特許7606805IP Force 特許公報全文掲載

ホーム > 特許ランキング > カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー > 特許7606805

技術分野

関連出願の相互参照 本願は、２０１９年６月１９日に出願されたドイツ特許出願第１０ ２０１９ ２０８ ９６１．５号の優先権を主張する。この出願の内容を本明細書に援用する。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)

この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 ＥＵＶマイクロリソグラフィ用投影露光装置の模式図である。
【図2a】 図１に係る露光装置において使用可能な投影光学ユニットの模式側面図であり、物体視野と像視野との間の結像ビーム経路を示すことを目的にホルダー無しかつ厚さゼロでミラー本体を示した、模式側面図である。
【図2b】 相対瞳座標に応じて図２ａの投影光学ユニットを通過する偏光の偏光方向の回転角の分布を示した図である。
【図3a】 図１に係る投影露光装置において使用可能な投影光学ユニットの別の実施形態の模式側面図である。
【図3b】 図３ａの実施形態について、幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図4a】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図4b】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図5a】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図5b】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図6a】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図6b】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図7a】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図7b】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図8a】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図8b】 それぞれ、投影光学ユニットの別の実施形態の側面図または幾何学的偏光回転に起因する回転角の分布を示した図である。
【図9】 ａ）～ｃ）は、図１の投影露光装置において使用される代表的かつ例示的な偏光照明設定を示した図である。

代表図 図1本件の代表的な図

全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録

［広告欄］

ログインすれば広告は減ります

ログインすれば広告は減ります

Copyright © Science Impact Inc. All Rights Reserved.