特許 7619791 連続式粉体処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-01-14

(45)【発行日】2025-01-22

(54)【発明の名称】連続式粉体処理装置

(51)【国際特許分類】

   B01F 23/60 20220101AFI20250115BHJP

   B01F 29/64 20220101ALI20250115BHJP

   B01F 33/83 20220101ALI20250115BHJP

   B02C 13/02 20060101ALI20250115BHJP

【ＦＩ】

B01F23/60

B01F29/64

B01F33/83

B02C13/02 Z

【請求項の数】 7

(21)【出願番号】P 2020202190

(22)【出願日】2020-12-04

(65)【公開番号】P2022089640

(43)【公開日】2022-06-16

【審査請求日】2023-11-15

(73)【特許権者】

【識別番号】503245465

【氏名又は名称】株式会社アーステクニカ

(74)【代理人】

【識別番号】110000556

【氏名又は名称】弁理士法人有古特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】上野 明紀

【審査官】石岡 隆

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１４－０９４３６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５１－１００４７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－１６７７８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－０４７９４１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－２５３６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０１Ｆ２１／００－２５／９０

Ｂ０１Ｆ２９／００－３３／８７

Ｂ０１Ｆ３５／００－３５／９５

Ａ２３Ｌ５／００－５／４９

Ｂ０２Ｃ１３／００－１３／３１

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

粉体の混合及び解砕を行う連続式粉体処理装置であって、
横向きに延びる筒状の回転容器と、
前記回転容器内に配置され、中心軸が前記回転容器の中心軸よりも下方に位置する回転シャフトと、
前記回転シャフトに取り付けられ、前記回転容器の入口側開口から出口側開口に向かって前記粉体を混合及び解砕しながら送り出す複数の羽根と、
前記回転容器内の上方部分に形成される隙間空間に配置された回転しない少なくとも１つの仕切板と、を備え、
前記仕切板は、前記回転容器の軸方向から見て、上縁が前記回転容器の内周面の近傍で当該内周面に沿って延びており、下縁が前記羽根の先端の回転軌道の近傍で当該回転軌道に沿って延びている、連続式粉体処理装置。

【請求項2】

前記仕切板の下縁は、前記回転容器の軸方向から見て前記羽根の先端よりも半径方向外方に位置している、請求項１に記載の連続式粉体処理装置。

【請求項3】

前記少なくとも１つの仕切板のうち前記入口側開口に最も近い第１仕切板は、前記回転容器の軸方向中心よりも前記入口側開口に近い領域内であって、当該領域の軸方向中心よりも前記出口側開口寄りに配置されている、請求項１又は２に記載の連続式粉体処理装置。

【請求項4】

前記回転シャフトに取り付けられた円盤をさらに備えている、請求項１～３の何れか一項に記載の連続式粉体処理装置。

【請求項5】

前記円盤の外径と前記羽根の先端の回転軌道の外径は略一致する、請求項４に記載の連続式粉体処理装置。

【請求項6】

前記円盤と前記仕切板は軸方向に離間している、請求項４又は５に記載の連続式粉体処理装置。

【請求項7】

前記隙間空間内で前記回転容器の軸方向に延び、前記仕切板を支持する支持部材と、
前記支持部材に設けられ前記回転容器の内周面に付着した粉体を掻き取るスクレーパと、をさらに備える、請求項１～６の何れか一項に記載の連続式粉体処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本願は、連続式粉体処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来から、例えば医薬品、化学薬品、食品などの分野では、複数の粉体を湿潤させるとともに混合及び解砕して顆粒を製造することが行われている。粉体はそのままではハンドリングが困難であるため、顆粒とすることでハンドリング性を向上させることができる。

