２０個のシリ
カ粒子の粒径を測定し、２０個のシリカ粒子の粒径の算術平均値とする。

【0212】

機能層１０２は、１種類の組成物を用いて形成してもよいが、２種類以上の組成物を用
いて形成することが可能である。２種類以上の組成物を用いて機能層１０２を形成する場
合には、例えば、重合性化合物および窒素原子を含む紫外線吸収剤を含む機能層用第１組
成物および重合性化合物を含む機能層用第２組成物を用いて形成してもよい。

【0213】

＜機能層用第１組成物＞
機能層用第１組成物は、上記重合性化合物および紫外線吸収剤等を含むが、その他、必
要に応じて、重合開始剤、溶剤、レベリング等を含んでいてもよい。重合開始剤、溶剤、
レベリング剤は、第１実施形態に記載した重合開始剤、溶剤、レベリング剤と同様である
ので、ここでは説明を省略するものとする。

【0214】

＜機能層用第２組成物＞
機能層用第２組成物は、上記重合性化合物等を含むが、その他、上記フッ素原子含有化
合物、上記ケイ素原子含有化合物、上記溶剤乾燥型樹脂、上記熱硬化性化合物、重合開始
剤、溶剤等を含んでいてもよい。また、機能層用第２組成物は、必要に応じて、本発明の
効果を損なわない範囲で、以下の各種添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤とし
ては、例えば、帯電防止剤、接着性向上剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、
消泡剤、充填剤、着色剤等が挙げられる。

【0215】

機能層用第２組成物中の重合開始剤は、機能層用第１組成物中の重合開始剤と同じもの
であってもよいが、異なるものであることが好ましい。機能層用第２組成物中の重合開始
剤を機能層用第１組成物中の重合開始剤と異なるものであることにより、機能層用第１組
成物においては半硬化させやすい重合開始剤を選択し、機能層用第２組成物においては表
面硬化性の良い重合開始剤を選択することができる。

【0216】

＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１００は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、図１
１（Ａ）に示されるように、光透過性基材１０１における一方の面１０１Ａに機能層用第
１組成物を塗布して、乾燥させて、第１塗膜１１１を形成する。次いで、図１１（Ｂ）に
示されるように、第１塗膜１１１に紫外線等の電離放射線を照射して、重合性化合物を重
合（架橋）させることにより第１塗膜１１１を半硬化させる。

【0217】

第１塗膜１１１を半硬化させた後、第１塗膜１１１の表面に機能層用第２組成物を塗布
し、乾燥させると、図１２（Ａ）に示されるように、第２塗膜１１２の他に、第１塗膜１
１１と第２塗膜１１２の間に第１塗膜１１１の成分と第２塗膜１１２の成分を含む混合塗
膜１１３が形成される。混合塗膜１１３は、理由は定かではないが、機能層用第２組成物
の溶剤が半硬化状態の第１塗膜１１１に浸透することによって重合性化合物の成分も半硬
化状態の第１塗膜１１１内に引き込まれて、形成されると考えられる。

【0218】

次いで、図１２（Ｂ）に示されるように、第１塗膜１１１、第２塗膜１１２および混合
塗膜１１３に紫外線等の電離放射線を照射して、重合性化合物を重合（架橋）させること
により第１塗膜１１１、第２塗膜１１２および混合塗膜１１３を硬化（例えば、完全硬化
）させる。ここで、第１塗膜１１１、第２塗膜１１２および混合塗膜１１３を硬化させる
と、それぞれの界面が消失して、１層の機能層１０２が形成される。

【0219】

本実施形態によれば、機能層１０２の膜厚が１μｍ以上１０μｍ以下であり、かつ機能
層１０２が窒素原子を含む紫外線吸収剤を含む光学フィルム１００において、第１領域１
０２Ｃにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ１に対する第２領域１０２Ｄに
おける紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ２の比（Ｉ_Ｕ２／Ｉ_Ｕ１）が１．１以上
４．０以下となっているので、機能層１０２の表面１０２Ａ付近の紫外線吸収剤が少なく
なっている。また、第２領域１０２Ｄにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ
２に対する第３領域１０２Ｅにおける紫外線吸収剤由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ３の比（
Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ２）が１．２以上４．０以下となっているので、機能層１０２の第１領域１
０２Ｃ～第３領域１０２Ｅにおいて紫外線吸収剤の極端な濃度差が生じることを抑制でき
、耐久試験時に機能層１０２にクラックが生じることを抑制できる。これにより、薄型化
を図りつつ、良好な表面硬度、良好な耐擦傷性および良好な耐久性を有する光学フィルム
１００を得ることができる。なお、本明細書における「良好な表面硬度」とは、少なくと
も光学フィルム１００の加工時に傷が付かない程度の表面硬度を意味し、また「良好な耐
擦傷性」とは、少なくとも光学フィルム１００の加工時に少なくとも傷が付かない程度の
耐擦傷性を意味する。

【0220】

＜＜＜偏光板および画像表示装置＞＞＞
光学フィルム１００は、光学フィルム１０と同様に偏光板や画像表示装置に組み込んで
使用することが可能である。図１３は、本実施形態に係る偏光板の概略構成図であり、図
１４は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図１３に示される偏光板１
２０や図１４に示される画像表示装置１３０は、光学フィルム１００を備えている。なお
、図１３および図１４において、図６および図７と同じ符号が付されている部材は、図６
および図７で示した部材と同じものであるので、説明を省略するものとする。

【実施例】

【0221】

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの
記載に限定されない。なお、文中、「部」または「％」とあるのは特に断りのない限り、
質量基準とする。

【0222】

＜＜実施例Ａおよび比較例Ａ＞＞
＜実施例Ａ１＞
（下地層用組成物１の調製）
２００ｍＬの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、水銀温度計、撹拌装置を取り付け
、６－［５－（２－ヒドロキシエチル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル］ベンゾ
［１，３］ジオキソール－５－オール４．０ｇ（０．０１３モル）、トルエン４０ｍＬ、
メタクリル酸１．８ｇ（０．０２１モル）、メタンスルホン酸０．４ｇ（０．００４モル
）を入れて、１１０～１１５℃で４時間還流脱水した。次いで、水３０ｍＬ、炭酸ナトリ
ウム０．６ｇ（０．００６モル）を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、活性
炭０．２ｇを加え、還流撹拌して脱色させた。そして、ろ過した後に、ろ液からトルエン
４０ｍＬを減圧することによって回収し、イソプロピルアルコール１００ｍＬを加え、析
出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール４０ｍＬで洗浄した。その後、減圧下４０
℃で乾燥し、黄色結晶を４．２ｇ得た。この黄色結晶４．２ｇをイソプロピルアルコール
でリパルプ洗浄して、減圧下４０℃で乾燥した。これにより、セサモール型ベンゾトリア
ゾール系化合物として、３．４ｇの２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキ
ソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレートを得
た。

【0223】

次いで、四つ口フラスコにジムロート冷却器、水銀温時計、窒素ガス吹き込み管、攪拌
装置を取り付け、合成した２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－
５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレート１６質量部、
他の単量体としてのメチルメタクリレート（ＭＭＡ）２４質量部、溶剤としてのトルエン
２０質量部、メチルエチルケトン２０質量部、および、重合開始剤としての１，１’－ア
ゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）０．６質量部を入れて、攪拌しながら窒
素ガス流量１０ｍＬ／ｍｉｎで１時間フラスコ内を窒素置換後に、反応液温度９０～９６
℃で１０時間還流状態にて重合反応を行った。

【0224】

重合反応終了後、トルエン１０質量部、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１０質量部を追
加し、セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物がＭＭＡに反応結合されたアクリルポリ
マー１（紫外線吸収剤１）を含む溶液１００．６質量部を得た。

【0225】

上記アクリルポリマー１をトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（製品名「Ａ
－ＤＣＰ」、新中村化学工業株式会社製）と固形分質量比６０：４０で混合し、これに重
合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＢＡＳＦジ
ャパン社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ０１の質量比５０：５０）４質量部と
、レベリング剤（製品名「Ｆ－５６８」、ＤＩＣ株式会社製）０．２質量部とを添加し、
よく攪拌して、下地層用組成物１を調製した。

【0226】

（ハードコート層用組成物１の調製）
上記アクリルポリマー１をジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリ
スリトールペンタアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」、日本化
薬株式会社製）と固形分質量比４５：５５で混合し、これに重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓ
ｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＤＫＳＨジャパン社製のＥＳＡＣＵ
ＲＥ ＯＮＥの質量比５０：５０）４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ－５６８」、
ＤＩＣ株式会社製）０．２質量部とを添加し、よく攪拌して、ハードコート層用組成物１
を調製した。

