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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2025-01-23
(45)【発行日】2025-01-31
(54)【発明の名称】光学材料
(51)【国際特許分類】
C08F 20/22 20060101AFI20250124BHJP
G02B 1/04 20060101ALI20250124BHJP
【ＦＩ】
C08F20/22
G02B1/04
【請求項の数】
11
(21)【出願番号】P 2021030477
(22)【出願日】2021-02-26
(65)【公開番号】P2022131503
(43)【公開日】2022-09-07
【審査請求日】2023-11-14
(73)【特許権者】
【識別番号】399030060
【氏名又は名称】学校法人 関西大学
(74)【復代理人】
【識別番号】100129791
【弁理士】
【氏名又は名称】川本 真由美
(74)【復代理人】
【識別番号】100224605
【弁理士】
【氏名又は名称】畠中 省伍
(74)【代理人】
【識別番号】100145403
【弁理士】
【氏名又は名称】山尾 憲人
(74)【代理人】
【識別番号】100138885
【弁理士】
【氏名又は名称】福政 充睦
(72)【発明者】
【氏名】工藤 宏人
【審査官】今井 督
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２００６／１０６５１３（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２００８／０３１８６７（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開平０９－０２０７２１（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０２０／１７０５５５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開昭６２－１８７７１３（ＪＰ，Ａ）
【文献】MAEKAWA Hiroyuki et al.，Synthesis and Properties of High-Refractive-Index Iodine-Containing Polyacrylates，Chemistry Select，2022年，Volume 7, Issue 28，https://doi.org/10.1002/slct.202201543
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０８Ｆ ２０／００－ ２０／７０
Ｇ０２Ｂ １／００－ １／１０
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む、光学材料であって、
前記含ヨウ素ポリマーの数平均分子量は５００００以下であり、前記含ヨウ素ポリマーは以下の（Ｉ）及び（ＩＩ）の少なくとも一を満たす、光学材料。
（Ｉ）前記含ヨウ素ポリマーが下記
式：
ＣＨ 2 ＝Ｃ(－Ｘ ２ )－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ ２ －Ｒ
［式中、
Ｘ ２ は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ ２ は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｒは炭素数２～３０の有機基である。］
で表されるトリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー（２）から誘導された繰り返し単位を有し、
前記Ｒは、アルキル基、又は
－（Ｒ １ Ｏ） ｑ －Ｒ ２
［式中、Ｒ １ はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ ２ は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基、ｑは１以上１００以下である。］
で表される（ポリ）オキシアルキレン基である。
（ＩＩ）前記含ヨウ素ポリマーが分子量制御剤から誘導された構造を有する。
【請求項2】
前記モノマー（１）が下記式：
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ１)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ１－Ｌ－ＴＩＰ
［式中、
ＴＩＰは前記トリヨードフェニル基であり、
Ｘ１は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ１は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｌは直接結合、又は２価の脂肪族基又は芳香族基である。］
で表される、請求項１に記載の光学材料。
【請求項3】
前記含ヨウ素ポリマーが下記式：
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ２)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ２－Ｒ
［式中、
Ｘ２は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ２は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｒは炭素数２～３０の有機基である。］
で表されるトリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー（２）から誘導された繰り返し単位を有し、
前記Ｒは、アルキル基、又は
－（Ｒ １ Ｏ） ｑ －Ｒ ２
［式中、Ｒ １ はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ ２ は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基、ｑは１以上１００以下である。］
で表される（ポリ）オキシアルキレン基である、請求項１又は２に記載の光学材料。
【請求項4】
前記Ｒがアルキル基である、請求項３に記載の光学材料。
【請求項5】
前記Ｒが前記（ポリ）オキシアルキレン基である、請求項３に記載の光学材料。
【請求項6】
前記含ヨウ素ポリマーにおいて、モノマー（２）から誘導された繰り返し単位の含有量は、モノマー（１）から誘導された繰り返し単位１モル部に対して、０．０２モル部以上である、請求項３～５のいずれか一項に記載の光学材料。
【請求項7】
前記トリヨードフェニル基が２，３，５－トリヨードフェニル基又は２，４，６－トリヨードフェニル基である、請求項１～６のいずれか一項に記載の光学材料。
【請求項8】
前記含ヨウ素ポリマーが分子量制御剤から誘導された構造を有する、請求項１～７のいずれか一項に記載の光学材料。
【請求項9】
前記分子量制御剤がモノチオール化合物、ジチオール化合物、及びＲＡＦＴ剤からなる群から選択される少なくとも一種である、請求項８に記載の光学材料。
【請求項10】
請求項１～９のいずれか一項に記載の光学材料から形成され、コーティング、フィルム、シート、プリズム、レンズ及びファイバーから選択される光学部品。
【請求項11】
請求項１０に記載の光学部品を備える光学物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は特に、高屈折率高分子材料に用いられる、含ヨウ素ポリマーを含む光学材料に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、高分子材料の高屈折率化については、分子中に硫黄原子を導入することが有効とされ、そのような高屈折率高分子材料として、（メタ）アクリロイルチオ基及び芳香環を有するアクリル化合物と、スチレン誘導体、及びメルカプト化合物とを重合して得られる含硫黄アクリル樹脂が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開平１０－１３０３３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、従来の高分子材料の屈折率は必ずしも十分とは言えない。また、汎用性の観点からも新規な高屈折率高分子材料の開発が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示はかかる事情に鑑みて為されたものである。従来技術の延長線上で対応するのではなく、新たな方向で対処することによって上記目的の達成を試みた。その結果、特定の原料を用いることで上記の主目的を達成できることを見出し、本開示に至った。本開示における一実施形態は次のとおりである：
［項１］
トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む、光学材料。
［項２］
前記モノマー（１）が下記式：
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ１)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ１－Ｌ－ＴＩＰ
［式中、ＴＩＰは前記トリヨードフェニル基であり、
Ｘ１は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ１は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｌは直接結合、又は２価の有機基である。］
で表される、項１に記載の光学材料。
［項３］
前記含ヨウ素ポリマーが
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ２)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ２－Ｒ
［式中、
Ｘ ２は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ２は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｒは炭素数２～３０の有機基である。］
で表されるトリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー（２）から誘導された繰り返し単位を有する、項１又は２に記載の光学材料。
