特許 7607230 塗布装置および塗布方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-12-19

(45)【発行日】2024-12-27

(54)【発明の名称】塗布装置および塗布方法

(51)【国際特許分類】

   B05D 1/40 20060101AFI20241220BHJP

   B05D 3/10 20060101ALI20241220BHJP

【ＦＩ】

B05D1/40 A

B05D3/10 F

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2020155563

(22)【出願日】2020-09-16

(65)【公開番号】P2022049378

(43)【公開日】2022-03-29

【審査請求日】2023-07-18

(73)【特許権者】

【識別番号】314012076

【氏名又は名称】パナソニックＩＰマネジメント株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002745

【氏名又は名称】弁理士法人河崎特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】唐崎 秀彦

(72)【発明者】

【氏名】置田 尚吾

(72)【発明者】

【氏名】針貝 篤史

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 彰宏

(72)【発明者】

【氏名】高崎 俊行

(72)【発明者】

【氏名】佐伯 英史

【審査官】清水 晋治

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－１４５５６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００２－２９９２０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０４－０１１７２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０２－１６４０２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０９－１１５８０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－１４５５８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１８／０３７６９１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１９／０４４１９９（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１４－１８３１２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－３１５６７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－０８８７９６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０５Ｄ １／００－７／２６

Ｂ０５Ｃ ７／００－２１／００

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

２１／３０

２１／３０４

２１／４６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

被処理体を回転ステージの保持面に保持させる保持工程と、
前記回転ステージを囲むように設けられた容器の内壁に洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、
前記洗浄液供給工程の後で、前記被処理体の前記保持面と対向しない第１主面の側から、前記回転ステージに保持された前記被処理体に塗布液を供給するとともに、前記回転ステージを回転させる塗布工程と、を有し、
前記洗浄液供給工程では、前記回転ステージを回転させながら、前記洗浄液を前記回転ステージに保持された前記被処理体の前記第１主面側に供給するとともに、前記被処理体から前記洗浄液を遠心力により前記内壁に飛散させ、
前記洗浄液供給工程における前記回転ステージの前記保持面の位置が、前記塗布工程における前記回転ステージの前記保持面の位置よりも高い、塗布方法。

【請求項2】

前記洗浄液供給工程において、前記洗浄液を前記被処理体の前記第１主面側の外縁部に供給するとともに、前記外縁部に供給した前記洗浄液を遠心力により前記内壁に飛散させる、請求項１に記載の塗布方法。

【請求項3】

前記被処理体は、基板と、前記基板を保持する保持シートと、前記保持シートの外縁を保持するフレームを有し、
前記洗浄液供給工程では、前記洗浄液を前記フレームに供給し、
前記塗布工程では、前記塗布液を前記基板に供給する、請求項２に記載の塗布方法。

【請求項4】

前記洗浄液供給工程において、前記回転ステージにおける複数の位置で前記洗浄液を前記被処理体に供給する、請求項１～３のいずれか１項に記載の塗布方法。

【請求項5】

前記塗布液は、樹脂成分を含み、
前記洗浄液は、前記樹脂成分を溶解させる溶媒を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の塗布方法。

【請求項6】

前記塗布工程の前に、前記容器の少なくとも前記回転ステージより下方の空間に前記洗浄液を滞留させる工程をさらに有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の塗布方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体ウエハーなどの被処理体に塗布液を塗布する装置および方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体基板上にレジストなどの樹脂膜を塗布形成する方法として、基板を回転させながら、回転する基板上に塗布液を滴下し、遠心力により均一な薄膜を形成するスピン塗布法が一般的に用いられている。スピン塗布法では、滴下した塗布液は、塗布装置の内壁にも飛散し、乾燥して樹脂成分が内壁に固着し得る。固着した樹脂成分は定期的に取り除く必要がある。

【0003】

塗布装置の洗浄の方法として、特許文献１には、ウエハーチャック上に載置されたウエハーにレジストを滴下し遠心力によりレジスト薄膜を形成する半導体製造装置において、回転するウエハーチャックを包囲するカップの側面に、処理廃液を洗浄するための薬液滴下ノズルを設けることが提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開昭６２－７３６７０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

