特許 7613011 製版装置および製版方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-01-06

(45)【発行日】2025-01-15

(54)【発明の名称】製版装置および製版方法

(51)【国際特許分類】

   B41C 1/10 20060101AFI20250107BHJP

   B41F 35/02 20060101ALI20250107BHJP

   B41F 35/00 20060101ALI20250107BHJP

   B41N 1/14 20060101ALI20250107BHJP

   B41M 1/06 20060101ALI20250107BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20250107BHJP

   G03F 7/00 20060101ALI20250107BHJP

   G03F 7/26 20060101ALI20250107BHJP

【ＦＩ】

B41C1/10

B41F35/02

B41F35/00 B

B41N1/14

B41M1/06

G03F7/20 511

G03F7/00 503

G03F7/26

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2020118585

(22)【出願日】2020-07-09

(65)【公開番号】P2022015624

(43)【公開日】2022-01-21

【審査請求日】2023-05-17

(73)【特許権者】

【識別番号】000001270

【氏名又は名称】コニカミノルタ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000671

【氏名又は名称】ＩＢＣ一番町弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】須釜 宏二

(72)【発明者】

【氏名】中島 一比古

(72)【発明者】

【氏名】生田 健悟

【審査官】長田 守夫

(56)【参考文献】

【文献】特開２００２－１９００（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－２１２０８０（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１２／００４２７９８（ＵＳ，Ａ１）

【文献】独国特許出願公開第４３２９３３８（ＤＥ，Ａ１）

【文献】特開２００３－２３１３７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－１４４４７８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ４１Ｃ １／００－３／０８

Ｂ４１Ｆ ３５／０２

Ｂ４１Ｆ ３５／００

Ｂ４１Ｎ １／１４

Ｂ４１Ｍ １／０６

Ｇ０３Ｆ ７／２０

Ｇ０３Ｆ ７／００

Ｇ０３Ｆ ７／２６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

外部刺激に応答して可逆的に物性が変化する刺激応答性化合物を含む表面層を有するインク膜形成用刷版にパターンを形成するための製版装置であって、
前記刷版の表面に、画像データに基づいて前記表面の物性を第１物性から第２物性へ変化させる第１刺激を与えてパターンを形成させる第１刺激付与部と、
前記刷版の表面に、前記表面の物性を前記第２物性から前記第１物性へ変化させる第２刺激を与えて前記パターンを消去する第２刺激付与部と、
前記刷版の表面に残存しているインクを除去するクリーニング部と、
を有し、
前記第１刺激および前記第２刺激が互いに波長の異なる光であり、前記刺激応答性化合物が、親水性基を含むアゾベンゼン構造を有する化合物、親水性基を含むスピロピラン構造を有する化合物、親水性基を含むスチルベン構造を有する化合物、および親水性基を含むジアリールエテン構造を有する化合物からなる群から選択される光応答性化合物である、製版装置。

【請求項2】

前記クリーニング部は、前記刷版に当接する当接部材を備え、前記当接部材によって刷版を押圧することにより前記刷版上に残存しているインクを前記当接部材に付着させてインクを除去する、請求項１に記載の製版装置。

【請求項3】

前記当接部材は、クリーニングローラである、請求項２に記載の製版装置。

【請求項4】

前記クリーニング部は、前記クリーニングローラに付着したインクを回収するインク回収部をさらに有する、請求項３に記載の製版装置。

【請求項5】

前記インク回収部は、前記クリーニングローラに当接してインクを吸収する織布、不織布、およびスポンジからなる群から選択されるインク吸収性部材を含む、請求項４に記載の製版装置。

【請求項6】

前記インク回収部は、前記クリーニングローラに当接した押圧ローラと、前記クリーニングローラと前記押圧ローラとの間に通紙したクリーニング紙と、を含み、前記クリーニングローラに付着したインクを前記クリーニング紙に転写することにより回収する、請求項４に記載の製版装置。

【請求項7】

外部刺激に応答して可逆的に物性が変化する刺激応答性化合物を含む表面層を有するインク膜形成用刷版にパターンを形成するための製版装置であって、
前記刷版の表面に、画像データに基づいて前記表面の物性を第１物性から第２物性へ変化させる第１刺激を与えてパターンを形成させる第１刺激付与部と、
前記刷版の表面に、前記表面の物性を前記第２物性から前記第１物性へ変化させる第２刺激を与えて前記パターンを消去する第２刺激付与部と、
前記刷版の表面に残存しているインクを除去するクリーニング部と、
を有し、
前記第１刺激および前記第２刺激が互いに波長の異なる光であり、前記刺激応答性化合物が、親水性基を含むアゾベンゼン構造を有する化合物、親水性基を含むスピロピラン構造を有する化合物、親水性基を含むスチルベン構造を有する化合物、および親水性基を含むジアリールエテン構造を有する化合物からなる群から選択される光応答性化合物であるか、または、前記第１刺激および前記第２刺激が互いに異なる温度変化であり、前記刺激応答性化合物が温度応答性化合物であり、
前記クリーニング部は、インク除去の前およびインク除去と同時の少なくとも一方の段階において、前記刷版の表面および残存するインクの少なくとも一方に外部刺激を与える第３刺激付与部をさらに有する、製版装置。

【請求項8】

前記第３刺激付与部で与える外部刺激が、前記第１刺激または前記第２刺激と同種の刺激である、請求項７に記載の製版装置。

【請求項9】

前記刷版の表面の物性は、前記第１刺激により疎水性から親水性へ変化し、前記第２刺激により親水性から疎水性へ変化するか、または、前記刷版の表面の物性は、前記第１刺激により親水性から疎水性へ変化し、前記第２刺激により疎水性から親水性へ変化する、請求項１～８のいずれか１項に記載の製版装置。

【請求項10】

前記刷版が、前記クリーニング部、前記第２刺激付与部、前記第１刺激付与部の順に通過するか、または、前記刷版が、前記第２刺激付与部、前記クリーニング部、前記第１刺激付与部の順に通過する、請求項１～９のいずれか１項に記載の製版装置。

【請求項11】

前記刷版が前記クリーニング部、前記第２刺激付与部、前記第１刺激付与部の順に通過する、請求項１０に記載の製版装置。

【請求項12】

外部刺激に応答して可逆的に物性が変化する刺激応答性化合物を含む表面層を有するインク膜形成用刷版の表面に、画像データに基づいて前記表面の物性を第１物性から第２物性へ変化させる第１刺激を与えてパターンを形成させる第１刺激付与工程と、
前記パターンが形成された刷版の画像部または非画像部のいずれかにインク膜を形成する工程と、
前記インク膜が形成された刷版を用いて印刷を行う工程と、
印刷後の刷版の表面に、前記表面の物性を前記第２物性から前記第１物性へ変化させる第２刺激を与えて前記パターンを消去する第２刺激付与工程と、
前記パターンが消去された前記刷版の表面に前記第１刺激を与えて新たな画像パターンを形成する工程と、
前記印刷を行う工程の後であって前記第２刺激付与工程の前、または前記第２刺激付与工程の後であって前記新たな画像パターンを形成する工程の前に、印刷後の刷版の表面に残存しているインクを除去するクリーニング工程と、
を有し、
前記第１刺激および前記第２刺激が互いに波長の異なる光であり、前記刺激応答性化合物が、親水性基を含むアゾベンゼン構造を有する化合物、親水性基を含むスピロピラン構造を有する化合物、親水性基を含むスチルベン構造を有する化合物、および親水性基を含むジアリールエテン構造を有する化合物からなる群から選択される光応答性化合物である、製版方法。

【請求項13】

表面に刷版を装着することができる版胴と、前記刷版の表面に接するブランケットと、前記ブランケットとの間で被印刷媒体を挟んで、当該被印刷媒体を前記ブランケットの方向へ加圧する圧胴と、前記刷版にインクを供給するインクローラと、を有する印刷装置を用いた印刷方法であって、請求項１～１１のいずれか１項に記載の製版装置を用いてパターンが形成されたインク膜形成用刷版を前記版胴の表面に装着することを含む、印刷方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、製版装置および製版方法に関する。

【背景技術】

【0002】

平版印刷は、代表的には２種類の方法がある。一つは、親水部と疎水部とを平版表面上に設け、あらかじめ水に浸すことで親水部を水で濡らし、水と混和しないインクを該平版表面上に塗布することで疎水部のみにインクを有する液膜構造を形成し、これを転写することで印刷を実施する方法である。もう一つは、感光層とシリコーンゴム層とが順に積層された平版に対して、部分露光と現像とにより一部の感光層をシリコーンゴム層とともに、またはシリコーンゴム層のみを除去する。これにより、水を用いずに、シリコーンゴム層が表面になる非画像部と、少なくともシリコーンゴム層が除去された画像部とを有するパターンが形成された平版を用いて印刷する、水なし平版印刷の方法である。

【0003】

平版印刷では、刷版表面に凸形状または凹形状を有しないように一見思われるが、たとえば、水なし平版印刷法では、平版上に形成された画像部と非画像部との間には少なくともシリコーンゴム層の厚み以上の段差があり、厳密には平坦ということはできない。また、塗布、露光、および現像の工程を経て平版を形成するため、その工数は長大で、簡易な工程で形成できるものではない。さらにその製造工程からわかるように、該平版が有するパターンを容易に書き換えることはできない。

【0004】

すなわち、従来の平版印刷（アナログ印刷）の場合、一度印刷パターンを形成した平版を変更することは容易ではなく、異なる印刷物を印刷する度に、平版を新たに初めから作製する必要があり、平版作製の度に時間のロスが発生したりコストが増大したりするという問題がある。また、新しい版を作るたびに古い版を廃棄するという環境面からの短所を有していた。

【0005】

このような短所を克服するために、従来、２つの刺激により、刷版の書き換えを行う技術が提案されている。たとえば、特許文献１では、印刷版として、パターンの形成および消去可能なポリマー層を用いる。特許文献１に記載される技術では、ポリマー層を光触媒処理および／または光化学処理することによってパターンを形成する。一方、ポリマー層に形成されたパターンは、電磁ビームの作用および／または熱の作用および／または少なくとも１つの溶剤の作用および／または研磨による除去によって消去可能になっている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開２００７－９８９４５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