［項４］
前記Ｒがアルキレン基又はオキシアルキレン基である、項３に記載の光学材料。
［項５］
前記Ｒが
－（Ｒ１Ｏ）ｑ－Ｒ２
［式中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ２は水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、ｑは１以上１００以下である。］
で表されるオキシアルキレン基である、項３に記載の光学材料。
［項６］
前記含ヨウ素ポリマーにおいて、モノマー（２）から誘導された繰り返し単位の含有量は、モノマー（１）から誘導された繰り返し単位１モル部に対して、０．０２モル部以上である、項３～５のいずれか一項に記載の光学材料。
［項７］
前記トリヨードフェニル基が２，３，５－トリヨードフェニル基又は２，４，６－トリヨードフェニル基である、項１～６のいずれか一項に記載の光学材料。
［項８］
前記含ヨウ素ポリマーが分子量制御剤から誘導された構造を有する、項１～７のいずれか一項に記載の光学材料。
［項９］
前記分子量制御剤がモノチオール化合物、ジチオール化合物、及びＲＡＦＴ剤からなる群から選択される少なくとも一種である、項８に記載の光学材料。
［項１０］
請求項１～９のいずれか一項に記載の光学材料から形成され、コーティング、フィルム、シート、プリズム、レンズ及びファイバーから選択される光学部品。
［項１１］
請求項１０に記載の光学部品を備える光学物品。
［項１］
トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む、光学材料。
［項２］
前記モノマー（１）が下記式：
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ１)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ１－Ｌ－ＴＩＰ
［式中、ＴＩＰは前記トリヨードフェニル基であり、
Ｘ１は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ１は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｌは直接結合、又は２価の有機基である。］
で表される、項１に記載の光学材料。
［項３］
前記含ヨウ素ポリマーが
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ２)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ２－Ｒ
［式中、
Ｘ ２は水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ２は－Ｏ－又は－ＮＨ－であり、
Ｒは炭素数２～３０の有機基である。］
で表されるトリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー（２）から誘導された繰り返し単位を有する、項１又は２に記載の光学材料。
［項４］
前記Ｒがアルキレン基又はオキシアルキレン基である、項３に記載の光学材料。
［項５］
前記Ｒが
－（Ｒ１Ｏ）ｑ－Ｒ２
［式中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ２は水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、ｑは１以上１００以下である。］
で表されるオキシアルキレン基である、項３に記載の光学材料。
［項６］
前記含ヨウ素ポリマーにおいて、モノマー（２）から誘導された繰り返し単位の含有量は、モノマー（１）から誘導された繰り返し単位１モル部に対して、０．０２モル部以上である、項３～５のいずれか一項に記載の光学材料。
［項７］
前記トリヨードフェニル基が２，３，５－トリヨードフェニル基又は２，４，６－トリヨードフェニル基である、項１～６のいずれか一項に記載の光学材料。
［項８］
前記含ヨウ素ポリマーが分子量制御剤から誘導された構造を有する、項１～７のいずれか一項に記載の光学材料。
［項９］
前記分子量制御剤がモノチオール化合物、ジチオール化合物、及びＲＡＦＴ剤からなる群から選択される少なくとも一種である、項８に記載の光学材料。
［項１０］
請求項１～９のいずれか一項に記載の光学材料から形成され、コーティング、フィルム、シート、プリズム、レンズ及びファイバーから選択される光学部品。
［項１１］
請求項１０に記載の光学部品を備える光学物品。
【発明の効果】
【0006】
本開示によれば、新規な高屈折率高分子材料である光学材料が提供される。本開示の光学材料は、屈折率のみならず、溶解性、成膜性、耐熱性等においても優れ得る。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】本開示の実施例１７における含ヨウ素ポリマーのＴＧＡ測定の結果を示す。
【発明を実施するための形態】
【0008】
＜光学材料＞
本開示における光学材料は各種光学部品の原料となる材料であって、特にその高屈折率を活かした光学部品に用いられる。本開示における光学材料は、トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む。
本開示における光学材料は各種光学部品の原料となる材料であって、特にその高屈折率を活かした光学部品に用いられる。本開示における光学材料は、トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含む含ヨウ素ポリマーを含む。
【0009】
［含ヨウ素ポリマー］
本開示における含ヨウ素ポリマーは、トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含むポリマーである。含ヨウ素ポリマーは直鎖状であってもよいし、分岐鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。
本開示における含ヨウ素ポリマーは、トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１）から誘導された繰り返し単位を含むポリマーである。含ヨウ素ポリマーは直鎖状であってもよいし、分岐鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。
【0010】
（トリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１））
アクリレートモノマー（１）はトリヨードフェニル基を少なくとも１個有するアクリレートモノマー（１）である。トリヨードフェニル基は２，３，５－トリヨードフェニル基又は２，４，６－トリヨードフェニル基であってよく、好ましくは２，４，６－トリヨードフェニル基である。従来、分子量制御性、溶解性及び／又は成膜性に問題があり、ヨウ素含有モノマーはその応用が検討されていなかった。本願発明者は、ヨウ素含有モノマーの中でもトリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１）を選択することで、高屈折率を有しつつ、それらの問題も解消し得ることを予想外にも見出した。
アクリレートモノマー（１）はトリヨードフェニル基を少なくとも１個有するアクリレートモノマー（１）である。トリヨードフェニル基は２，３，５－トリヨードフェニル基又は２，４，６－トリヨードフェニル基であってよく、好ましくは２，４，６－トリヨードフェニル基である。従来、分子量制御性、溶解性及び／又は成膜性に問題があり、ヨウ素含有モノマーはその応用が検討されていなかった。本願発明者は、ヨウ素含有モノマーの中でもトリヨードフェニル基含有アクリレートモノマー（１）を選択することで、高屈折率を有しつつ、それらの問題も解消し得ることを予想外にも見出した。
【0011】
本開示におけるアクリレートモノマー（１）は下記
式：
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ１)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ１－Ｌ－ＴＩＰ
［式中、ＴＩＰは前記トリヨードフェニル基であり、
Ｘ１は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ１は、－Ｏ－又は－ＮＨ－
Ｌは、直接結合、又は２価の有機基である。］
で表されてよい。
式：
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ１)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ１－Ｌ－ＴＩＰ
［式中、ＴＩＰは前記トリヨードフェニル基であり、
Ｘ１は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ１は、－Ｏ－又は－ＮＨ－
Ｌは、直接結合、又は２価の有機基である。］
で表されてよい。
【0012】
Ｘ１は水素原子又はメチル基であることが好ましい。
【0013】
Ｙ１は－Ｏ－であることが好ましい。
【0014】
Ｌにおける有機基は、脂肪族基又は芳香族基であってよく、好ましくは脂肪族基であり、特にアルキレン基又は（ポリ）オキシアルキレン基である。
【0015】
Ｌがアルキレン基である場合、Ｌの炭素数は１以上、２以上、３以上、５以上、又は１０以上であってよく、３０以下、２５以下、２０以下、１５以下、又は１０以下であってよい。
【0016】
Ｌが（ポリ）オキシアルキレン基である場合、Ｌにおける酸素原子の数は１以上、２以上、又は３以上であってよく、２５以下、７以下、又は５以下であってよい。
【0017】
Ｌが（ポリ）オキシアルキレン基である場合、Ｌは次式：
－（Ｌ１Ｏ）ｐ－
［式中、Ｌ１はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、ｐは１以上１００以下である。］
で表されてよい。
－（Ｌ１Ｏ）ｐ－
［式中、Ｌ１はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、ｐは１以上１００以下である。］
で表されてよい。
【0018】
Ｌ１の炭素数は１以上、２以上、３以上、又は５以上であってよく、１０以下、７以下、５以下、又は３以下であってよい。
【0019】
ｐは１以上、３以上、５以上、１０以上、２５以上、又は５０以上であってよく、１００以下、８０以下、６０以下、４０以下、２０以下、又は１０以下であってよい。
【0020】
－（Ｌ１Ｏ）ｐ－の繰り返し単位である－Ｌ１Ｏ－の具体例としては、