【0003】

例えば、特許文献１には、粉体を混合及び解砕する連続式粉体処理装置（特許文献１では、「連続式撹拌処理装置」と称呼）が開示されている。この連続式粉体処理装置は、横方向に延びる筒状の処理容器と、処理容器内に配置された、複数の羽根が取り付けられた回転シャフトとを備えている。処理容器内では、複数の羽根によって粉体を軸方向に搬送しながら、粉体の混合及び解砕が連続的に行われる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２０１６－７５７１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記の連続式粉体処理装置では、効率的な粉体の混合及び解砕が望まれる。そこで、本願は、粉体の混合及び解砕を効率よく行うことができる連続式粉体処理装置を提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本願の一態様に係る連続式粉体処理装置は、粉体の混合及び解砕を行う連続式粉体処理装置であって、横向きに延びる筒状の回転容器と、前記回転容器内に配置され、中心軸が前記回転容器の中心軸よりも下方に位置する回転シャフトと、前記回転シャフトに取り付けられ、前記回転容器の入口側開口から出口側開口に向かって前記粉体を混合及び解砕しながら送り出す複数の羽根と、前記回転容器内の上方部分に形成される隙間空間に配置された回転しない少なくとも１つの仕切板と、を備える。

【0007】

上記の構成では、回転シャフトの中心軸が回転容器の中心軸よりも下方に位置しているため、回転容器内の上方部分に羽根が届かない隙間空間が形成される。そのため、回転容器の回転に伴って持ち上がった粉体は隙間空間で回転容器の内周面から剥離して落下する。落下した粉体は羽根に衝突することで混合及び解砕が促進される。また、隙間空間に仕切板を設けることで、粉体が隙間空間を通過することによる羽根の迂回を抑制することができる。したがって、上記の構成によれば、粉体の混合及び解砕を効率よく行うことができる。なお、上記の粉体には湿潤した粉体及び乾燥した粉体の両方が含まれる。

【発明の効果】

【0008】

上記の構成によれば、粉体の混合及び解砕を効率よく行うことができる連続式粉体処理装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】連続式粉体処理装置の縦断面図である。

【図2】連続式粉体処理装置の横断面図である。

【図3】図１の回転容器周辺を拡大した図である。

【図4】（ａ）は羽根の正面図、（ｂ）は円盤の正面図、（ｃ）はスペーサの正面図である。

【図5】図３のV－V線に沿った正面断面図である。

【図6】変形例に係る連続式粉体処理装置の回転容器周辺を拡大した図である。

【図7】図６のVII－VII線に沿った正面断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

＜基本構成＞
以下、実施形態に係る連続式粉体処理装置１００について説明する。はじめに、連続式粉体処理装置１００の基本構成について説明する。図１は連続式粉体処理装置１００の縦断面図であり、図２は連続式粉体処理装置１００の横断面図である。連続式粉体処理装置１００は、湿潤粉体（処理液が添加された粉体）から顆粒を製造する装置であって、例えば湿潤前に平均粒径が３０～７０μｍであった粉体を、平均粒径が８０～２５０μｍの顆粒に形成する。ただし、連続式粉体処理装置１００は、複数の粉体を湿潤させずに混合及び解砕して混合粉体を得る混合装置として使用することもできる。

【0011】

本実施形態では、上向きに開口するホッパー１０に湿潤粉体が投入される。ホッパー１０に投入された湿潤粉体は、供給管１１内で回転するスクリュー１３によって送り出されて回転容器１４に供給される。なお、スクリュー１３は回転シャフト１２に取り付けられており、回転シャフト１２は電動機１５によって回転駆動される。

【0012】

回転容器１４は横向きに延びる筒状の形状を有しており、湿潤粉体は一方の開口である入口側開口２１から回転容器１４内に供給される。回転容器１４に供給された湿潤粉体は、他方の開口である出口側開口２２に向かって送り出される。図２に示すように、回転容器１４は、ベアリング２３、２４を介してフレーム２５に回転可能に支持されるとともに、ベベルギア２７を介して電動機２６によって回転駆動される。

【0013】

なお、フレーム２５には、ベアリング２３及びその内側を覆う第１閉塞部材３１が取り付けられており、ベアリング２４及びその内側を覆う第２閉塞部材３２が取り付けられている。さらに、フレーム２５には、ベアリング２３、２４よりも半径方向外側から回転容器１４を覆うカバー３３が取り付けられている。

