特許 7612547 立体画像表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-12-27

(45)【発行日】2025-01-14

(54)【発明の名称】立体画像表示装置

(51)【国際特許分類】

   G02B 30/50 20200101AFI20250106BHJP

   H04N 13/302 20180101ALI20250106BHJP

   G02F 1/13 20060101ALI20250106BHJP

   G02F 1/15 20190101ALI20250106BHJP

【ＦＩ】

G02B30/50

H04N13/302

G02F1/13 505

G02F1/15 506

【請求項の数】 7

(21)【出願番号】P 2021156152

(22)【出願日】2021-09-24

(65)【公開番号】P2023047196

(43)【公開日】2023-04-05

【審査請求日】2024-01-30

(73)【特許権者】

【識別番号】000003078

【氏名又は名称】株式会社東芝

(74)【代理人】

【識別番号】110002147

【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】山田 展英

【審査官】近藤 幸浩

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１８－１３８９９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１１－２４２１２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０６－２３３３２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１１－１７４３７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－１３２６７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１６／００４２５５４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１６／１２１２３３（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０２Ｂ ３０／５０

Ｇ０２Ｆ １／１３

Ｈ０４Ｎ １３／３０２

Ｈ０４Ｎ １３／３８８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

光線再生型の裸眼立体視可能な立体画像表示装置であって、
光学特性が電気的に変更可能な光学材料で形成された複数の画素セルを３次元的に配置し、前記複数の画素セルに対し、透明な配線パタンで電気的に接続した３次元画素ユニットと、
前記３次元画素ユニットに対して、照明光を出射するバックライトと、
入力された３次元映像データに基づいて前記配線パタンを介して前記画素セルを個別に制御し、３次元的に光学特性が変更される画素セル及び光学特性が変更されない画素セルを配置させて、前記３次元画素ユニットを多視点で結像可能な透過型ホログラムとして機能させる演算／制御回路と、
を備えた立体画像表示装置。

【請求項2】

前記３次元画素ユニットは、二次元配置された画素セルを絶縁膜を介して複数層積層して構成されている
請求項１記載の立体画像表示装置。

【請求項3】

前記３次元画素ユニットは、円筒状の光学材料と、前記光学材料の開口中に延在する第１ラインと、導電膜と絶縁膜とを交互に積層した積層体を有し、
前記光学材料及び前記第１ラインを一体に前記積層体に対し、積層方向に沿って貫通させて配置した、
請求項１または請求項２記載の立体画像表示装置。

【請求項4】

前記３次元画素ユニットは、所定方向に延在する光学材料と、前記光学材料に電気的に接するように光学材料の延在方向に沿って延在する第１ラインと、導電膜と絶縁膜とを交互に積層した積層体を有し、
前記第１ラインを前記導電膜と絶縁した状態で、前記光学材料及び前記第１ラインを一体に前記積層体に対し、積層方向に沿って貫通させて配置した、
請求項１または請求項２記載の立体画像表示装置。

【請求項5】

前記光学材料として、液晶、電気光学ポリマなどに代表されるエレクトロクロミック材料を用いている、
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。

【請求項6】

前記演算／制御回路は、前記３次元映像データに基づいて、前記３次元画素ユニットにおける３次元画素パターンデータを算出して出力する３次元画素パタン算出回路と、
前記３次元画素パターンデータが入力され、前記３次元画素ユニットの各画素に３次元画素パターンデータに対応する動作を行わせるための電圧信号を出力する電圧出力回路と、
を備えた請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。

【請求項7】

前記バックライトは、複数の色の光源を備え、
前記演算／制御回路は、各光源に対応した立体像を時間分割的に再生することでカラー映像を表示する、
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、立体画像表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、立体画像表示装置として、平面ディスプレイとレンチキュラーレンズを組み合わせることにより複数視点からの画像を表示する画像表示装置や、干渉縞を焼き付けたホログラム表示装置等が知られている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開平０２－０２９６９７号公報

【文献】特開平０６－２３３３２８号公報

【文献】特開２００４－２２６７３６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、従来技術においては、視点が離散的で視野角が限定されたり、動画の表示ができなかったりする等の問題点があった。

【0005】

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、視野角の限定が少なく、いずれの方向からでも視認することが可能で、動画の表示も可能となる立体画像表示装置を提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0006】