－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）Ｏ－
－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－
等が挙げられる。
－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）Ｏ－
－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－
等が挙げられる。
【0021】
（トリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー（２））
本開示における含ヨウ素ポリマーは、トリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー（２）から誘導された繰り返し単位を含んでよい。
本開示における含ヨウ素ポリマーは、トリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー（２）から誘導された繰り返し単位を含んでよい。
【0022】
トリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー（２）はトリヨードフェニル基を有しない。トリヨードフェニル基非含有アクリレートモノマー（２）はヨードフェニル基を有しなくてもよく、ヨウ素原子を有しなくてもよい。
【0023】
本開示におけるアクリレートモノマー（２）は下記
式：
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ２)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ２－Ｒ
［式中、
Ｘ２は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ２は、－Ｏ－又は－ＮＨ－
Ｒは、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１～３０の有機基である。］
で表されてよい。
式：
ＣＨ2＝Ｃ(－Ｘ２)－Ｃ(＝Ｏ)Ｙ２－Ｒ
［式中、
Ｘ２は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、
Ｙ２は、－Ｏ－又は－ＮＨ－
Ｒは、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１～３０の有機基である。］
で表されてよい。
【0024】
Ｘ２は水素原子又はメチル基であることが好ましい。
【0025】
Ｙ２は－Ｏ－であることが好ましい。
【0026】
Ｒは、脂肪族基又は芳香族基であってよく、好ましくは脂肪族基であり、特にアルキル基又は（ポリ）オキシアルキレン基である。
【0027】
Ｒがアルキル基である場合、Ｒの炭素数は１以上、２以上、３以上、５以上、又は１０以上であってよく、３０以下、２５以下、２０以下、１５以下、又は１０以下であってよい。
【0028】
Ｒが（ポリ）オキシアルキレン基である場合、Ｒにおける酸素原子の数は１以上、２以上、又は３以上であってよく、２５以下、７以下、又は５以下であってよい。
【0029】
Ｒが（ポリ）オキシアルキレン基である場合、Ｒは次式：
－（Ｒ１Ｏ）ｑ－Ｒ２
［式中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基、ｑは１以上１００以下である。］
で表されてよい。
－（Ｒ１Ｏ）ｑ－Ｒ２
［式中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１以上１０以下のアルキレン基であり、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基、ｑは１以上１００以下である。］
で表されてよい。
【0030】
Ｒ１の炭素数は１以上、２以上、３以上、又は５以上であってよく、１０以下、７以下、５以下、又は３以下であってよい。
【0031】
ｑは１以上、３以上、５以上、１０以上、２５以上、又は５０以上であってよく、１００以下、８０以下、６０以下、４０以下、２０以下、又は１０以下であってよい。
【0032】
－（Ｒ１Ｏ）ｑ－の繰り返し単位である－Ｒ１Ｏ－の具体例としては、
－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）Ｏ－
－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－
等が挙げられる。
－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）Ｏ－
－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ－
－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－
等が挙げられる。
【0033】
Ｒ２がアルキル基である場合、Ｒ２の炭素数は１以上、２以上、３以上、又は５以上であってよく、１０以下、７以下、５以下、又は３以下であってよい。
【0034】
（含硫黄構造）
本開示における含ヨウ素ポリマーは、硫黄原子を有してもよい。硫黄原子を有することで、含ヨウ素ポリマーの屈折率が向上し得る。硫黄原子は主鎖中又は側鎖中に存在してよく、主鎖中に存在することが好ましい。
本開示における含ヨウ素ポリマーは、硫黄原子を有してもよい。硫黄原子を有することで、含ヨウ素ポリマーの屈折率が向上し得る。硫黄原子は主鎖中又は側鎖中に存在してよく、主鎖中に存在することが好ましい。
【0035】
（分子量制御剤から誘導された構造）
本開示における含ヨウ素ポリマーは、分子量制御剤から誘導された構造を有してもよい。分子量制御剤とは、重合を抑制して分子量範囲を制御できる添加剤のことであり、代表的には連鎖移動剤である。分子量制御剤は、芳香族化合物であることが好ましい。芳香族であることにより、含ヨウ素ポリマーの屈折率が向上し得る。分子量制御剤の例としては、各種連鎖移動剤、ＲＡＦＴ剤、ＮＭＰ剤、ＡＴＲＰ剤、及びＴＥＲＰ剤が挙げられ、チオール型連鎖移動剤及びＲＡＦＴ剤等の硫黄含有連鎖移動剤が好ましい。
本開示における含ヨウ素ポリマーは、分子量制御剤から誘導された構造を有してもよい。分子量制御剤とは、重合を抑制して分子量範囲を制御できる添加剤のことであり、代表的には連鎖移動剤である。分子量制御剤は、芳香族化合物であることが好ましい。芳香族であることにより、含ヨウ素ポリマーの屈折率が向上し得る。分子量制御剤の例としては、各種連鎖移動剤、ＲＡＦＴ剤、ＮＭＰ剤、ＡＴＲＰ剤、及びＴＥＲＰ剤が挙げられ、チオール型連鎖移動剤及びＲＡＦＴ剤等の硫黄含有連鎖移動剤が好ましい。
【0036】
チオール型連鎖移動剤は、モノチオール化合物、ジチオール化合物、トリチオール化合物、テトラチオール以上のポリチオール化合物であってよいが、モノチオール化合物又はジチオール化合物であることが好ましい。チオール型連鎖移動剤はチオール基以外に硫黄原子を有するチオール化合物であってよい。チオール化合物は、炭素、水素及び硫黄のみからなる分子であってもよい。
【0037】
チオール型連鎖移動剤の具体例としては、メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオール、ブタンチオール、シクロヘキサンチオール等の脂肪族モノチオール化合物；
【0038】
メタンジチオール、１，２－エタンジチオール、１，１－プロパンジチオール、１，２－プロパンジチオール、１，３－プロパンジチオール、２，２－プロパンジチオール、１，６－ヘキサンジチオール、１，２，３－プロパントリチオール、１，１－シクロヘキサンジチオール、１，２－シクロヘキサンジチオール、２，２－ジメチルプロパン－１，３－ジチオール、３，４－ジメトキシブタン－１，２－ジチオール、２－メチルシクロヘキサン－２，３－ジチオール、１，１－ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、チオリンゴ酸ビス（２－メルカプトエチルエステル）、２，３－ジメルカプト－１－プロパノール（２－メルカプトアセテート）、２，３－ジメルカプト－１－プロパノール（３－メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（２－メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、１，２－ジメルカプトプロピルメチルエーテル、２，３－ジメルカプトプロピルメチルエーテル、２，２－ビス（メルカプトメチル）－１，３－プロパンジチオール、ビス（２－メルカプトエチル）エーテル、エチレングリコールビス（２－メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパンビス（２－メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパンビス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２－メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラキス（メルカプトメチル）メタン等の脂肪族ポリチオール化合物；
【0039】