塗布装置の洗浄を容易にし、メンテナンス性を高める。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の一局面は、被処理体を回転ステージの保持面に保持させる保持工程と、前記回転ステージを囲むように設けられた容器の内壁に洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、前記洗浄液供給工程の後で、前記被処理体の前記保持面と対向しない第１主面の側から、前記回転ステージに保持された前記被処理体に塗布液を供給するとともに、前記回転ステージを回転させる塗布工程と、を有し、前記洗浄液供給工程では、前記回転ステージを回転させながら、前記洗浄液を前記回転ステージに保持された前記被処理体の第１主面側に供給するとともに、前記被処理体から前記洗浄液を遠心力により前記内壁に飛散させる、塗布方法に関する。

【0007】

本発明の他の局面は、被処理体を保持面に保持する回転ステージと、底部と、前記底部から立設し、前記回転ステージを囲む側壁と、を有し、前記側壁の高さが前記回転ステージの高さよりも高い容器と、前記回転ステージを前記保持面に交差する方向を回転軸に回転させる回転部と、前記被処理体の前記保持面と対向しない第１主面の側から前記被処理体に塗布液を供給する塗布液供給部と、前記被処理体の前記第１主面側から前記被処理体に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記回転部、前記塗布液供給部、および、前記洗浄液供給部を制御する制御部と、を備え、前記塗布液供給部は、塗布ノズルを有し、前記洗浄液供給部は、洗浄ノズルを有し、前記塗布液供給部および前記洗浄液供給部は、前記塗布ノズルが所定の退避位置にあり、且つ前記洗浄ノズルが第１の位置にある状態で、前記洗浄ノズルが洗浄液を吐出した後、前記洗浄ノズルが所定の退避位置にあり、且つ前記塗布ノズルが前記第１の位置と異なる第２の位置にある状態で、前記塗布ノズルが塗布液を吐出するように、前記制御部により制御され、前記回転部は、前記洗浄ノズルが前記第１の位置で前記洗浄液を吐出する間は前記回転ステージを回転させて、前記被処理体に供給した前記洗浄液を遠心力により前記側壁に飛散させるように、前記制御部により制御される、塗布装置に関する。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、塗布装置の洗浄が容易になり、メンテナンス性を高められる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の一実施形態に係る塗布装置の要部を模式的に示す図である。

【図2】本発明の一実施形態に係る塗布装置の構成を示すブロック図である。

【図3】本発明の一実施形態に係る塗布方法を示すフローチャートである。

【図4】洗浄液供給工程での塗布装置の内部の状態を模式的に示す断面図である。

【図5】塗布液供給工程での塗布装置の内部の状態を模式的に示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

本実施形態に係る塗布方法は、被処理体を回転ステージの保持面に保持させる保持工程と、回転ステージを囲むように設けられた容器の内壁に洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、洗浄液供給工程の後で、被処理体の保持面と対向しない第１主面の側から、回転ステージに保持された被処理体に塗布液を供給するとともに、回転ステージを回転させる塗布工程と、を有する。塗布工程により、塗布液が付着した被処理体が回転する。塗布工程において、回転ステージの回転は、塗布液の供給より前から開始してもよく、塗布液の供給の後で実施してもよい。すなわち、回転する被処理体に塗布液を供給してもよいし、塗布液が供給された被処理体を回転させてもよい。

【0011】

洗浄液供給工程では、回転ステージを回転させながら、洗浄液を回転ステージに保持された被処理体の第１主面側に供給するとともに、被処理体から洗浄液を遠心力により内壁に飛散させる。これにより、先の工程で内壁に付着した樹脂成分を除去することができる。また、塗布液を被処理体に塗布するに先立って、容器の内壁を洗浄液で被覆または濡らしておくことができる。結果、塗布液が内壁に付着し、固着することも抑制される。

【0012】

洗浄液供給工程において、洗浄液は被処理体の第１主面側の外縁部に供給するとよい。回転ステージの回転で生じる遠心力により、洗浄液は容器内壁に向かって飛散する。容器内壁からの距離が近い外縁部に洗浄液を供給することで、効率的に洗浄液を容器内壁に飛散させることができる。また、被処理体の中央部に設けられる塗布対象物（例えば、基板）に洗浄液が付着することも抑制される。

