特許 7607742 コイル基板およびそれを備える電子装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-12-19

(45)【発行日】2024-12-27

(54)【発明の名称】コイル基板およびそれを備える電子装置

(51)【国際特許分類】

   H01F 5/00 20060101AFI20241220BHJP

   H01F 17/00 20060101ALI20241220BHJP

【ＦＩ】

H01F5/00 M

H01F17/00 B

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2023506512

(86)(22)【出願日】2021-07-30

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-08-22

(86)【国際出願番号】 KR2021010002

(87)【国際公開番号】W WO2022030897

(87)【国際公開日】2022-02-10

【審査請求日】2023-01-31

(31)【優先権主張番号】10-2020-0096545

(32)【優先日】2020-08-03

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】517210783

【氏名又は名称】ステムコ カンパニー リミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】110000671

【氏名又は名称】ＩＢＣ一番町弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】キム，カン ドン

(72)【発明者】

【氏名】ハン，チャン フン

(72)【発明者】

【氏名】キム，ヒュン ウ

(72)【発明者】

【氏名】シン，ス ジョン

【審査官】久保田 昌晴

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１０－０８２５０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１７－０６２４７０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００５－２４５１３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－１５８０１５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－１５３７２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－１２４０２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０７－１９２９７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－２８７７２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０２０／０２２７９８４（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｆ ５／００、７／０６－７／１７、７／２０

Ｈ０１Ｆ １７／００、２７／２８

Ｇ０３Ｂ ５／００－５／０８

Ｈ０２Ｋ ３／２６、３３／００－３３／１８

Ｈ０５Ｋ １／１６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基材層；および
前記基材層上に螺旋状に巻線されるコイルパターンを含み、
前記基材層の上部は前記コイルパターンの内側に形成されるボイド領域を基準として第１領域および第２領域に区切られ、
前記コイルパターンが、前記第１領域に形成されるコイルパターン１と、前記第２領域に形成されるコイルパターン２と、前記コイルパターン１と前記コイルパターン２とを接続するコイルパターン３とを含み、
前記コイルパターン３は、コイルパターン３ａと、前記コイルパターン１と前記コイルパターン３ａとを接続するコイルパターン３ｂと、前記コイルパターン２と前記コイルパターン３ａとを接続するコイルパターン３ｃとを含み、
前記コイルパターン２の面積が前記コイルパターン１の面積よりも大きく、
前記コイルパターン３ｃが、前記コイルパターン２および前記コイルパターン３ａに対して非平行に形成され、
前記コイルパターン１を構成する各パターンの幅と前記コイルパターン２を構成する各パターンの幅とが異なり、前記コイルパターン３ｃを構成する各パターンの幅は徐々に変化する、コイル基板。

【請求項2】

前記第１領域および前記第２領域は前記ボイド領域の長手方向に沿って前記基材層の一端から前記基材層の他端まで形成される基準軸線に基づいて区切られ、
前記基準軸線は前記ボイド領域の短軸の中心を横切って形成される、請求項１に記載のコイル基板。

【請求項3】

前記コイルパターンは、
前記第１領域に形成される複数の第１直線部；
前記第２領域に形成される複数の第２直線部；
前記第１領域および前記第２領域に形成され、前記第１直線部および前記第２直線部の両側に形成される複数の第３直線部；
前記第１領域に形成され、前記第１直線部および前記第３直線部を連結する複数の第１変曲部；および
前記第２領域に形成され、前記第２直線部および前記第３直線部を連結する複数の第２変曲部を含み、
ここで、
複数の前記第１直線部はそれぞれ前記コイルパターン１を構成するパターンであり、
複数の前記第２直線部はそれぞれ前記コイルパターン２を構成するパターンであり、
複数の前記第３直線部はそれぞれ前記コイルパターン３ａを構成するパターンであり、
複数の前記第１変曲部はそれぞれ前記コイルパターン３ｂを構成するパターンであり、
複数の前記第２変曲部はそれぞれ前記コイルパターン３ｃを構成するパターンである、請求項１に記載のコイル基板。

【請求項4】

前記第１直線部は前記第１領域の長手方向に沿って形成され、
前記第２直線部は前記第１直線部に平行に形成され、
前記第３直線部は前記第１直線部および前記第２直線部に垂直方向または斜め方向に形成され、
前記第１変曲部および前記第２変曲部は斜線形状または円弧形状に形成される、請求項３に記載のコイル基板。

【請求項5】

前記複数の第２直線部の幅は前記複数の第１直線部の幅より広い、請求項３に記載のコイル基板。

【請求項6】

前記複数の第３直線部の幅は前記複数の第１直線部の幅と同一であり、
前記複数の第２変曲部の幅は前記第３直線部から前記第２直線部方向に拡張される、請求項５に記載のコイル基板。

【請求項7】

前記第２直線部の巻線数は前記第１直線部の巻線数と同一であるか、請求項５に記載のより多い、コイル基板。

【請求項8】

前記第２直線部の巻線数は前記第１直線部の巻線部よりも多い、請求項３に記載のコイル基板。

【請求項9】

前記コイルパターン上に形成され、前記コイルパターンを保護する保護層をさらに含む、請求項１に記載のコイル基板。

【請求項10】

前記コイルパターンは前記基材層の一面上に複数形成されるか、前記基材層の両面上にそれぞれ少なくとも１個形成され、
前記コイルパターンが前記基材層の一面上に複数形成される場合、隣り合う二つのコイルパターンの間に層間絶縁層が形成される、請求項１に記載のコイル基板。

【請求項11】

ハウジング；
前記ハウジングの内部に設けられるコイル基板；および
前記コイル基板と離隔して前記ハウジングの内部に設けられる磁性体を含み、
前記コイル基板は、
基材層；および
前記基材層上に螺旋状に巻線されるコイルパターンを含み、
前記基材層の上部は前記コイルパターンの内側に形成されるボイド領域を基準として第１領域および第２領域に区切られ、
前記コイルパターンが、前記第１領域に形成されるコイルパターン１と、前記第２領域に形成されるコイルパターン２と、前記コイルパターン１と前記コイルパターン２とを接続するコイルパターン３とを含み、
前記コイルパターン３は、コイルパターン３ａと、前記コイルパターン１と前記コイルパターン３ａとを接続するコイルパターン３ｂと、前記コイルパターン２と前記コイルパターン３ａとを接続するコイルパターン３ｃとを含み、
前記コイルパターン２の面積が前記コイルパターン１の面積よりも大きく、
前記コイルパターン３ｃが、前記コイルパターン２および前記コイルパターン３ａに対して非平行に形成され、
前記コイルパターン１を構成する各パターンの幅と前記コイルパターン２を構成する各パターンの幅とが異なり、前記コイルパターン３ｃを構成する各パターンの幅は徐々に変化する、電子装置。