実施形態の立体画像表示装置は、光線再生型の裸眼立体視可能な立体画像表示装置であって、光学特性が電気的に変更可能な光学材料で形成された複数の画素セルを３次元的に配置し、複数の画素セルに対し、透明な配線パタンで電気的に接続した３次元画素ユニットと、３次元画素ユニットに対して、照明光を出射するバックライトと、入力された３次元映像データに基づいて配線パタンを介して画素セルを個別に制御し、３次元的に光学特性が変更される画素セル及び光学特性が変更されない画素セルを配置させて、前記３次元画素ユニットを多視点で結像可能な透過型ホログラムとして機能させる演算／制御回路と、を備える。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】図１は、立体画像表示システムの概要構成ブロック図である。

【図2】図２は、３次元画素ユニットの構造の一例の模式斜視図である。

【図3】図３は、３次元画素ユニットの説明図である。

【図4】図４は、画素セルの構成例の概念説明図である。

【図5】図５は、光学材料層に対する印加電圧と光透過率との関係の一例の説明図である。

【図6】図６は、画素セルの光学特性の変更方法の説明図である。

【図7】図７は、３次元画素ユニットの制御状態の一例の説明図である。

【図8】図８は、画素セルの他の構成例の概念説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

次に実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、立体画像表示システムの概要構成ブロック図である。
立体画像表示システム１０は、３次元映像情報生成装置１１と、データ変換装置１２と、情報送信装置１３と、３次元映像表示装置１４と、を備えている。

【0009】

３次元映像情報生成装置１１は、ＴＯＦ（Ｔｉｍｅ Ｏｆ Ｆｌｉｇｈｔ）センサ等を備え、被写体の各部までの距離も含めて被写体の撮影を行い、撮影データを出力する撮影装置１１Ａと、撮影データに基づいて、演算処理を行って、３次元映像表示を行うための透過型の体積型ホログラムを実現するための３次元映像データを生成して後述の転送情報生成装置１２Ａに出力する。
この場合において、３次元映像情報生成装置１１は、現在の２次元画像が画面上の座標（ｘ，ｙ）と色や明るさ（まとめて仮にｃとする）の情報で（ｘ，ｙ，ｃ）の群によってある瞬間の画面を構成しているとすると３次元画像においては、画面において光線再生を行うための情報が出力される。
より詳細には、（ｘ，ｙ）の画素から、迎角（ｖ）、方向角（ｈ）の方向に色や明るさ（ｃ）を見せる、ということで、（ｘ，ｙ，ｖ，ｈ，ｃ）の群により、ある瞬間の画面を構成することとなる。この場合において、送信順のルールを予め決めておけば、（ｘ，ｙ，ｖ，ｈ）の情報を省略して、色や明るさ等のｃの情報のみを伝送するようにすることも可能である。

【0010】

ここで、体積型ホログラムは、干渉縞を材料内部の屈折率、偏光面、位相、透過率等の光学情報の分布として形成する。

【0011】

データ変換装置１２は、転送情報生成装置１２Ａ及びハードディスクドライブ装置等のストレージ１２Ｂを有し、ストレージ１２Ｂに入力された３次元映像データを格納し、転送情報生成装置１２Ａは、ストレージ１２Ｂを用いて３次元映像データを通信ネットワークあるいは放送波を介して転送可能なフォーマットに変換して、転送用３次元映像データを情報送信装置１３に出力する。

【0012】

情報送信装置１３は、通信ネットワークを介して転送用３次元映像データを３次元映像表示装置に配信するサーバあるいは放送波を介して転送用３次元映像データを３次元映像表示装置に送信する放送装置として構成される。

【0013】

３次元映像表示装置１４は、情報送信装置１３から転送用３次元映像データを受信する受信装置１４Ａと、受信した転送用３次元映像データに対する演算処理を行って、３次元画素パタンを算出して、３次元映像表示装置全体の制御を行う演算／制御回路１４Ｂと、演算／制御回路１４Ｂの制御下で３次元映像データに基づいて透過型の体積型ホログラムとして機能する３次元構造を有する表示パネル１４Ｃと、演算／制御回路１４Ｂの制御下で表示パネル１４Ｃの背面から照明光を照射するバックライト１４Ｄと、を備えている。