【0227】

（光学フィルムの作製）
得られた下地層用組成物１を、ミヤバーにて大きさが２１０ｍｍ×２９７ｍｍ（Ａ４サ
イズ）および厚みが５０μｍのシクロオレフィンポリマー系基材（製品名「ゼオノアフィ
ルム（登録商標）ＺＦ１４－０５０」、日本ゼオン株式会社製）の表面に塗布して、第１
塗膜を形成した。次いで、形成した第１塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾
燥空気を３０秒間流通させることにより第１塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量
が１２０ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して第１塗膜を半硬化させた。

【0228】

半硬化させた第１塗膜を形成した後、ミヤバーにて第１塗膜の表面にハードコート層用
組成物１を塗布して、第２塗膜を形成した。次いで、形成した第２塗膜に対して、０．５
ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させることにより第２塗膜中の溶剤を蒸
発させ、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）にて積算光量が２００ｍＪ／
ｃｍ^２になるように照射して第１塗膜および第２塗膜を硬化させることにより、第１機能
層としての膜厚が１μｍの下地層、膜厚が０．４μｍの混合層、第２機能層としての膜厚
が３μｍのハードコート層を形成した。これにより、シクロオレフィンポリマー系基材上
に下地層、混合層、およびハードコート層をこの順に備える光学フィルムを得た。

【0229】

下地層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、下地層の断面を撮影し
、その断面の画像において下地層の膜厚を１０箇所測定し、その１０箇所の膜厚の算術平
均値とした。具体的な断面写真の撮影方法は以下の通りとした。まず、１ｍｍ×１０ｍｍ
に切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロック
から一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ～３００ｎｍ程度の
切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７」（ライカ
マイクロシステムズ株式会社）等を用いた。そして、この穴等がない均一な切片を測定サ
ンプルとした。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ－４８００」、
株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影した。上
記Ｓ－４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を「３
０ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行った。倍率については、
フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら下地
層の膜厚に応じて１万倍～１０万倍の範囲内で適宜調節した。さらに、コンデンサレンズ
を「５．０」にし、またＷ．Ｄ．を「８．９ｍｍ」にした。また、混合層およびハードコ
ート層の膜厚も、下地層の膜厚と同様の方法によって測定した。なお、実施例Ａ２～Ａ１
６および比較例Ａ１～Ａ６においても、実施例Ａ１と同様の手法によって下地層、混合層
、ハードコート層の膜厚を測定した。

【0230】

＜実施例Ａ２＞
実施例Ａ２においては、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）にて積算光量が２０
０ｍＪ／ｃｍ^２になるように紫外線を第１塗膜に照射して第１塗膜を半硬化させて、膜厚
が０．０４μｍの混合層を形成したこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを
得た。

【0231】

＜実施例Ａ３＞
実施例Ａ３においては、積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２になるように紫外線を第１塗膜
に照射して第１塗膜を半硬化させて、膜厚が０．２μｍの混合層を形成したこと以外は、
実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0232】

＜実施例Ａ４＞
実施例Ａ４においては、下地層の膜厚を１．２μｍとしたこと、積算光量が７０ｍＪ／
ｃｍ^２になるように紫外線を第１塗膜に照射して第１塗膜を半硬化させて、混合層の膜厚
を１μｍとしたこと、およびハードコート層の膜厚を３．１μｍとしたこと以外は、実施
例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0233】

＜実施例Ａ５＞
実施例Ａ５においては、紫外線を積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２になるように第１塗膜
に照射して第１塗膜を半硬化させて、混合層の膜厚を０．５μｍとしたこと、およびハー
ドコート層の膜厚を８μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得
た。

【0234】

＜実施例Ａ６＞
実施例Ａ６においては、紫外線を積算光量が７０ｍＪ／ｃｍ^２になるように第１塗膜に
照射して第１塗膜を半硬化させて、混合層の膜厚を１μｍとしたこと、およびハードコー
ト層の膜厚を０．５μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た
。

【0235】

＜実施例Ａ７＞
実施例Ａ７においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物２を用い、また
ハードコート層用組成物１の代わりに、ハードコート層用組成物２を用いたこと以外は、
実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。下地層用組成物２およびハードコート層用
組成物２は、以下のようにして調製された。
（下地層用組成物２の調製）
上記アクリルポリマー１をジシクロペンテニルアクリレート（製品名「ＦＡ－５１１Ａ
Ｓ」、日立化成株式会社製）と固形分質量比６０：４０で混合し、これに重合開始剤（Ｉ
ＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＯｍｎｉｒａｄ８１９の
質量比５０：５０）４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ－５６８」、ＤＩＣ株式会社
製）０．２質量部とを添加し、よく攪拌して、下地層用組成物２を調製した。

【0236】

（ハードコート層用組成物２の調製）
上記アクリルポリマー１をウレタンアクリレート（製品名「ビームセット５７７」、荒
川化学工業株式会社製）と固形分質量比４５：５５で混合し、これに重合開始剤（ＩＧＭ
Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＯｍｎｉｒａｄ８１９の質量
比５０：５０）４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ－５６８」、ＤＩＣ株式会社製）
０．２質量部とを添加し、よく攪拌して、ハードコート層用組成物２を調製した。

【0237】

＜実施例Ａ８＞
実施例Ａ８においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物２を用い、また
ハードコート層用組成物１の代わりに、ハードコート層用組成物２を用いて、膜厚が０．
０４μｍの混合層を形成したこと以外は、実施例Ａ２と同様にして光学フィルムを得た。

【0238】

＜実施例Ａ９＞
実施例Ａ９においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物２を用い、また
ハードコート層用組成物１の代わりに、ハードコート層用組成物２を用いて、膜厚が０．
２μｍの混合層を形成したこと以外は、実施例Ａ３と同様にして光学フィルムを得た。

【0239】

＜実施例Ａ１０＞
実施例Ａ１０においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物３を用いたこ
と以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。下地層用組成物３は、以下のよ
うにして調製された。
（下地層用組成物３の調製）
インドール系化合物（製品名「ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＡ－３９１２」、オリヱント化学
工業株式会社製）（紫外線吸収剤２）をジシクロペンテニルアクリレート（製品名「ＦＡ
－５１１ＡＳ」、日立化成株式会社製）と固形分質量比１０：９０で混合し、これに重合
開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＯｍｎｉｒａ
ｄ８１９の質量比５０：５０）４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ－５６８」、ＤＩ
Ｃ株式会社製）０．２質量部とを添加し、よく攪拌して、下地層用組成物３を調製した。

【0240】

＜実施例Ａ１１＞
実施例Ａ１１においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物４を用いたこ
と以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。下地層用組成物４は、以下のよ
うにして調製された。
（下地層用組成物４の調製）
ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９」、Ｂ
ＡＳＦ社製）（紫外線吸収剤３）をジシクロペンテニルアクリレート（製品名「ＦＡ-５
１１ＡＳ」、日立化成株式会社製）と固形分質量比３０：７０で混合し、これに重合開始
剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＯｍｎｉｒａｄ８
１９の質量比５０：５０）４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ－５６８」、ＤＩＣ株
式会社製）０．２質量部とを添加し、よく攪拌して、下地層用組成物４を調製した。

【0241】

＜実施例Ａ１２＞
実施例Ａ１２においては、厚み５０μｍのシクロオレフィンポリマー系基材（製品名「
ゼオノアフィルム（登録商標）ＺＦ１４－０５０」、日本ゼオン株式会社製）の代わりに
、厚み５０μｍのシクロオレフィンポリマー系基材（製品名「ゼオノアフィルム（登録商
標）ＺＦ１４－０５０」、日本ゼオン株式会社製）を、面内位相差が１００ｎｍとなるよ
う１５０℃で延伸することにより作製された厚み２５μｍのシクロオレフィンポリマー系
基材を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0242】

＜実施例Ａ１３＞
実施例Ａ１３においては、シクロオレフィンポリマー系基材の代わりに、厚み６０μｍ
のトリアセチルセルロース基材（製品名「フジタックＴＤ６０ＵＬ」、富士フイルム株式
会社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0243】

＜実施例Ａ１４＞
実施例Ａ１４においては、シクロオレフィンポリマー系基材の代わりに、厚み２５μｍ
のトリアセチルセルロース基材（製品名「フジタックＴＪ２５ＵＬ」、富士フイルム株式
会社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0244】

＜実施例Ａ１５＞
実施例Ａ１５においては、シクロオレフィンポリマー系基材の代わりに、厚み４０μｍ
のアクリル樹脂基材（製品名「ＯＸＩＳ（登録商標）－ＺＵ（４０μｍ）」、大倉工業株
式会社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0245】