【請求項12】

前記ハウジングはカメラアクチュエータのハウジングである、請求項１１に記載の電子装置。

【請求項13】

前記磁性体は前記コイル基板の前記ボイド領域と同じ基準で両側が対称をなす、請求項１１に記載の電子装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明はコイル基板およびそれを備える電子装置に関する。より詳細には、電気的特性のバランスを制御できるコイル基板およびそれを備える電子装置に関する。

【背景技術】

【0002】

一般に磁場内にある導線に電流が流れると導線は磁場から電磁気力を受ける。特に、導線が螺旋状に巻線されたコイルの場合、巻線数、巻線方向、巻線された導線の長さまたは厚さなどコイル自体の構造やコイルと隣接する磁性体などとの設計構造により電流、電磁気力、抵抗などの電気的特性の変化が現れる。

【0003】

最近ではこのようなコイルを適用した代表的な電子装置としてカメラアクチュエータが脚光を浴びている。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

日本登録特許第６６２６７２９号を参照すると、第１コイル５１に制御電流が与えられると、可動ユニット２０に搭載された磁石５２から放出される磁場と前記制御電流でレンズホルダ２５が中心軸Ｏに沿って移動することにより撮像素子に対する焦点合わせが行われる。そして、軸交差駆動機構７０を構成する第２コイル７１に制御電流が与えられると、磁石５２の第１着磁面５２ａから側板部６３の下端６３ａに至る磁束Φと前記制御電流で可動ユニット２０が中心軸Ｏと交差する方向へ駆動されて手振れ補正が行われる。

【0005】

すなわち、カメラアクチュエータはコイルと磁石が内部に近接するように備えられて相互作用によりレンズを駆動するので、間隔、基準軸が一致するか否かなど相互間の影響性を考慮した設計が必要である。

【0006】

これに加えて、コイル自体の構造設計も考慮するべきであるが、アクチュエータ内部の電磁気力を強化するためにはコイルの巻線数、厚さなどを増やすことが有効であるが、巻線数のみ増加させる場合は抵抗も同時に増加して電流の流れをかえって妨げるので、駆動制御にエラーが発生したり発熱の問題が生じ得る。反面、厚さのみ増加させる場合は抵抗が必要以上に低下して過剰電流によるまた他の発熱の問題が発生し得る。

【0007】

本発明が解決しようとする課題は、仮想の軸を基準として第１領域に含まれるコイルパターンの面積が第２領域に含まれるコイルパターンの面積に比べて拡張されて形成される非対称構造のコイル基板およびそれを備える電子装置を提供することにある。

【0008】

本発明の課題は以上で言及した課題に制限されず、言及されていないまた他の課題は以下の記載から当業者に明確に理解されるものである。

【課題を解決するための手段】

【0009】

前記課題を達成するための本発明のコイル基板の一態様（ａｓｐｅｃｔ）は、基材層；および前記基材層上に螺旋状に巻線されるコイルパターンを含み、前記基材層の上部は前記コイルパターンの内側に形成されるボイド領域を基準として第１領域および第２領域に区切られ、前記コイルパターンが、前記第１領域に形成されるコイルパターン１と、前記第２領域に形成されるコイルパターン２と、前記コイルパターン１と前記コイルパターン２とを接続するコイルパターン３とを含み、前記コイルパターン３は、コイルパターン３ａと、前記コイルパターン１と前記コイルパターン３ａとを接続するコイルパターン３ｂと、前記コイルパターン２と前記コイルパターン３ａとを接続するコイルパターン３ｃとを含み、前記コイルパターン２の面積が前記コイルパターン１の面積よりも大きく、前記コイルパターン３ｃが、前記コイルパターン２および前記コイルパターン３ａに対して非平行に形成され、前記コイルパターン１を構成する各パターンの幅と前記コイルパターン２を構成する各パターンの幅とが異なり、前記コイルパターン３ｃを構成する各パターンの幅は徐々に変化する、

【0010】

前記第１領域および前記第２領域は前記ボイド領域の長手方向に沿って前記基材層の一端から前記基材層の他端まで形成される基準軸線に基づいて区切られ、前記基準軸線は前記ボイド領域の短軸の中心を横切って形成され得る。

【0011】

前記コイルパターンは、前記第１領域に形成される複数の第１直線部；前記第２領域に形成される複数の第２直線部；前記第１領域および前記第２領域に形成され、前記第１直線部および前記第２直線部の両側に形成される複数の第３直線部；前記第１領域に形成され、前記第１直線部および前記第３直線部を連結する複数の第１変曲部；および前記第２領域に形成され、前記第２直線部および前記第３直線部を連結する複数の第２変曲部を含み得る。ここで、複数の前記第１直線部はそれぞれコイルパターン１を構成するパターンであり、複数の前記第２直線部はそれぞれ前記コイルパターン２を構成するパターンであり、複数の前記第３直線部はそれぞれ前記コイルパターン３ａを構成するパターンであり、複数の前記第１変曲部はそれぞれ前記コイルパターン３ｂを構成するパターンであり、複数の前記第２変曲部はそれぞれ前記コイルパターン３ｃを構成するパターンである。

【0012】

前記第１直線部は前記第１領域の長手方向に沿って形成され、前記第２直線部は前記第１直線部に平行に形成され、前記第３直線部は前記第１直線部および前記第２直線部に垂直方向または斜め方向に形成され、前記第１変曲部および前記第２変曲部は斜線形状または円弧形状に形成され得る。

【0013】

前記複数の第２直線部の幅は前記複数の第１直線部の幅より広くてもよい。

【0014】

前記複数の第３直線部の幅は前記複数の第１直線部の幅と同一であり、前記複数の第２変曲部の幅は前記第３直線部から前記第２直線部方向に拡張され得る。

【0016】

前記第２直線部の巻線数は前記第１直線部の巻線数と同一であるか、より多くてもよい。

【0017】

前記第２直線部の巻線数は前記第１直線部の巻線部よりも多くてもよい。

【0018】

前記コイル基板は前記コイルパターン上に形成され、前記コイルパターンを保護する保護層をさらに含み得る。

【0019】

前記コイルパターンは前記基材層の一面上に複数形成されるか、前記基材層の両面上にそれぞれ少なくとも１個形成され、前記コイルパターンが前記基材層の一面上に複数形成される場合、隣り合う二つのコイルパターンの間に層間絶縁層が形成され得る。