【0014】

回転容器１４内には複数の羽根４１が配置されている。羽根４１は回転シャフト１２に取り付けられている。前述のとおり、回転シャフト１２は電動機１５によって回転駆動される。回転シャフト１２が回転すると、羽根４１は湿潤粉体を混合及び解砕しながら出口側開口２２に向かって送り出す。これにより、回転容器１４内で顆粒が連続的に製造される。製造された顆粒は、回転容器１４の出口側開口２２からシュート４２を介して外部に排出される。なお、本実施形態のスクリュー１３及び羽根４１は、同じ回転シャフト１２に取り付けられているが、互いに異なる回転シャフトに取り付けられていてもよい。

【0015】

また、本実施形態では、回転容器１４の中心軸５２（図３参照）が水平方向に延びている。ただし、回転容器１４の中心軸５２は、入口側開口２１から出口側開口２２へ向かって下向きに傾斜してもよく、上向きに傾斜してもよい。このように回転容器１４の中心軸５２を傾斜させることで、回転容器１４内での湿潤粉体の滞留時間を調整することができる。回転容器１４内における湿潤粉体の滞留時間が長ければ、湿潤粉体の混合及び解砕を十分に行うことができる。

【0016】

さらに、本実施形態では、回転シャフト１２の回転方向が回転容器１４の回転方向と同じであり（いずれも図４では紙面反時計回り）、回転シャフト１２の回転速度が回転容器１４の回転速度よりも速い。回転シャフト１２の回転速度は、羽根４１の先端での周速が５～１３ｍ／ｓ程度となるように設定され、回転容器１４の回転速度は、回転容器１４の内周面４３での周速が０．５～１ｍ／ｓ程度となるように設定される。

【0017】

＜回転シャフトの位置＞
次に、回転シャフト１２の回転容器１４に対する設置位置を説明する。図３は、図１の回転容器１４周辺を拡大した図である。図３に示すように、本実施形態では、回転シャフト１２の中心軸５１が回転容器１４の中心軸５２よりも下方に位置している。例えば、回転容器１４の中心軸５２に対する回転シャフト１２の中心軸５１の偏心量ｅは、回転容器１４の内周面４３の中央部及び出口側端部の直径Ｄの１／６～１／１２である。

【0018】

このように、回転シャフト１２の中心軸５１が回転容器１４の中心軸５２よりも下方に位置することにより、回転容器１４内の上方部分に羽根４１が届かない隙間空間５３が形成される。これにより、回転容器１４の回転に伴って持ち上がった湿潤粉体は、隙間空間５３で回転容器１４の内周面４３から剥離して落下する。落下した湿潤粉体は羽根４１に衝突し、湿潤粉体の混合及び解砕が促進される。

【0019】

＜回転シャフトの構造＞
次に、回転シャフト１２の構造について説明する。図３の破線で示すように、回転シャフト１２は供給管１１及び回転容器１４を貫通する芯棒６１を有している。芯棒６１の供給管１１に対応する部分にはスクリュー１３が取り付けられている。スクリュー１３は、芯棒６１が挿通される中心管６２と、中心管６２の外周面に設けられた螺旋状のスクリュー羽根６３を有している。

【0020】

さらに、芯棒６１の回転容器１４に対応する部分には羽根４１、円盤７１、及び、スペーサリング７２が軸方向に並んで取り付けられている。図４（ａ）は羽根４１の正面図であり、（ｂ）は円盤７１の正面図であり、（ｃ）はスペーサリング７２の正面図である。なお、芯棒６１の回転容器１４に対応する部分の断面は正方形である（図５参照）。ただし、当該部分の断面は正方形以外の形状であってもよい。

【0021】

羽根４１は湿潤粉体を混合及び解砕しながら搬送する役割を有する。図４（ａ）に示すように、羽根４１は略菱形状の形状を有しており、その中央に芯棒６１が挿通される貫通穴７３が形成されている。また、羽根４１は、中央から互いに反対向きに突出する一対の刃部を有している。羽根４１の各刃部には、回転方向に向かって尖るナイフエッジ７４が形成されている。ナイフエッジ７４は、回転方向に向かって、入口側開口２１へ近づく（出口側開口２２から遠ざかる）ように傾斜している。このため、羽根４１が回転すると、ナイフエッジ７４によって、回転容器１４の出口側開口２２へ向かう送り力が湿潤粉体に付与される。羽根４１の長さＬは、羽根４１と回転容器１４の内周面４３との最短距離（回転容器１４の中心軸５２の真下でのクリアランス）が数ミリ（例えば、１～５ｍｍ）程度となるように設定される。ただし、羽根４１の形状及び寸法はこれに限られない。