＜実施例Ａ１６＞
実施例Ａ１６においては、シクロオレフィンポリマー系基材の代わりに、厚み３０μｍ
のアクリル樹脂基材（製品名「ＯＸＩＳ（登録商標）－ＺＵ（３０μｍ）」、大倉工業株
式会社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0246】

＜比較例Ａ１＞
下地層用組成物１を、ミヤバーにて大きさが２１０ｍｍ×２９７ｍｍ（Ａ４サイズ）お
よび厚みが５０μｍのシクロオレフィンポリマー系基材（製品名「ゼオノアフィルム（登
録商標）ＺＦ１４－０５０」、日本ゼオン株式会社製）の表面に塗布して、塗膜を形成し
た。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を３０秒間
流通させることにより第１塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２０
０ｐｐｍ以下）にて積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して第１塗膜を完全
化させた。これにより、膜厚が１μｍの下地層を形成した。

【0247】

完全硬化させた第１塗膜を形成した後、ミヤバーにて第１塗膜の表面にハードコート層
用組成物１を塗布して、第２塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ
／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ
、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２
になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が３μｍのハードコート層を形
成した。これにより、シクロオレフィンポリマー系基材上に下地層およびハードコート層
をこの順に備える光学フィルムを得た。なお、比較例Ａ１に係る光学フィルムにおいては
、混合層は形成されていなかった。

【0248】

＜比較例Ａ２＞
比較例Ａ２においては、下地層の膜厚を１．２μｍとしたこと、紫外線を窒素雰囲気（
酸素濃度２００ｐｐｍ以下）にて積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ^２になるように第１塗膜に
照射して第１塗膜を半硬化させて、混合層の膜厚を０．０１μｍとしたこと以外は、実施
例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0249】

＜比較例Ａ３＞
比較例Ａ３においては、下地層の膜厚を１．２μｍとしたこと、紫外線を窒素雰囲気（
酸素濃度２００ｐｐｍ以下）にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２になるように第１塗膜に
照射して第１塗膜を半硬化させて、混合層の膜厚を０．０５μｍとしたこと、およびハー
ドコート層の膜厚を８μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得
た。

【0250】

＜比較例Ａ４＞
比較例Ａ４においては、紫外線を積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ^２になるように第１塗膜に
照射して第１塗膜を半硬化させて、混合層の膜厚を２．０μｍとしたこと、およびハード
コート層の膜厚を１．０μｍとしたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを
得た。

【0251】

＜比較例Ａ５＞
比較例Ａ５においては、下地層用組成物１の代わりに、下地層用組成物２を用い、また
ハードコート層用組成物１の代わりに、ハードコート層用組成物２を用いたこと以外は、
比較例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0252】

＜比較例Ａ６＞
比較例Ａ６においては、シクロオレフィンポリマー系基材の代わりに、厚み５０μｍの
ポリエチレンテレフタレート基材（製品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」、
東洋紡株式会社製）を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0253】

＜最大吸収波長および波長３８０ｎｍ～５００ｎｍの吸光度＞
紫外線吸収剤１（アクリルポリマー１）の最大吸収波長λ_ｍａｘおよび波長３８０ｎｍ
～５００ｎｍの吸光度を、分光光度計（製品名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島津製作所
製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて測定した。紫外線吸収剤１
の最大吸収波長λ_ｍａｘおよび吸光度の測定は、得られた紫外線吸収剤１を含む溶液を減
圧乾燥にて脱溶剤した後に、濃度４０ｐｐｍのクロロホルム溶液とした状態で行った。紫
外線吸収剤２、３の最大吸収波長λｍａｘおよび吸光度の測定は、紫外線吸収剤２、３を
濃度４０ｐｐｍのクロロホルム溶液とした状態で行われた。結果は以下の通りであった。

【表1】

【0254】

＜密着性＞
実施例Ａ１～Ａ１６および比較例Ａ１～Ａ６に係る光学フィルムにおいて、耐久試験を
行い、耐久試験前後での密着性を評価した。具体的には、１００ｍｍ×１００ｍｍの大き
さに切り出した光学フィルムを耐久試験装置（製品名「恒温恒湿器ＰＬ－１ＫＰ」、エス
ペック株式会社製）内に配置して、温度８５度および相対湿度８５％の条件下で２４０時
間放置する耐久試験を行った。光学フィルムは、欠点（異物の混入）がなく、クラックが
なく、皺がなく、汚れがないものであり、また、カールのない平坦な状態で耐久試験装置
内に配置された。

【0255】

そして、温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、耐久試験前後の密着性を評価し
た。具体的には、まず、実施例Ａ１～Ａ１６および比較例Ａ１～Ａ５に係る光学フィルム
において、カッターナイフを用いて、１ｍｍ間隔で相互に直交方向に１０マス×１０マス
のグリッド状となるように切り傷を入れた。切り傷はハードコート層や下地層を貫通して
シクロオレフィンポリマー系基材に届くよう十分深く入れた。グリッドが形成された硬化
したハードコート層の表面に、当該グリッドを全て覆うように粘着テープ（型番「Ｎｏ．
４０５」、ニチバン株式会社製、２４ｍｍ幅）を貼り付け、貼り付けた粘着テープの一端
を掴み、ハードコート層の表面より略垂直方向に保持して瞬間的に引き剥がして、密着性
を評価した。評価基準は、以下の通りとした。なお、残存した個数が１００である、すな
わち剥離による脱落が無かった場合、１００／１００と表記し、全て脱落したものは０／
１００と表記した。
Ａ：１００／１００
Ｂ：９９／１００～５０／１００
Ｃ：０／１００～４９／１００

【0256】

＜鉛筆硬度＞
実施例Ａ１～Ａ１６および比較例Ａ～Ａ６に係る光学フィルムの表面（ハードコート層
の表面）における鉛筆硬度を、それぞれ測定した。なお、鉛筆硬度の測定の際には、光学
フィルムから５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出したサンプルをガラス板上に折れや
シワがないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定した状態で、鉛筆硬
度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所
製）を用いて、温度２３℃および相対湿度５０％以下の環境下で、鉛筆（製品名「ユニ」
、三菱鉛筆株式会社製）に３００ｇの荷重をかけながら、鉛筆を速度３ｍｍ／秒で移動さ
せた。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験においてサンプルの表面に傷が付かなかった最も高い硬
度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛
筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上蛍光灯下でサンプルの表面を
透過観察した際にサンプルの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆にお
いてはサンプルの表面に傷が付かなかったと判断する。

【0257】

＜視認性評価＞
実施例Ａ１～Ａ１６および比較例Ａ１～Ａ６に係る光学フィルムを用いて、視認性評価
を行った。具体的には、ＯＬＥＤ表示装置（製品名「Ｇａｌａｘｙ ＳＩＩ」、Ｓａｍｓ
ｕｎｇ社製）上に５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを配置し、この
状態で点灯させて、暗所および明所（ＯＬＥＤ表示装置周辺照度４００ルクス）にて、偏
光サングラス越しに表示画像の観察をそれぞれ行い、虹ムラの有無を以下の基準に従い評
価した。観察は１０人で行い、最多数の評価を観察結果としている。
Ａ：偏光サングラス越しに虹むらが観察されず、視認性が良好であった。
Ｂ：偏光サングラス越しに虹むらが若干観察されたが、視認性は良好であった。
Ｃ：偏光サングラス越しに虹むらが強く観察され、視認性が劣っていた。

【0258】

＜分光透過率＞
実施例Ａ１～Ａ１１、Ａ１３、Ａ１５に係る光学フィルムにおいて、温度２３℃および
相対湿度５０％の環境下で、波長３８０ｎｍ、４００ｎｍ、４１０ｎｍ、および４４０ｎ
ｍにおける分光透過率を測定した。具体的には、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出し
た光学フィルムを、透過率を０．５ｎｍ刻みにて測定可能の分光光度計（製品名「ＵＶ－
２４５０」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内
に光学フィルムの基材側が光源側となるように配置した。上記光学フィルムは、欠点（異
物の混入）がなく、クラックがなく、皺がなく、汚れがないものであり、また、カールの
ない平坦な状態で分光光度計に保持された。この状態で、以下の測定条件で、波長３８０
ｎｍ、４００ｎｍ、４１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最
低５ポイント分の透過率を測定し、その平均値を算出することによって波長３８０ｎｍ、
４００ｎｍ、４１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおける分光透過率を求めた。波長３８０ｎ
ｍ、４００ｎｍ、４１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおける分光透過率は、３回測定して得
られた値の算術平均値とした。
（測定条件）
・波長域：３００ｎｍ～７８０ｎｍ
・スキャン速度：高速
・スリット幅：２．０
・サンプリング間隔：オート（０．５ｎｍ間隔）
・照明：Ｃ
・光源：Ｄ２およびＷＩ
・視野：２°
・光源切替波長：３６０ｎｍ
・Ｓ／Ｒ切替：標準
・検出器：ＰＭ
・オートゼロ：ベースラインのスキャン後５５０ｎｍにて実施