【0013】

好ましくは、被処理体としては、基板と、基板を保持する保持シートと、保持シートの外縁を保持するフレームを有するものが用いられる。洗浄液供給工程において、洗浄液が被処理体のフレーム部分に供給されるように、洗浄液を例えばノズルから滴下すると、洗浄液は基板に供給され難い一方で、洗浄液は遠心力によりフレームの外方に向かって飛散し、容器の内壁に飛散する。一方、塗布工程では、塗布液は、例えば（洗浄液とは別の）ノズルから滴下することで被処理体の中央に設けられた基板に供給する。よって、塗布液の基板への塗布と、洗浄液の容器内壁への供給を、簡便な方法で両立させることができる。

【0014】

被処理体を回転ステージに保持する保持面の位置は、洗浄液供給工程において、塗布工程よりも高くしてもよい。保持面の高さとは、保持面の法線方向における位置を指す。保持面の位置が、容器の底面から遠ざかる側（底面から被処理体に向かう方向）にあるほど、保持面の高さが高いとする。保持面の高さを、洗浄液供給工程において高くすることで、飛散した洗浄液は容器内壁のより高い位置に付着する。付着した洗浄液は、重力により内壁に沿って垂れ下がり、内壁を覆うことができる。これにより、容器内壁の塗布液の付着が想定される領域に洗浄液を飛散させ、装置内壁を洗浄液で被覆または濡らしておくことができる。結果、付着した樹脂成分の除去効果および容器内壁を洗浄液で被覆する効果を高められる。

【0015】

洗浄液供給工程において、回転ステージにおける複数の位置で洗浄液を被処理体に供給してもよい。ここで、複数の位置とは、回転ステージの回転には依らない塗布装置内における相対位置を意味する。被処理体の外縁部に供給された洗浄液は、遠心力により、回転軸から遠ざかる方向に飛散し、容器の内壁に付着し得るが、回転軸を挟んで滴下位置と反対側に位置する内壁には飛散し難い。結果、容器の内壁の位置によって、洗浄液の飛散が少ない領域と多い領域が生じる場合がある。しかしながら、複数の位置で洗浄液を供給することによって、容器の内壁の位置に依らず、均一に洗浄液を飛散させることができ、容器内壁を洗浄液で被覆することができる。
塗布装置において、容器の内壁を回転させる機構を設けてもよい。容器内壁を回転させながら、回転する被処理体に洗浄液を供給することで、回転ステージにおける複数の位置で洗浄液を供給するのと同じ効果が得られる。

【0016】

塗布液は、例えば、樹脂成分を含む。その場合、洗浄液は、好ましくは、樹脂成分を溶解させる溶媒を含む。これにより、容器内壁に付着した樹脂成分は、溶媒に溶解して粘度が低下し、内壁を伝って容器の底部に落下する。よって、容器内壁に付着した樹脂成分は、底部から回収される。

【0017】

塗布工程に先立って、容器の回転ステージより下方の空間に、予め洗浄液（第２の洗浄液）を滞留させておいてもよい。塗布工程で供給された塗布液は、大半が基板上の膜形成に使用されるものの、一部は膜形成に使用されることなく外周方向に容器の内壁に向かって飛散し、容器内壁に付着し得る。しかしながら、飛散した塗布液は、洗浄液供給工程で供給した洗浄液で被覆されていることにより内壁への付着が抑制されているため、容器の底部へと移動し、底部において滞留する洗浄液と混ざり合う。よって、底部に滞留した洗浄液（第２の洗浄液）を排出することで、基板上の膜形成に使用されなかった余分な塗布液の除去を容易に行うことができる。

【0018】

底部に滞留させる第２の洗浄液は、塗布液（樹脂成分）を分散あるいは溶解させる性質を有するものが用いられる。第２の洗浄液は、洗浄液供給工程で用いる洗浄液（第１の洗浄液）と同じ成分を含むものであってもよい。第２の洗浄液は、洗浄液供給工程において供給された洗浄液が容器底部に移動し、滞留したものであってもよい。洗浄液の除去を容易とするために、例えば、容器の底部に液体を排出するための排出孔を設ければよい。