ビス（メルカプトメチル）スルフィド、ビス（メルカプトエチル）スルフィド、ビス（メルカプトプロピル）スルフィド、ビス（メルカプトメチルチオ）メタン、ビス（２－メルカプトエチルチオ）メタン、ビス（３－メルカプトプロピル）メタン、１，２－ビス（メルカプトメチルチオ）エタン、１，２－（２－メルカプトエチルチオ）エタン、１，２－（３－メルカプトプロピル）エタン、１，３－ビス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，３－ビス（２－メルカプトエチルチオ）プロパン、１，３－ビス（３－メルカプトプロピルチオ）プロパン、１，２－ビス（２－メルカプトエチルチオ）－３－メルカプトプロパン、２－メルカプトエチルチオ－１，３－プロパンジチオール、１，２，３－トリス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，２，３－トリス（２－メルカプトエチルチオ）プロパン、１，２，３－トリス（３－メルカプトプロピルチオ）プロパン、テトラキス（メルカプトメチルチオメチル）メタン、テトラキス（２－メルカプトエチルチオメチル）メタン、テトラキス（３－メルカプトプロピルチオメチル）メタン、ビス（２，３－ジメルカプトプロピル）スルフィド、２，５－ジメルカプト－１，４－ジチアン、ビス（メルカプトメチル）ジスルフィド、ビス（メルカプトエチル）ジスルフィド、ビス（メルカプトプロピル）ジスルフィド、４－メルカプトメチル－３，６－ジチアオクタン－１，８－ジチオール、ビス（メルカプトメチル）－３，６，９－トリチア－１，１１－ウンデカンジチオール、ビス（１，３－ジメルカプト－２－プロピル）スルフィド、ヒドロキシメチルスルフィドビス（２－メルカプトアセテート）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（３－メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルスルフィドビス（２－メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルスルフィドビス（３－メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス（２－メルカプトアセテート）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス（３－メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシメチルジスルフィドビス（２－メルカプトアセテート）、ヒドロキシメチルジスルフィドビス（３－メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（２－メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（３－メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシプロピルジスルフィドビス（２－メルカプトアセテート）、ヒドロキシプロピルジスルフィドビス（３－メルカプトプロピオネート）、２－メルカプトエチルエーテルビス（２－メルカプトアセテート）、２－メルカプトエチルエーテルビス（３－メルカプトプロピオネート）、１，４－ジチアン－２，５－ジオールビス（２－メルカプトアセテート）、１，４－ジチアン－２，５－ジオールビス（３－メルカプトプロピオネート）、チオグリコール酸ビス（２－メルカプトエチルエステル）、チオジプロピオン酸ビス（２－メルカプトエチルエステル）、４，４’－チオジブチル酸ビス（２－メルカプトエチルエステル）、ジチオジグリコール酸ビス（２－メルカプトエチルエステル）、ジチオジプロピオン酸ビス（２－メルカプトエチルエステル）、４，４’－ジチオジブチル酸ビス（２－メルカプトエチルエステル）、チオジグリコール酸ビス（２，３－ジメルカプトプロピルエステル）、チオジプロピオン酸ビス（２，３－ジメルカプトプロピルエステル）、ジチオジグリコール酸ビス（２，３－ジメルカプトプロピルエステル）、ジチオジプロピオン酸（２，３－ジメルカプトプロピルエステル）等のメルカプト基以外に硫黄原子を含有する脂肪族チオール；
【0040】
ベンゼンチオール、ｏ－メチル－α－トルエンチオール、ｏ－トルエンチオール、ｍ－トルエンチオール、ｐ－トルエンチオール、１－ナフタレンチオール、２－ナフタレンチオール等の芳香族モノチオール化合物；
【0041】
１，２－ジメルカプトベンゼン、１，３－ジメルカプトベンゼン、１，４－ジメルカプトベンゼン、１，２－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２－ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３－トリメルカプトベンゼン、１，２，４－トリメルカプトベンゼン、１，３，５－トリメルカプトベンゼン、１，２，３－トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，４－トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３，５－トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３－トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，４－トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３，５－トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、２，５－トルエンジチオール、３，４－トルエンジチオール、１，３－ジ（ｐ－メトキシフェニル）プロパン－２，２－ジチオール、１，３－ジフェニルプロパン－２，２－ジチオール、フェニルメタン－１，１－ジチオール、及び２，４－ジ（ｐ－メルカプトフェニル）ペンタン等の芳香族ポリチオール；
【0042】
１，２－ビス（メルカプトメチレンチオ）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトメチレンチオ）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトメチレンチオ）ベンゼン、１，２－ビス（メルカプトエチレンチオ）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトエチレンチオ）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトエチレンチオ）ベンゼン、１，２－ビス（メルカプトプロピレンチオ）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトプロピレンチオ）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトプロピレンチオ）ベンゼン、１，２－ビス（メルカプトエチレンチオメチレン）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトエチレンチオメチレン）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトエチレンチオメチレン）ベンゼン、１，２－ビス（メルカプトプロピレンチオメチレン）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトプロピレンチオメチレン）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトプロピレンチオメチレン）ベンゼン、ビス（４－メルカプトフェニル）スルフィド、ビス（３－メルカプトフェニル）スルフィド、４，４’－オキシビスベンゼンチオール、４，４’－ビフェニルジチオール、１，２－ビス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，２－ビス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２－ビス（メルカプトエチレンオキシメチレン）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトエチレンオキシメチレン）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトエチレンオキシメチレン）ベンゼン、１，２－ビス（メルカプトプロピレンオキシメチレン）ベンゼン、１，３－ビス（メルカプトプロピレンオキシメチレン）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトプロピレンオキシメチレン）ベンゼン、１，３，５－トリメルカプトベンゼン、１，２，３－トリス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２，４－トリス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，３，５－トリス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２，３－トリス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，２，４－トリス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，３，５－トリス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン等のメルカプト基以外に硫黄原子を含有する芳香族ポリチオール化合物；
【0043】
３，４－チオフェンジチオール、２，５－ジメルカプト－１，３，４－チアジアゾール等のメルカプト基以外に硫黄原子を含有する複素環化合物；
【0044】
２－メルカプトエタノール、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール、グリセリンジ（メルカプトアセテート）、１－ヒドロキシ－４－メルカプトシクロヘキサン、２，４－ジメルカプトフェノール、２－メルカプトハイドロキノン、４－メルカプトフェノール、３，４－ジメルカプト－２－プロパノール、１，３－ジメルカプト－２－プロパノール、２，３－ジメルカプト－１－プロパノール、１，２－ジメルカプト－１，３－ブタンジオール、ペンタエリスリトールトリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールモノ（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールトリス（チオグリコレート）、ジペンタエリスリトールペンタキス（３－メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシメチル－トリス（メルカプトエチルチオメチル）メタン、１－ヒドロキシエチルチオ－３－メルカプトエチルチオベンゼン等のメルカプト基以外にヒドロキシ基を含有する化合物、及びこれらの誘導体等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、又は二種類以上を併用して用いてもよい。
【0045】