【0014】

上記構成において、演算／制御回路１４Ｂは、３次元映像データに基づいて、表示パネル１４Ｃにおける３次元画素パターンデータを算出して出力する３次元画素パタン算出回路１４Ｂ１と、３次元画素パターンデータが入力され、表示パネル１４Ｃの各画素に３次元画素パターンデータに対応する動作を行わせるための電圧信号を出力する電圧出力回路１４Ｂ２と、電圧出力回路１４Ｂ２の電圧信号出力及び３次元画素パタンに基づいてバックライト１４Ｄを構成する導波路及び光源を制御するバックライト点灯回路１４Ｂ３と、を備えている。
上記構成において、３次元画素パタン算出回路１４Ｂ１は、表示パネル１４Ｃのような表示装置（ディスプレイ）の構成（画素数、画素積層数）に適応した、表示装置により好適な３次元画素パターンデータを算出することとなる。

【0015】

表示パネル１４Ｃは、電圧信号を伝達する配線パタン部１４Ｃ１と、配線パタン部１４Ｃ１に接続されて干渉縞として機能する光学材料で構成された３次元画素ユニット１４Ｃ２と、を備えている。

【0016】

バックライト１４Ｄは、表示パネル１４Ｃに照射する照明光を出射する単色あるいは多色の光源１４Ｄ１と、光源１４Ｄ１が出射した照明光を表示パネル１４Ｃに導く導波路１４Ｄ２と、を備えている。

【0017】

ここで、表示パネル１４Ｃを構成している３次元画素ユニット１４Ｃ２の構成について説明する。

【0018】

図２は、３次元画素ユニットの構造の一例の模式斜視図である。
３次元画素ユニット１４Ｃ２は、表示画素部２１、Ｚ方向画素選択ライン２６、Ｘ方向画素選択ライン２８、配線２７及びＹ方向画素選択ライン２９を備えている。
２９を備えている。
以下の説明においては、Ｙ方向画素選択ライン２９の延在方向をＹ方向とし、画素の積層方向をＺ方向とし、Ｙ方向およびＺ方向に垂直な方向をＸ方向とする。

【0019】

表示画素部２１は、３次元配列された複数の画素を有し、各画素を構成している光学材料としては、電圧印加状態に応じて屈折率もしくは透過率を可変とすることが可能な材料が用いられている。
この場合において、各画素は後述するように、スイッチング素子としてのトランジスタにより選択状態にあるＺ方向に延在する中心電極と、スイッチング素子としてのトランジスタにより選択状態にある水平方向板状電極間で駆動電圧が印加されて屈折率、透過率等の光学特性が変更される。

【0020】

この場合において、スイッチング素子としてのトランジスタは、３次元画素ユニット１４Ｃ２の表示画素部２１の上面（＋Ｚ方向の面）あるいは下面（－Ｚ方向の面）に配置されている。

【0021】

この場合において、各トランジスタのゲートに接続されたＸ方向画素選択ライン２８と、各トランジスタのドレインに接続されたＹ方向画素選択ライン２９との間には、チャネルが位置している。

【0022】

さらにチャネルとＸ方向画素選択ライン２８との間には薄いゲート絶縁膜が配置され、絶縁されている構成となっている。

【0023】

この結果、いずれかのゲートに対応するＸ方向画素選択ライン２８と、いずれかのドレインに対応するＹ方向画素選択ライン２９に駆動電圧を印加することにより、Ｘ方向画素選択ライン２８とＹ方向画素選択ライン２９とが直交した位置にあるチャネルが開くことで、対応する後述の画素ストリングにのみ、ドレイン電圧が伝達され、同時に一つのＺ方向画素選択ライン２６を選択して電圧を印加することで、対応する画素のみが屈折率、透過率等の光学特性が変更されることとなる。

【0024】

具体的には、光学材料層１３２は、液晶または電気光学ポリマに代表されるエレクトロクロミック材料などから構成されている。
エレクトロクロミック材料は、電圧や電流によって屈折率、光透過率、偏光面等の光学特性が変化する物質である。
また、エレクトロクロミック材料としては、無機エレクトロクロミック材料と、有機エレクトロクロミック材料と、が挙げられる。