【0259】

＜イエローインデックス（ＹＩ）＞
実施例Ａ１～Ａ１１、Ａ１３、Ａ１５に係る光学フィルムのイエローインデックスを測
定した。具体的には、まず、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、
温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、分光光度計（製品名「ＵＶ－２４５０」、
株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内に光学フィル
ムの基材側が光源側となるように配置した。光学フィルムは、欠点（異物の混入）がなく
、クラックがなく、皺がなく、汚れがないものであり、また、カールのない平坦な状態で
分光光度計に保持された。この状態で、波長３００ｎｍ～７８０ｎｍの透過率を測定した
。そして、ＵＶ－２４５０に接続されたＰＣ上で、上記透過率の測定データを読み込み、
計算項目にて「ＹＩ」にチェックを入れることによってＹＩを得た。波長３００ｎｍ～７
８０ｎｍの透過率の測定条件は、上記波長３８０ｎｍ等における分光透過率の測定条件と
同様とした。

【0260】

＜全光線透過率測定＞
実施例Ａ１～Ａ１１、Ａ１３、Ａ１５に係る光学フィルムにおいて、ヘイズメーター（
製品名「ＨＭ－１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、温度２３℃および相対湿度
５０％の環境下で、ＪＩＳ Ｋ７３６１：１９９７に従って全光線透過率を測定した。全
光線透過率は、光学フィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺
がなく、かつ指紋や埃等がない状態で光透過性基材が光源側となるように設置し、光学フ
ィルム１枚に対して３回測定して得られた値の算術平均値とした。

【0261】

＜ヘイズ測定＞
実施例Ａ１～Ａ１１、Ａ１３、Ａ１５に係る光学フィルムにおいて、ヘイズメーター（
製品名「ＨＭ－１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、温度２３℃および相対湿度
５０％の環境下で、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に従ってヘイズ値（全ヘイズ値）を測
定した。ヘイズ値は、光学フィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した後、カー
ルや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で光透過性基材が光源側となるように設置し、
光学フィルム１枚に対して３回測定して得られた値の算術平均値とした。

【0262】

＜ブルーライトカット（遮蔽）率＞
実施例Ａ１～Ａ１１、Ａ１３およびＡ１５に係る光学フィルムにおいて、ブルーライト
カット率（ＢＬカット率）を測定した。具体的には、まず、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさ
に切り出した光学フィルムを、透過率を０．５ｎｍ刻みにて測定可能な分光光度計（製品
名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素
ランプ）内に光学フィルムの基材側が光源側となるように配置した。切り出した光学フィ
ルムは、欠点（異物の混入）がなく、クラックがなく、皺がなく、汚れがないものであり
、また、カールのない平坦な状態で分光光度計に保持された。この状態で、分光透過率の
測定条件と同様の条件で、波長３００ｎｍ～７８０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間
で最低５ポイント分の透過率を測定した。そして、上記数式（１）からブルーカット率を
求めた。なお、ブルーライトカット率は、３回測定して得られた値の算術平均値とした。

【0263】

＜耐光性試験＞
実施例Ａ１～Ａ１１、Ａ１３、Ａ１５に係る光学フィルムを、ＯＬＥＤ表示装置に粘着
層を介して貼り付けた状態で、耐光性試験を行い、耐光性試験前後の輝度を測定すること
によって、ＯＬＥＤ表示装置が劣化しているか否かを確認した。まず、５０ｍｍ×５０ｍ
ｍの大きさに切り出した光学フィルムを、粘着層（製品名「パナクリーン（登録商標）Ｐ
Ｄ－Ｓ１」、パナック株式会社製）を介して、ＯＬＥＤ表示装置（製品名「Ｇａｌａｘｙ
ＳＩＩ」、Ｓａｍｓｕｎｇ社製）に貼り付けた。なお、光学フィルムはハードコート層
が光透過性基材よりも観察者側となるように貼り付けられた。これにより、観察者側に向
けて、ＯＬＥＤ表示装置、粘着層、および光学フィルムをこの順で積層した画像表示装置
を得た。

【0264】

そして、ＯＬＥＤ表示装置を点灯させて、耐光性試験前の輝度を測定した。輝度は、画
像表示装置の表面（光学フィルムの表面）から出射する光の輝度を、画像表示装置の厚み
方向から、分光放射輝度計（製品名「ＣＳ２０００」、コニカミノルタ株式会社製）を用
いて、測定角１°の条件で、測定した。次いで、耐光性試験機（製品名「紫外線フェード
メータＵ４８ＡＵ」、スガ試験機株式会社製）を用いて、４２℃、相対湿度５０％の環境
下でカーボンアークランプからの光を画像表示装置に５０時間照射する耐光性試験を行っ
た。そして、耐光性試験後の画像表示装置を点灯させて、耐光性試験前の画像表示装置の
輝度測定と同様の条件で、輝度を測定した。また、同様に、耐光性試験機（製品名「紫外
線フェードメータＵ４８ＡＵ」、スガ試験機株式会社製）を用いて、４２℃、相対湿度５
０％の環境下でカーボンアークランプからの光を画像表示装置に１００時間照射する耐光
性試験を行い、耐光性試験後の画像表示装置を点灯させて、耐光性試験前の画像表示装置
の輝度測定と同様の条件で、輝度を測定した。

【0265】

測定したこれらの輝度から、耐光性試験前の輝度に対する耐光性試験後の輝度の維持率
をそれぞれ求めた。輝度維持率は、輝度維持率（％）をＤとし、点灯時における耐光性試
験前の画像表示装置の表面の輝度をＥとし、点灯時における耐光性試験後の画像表示装置
の表面の輝度をＦとし、下記式によって求めた。
Ｄ＝Ｆ／Ｅ×１００

【0266】

そして、得られた輝度維持率から耐光性試験によってＯＬＥＤ表示装置が劣化したか否
かを確認した。具体的には、輝度維持率が６０％未満である場合には、ＯＬＥＤ表示装置
が劣化した評価し、輝度維持率が６０％以上である場合には、ＯＬＥＤ表示装置が劣化し
ていないと評価した。評価基準は以下の通りとした。
Ａ：ＯＬＥＤ表示装置の劣化が確認されなかった。
Ｂ：ＯＬＥＤ表示装置の劣化が確認された。

【0267】

＜紫外線吸収剤を含む層のインデンテーション硬さ（Ｈ_ＩＴ）＞
実施例Ａ１～Ａ１１、Ａ１３、Ａ１５に係る光学フィルムにおいて、紫外線吸収剤を含
む層のインデンテーション硬さを測定した。すなわち、実施例Ａ１～Ａ１１、Ａ１３、Ａ
１５においては、紫外線吸収剤１を含むハードコート層のインデンテーション硬さを測定
した。インデンテーション硬さ（Ｈ_ＩＴ）は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の
ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒを用いて測定した。具体的には、まず、１ｍｍ
×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、ナ
ノインデンテーション法での硬度測定に適した測定用サンプルを作製した。測定用サンプ
ルの作製には、「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株
式会社）を用いた。次いで、測定用サンプルの圧子を押し込む面がステージの載置面と平
行となるように測定サンプルをＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製のＴＩ９５０ Ｔ
ｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒのステージに固定した。そして、紫外線吸収剤を含むハードコ
ート層の断面中央の平坦な部分に、荷重制御方法で、最大押し込み荷重が３００μＮとな
るように、荷重速度１０μＮ／秒でバーコビッチ型圧子を、３０秒で荷重０μＮから３０
０μＮまで負荷を加えながら紫外線吸収剤を含む層の断面中央部に押し込み、その後３０
０μＮで５秒間保持した後、３０秒で３００μＮから０μＮまで除荷した。そして、この
ときの押し込み荷重Ｆ（Ｎ）に対応する押し込み深さｈ（ｎｍ）を連続的に測定し、荷重
－変位曲線を作成した。作成された荷重－変位曲線からインデンテーション硬さＨ_ＩＴを
、上記式（２）のように最大押し込み荷重Ｆ_ｍａｘ（Ｎ）を、圧子と紫外線吸収剤を含む
層が接している投影面積Ａ_ｐ（ｍｍ^２）で除した値により求めた。インデンテーション硬
さは、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とした。なお、Ａ_ｐは上記式（３）によ
って求められる値であった。