【0022】

円盤７１は、湿潤粉体の移動を規制し、回転容器１４内における湿潤粉体の滞留時間を調整する役割を有する。図４（ｂ）に示すように、円盤７１は正面視において（回転シャフト１２の軸方向から見て）円形の形状を有している。円盤７１の厚みは羽根４１と略同じである。ただし、円盤７１の厚みはこれに限定されない。円盤７１の中央には芯棒６１が挿通される貫通穴７５が形成されている。円盤７１の外径ｄと羽根４１の先端の回転軌道の外径は略一致する。つまり、円盤７１の直径ｄと羽根４１の長さＬは略同じである。

【0023】

スペーサリング７２は、隣り合う羽根４１の軸方向距離又は羽根４１と円盤７１の軸方向距離を一定にする役割を有している。図４（ｃ）に示すように、スペーサリング７２の中央には芯棒６１が挿通される貫通穴７６が形成されている。スペーサリング７２の外縁は正面視において円形である。スペーサリング７２の厚み（軸方向寸法）は、羽根４１及び円盤７１に比べて大きい。ただし、スペーサリング７２の形状及び厚みはこれに限定されない。なお、回転シャフト１２の先端には、保持部材７７が取り付けられている。

【0024】

図５は、図３のV－V線に沿った正面断面図である。図３及び図５に示すように、羽根４１は、向きが交互に９０度変わるように芯棒６１に取り付けられる。また、図５に示すように、隣り合う羽根４１の間には、スペーサリング７２が配置されている。ただし、一部の羽根４１に代えて、円盤７１が配置される。本実施形態の円盤７１には、第１円盤７１ａ、第２円盤７１ｂ、及び、第３円盤７１ｃが含まれる。各円盤７１ａ、７１ｂ、７１ｃの配置については後述する。

【0025】

＜仕切板の構造＞
次に、仕切板８１について説明する。本実施形態に係る連続式粉体処理装置１００は仕切板８１を備えている。仕切板８１は、回転容器１４内の上方部分に形成される隙間空間５３に配置されており、隙間空間５３を仕切って複数の領域に分割する。なお、仕切板８１は、回転容器１４及び回転シャフト１２から独立しており、回転容器１４や回転シャフト１２と一緒に回転することはない。

【0026】

本実施形態の仕切板８１は板状の部材であって、図５に示すように回転容器１４の軸方向から見て弧状の形状を有している。具体的には、回転容器１４の軸方向から見て、仕切板８１の上縁８２が回転容器１４の内周面４３の近傍で当該内周面４３に沿って延びている。仕切板８１の上縁８２と回転容器１４の内周面４３との間には半径方向の隙間が形成されており、その隙間の隙間寸法ｇは１ｍｍ程度又は内周面４３の直径Ｄの１／２０程度である。ただし、上記の隙間寸法ｇはこれに限定されない。

【0027】

また、回転容器１４の軸方向から見て、仕切板８１の下縁８３は羽根４１の先端の回転軌道の近傍で当該回転軌道に沿って延びている。さらに本実施形態では、仕切板８１の下縁８３は、回転容器１４の軸方向から見て羽根４１の先端よりも半径方向外方に位置している。つまり、回転容器１４の軸方向から見て仕切板８１と羽根４１は重なっていない。回転容器１４の軸方向から見たときの仕切板８１の下縁８３と羽根４１の先端との間の半径方向寸法ｇ’（仕切板８１の下縁８３と円盤７１との間の半径方向寸法と略同じ）は、１ｍｍ程度又は内周面４３の直径Ｄの１／２０程度である。ただし、上記の半径方向寸法ｇ’はこれに限定されない。

【0028】

仕切板８１は、隙間空間５３内を軸方向に延びる第１支持部材８４及び第２支持部材８５によって支持されている。図３に示すように、第１支持部材８４及び第２支持部材８５は、一端（上流側端）が第１閉塞部材３１に固定されており、他端（下流側端）がシュート４２に固定されている。本実施形態の第１支持部材８４及び第２支持部材８５は一直線状に形成されているが、屈曲又は湾曲していてもよい。また、仕切板８１は、第１支持部材８４及び第２支持部材８５を用いる以外の方法で支持されていてもよい。