特許文献１に記載の技術では、電磁ビームの作用および／または熱の作用および／または少なくとも１つの溶剤の作用および／または研磨による除去などという外部からの刺激によって刷版上のパターンを消去可能としている。

【0008】

しかしながら、特許文献１に記載の技術では、刷版の上にインクが残存した状態で、外部刺激を与えてパターンの消去や再書き込みを行っている。このため、残存するインクが外部刺激を邪魔して、パターンを消去したり再書き込みができない部分が発生する。これにより、新たなパターンを書き込んだ刷版で印刷しても、前の刷版のパターンが印刷されてしまい、新たな刷版の画像に前の刷版の画像（以下、「前画像」とも称する）が重なる（かぶりと称する）などの問題が生じることがわかった。

【0009】

そこで本発明は、刷版を再使用でき、新たなパターンを書き込んだ刷版で印刷した際に、前画像のかぶりのない良好な印刷画像が得られる製版装置および製版方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

本発明者らは鋭意研究を積み重ねた。その結果、外部刺激に応答して表面の物性が可逆的に変化する刺激応答性化合物を含む表面層を有する刷版に対して、刷版上にパターンを書き込むための第１刺激付与部および前記パターンを消去するための第２刺激付与部に加えて、印刷後に刷版上に残存するインクを除去するためのクリーニング部を設けた製版装置により、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。

【0011】

すなわち本発明は、外部刺激に応答して可逆的に物性が変化する刺激応答性化合物を含む表面層を有するインク膜形成用刷版にパターンを形成するための製版装置であって、前記刷版の表面に、画像データに基づいて前記表面の物性を第１物性から第２物性へ変化させる第１刺激を与えてパターンを形成させる第１刺激付与部と、前記刷版の表面に、前記表面の物性を前記第２物性から前記第１物性へ変化させる第２刺激を与えて前記パターンを消去する第２刺激付与部と、前記刷版の表面に残存しているインクを除去するクリーニング部と、を有する、製版装置である。

【発明の効果】

【0012】

本発明の製版装置では、外部刺激に応答して表面の物性が可逆的に変化する刺激応答性化合物を含む表面層を有する刷版に対して、第１刺激および第２刺激の２つの外部刺激により、パターンの書き込みおよび消去をそれぞれ行うため、刷版を繰り返し使用できる。また、クリーニング部材を用いて刷版の表面に残存するインクを除去することで、残存するインクによる画像不良を抑制することができる。加えて、残存するインクが外部刺激による表面の物性の変化を阻害することを防ぐ。そのため、表面の物性が確実に変化し、前画像のかぶりを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0013】

【図1】本発明の一実施形態に係る製版装置を示す概略図である。

【図2】本発明の一実施形態に係る製版装置を示す概略図である。

【図3】本発明の一実施形態に係る製版装置を示す概略図である。

【図4】本発明の一実施形態に係る製版装置を示す概略図である。

【図5】本発明の一実施形態に係る製版装置を示す概略図である。

【図6】本発明の一実施形態に係る製版装置を示す概略図である。

【図7】本発明の一実施形態に係る印刷装置の要部を示す斜視図である。

【図8】本発明の一実施形態に係る製版装置を示す概略図である。

【図9】比較例に係る製版装置を示す概略図である。

【図10】評価に使用した初期印刷における刷版面の画像パターンを示す図である。

【図11】評価に使用した再書き込みした刷版面の画像パターンを示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0014】

本発明は、外部刺激に応答して可逆的に物性が変化する刺激応答性化合物を含む表面層を有するインク膜形成用刷版にパターンを形成するための製版装置であって、前記刷版の表面に、画像データに基づいて前記表面の物性を第１物性から第２物性へ変化させる第１刺激を与えてパターンを形成させる第１刺激付与部と、前記刷版の表面に、前記表面の物性を前記第２物性から前記第１物性へ変化させる第２刺激を与えて前記パターンを消去する第２刺激付与部と、前記刷版の表面に残存しているインクを除去するクリーニング部と、を有する、製版装置である。当該構成を有する製版装置によれば、刷版を再使用でき、新たなパターンを書き込んだ刷版で印刷した際に、前画像のかぶりのない良好な印刷画像が得られうる。

【0015】

なぜ、本発明の製版装置により上記効果が得られるのか、詳細は不明であるが、下記のようなメカニズムが考えられる。なお、下記のメカニズムは推測によるものであり、本発明は下記メカニズムに何ら制限されるものではない。

【0016】

上述の特許文献１に記載の技術では、刷版の上にインクが残存した状態で、電磁ビームの作用および／または熱の作用および／または少なくとも１つの溶剤の作用および／または研磨による除去などという外部刺激（第２刺激）を与えてパターンの消去を行っている。刷版面にインクが残存していると、第２刺激によるパターン消去時、または光触媒処理および／または光化学処理などの外部刺激（第１刺激）による再書き込み時に、残存しているインクがこれらの外部刺激による表面物性変化を阻害する場合がある。そのため、パターン消去が十分にできない、または再書き込みが十分にできなくなり、前画像のかぶりが生じるものと考えられる。

【0017】

これに対して、本発明の製版装置は、刷版の表面の物性を第１物性から第２物性へ変化させる第１刺激を与えて前記刷版の表面にパターンを形成させる第１刺激付与部および前記表面の物性を前記第２物性から前記第１物性へ変化させる第２刺激を与えて前記パターンを消去する第２刺激付与部に加えて、前記刷版の表面に残存しているインクを除去するクリーニング部を備える。上記クリーニング部により刷版の表面に残存しているインクが十分に除去されることにより、残ったインクにより前画像のパターンが印刷されてしまうことや、残存したインク上にインクが乗りやすくかぶりが生じてしまうことを防ぐことができる。また、外部刺激による表面の物性の変化が確実に生じるため、再書き込みをした刷版で印刷した場合の前画像のかぶりをさらに抑制できる。

【0018】

加えて、本発明の製版装置は、画像パターンの形成および消去時に溶媒や処理液を使う必要がなく廃液が出ないため、環境負荷を低減することができる。

【0019】

以下、本発明の製版装置の構成について説明する。

【0020】

なお、本明細書中、範囲を示す「Ｘ～Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、本明細書中、特記しない限り、操作および物性等の測定は、室温（２０～２５℃）／相対湿度４０～５０％ＲＨの条件で行う。

【0021】

［インク膜形成用刷版］
本発明の製版装置は、インク膜形成用刷版に繰り返し書き込み可能なパターンを形成するための製版装置であって、上記インク形成用刷版は、外部刺激に応答して可逆的に物性が変化する刺激応答性化合物を含む表面層を有するものである。

【0022】

〔刷版の構成〕
本発明の製版装置に用いられるインク膜形成用刷版（刷版とも称する）は、好ましくは、支持体上に刺激応答性化合物および樹脂を含む表面層が配置されてなる。

【0023】

（支持体）
支持体の形状は、特に制限されず、平板状、円筒状等が挙げられる。

【0024】

支持体の材料も、特に制限されないが、たとえば、アルミニウム、アルミニウム合金（アルミニウムとマグネシウムまたは／およびケイ素との合金など）、鉄、ステンレス等の金属、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、スチレン－ブタジエンゴム等のプラスチックが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0025】

支持体は、単層、多層のいずれの形態を有していてもよい。また、多層である場合、各層は異なる材料で構成されていてもよい。

【0026】

（表面層）
＜樹脂＞
表面層は、樹脂を含んでいてもよい。表面層に含まれる樹脂としては、特に制限されず、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも用いることができる。

【0027】

熱可塑性樹脂の例としては、たとえば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン（ＡＢＳ）樹脂、アクリロニトリル・スチレン（ＡＳ）樹脂、アクリル樹脂、スチレンアクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、非晶性ポリアリレート樹脂、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、およびこれらの共重合体等が挙げられる。

【0028】

熱硬化性樹脂の例としては、たとえば、固形エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂（尿素樹脂）、ベンゾグアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、架橋型アクリル樹脂（たとえば、架橋型ポリメチルメタクリレート樹脂）、架橋型ポリスチレン樹脂、およびポリアミック酸樹脂（加熱によりイミド化させポリイミド構造が形成される樹脂）等が挙げられる。

【0029】

上記樹脂は、１種単独でもまたは２種以上を組み合わせても用いることができる。また、たとえば、ビニル重合セグメント（ビニル樹脂セグメント）とポリエステル重合セグメント（ポリエステル樹脂セグメント）とを有する樹脂など、２種以上の重合セグメント（樹脂セグメント）が互いに結合してなるハイブリッド樹脂を用いてもよい。

【0030】

これらの中でも、刺激応答性化合物の水との親和性の変化がより起こりやすいという観点から、熱可塑性樹脂が好ましく、スチレンアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリオレフィン樹脂がより好ましい。

【0031】

表面層に含まれる樹脂は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。樹脂の市販品の例としては、星光ＰＭＣ株式会社製のＶＳ－１０６３（重量平均分子量：５，５００）、ＵＳ－１０７１（重量平均分子量：１０，０００）、Ｘ－１（重量平均分子量：１８，０００）、ＹＳ－１２７４（重量平均分子量：１９，０００）、ＶＳ－１０４７（重量平均分子量：１０，０００）、ＲＳ－１１９１（重量平均分子量：６，５００）等が挙げられる。

【0032】

表面層に含まれる樹脂の重量平均分子量は、特に制限されないが、５，０００～３０，０００であることが好ましく、８，０００～２０，０００であることがより好ましい。

【0033】

表面層中の樹脂の含有量は、表面層に含まれる刺激応答性化合物および樹脂の合計質量に対して、３０～８０質量％であることが好ましく、４０～７０質量％であることがより好ましい。このような範囲であれば、速い刺激応答性を維持しつつ、表面層の強度を向上させることができる。