【0268】

＜耐擦傷性試験＞
実施例Ａ１～Ａ１１、Ａ１３、Ａ１５に係る光学フィルムの表面に対し耐擦傷性試験を
行った。具体的には、まず、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの裏
面を、膜厚５０μｍの透明粘着層（屈折率：１．５５、製品名「パナクリーン（登録商標
）ＰＤ－Ｓ１」、パナック株式会社製）を介して、大きさ１００ｍｍ×１００ｍｍおよび
厚さ２ｍｍのアクリル板（製品名「コモグラス ＤＦＡ５０２Ｋ」、株式会社クラレ製）
に貼り合せた。そして、光学フィルムの表面に対し、♯００００番のスチールウール（製
品名「ボンスター」、日本スチールウール株式会社製）を用いて１００ｇ／ｃｍ^２の荷重
を加えながら１０往復擦る耐擦傷性試験を行い、目視により光学フィルムの表面に傷が確
認されるか否か観察した。評価結果は、以下の通りとした。
Ａ：傷が確認されなかった。
Ｂ：傷が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
Ｃ：傷が明確に確認された。

【0269】

＜フレキシブル性評価＞
（１）折り畳み試験後の割れ・破断評価
実施例Ａ１、Ａ１２～Ａ１６に係る光学フィルムにおいて、折り畳み試験を行い、割れ
および破断を評価した。具体的には、まず、光学フィルムから１２５ｍｍ×５０ｍｍの長
方形状のサンプルを１枚切り出した。サンプルを切り出した後、折り畳み耐久試験機とし
て、Ｕ字伸縮試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ－ＦＳ」、ユアサシステム機器株式会社製）
に、このサンプルの短辺（５０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、図２（Ｃ）に示した
ように対向する２つの辺部の最小の間隔が６ｍｍ（屈曲部の外径６ｍｍ）となるようにし
て取り付け、以下の条件で、このサンプルのハードコート層側の面を１８０°折り畳む試
験（ハードコート層が内側となり、基材が外側となるように折り畳む試験）を１０万回行
った。
（折り畳み条件）
・往復速度：８０ｒｐｍ（回毎分）
・試験ストローク：６０ｍｍ
・屈曲角度：１８０°

【0270】

そして、屈曲部に割れまたは破断が生じていないか調べた。評価基準は、以下の通りと
した。なお、折り畳み試験前における各光学フィルムの屈曲部となる領域を観察したとこ
ろ、割れや破断は観察されなかった。評価基準は、以下の通りであった。
（折り畳み性）
Ａ：折り畳み試験後においても、屈曲部に割れまたは破断が生じていなかった。
Ｂ：折り畳み試験後において、屈曲部に割れが若干生じていたが、実使用上問題のない
レベルであった。
Ｃ：折り畳み試験後において、屈曲部に割れまたは破断が生じていた。

【0271】

また、同様に、実施例Ａ１、Ａ１２～Ａ１６に係る光学フィルムから上記と同様のサン
プルを作製し、サンプルの短辺側を固定部でそれぞれ固定し、対向する２つの辺部の最小
の間隔φが６ｍｍ（屈曲部の外径６ｍｍ）となるようにして取り付け、ハードコート層側
が内側となるようにサンプルを２０万回繰り返し１８０°折り畳む折り畳み試験を行い、
同様にして、折り畳み試験後のサンプルの割れや破断を観察して、上記基準で評価した。
さらに、実施例Ａ１、Ａ１２～Ａ１６に係る光学フィルムから上記と同様のサンプルを作
製し、サンプルの短辺側を固定部でそれぞれ固定し、対向する２つの辺部の最小の間隔φ
が４ｍｍとなるようにして取り付け、ハードコート層側が内側となるようにサンプルを２
０万回繰り返し１８０°折り畳む折り畳み試験を行い、同様にして、折り畳み試験後のサ
ンプルの割れや破断を観察して、上記基準で評価した。

【0272】

（２）折り畳み試験後の折り癖評価
実施例Ａ１、Ａ１２～Ａ１６に係る光学フィルムにおいて、折り畳み試験後の外観を観
察して、光学フィルムの屈曲部に折り癖が生じているか評価した。折り畳み試験は、上記
折り畳み試験後の割れ・破断評価の欄に記載されている方法（（１）最小間隔φ：６ｍｍ
、折り畳み回数：１０万回、（２）最小間隔φ：６ｍｍ、折り畳み回数：２０万回、（３
）最小間隔φ：４ｍｍ、折り畳み回数：２０万回）と同様の方法によって行われた。折り
癖の観察は、温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、目視で行った。折り癖の観察
の際には、白色照明の明室（８００ルクス～２０００ルクス）で、屈曲部を透過光および
反射光によって満遍なく観察するともに、折り畳んだときに屈曲部における内側であった
部分および外側であった部分を両方観察した。折り癖の観察においては、観察すべき位置
が容易に把握できるように、折り畳み試験前のサンプルをＵ字伸縮試験機の固定部に設置
し、１回折り畳んだときに、図３に示したように、屈曲部における折り畳み方向に直交す
る方向に位置する両端に、屈曲部であることを示す目印を油性ペンで付けておいた。また
、折り畳み試験後に、折り畳み試験後にＵ字伸縮試験機から取り外した状態で、屈曲部の
上記両端の目印同士を結んだ線を油性ペンで引いておいた。そして、折り癖の観察におい
ては、屈曲部の上記両端の目印とこの目印同士を結ぶ線とで形成される領域である屈曲部
全体を目視観察した。なお、折り畳み試験前における各光学フィルムの屈曲部となる領域
を観察したところ、折り癖は観察されなかった。評価基準は、以下の通りであった。
Ａ：折り畳み試験後においても、光学フィルムに折り癖が観察されなかった。
Ｂ：折り畳み試験後において、光学フィルムに折り癖が若干観察されたが、実使用上問
題のないレベルであった。
Ｃ：折り畳み試験後において、光学フィルムに折り癖が観察された。

【0273】

（３）折り畳み試験後のマイクロクラック評価
実施例Ａ１、Ａ１２～Ａ１６に係る光学フィルムにおいて、折り畳み試験後の外観を観
察して、光学フィルムの屈曲部にマイクロクラックが生じているか評価した。折り畳み試
験は、上記折り畳み試験後の割れ・破断評価の欄に記載されている方法（最小間隔φ：６
ｍｍ、折り畳み回数：１０万回）と同様の方法によって行われた。マイクロクラックの観
察は、温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、デジタルマイクロスコープ（製品名
「ＶＨＸ－５０００」、キーエンス株式会社製）を用いて行った。具体的には、まず、折
り畳み試験後のサンプルをゆっくり広げ、マイクロスコープのステージにテープでサンプ
ルを固定した。このとき、折り癖が強い場合には、観察部分がなるべく平らになるように
する。ただし、サンプルの中央付近の観察予定部（屈曲部）は手で触れず、力が加わらな
い程度する。次いで、折り畳んだときの内側となる部分および外側となる部分を両方観察
した。マイクロクラックの観察は、デジタルマイクロスコープの照明としてリング照明を
選択し、倍率２００倍で、暗視野および反射光で行った。マイクロクラックの観察におい
ては、観察すべき位置が容易に把握できるように、折り畳み試験前のサンプルをＵ字伸縮
試験機の固定部に設置し、１回折り畳んだときに、図３に示したように、屈曲部における
折り畳み方向と直交する方向に位置する両端に、屈曲部であることを示す目印を油性ペン
で付けておいた。また、折り畳み試験後に、折り畳み試験後にＵ字伸縮試験機から取り外
した状態で、屈曲部の上記両端の目印同士を結んだ線を油性ペンで引いておいた。そして
、マイクロクラックの観察においては、マイクロスコープ視野範囲の中心が屈曲部の中央
となるようにマイクロスコープの位置を合わせた。なお、折り畳み試験前における各光学
フィルムの屈曲部となる領域を観察したところ、マイクロクラックは観察されなかった。
評価基準は、以下の通りであった。
（マイクロクラック）
Ａ：折り畳み試験後においても、光学フィルムにマイクロクラックが観察されなかった
。
Ｂ：折り畳み試験後において、光学フィルムにマイクロクラックが若干観察されたが、
実使用上問題のないレベルであった。
Ｃ：折り畳み試験後において、光学フィルムにマイクロクラックが観察された。