【0019】

以下に、本実施形態に係る塗布装置および塗布方法について、図面を参照して詳細に説明する。

【0020】

図１は、本発明の一実施形態に係る塗布装置の構成を模式的に示す断面図である。図２は、本発明の一実施形態に係る塗布装置のブロック図である。この塗布装置は、例えば、半導体材料などで形成された基板にマスクの元となる樹脂膜を形成するために利用される。

【0021】

塗布装置１００は、被処理体１０を保持面に保持する回転ステージ２０と、回転ステージ２０を囲む容器２１と、回転ステージ２０を回転させる回転部２２と、被処理体１０の保持面と対向しない第１主面Ｓ１の側から被処理体１０に塗布液を供給する塗布液供給部２３と、被処理体１０の第１主面Ｓ１側から洗浄液を供給する洗浄液供給部２４と、を備える。

【0022】

被処理体１０は、図１の例では、基板１１と、基板１１を保持する保持シート１２と、保持シート１２の外縁を保持するフレーム１３を備えている。被処理体１０は、保持シート１２において、回転ステージ２０の保持面Ｓ０に保持されている。被処理体１０は、保持面Ｓ０に対向しない主面Ｓ１（基板１１および保持シート１２の主面）と、保持面に対向する主面Ｓ２（保持シート１２の保持面Ｓ０との接触面）を有する。保持シート１２は、例えば、ダイシングテープである。

【0023】

保持シート１２は、撥水処理がされていてもよい。撥水処理により、親水性の塗布液および洗浄液の保持シートへの付着が抑制され、塗布膜形成後に保持シートを洗浄する工程を省略できる。撥水処理の方法としては、公知の材料および加工方法を用いることができる。

【0024】

回転ステージ２０には、被処理体１０が保持される。回転ステージ２０は、保持面Ｓ０に交差する方向（好ましくは、保持面Ｓ０の法線の方向）を回転軸にして回転可能である。回転ステージ２０は、被処理体１０のフレーム１３を固定する固定部を有していてもよい。固定部は、例えばクランプである。

【0025】

回転ステージ２０は、吸着機構によって被処理体１０を保持していてもよい。吸着機構は、例えば、真空吸着であってよく、静電吸着であってよい。装置の構成がシンプルになる点で、真空吸着が望ましい。この場合、回転ステージには、吸引ポンプに連結された吸引孔が形成されていてよく、あるいは、回転ステージの表面が、吸引ポンプに連結された多孔質材料で形成されていてもよい。吸引孔の数および配置間隔は、回転ステージおよび被処理体の大きさ等に応じて適宜設定され得る。

【0026】

回転ステージ２０は、また、保持面Ｓ０の法線の方向において移動可能であり、これにより保持面Ｓ０の法線方向における位置（高さ）が変更される。保持面Ｓ０の法線方向における位置（高さ）は、昇降部２７により変更され得る。

【0027】

容器２１は、底部２１ａと、底部２１ａから立設する側壁２１ｂを有し、上部が開口している。側壁２１ｂは、回転ステージ２０を囲み、側壁２１ｂの高さが回転ステージ２０の高さ（昇降部２７を設ける場合、底部２１ａまでの距離が最大となる最大高さ）よりも高い。容器２１内に回転ステージ２０および被処理体１０が収納される。容器２１の底部側は、洗浄液で満たすことができる。その場合、容器の底部２１ａまたは回転ステージより下方の側壁２１ｂには、洗浄液を排出するための排出孔３０が設けられている。

【0028】

回転部２２は、回転ステージ２０を保持面Ｓ０に交差する方向（好ましくは、保持面Ｓ０の法線の方向）を回転軸に回転させる。回転部２２は、例えば、回転ステージに接続された回転体、および、回転体を回転駆動させるモータ等で構成され得る。