【0034】

なお、本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した値を採用する。

【0035】

＜刺激応答性化合物＞
刺激応答性化合物とは、外部刺激に応答して、その性質を可逆的に変化させる化合物をいう。本発明においては、第１刺激と第２刺激との２つの外部刺激に応答して表面の物性が可逆的に変化する、すなわち、第１刺激により第１物性から第２物性に変化し、第２刺激により第２物性から第１物性に変化する刺激応答性化合物を用いる。好ましくは、外部刺激に応答して水との親和性が可逆的に変化する刺激応答性化合物を用いる。

【0036】

また、外部刺激に応答して水との親和性が可逆的に変化するとは、外部刺激を与えられた化合物が、外部刺激に応答して、親水性と疎水性との間で可逆的に変化することをいう。

【0037】

ここで、「親水性と疎水性との間で可逆的に変化する」とは、具体的には、外部刺激に応答することで分子の存在状態が変わり、親水性と疎水性とが変化することである。上記の分子の存在状態とは、分子構造、分子の凝集状態のことを指す。たとえば、光応答性化合物であれば、光に応答して分子構造が変わることで、ヒドロキシ基が表面に配向するかしないかで親水性と疎水性とを制御することができ、温度応答性化合物であれば、温度に応答して分子の凝集状態が変わることで、親水性と疎水性とを制御することができる。

【0038】

上記のように、本発明においては、外部刺激に応答して水との親和性が可逆的に変化する刺激応答性化合物を用いることが好ましい。そして、刷版の表面の物性は、第１刺激により疎水性から親水性へ変化し、第２刺激により親水性から疎水性へ変化するものであることが好ましい。または、刷版の表面の物性は、第１刺激により親水性から疎水性へ変化し、前記第２刺激により疎水性から親水性へ変化するものであることが好ましい。親水性、疎水性の変化により、画像パターンに応じたインクの制御性が高く、高画質の画像を得ることができる。

【0039】

上記外部刺激としては、特に限定されるものではないが、たとえば、光、温度変化、圧力、電場、ｐＨ等を挙げることができる。

【0040】

刺激応答性化合物の例としては、光に応答して水との親和性が可逆的に変化する光応答性化合物、温度変化に応答して水との親和性が可逆的に変化する温度応答性化合物、電場に応答して水との親和性が可逆的に変化する電場応答性化合物、ｐＨに応答して水との親和性が可逆的に変化するｐＨ応答性化合物等が挙げられる。

【0041】

該刺激応答性化合物は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。また、該刺激応答性化合物は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。なかでも、水との親和性の変化速度が速いという観点から、光応答性化合物または温度応答性化合物が好ましい。

【0042】

したがって、本発明の好ましい実施形態において、外部刺激である第１刺激および第２刺激が互いに波長の異なる光であり、刺激応答性化合物が光応答性化合物である。また、他の好ましい実施形態において、外部刺激である第１刺激および第２刺激が互いに異なる温度変化であり、刺激応答性化合物が温度応答性化合物である。

【0043】

以下、好適な刺激応答性化合物である光応答性化合物および温度応答性化合物について説明する。

【0044】

＜光応答性化合物＞
本発明に用いられる光応答性化合物は、光照射により立体異性化または構造異性化（シス－トランス異性化、光開環反応等）を起こし、水との親和性が可逆的に変化する化合物であることが好ましい。かような化合物としては、具体的には、親水性基を含むアゾベンゼン構造を有する化合物、親水性基を含むスピロピラン構造を有する化合物、親水性基を含むスチルベン構造を有する化合物、親水性基を含むジアリールエテン構造を有する化合物等が挙げられる。これらの化合物は、高分子または該高分子の架橋体の形態であってもよい。

【0045】

これらの中でも、水との親和性の変化速度が速いとの観点から、光照射によりシス－トランス異性化を起こす、親水性基を含むアゾベンゼン構造を有する化合物または親水性基を含むスチルベン構造を有する化合物が好ましい。

【0046】

親水性基の例としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、メルカプト基、スルホン酸基、硫酸基、リン酸基、アミノ基等が挙げられる。これら親水性基は、１種でもまたは２種以上組み合わされてもよい。なかでも、水との親和性の変化速度が速いとの観点から、親水性基はヒドロキシ基であることが好ましい。

【0047】

親水性基を含むアゾベンゼン構造を有する化合物は、具体的には、下記化学式（１）で表される化合物が好ましい。

【0048】

【化1】

【0049】

上記化学式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、親水性基であり、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、炭素数１～１８のアルキル基またはアルコキシ基であり、ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立して、０～４の整数であり、ただしｍ１＋ｍ２は１～８の整数である。

【0050】

上記化学式（１）中のＲ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、親水性基である。親水性基の例は、上述の通りである。なお、ｍ１＋ｍ２が２～８の整数である場合、複数の親水性基は互いに同じでもよいし異なっていてもよい。

【0051】

上記化学式（１）中のＲ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、炭素数１～１８のアルキル基または炭素数１～１８のアルコキシ基である。

【0052】

炭素数１～１８のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基などの直鎖状のアルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソアミル基、ｔ－ペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルペンチル基、４－メチル－２－ペンチル基、３，３－ジメチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルヘキシル基、ｔ－オクチル基、１－メチルヘプチル基、２－エチルヘキシル基、２－プロピルペンチル基、２，２－ジメチルヘプチル基、２，６－ジメチル－４－ヘプチル基、３，５，５－トリメチルヘキシル基、１－メチルデシル基、１－ヘキシルヘプチル基などの分枝状のアルキル基；等が挙げられる。

【0053】

炭素数１～１８のアルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ウンデシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－トリデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基、ｎ－ペンタデシルオキシ基、ｎ－ヘキサデシルオキシ基などの直鎖状のアルコキシ基：イソプロポキシ基、ｔ－ブトキシ基、１－メチルペンチルオキシ基、４－メチル－２－ペンチルオキシ基、３，３－ジメチルブチルオキシ基、２－エチルブチルオキシ基、１－メチルヘキシルオキシ基、ｔ－オクチルオキシ基、１－メチルヘプチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、２－プロピルペンチルオキシ基、２，２－ジメチルヘプチルオキシ基、２，６－ジメチル－４－ヘプチルオキシ基、３，５，５－トリメチルヘキシルオキシ基、１－メチルデシルオキシ基、１－ヘキシルヘプチルオキシ基などの分枝状のアルコキシ基；等が挙げられる。

【0054】

親水性基を含むアゾベンゼン構造を有する化合物のさらに具体的な例としては、下記化学式（２）～（３）で表される化合物が好ましく挙げられる。

【0055】

【化2】

【0056】

【化3】

【0057】

親水性基を含むスチルベン構造を有する化合物は、具体的には、下記化学式（４）で表される化合物が好ましい。

【0058】

【化4】

【0059】

上記化学式（４）中、Ｒ^５～Ｒ^１０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～６のアルコキシ基、または親水性基であり、この際、Ｒ^５～Ｒ^１０の少なくとも１つは親水性基である。

【0060】

炭素数１～６のアルコキシ基の例としては、たとえば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基が挙げられる。

【0061】

親水性基の例は、上述の通りである。

【0062】

親水性基を含むスチルベン構造を有する化合物のさらに具体的な例としては、下記化学式（５）で表される化合物（イソラポンチゲニン、３，４’，５－トリヒドロキシ－３’－メトキシ－ｔｒａｎｓ－スチルベン）が好ましく挙げられる。

【0063】

【化5】

【0064】

また、高分子の形態である光応答性化合物の例としては、下記化学式（６）で表される高分子が好ましく挙げられる。

【0065】

【化6】

【0066】

上記化学式（６）中、ｘは繰り返し単位の数であり、高分子領域であれば特に制限されないが、たとえば２０～１０００の範囲である。

【0067】

上記光応答性化合物は、１種単独でもまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。また、上記光応答性化合物は、市販品を用いてもよいし合成品を用いてもよい。

【0068】

親水性基を含むアゾベンゼン構造を有する化合物の合成方法の例としては、以下の方法が挙げられる。

【0069】

たとえば、上記化学式（２）で表されるアゾベンゼン化合物の合成方法としては、下記反応式Ａで示される方法が挙げられる。２－クロロ－４－アミノフェノールと亜硝酸ナトリウムとを冷却下で反応させてジアゾニウム塩を合成し、これと２－クロロフェノールと反応させたのちに、得られた中間体Ａとｎ－ブロモヘキサンとを反応させて中間体Ｂを合成する。次いで、得られた中間体Ｂを高温高圧下で水酸化ナトリウム水溶液と反応させ、酸で処理することにより、上記化学式（２）で表されるアゾベンゼン化合物（アゾベンゼン誘導体（１））を得ることができる。

【0070】

【化7】

【0071】

たとえば、上記化学式（３）で表されるアゾベンゼン化合物（アゾベンゼン誘導体（３））の合成方法としては、上記反応式Ａ中の中間体Ｂを、液体アンモニア中カリウムアミドと反応させる方法が挙げられる（下記反応式Ｂ参照）。

【0072】

【化8】

【0073】

たとえば、上記化学式（６）で表される高分子の合成方法としては、下記反応式Ｃで示される方法が挙げられる。上記反応式Ａと同様の方法で、ジアゾニウム塩を合成し、２－クロロフェノールと反応させ中間体Ｃを得て、続いてｎ－ブロモヘキサノールと反応させることで、中間体Ｄを合成する。次いで、中間体Ｄとアクリル酸塩化物とを、トリエチルアミン存在下で反応させ、アゾベンゼン構造を含むアクリレートモノマー（中間体Ｅ）とした後、クロロ基をヒドロキシ基へと変換し、中間体Ｆを得る。得られた中間体Ｆを、重合開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を用いる重合反応を行うことにより、上記化学式（６）で表されるアゾベンゼン化合物（アゾベンゼン誘導体（ポリマー２））を得ることができる。