【0274】

以下、結果を表２～表５に示す。

【表2】

【0275】

【表3】

【0276】

【表4】

【0277】

【表5】

【0278】

表２に示されたように、比較例Ａ１、Ａ２、Ａ５に係る光学フィルムにおいては、耐久
試験前であっても、下地層とハードコート層の界面で剥離したので、耐久試験前の密着性
（初期密着性）が不良であった。また、比較例Ａ３に係る光学フィルムにおいては、初期
密着性は良好であったが、耐久試験後の密着性が不良であった。さらに比較例Ａ４に係る
光学フィルムにおいては、鉛筆硬度が劣っており、比較例Ａ６に係る光学フィルムにおい
ては、視認性評価に劣っていた。これに対し、実施例Ａ１～Ａ１６に係る光学フィルムに
おいては、耐久試験前においては、耐久試験前の密着性（初期密着性）が良好であった。
これは、下地層とハードコート層の間に下地層の成分とハードコート層の成分を含む混合
層が形成されているとともに、下地層、混合層およびハードコート層の合計膜厚に対する
混合層の膜厚の割合が、０．６％以上であったからであると考えられる。また、実施例Ａ
１、Ａ３～Ａ７、Ａ９～Ａ１６に係る光学フィルムにおいては、耐久試験前のみならず、
耐久試験後の密着性も良好であった。これは、下地層、混合層およびハードコート層の合
計膜厚に対する混合層の膜厚の割合が、１％以上であったからであると考えられる。また
、実施例Ａ１～Ａ１６に係る光学フィルムにおいては、鉛筆硬度に優れていた。これは、
下地層、混合層およびハードコート層の合計膜厚に対する混合層の膜厚の割合が、４０％
以下であったからであると考えられる。また、実施例Ａ１～Ａ１６に係る光学フィルムに
おいては、視認性評価に優れていた。これは、光透過性基材として、シクロオレフィンポ
リマー系基材、トリアセチルセルロース基材、またはアクリル樹脂基材を用いていたから
であると考えられる。

【0279】

＜＜実施例Ｂおよび比較例Ｂ＞＞
＜実施例Ｂ１＞
（ハードコート層用組成物３の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの
混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０」、日本化薬株式会社製）および実施例
Ａ１の欄で記載した上記アクリルポリマー１を固形分質量比２０：８０で混ぜ合わせ、固
形分２５％まで溶剤（メチルエチルケトンおよびトルエンの質量比８０：２０）にて希釈
して樹脂組成物を調製した。次いで、得られた樹脂組成物１６０質量部に対し、重合開始
剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＯｍｎｉｒａｄ８
１９の質量比５０：５０）４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式
会社製）０．２質量部とを混ぜ合わせ、よく攪拌して、ハードコート層用組成物３を調製
した。

【0280】

（ハードコート層用組成物４の調製）
ウレタンアクリレート系樹脂（製品名「ビームセット５７７」、荒川化学工業株式会社
製）を、固形分５０％まで溶剤（メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン、質
量比５０：５０）にて希釈して樹脂組成物を調製した。次いで、得られた樹脂組成物２０
０質量部に対し、重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８
４）４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）０．２質量部
と、シリカナノ粒子（製品名「ＳＩＲＭＩＢＫ－Ｅ６５」、ＣＩＫナノテック株式会社製
）３質量部とを混ぜ合わせ、よく攪拌することで、ハードコート層用組成物４を調製した
。

【0281】

（光学フィルムの作製）
上記ハードコート層用組成物３を、ミヤバーにて大きさが２１０ｍｍ×２９７ｍｍ（Ａ
４サイズ）および厚みが２５μｍのトリアセチルセルロース系基材（製品名「フジタック
ＴＪ２５ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）の表面に塗布して、第１塗膜を形成した。次
いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を３０秒間流通さ
せることにより第１塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１２０ｍＪ／ｃｍ^２に
なるように照射して第１塗膜を半硬化させた。

【0282】

半硬化させた第１塗膜を形成した後、ミヤバーにて第１塗膜の表面にハードコート層用
組成物４を塗布して、第２塗膜を形成した。次いで、形成した第２塗膜に対して、０．５
ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させることにより塗膜中の溶剤を蒸発さ
せ、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ
^２になるように照射して第１塗膜および第２塗膜を硬化させることにより、硬化した膜厚
３μｍの第１塗膜および硬化した膜厚３μｍの第２塗膜からなる膜厚６μｍのハードコー
ト層を形成した。これにより、トリアセチルセルロース系基材上にハードコート層を備え
る光学フィルムを得た。

【0283】

ハードコート層の膜厚は、実施例Ａ１の欄に記載した下地層の膜厚と同様の方法によっ
て測定するものとする。なお、実施例Ｂ２～Ｂ１１および比較例Ｂ１～Ｂ６においても、
実施例Ｂ１と同様の手法によってハードコート層の膜厚を測定した。

【0284】

＜実施例Ｂ２＞
実施例Ｂ２においては、ハードコート層用組成物３の代わりに、ハードコート層用組成
物５を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0285】

（ハードコート層用組成物５）
ジシクロペンテニルアクリレート（製品名「ＦＡ－５１１ＡＳ」、日立化成株式会社製
）および上記アクリルポリマー１を固形分質量比２０：８０で混ぜ合わせ、固形分２５％
まで溶剤（メチルエチルケトンおよびトルエンの質量比８０：２０）にて希釈して樹脂組
成物を調製した。次いで、得られた樹脂組成物１６０質量部に対し、重合開始剤（ＩＧＭ
Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＯｍｎｉｒａｄ８１９の質量
比５０：５０）４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）０
．２質量部とを混ぜ合わせ、よく攪拌して、ハードコート層用組成物５を調製した。

【0286】

＜実施例Ｂ３＞
実施例Ｂ３においては、膜厚６μｍのハードコート層の代わりに、硬化した膜厚１μｍ
の第１塗膜と硬化した膜厚１μｍの第２塗膜からなる膜厚２μｍのハードコート層を形成
したこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0287】

＜実施例Ｂ４＞
実施例Ｂ４においては、膜厚６μｍのハードコート層の代わりに、硬化した膜厚５μｍ
の第１塗膜と硬化した膜厚５μｍの第２塗膜からなる膜厚１０μｍのハードコート層を形
成したこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0288】

＜実施例Ｂ５＞
実施例Ｂ５においては、厚み２５μｍのトリアセチルセルロース系基材（製品名「フジ
タックＴＪ２５ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）の代わりに、厚み６０μｍのトリアセ
チルセルロース基材（製品名「フジタックＴＤ６０ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）を
用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0289】

＜実施例Ｂ６＞
実施例Ｂ６においては、トリアセチルセルロース系基材の代わりに、厚み５０μｍのシ
クロオレフィンポリマー系基材（製品名「ゼオノアフィルム（登録商標）ＺＦ１４－０５
０」、日本ゼオン株式会社製）を、面内位相差が１００ｎｍとなるよう１５０℃で延伸す
ることにより作製された厚み２５μｍのシクロオレフィンポリマー系基材を用いたこと以
外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0290】

＜実施例Ｂ７＞
実施例Ｂ７においては、トリアセチルセルロース系基材の代わりに、厚み５０μｍのシ
クロオレフィンポリマー系基材（製品名「ゼオノアフィルム（登録商標）ＺＦ１４－０５
０」、日本ゼオン株式会社製）を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィル
ムを得た。

【0291】

＜実施例Ｂ８＞
実施例Ｂ８においては、トリアセチルセルロース系基材の代わりに、厚み３０μｍのア
クリル樹脂基材（製品名「ＯＸＩＳ（登録商標）－ＺＵ（３０μｍ）」、大倉工業株式会
社製）を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0292】

＜実施例Ｂ９＞
実施例Ｂ９においては、トリアセチルセルロース系基材の代わりに、厚み４０μｍのア
クリル樹脂基材（製品名「ＯＸＩＳ（登録商標）－ＺＵ（４０μｍ）」、大倉工業株式会
社製）を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0293】

＜実施例Ｂ１０＞
実施例Ｂ１０においては、トリアセチルセルロース系基材の代わりに、以下の方法によ
って作製された厚み４０μｍのポリエチレンテレフタレート基材（ＰＥＴ基材、面内位相
差Ｒｅ：６００ｎｍ、Ｎｚ係数：２０）を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光
学フィルムを得た。

【0294】

（ＰＥＴ基材の作製）
まず、１ｋｇのＰＥＴ（融点２５８℃、吸収中心波長：３２０ｎｍ）と、０．１ｋｇの
紫外線吸収剤（２，２’－（１，４－フェニレン）ビス（４Ｈ－３，１－ベンズオキサジ
ノン－４－オン）とを、混練機で２８０℃にて溶融混合し、紫外線吸収剤を含有したペレ
ットを作製した。そのペレットと、融点２５８℃のＰＥＴを単軸押出機に投入し、２８０
℃で溶融混練し、Ｔダイから押出し、２５℃に表面温度を制御したキャストドラム上にキ
ャストしてキャスティングフィルムを得た。キャスティングフィルム中の紫外線吸収剤の
量はＰＥＴ１００質量部に対して１質量部であった。