【0029】

本実施形態では、仕切板８１を隙間空間５３に配置することで、湿潤粉体が隙間空間５３を通過することによる羽根４１の迂回（ショートパス）を抑制することができる。その結果、湿潤粉体の混合不足及び解砕不足を回避することができ、湿潤粉体の混合及び解砕を効率よく行うことができる。また、本実施形態では、回転容器１４の軸方向から見て仕切板８１と羽根４１とが重なっていないため、仕切板８１は羽根４１に接触することなく、第１支持部材８４及び第２支持部材８５と一体的に回転容器１４から軸方向に引き抜くことができる。これにより、回転容器１４内の清掃が容易になり、衛生上好ましい。

【0030】

＜仕切板の軸方向位置＞
次に、仕切板８１の軸方向位置について説明する。仕切板８１は、軸方向において隣り合う羽根４１の間に位置している。本実施形態では円盤７１は仕切板８１の近傍に配置されている。そのため、仕切板８１とその近傍に位置する円盤７１の両方が、隣り合う羽根４１の間に位置している。

【0031】

本実施形態の仕切板８１には、第１仕切板８１ａ、第２仕切板８１ｂ、及び、第３仕切板８１ｃが含まれ、入口側開口２１に近い方からこの順で配置されている。

【0032】

第１仕切板８１ａは、回転容器１４の軸方向中心よりも入口側開口２１に近い第１領域８６内であって、第１領域８６の軸方向中心よりも出口側開口２２寄りに配置されている。仕切板８１を隙間空間５３に設けることで、湿潤粉体のショートパスが抑制され、回転容器１４内における湿潤粉体の滞留時間を長くすることができる。ところが、入口側開口２１に近い第１領域８６では、湿潤粉体が十分に混合されておらず、湿潤粉体が回転容器１４の内周面４３や第１閉塞部材３１の内面に付着しやすい。そこで、本実施形態では、第１領域８６においては出口側開口２２寄りに仕切板８１を配置することで、湿潤粉体の移動があまり妨げられないようにして湿潤粉体の付着を抑制している。

【0033】

また、第１仕切板８１ａに対応する第１円盤７１ａは、第１仕切板８１ａの上流側近傍に配置されている。ただし、第１円盤７１ａと第１仕切板８１ａは軸方向に離間している。この場合、湿潤粉体が第１円盤７１ａの上流側から下流側に移動するには、第１円盤７１ａと回転容器１４の内周面４３との隙間、又は、第１円盤７１ａと第１仕切板８１ａとの隙間を通る必要がある。そのため、第１円盤７１ａと第１仕切板８１ａの軸方向における離間寸法αを調整すれば、回転容器１４内における湿潤粉体の滞留時間を調整することができる。

【0034】

第２仕切板８１ｂは、回転容器１４の軸方向中央よりも出口側開口２２に近い第２領域８７内であって、第２領域８７の軸方向中央付近に配置されている。さらに、第３仕切板８１ｃは、回転容器１４の軸方向中央よりも出口側開口２２に近い第２領域８７内であって、第２領域８７の軸方向中心よりも出口側開口２２寄りに配置されている。出口側開口２２に近い第２領域８７では、湿潤粉体の混合及び解砕が促進されるように湿潤粉体の滞留時間を長くるすことが望ましい。そこで、第２領域８７では複数の仕切板８１を配置し、回転容器１４内における湿潤粉体の滞留時間を長くしている。

【0035】

また、第２仕切板８１ｂに対応する第２円盤７１ｂは、第２仕切板８１ｂの上流側近傍に配置されている。第２円盤７１ｂと第２仕切板８１ｂは軸方向に離間している。さらに、第３仕切板８１ｃに対応する第３円盤７１ｃは、第３仕切板８１ｃの上流側近傍に配置されている。第３円盤７１ｃと第３仕切板８１ｃは軸方向に離間している。この場合も、第２円盤７１ｂと第２仕切板８１ｂの軸方向における離間寸法、及び、第３円盤７１ｃと第３仕切板８１ｃの軸方向における離間寸法を調整することで、回転容器１４内における湿潤粉体の滞留時間を調整することができる。