【0074】

【化9】

【0075】

＜温度応答性化合物＞
本発明に用いられる温度応答性化合物は、好ましくは、温度変化に応答して水との親和性が可逆的に変化する化合物である。温度応答性化合物は、好ましくは、水に対する臨界溶解温度（ＣＳＴ）において、疎水性（または親水性）から親水性（または疎水性）に可逆的に変化する。温度応答性化合物としては、
（１）臨界溶解温度未満（このときの臨界溶解温度を特に「下限臨界溶解温度（ＬＣＳＴ）」という）の温度で親水性を示すが、同温度以上の温度で疎水性を示す温度応答性化合物
（２）臨界溶解温度以上（このときの臨界溶解温度を特に「上限臨界溶解温度（ＵＣＳＴ）」という）の温度で親水性を示すが、同温度未満の温度で疎水性を示す温度応答性化合物
のいずれも用いることができる。

【0076】

温度応答性化合物としては、特に制限されないが、アクリル系高分子およびメタクリル系高分子等が挙げられる。具体例としては、たとえば、ポリ（Ｎ－ｎ－プロピルアクリルアミド）（ＬＣＳＴ：２１℃）、ポリ（Ｎ－ｎ－プロピルメタクリルアミド）（ＬＣＳＴ：２７℃）、ポリ（Ｎ－イソプロピルアクリルアミド）（ＬＣＳＴ：３２℃）、ポリ（Ｎ－イソプロピルメタクリルアミド）（ＬＣＳＴ：４３℃）、ポリ（Ｎ－エトキシエチルアクリルアミド）（ＬＣＳＴ：約３５℃）、ポリ（Ｎ－テトラヒドロフルフリルアクリルアミド）（ＬＣＳＴ：約２８℃）、ポリ（Ｎ－テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド）（ＬＣＳＴ：約３５℃）、ポリ（Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド）（ＬＣＳＴ：３２℃）、ポリ－Ｎ，Ｎ－エチルメチルアクリルアミド（ＬＣＳＴ：５６℃）、ポリ（Ｎ－エチルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－シクロプロピルアクリルアミド）（ＬＣＳＴ：４５℃）、ポリ（Ｎ－シクロプロピルメタクリルアミド）等のＮ－置換（メタ）アクリルアミド由来の構成単位を有する高分子、ポリ（Ｎ－アクリロイルピロリジン）、ポリ（Ｎ－アクリロイルピペリジン）、ポリメチルビニルエーテル、およびこれらの共重合体等が挙げられる。

【0077】

温度応答性化合物としては、他にも、メチルセルロース、エチルセルロースおよびヒドロキシプロピルセルロース等のアルキル置換セルロース誘導体、ポリプロピレンオキサイドとポリエチレンオキサイドとのブロック共重合体等のポリアルキレンオキサイドブロック共重合体等が例示できる。

【0078】

これら温度応答性化合物の中でも、末端をカルボン酸基、アミン基、マレイミド基などの官能基に変性することが容易であるという観点、あるいはメタクリル酸と共重合させることでｐＨ応答性を付与することができるという観点などから、Ｎ－置換（メタ）アクリルアミド由来の構成単位を有する高分子が好ましい。

【0079】

これらの温度応答性化合物は、特に制限されないが、単量体を放射線照射によって重合することにより、または溶液重合することにより得られうるものである。

【0080】

単量体としては、それを重合することにより得られる単独重合体が温度応答性を示すもの（以下「温度応答性単量体」とも称する）を用いることができる。温度応答性単量体としては、特に限定されないが、たとえば、Ｎ－（またはＮ，Ｎ－ジ）置換（メタ）アクリルアミド化合物、環状基を有する（メタ）アクリルアミド化合物、およびビニルエーテル化合物等が挙げられる。温度応答性化合物は、１種の温度応答性単量体を重合することにより得られる単独重合体であってもよいし、２種以上の温度応答性単量体を重合することにより得られる共重合体であってもよい。共重合体は、グラフト共重合体、ブロック共重合体、ランダム共重合体のいずれであってもよい。

【0081】

また、温度応答性化合物は、必要に応じて、上記の温度応答性単量体に加えて、温度応答性を阻害しない範囲内において、それ自体は温度応答性単量体に該当しない単量体成分を重合することにより得られる共重合体であってもよい。該共重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、およびグラフト共重合体のいずれであってもよい。

【0082】

さらに、温度応答性化合物は、これらの高分子の架橋体であってもよい。温度応答性高分子が架橋体である場合、かかる架橋体としては、たとえば、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｎ－プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｔ－ブチル（メタ）アクリルアミド等のＮ－アルキル（メタ）アクリルアミド；Ｎ－ビニルイソプロピルアミド、Ｎ－ビニル－ｎ－プロピルアミド、Ｎ－ビニル－ｎ－ブチルアミド、Ｎ－ビニルイソブチルアミド、Ｎ－ビニル－ｔ－ブチルアミド等のＮ－ビニルアルキルアミド；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル等のビニルアルキルエーテル；エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイド；２－エチル－２－オキサゾリン、２－ｎ－プロピル－２－オキサゾリン、２－イソプロピル－２－オキサゾリン等の２－アルキル－２－オキサゾリン等の単量体またはこれら単量体の２種以上を、架橋剤の存在下で重合して得られる高分子を挙げることができる。

【0083】

上記架橋剤としては、従来公知のものを適宜選択して用いればよいが、たとえば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ’－メチレンビス（メタ）アクリルアミド、トリレンジイソシアネート、ジビニルベンゼン、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の重合性官能基を有する架橋性モノマー；グルタールアルデヒド；多価アルコール；多価アミン；多価カルボン酸；カルシウムイオン、亜鉛イオン等の金属イオン等を好適に用いることができる。これらの架橋剤は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0084】

上記の温度応答性化合物の分子量も特に限定されるものではないが、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される数平均分子量が３，０００以上であることが好ましい。

【0085】

上記温度応答性化合物は、１種単独でもまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。また、上記温度応答性化合物は、市販品を用いてもよいし、上述のように合成によって得られたものを用いてもよい。

【0086】

表面層における刺激応答性化合物の含有量は、表面層に含まれる刺激応答性化合物および樹脂の合計質量を１００質量％として、２０～７０質量％であることが好ましく、３０～６０質量％であることがより好ましい。このような範囲であれば、表面層の強度を向上させることができるとともに、速い刺激応答性を維持することができる。

【0087】

（その他の成分）
表面層は、本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤、可塑剤、金属酸化物粒子等をさらに含有していてもよい。表面層の厚さ（乾燥厚さ）は、特に制限されないが、３～３０μｍであることが好ましく、５～１０μｍであることがより好ましい。

【0088】

（接着層）
インク膜形成用刷版は、表面層が接着層を介して支持体上に配置されてなるものであってもよい。

【0089】

接着層の形成に用いられる接着剤（以下、接着層形成用接着剤とも称する）としては、特に制限されず、硬化性樹脂、および必要に応じて重合開始剤、溶媒等を含む硬化性組成物が好ましい。

【0090】

硬化性樹脂は、活性エネルギー線（たとえば、紫外線、可視光線、Ｘ線、電子線等）硬化型、熱硬化型であってもよいが、好ましくは活性エネルギー線硬化型であり、より好ましくは紫外線硬化型である。硬化性樹脂は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。また、硬化性樹脂は、市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。

【0091】

紫外線硬化型樹脂としては、たとえば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂が好ましい。

【0092】

紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂としては、市販品を用いてもよく、市販品としては、サートマー（登録商標）ＳＲ２９５、３５０、３９９（サートマー社製）などを挙げることができる。

【0093】

重合開始剤は、使用する硬化性樹脂の種類に応じて、公知の光重合開始剤、熱重合開始剤等を適宜選択して使用することができる。接着層形成用接着剤は、市販品、合成品のいずれを使用してもよい。

【0094】

活性エネルギー線を照射して接着剤を硬化させる場合、照射条件（光源の種類、照射強度、照射時間等）は適宜選択することができる。光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等の公知の光源を使用することができる。照射強度は、特に制限されないが、たとえば、１０～２００ｍＷ／ｃｍ^２である。また、照射時間も、特に制限されないが、たとえば１～１０分である。加熱により接着剤を硬化させる場合も、加熱温度や加熱時間は適宜調節することができる。

【0095】

接着層の厚さ（乾燥厚さ）は、特に制限されないが、０．５～３μｍであることが好ましい。

【0096】

［インク膜形成用刷版の製造方法］
インク膜形成用刷版の製造方法は、特に制限されないが、たとえば、刺激応答性化合物および樹脂を含む表面層形成用溶液を調製した後、支持体上に当該溶液を塗布し乾燥することによって、表面層を設ける方法が挙げられる。

【0097】

表面層形成用溶液に用いられる溶媒としては、特に制限されず、たとえば、ｎ－ペンタン、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族系溶媒；メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒；トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶媒；Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等の極性溶媒などが挙げられる。これら溶媒は、単独でもまたは２種以上を組み合わせても用いることができる。

【0098】

表面層形成用溶液中の樹脂および刺激応答性化合物の合計含有量は、特に制限されないが、３０～６０質量％であることが好ましい。

【0099】

表面層を支持体上に塗布する方法としては、たとえば、回転塗布法；浸漬法；たれ流し法；ロールコーター、ロッドコーター、カーテンコーター、スライドコーター、ドクターナイフ、スクリーンコーター、スロットコーター、押出しコーター、ブレードコーター、グラビアコーター、インクジェットコーター等の液体フィルムコーティング装置を使用する方法；等が挙げられる。

【0100】

塗布液を塗布した後、必要に応じて風乾し、次いで、真空乾燥機等を用いて乾燥することにより、インク膜形成用刷版を得ることができる。真空乾燥機を用いる場合の乾燥温度は、特に制限されないが、２５～４０℃が好ましい。また、乾燥時間も特に制限されないが、１～４時間が好ましい。

【0101】

支持体と表面層との間に接着層を有する刷版を製造する場合は、上記［接着層］の項で説明した方法により支持体上に接着層を設けた後、該接着層上に表面層を形成すればよい。

【0102】

［製版装置］
図１は、本発明の一実施形態に係る製版装置Ａ－１を示す概略図である。製版装置Ａ－１は、インク膜形成用刷版１２に繰り返し書き込み可能なパターンを形成するための製版装置である。図１に示すような構成を有する製版装置Ａ－１は、第１刺激付与部１、第２刺激付与部２、およびクリーニング部３を有し、搬送ベルト１１上を刷版１２が矢印の方向に、クリーニング部３、第２刺激付与部２、第１刺激付与部１の順で通過するものである。