ＲＡＦＴ剤の具体例としては、２－シアノ－２－プロピルベンゾジチオエート及び４－シアノ－４－（フェニルカルボノチオイルチオ）ペンタン酸等のジチオエステル類；２－シアノ－２－プロピルドデシルトリチオカーボネート、４－シアノ－４－［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］ペンタン酸、２－（ドデシルチオカルボノチオイルチオ）－２－メチルプロピオン酸及びシアノメチルドデシルトリチオカーボネート等のトリチオカーボネート類；シアノメチルメチル（フェニル）カルバモジチオエート等のジチオカーバメート類；及びビス（チオベンゾイル）ジスルフィド及びビス（ドデシルスルファニルチオカルボニル）ジスルフィド等のジスルフィド類が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、又は二種類以上を併用して用いてもよい。
【0046】
（その他の原料から誘導された構造）
本開示の含ヨウ素ポリマーは、上記以外に、その他の原料から誘導された構造を有していてよい。その他の原料の具体例としては、スチレン、ｐ－メチルスチレン、α－メチルスチレン、ハロゲン化スチレン、ビニル安息香酸、４－ビニルベンゼンスルホン酸、４－ビニルベンゼンスルホン酸エステル、４－ビニルベンゼンスルホン酸アミド等のスチレン系モノマー；（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等のアミド基含有ビニルモノマー；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ－ｔ－ブチルアミノエチル、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド系モノマー；（メタ）アクリロニトリル等のニトリル基含有ビニルモノマー；ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビニリデン、酢酸ビニル等のその他モノマーが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、又は二種類以上を併用して用いてもよい。
本開示の含ヨウ素ポリマーは、上記以外に、その他の原料から誘導された構造を有していてよい。その他の原料の具体例としては、スチレン、ｐ－メチルスチレン、α－メチルスチレン、ハロゲン化スチレン、ビニル安息香酸、４－ビニルベンゼンスルホン酸、４－ビニルベンゼンスルホン酸エステル、４－ビニルベンゼンスルホン酸アミド等のスチレン系モノマー；（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等のアミド基含有ビニルモノマー；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ－ｔ－ブチルアミノエチル、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド系モノマー；（メタ）アクリロニトリル等のニトリル基含有ビニルモノマー；ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビニリデン、酢酸ビニル等のその他モノマーが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、又は二種類以上を併用して用いてもよい。
【0047】
（含ヨウ素ポリマーの分子量）
本開示における含ヨウ素ポリマーの数平均分子量は３００以上、５００以上、１０００以上、１５００以上、３０００以上、５０００以上、又は１００００以上であってよく、好ましくは３０００以上である。本開示における含ヨウ素ポリマーの数平均分子量は１０００００以下、５００００以下、２５０００以下、１５０００以下、１２５００以下、又は１００００以下であってよく、好ましくは５００００以下である。上記範囲にあることで、含ヨウ素ポリマーの溶解性、成膜性、耐熱性及び透明性が適度にバランス良く優れ得る。なお、上記数平均分子量はポリスチレン換算分子量であってよい。
本開示における含ヨウ素ポリマーの数平均分子量は３００以上、５００以上、１０００以上、１５００以上、３０００以上、５０００以上、又は１００００以上であってよく、好ましくは３０００以上である。本開示における含ヨウ素ポリマーの数平均分子量は１０００００以下、５００００以下、２５０００以下、１５０００以下、１２５００以下、又は１００００以下であってよく、好ましくは５００００以下である。上記範囲にあることで、含ヨウ素ポリマーの溶解性、成膜性、耐熱性及び透明性が適度にバランス良く優れ得る。なお、上記数平均分子量はポリスチレン換算分子量であってよい。
【0048】
本開示における含ヨウ素ポリマーの分散指数（Mw/Mn）は１.５以上、２以上、３以上、又は４以上であってよい。本開示における含ヨウ素ポリマーの分散指数（Mw/Mn）は７．５以下、５以下、４以下、又は３以下であってよい。
【0049】
（含ヨウ素ポリマーの組成）
モノマー（１）からから誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、２０重量％以上、３０重量％以上、４０重量％以上、５０重量％以上、６０重量％以上、７０重量％以上、又は８０重量％以上であってよい。モノマー（１）からから誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、９５重量％以下、８５重量％以下、７５重量％以下、６５重量％以下、５５重量％以上、又は４５重量％以下であってよい。屈折率向上の観点からはモノマー（１）の量が多いほど好ましい。
モノマー（１）からから誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、２０重量％以上、３０重量％以上、４０重量％以上、５０重量％以上、６０重量％以上、７０重量％以上、又は８０重量％以上であってよい。モノマー（１）からから誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、９５重量％以下、８５重量％以下、７５重量％以下、６５重量％以下、５５重量％以上、又は４５重量％以下であってよい。屈折率向上の観点からはモノマー（１）の量が多いほど好ましい。
【0050】
モノマー（２）からから誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、２.０重量％以上、４.０重量％以上、６.０重量％以上、８.０重量％以上、１０重量％以上、１５重量％以上、又は２０重量％以上であってよい。モノマー（２）からから誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、５０重量％以下、４０重量％以下、３０重量％以下、２０重量％以下、１０重量％以下、又は７．５重量％以下であってよい。モノマー（２）から誘導された繰り返し単位の存在により、成膜性が特に向上する。
【0051】
分子量制御剤から誘導された構造の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、１．０重量％以上、３．０重量％以上、５．０重量％以上、又は１０重量％以上であってよく、好ましくは３重量％以上である。分子量制御剤から誘導された構造の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、５０重量％以下、４０重量％以下、３０重量％以下、又は２５重量％以下であってよく、好ましくは４０重量％以下である。
【0052】
その他の原料から誘導された構造の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、１．０重量％以上、３．０重量％以上、５．０重量％以上、又は１０重量％以上であってよい。その他の原料から誘導された構造の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、３０重量％以下、２０重量％以下、又は１０重量％以下であってよい。
【0053】
ヨウ素の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、１０重量％以上、２５重量％以上、３０重量％以上、３５重量％以上、４０重量％以上、又は４５重量％以上であってよく、好ましくは３０重量％以上である。ヨウ素の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、５５重量％以下、５０重量％以下、又は４５重量％以下であってよい。
【0054】
硫黄の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、１．０重量％以上、２．０重量％以上、３．０重量％以上、４．０重量％以上、５．０重量％以上、又は７．５重量％以上であってよく、好ましくは２．０重量％以上である。硫黄の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、３０重量％以下、２０重量％以下、１５重量％以下、又は１０重量％以下であってよく、好ましくは１０重量％以下である。
【0055】
モノマー（１）から誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、分子量制御剤から誘導された構造１モル部に対して、２．０モル部以上、３．０モル部以上、５．０モル部以上、１０モル部以上、１５モル部以上、又は２０モル部以上であってよく、好ましくは３モル部以上である。モノマー（１）から誘導された繰り返し単位の量は、分子量制御剤から誘導された構造１モル部に対して、５０モル部以下、４５モル部以下、４０モル部以下、３５モル部以下、３０モル部以下、又は２５モル部以下であってよく、好ましくは４０モル部以下である。
【0056】
モノマー（２）から誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、分子量制御剤から誘導された構造１モル部に対して、０．２モル部以上、０．３モル部以上、０．５モル部以上、１.０モル部以上、１.５モル部以上、又は２モル部以上であってよく、好ましくは０．３モル部以上である。モノマー（１）から誘導された繰り返し単位の量は、分子量制御剤から誘導された構造１モル部に対して、５.０モル部以下、４.５モル部以下、４.０モル部以下、３.５モル部以下、３.０モル部以下、又は２.５モル部以下であってよく、好ましくは４.０モル部以下である。
【0057】
モノマー（２）から誘導された繰り返し単位の含有量は、含ヨウ素ポリマー中、モノマー（１）から誘導された繰り返し単位１モル部に対して、０．０２モル部以上、０．０３モル部以上、０．０５モル部以上、０．１モル部以上、０．１５モル部以上、又は０．２モル部以上であってよく、好ましくは０．０３モル部以上、例えば０．１モル部以上である。モノマー（２）の使用量は、モノマー（１）１モル部に対して、０．５モル部以下、０．４５モル部以下、０．４モル部以下、０．３５モル部以下、０．３モル部以下、又は０．２５モル部以下であってよく、好ましくは０．４モル部以下である。モノマー（２）から誘導された繰り返し単位の存在により、成膜性が特に向上する。