【0036】

なお、円盤７１と仕切板８１の軸方向位置は特に限定されない。つまり、本実施形態では円盤７１が仕切板８１よりも上流側に配置されているが、円盤７１が仕切板８１よりも下流側に配置されていてもよい。また、仕切板８１と円盤７１を同じ軸方向位置に配置してもよい。

【0037】

＜変形例＞
次に、本実施形態の変形例について説明する。図６は、変形例に係る連続式粉体処理装置１０１の回転容器１４内の拡大図である。図７は、図６のVII－VII線に沿った正面断面図である。変形例に係る連続式粉体処理装置１０１はスクレーパ９１を備える点で、上述した連続式粉体処理装置１００と構成が異なり、それ以外の点については同じ構成を備えている。

【0038】

スクレーパ９１は、回転容器１４の内周面４３に付着した湿潤粉体を掻き取る部材である。図７に示すように、スクレーパ９１は、第１仕切板８１ａよりも上流側、第１仕切板８１ａと第２仕切板８１ｂの間、第２仕切板８１ｂと第３仕切板８１ｃの間、及び、第３仕切板８１ｃの下流側に配置されている。つまり、スクレーパ９１は、仕切板８１が設けられていない軸方向位置に配置されている。

【0039】

また、図６に示すように、スクレーパ９１は、仕切板８１を支持する第２支持部材８５に設けられている。そして、スクレーパ９１は、第２支持部材８５から回転容器１４の内周面４３に向かって延びている。なお、スクレーパ９１は第１支持部材８４に設けられていてもよく、第１支持部材８４と第２支持部材８５の両方に設けられていてもよい。

【0040】

スクレーパ９１の先端は回転容器１４の内周面４３に接触していてもよく、接触していなくてもよい。接触しない場合は、スクレーパ９１の先端と回転容器１４の内周面４３との間のクリアランスは狭い方が望ましい。スクレーパ９１の先端が回転容器１４の内周面４３に接触しない場合、スクレーパ９１の材質は、金属（例えば、ステンレス鋼）、樹脂、ゴムのいずれであってもよい。スクレーパ９１の先端が回転容器１４の内周面４３に接触する場合、スクレーパ９１の材質は、フッ素樹脂（例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン））やナイロンなどの摺動性に優れた樹脂であることが望ましい。特に、スクレーパ９１の材質がフッ素樹脂であれば、スクレーパ９１自体への湿潤粉体の付着を抑制することができる。スクレーパ９１自体への湿潤粉体の付着を抑制するには、スクレーパ９１の表面積はなるべく小さいことが望ましい。

【0041】

＜その他の変形例＞
次に、その他の変形例について説明する。本実施形態では、３つの仕切板８１が隙間空間５３に設けられているが、このうちの１つのみが設けられていてもよい。この場合、第１仕切板８１ａを隙間空間５３に設けるのが望ましい。また、２つの仕切板８１を設けるのであれば、第１仕切板８１ａと第２仕切板８１ｂを隙間空間５３に設けるのが望ましい。ただし、仕切板８１の設置数及び位置は特に限定されない。

【0042】

また、本実施形態では、円盤７１は仕切板８１の近傍に配置されているが、円盤７１の軸方向位置もこれに限定されない。さらに、上述した円盤７１及び仕切板８１のうち一方を省略してもよい。この場合でも、回転容器１４内における湿潤粉体の滞留時間を調整することができる。

【0043】

＜まとめ＞
上記のとおり、実施形態に係る連続式粉体処理装置は、粉体の混合及び解砕を行う連続式粉体処理装置であって、横向きに延びる筒状の回転容器と、前記回転容器内に配置され、中心軸が前記回転容器の中心軸よりも下方に位置する回転シャフトと、前記回転シャフトに取り付けられ、前記回転容器の入口側開口から出口側開口に向かって前記粉体を混合及び解砕しながら送り出す複数の羽根と、前記回転容器内の上方部分に形成される隙間空間に配置された回転しない少なくとも１つの仕切板と、を備える。