【0025】

無機エレクトロクロミック材料としては、例えば、酸化タングステンWO_３が挙げられる。また、有機エレクトロクロミック材料としては、例えば、メチルビオロゲン、テトラチアフルバレン等が挙げられる。

【0026】

Ｚ方向画素選択ライン２６は、所定の範囲に存在する画素とＺ方向位置が同じ画素をスイッチング素子を介して画素駆動用の電源を接続している。
さらに、Ｙ方向画素選択ライン２９は、所定の範囲に存在する画素とＹ方向位置が同じ画素をスイッチング素子を介して画素駆動用の電源を接続している。

【0027】

上記構成において、透明光学材料で構成されたＺ方向画素選択ライン２６には、図示しない駆動回路が接続され、この駆動回路により印加される電圧が制御されている。
表示画素部２１のＺ方向画素選択ライン２６は、階段状に加工された構造となっている。
これらの結果、画素である光学材料は、選択状態にあるＺ方向画素選択ライン２６、選択状態にあるＸ方向画素選択ライン２８及び選択状態にあるＹ方向画素選択ライン２９により電圧印加がなされて屈折率、透過率等の光学特性が変更される。

【0028】

図３は、３次元画素ユニットの説明図である。
図３（Ａ）は、Ｘ－Ｙ方向画素選択回路２００の一例の説明図である。
Ｘ－Ｙ方向画素選択回路は、画素毎にゲート端子がＸ方向画素選択ライン２８に接続され、ドレイン端子がＹ方向画素選択ライン２９に接続され、ソース端子が画素電極２０２に接続されたＴＦＴ２０１を備えている。

【0029】

この結果、選択状態にあるＸ方向画素選択ライン２８及びＹ方向画素選択ライン２９の交点に位置する画素ストリングＧＳが選択状態となる。

【0030】

図３（Ｂ）は、画素セルの選択状態の説明図である。
図３（Ｂ）に示すように、いずれかのＺ方向画素選択ライン２６が選択されることで、選択状態の画素ストリングＧＳ中の画素セルＧＣが選択されて表示が行われることとなる。
ここで、表示とは、上述したように、座標（ｘ，ｙ）の画素である選択された画素セルＧＣの作用により、３次元画素ユニット１４Ｃ２の表面から迎角（ｖ）、方向角（ｈ）の方向に色や明るさ（ｃ）を見せる、ということである。

【0031】

さらに図６（Ｂ）に示すように、選択しようとするＺ方向画素選択ライン２６、選択Ｘ方向画素選択ライン２８及びＹ方向画素選択ライン２９に対応する選択スイッチをオン状態とすることで、選択Ｚ方向画素選択ライン２６Ｓ、選択Ｘ方向画素選択ライン２８Ｓ及び選択Ｙ方向画素選択ライン２９Ｓとすることで一つの画素セルＧＣを選択画素セルＧＣＳとすることが可能となる。

【0032】

以上の説明は、画素セルＧＣを透明／非透明で切り替える場合のものであるが、画素セルＧＣに印加される電圧を可変することで、中間調を表現するようにすることも可能であり、例えば、画素セルＧＣのエレクトロクロミック材料として光透過率を変更可能なものを用いれば、画素セル単位で透過率を制御可能となる。

【0033】

また、画素セルＧＣのエレクトロクロミック材料として屈折率を変更可能なものを用いれば、画素セル単位で屈折率を制御可能となる。また、画素セルＧＣのエレクトロクロミック材料として偏光面を変更可能なものを用いれば、画素セル単位で偏光面の制御が可能となる。

【0034】

図４は、画素セルの構成例の説明図である。
図４において、対向している導電膜として機能するＺ方向画素選択ライン２６の間には、図示しない透明絶縁膜が設けられているものとする。

【0035】

各画素セルＧＣは、Ｙ方向画素選択ライン２９及びＺ方向画素選択ライン２６の対向する位置（Ｚ方向画素選択ライン２６内）に形成されており、各画素セルＧＣを個別に制御できるようになっている。
すなわち、対向しているＺ方向画素選択ライン２６の間の距離毎に画素セルＧＣが図８の垂直方向に沿って配置されている状態となっている。