【0295】

得られたキャスティングフィルムを、９５℃に設定したロール群で加熱した後、延伸区
間４００ｍｍ（始点が延伸ロールＡ、終点が延伸ロールＢであり、延伸ロールＡおよびＢ
は、それぞれ２本のニップロールを有する）の１５０ｍｍの地点でのフィルム温度が１０
３℃となるように、フィルム両面から乱流が生じるようにラジエーションヒーターにより
加熱しながら、フィルムを流れ方向に３．５倍延伸し、その後一旦冷却した。

【0296】

続いて、この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施し、基材フィルム
の濡れ張力を５５ｍＮ／ｍとし、フィルム両面のコロナ放電処理面に、ガラス転移温度１
８℃のポリエステル樹脂、ガラス転移温度８２℃のポリエステル樹脂、および平均粒径１
００ｎｍのシリカ粒子を含む易滑層塗布液をインラインコーティングし、易滑層を形成し
た。

【0297】

次いで、一軸延伸フィルムをテンターに導き、９５℃の熱風で予熱後、１段目１０５℃
、２段目１４０℃の温度でフィルム幅方向に３．８倍延伸した。ここで、横延伸区間を２
分割した場合、横延伸区間中間点におけるフィルムの延伸量（計測地点でのフィルム幅－
延伸前フィルム幅）は、横延伸区間終了時の延伸量の８０％となるように２段階で延伸し
た。横延伸したフィルムは、そのまま、テンター内で段階的に１８０℃から熱処理温度２
４５℃の熱風にて熱処理を行い、続いて同温度条件で幅方向に１％の弛緩処理を、さらに
１００℃まで急冷した後に幅方向に１％の弛緩処理を施し、その後、巻き取り、二軸延伸
されたＰＥＴ基材を得た。

【0298】

＜実施例Ｂ１１＞
実施例Ｂ１１においては、トリアセチルセルロース系基材の代わりに、厚み１００μｍ
のポリエチレンテレフタレート基材（製品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」
、東洋紡株式会社製）を用いたこと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た
。

【0299】

＜比較例Ｂ１＞
上記ハードコート層用組成物３を、ミヤバーにて大きさが２１０ｍｍ×２９７ｍｍ（Ａ
４サイズ）および厚みが２５μｍのトリアセチルセルロース系基材（製品名「フジタック
ＴＪ２５ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）の表面に塗布して、塗膜を形成した。次いで
、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５０℃の乾燥空気を３０秒間流通させる
ことにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）
にて積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させた。これにより
、トリアセチルセルロース系基材上に膜厚が６μｍのハードコート層を備える光学フィル
ムを得た。

【0300】

＜比較例Ｂ２＞
比較例Ｂ２においては、ハードコート層用組成物３の代わりにハードコート層用組成物
５を用いたこと以外は、比較例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0301】

＜比較例Ｂ３＞
比較例Ｂ３においては、ハードコート層用組成物３の代わりにハードコート層用組成物
４を用い、かつハードコート層用組成物４の代わりにハードコート層用組成物３を用いた
こと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0302】

＜比較例Ｂ４＞
比較例Ｂ４においては、第１塗膜を硬化させる際、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２０
０ｐｐｍ以下）にて積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射したこと以外は、実
施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0303】

＜比較例Ｂ５＞
比較例Ｂ５においては、ハードコート層用組成物３の代わりにハードコート層用組成物
４を用い、かつハードコート層用組成物４の代わりにハードコート層用組成物５を用いた
こと以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学フィルムを得た。

【0304】

＜比較例Ｂ６＞
まず、以下のハードコート層用組成物６を用意した。
（ハードコート層用組成物６）
トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（製品名「Ａ－ＤＣＰ」、新中村化学工
業株式会社製）および上記アクリルポリマー１を固形分質量比２０：８０で混ぜ合わせ、
固形分２５％まで溶剤（メチルエチルケトンおよびトルエンの質量比８０：２０）にて希
釈して樹脂組成物を調製した。次いで、得られた樹脂組成物１６０質量部に対し、重合開
始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＢＡＳＦジャパ
ン社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ０１の質量比５０：５０）４質量部と、レ
ベリング剤（製品名「Ｆ－５６８」、ＤＩＣ株式会社製）０．２質量部とを添加し、よく
攪拌して、ハードコート層用組成物６を調製した。

【0305】

ハードコート層用組成物６を用意した後、ハードコート層用組成物６を、ミヤバーにて
大きさが２１０ｍｍ×２９７ｍｍ（Ａ４サイズ）および厚みが２５μｍのトリアセチルセ
ルロース系基材（製品名「フジタックＴＪ２５ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）の表面
に塗布して、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で５
０℃の乾燥空気を３０秒間流通させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素
雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）にて積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照
射して塗膜を硬化させて、硬化した膜厚３μｍの第１塗膜を形成した。

【0306】

硬化した第１塗膜を形成した後、第１塗膜の表面に上記ハードコート層用組成物４を塗
布して、第２塗膜を形成した。次いで、形成した第２塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速
で５０℃の乾燥空気を３０秒間流通させることにより第２塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外
線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２になる
ように照射して第２塗膜を硬化させて、硬化した膜厚３μｍの第２塗膜を形成した。これ
により、トリアセチルセルロース系基材上に、硬化した第１塗膜および硬化した第２塗膜
からなる膜厚が６μｍのハードコート層を備える光学フィルムを得た。なお、走査透過型
電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、ハードコート層中に界面が存在しているか観察したと
ころ、第１ハードコート層と第２ハードコート層の間に界面が観察された。

【0307】

＜ＴＯＦ－ＳＩＭＳによるハードコート層中の成分の強度測定＞
実施例Ｂ１～Ｂ１１および比較例Ｂ１～Ｂ６に係る光学フィルムにおいて、飛行時間型
二次イオン質量分析装置（製品名「ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５」、ＩＯＮ－ＴＯＦ社製）を用い
て、ハードコート層中の各成分由来の二次イオンの強度を測定した。具体的には、まず、
１０ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを飛行時間型二次イオン質量分析
装置の試料室に一次イオンがハードコート層の表面に照射されるように設置した。その後
、以下の測定条件で各成分に由来する二次イオンの強度を測定し、デプスプロファイルを
得た。そして、このデプスプロファイルから、ハードコート層の深さ方向にハードコート
層を二等分する二等分線およびハードコート層の裏面を特定し、ハードコート層の表面を
含む厚さ０．３μｍの第１領域と、ハードコート層の深さ方向にハードコート層を二等分
する二等分線を含む厚さ０．３μｍの第２領域と、ハードコート層の裏面を含む厚さ０．
３μｍの第３領域と、第１領域のトリアセチルセルロース系基材側の境界からハードコー
ト層の裏面までの第４領域とを求めた。そして、第１領域～第３領域における紫外線吸収
剤１由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｕ１、Ｉ_Ｕ２、Ｉ_Ｕ３、フッ素含有化合物由来の二次イオ
ンの強度Ｉ_Ｆ１、Ｉ_Ｆ２、Ｉ_Ｆ３、およびケイ素含有化合物由来の二次イオンの強度Ｉ_Ｓ
１、Ｉ_Ｓ２、Ｉ_Ｓ３を求め、強度比Ｉ_Ｕ２／Ｉ_Ｕ１、Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ２、Ｉ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ１、
Ｉ_Ｆ１／Ｉ_Ｆ２、Ｉ_Ｆ１／Ｉ_Ｆ３、Ｉ_Ｓ１／Ｉ_Ｓ２、Ｉ_Ｓ１／Ｉ_Ｓ３を求めた。なお、紫
外線吸収剤１由来の二次イオンはＣ_６Ｈ_４Ｎ_３ ^－とし、アクリル酸エステルや酢酸化合物
由来の二次イオンはＣ_２Ｈ_３Ｏ_２ ^－とし、フッ素含有化合物由来の二次イオンはＦ^－とし
、ケイ素含有化合物由来の二次イオンとしてＳｉＯ_２ ^－とした。また、窒素を含む有機物
由来の二次イオンとしてＣＮ^－の強度を測定した。また、ハードコート層の裏面は、デプ
スプロファイルにおけるアクリル酸エステルや酢酸化合物由来の二次イオンであるＣ_２Ｈ
_３Ｏ_２ ^－と紫外線吸収剤１由来の二次イオンであるＣ_６Ｈ_４Ｎ_３ ^－の交点の位置とした。
また、第２領域は、二等分線が第２領域の中央に位置するように設定された。
（測定条件）
・２次イオン極性：負
・質量範囲（ｍ／ｚ）：０～３０００
・ラスターサイズ：２００μｍ□
・スキャン数：１ｓｃａｎ／ｃｙｃｌｅ
・ピクセル数（１辺）：１２８ピクセル
・測定真空度（試料導入前）：４×１０^－７Ｐａ以下
・帯電中和：有り
・後段加速：１０ｋＶ
・１次イオン：Ｂｉ_３ ^＋＋
・１次イオン加速電圧：３０ｋＶ
・パルス幅：１１．３ｎｓ
・バンチング：有り（高質量分解能測定）
・エッチングイオン：Ａｒガスクラスターイオンビーム（Ａｒ－ＧＣＩＢ）
・エッチングイオン加速電圧：２０ｋＶ
・Ａｒクラスターサイズ（中央値）：約１４００