【0029】

塗布液供給部２３は、第１主面Ｓ１の側から、被処理体１０の基板１１に向けて塗布液を供給する。塗布液供給部は、例えば、塗布ノズル２３ａ、塗布液が貯留されるタンク、吐出される原料液の圧力を調整するポンプ等を備える。塗布ノズル２３ａの先端には開口が形成されており、塗布液は、タンクから塗布ノズル２３ａに供給された後、この開口から所定の量および圧力で滴下される。塗布ノズル２３ａの開口の形状は特に限定されず、例えば、円形であってもよいし、スリット形状であってもよい。塗布ノズル２３ａは複数あってもよい。

【0030】

塗布液は、例えば、樹脂成分としてレジスト材料を含む。レジスト材料としては、例えば、ポリイミド等を含む熱硬化性樹脂、フェノール樹脂等を含むフォトレジスト、あるいは、アクリル樹脂等を含む水溶性レジスト等が挙げられる。

【0031】

洗浄液供給部２４は、第１主面Ｓ１の側から、被処理体１０に洗浄液を供給する。好ましくは、洗浄液供給部２４は、第１主面Ｓ１の側から、被処理体１０の外縁に設けられたフレーム１３に向けて洗浄液を供給する。洗浄液供給部は、例えば、洗浄ノズル２４ａ、洗浄液が貯留されるタンク、吐出される洗浄液の圧力を調整するポンプ等を備える。洗浄ノズル２４ａの先端には開口が形成されている。洗浄液は、タンクから洗浄ノズル２４ａに供給された後、この開口から所定の量および圧力で滴下される。洗浄ノズル２４ａの開口の形状は特に限定されず、例えば、円形であってもよいし、スリット形状であってもよい。洗浄ノズル２４ａは複数あってもよい。

【0032】

洗浄液は、塗布液に含まれる樹脂成分の少なくとも一部を溶解させる溶媒を含む。溶媒は、樹脂成分に応じて適宜選択すればよい。上記のレジスト材料を溶解させる溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、エタノール、アセトン、水等が挙げられる。洗浄液は、これら１種を単独で、あるいは２種以上を含む。

【0033】

塗布装置１００は、また、塗布液供給部２３における塗布ノズル２３ａ、および、洗浄液供給部２４における洗浄ノズル２４ａを移動させるノズル移動部２５を備えてもよい。ノズル移動部２５は、塗布ノズル２３ａを少なくとも保持面Ｓ０に平行な面内で移動させる。ノズル移動部２５は、また、洗浄ノズル２４ａを少なくとも保持面Ｓ０に平行な面内で移動させる。加えて、ノズル移動部は、塗布ノズルおよび／または洗浄ノズルを、鉛直方向および基板の円周方向の少なくとも一方に移動させるものであってもよい。ノズル移動部が備える移動機構は特に限定されず、公知の機構を用いることができる。

【0034】

塗布装置１００は、また、制御部２６を備える。制御部２６は、例えばコンピュータを備え、塗布液供給部２３、洗浄液供給部２４、回転部２２、昇降部２７およびノズル移動部２５を制御する。制御部２６により、塗布ノズルの位置、塗布液の供給量、洗浄ノズルの位置、洗浄液の供給量、回転ステージ２０の回転速度、回転ステージ２０の位置（高さ）などが、個別に制御される。

【0035】

より具体的に、制御部２６は、塗布ノズル２３ａが所定の退避位置にあり、且つ洗浄ノズル２４ａが第１の位置にある状態で、洗浄ノズルが洗浄液を吐出した後、洗浄ノズル２４ａが所定の退避位置にあり、塗布ノズル２３ａが第２の位置にある状態で、塗布ノズル２３ａが塗布液を吐出するように、塗布液供給部２３および洗浄液供給部２４を制御する。第１の位置は、例えば、回転ステージ２０の回転軸までの距離が、第２の位置よりも遠い位置（すなわち、外周側）にある。より具体的に、第１の位置は、被処理体１０のフレーム１３に対応する位置であり、第２の位置は、被処理体１０の基板１１に対応する位置であり得る。なお、退避位置は、被処理体１０から十分離れた位置である。洗浄ノズル２４ａの退避位置から第１の位置への移動および第１の位置から退避位置への移動、および、塗布ノズル２３ａの退避位置から第２の位置への移動および第２の位置から退避位置への移動は、制御部２６による制御の下、ノズル移動部２５により行われ得る。