【0036】

すなわち、３次元画素ユニット１４Ｃ２は、円筒状の光学材料と、光学材料の開口中に延在する第１ラインとして機能するＹ方向画素選択ライン２９と、導電膜であるＺ方向画素選択ライン２６と図示しない絶縁膜とを交互に積層した積層体を有し、光学材料及び第１ラインとして機能するＹ方向画素選択ライン２９を一体に前記積層体に対し、積層方向に沿って貫通させて配置した構造となっている。

【0037】

ここで、光学材料層１３２として光透過率が変化するエレクトロクロミック材料を用いた場合の印加電圧と光透過率との関係の一例について説明する。

【0038】

図５は、光学材料層に対する印加電圧と光透過率との関係の一例の説明図である。
図５の例においては、電圧未印加の場合（印加電圧０［Ｖ］）に光透過率が高い（透明）光学材料層１３２を用いている。
ここで、電圧Ｖｔｈは、光透過率が大きく変化する電圧である。
また、電圧Ｖ１［Ｖ］は光透過率が十分高い状態を維持できる電圧とされている。

【0039】

また、電圧Ｖ１の２倍の電圧Ｖ１×２［Ｖ］を印加した場合には、確実に反応閾値電圧Ｖｔｈよりも高い電圧となって光透過率は低い状態でほぼ一定となる。

【0040】

そこで、これを利用して、画素セルの光学特性の変更制御を行う。
図６は、画素セルの光学特性の変更方法の説明図である。
ある画素セルＧＣに対して、選択対象のＹ方向画素選択ライン２９Ｓには、電圧＋Ｖ１［Ｖ］を印加するものとする。また非選択対象のＹ方向画素選択ライン２９Ｎには、電圧０［Ｖ］を印加するものとする。

【0041】

同様に選択対象の選択Ｚ方向画素選択ライン２６Ｓには電圧－Ｖ１を印加するものとする。また、非選択対象のＺ方向画素選択ライン２６Ｎには、電圧０［Ｖ］を印加するものとする。
これらの結果、選択対象のＹ方向画素選択ライン２９Ｓ及び選択対象のＺ方向画素選択ライン２６Ｓの交点に位置する画素セルＧＣ１には、実効的に電圧Ｖ１の２倍の電圧Ｖ１×２［Ｖ］が印加されるので、画素セルＧＣ１は不透明化することとなる。

【0042】

これに対し、選択対象のＹ方向画素選択ライン２９Ｓ及び非選択対象のＺ方向画素選択ライン２６Ｎの交点に位置する画素セルＧＣ２には、実効的に電圧Ｖ１［Ｖ］が印加されることとなるが、画素セルＧＣ２は反応せず透明状態を維持したままとなる。

【0043】

同様に、非選択対象のＹ方向画素選択ライン２９Ｎ及び選択対象の選択Ｚ方向画素選択ライン２６Ｓの交点に位置する画素セルＧＣ３には、実効的に電圧Ｖ１［Ｖ］が印加されることとなるが、画素セルＧＣ３は反応せず透明状態を維持したままとなる。

【0044】

図７は、３次元画素ユニットの制御状態の一例の説明図である。
図７に示すように３次元画素ユニット１４Ｃ２は、３次元的に不透明の選択画素セルＧＣＳ及び透明の非選択画素セルＧＣＮが配置された状態となっている。
この結果、バックライト１４Ｄから出射された照明光Ｌが３次元画素ユニット１４Ｃ２を透過する際には、３次元画素ユニット１４Ｃ２は、透過型のホログラム表示装置として機能し、多視点に対応する光線再生型の立体映像表示を行うことが可能となる。

【0045】

この場合において、３次元画素ユニット１４Ｃ２は、干渉縞体積型として機能し、干渉縞を材料内部の屈折率分布もしくは透過率分布として実現が可能となっている。

【0046】

また、光学材料または光路制御素子及びその制御配線を立体的に配置しているため、動的に変更可能な干渉縞を形成することができる。
したがって、動画のホログラム表示を行うことも可能である。

【0047】

以上の説明のように、本実施形態の３次元映像表示装置においては、光学材料または光路制御素子とその制御配線を、３次元メモリにおける電荷蓄積材料及び配線に類似する配置とすることで、積層成膜と微細加工による製造が可能な構造となっている。
したがって、大量生産が可能な普及型裸眼立体視ディスプレイを製造することが可能となる。