【0103】

（第１刺激付与部）
本発明の一実施形態に係る製版装置においては、刷版１２の表面層に対して、第１刺激付与部１から発せられる第１刺激（図１の実線の矢印）が付与される。第１刺激は、刷版１２の表面の物性を第１物性から第２物性へ変化させる。第１刺激付与部１は、第１刺激によって刷版１２の表面の物性を変えることで、画線部および非画線部からなる刷版１２のパターンを描く。刷版１２のパターンは、たとえば、印刷する画像データに基づいて描かれる。例えば、親水性部位および疎水性部位からなるパターンが形成される。

【0104】

刷版１２の表面層が光応答性化合物を含む場合、書き込み手段である第１刺激付与部１は、発光ダイオード（ＬＥＤ）、単色レーザー光源等の公知の光源でありうる。また、刷版１２の表面層が温度応答性化合物を含む場合、書き込み手段である第１刺激付与部１は、赤外線ランプ、単色レーザー光源等でありうる。これらは、単独でもまたは２つ以上を組み合わせて設置してもよい。

【0105】

インク膜形成用刷版１２に対して、第１刺激付与部１から部分的に外部刺激を付与することにより、刷版１２の表面層に第１物性の部位および第２物性の部位からなるパターンが形成される。なお、本明細書において、「部分的に外部刺激を付与する」とは、書き込む画像パターンの画像部または非画像部のいずれかに外部刺激を付与することをいう。

【0106】

上述したように、刺激応答性化合物は、光応答性化合物または温度応答性化合物が好ましい。したがって、第１刺激付与部１により付与される外部刺激は、光または温度変化であることが好ましい。

【0107】

刷版１２の表面層が光応答性化合物を含む場合、外部刺激は光である。その際、書き込み手段（好ましくは単色レーザー光源）から照射される光の波長領域は特に制限されない。例えば、上記化学式（１）の化合物を用いた場合、２００～４００ｎｍの光を照射することで、トランス体からシス体への光異性化が生じ、表面の物性が疎水性から親水性へと変化する。この場合、非画像部に光照射すると、非画像部が親水性になる。そして、画像部である光照射されていない部分は疎水性になり、疎水性インクを用いて印刷を行うことができる。上記光の波長は、２８０～４００ｎｍであることがより好ましい。このような波長領域であれば、より細かい領域に光を照射でき、小さい文字や細かい画像をより鮮明に再現することができる。また、表面層が受けるエネルギーが大きすぎないため、表面層が劣化しにくく、繰り返しの書き換え操作にも耐えうるものとなる。

【0108】

また、例えば、上記化学式（１）の化合物を用いた場合、可視光（好ましくは波長４００～６００ｎｍの領域の可視光）を照射することで、シス体からトランス体への光異性化が生じ、表面の物性が親水性から疎水性へと変化する。この場合、画像部に光照射すると、画像部が疎水性になり、疎水性インクを用いて印刷を行うことができる。刷版が未使用のものである場合、あらかじめ刷版１２の表面全体に対して、例えば後述する第２刺激部による第２刺激を付与して表面の物性を親水性にしておくことが好ましい。

【0109】

第１刺激による照射光量は、たとえば１～３０Ｊ／ｃｍ^２の範囲であることが好ましい。この範囲内であれば、小さい文字や細かい画像を鮮明に書き込むことができ、表面層にも負荷をかけ過ぎずに書き込みを行うことができる。

【0110】

刷版１２の表面層が温度応答性化合物を含む場合、外部刺激は温度変化である。上述した温度応答性化合物は、臨界溶解温度を有するため、この臨界溶解温度を通過させるように、表面層に温度変化を付与し、刷版１の表面層に親水性部位および疎水性部位からなるパターンを形成させる。この際、用いられる書き込み手段である第１刺激付与部１は、波長７００～９００ｎｍの光を発する単色レーザー光源であることが好ましい。この書き込み手段により部分的な加熱が行われ、パターンが形成される。

【0111】

第１刺激付与部１として各種の光源を用いる場合、外部刺激が付与された刺激応答性化合物のみ水との親和性が変化するように、光源からの光を微細な点（ピンスポット）または微細な線として刷版１２の表面に照射することが好ましい。ピンスポットは、たとえば、光源からの光を光ファイバーで導光して照射する照射方式、複数の光源を刷版１２の進行方向に配置し、レンズにより縮小して刷版１２の進行方向に照射するレンズ縮小方式など様々な方法で形成することができる。また、微細な線は、たとえば、レーザー光の走査によって形成することもできる。さらに、必要な光量を供給できるものであれば、画像パターンの投影等による照射方式を採用することも可能である。刷版１２の表面上での光の点の大きさや線の太さは、一般的なオフセット印刷で画線部を構成する点（ドット）の大きさと同様にすることが好ましい。画像パターンは、刷版１２を移動させつつ、光照射することで刷版１２の全体に形成される。

【0112】

書き込み手段である第１刺激付与部１は、少なくとも画像パターンを変化させて異なる印刷物を印刷する際に再度作動させることができればよく、同じ印刷物を複数枚印刷する場合には、再度の使用をしなくてもよい。すなわち、一度の書き込みにより、表面層に形成された画像パターンがそのまま維持される。そのため、画像パターンが書き込まれた刷版を、例えば印刷装置に設置し、印刷装置の転写手段により連続してインク膜を転写することにより、再書き込みを伴わずに複数枚の印刷を行うことができる。

【0113】

したがって、例えば、新しい刷版に最初に書き込みを行う場合は、印刷装置Ａ－１において、クリーニング部３によるクリーニングおよび第２刺激付与部２による第２刺激の付与は行わずに、第１刺激付与部１による第１刺激の付与のみを行い、印刷用刷版を作製しることができる。そして、これを上記のように印刷装置に設置し、印刷を行うことができる。

【0114】

（第２刺激付与部）
第２刺激付与部２は、刷版１２の表面に、刷版１２の表面の物性を第２物性から第１物性へ変化させる第２刺激（図１の点線の矢印）を与える。この際、刷版１２は、上記の第１刺激付与部１により表面にパターンが形成されている刷版でありうる。第２刺激付与部２は、第２刺激によって、第２物性であった部分を、第１物性に変化させる。第２刺激付与部は、第２刺激によって刷版１２の表面の物性を変えることで、刷版１２の表面から、画線部および非画線部からなるパターンを消去する。

【0115】

刷版１２の表面層が光応答性化合物を含む場合、消去手段である第２刺激付与部２は、発光ダイオード（ＬＥＤ）、単色レーザー光源等の公知の光源でありうる。光源からの光は、例えば、レンズなどで刷版１２の進行方向に拡散光または線状の光として刷版１２の表面に照射される。第２刺激となる光は、刷版１２の進行方向に均一であることが好ましいが、第２刺激として刷版１２の表面からパターンを消去できる強度があれば、多少のばらつきがあってよい。また、第２刺激となる光は、レーザー光を刷版１２の進行方向に走査することによって照射してもよい。

【0116】

第２刺激付与部２から照射される第２刺激としての光の波長領域は特に制限されない。例えば、上記化学式（１）の化合物を用いた場合、水との親和性の変化速度の観点から、第１刺激付与部１からの第１刺激としての光の波長が２００～４００ｎｍであった場合、第２刺激付与部２からの第２刺激としての光の波長は４００～６００ｎｍであることが好ましい。同様に、第１刺激付与部１からの第１刺激としての光の波長が４００～６００ｎｍであった場合、第２刺激付与部２からの第２刺激としての光の波長は２００～４００ｎｍであることが好ましく、２８０～４００ｎｍであることがより好ましい。

【0117】

第２刺激による照射光量は、たとえば１～３０Ｊ／ｃｍ^２の範囲であることが好ましい。この範囲内であれば、画像パターンを容易に消去することができ、表面層にも負荷をかけ過ぎずに消去を行うことができる。

【0118】

刷版１２の表面層が温度応答性化合物を含む場合、第２刺激付与部２としては、たとえば、５～２０℃の冷風を発生することができる冷風発生装置、５～２０℃の恒温槽等が挙げられる。

【0119】

このような消去手段としての第２刺激付与部２によりパターンが消去され、刷版１２の表面層は外部刺激を付与する前と同様の性状を有するようになる。その後、上記の書き込み工程を再び行うことで、表面層に新たなパターンを形成することができる。すなわち、本発明の製版装置によれば、デジタルでのパターンの書き換えが容易になる。

【0120】

（クリーニング部）
本実施形態の製版装置は、印刷後の刷版１２の表面に残存しているインクを除去するクリーニング部３を有する。好ましくは、クリーニング部３は、第２刺激付与部２による刷版１２のパターン消去の前に、刷版１２の表面に付着しているインクを除去する。

【0121】

クリーニング部３は、印刷に使用した刷版上に残存するインクを除去することができるものであれば特に制限されない。例えば、エアーナイフやエアーでインクを吸引する手段などを用いることができるが、本実施形態の製版装置においては、刷版１２に当接する当接部材を備え、上記当接部材によって刷版を押圧することにより上記刷版上に残存しているインクを当該当接部材に付着させてインクを除去するものであることが好ましい。このようにすることで、インクをより効果的に除去することができる。なお、上記当接部材は、刷版１２の表面に当接、離間可能となっていることが好ましい。例えば、新しい刷版に１回目に書き込む場合などは、前記当接部材を刷版の表面から離間させることが好ましい。

【0122】

前記当接部材としては、クリーニングローラ、クリーニングベルト、クリーニングブレード等を用いることができるが、図１に示す製版装置Ａ－１のように、クリーニングローラ６を用いるとインクをむらなく回収できるため好ましい。クリーニングローラ６は、高表面付着力を有する材料を含む部材を表面に有すると、インクを効率的に付着できる点でより好ましい。高表面付着力を有する材料としては、ポリイミド樹脂、ナイロン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂が好ましく、ポリイミド樹脂、ナイロン樹脂が特に好ましい。