【0020】

前記課題を達成するための本発明の電子装置の一態様は、ハウジング；前記ハウジングの内部に設けられるコイル基板；および前記コイル基板と離隔して前記ハウジングの内部に設けられる磁性体を含み、前記コイル基板は、基材層；および前記基材層上に螺旋状に巻線されるコイルパターンを含み、前記基材層の上部は前記コイルパターンの内側に形成されるボイド領域を基準として第１領域および第２領域に区切られ、前記コイルパターンが、前記第１領域に形成されるコイルパターン１と、前記第２領域に形成されるコイルパターン２と、前記コイルパターン１と前記コイルパターン２とを接続するコイルパターン３とを含み、前記コイルパターン３は、コイルパターン３ａと、前記コイルパターン１と前記コイルパターン３ａとを接続するコイルパターン３ｂと、前記コイルパターン２と前記コイルパターン３ａとを接続するコイルパターン３ｃとを含み、前記コイルパターン２の面積が前記コイルパターン１の面積よりも大きく、前記コイルパターン３ｃが、前記コイルパターン２および前記コイルパターン３ａに対して非平行に形成され、前記コイルパターン１を構成する各パターンの幅と前記コイルパターン２を構成する各パターンの幅とが異なり、前記コイルパターン３ｃを構成する各パターンの幅は徐々に変化する。

【0021】

前記ハウジングはカメラアクチュエータのハウジングであり得る。

【0022】

前記磁性体は前記コイル基板の前記ボイド領域と同じ基準で両側が対称をなし得る。

【0023】

その他実施形態の具体的な内容は詳細な説明および図面に含まれている。

【発明の効果】

【0024】

本発明は非対称構造のコイル基板およびそれを備える電子装置を提供することによって、次のような効果を得ることができる。

【0025】

第一に、限定された領域内で電磁気力、抵抗など電気的特性を制御できるコイル基板を提供することができる。

【0026】

第二に、本発明によるコイル基板と隣接する磁性体などとの関係を考慮して電子装置の構造を設計することによって、電磁気力の強度、電磁気力の変化量、抵抗と電流などのバランスを効率的に制御することができる。

【0027】

第三に、本発明によるコイル基板、これと隣接する磁性体などとの構造設計を多様に変形して電子装置の用途別の性能を極大化することができる。

【図面の簡単な説明】

【0028】

【図1】本発明の一実施形態によるコイル基板の断面図である。

【図2】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの平面図である。

【図3】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第１例示図である。

【図4】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第２例示図である。

【図5】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第３例示図である。

【図6】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第４例示図である。

【図7】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第５例示図である。

【図8】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第６例示図である。

【図9】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第７例示図である。

【図10】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの構造を説明するための例示図である。

【図11】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第１例示図である。

【図12】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第２例示図である。

【図13】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第３例示図である。

【図14】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第４例示図である。

【図15】本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第５例示図である。

【図16】本発明の他の実施形態によるコイル基板の断面図である。

【図17】本発明のまた他の実施形態によるコイル基板の断面図である。

【図18】従来技術と本発明を比較した実験例である。

【発明を実施するための形態】

【0029】

以下、添付する図面を参照して本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。本発明の利点および特徴、並びにこれらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述している実施形態を参照すると明確になる。しかし、本発明は以下に開示する実施形態に限定されるものではなく互いに異なる多様な形態で実現することができ、本実施形態は、単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供するものであり、本発明は請求項の範疇によってのみ定義される。明細書全体にわたって同一参照符号は同一構成要素を指すものとする。

【0030】

素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が他の素子または層の「上（ｏｎ）」または「上（ｏｎ）」と称される場合は他の素子または層の真上だけでなく中間に他の層または他の素子が介在する場合をすべて含む。反面、素子が「直接上（ｄｉｒｅｃｔｌｙ ｏｎ）」または「真上」と称される場合は中間に他の素子または層を介在しない場合を示す。

【0031】

空間的に相対的な用語である「下（ｂｅｌｏｗ）」、「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」、「下部（ｌｏｗｅｒ）」、「上（ａｂｏｖｅ）」、「上部（ｕｐｐｅｒ）」などは図面に示されているように一つの素子または構成要素と他の素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使用される。空間的に相対的な用語は図面に示されている方向に加えて使用時または動作時の素子の互いに異なる方向を含む用語として理解されなければならない。例えば、図面に示されている素子をひっくり返す場合、他の素子の「下（ｂｅｌｏｗ）」または「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」と記述された素子は他の素子の「上（ａｂｏｖｅ）」に置かれ得る。したがって、例示的な用語である「下」は下と上の方向をすべて含むことができる。素子は他の方向に配向されてもよく、そのため空間的に相対的な用語は配向によって解釈されることができる。

【0032】

第１、第２などが多様な素子、構成要素および／またはセクションを叙述するために使われるが、これらの素子、構成要素および／またはセクションはこれらの用語によって制限されないのはもちろんである。これらの用語は単に一つの素子、構成要素またはセクションを他の素子、構成要素またはセクションと区別するために使用する。したがって、以下で言及される第１素子、第１構成要素または第１セクションは本発明の技術的思想内で第２素子、第２構成要素または第２セクションであり得るのはもちろんである。

【0033】

本明細書で使用された用語は実施形態を説明するためのものであり、本発明を制限しようとするものではない。本明細書で、単数形は文面で特記しない限り、複数形も含む。明細書で使用される「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」および／または「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は言及された構成要素、段階、動作および／または素子は一つ以上の他の構成要素、段階、動作および／または素子の存在または追加を排除しない。

【0034】

他に定義のない限り、本明細書で使用されるすべての用語（技術的および科学的用語を含む）は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に共通して理解される意味で使用される。また、一般的に使用される辞典に定義されている用語は明白に特に定義されていない限り理想的にまたは過度に解析されない。

【0035】

以下、添付する図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明し、添付図面を参照して説明するにあたり図面符号に関係なく同一であるかまたは対応する構成要素は同じ参照番号を付与し、これに係る重複する説明は省略する。