【0036】

また、制御部２６は、洗浄ノズル２４ａが第１の位置で洗浄液を吐出する間は回転ステージ２０を回転させるように回転部２２を制御する。被処理体１０に供給した洗浄液が遠心力により容器の側壁２１ｂに飛散するように、回転部２２の回転速度が制御される。

【0037】

また、制御部２６は、洗浄ノズル２４ａが上記第１の位置で洗浄液を吐出する間は、保持面Ｓ０の底部２１ａまでの距離が第１の距離Ｘ_１を維持し、塗布ノズル２３ａが上記第２の位置で塗布液を吐出する間は、保持面Ｓ０の底部２１ａまでの距離が第１の距離Ｘ_１よりも近い第２の距離Ｘ_２を維持する（Ｘ_２＜Ｘ_１）ように、昇降部２７を制御する。

【0038】

本発明の一実施形態に係る塗布方法は、上記の塗布装置１００を用いて、例えば下記のようにして実施され得る。図３に、本発明の一実施形態に係る塗布方法を示すフローチャートを示す。

【0039】

塗布液の塗布に先立ち、容器２１に設けられた排出弁２９を閉じ、容器２１の底部２１ａに洗浄液を滞留させてしておく（ＳＴ０１）。洗浄液は、例えば水であり、塗布液を分散あるいは溶解させる性質を有する。これにより、容器２１の少なくとも回転ステージ２０より下方の空間が洗浄液で満たされる。

【0040】

次に、回転ステージ２０に被処理体１０を載置する（ＳＴ０２）。

【0041】

次に、図４に示すように、回転ステージ２０の高さを昇降部２７により変更する（ＳＴ０３）。ここでは、後述する工程ＳＴ０５後の状態と比べて、回転ステージ２０の高さが高くなるように（すなわち、容器の底部２１ａと回転ステージ２０との間の距離が大きくなるように）、回転ステージ２０を上昇させる。この工程は、工程ＳＴ０１またはＳＴ０２の前に行ってもよい。

【0042】

次に、塗布ノズル２３ａを退避位置に移動させた状態で、回転ステージ２０を回転させるとともに、洗浄ノズル２４ａを第１の位置に移動させ、被処理体１０のフレーム１３に向けて洗浄液を供給する（ＳＴ０４：洗浄液供給工程）この状態における塗布装置１００内部の状態が図４に示されている。フレーム１３に滴下された洗浄液は、遠心力により容器の側壁２１ｂに向けて飛散する。これにより、容器の内側壁が洗浄液の成分で被覆され、容器の内側壁に保護層２８（図５参照）が形成される。

【0043】

この工程では、洗浄ノズルの移動と洗浄液の塗布とを複数回にわたり繰り返して行い、回転ステージの複数の位置で洗浄液を供給してもよい。複数の位置で洗浄液を供給することによって、容器の内壁の位置によって、洗浄液の飛散量にムラが生じることが抑制され、容器内壁を均一に洗浄液で被覆することができる。
容器の側壁２１ｂに向けて飛散した洗浄液は、側壁２１ｂを伝って下方に移動する。排出弁２９は閉じられた状態であるので、洗浄液は排出されることなく、容器底部の洗浄液と混ざり合い、滞留する。

【0044】

洗浄液供給工程における回転テーブルの回転速度は、特に限定されないが、３００ｒｐｍ以上であってよく、５００ｒｐｍ以上であってよい。また、回転テーブルの回転速度は、２０００ｒｐｍ以下であってよく、１５００ｒｐｍ以下であってよい。

【0045】

洗浄液の粘度は特に限定されない。生産性の観点から、洗浄液のＪＩＳ Ｚ ８８０３に準拠して測定される２０℃における粘度は、１ｍＰａ・ｓ以上１０００ｍＰａ・ｓ以下であってよい。