【0058】
上記範囲で各成分を含有することで、含ヨウ素ポリマーが高屈折率を有しつつ、溶解性、成膜性、耐熱性及び透明性が適度にバランス良く優れ得る。
【0059】
（含ヨウ素ポリマーの屈折率）
本開示における含ヨウ素ポリマーの屈折率は、１．６５以上、１．７０以上、１．７２以上、１．７６以上、１．７８以上、１．８０以上、又は１．８２以上であってよく、好ましくは１．７２以上、より好ましくは１．７８以上である。
本開示における含ヨウ素ポリマーの屈折率は、１．６５以上、１．７０以上、１．７２以上、１．７６以上、１．７８以上、１．８０以上、又は１．８２以上であってよく、好ましくは１．７２以上、より好ましくは１．７８以上である。
【0060】
（含ヨウ素ポリマーの耐熱性］）
本開示における含ヨウ素ポリマーの耐熱温度（窒素ガス雰囲気中、１０℃／分の昇温速度で昇温させたときに、５％の重量減少が認められる温度）は、２５０℃以上、２６０℃以上、２７０℃以上、２８０℃以上、２９０℃以上、３００℃以上、３１０℃以上、又は３２０℃以上であってよく、好ましくは２６０℃以上、より好ましくは２８０℃以上である。
本開示における含ヨウ素ポリマーの耐熱温度（窒素ガス雰囲気中、１０℃／分の昇温速度で昇温させたときに、５％の重量減少が認められる温度）は、２５０℃以上、２６０℃以上、２７０℃以上、２８０℃以上、２９０℃以上、３００℃以上、３１０℃以上、又は３２０℃以上であってよく、好ましくは２６０℃以上、より好ましくは２８０℃以上である。
【0061】
（含ヨウ素ポリマーの製造方法）
本開示における含ヨウ素ポリマーの製造方法は原料である上記モノマーを重合する工程により得ることができる。
本開示における含ヨウ素ポリマーの製造方法は、
分子量制御剤の存在下、モノマーを重合する工程
を含んでもよい。分子量制御剤の存在下、モノマーを重合することにより、上述した範囲に分子量を制御することが容易となる。
本開示における含ヨウ素ポリマーの製造方法は原料である上記モノマーを重合する工程により得ることができる。
本開示における含ヨウ素ポリマーの製造方法は、
分子量制御剤の存在下、モノマーを重合する工程
を含んでもよい。分子量制御剤の存在下、モノマーを重合することにより、上述した範囲に分子量を制御することが容易となる。
【0062】
原料の使用量は、上述した含ヨウ素ポリマーが得られるように適宜、使用量を変化させて決定することができる。モノマー（１）の使用量は、分子量制御剤１モル部に対して、２.０モル部以上、３.０モル部以上、５.０モル部以上、１０モル部以上、１５モル部以上、又は２０モル部以上であってよく、好ましくは３モル部以上、例えば１０モル部以上である。モノマー（１）の使用量は、分子量制御剤１モル部に対して、５０モル部以下、４５モル部以下、４０モル部以下、３５モル部以下、３０モル部以下、又は２５モル部以下であってよく、好ましくは４０モル部以下である。例えば、分子量制御剤の量を増やすことにより、重合を抑制することができ、分子量の増大を抑制することが可能である。
【0063】
モノマー（２）の使用量は、分子量制御剤１モル部に対して、０．２モル部以上、０．３モル部以上、０．５モル部以上、１.０モル部以上、１.５モル部以上、又は２モル部以上であってよく、好ましくは０．３モル部以上、例えば１モル部以上である。モノマー（２）の使用量は、分子量制御剤１モル部に対して、５.０モル部以下、４.５モル部以下、４.０モル部以下、３.５モル部以下、３.０モル部以下、又は２.５モル部以下であってよく、好ましくは４.０モル部以下である。例えば、分子量制御剤の量を増やすことにより、重合を抑制することができ、分子量の増大を抑制することが可能である。
【0064】
モノマー（２）の使用量は、モノマー（１）１モル部に対して、０．０２モル部以上、０．０３モル部以上、０．０５モル部以上、０．１モル部以上、０．１５モル部以上、又は０．２モル部以上であってよく、好ましくは０．０３モル部以上、例えば０．１モル部以上である。モノマー（２）の使用量は、モノマー（１）１モル部に対して、０．５モル部以下、０．４５モル部以下、０．４モル部以下、０．３５モル部以下、０．３モル部以下、又は０．２５モル部以下であってよく、好ましくは０．４モル部以下である。モノマー（２）の存在により、成膜性が特に向上する。
【0065】
本開示において、重合方法は、特に制限されず、例えば塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等の公知の重合方法で行うことができるが、好ましくは溶液重合である。また、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の公知の重合方法を選択できるが、好ましくはラジカル重合が選択される。モノマーの種類、重合温度等によって適当な重合方法を選択することができる。
【0066】
本開示において、モノマーの種類、重合温度等によって適当な重合開始剤を選択して使用することができる。重合開始剤の例として、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，２－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２，２’－アゾビス（２－アミジノプロパン）ジイヒドロクロリド等のアゾ系開始剤；ベンゾイルパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、ｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、クミルパーオキシド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、エチル３，３－ジ（ｔ－アミルペルオキシ）ブチレート、硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過酸化物系開始剤が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、又は二種類以上を併用して用いてもよい。
【0067】
重合を溶液重合で行う場合には、モノマーやラジカル開始剤の溶解性、及び重合温度等を考慮して適当な溶剤を選択し、その溶剤中で重合を行うことができる。溶剤の例としては、ＤＭＦ、Ｎ-メチル－２－ピロリドン、アセトン、ＴＨＦ、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、クロロベンゼン、メチルエチルケトン、乳酸エチル、イソプロピルアルコール等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、又は二種類以上を併用して用いてもよい。
【0068】
重合温度は、重合開始剤が分解し重合が開始する温度であればよく、例えば、０℃以上、２０℃以上、４０℃以上、６０℃以上、又は７０℃以上であってよく、好ましくは４０℃以上であり、１００℃以下、９０℃以下、８０℃以下、又は７０℃以下であってよい。
【0069】
最適な重合時間は、選択されるモノマー、重合開始剤あるいは重合温度等により決定することができるが、例えば１時間以上、５時間以上、１０時間以上、１５時間以上、又は２０時間以上であってよく、７２時間以下、６０時間以下、４８時間以下、３６時間以下、又は２４時間以下であってよい。
【0070】
重合開始剤の使用量は、モノマーの種類開始剤の種類に応じて変動し得るが、用いるモノマーの合計に対して、例えば、０．１モル％以上、１モル％以上、３モル％以上、５モル％以上、１０モル％以上、１５モル％以上、２０モル％以上、又は２５モル％以上であってよく、５０モル％以下、４０モル%以下、３０モル%以下、２０モル％以下、又は１０モル％以下であってよい。
【0071】
重合溶媒の使用量は、特に制限されないが、原料濃度が５重量％以上、１０重量％以上、１５重量%以上、又は２０重量%以上であってよく、５０重量％以下、４０重量％以下、３０重量％以下、２０重量％以下になる範囲であってよい。
【0072】
＜光学部品＞
本開示における光学材料はコーティング、フィルム、シート、プリズム、レンズ、ファイバー等（以下、コーティング等という）の光学部品として用いられてよい。これら用途に用いる場合、上記光学材料を基材に適用することにより形成されてよい。基材の種類は特に限定されず、樹脂、ガラス、金属、セラミック等であってよい。
本開示における光学材料はコーティング、フィルム、シート、プリズム、レンズ、ファイバー等（以下、コーティング等という）の光学部品として用いられてよい。これら用途に用いる場合、上記光学材料を基材に適用することにより形成されてよい。基材の種類は特に限定されず、樹脂、ガラス、金属、セラミック等であってよい。
【0073】
本開示における光学材料を基材に適用する際は、光学材料は、非溶剤型であってもよいが、上記含ヨウ素ポリマーに加えて、含ヨウ素ポリマーを溶解する溶媒を含む溶液として用いてもよい。溶媒の種類は、含ヨウ素ポリマーを溶解するのであれば、特に限定されないが、例えば、ＴＨＦ、クロロホルム、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等の有機溶媒を用いることが可能である。コーティング液中、含ヨウ素ポリマーの濃度は０．０１ｗｔ％以上、０．１ｗｔ％以上、０．５ｗｔ％以上、又は１ｗｔ％以上であってよく、５ｗｔ％以下、３ｗｔ％以下、１．５ｗｔ％以下、又は０．５ｗｔ％以下であってよい。
【0074】
ヨウ素ポリマーを含有する溶液を基剤に適用し、必要により溶媒を除去させることにより、コーティング等を得てもよい。適用の方法としては、ディッピングコート、スプレーコート、フローコート、シャワーコート、ロールコート、スピンコート、グラビアコート、マイクログラビアコート、コンマロールコート、メイヤーバーコート、スロットバイコート、エアーナイフコート、リップコート、キスコート、刷毛塗り等、一般に用いられる適用の方法が使用できる。溶媒の除去は、特に限定されるものではないが、例えば０～２００℃で行うことができる。
【0075】
基材の種類は特に限定されず、樹脂、ガラス、金属、セラミック等であってよい。
【0076】
コーティングの膜厚は、０．１μｍ以上、１μｍ以上、又は３μｍ以上であってよく、１ｍ以下、５００μｍ以下、２００μｍ以下であってよい。
【0077】
＜光学部品を備える光学物品＞