【0036】

本発明は非対称構造のコイル基板およびそれを備える電子装置に関するものである。本発明のコイル基板は仮想の軸を基準として第１領域に含まれるコイルパターンの面積と第２領域に含まれるコイルパターンの面積が互いに異なるように形成される非対称構造を有することができる。前記コイルパターンの面積は、（１）一方向のコイルパターンの断面積、（２）後述する基材層と接しない上面または側面の面積、（３）（１）または（２）の面積とコイルパターンの間に露出した基材層の面積の合計などを意味する。

【0037】

以下では図面などを参照して本発明について詳しく説明する。

【0038】

図１は本発明の一実施形態によるコイル基板の断面図である。

【0039】

図１によれば、コイル基板１００は基材層１１０、コイルパターン１２０および保護層１３０を含んで構成されることができる。

【0040】

基材層１１０はベース基材（Ｂａｓｅ Ｆｉｌｍ）をいい、平板形状であって所定の厚さ（例えば、５μｍ～１００μｍ）を有するように形成されることができる。基材層１１０は軟性フィルム（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｆｉｌｍ）、リジットフィルム（Ｒｉｇｉｄ Ｆｉｌｍ）およびリジットフレキシブルフィルム（Ｒｉｇｉｄ Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｆｉｌｍ）のいずれか一つのフィルムで形成されることができる。

【0041】

基材層１１０は多様な高分子物質のうち選択される少なくとも一つの物質を素材にして製造されることができる。基材層１１０は例えば、ポリイミド（Ｐｏｌｙ－Ｉｍｉｄｅ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；Ｐｏｌｙ－Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ；Ｐｏｌｙ－Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリカーボネート（Ｐｏｌｙ－Ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）、ガラス繊維（Ｇｌａｓｓ Ｆｉｂｅｒ）などの高分子物質のうち選択される少なくとも一つの物質を素材にして製造されることができる。

【0042】

基材層１１０の一面上または両面上には伝導性物質で構成されるシード層（Ｓｅｅｄ Ｌａｙｅｒ；図示せず）または下地層（Ｕｎｄｅｒ Ｌａｙｅｒ）が形成されることができる。シード層はニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）などの金属のうち選択される少なくとも一つの伝導性物質を素材にして基材層１１０上に形成されることができ、蒸着、接着、メッキなどの物理的方式または化学的方式を用いて基材層１１０上に形成されることができる。一方、シード層は基材層１１０上に形成されなくてもよい。

【0043】

コイルパターン１２０は電流が流れ、電磁気力を誘導するためのものである。コイルパターン１２０は基材層１１０上に螺旋状に巻線されて形成されることができる。

【0044】

コイルパターン１２０は伝導性物質を素材にして基材層１１０上に形成されることができる。コイルパターン１２０は例えば、銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、銅（Ｃｕ）などの金属のうち選択される少なくとも一つの伝導性物質を素材にして基材層１１０上に形成されることができる。

【0045】

コイルパターン１２０はメッキ、印刷、コーティングなど多様な技法を用いて基材層１１０上に形成されることができる。コイルパターン１２０はメッキを用いて基材層１１０上に形成される場合、１回以上のメッキを実施して基材層１１０上に形成されることができ、この時、コイルパターン１２０の断面にはメッキ回数、メッキ条件の変更などにより一つ以上の境界線が形成されることができる。

【0046】

コイルパターン１２０はメッキを用いて基材層１１０上に形成される場合、電解メッキおよび無電解メッキのいずれか一つの技法を用いることができる。コイルパターン１２０は電解メッキを用いて基材層１１０上に形成される場合、レジストパターン層（図示せず）が形成されていない部分に形成されることができる。

【0047】

レジストパターン層は絶縁性物質で構成される樹脂層であって、コイルパターン１２０より先に基材層１１０上に形成されることができる。コイルパターン１２０はレジストパターン層と同じ厚さを有するように基材層１１０上に形成されることができ、レジストパターン層よりも薄い厚さを有するように基材層１１０上に形成されることも可能である。コイルパターン１２０が上記のように形成されると、上部にメッキが偏重されることを防止することができ、上部の幅と下部の幅を均一に形成することができる。

【0048】

一方、レジストパターン層はコイルパターン１２０を基材層１１０上に形成した後、基材層１１０上で除去されることができる。この時、レジストパターン層はコイルパターン１２０上に保護層１３０を形成する前に基材層１１０上で除去されることができる。

【0049】

保護層１３０はコイルパターン１２０を保護するためにコイルパターン１２０の上部を覆うように形成されるものである。保護層１３０はレジストパターン層が除去された後、コイルパターン１２０上に形成されることができる。

【0050】

保護層１３０は絶縁性を有する物質を素材にして形成されることができる。保護層１３０は例えば、ソルダレジスト（Ｓｏｌｄｅｒ Ｒｅｓｉｓｔ）を素材にして形成されることができる。しかし、本実施形態はこれに限定されるものではない。保護層１３０は基材層１１０と同じ物質を素材にして形成されることも可能である。

【0051】

一方、保護層１３０は印刷、コーティング、フォトリソグラフィなどの多様な工法を用いてコイルパターン１２０上に形成されることができる。

【0052】

コイルパターン１２０は前述のように、基材層１１０上に螺旋状に巻線されて形成されることができる。このようなコイルパターン１２０は図２に示すように基準軸線Ｒを中心に第１領域２１０および第２領域２２０に区切られる。

【0053】

図２は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの平面図である。以下の説明は図２を参照する。

【0054】

コイルパターン１２０が基材層１１０上に螺旋状に巻線されて形成される場合、コイルパターン１２０の内側には基材層１１０の一面に対して所定の面積でボイド領域（Ｖｏｉｄ，Ｖ）が形成されることができる。ここで、ボイド領域Ｖは第１領域２１０と第２領域２２０の最内側コイルパターン１２１，１２２の間に形成されたオープンスペースを意味し、コイルパターン１２０のパッド部（図示せず）と重なってもよい。すなわち、ボイド領域Ｖはコイルパターン１２０の中心領域に該当するかまたは中心領域を含む領域になる。

【0055】

基準軸線Ｒはこのようなボイド領域Ｖ内で第１方向１０に延びる線分をいい、第１方向１０はコイルパターン１２０の長軸方向すなわち、ボイド領域Ｖの長手方向になる。本発明ではボイド領域Ｖの幅方向を横切るように第１方向１０に延びた基準軸線Ｒを例に挙げて説明するが、これに限定されず、コイルパターン１２０の短軸方向またはボイド領域Ｖの幅方向になることもできる。