【0123】

前記当接部材として、図２に示す刷版装置Ａ－３のように、クリーニングブレード７を用いる場合、クリーニングブレード７は、刷版１２の表面に当接しているとき、ブレードの先端が、刷版１２の進行方向に対して逆向き（カウンター方向）となるように配置されていることが好ましい。

【0124】

クリーニングブレード７は、たとえば、ポリウレタン、シリコーンゴムなどの弾性材からなるスクイーズブレードを使用できる。これらのスクイーズブレードは、刷版１２の表面に当接してインクを搾り取って（こそぎ取って）除去する。

【0125】

図３に示す製版装置Ｂ－１のように、前記当接部材としてクリーニングローラ６を用いる場合、クリーニング部３は、クリーニングローラ６に付着したインクを回収するインク回収部４をさらに有することが好ましい。これにより、刷版１２上に付着したインクをより確実に除去することができる。インク回収部４は、クリーニングローラ６の表面に当接するように、例えば金属製や樹脂製の支持部材（図示せず）に、インクの吸収性の高い部材（インク吸収性部材）８が取り付けられて、クリーニングローラ６の表面からインクを吸収し、またはぬぐい取って除去するものであることが好ましい。上記インクの吸収性の高い部材８としては、織布、不織布、またはスポンジが好ましく用いられうる。当該構成により、クリーニングローラ６に付着したインクを、インクの吸収性が高い部材８により吸い取ることができ、刷版１２上に付着したインクをより確実に除去することができる。

【0126】

また、図４に示す製版装置Ｂ－３のように、インク回収部４は、クリーニングローラ６に当接した押圧ローラ９と、クリーニングローラ６と押圧ローラ９との間に通紙したクリーニング紙１０と、を含み、クリーニングローラ６に付着したインクをクリーニング紙１０に転写することにより回収するものであってもよい。当該構成により、クリーニングローラ６に付着したインクを、クリーニング紙１０により除去することができ、刷版１２上に付着したインクをより確実に除去することができる。

【0127】

図５に示す製版装置Ｃのように、クリーニング部３は、インク除去の前およびインク除去と同時の少なくとも一方の段階において、前記刷版の表面および残存するインクの少なくとも一方に外部刺激（第３刺激）を与える第３刺激付与部５をさらに有することが好ましい。

【0128】

第３刺激付与部５から付与される第３刺激は、刷版１２の表面または残存するインクの状態を変えるものであることが好ましい。具体的には、刷版１２の表面の物性またはインクの物性を、表面とインクの親和性が低くなるように変化させるものであることが好ましい。例えば、第３刺激付与部５をクリーニングローラ６の下流に設置し、刷版１２の表面において、第３刺激をクリーニングローラが刷版１２と当接する位置またはその下流側に付与することにより、クリーニングローラ６に到達する前または同時に、刷版１２の表面または残存するインクの状態を変えることができ、これによりインクの除去を補助することができる。

【0129】

第３刺激付与部５としては、ＵＶ光源や、熱源を設置することができる。これにより、残存するインクを硬化する、乾燥するなどの方法により、残存するインクの状態を変えることができる。

【0130】

また、第３刺激付与部５として、ＬＥＤ光源等の光源、熱源、電気刺激を付与する手段などを用いることができ、これによりインクの付着性を下げるように表面形状を変える、親水性・疎水性などの表面の物性を変えるなどの方法により、刷版１２の表面の状態を変えることができる。

【0131】

特に、効果的に残存インクの除去を補助できることから、第３刺激付与部により付与される外部刺激が、上記第１刺激または第２刺激と同種の刺激であることが好ましい。ここで、同種の刺激とは、例えば、第１刺激または第２刺激が光であれば、第３刺激も光であり、第１刺激または第２刺激が熱（温度変化）であれば第３刺激も熱であることをいい、かつ、第１刺激または第２刺激のいずれかと同様に刷版の表面の物性の変化（第１物性から第２物性に、または第２物性から第１物性に）をもたらしうる波長の光、または温度変化であることをいう。例えば、第１刺激または第２刺激が光である場合、第３刺激は、上記のいずれかの光の中心波長±５０ｎｍ程度の中心波長を有する光であることが好ましい。ただし、光源からの光は、例えば拡散光または線状の光として刷版１２の表面の全体に照射されることが好ましく、照射光量については、たとえば０．１～３０Ｊ／ｃｍ^２の範囲であることが好ましい。例えば、第１刺激または第２刺激が熱である場合、第３刺激は、上記のいずれかの加熱温度±１５℃程度の加熱であることが好ましい。好ましくは、第３刺激は、第１刺激または第２刺激のいずれか一方と同一の光源を用いた光または同一の波長の光である。また、好ましくは、第３刺激は、第１刺激または第２刺激のいずれか一方と同一の温度変化である。

【0132】

（刷版の書き換え）
刷版１２が新品の場合は、刷版１２の表面に、インクが供給されていない。したがって、刷版１２が新品の場合は、刷版を移動させつつ、刷版１２の表面に、第１刺激付与部１から第１刺激を与えて、所望するパターンを書き込む。これにより、刷版１２にパターンが形成される。

【0133】

刷版１２の書き換えの場合は、印刷後の刷版１２を、図１に示すように、搬送ベルト１１などの公知の搬送手段を用いて、製版装置Ａ－１のクリーニング部３、第２刺激付与部２、第１刺激付与部１の順に通過させて、クリーニング部３による印刷後の刷版に残存するインクの除去、第２刺激付与部２によるパターンの消去、および第１刺激付与部１によるパターンの再書き込みをこの順で行うことができる。

【0134】

または、印刷後の刷版１２を、図６に示すように、製版装置Ｄの第２刺激付与部２、クリーニング部３、第１刺激付与部１の順に通過させて、第２刺激付与部２によるパターンの消去、クリーニング部３による刷版に残存するインクの除去、および第１刺激付与部１によるパターンの再書き込みをこの順で行うことができる。

【0135】

しかしながら、本実施形態の製版装置は、刷版１２がクリーニング部３、第２刺激付与部２、第１刺激付与部１の順に通過することが好ましい。このようにすることで、印刷後の刷版に残存するインクが低減された状態で第２刺激および第１刺激の両方を与えることができる。そのため、第２刺激による表面の状態の変化および第１刺激による表面の状態の変化の両方を確実に行うことができる。その結果、前画像のかぶりをより低減することができる。

【0136】

［製版方法］
本発明はまた、インク膜形成用刷版に繰り返し書き込み可能なパターンを形成するための製版方法を提供する。すなわち、本発明の一実施形態は、外部刺激に応答して可逆的に物性が変化する刺激応答性化合物を含む表面層を有するインク膜形成用刷版の表面に、画像データに基づいて前記表面の物性を第１物性から第２物性へ変化させる第１刺激を与えてパターンを形成させる第１刺激付与工程と、前記パターンが形成された刷版の画像部または非画像部のいずれかにインク膜を形成する工程と、前記インク膜が形成された刷版を用いて印刷を行う工程と、印刷後の刷版の表面に、前記表面の物性を前記第２物性から前記第１物性へ変化させる第２刺激を与えて前記パターンを消去する第２刺激付与工程と、前記パターンが消去された前記刷版の表面に前記第１刺激を与えて新たな画像パターンを形成する工程と、前記印刷を行う工程の後であって前記第２刺激付与工程の前、または前記第２刺激付与工程の後であって前記新たな画像パターンを形成する工程の前に、印刷後の刷版の表面に残存しているインクを除去するクリーニング工程と、を有する、製版方法である。

【0137】

上記の第１刺激付与工程、第２刺激付与工程、クリーニング工程の具体的な形態は上記で説明した通りであるため、説明を省略する。なお、新たな画像パターンを形成する工程は、印刷後、パターンを消去した刷版に対して、新たな画像データに基づいて第１刺激を付与することを除いては第１刺激付与工程と同様の工程である。

【0138】

前記パターンが形成された刷版の画像部または非画像部のいずれかにインク膜を形成し、インク膜が形成された刷版を用いて印刷を行う工程については、一般的なオフセット印刷機による印刷方法のような、従来公知の手段が適宜採用されうる。

【0139】

インク膜を形成する工程では、第１刺激付与工程で形成したパターンに対し、インクを塗布して、インク膜を形成する。インクを塗布する手段も特に制限されない。なお、本明細書において、「インク膜を形成する」とは、インクが被印刷体に転写可能な状態でパターンの所定位置（例えば親水性部位または疎水性部位）に保持されることをいう。

【0140】

インクとしては、被印刷体に転写可能なものであれば特に制限されず、水性インク、油性インク、エマルションインク等の公知のインクを使用することができる。水性インクを用いた場合は、パターンの親水性部位にインク膜が形成される。油性インクやエマルションインクを用いた場合は、パターンの疎水性部位にインク膜が形成される。

【0141】

そして、少なくとも１枚の印刷を実行するごとに、上述の第２刺激付与工程、新たな画像パターンを形成する工程、クリーニング工程、インク膜を形成する工程、および印刷を行う工程を繰り返し行うことで、繰り返し刷版を書き換えて印刷を行うことができる。

【0142】

［印刷装置］
本実施形態による製版装置を用いてパターンを形成した刷版を印刷装置に装着して印刷を行なうことができる。図７に、上記刷版を用いて印刷を行うための印刷装置の要部を示す斜視図を示す。

【0143】

図７に示す印刷装置は、オフセット印刷装置である。図７に示すように、印刷装置１００は、版胴１０１、ブランケット１０３、圧胴１０４、インクローラ１０５、および湿し水ローラ１０６を有する。

【0144】

版胴１０１の表面には、本発明の製版装置を用いて作製された、表面に画線部および非画線部よりなるパターンが形成されている刷版１０２が装着されている。なお、以下では、版胴１０１と刷版１０２は一体のものとして説明する。したがって、版胴１０１の表面は、すなわち刷版１０２の表面ということになる。

【0145】

例えば、画線部は疎水性インクが載る疎水性（親油性）の部分とし、非画線部は水が載る親水性の部分とすることができる。上述したように、刷版１０２の表面は、画線部および非画線部によって形成されるパターンの書き換えが可能である。