上記コーティング等の光学部品を備える光学物品の例は、特に限定されないが、高屈折率発光ダイオード（ＬＥＤ）やイメージセンサ等の光デバイス、反射防止膜、レンズ材料、レンズ用塗膜等の高屈折率材料、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、カメラ、内視鏡（ファイバースコープ）、プラネタリウム、測長器、コンパレータ、測距儀、分光計、干渉計、旋光計等の光学機器が好ましい例として挙げられる。
上記コーティング等の光学部品を備える光学物品の例は、特に限定されないが、高屈折率発光ダイオード（ＬＥＤ）やイメージセンサ等の光デバイス、反射防止膜、レンズ材料、レンズ用塗膜等の高屈折率材料、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、カメラ、内視鏡（ファイバースコープ）、プラネタリウム、測長器、コンパレータ、測距儀、分光計、干渉計、旋光計等の光学機器が好ましい例として挙げられる。
【実施例】
【0078】
以下に、本開示の実施形態を実施例により詳細に説明するが、本開示はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0079】
試験方法は以下のとおりである。
＜ＩＲ測定＞
日本分光(株)製 FT/IR 4600を用いた。
＜ＩＲ測定＞
日本分光(株)製 FT/IR 4600を用いた。
【0080】
＜ＮＭＲ測定＞
400MHz-NMR 日本電子(株)製 JOEL ECS-400K又は400MHz-NMR 日本電子(株)製 JOEL ECZ-400を用いた。
400MHz-NMR 日本電子(株)製 JOEL ECS-400K又は400MHz-NMR 日本電子(株)製 JOEL ECZ-400を用いた。
【0081】
＜ＳＥＣ測定＞
以下の機器及び条件において行った。
東ソー(株)製 HLC-8320GPC
カラム；TSKgel SuperMultiporeHZ-M×2 (4.6mmI.D.×15cm×2)
標準；ポリスチレンSRM706 (NIST)
溶離液；THF
検出器；RI;ポラリティ(+)、レスポンス(0.5s)
UV;波長(254nm)、ポラリティ(+)、レスポンス(0.5s)
以下の機器及び条件において行った。
東ソー(株)製 HLC-8320GPC
カラム；TSKgel SuperMultiporeHZ-M×2 (4.6mmI.D.×15cm×2)
標準；ポリスチレンSRM706 (NIST)
溶離液；THF
検出器；RI;ポラリティ(+)、レスポンス(0.5s)
UV;波長(254nm)、ポラリティ(+)、レスポンス(0.5s)
【0082】
＜耐熱性＞
ＴＧＡ測定装置（島津社製Model TGA-50/50H）を用いて、窒素ガス雰囲気中、１０℃／分の昇温速度で、２５℃から４５０℃までの温度範囲で測定した。５％の重量減少が認められる温度Ｔｄを表２に示した。
ＴＧＡ測定装置（島津社製Model TGA-50/50H）を用いて、窒素ガス雰囲気中、１０℃／分の昇温速度で、２５℃から４５０℃までの温度範囲で測定した。５％の重量減少が認められる温度Ｔｄを表２に示した。
【0083】
＜溶解性＞
得られた含ヨウ素ポリマー２ｍｇを、各種有機溶媒２ｍｌに添加して、２５℃で一晩放置した。下記の基準で溶解性を判断した。結果を表２に示す。
○：溶け残り無く溶解
△：一部が溶解せず残る
×：大部分が溶解せず残る
得られた含ヨウ素ポリマー２ｍｇを、各種有機溶媒２ｍｌに添加して、２５℃で一晩放置した。下記の基準で溶解性を判断した。結果を表２に示す。
○：溶け残り無く溶解
△：一部が溶解せず残る
×：大部分が溶解せず残る
【0084】
＜屈折率＞
含ヨウ素ポリマーの屈折率は、含ヨウ素ポリマーをシリコンウエハー上に製膜し、エリプソメータ（株式会社フォトニックラティス社製ＳＥ－１０１）を用いて、波長６３２ｎｍのレーザーで３０点測定し、それらを平均化することにより測定した。結果を表２に示す。
含ヨウ素ポリマーの屈折率は、含ヨウ素ポリマーをシリコンウエハー上に製膜し、エリプソメータ（株式会社フォトニックラティス社製ＳＥ－１０１）を用いて、波長６３２ｎｍのレーザーで３０点測定し、それらを平均化することにより測定した。結果を表２に示す。
【0085】
［モノマー（TIP-AC）の合成］
200mlのナスフラスコに、2,4,6-triiodephenol 14.4g(30mmol), TEA 6ml, THF60mlを入れ、氷浴でAcryloyl chloride 4.07g(45mmol) を10～15分間かけて加え室温で24h攪拌した。黄色固体を得た。Evapoして酢エチを加えた。濾過して塩を取り除き、分液操作（1N HCl, sat NaHCO3, sat NaCl）を各3回行った。有機層にMgSO4を入れて脱水をして減圧乾燥し、黄色粉末固体を12.58g得た。1H-NMR、13C-NMR,IR測定より物性評価を行った。展開溶媒を（クロロホルム：ヘキサン＝1：1）にし、カラムクロマトグラフィーを行った。その後、減圧乾燥して白色固体を得た。ヘキサン、クロロホルムを用いて再結晶を行い、元素分析を行い、得られた化合物がTriiodophenyl acrylate(TIP-AC)であることを確認した。収量は12.58g収率87%であった。
【0086】
［実施例１］
poly(TIP-AC)の合成
重合管にTIP-AC 0.52g(1mmol), DMF 0.3ml, 表１に示す量のAIBN (TIP-ACに対して3 mol%)を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して、含ヨウ素ポリマーを得た。1H-NMR、IR測定、及びGPC測定により組成及び分子量を決定した。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表１～４に示す。
poly(TIP-AC)の合成
【0087】
［実施例２］
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重合管にTIP-AC 0.52g(1mmol), DMF 0.3ml, 4,4'-Thiobisbenzenethiol（TBBT）(TIP-ACに対して1.5 mol%), AIBN (TIP-ACに対して3 mol%) を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して、含ヨウ素ポリマーを得た。1H-NMR、IR測定、及びGPC測定により組成及び分子量を決定した。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表１～４に示す。表１中、ｎは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造１モル部に対するTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量（モル部）の１／２を示している。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
【0088】
［実施例３］
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重合管にTIP-AC 0.52g(1mmol), DMF 0.3ml, TBBT(TIP-ACに対して15mol%)及びAIBN(TIP-ACに対して30mol%)を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。黄色液体と粘性のある固体を得た。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥した。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表１～４に示す。表１中、ｎは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造１モル部に対するTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量（モル部）の１／２を示している。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重合管にTIP-AC 0.52g(1mmol), DMF 0.3ml, TBBT(TIP-ACに対して15mol%)及びAIBN(TIP-ACに対して30mol%)を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。黄色液体と粘性のある固体を得た。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥した。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表１～４に示す。表１中、ｎは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造１モル部に対するTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量（モル部）の１／２を示している。
【0089】
［実施例４］
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を６５℃とした以外は、実施例３と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を６５℃とした以外は、実施例３と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0090】
［実施例５］
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を７０℃とした以外は、実施例３と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を７０℃とした以外は、実施例３と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0091】
［実施例６］
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を７５℃とした以外は、実施例３と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を７５℃とした以外は、実施例３と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0092】