【0056】

第１領域２１０は基準軸線Ｒを中心に基材層１１０上の一側に形成されるコイルパターン１２０が占める領域をいう。そして、第２領域２２０は基準軸線Ｒを中心に基材層１１０上の他側に形成されるコイルパターン１２０が占める領域をいう。

【0057】

第１領域２１０および第２領域２２０は基準軸線Ｒを中心に基材層１１０上に対称的に形成されることができる。第１領域２１０は図３に示すように第２領域２２０と同じ幅を有するように形成されることができる（Ｗ１＝Ｗ２）。前記で、同じ幅を有することは第１領域２１０と第２領域２２０のそれぞれの最内側コイルパターン１２１，１２２の一側部から最外側コイルパターン１２３，１２４の一側部までの距離が同一または同等な水準であることを意味する。

【0058】

この場合、第１位置のボイド領域Ｖ内の基準軸線Ｒをコイルパターン１２０の中心Ｃと見ることができ、より詳細にはボイド領域Ｖの短軸中心を横切る線分と仮定する。図３は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第１例示図である。

【0059】

しかし、本実施形態はこれに限定されるものではない。前記ボイド領域Ｖの短軸中心を横切る線分を基準軸線Ｒとするものの、第１領域または第２領域のうちいずれか一つの最外側コイルパターンが離隔して第１領域２１０と第２領域２２０が互いに異なる幅を有するように形成されることも可能である。

【0060】

第１領域２１０は例えば、図４に示すように第２領域２２０より広い幅を有するように形成されることができる（Ｗ１＞Ｗ２）。または、第１領域２１０は図５に示すように第２領域２２０より狭い幅を有するように形成されることができる（Ｗ１＜Ｗ２）。図４は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第２例示図であり、図５は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第３例示図である。

【0061】

前記の場合はコイルパターンの抵抗強度を低くするかまたは電磁気力の強度を向上させることが目的であるが、基板内にコイルパターンを拡張できる領域が限定的である場合に適用して後述する磁性体とのバランスまで確保することができる。

【0062】

これに対して、図６に示すように、第１領域２１０と第２領域２２０の最内側コイルパターンと最外側コイルパターンがそれぞれ同じ距離または同等水準で離隔して第２位置にボイド領域Ｖが形成されることができる。すなわち、図３に示す実施形態に比べてコイルパターンの面積が拡張または縮小されることができる。

【0063】

さらに、図７に示すように、第２位置にボイド領域Ｖを形成するが、第１領域２１０と第２領域２２０のいずれか一つの最外側コイルパターンが離隔して両領域の大きさが異なるように形成されることもできる。図６は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第４例示図であり、図７は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第５例示図である。

【0064】

一方、第１領域２１０は基材層１１０の外周面を超えて形成されることはできない。すなわち、第１領域２１０上に形成されるコイルパターン１２０の最外側２３０は図８に示すように基材層１１０の外周面より内側に配置されるか、図９に示すように基材層１１０の外周面と同一線上に配置されることができる。図８は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第６例示図であり、図９は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの設置形態を説明するための第７例示図である。

【0065】

前記で図３ないし図７に示す基準軸線Ｒは基材層１１０の中心と同一または異なってもよい。

【0066】

同様に、第２領域２２０も基材層１１０の外周面を超えて形成されることはできない。すなわち、第２領域２２０上に形成されるコイルパターン１２０の最外側２４０は図８に示すように基材層１１０の外周面より内側に配置されるか、図９に示すように基材層１１０の外周面と同一線上に配置されることができる。

【0067】

また、第１領域２１０と第２領域２２０の最外側は同一または互いに異なる距離で基材層１１０の外周面より内側に配置されることができる。

【0068】

一方、第１領域２１０上に形成されるコイルパターン１２０の最外側２３０が図８に示すように基材層１１０の外周面より内側に配置される場合、第２領域２２０上に形成されるコイルパターン１２０の最外側２４０は図９に示すように基材層１１０の外周面と同一線上に配置されることができる。

【0069】

また、第１領域２１０上に形成されるコイルパターン１２０の最外側２３０が図９に示すように基材層１１０の外周面と同一線上に配置される場合、第２領域２２０上に形成されるコイルパターン１２０の最外側２４０は図８に示すように基材層１１０の外周面より内側に配置されることができる。

【0070】

さらに、前記の図８および図９を含む実施形態でも前記の図４ないし図７のようにボイド領域Ｖまたは基準軸線Ｒの位置に応じて第１領域２１０と第２領域２２０の幅が同一または異なってもよい。

【0071】

コイルパターン１２０が基材層１１０上に螺旋状に巻線されて形成される場合、ｎ個の直線部とｍ個の変曲部を含んで構成されることができる。直線部は一端部から進行方向が変更されない他端部まで形成されたコイルパターンを意味し、変曲部は互いに異なる進行方向に形成される二つの直線部を連結するコイルパターンを意味する。

【0072】

図１０は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの構造を説明するための例示図である。

【0073】

図１０によれば、コイルパターン１２０は第１直線部３１０（「コイルパターン１」に相当する）、第２直線部３２０（「コイルパターン２」に相当する）、第３直線部３３０（「コイルパターン３ａ」に相当する）、第４直線部３４０、第１変曲部３５０（「コイルパターン３ｂ」に相当する）、第２変曲部３６０（「コイルパターン３ｃ」に相当する）、第３変曲部３７０および第４変曲部３８０を含んで構成されることができる。コイルパターン３ａ（３３０）、コイルパターン３ｂ（３５０）、およびコイルパターン３ｃ（３６０によってコイルパターン３が構成されることができる。

【0074】

第１直線部３１０は第１領域２１０上に直線形状に形成されるコイルパターンをいう。このような第１直線部３１０は第１方向１０に第１領域２１０上に複数形成されることができる。

【0075】

第２直線部３２０は第２領域２２０上に直線形状に形成されるコイルパターンをいう。このような第２直線部３２０は第１直線部３１０と同じ方向（すなわち、第１方向１０）に第２領域２２０上に複数形成されることができる。

【0076】

第３直線部３３０および第４直線部３４０は第１領域２１０上で第２領域２２０上にわたって直線形状に形成されてそれぞれ第１直線部３１０と第２直線部３２０を連結するコイルパターンをいう。このような第３直線部３３０と第４直線部３４０は第１直線部３１０および第２直線部３２０に直交する方向（すなわち、第２方向２０）に第１領域２１０および第２領域２２０上に複数形成されることができる。