【0044】

この構成によれば、回転シャフトの中心軸が回転容器の中心軸よりも下方に位置しているため、回転容器内の上方部分に羽根が届かない隙間空間が形成される。そのため、回転容器の回転に伴って持ち上がった粉体は隙間空間で回転容器の内周面から剥離して落下する。落下した粉体は羽根に衝突することで混合及び解砕が促進される。また、隙間空間に仕切板を設けることで、粉体が隙間空間を通過することによる羽根の迂回を抑制することができる。したがって、上記の構成によれば、粉体の混合及び解砕を効率よく行うことができる。なお、上記の粉体には湿潤した粉体及び乾燥した粉体の両方が含まれる。

【0045】

また、実施形態に係る連続式粉体処理装置では、前記仕切板は、前記回転容器の軸方向から見て、上縁が前記回転容器の内周面の近傍で当該内周面に沿って延びており、下縁が前記羽根の先端の回転軌道の近傍で当該回転軌道に沿って延びている。

【0046】

この構成によれば、回転容器の軸方向から見て、仕切板が隙間空間の大部分を覆うことができるため、粉体が隙間空間を通過することによる羽根の迂回を効果的に抑制することができる。

【0047】

また、実施形態に係る連続式粉体処理装置では、前記仕切板の下縁は、前記回転容器の軸方向から見て前記羽根の先端よりも半径方向外方に位置している。

【0048】

この構成によれば、仕切板を羽根と接触することなく回転容器から軸方向に引き抜くことができるため、回転容器内の清掃が容易になり、衛生上好ましい。

【0049】

また、実施形態に係る連続式粉体処理装置では、前記少なくとも１つの仕切板のうち前記入口側開口に最も近い第１仕切板は、前記回転容器の軸方向中心よりも前記入口側開口に近い領域内であって、当該領域の軸方向中心よりも前記出口側開口寄りに配置されている。

【0050】

この構成によれば、回転容器の入口側開口に近い領域では粉体の回転容器等への付着を抑制しつつ、回転容器内における粉体の滞留時間を適切に調整することができる。

【0051】

また、実施形態に係る連続式粉体処理装置では、前記回転シャフトに取り付けられた円盤をさらに備えている。

【0052】

この構成によれば、円盤によって粉体の移動を抑制することにより、回転容器内における湿潤粉体の滞留時間を調整することができる。

【0053】

また、実施形態に係る連続式粉体処理装置では、前記円盤の外径と前記羽根の先端の回転軌道の外径は略一致する。

【0054】

この構成によれば、円盤と回転容器の内周面とのクリアランスが小さくなる。そのため、より効率的に回転容器内における粉体の滞留時間を調整することができる。

【0055】

また、実施形態に係る連続式粉体処理装置では、前記円盤と前記仕切板は軸方向に離間している。

【0056】

この構成によれば、円盤と仕切板との隙間を通過する粉体の通過量を調整することができ、ひいては滞留時間を調整することができる。

【0057】

また、実施形態の変形例に係る連続式粉体処理装置では、前記隙間空間内で前記回転容器の軸方向に延び、前記仕切板を支持する支持部材と、前記支持部材に設けられ前記回転容器の内周面に付着した粉体を掻き取るスクレーパと、をさらに備える。

【0058】

この構成によれば、スクレーパによって回転容器の内周面に付着した粉体が掻き取られる。そして、掻き取られた粉体は混合及び解砕されることになるため、より均質な顆粒を製造でき又は混合粉体を得ることができる。

【符号の説明】

【0059】

１２ 回転シャフト
１４ 回転容器
２１ 入口側開口
２２ 出口側開口
４１ 羽根
４３ 内周面
５１ 中心軸
５２ 中心軸
５３ 隙間空間
７１ 円盤
８１ 仕切板
８１ａ 第１仕切板
８１ｂ 第２仕切板
８１ｃ 第３仕切板
８２ 上縁
８３ 下縁
８４ 第１支持部材
８５ 第２支持部材
８６ 第１領域
８７ 第２領域
９１ スクレーパ
１００ 連続式粉体処理装置
１０１ 連続式粉体処理装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】