特許7607555IP Force 特許公報全文掲載

ホーム > 特許ランキング > ローム株式会社 > 特許7607555

技術分野

主に電流検出に用いられる抵抗器

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示は事情に鑑み、抵抗温度係数の増加を抑制することが可能な抵抗器を提供することをその課題とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一の側面により提供される抵抗器は、厚さ方向において互いに反対側を向く第１面および第２面を有する抵抗体と、前記第１面に配置され、かつ電気絶縁性を有する保護膜と、前記厚さ方向に対して直交する第１方向において互いに離間して配置され、かつ前記抵抗体に接する一対の電極と、を具備している。前記保護膜は、前記第１方向において互いに離間し、かつ前記厚さ方向および前記第１方向の双方に対して直交する第２・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)

この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 第１実施形態にかかる抵抗器の平面図である。
【図2】 図１に示す抵抗器の平面図であり、絶縁板を透過している。
【図3】 図１に示す抵抗器の底面図である。
【図4】 図３に対応する底面図であり、一対の電極を透過している。
【図5】 図４に対応する底面図であり、一対の中間層を透過している。
【図6】 図１に示す抵抗器の右側面図である。
【図7】 図１に示す抵抗器の正面図である。
【図8】 図２のＶＩＩＩ－ＶＩＩＩ線に沿う断面図である。
【図9】 図８の部分拡大図である。
【図10】 図８の部分拡大図である。
【図11】 図８の部分拡大図である。
【図12】 図１に示す抵抗器の製造工程を説明する断面図である。
【図13】 図１に示す抵抗器の製造工程を説明する断面図である。
【図14】 図１に示す抵抗器の製造工程を説明する断面図である。
【図15】 図１に示す抵抗器の製造工程を説明する断面図である。
【図16】 図１に示す抵抗器の製造工程を説明する断面図である。
【図17】 図１に示す抵抗器の製造工程を説明する断面図である。
【図18】 図１に示す抵抗器と、比較例の抵抗器との抵抗温度係数を示すグラフである。
【図19】 第２実施形態にかかる抵抗器の平面図であり、絶縁板を透過している。
【図20】 図１９に示す抵抗器の底面図であり、一対の電極を透過している。
【図21】 図１９に示す抵抗器の正面図である。
【図22】 図１９のＸＸＩＩ－ＸＸＩＩ線に沿う断面図である。
【図23】 図１９に示す抵抗器の製造工程を説明する断面図である。
【図24】 図１９に示す抵抗器の製造工程を説明する断面図である。
【図25】 図１９に示す抵抗器の製造工程を説明する断面図である。

代表図 図1本件の代表的な図

Ａ１０，Ａ２０：抵抗器 １０：抵抗体 １０Ａ：第１面 １０Ｂ：第２面 １０Ｃ：第１端面 １０Ｄ：第２端面 １１１：第１スリット １１２：第２スリット １１Ａ：側壁 １２：溝 １３１：第１領域 １３２：第２領域 １４：突起 ２０：絶縁板 ２０Ａ：端面 ３０：保護膜 ３０Ａ：第１外縁 ３０Ｂ：第２外縁 ３１：フィラー ４０：中間層 ４０Ａ：第１層 ４０Ｂ：第２層 ４１：被覆部 ４２：延伸部 ４２１：切欠き ４３：介在部 ５０：電極 ５１：底部 ５２：側部 ８１：抵抗体 ８１Ａ：第１面 ８１Ｂ：第２面 ８１１：スリット ８１２：溝 ８２：基材 ８３：金属薄膜 ８９：マスク層 Ｌ１，Ｌ１ｍｉｎ，Ｌ１ｍａｘ：第１間隔 Ｌ２，Ｌ２ｍｉｎ，Ｌ２ｍａｘ：第２間隔 Ｌ０：寸法 Ｃ：中心 Ｎ：境界 Ｂｍｉｎ，ｂｍａｘ：幅 ＣＬ：切断線 ｚ：厚さ方向 ｘ：第１方向 ｙ：第２方向

全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録

［広告欄］

ログインすれば広告は減ります

ログインすれば広告は減ります

Copyright © Science Impact Inc. All Rights Reserved.