【0077】

第１変曲部３５０は第１領域２１０上に斜線形状に形成されるコイルパターンをいう。このような第１変曲部３５０は第１領域２１０上で第１直線部３１０および第３直線部３３０を相互連結させることができる。第１変曲部３５０は第１直線部３１０および第３直線部３３０の少なくとも一つの直線部と同一個数で形成されることができる。

【0078】

第２変曲部３６０は第２領域２２０上に斜線形状に形成されるコイルパターンをいう。このような第２変曲部３６０は第２領域２２０上で第２直線部３２０および第３直線部３３０を相互連結させることができる。第２変曲部３６０は第２直線部３２０および第３直線部３３０の少なくとも一つの直線部と同一個数で形成されることができる。

【0079】

第３変曲部３７０は第２領域２２０上に斜線形状に形成され、第２直線部３２０および第４直線部３４０を相互連結させることができ、第４変曲部３８０は第１領域２２０上に斜線形状に形成され、第４直線部３４０と第１直線部３１０を相互連結させることができる。第１変曲部３５０および第２変曲部３６０と同様に、第３変曲部３７０および第４変曲部３８０もまた、相互連結される両直線部の少なくとも一つの直線部と同一個数で形成されることができる。

【0080】

さらに、本発明における第１変曲部３５０～第４変曲部３８０は直線タイプの斜線で示されているが、屈曲を有する円弧タイプ（⌒）で形成されることもでき、互いに異なるタイプで形成されることもできる。

【0081】

第１直線部３１０、第２直線部３２０、第３直線部３３０、第４直線部３４０、第１変曲部３５０、第２変曲部３６０、第３変曲部３７０および第４変曲部３８０は第１領域２１０および第２領域２２０上にそれぞれ複数形成されることができる。この時、第１直線部３１０～第４直線部３４０、第１変曲部３５０～第４変曲部３８０はすべて同じ幅を有するように形成されることができる。しかし、本実施形態はこれに限定されるものではない。第１直線部３１０～第４直線部３４０、第１変曲部３５０～第４変曲部３８０はすべて互いに異なる幅を有するように形成されることも可能である。一方、第１直線部３１０～第４直線部３４０、第１変曲部３５０～第４変曲部３８０のうちのいくつかは同じ幅を有するように形成され、他のいくつは互いに異なる幅を有するように形成されることも可能である。

【0082】

一方、複数の第１直線部３１０はすべて同じ幅を有するように形成されることができる。しかし、本実施形態はこれに限定されるものではない。複数の第１直線部３１０はすべて互いに異なる幅を有するように形成されることも可能である。一方、複数の第１直線部３１０のうちのいくつかは同じ幅を有するように形成され、他のいくつかは互いに異なる幅を有するように形成されることも可能である。

【0083】

一方、複数の第２直線部３２０、複数の第３直線部３３０、複数の第４直線部３４０、複数の第１変曲部３５０、複数の第２変曲部３６０、複数の第３変曲部３７０、複数の第４変曲部３８０なども複数の第１直線部３１０の場合と同様に形成されるのはもちろんである。

【0084】

本実施形態では第１領域２１０上の第１直線部３１０と第１変曲部３５０および第４変曲部３８０、第２領域２２０上の第２直線部３２０と第２変曲部３６０および第３変曲部３７０などが一部同一であるかまたは互いに異なる形状に形成され、第１領域２１０上でのコイルパターン１２０の断面積が第２領域２２０上でのコイルパターン１２０の断面積より小さくてもよい。本実施形態ではそのため、コイルパターン１２０の内側のボイド領域Ｖの位置が離隔するか大きさが拡張または縮小され得る。

【0085】

下記では本発明の前記の構成によって非対称構造で形成されるコイル基板１００を提供することによって、限られた面積のコイル基板１００で電磁気力、抵抗などの制御が可能であり、コイル基板１００が適用される電子装置の性能が極大化される本発明の効果について詳細に説明する。

【0086】

（Ｉ）第１領域２１０上に形成されるコイルパターン１２０の巻線数と第２領域２２０上に形成されるコイルパターン１２０の巻線数が同じ場合
（ｉ）第２直線部３２０のパターン幅が第１直線部３１０のパターン幅より広い場合
第２直線部３２０の幅を第１直線部３１０の幅より拡張して形成する場合、図１１に示すように第２直線部３２０により形成される幅Ｗ３が第１直線部３１０により形成される幅Ｗ４より広くなる（Ｗ３＞Ｗ４）。複数の第１直線部３１０および複数の第２直線部３２０が第１領域２１０および第２領域２２０上にそれぞれこのように形成されると、第２領域２２０上でのコイルパターン１２０の面積が第１領域２１０上でのコイルパターン１２０の面積より大きくてもよい。図１１は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第１例示図である。

【0087】

前記の場合、短軸方向に第２領域２２０上でのコイルパターン１２０の面積を拡張させ得るので、抵抗を低くして電流の流れを円滑にして、ひいては電磁気力の強度が強化される効果を得ることもできる。

【0088】

（ｉｉ）第２直線部３２０、第４直線部３４０、第２変曲部３６０および第３変曲部３７０の少なくとも一つ以上のパターン幅が第１直線部３１０のパターン幅より広い場合
第２直線部３２０、第４直線部３４０、第２変曲部３６０および第３変曲部３７０の少なくとも一つ以上のパターン幅が第１直線部３１０のパターン幅より拡張して形成される場合、例えば図１２に示すように、第２直線部３２０および第２変曲部３６０のパターン幅が第１直線部３１０のパターン幅より拡張して形成される場合、第２直線部３２０および第２変曲部３６０により形成される幅Ｗ３が第１直線部３１０により形成される幅Ｗ４より広くなり（Ｗ３＞Ｗ４）、そのため第２領域２２０上でのコイルパターン１２０の面積が第１領域２１０上でのコイルパターン１２０の面積より大きくてもよい。図１２は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第２例示図である。

【0089】

前記の場合、（ｉ）の場合と同様に短軸方向に第２領域２２０上でのコイルパターン１２０の面積のみ拡張されるので、抵抗が低くなることによって電流の流れ性が増加して電磁気力の強度が強化される効果を得ることができる。これに加えて、（ｉ）の場合よりコイル基板１００の上下対称が比較的維持されることができ、電子装置内で後述する磁性体とのバランス性もまた確保することができる。