［実施例７］
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を８０℃とした以外は、実施例３と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC)の合成
重量温度を８０℃とした以外は、実施例３と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0093】
［実施例８］
TBBT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
重合管にTIP-AC (0.95mmol 、0.50g), 2-(2-Ethoxyethoxy)ethyl Acrylate(EEA) (0.05mmol、0.009g), DMF 0.3ml, AIBN (TIP-ACとEEAの合計量に対して30mol%、0.05g), TBBT(TIP-ACとEEAの合計量に対して15mol%、0.037g)を入れて脱気封管を行い75℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して含ヨウ素ポリマーを得た。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表１～４に示す。表１中、ｎは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造１モル部に対するTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量（モル部）の１／２を示し、ｍは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造１モル部に対するEEAから誘導された繰り返し単位の量（モル部）の１／２を示している。
TBBT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
【0094】
［実施例９］
TBBT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACを0.90モル、EEAを0.10モル用いた以外は実施例８と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACを0.90モル、EEAを0.10モル用いた以外は実施例８と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0095】
［実施例１０］
TBBT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACを0.80モル、EEAを0.20モル用いた以外は実施例８と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
TBBT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACを0.80モル、EEAを0.20モル用いた以外は実施例８と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0096】
［実施例１１］
BT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
重合管にTIP-AC (0.8mmol 、0.42g), 2-(2-Ethoxyethoxy)ethyl Acrylate(EEA) (0.2mmol、0.037g) ,DMF 0.3ml, AIBN(TIP-ACとEEAの合計量に対して7.5 mol%), Benzenethiol(BT) (TIP-ACとEEAの合計量に対して7.5 mol%) を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して含ヨウ素ポリマーを得た。1H-NMR、IR測定、及びGPC測定により求まった組成及び分子量の結果を表１に示す。表１中、ｎは含ヨウ素ポリマーにおけるBTから誘導された構造１モル部に対するTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量（モル部）を示し、ｍは含ヨウ素ポリマーにおけるTBBTから誘導された構造１モル部に対するEEAから誘導された繰り返し単位の量（モル部）を示している。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った結果を表１～４に示す。
BT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
【0097】
［実施例１２］
BT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
AIBNの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して15 mol%、BTの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して15 mol%とした以外は、実施例１０と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
BT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
AIBNの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して15 mol%、BTの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して15 mol%とした以外は、実施例１０と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0098】
［実施例１３］
BT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
AIBNの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して30 mol%、BTの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して30 mol%とした以外は、実施例１０と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
BT-poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
AIBNの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して30 mol%、BTの量をTIP-ACとEEAの合計量に対して30 mol%とした以外は、実施例１０と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0099】
［実施例１４］
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
重合管にTIP-AC (0.95mmol、0.50g), 2-(2-Ethoxyethoxy)ethyl Acrylate(EEA) (0.05mmol、0.009g) ,DMF 0.3ml, AIBN (3mol%、0.005g), を入れて脱気封管を行い60℃オイルバス中で20h攪拌した。メタノールで再沈殿してメンブレン濾過した後、減圧乾燥して含ヨウ素ポリマーを得た。1H-NMR、IR測定、及びGPC測定により求まった組成及び分子量の結果を表１に示す。得られた含ヨウ素ポリマーについて、熱重量測定、溶解性試験、屈折率測定を行った。結果を表１～４に示す。表１中、ｎとｍは含ヨウ素ポリマーにおけるTIP-ACから誘導された繰り返し単位の量（モル部）と、EEAから誘導された繰り返し単位の量（モル部）との比率を示している。
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
【0100】
［実施例１５］
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACの量を0.9mmol、EEAの量を0.1mmolとした以外は、実施例１４と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACの量を0.9mmol、EEAの量を0.1mmolとした以外は、実施例１４と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0101】
［実施例１６］
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACの量を0.9mmol、EEAの量を0.15mmolとした以外は、実施例１４と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACの量を0.9mmol、EEAの量を0.15mmolとした以外は、実施例１４と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【0102】
［実施例１７］
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACの量を0.9mmol、EEAの量を0.2mmolとした以外は、実施例１４と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
poly(TIP-AC-co-EEA)の合成
TIP-ACの量を0.9mmol、EEAの量を0.2mmolとした以外は、実施例１４と同様にして合成及び試験を行った。表１～４に結果を示す。
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【産業上の利用可能性】
【0103】
本開示の含ヨウ素ポリマーは、高屈折率発光ダイオード（ＬＥＤ）やイメージセンサ等の光デバイス、反射防止膜、レンズ材料、レンズ用塗膜等の高屈折率高分子材料等の高屈折率材料、望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、カメラ、内視鏡（ファイバースコープ）、プラネタリウム、測長器、コンパレータ、測距儀、分光計、干渉計、旋光計等の光学機器に利用できる。特に本開示の含ヨウ素ポリマーは、高屈折率であることの他、溶解性、成膜性、耐熱性及び透明性等が求められる用途に特に好ましく利用できる。
【図1】