【0146】

ブランケット１０３は、版胴１０１に付着したインクが転写され、ブランケット１０３に付着したインクがさらに用紙２００へ転写される。圧胴１０４は、ブランケット１０３との間を搬送される用紙２００をブランケット１０３の方向へ加圧する。インクローラ１０５は、インク壺など（不図示）から供給されるインクを版胴１０１へ供給する。湿し水ローラ１０６は、版胴１０１を湿らせる水を版胴１０１へ供給する。版胴１０１、ブランケット１０３、圧胴１０４、インクローラ１０５、および湿し水ローラ１０６は、用紙２００の搬送に同期して回転する（図示矢印方向）。なお、用紙２００の搬送方向は、図示矢印ＳＦで示した。刷版部分を除いて、版胴１０１、ブランケット１０３、圧胴１０４、インクローラ１０５、湿し水ローラ１０６の構成、および印刷動作は、一般的なオフセット印刷装置と同様である。

【0147】

すなわち、本発明の一実施形態は、本発明の製版装置を用いてパターンが形成されたインク用形成用刷版が表面に装着された版胴と、前記刷版の表面に接するブランケットと、前記ブランケットとの間で被印刷媒体を挟んで、当該被印刷媒体を前記ブランケットの方向へ加圧する圧胴と、前記刷版にインクを供給するインクローラと、を有する印刷装置である。

【0148】

また、本発明の一実施形態は、表面に刷版を装着することができる版胴と、前記刷版の表面に接するブランケットと、前記ブランケットとの間で被印刷媒体を挟んで、当該被印刷媒体を前記ブランケットの方向へ加圧する圧胴と、前記刷版にインクを供給するインクローラと、を有する印刷装置を用いた印刷方法であって、本発明の製版装置を用いてパターンが形成されたインク用形成用刷版を前記版胴の表面に装着することを含む、印刷方法である。外部装置としての製版装置を用いて刷版の書き換えを行うことにより、図７に示す印刷装置の要部において書き込み手段や消去手段を設置して書き換えを行う場合と比較して、作業性が向上しうる。また、刷版の書き換えに伴う印刷のタイムロスを少なくすることができる。

【実施例】

【0149】

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量％」を表す。

【0150】

＜上記化学式（６）で表されるアゾベンゼン化合物（アゾベンゼン誘導体（ポリマー２））の合成＞
３－クロロ－４－（ヘキシルオキシ）アニリン（１３．６６ｇ、６０ｍｍｏｌ）に２．４Ｎ塩酸７５ｍＬを加えた後、０℃で冷却攪拌しながら、亜硝酸ナトリウム（４．９８ｇ、７２ｍｍｏｌ）を蒸留水６ｍＬに溶解した溶液を加え、０℃で６０分間攪拌を続けた。この溶液に、２－クロロフェノール（７．７１ｇ、６０ｍｍｏｌ）と２０％水酸化ナトリウム水溶液２４ｍＬとの混合溶液を加え、２０時間攪拌した。析出した沈殿を濾過し、固形物を水で洗浄した。得られた固体を、酢酸エチルとヘキサンとの混合液を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間体Ｃ（構造は前記反応式Ｃを参照）を得た。この中間体Ｃ（７．３５ｇ、２０ｍｍｏｌ）にＤＭＦ１００ｍＬ、３－ブロモ－１－ヘキサノール（１０．９ｇ、６０ｍｍｏｌ）、および炭酸カリウム（６．９１ｇ、５０ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２時間攪拌した後、室温（２５℃）で２０時間攪拌を続けた。溶媒を減圧留去後、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過した後、溶媒を減圧留去し、得られた固形物を酢酸エチルとヘキサンとの混合液を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間体Ｄ（構造は前記反応式Ｃを参照）を得た。この中間体Ｄ（４．６７ｇ、１０ｍｍｏｌ）に、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加え、中間体Ｄのテトラヒドロフラン溶液を調製した。別途、アクリロイルクロリド（１．０９ｇ、１２ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（２．４３ｇ、２４ｍｍｏｌ）とを加えたところに、中間体Ｄのテトラヒドロフラン溶液を０℃で滴下し、引き続き、０℃で３０分攪拌した後、室温（２５℃）まで昇温させ、さらに室温（２５℃）で２時間攪拌した。得られた反応液を水、飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を減圧留去し、メタノールで再結晶することにより、中間体Ｅを得た。この中間体Ｅ（２．６１ｇ、５ｍｍｏｌ）に２０％水酸化ナトリウム水溶液１２ｍＬを加え、３４０℃、１５０ａｔｍで２時間攪拌した後、１．２Ｎ塩酸 １０ｍＬを加え、室温（２５℃）で１時間攪拌した。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。これを濾過した後、溶媒を減圧留去し、得られた固形物を酢酸エチルとヘキサンとの混合液を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、中間体Ｆを得た。この中間体Ｆ（１．４５ｇ、３ｍｍｏｌ）に、テトラヒドロフラン５ｍＬを加え、さらに、重合開始剤として２，２－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を中間体Ｆに対して５質量％加え、７０℃で２０時間攪拌した。その後、エタノールを用いて再沈殿させることにより、アゾベンゼン誘導体（ポリマー２）（上記化学式（６）参照）を得た。得られたポリマー２は、上記化学式（６）中の繰り返し単位であるｘが１００程度であった。

【0151】

（インク膜形成用刷版（Ｍ－１）の作製）
ジクロロメタン １２００質量部、トルエン １２００質量部、光応答性化合物である上記で合成したアゾベンゼン誘導体（ポリマー２）９５０質量部、および熱可塑性樹脂であるスチレンアクリル樹脂（星光ＰＭＣ株式会社製、ＵＳ－１０７１）９５０質量部を５０℃で１時間攪拌混合し、溶液を得た。この溶液を、ペイントシェーカーを用いて室温（２５℃）で３０分間よく分散させた後、支持体である電解研磨された平板状のアルミニウム基板（縦３６０ｍｍ×横１８０ｍｍ）に、ブレードコーターを用いて乾燥後の厚さが６μｍになるように塗布した。塗布後３０分間風乾し、次いで、真空乾燥機を用いて３０℃で２時間乾燥し、インク膜形成用刷版（Ｍ－１）を得た。

【0152】

作製したインク膜形成用刷版（Ｍ－１）の表面の全面に水ローラを用いて水を塗布したところ、水をはじいたことから、疎水性表面であることを確認した。

【0153】

＜製版装置＞
（製版装置Ａ－１）
図１に示すような構成を有する製版装置Ａ－１は、第１刺激付与部１、第２刺激付与部２、クリーニング部３を有し、搬送ベルト１１上を刷版１２がクリーニング部３、第２刺激付与部２、第１刺激付与部１の順で通過するものである。第１刺激付与部１に波長４６５ｎｍの単色レーザー光源、第２刺激付与部２に波長３６５ｎｍの単色レーザー光源、クリーニング部３には表層がポリイミド（ＰＩ）樹脂からなるクリーニングローラ６を設置した。

【0154】

（製版装置Ａ－２）
製版装置Ａ－２において、クリーニング部３に表層がナイロン樹脂からなるクリーニングローラ６を設置した。それ以外は、製版装置Ａ－１と同様の構成とした（図示せず）。

【0155】

（製版装置Ａ－３）
図２に示すように、製版装置Ａ－３において、クリーニング部３にポリウレタン樹脂からなるクリーニングブレード７を設置した。それ以外は、製版装置Ａ－１と同様の構成とした。

【0156】

（製版装置Ｂ－１）
図３に示すような構成を有する製版装置Ｂ－１は、製版装置Ａ－１に追加して、クリーニングローラ６に当接するインク回収部４を設置した。インク回収部４は、不織布からなるウェブ（インク吸収性部材８）でクリーニングローラ６に付着したインクを回収するものである。

【0157】

（製版装置Ｂ－２）
製版装置Ｂ－２において、インク回収部４は、織布からなるウェブ（インク吸収性部材８）でクリーニングローラ６に付着したインクを回収するものである。それ以外は、製版装置Ｂ－１と同様の構成とした（図示せず）。

【0158】

（製版装置Ｂ－３）
図４に示すように、製版装置Ｂ－３において、インク回収部４は、クリーニングローラ６と押圧ローラ９との間にクリーニング紙１０を矢印の向きに通紙してクリーニングローラ６に付着したインクをクリーニング紙１０に回収するものである。それ以外は、製版装置Ｂ－１と同様の構成とした。

【0159】

（製版装置Ｃ）
図５に示すような構成を有する製版装置Ｃは、製版装置Ｂ－１に追加して、クリーニングローラ６と刷版１２の接触部の直前に、第３刺激付与部５を設置したものである。第３刺激付与部５は、第２刺激付与部２と同じく波長３６５ｎｍの単色レーザー光源を設置した。

【0160】

（製版装置Ｄ）
図６に示すような構成を有する製版装置Ｄは、第１刺激付与部１、第２刺激付与部２、ならびにクリーニングローラ６およびクリーニングローラ６に当接するインク回収部４を含むクリーニング部３を有し、搬送ベルト１１上を刷版１２が第２刺激付与部２、クリーニング部３、第１刺激付与部１の順で通過するものである。第１刺激付与部１に波長４６５ｎｍの単色レーザー光源、第２刺激付与部２に波長３６５ｎｍの単色レーザー光源、クリーニング部３は表層がポリイミド樹脂からなるクリーニングローラ６を設置した。インク回収部４は、不織布からなるウェブ（インク吸収性部材８）でクリーニングローラ６に付着したインクを回収するものである。

【0161】

（製版装置Ｅ）
図８に示すような構成を有する製版装置Ｅは、製版装置Ｄに追加して、クリーニングローラ６と刷版１２との接触部の直前に、第３刺激付与部５を設置したものである。第３刺激付与部５は、第２刺激付与部２と同じく波長３６５ｎｍの単色レーザー光源を設置した。

【0162】

（製版装置Ｆ）
図９に示すような構成の製版装置Ｆは、第１刺激付与部１、第２刺激付与部２を有し、搬送ベルト１１上を刷版１２が第２刺激付与部２、第１刺激付与部１の順で通過するものである。