【0090】

一方、前記の場合、第２直線部３２０、第４直線部３４０、第２変曲部３６０、または第３変曲部３７０のパターン幅は一端部から他端部の方向に徐々に拡張され得る。この場合、電流の流れが急変する現象を抑制することによって電圧変動を防止することができる。

【0091】

（ｉｉｉ）第２直線部３２０、第４直線部３４０、第２変曲部３６０および第３変曲部３７０の少なくとも一つ以上のパターン間の間隔が第１直線部３１０のパターン間の間隔より広い場合
第２直線部３２０、第４直線部３４０、第２変曲部３６０および第３変曲部３７０の少なくとも一つ以上のパターン間の間隔が第１直線部３１０のパターン間の間隔より広い場合、例えば図１３に示すように、第２直線部３２０および第２変曲部３６０のパターン間の間隔が第１直線部３１０のパターン間の間隔より広い場合、第２直線部３２０により形成される幅Ｗ３が第１直線部３１０により形成される幅Ｗ４より広くなり（Ｗ３＞Ｗ４）、そのため第２領域２２０の面積が第１領域２１０の面積より大きくてもよい。図１３は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第３例示図である。

【0092】

前記の場合、第２領域２２０でのパターン間の漏洩電流、信号干渉などの影響を抑制して抵抗を低くすることができ、ひいては後述する電子装置の内部に配置されるレンズなどのその他部品と隣接するように設計されて本発明によるコイル基板１００との相互間に発生する電気的エラー問題を減少させることができる。

【0093】

（ＩＩ）第１領域２１０上に形成されるコイルパターン１２０の巻線数と第２領域２２０上に形成されるコイルパターン１２０の巻線数が互いに異なる場合
（ｉ）第２直線部３２０の巻線数が第１直線部３１０の巻線数より多い場合
第２直線部３２０の巻線数が第１直線部３１０の巻線数より多い場合、各直線部のパターン間の間隔が同一であっても幅Ｗ３は図１４に示すように幅Ｗ４より広くなる（Ｗ３＞Ｗ４）。前記の場合、コイル基板１００の巻線数の増加によって電磁気力が強化されることができる。図１４は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第４例示図である。

【0094】

一方、第２直線部３２０の間の間隔が第１直線部３１０の間の間隔より広いと、図１４の場合より幅Ｗ３は幅Ｗ４より広くなる（Ｗ３＞Ｗ４）。これは強化された電磁気力を確保し、かつ（Ｉ）（ｉｉｉ）で説明した抵抗効果を加えることができる。図１５は本発明の一実施形態によるコイル基板を構成するコイルパターンの多様な形状を説明するための第５例示図である。

【0095】

一方、第２直線部３２０の間の間隔が第１直線部３１０の間の間隔より狭く形成されても、第２直線部３２０のパターン幅が第１直線部３１０のパターン幅より広い場合、第２領域２２０上でのコイルパターン１２０の面積が第１領域２１０上でのコイルパターン１２０の面積より大きい場合に該当して抵抗減少効果を得ることができる。ただし、この場合、第２直線部３２０の間の間隔が狭くなる水準は漏洩電流や発熱などの影響因子を考慮して設計しなければならないことに留意しなければならない。

【0096】

一方、第１直線部３１０の巻線数が第２直線部３２０の巻線数より多い場合は前記で第２直線部３２０の巻線数がより多くの場合、すなわち、（ＩＩ）の（ｉ）が同一に適用できるのはもちろんである。

【0097】

一方、第３直線部３３０、第４直線部３４０、第１変曲部３５０～第４変曲部３８０などに対しても前記（Ｉ）および前記（ＩＩ）の効果と同一または類似水準で適用できるのはもちろんである。

【0098】

以上で説明したコイル基板１００は図２を参照して一つの基材層１１０上に一つのコイルパターン１２０を含むことができる。しかし、本実施形態はこれに限定されるものではない。コイル基板１００は一つの基材層１１０上に複数のコイルパターン１２０を含んで構成されることも可能である。

【0099】

コイル基板１００が複数のコイルパターン１２０を含む場合、複数のコイルパターン１２０は基材層１１０の一面上に形成されることができ、基材層１１０の両面上にそれぞれ少なくとも１個のコイルパターン１２０が形成されることも可能である。本実施形態ではこのような場合、複数のコイルパターン１２０のうち少なくとも１個のコイルパターン１２０が図２ないし図１５を参照して説明した多様な実施形態で形成されることができる。

【0100】

基材層１１０の一面上に複数のコイルパターン１２０が形成される場合、複数のコイルパターン１２０はパターンの厚さ方向に積層されるか、または幅方向に羅列されて配置されることができる。

【0101】

また、基材層１１０の一面上に複数のコイルパターン１２０が積層されて形成される場合、隣り合う二つのコイルパターン１２０の間には層間絶縁層が形成されることができる。例えば、図１６に示すように基材層１１０、第１コイルパターン１２０ａ、層間絶縁層１４０、第２コイルパターン１２０ｂおよび保護層１３０の順に積層されることができる。図１６は本発明の他の実施形態によるコイル基板の断面図である。

【0102】

一方、図１６には示していないが、各コイルパターンはビア、導電性パッドなどの方式で接続されることができる。

【0103】

基材層１１０の両面上にそれぞれ少なくとも一つのコイルパターン１２０が形成される場合、各コイルパターンが長手方向または幅方向に対抗して配置されるかまたは基材層１１０の外周面に沿って順次配置されることもできる。例えば、基材層１１０の平行する外周面に対して二つのコイルパターン１２０がそれぞれ配置される場合、両コイルパターンは別途信号の伝達を受けるかまたは図示していないが配線パターンによって連結されて同じ信号の伝達を受けることもできる。特に、両コイルパターンが配線パターンにより連結されて互いに一軸を基準として鏡面対称となって配置される場合、後述する電子装置の内部で同じ方向に電磁気力が作用してコイル基板による全体電磁気力を強化させることができる。