【0308】

＜鉛筆硬度＞
実施例Ｂ１～Ｂ１１および比較例Ｂ１～Ｂ６に係る光学フィルムの表面（ハードコート
層の表面）における鉛筆硬度をそれぞれ測定した。鉛筆硬度試験は、５０ｍｍ×１００ｍ
ｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っか
き塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、温度２３℃およ
び相対湿度５０％以下の環境下で、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に３０
０ｇの荷重を加えながら３ｍｍ／秒の移動速度で移動させることにより行うものとする。
鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フィルム１０の表面に傷が付かなかった最も高い
硬度とした。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、
鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上光学フィルムの表面に傷が
付かなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかっ
たと判断した。

【0309】

＜耐擦傷性試験＞
実施例Ｂ１～Ｂ１１および比較例Ｂ１～Ｂ６に係る光学フィルムの表面（ハードコート
層の表面）において、温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、耐擦傷性試験を行っ
た。具体的には、まず、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムの表面に
対し、♯００００番のスチールウール（製品名「ボンスター」、日本スチールウール株式
会社製）を用いて１００ｇ／ｃｍ^２の荷重を加えながら１０往復擦る耐擦傷性試験を行い
、目視により光学フィルムの表面に傷が確認されるか否か観察した。評価結果は、以下の
通りとした。
Ａ：傷が確認されなかった。
Ｂ：傷が若干確認されたが実使用上問題のないレベルであった。
Ｃ：傷が明確に確認された。

【0310】

＜耐久試験＞
実施例Ｂ１～Ｂ１１および比較例Ｂ１～Ｂ６に係る光学フィルムにおいて、耐久試験を
行った。具体的には、１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを耐久
試験装置（製品名「恒温恒湿器ＰＬ－１ＫＰ」、エスペック株式会社製）内に配置して、
温度８５℃および相対湿度８５％の条件下で２４０時間放置する耐久試験を行った。光学
フィルムは、欠点（異物の混入）がなく、クラックがなく、皺がなく、汚れがないもので
あり、また、カールのない平坦な状態で耐久試験装置内に配置された。

【0311】

耐久試験後、温度２３℃および相対湿度５０％の環境下で、ハードコート層の表面に析
出物が存在しているか、およびハードコート層にクラックが生じているか評価した。評価
基準は、以下の通りとした。
Ａ：析出物の存在およびクラックのいずれも確認されなかった。
Ｂ：析出物の存在およびクラックのいずれかが確認された。
Ｃ：析出物の存在およびクラックのいずれも確認された。

【0312】

＜分光透過率＞
実施例Ｂ１～Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８、Ｂ１０に係る光学フィルムにおいて、温度２３℃およ
び相対湿度５０％の環境下で、波長３８０ｎｍ、４００ｎｍ、４１０ｎｍ、および４４０
ｎｍにおける分光透過率を、実施例Ａの欄に記載された分光透過率と同様の方法および同
様の測定条件で測定した。

【0313】

＜イエローインデックス（ＹＩ）＞
実施例Ｂ１～Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８、Ｂ１０に係る光学フィルムのイエローインデックスを
、実施例Ａの欄に記載されたイエローインデックスと同様の方法および同様の測定条件で
測定した。

【0314】

＜全光線透過率測定＞
実施例Ｂ１～Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８、Ｂ１０に係る光学フィルムにおいて、ヘイズメーター
（製品名「ＨＭ－１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、温度２３℃および相対湿
度５０％の環境下で、ＪＩＳ Ｋ７３６１：１９９７に従って全光線透過率を測定した。
具体的には、全光線透過率は、実施例Ａの欄に記載された全光線透過率と同様の方法およ
び同様の測定条件で測定した。

【0315】

＜ヘイズ測定＞
実施例Ｂ１～Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８、Ｂ１０に係る光学フィルムにおいて、ヘイズメーター
（製品名「ＨＭ－１５０」、村上色彩技術研究所製）を用いて、温度２３℃および相対湿
度５０％の環境下で、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に従ってヘイズ値（全ヘイズ値）を
測定した。具体的には、全光線透過率は、実施例Ａの欄に記載されたヘイズ値と同様の方
法および同様の測定条件で測定した。

【0316】

＜視認性評価＞
実施例Ｂ１～Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８、Ｂ１０に係る光学フィルムにおいて、視認性評価を行
った。具体的には、視認性評価は、実施例Ａの欄に記載された視認性評価と同様の方法お
よび同様の基準で評価した。

【0317】

＜フレキシブル性評価＞
（１）折り畳み試験後の割れ・破断評価
実施例Ｂ１、Ｂ５～Ｂ１１に係る光学フィルムにおいて、折り畳み試験を行い、割れお
よび破断を評価した。具体的には、折り畳み試験は、実施例Ａの折り畳み試験後の割れ・
破断評価の欄に記載された折り畳み試験と同様の方法および同様の測定条件で行われた。
また、割れ・破断評価は、実施例Ａの折り畳み試験後の割れ・破断評価の欄に記載された
評価方法および同様の基準で評価した。

【0318】

（２）折り畳み試験後の折り癖評価
実施例Ｂ１、Ｂ５～Ｂ１１に係る光学フィルムにおいて、折り畳み試験後の外観を観察
して、光学フィルムの屈曲部に折り癖が生じているか評価した。具体的には、折り畳み試
験は、実施例Ａの折り畳み試験後の折り癖評価の欄に記載された折り畳み試験と同様の方
法および同様の測定条件で行われた。また、折り癖評価は、実施例Ａの折り畳み試験後の
折り癖評価の欄に記載された評価方法および同様の基準で評価した。

【0319】

（３）折り畳み試験後のマイクロクラック評価
実施例Ｂ１、Ｂ５～Ｂ１１に係る光学フィルムにおいて、折り畳み試験後の外観を観察
して、光学フィルムの屈曲部にマイクロクラックが生じているか評価した。具体的には、
折り畳み試験は、実施例Ａの折り畳み試験後のマイクロクラック評価の欄に記載された折
り畳み試験と同様の方法および同様の測定条件で行われた。また、マイクロクラック評価
は、実施例Ａの折り畳み試験後のマイクロクラック評価の欄に記載された評価方法および
同様の基準で評価した。

【0320】

以下、結果を表６～表９に示す。また、図１５に、実施例Ｂ１に係る光学フィルムにお
ける飛行時間型二次イオン質量分析法により測定されたデプスプロファイルを示した。

【表6】

【0321】

【表7】

【0322】

【表8】

【0323】

【表9】

【0324】

表６に示されたように、比較例Ｂ１～Ｂ６に係る光学フィルムにおいては、Ｉ_Ｕ２／Ｉ
_Ｕ１が１．１以上４．０以下の範囲外であり、またはＩ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ２が１．２以上４．０
以下の範囲外であったので、鉛筆硬度、耐擦傷性および耐久性に劣っていた。これに対し
、実施例Ｂ１～Ｂ１１に係る光学フィルムにおいては、Ｉ_Ｕ２／Ｉ_Ｕ１が１．１以上４．
０以下であり、かつＩ_Ｕ３／Ｉ_Ｕ２が１．２以上４．０以下であったので、薄型化を図り
つつ、良好な鉛筆硬度、良好な耐擦傷性および良好な耐久性を得ることができた。なお、
窒素を含む有機物由来の二次イオンとしてのＣＮ^－の強度も、Ｃ_６Ｈ_４Ｎ_３ ^－の強度と同
様の結果が得られた。また、図１５のグラフから、第１領域における紫外線吸収剤１由来
の二次イオンの最小強度は、第１領域のトリアセチルセルロース系基材側の境界から裏面
までの第４領域における紫外線吸収剤１由来の二次イオンの最小強度よりも小さいことが
理解できる。

【符号の説明】

【0325】

１０、１００…光学フィルム
１０Ａ…表面
１１、１０１…光透過性基材
１２…第１機能層
１３…第２機能層
１４…混合層
２１…第１塗膜
２２…第２塗膜
３０…偏光板
３１…偏光子
４０、１３０…画像表示装置
５０…表示素子
１０２…機能層

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】