【0163】

（実施例１）
上記で作製したインク膜形成用刷版（Ｍ－１）を製版装置Ａ－１に通し、第２刺激付与部で刷版の表面層全面に波長３６５ｎｍのレーザー光を照射光量３Ｊ／ｃｍ^２で照射した。この際、クリーニングローラは刷版表面から離間させておき、第２刺激付与部における光照射の前にはクリーニングローラによるクリーニングを行わなかった。光照射を行った後の刷版について、別途、刷版の表面層の全面に水ローラを用いて水を塗布したところ、一様に濡れたことから、第２刺激付与部による光照射（照射光量３Ｊ／ｃｍ^２）により刷版（Ｍ－１）の表面層全体が親水性部位となったことを確認した。次いで、第１刺激付与部にて波長４６５ｎｍの単色レーザー光を、図１０に示す出力画像の画像部に対して照射光量３Ｊ／ｃｍ^２で照射した。これにより、光照射部、すなわち画像部が疎水性部位となり、非画像部が親水性部位となるパターンを有するインク膜形成用表面（ｍ１１）を形成した。なお、図１０は、初期印刷における刷版面のパターンを示す図であり、このパターンは、線幅０．１ｍｍの画線部となっている。

【0164】

次いで、このインク膜形成用表面（ｍ１１）を有する刷版をオフセット印刷機の版胴に取り付け、連続１０００枚の印刷を行った。第１刺激付与部による光照射部が画像部として出力されていることを確認した。

【0165】

ここで、オフセット印刷機としては、株式会社小森コーポレーション製ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６を用いた。インクとしては疎水性インクである東洋インキ社製ＴＯＹＯ ＫＩＮＧ ＮＥＸ（登録商標）シリーズを用い、被印刷体としての三菱製紙社製パールコートＮを用いて印刷を行った。

【0166】

引き続き、この刷版をオフセット印刷機から取り外し、製版装置Ａ－１によって刷版に残存しているインクのクリーニング、第２刺激付与部による画像パターンの消去、第１刺激付与部による再書き込みを行った。

【0167】

具体的には、インクのクリーニングは表面がポリイミド樹脂からなるクリーニングローラを用い、第２刺激付与部で刷版の表面層全面に波長３６５ｎｍのレーザー光を照射光量３Ｊ／ｃｍ^２で照射した。次いで、第１刺激付与部にて波長４６５ｎｍの単色レーザー光を、図１１に示す出力画像の画像部に対して照射光量３Ｊ／ｃｍ^２で照射した。図１１は、再書き込みにおける刷版面のパターンを示す図であり、このパターンは、線幅０．１ｍｍの画線部となっている。これにより、光照射部、すなわち、画像部が疎水性部位となり、非画像部が親水性部位となるパターンを有するインク膜形成用表面（ｍ１２）を形成した。なお、上記の第２刺激付与部による刺激の後、別途、第１刺激付与部による刺激を行わずに取り出した刷版の全面に水ローラで水を塗布したところ、一様に濡れたことから、パターンが消去されたことを確認した。

【0168】

次いで、このインク膜形成用表面（ｍ１２）を有する刷版をオフセット印刷機の版胴に取り付け、連続１００枚の印刷を行った。１００枚目の印刷画像（再書き込み後、１００枚目の印刷画像）について後述するかぶり評価を行った。

【0169】

（製版装置の繰り返し使用時の安定性）
さらに、上述した方法で刷版を連続１０枚、製版装置Ａ－１によるクリーニングおよび画像パターンの消去、再書き込みを行った。すなわち、別々の１０枚の版を準備して、1枚目から１０枚目のそれぞれの版について、図１０のパターンの書き込み、印刷、クリーニング、画像パターンの消去、および図１１のパターンの再書き込みの工程を、順次行った。１０枚目の刷版をオフセット印刷機の版胴に取り付け、連続１００枚の印刷を行った。１００枚目の印刷画像（再書き込み後、１００枚目の印刷画像）について後述するかぶり評価を行った。

【0170】

（実施例２）
製版装置Ａ－２を用いて、実施例１と同様の評価を行った。

【0171】

（実施例３）
製版装置Ａ－３を用いて、実施例１と同様の評価を行った。

【0172】

（実施例４）
製版装置Ｂ－１を用いて、後述する点以外は同様の方法で、実施例１と同様の評価を行った。不織布からなるウェブにより、クリーニングローラに付着したインクを回収した。ウェブを通過したクリーニングローラ上ではインクが除去されていることを確認した。

【0173】

（実施例５）
製版装置Ｂ－２を用いて、後述する点以外は同様の方法で、実施例１と同様の評価を行った。織布からなるウェブにより、クリーニングローラに付着したインクを回収した。ウェブを通過したクリーニングローラ上ではインクが除去されていることを確認した。

【0174】

（実施例６）
製版装置Ｂ－３を用いて、後述する点以外は同様の方法で、実施例１と同様の評価を行った。クリーニングローラと対向する押圧ローラとの間に紙（クリーニング紙）を通紙することによりクリーニングローラに付着したインクを回収した。通紙部を通過したクリーニングローラ上ではインクが除去されていることを確認した。

【0175】

（実施例７）
製版装置Ｃを用いて、後述する点以外は同様の方法で、実施例１と同様の評価を行った。不織布からなるウェブにより、クリーニングローラに付着したインクを回収し、クリーニングローラの直前の第３刺激付与部５にて、刷版の表面層全面に波長３６５ｎｍのレーザー光を照射光量１Ｊ／ｃｍ^２で照射した。

【0176】

（実施例８）
製版装置Ｄを用いて、後述する点以外は同様の方法で、実施例１と同様の評価を行った。第２刺激付与部による画像パターンの消去、刷版に残存しているインクのクリーニング、第１刺激付与部による再書き込みをこの順で行った。不織布からなるウェブにより、クリーニングローラに付着したインクを回収した。ウェブを通過したクリーニングローラ上ではインクが除去されていることを確認した。

【0177】

（実施例９）
製版装置Ｅを用いて、後述する点以外は同様の方法で、実施例１と同様の評価を行った。第２刺激付与部による画像パターンの消去、刷版に残存しているインクのクリーニング、第１刺激付与部による再書き込みをこの順で行った。不織布からなるウェブにより、クリーニングローラに付着したインクを回収し、クリーニングローラの直前の第３刺激付与部５にて、刷版の表面層全面に波長３６５ｎｍのレーザー光を照射光量１Ｊ／ｃｍ^２で照射した。

【0178】

（比較例１）
製版装置Ｆを用いて、後述する点以外は同様の方法で、実施例１と同様の評価を行った。製版装置Ｆはクリーニング部がなく、印刷後、オフセット印刷機から取り出した刷版を製版装置Ｆにて再書き込みする際、版上に残存するインクを除去することなく、第２刺激付与部によるパターン消去、第１刺激付与部による再書き込みを行った。

【0179】

［評価方法］
＜かぶり評価＞
印刷後の画像を評価した。評価は、各実施例および比較例でそれぞれ再書き込みしたパターンを用いて印刷し、印刷された画像をデジタルマイクロスコープ「ＶＨＸ－６００」（株式会社キーエンス製）にて拡大した。得られたモニター画像から、インジケーターにより細線、特に、初期画像である図１０のパターンに相当する部分の細線について観察し、下記基準により評価した。前画像とは、初期印刷の画像である。◎、〇、△であれば問題なく使用できる：
◎：前画像のかぶりなし
〇：前画像のかぶりが一部にうすく見える
△：前画像のかぶりが全面にうすく見える
×：前画像のかぶりがくっきり見える。

【0180】

評価結果を下記表１に示す。

【0181】

【表1】

【0182】

上記表１から明らかなように、第１刺激付与部、第２刺激付与部およびクリーニング部を有する製版装置を用いた実施例１～９では、いずれも、再書き込み後の１枚目の刷版の１００枚目の印刷画像に前画像のかぶりが少なかった。これにより、刷版上に残ったインクをクリーニングすることで前のパターンを十分に消去できることがわかった。

【0183】

これに対して、クリーニング部を有さない製版装置を用いた比較例１では、再書き込み後の刷版の印刷画像に前画像のかぶりがくっきりと見えた。これは、版上に残存するインクが外部刺激を邪魔して前画像のパターンを消去できない部分が発生し、新たなパターンを書き込んだ刷版で印刷した際に前画像のパターンが印刷されてしまったためと考えられる。

【0184】

また、本発明の刷版装置を用いた実施例１～９では、いずれも１０枚目の刷版についてもかぶりが少なく、製版装置を繰り返し使用しても安定してパターンの書き込みと消去が可能であることがわかった。

【0185】

実施例１～３の比較から、クリーニング部にクリーニングローラを用いるとかぶりがより低減される。

【0186】

さらに、実施例４～７のように、インク回収部をさらに設けることで特に１０枚目の版でのかぶりが改善された。インク回収部を設けることにより、クリーニング部にインクがたまることによるクリーニング性能低下を抑制でき、繰り返し使用時でもインクの除去を確実に行うことができることから、特に１０枚目の版でのかぶりが改善されたものと考えられる。

【0187】

さらに実施例７のように、第３刺激付与部をさらに設けることで、インクの除去がより確実に行われることから、特に１０枚目の版でのかぶりが改善された。

【符号の説明】

【0188】

１ 第１刺激付与部、
２ 第２刺激付与部、
３ クリーニング部、
４ インク回収部、
５ 第３刺激付与部、
６ クリーニングローラ、
７ クリーニングブレード、
８ インク吸収性部材、
９ 押圧ローラ、
１０ クリーニング紙、
１１ 搬送ベルト、
１２、１０２ インク膜形成用刷版、
１００ 印刷装置、
１０１ 版胴、
１０２ 刷版、
１０３ ブランケット、
１０４ 圧胴、
１０５ インクローラ、
１０６ 湿し水ローラ（水ローラ）、
２００ 用紙、
Ａ－１、Ａ－３、Ｂ－１、Ｂ－３、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ 製版装置。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】