【0046】

次に、図５に示すように、回転ステージ２０の高さを昇降部２７により調整する（ＳＴ０５）。ここでは、前述の工程ＳＴ０３後の状態と比べて、回転ステージ２０の高さが低くなるように（すなわち、容器の底部２１ａと回転ステージ２０との間の距離が小さくなるように）、回転ステージ２０を下降させる。

【0047】

次に、洗浄ノズル２４ａを退避位置に移動させた状態で、塗布ノズル２３ａを第２の位置に移動させ、被処理体１０の基板１１に向けて塗布液を供給するとともに、回転ステージを回転させる（ＳＴ０６：塗布液供給工程）。この状態における塗布装置１００内部の状態が図５に示されている。基板１１に滴下された塗布液は、遠心力により、基板の表面を均一に被覆する。一方で、塗布液の一部は、容器の側壁２１ｂに向けて飛散し得る。しかしながら、容器の内側壁には保護層２８が形成されているため、塗布液の容器内側壁への付着が抑制される。容器の内側壁に飛散により付着した塗布液は、内側壁を伝って下方に移動し、容器底部の洗浄液と混ざり合う。

【0048】

塗布液供給工程における回転ステージの回転速度は、特に限定されないが、３００ｒｐｍ以上であってよく、５００ｒｐｍ以上であってよい。また、テーブルの回転速度は、５０００ｒｐｍ以下であってよく、３０００ｒｐｍ以下であってよい。塗布液を供給する際、回転ステージは停止していてもよいし、より低速（例えば、１０ｒｐｍ以上５０ｒｐｍ以下）で回転していてもよい。

【0049】

塗布液の粘度は特に限定されない。生産性の観点から、原料液のＪＩＳ Ｚ ８８０３に準拠して測定される２０℃における粘度は、１ｍＰａ・ｓ以上１０００ｍＰａ・ｓ以下であってよい。通常、塗布液の粘度は、洗浄液供給工程にて供給する洗浄液の粘度よりも高い。

【0050】

塗布液の供給量は、所望の樹脂成分の塗膜の厚みに応じて適宜設定すればよい。塗膜の厚みは特に限定されないが、例えば、プラズマダイシングに用いられる樹脂膜の場合、例えば、５μｍ以上６０μｍ以下である。

【0051】

次に、回転ステージ２０から被処理体１０を取り外す（ＳＴ０７）。取り外された被処理体１０は、乾燥工程が施され、基板１１上に樹脂膜が形成される。乾燥条件は特に限定されず、塗布液の成分および濃度、保持シート１２の耐熱性等を考慮して適宜設定すればよい。乾燥機構としては、例えば、ヒーターを用いる加熱乾燥、排気装置を用いる減圧乾燥、または給気装置を用いる温風乾燥が挙げられる。
工程ＳＴ０７の後、別の被処理体１０を準備し、工程ＳＴ０２～ＳＴ０７を繰り返し行ってもよい。

【0052】

続いて、排出弁２９を開放し、容器底部に設けられた排出孔３０から洗浄液を排出する（ＳＴ０８）。

【0053】

洗浄液供給工程（ＳＴ０４）における回転ステージ２０の回転速度と、塗布液供給工程（ＳＴ０６）における回転ステージ２０の回転速度は、異なっていてもよい。塗布液の容器内壁への飛散を抑制しつつ、洗浄液の容器内壁への飛散を促進させる観点から、洗浄液供給工程における回転ステージ２０の回転速度は、塗布液供給工程における回転ステージ２０の回転速度よりも速いことが好ましい。

【産業上の利用可能性】

【0054】

本発明の塗布装置および塗布方法は、基板に均一な樹脂膜を形成でき、特にプラズマ処理により基板をダイシングするためのマスクを形成する装置及び方法に好適である。

【符号の説明】

【0055】

１００：塗布装置
１０：被処理体
１１：基板
１２：保持シート
１３：フレーム
２０：回転ステージ
２１：容器
２１ａ：底部
２１ｂ：側壁
２２：回転部
２３：塗布液供給部
２３ａ：塗布ノズル
２４：洗浄液供給部
２４ａ：洗浄ノズル
２５：ノズル移動部
２６：制御部
２７：昇降部
２８：保護層
２９：排出弁
３０：排出孔

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】