【0104】

前記で説明する複数のコイルパターンは互いに同じ形状であるかまたは一部異なる構造で形成されることができる。

【0105】

一方、基材層１１０の両面上に少なくとも１個のコイルパターン１２０が形成される場合、基材層１１０の両面上には同一個数のコイルパターン１２０が形成されることができ、互いに異なる個数のコイルパターン１２０が形成されることもできる。基材層１１０の両面のうち少なくとも一面に複数のコイルパターン１２０が形成される場合、複数のコイルパターン１２０は厚さ方向に積層されて形成されるか幅方向に羅列されて配置されることができ、隣り合う二つのコイルパターン１２０の間に層間絶縁層が形成されるのはもちろんである。例えば、基材層１１０の両面上にそれぞれ１個のコイルパターン１２０が形成される場合、コイル基板１００は図１７に示すように第１保護層１３０ａ、第１コイルパターン１２０ａ、基材層１１０、第２コイルパターン１２０ｂおよび第２保護層１３０ｂの順に積層されることができる。図１７は本発明のまた他の実施形態によるコイル基板の断面図である。

【0106】

さらに、本発明によるコイル基板１００は基材層１１０の一面または両面上にコイルパターン１２０だけでなく、センサ、フィルタ、インダクタ、ＩＣなどその他の外部素子または前記外部素子と接続して信号を伝達する配線パターン（図示せず）もさらに形成されることができ、コイル基板１００と連結され得る。

【0107】

以上図１ないし図１７を参照してコイル基板１００の多様な実施形態について説明した。以上で説明したコイル基板１００を多様な電子装置のうちのカメラアクチュエータに適用した場合を例に挙げて後述し、磁性体（例えば、磁石）とともにアクチュエータのハウジングの内部に備えられることができる。この時、磁性体はコイルパターンの中心軸を基準として対称に形成されたコイル基板１００と同じ軸を基準として両側が対称をなすように形成されることができる。

【0108】

アクチュエータのレンズ駆動性能はコイル基板１００と磁性体の間の間隔、中心軸が同一であるか否かなどによっても影響を受け得るので、本発明では一実施形態によるコイル基板、前記コイル基板と磁性体との関係を考慮して設計される電子装置を提示する。

【0109】

図１８は従来技術と本発明の一実施形態によるコイル基板（（Ｉ）の（ｉｉ）場合）の磁石との相関関係によるレンズ駆動性能および抵抗を比較した実験例である。これによりカメラアクチュエータ用コイル基板と磁性体（磁石）の最適設計を導き出すことができる。

【0110】

本実験の対照群はコイルパターンの第１領域２１０と第２領域２２０が基準軸線Ｒを中心に同じサイズで対称に形成され、基準軸線Ｒが磁性体の中心軸と一致する例をいう。

【0111】

実験群１はコイルパターンの第１領域２１０と第２領域２２０が基準軸線Ｒを中心に互いに異なるサイズで形成され、例えば、第１領域２１０は対照群の第１領域２１０と同一または同等水準で形成され、第２領域２２０がより大きいサイズで形成された例をいう。したがって、基準軸線Ｒは磁性体の中心軸と一致することができる。

【0112】

実験群２はコイルパターンの第１領域２１０と第２領域２２０が基準軸線Ｒを中心に同じサイズで対称に形成されるか、前記対照群の第１，２領域サイズに比べて拡張されるように形成される例をいう。したがって、ボイド領域の位置が離隔するので、基準軸線Ｒの位置もまた、対照群と異なることになり、磁性体の中心軸とも一致しない。

【0113】

実験群３はコイルパターンの第１領域２１０と第２領域２２０、および基準軸線Ｒが実験群１と同一であるが、ただし基準軸線Ｒが磁性体の中心軸と一致しない例をいう。

【0114】

（１）電磁気力の強度：対照群＞実験群１＞実験群３＞実験群２
（２）磁石位置に応じた電磁気力の変化（Ｍｉｎ／Ｍａｘ、移動量）：対照群＜実験群１＜実験群２＜実験群３
（３）抵抗：対照群＞実験群１＞実験群２
カメラアクチュエータは磁石の移動に応じて磁場が変化することによってレンズ位置を補正するため、磁石の移動中の電磁気力の強度変化が急変せず、かつ強度は強いほど良く、適正水準の低抵抗を維持してその性能を極大化することができる。したがって、カメラアクチュエータに適したコイル基板と磁石の設計は実験群１、実験群３、実験群２および対照群の順であり、実験群１および実験群２は磁石との中心が一致するか否かによって電磁気力の強度が、第１領域と第２領域が対称するか否かによって電磁気力の変化（移動量）が異なった。

【0115】

しかし、実験群１および実験群２の移動量の差異に比べて電磁気力の強度差異がより大きく現れたので、実験群１、すなわち、本発明の一実施形態によるコイル基板の設計がカメラアクチュエータに対して有効であると見ることができる。

【0116】

一方、実験群１と実験群３の場合、第１領域と第２領域の対称は同一であるが、磁石との中心が一致するか否かが異なるため、電磁気力、電磁気力の変化、抵抗の結果が異なった。電磁気力は実験群１が強かったが抵抗の側面ではかえって実験群３がより小さい結果を示した。電磁気力の変化は実験群１が実験群３に比べて比較的有効であることが確認されたが、わずかな差であった。

【0117】

本発明者は前記の実験例で、さらに実験群３の磁石との中心軸の不一致の程度に応じた電磁気力、電磁気力の変化、抵抗を調べ、実験群３のボイド領域Ｖ内に磁石の中心軸が配置される場合の結果がすべて優れることを確認した。すなわち、本発明によるコイル基板を適用した実験群１、実験群３の傾向に照らしてみると、非対称構造によりカメラアクチュエータに適した性能を確保することができ、特に磁石の中心軸と基準軸線Ｒが一致するかまたはコイル基板のボイド領域Ｖ内に磁石の中心軸が位置してこそ有効な効果を奏し得ることを確認した。

【0118】

さらに、カメラアクチュエータに適用されるコイル基板の場合、Ａ／Ｍ、他部品との結合領域、配線領域などを考慮すると、ほとんどのレンズ方向のベース基材上に余裕空間が形成される。したがって、磁石との中心軸を維持し、かつ一側に拡張されて電磁気力の強度と変化の間のバランスをとってアクチュエータ性能を向上させるのに本発明のまた他の効果があるといえる。

【0119】

以上と添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明がその技術的思想や必須の特徴を変更せず他の具体的な形態で実施できることを理解することができる。したがって、上記一実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。

【産業上の利用可能性】

【0120】

本発明はコイル基板と、コイル基板を備える電子装置（例えば、カメラアクチュエータ）に適用することができる。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】