【0048】

以上の説明においては、光源１４Ｄ１については、詳細に述べなかったが、複数色の光源を設け、各色の光源に対応した立体像を時間分割的に再生することでカラー映像を表示するように構成することも可能である。
以上の説明においては、３次元画素ユニット１４Ｃ２を設ける場合について説明したが、１層のみであっても、従来の透過型ホログラム装置と同様の表示を行うことも可能である。

【0049】

図８は、画素セルの他の構成例の概念説明図である。
図８において、対向しているＺ方向画素選択ライン２６の間及びＹ方向画素選択ライン２９Ａと対向するＺ方向画素選択ライン２６との間には、図示しない透明絶縁膜が設けられているものとする。
各画素セルＧＣは、Ｙ方向画素選択ライン２９Ａ及びＺ方向画素選択ライン２６の対向する位置（Ｚ方向画素選択ライン２６内）に形成されており、各画素セルＧＣを個別に制御できるようになっている。

【0050】

すなわち、対向しているＺ方向画素選択ライン２６の間の距離毎に画素セルＧＣが図１２の垂直方向に沿って配置されている状態となっている。
すなわち、３次元画素ユニット１４Ｃ２は、板状の光学材料と、光学材料に電気的に接するように光学材料の延在方向に沿って延在する第１ラインとして機能するＹ方向画素選択ライン２９Ａと、導電膜であるＺ方向画素選択ライン２６と図示しない絶縁膜とを交互に積層した積層体を有し、第１ラインとして機能するＹ方向画素選択ライン２９Ａを導電膜であるＺ方向画素選択ライン２６と絶縁した状態で、光学材料及び第１ラインとして機能するＹ方向画素選択ライン２９Ａを一体に積層体に対し、積層方向に沿って貫通させて配置した構造となっている。
この構成によっても、図４に示した構成と同様に立体画像の表示を行うことが可能である。

【0051】

本実施形態の演算／制御回路１４Ｂは、通常のコンピュータを利用したハードウェア構成となっており、ＣＰＵなどの制御装置と、ＧＰＵなどの画像処理が可能な高速演算装置と、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭなどの記憶装置と、を備えている。また、必要に応じてＳＳＤ、ＨＤＤなどの外部記憶装置を備えてもよい。

【0052】

本実施形態の演算／制御回路１４Ｂで実行されるプログラムは、インストール可能な形式又は実行可能な形式のファイルでＳＳＤ、ＵＳＢメモリなどの半導体記憶装置、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｋ）等のコンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録されて提供される。

【0053】

また、本実施形態の演算／制御回路１４Ｂで実行されるプログラムを、インターネット等のネットワークに接続されたコンピュータ上に格納し、ネットワーク経由でダウンロードさせることにより提供するように構成しても良い。また、本実施形態の演算／制御回路１４Ｂで実行されるプログラムをインターネット等のネットワーク経由で提供または配布するように構成しても良い。

【0054】

また、本実施形態の演算／制御回路１４Ｂのプログラムを、ＲＯＭ等に予め組み込んで提供するように構成してもよい。

【0055】

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

【符号の説明】

【0056】

１０ 立体画像表示システム
１１ ３次元映像情報生成装置
１１Ａ 撮影装置
１２ データ変換装置
１２Ａ 転送情報生成装置
１２Ｂ ストレージ
１３ 情報転送装置
１３Ａ 入力装置
１３Ｂ 放送機器
１４ ３次元映像表示装置
１４Ａ 受信装置
１４Ｂ 演算／制御回路
１４Ｃ 表示パネル
１４Ｄ バックライト
２１ 表示画素部
２６ Ｚ方向画素選択ライン
２６Ｎ 非選択Ｚ方向画素選択ライン
２６Ｓ 選択Ｚ方向画素選択ライン
２８ Ｘ方向画素選択ライン
２９、２９Ａ Ｙ方向画素選択ライン
２９Ｓ 選択Ｙ方向画素選択ライン
ＧＣ 画素セル
ＧＣＮ 非選択画素セル
ＧＣＳ 選択画素セル
ＧＳ 画素ストリング
Ｌ 照明光
ＳＧＤ ドレイン側選択トランジスタ
ＳＧＳ ソース側選択トランジスタ
Ｖｔｈ 反応閾値電圧

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】