7642005 基板姿勢変更装置および基板処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-02-27

(45)【発行日】2025-03-07

(54)【発明の名称】基板姿勢変更装置および基板処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20250228BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20250228BHJP

   H01L 21/027 20060101ALI20250228BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

H01L21/304 643B

H01L21/304 648A

H01L21/30 562

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2023037453

(22)【出願日】2023-03-10

(65)【公開番号】P2024128467

(43)【公開日】2024-09-24

【審査請求日】2023-10-06

(73)【特許権者】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100105935

【弁理士】

【氏名又は名称】振角 正一

(74)【代理人】

【識別番号】100136836

【弁理士】

【氏名又は名称】大西 一正

(72)【発明者】

【氏名】岩崎 孝弘

【審査官】正山 旭

(56)【参考文献】

【文献】特開２００８－０２８２４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０－２００６－００１４８００（ＫＲ，Ａ）

【文献】特開平０９－２２６９１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－０３１２３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０－２００４－０１０７２９５（ＫＲ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／６７７

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板の主面に沿った搬送方向において互いに平行に配列された複数の搬送ローラによって前記搬送方向に搬送される前記基板の姿勢を第１姿勢と前記第１姿勢より傾斜した第２姿勢との間で変更する基板姿勢変更装置であって、
前記複数の搬送ローラを前記搬送方向において互いに隣接する複数本の搬送ローラからなる複数の搬送ローラ群に分割しながら、前記搬送ローラ群毎に当該搬送ローラ群を構成する前記搬送ローラの両端部を当該搬送ローラ群に対応して設けられたローラ支持部で回転自在に支持するローラ支持機構と、
前記ローラ支持部毎に当該ローラ支持部に支持された前記搬送ローラの一方端側で前記搬送方向と平行な回動軸まわりに当該ローラ支持部を回動させることによって当該ローラ支持部で支持された前記搬送ローラを一体的に当該ローラ支持部に対応して設けられた回動部で前記第１姿勢と前記第２姿勢との間で切り替える回動機構と、
前記ローラ支持部毎に当該ローラ支持部に支持された前記搬送ローラを当該ローラ支持部に対応して設けられた駆動部で駆動する駆動機構と、を備え、
各駆動部は、
当該駆動部に対応する前記搬送ローラのうちの１本を直接駆動ローラと定義する一方で、残りを間接駆動ローラと定義したとき、
駆動力を発生するモータと、
前記駆動力を前記モータから前記直接駆動ローラの一方端部に伝達する一方側動力伝達部と、
前記駆動力により回転する前記直接駆動ローラの回転力を前記直接駆動ローラの他方端側で前記間接駆動ローラに伝達する他方側動力伝達部と、を有し、
前記一方側動力伝達部は、
前記搬送方向に延設された状態で前記ローラ支持部に対して回転自在に軸支された回転シャフトを有し、
前記回転シャフトのうち前記モータの回転軸と直交しながら対向する第１位置において前記モータで発生した駆動力を前記回転シャフトに伝達するとともに、前記回転シャフトのうち前記直接駆動ローラの一方端部と直交しながら対向する第２位置において前記回転シャフトに伝達された駆動力を前記直接駆動ローラに伝達することを特徴とする基板姿勢変更装置。

【請求項2】

請求項１に記載の基板姿勢変更装置であって、
前記ローラ支持部毎に当該ローラ支持部に対応する前記搬送ローラ、前記一方側動力伝達部および前記他方側動力伝達部が当該ローラ支持部の内部に配置される一方、当該ローラ支持部に対応する前記モータが前記一方側動力伝達部を挟んで前記搬送ローラの反対側で、かつ当該ローラ支持部の外側に取り付けられている、基板姿勢変更装置。

【請求項3】

請求項２に記載の基板姿勢変更装置であって、
各回動部は、当該回動部に対応する前記ローラ支持部で支持された前記搬送ローラの他方端側で前記ローラ支持部を昇降させる昇降部を有し、前記昇降部による前記ローラ支持部の上昇により前記基板の姿勢を前記第２姿勢に切り替える一方、前記昇降部による前記ローラ支持部の下降により前記基板の姿勢を前記第１姿勢に切り替える、基板姿勢変更装置。

【請求項4】

請求項１に記載の基板姿勢変更装置であって、
前記ローラ支持部毎に前記基板の搬送速度を変更するように、前記複数の駆動部を個別に制御する制御部を備える、基板姿勢変更装置。

【請求項5】

請求項１に記載の基板姿勢変更装置であって、
前記一方側動力伝達部は、
前記モータの前記回転軸に取り付けられた第１スパイラルギアと、
前記第１スパイラルギアに噛合した状態で前記回転シャフトの前記第１位置に取り付けられた第２スパイラルギアと、
前記回転シャフトの前記第２位置に取り付けられた第３スパイラルギアと、
前記第３スパイラルギアに噛合した状態で前記直接駆動ローラの一方端部に取り付けられた第４スパイラルギアと、
を有する、基板姿勢変更装置。

【請求項6】

請求項１ないし５のいずれか一項に記載の基板姿勢変更装置と、
前記複数の搬送ローラによって前記搬送方向に搬送される前記基板の主面に処理液を供給する処理液供給部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

この発明は、基板の主面に沿った搬送方向において互いに平行に配列された複数の搬送ローラによって搬送される基板を第１姿勢と第２姿勢との間で変更する姿勢変更技術に関するものである。ここで、基板としては、ウェーハレベルパッケージ（ＷＬＰ：Ｗａｆｅｒ Ｌｅｖｅｌ Ｐａｃｋａｇｉｎｇ）やパネルレベルパッケージ（ＰＬＰ：Ｐａｎｅｌ Ｌｅｖｅｌ Ｐａｃｋａｇｉｎｇ）といった製造形態で製造される半導体パッケージ用の基板、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板や有機ＥＬ表示装置等のＦＰＤ（Ｆｌａt Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用ガラス基板、太陽電池用基板、等が含まれる。

【背景技術】

【0002】

複数の単位ローラ（本発明の「搬送ローラ」に相当）により搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置に対し、当該基板を水平姿勢と傾斜姿勢との間で切り替える基板姿勢変更装置を組み込む技術が知られている（例えば特許文献１）。この基板姿勢変更装置では、単位ローラ毎にシリンダが接続されている。各シリンダは、単位ローラの一方端部を上下方向に昇降させることで、当該単位ローラを水平姿勢と傾斜姿勢との間で切替可能となっている。このよう従来技術では、複数の単位ローラを個別に水平姿勢と傾斜姿勢との間で姿勢変更させることが可能となっている。このため、次のような態様で基板を搬送することができる。全単位ローラを水平姿勢に切り替えた状態で基板が搬入され、基板姿勢変更装置への基板の進入が完了した時点で、全シリンダを作動させると、基板を水平姿勢から傾斜姿勢に切り替えることができる。そして、傾斜姿勢のまま基板は搬送方向に搬送される。当該搬送開始後においては、傾斜姿勢の基板の後端が通過した順序でシリンダが元の状態に戻される。これによって、上記順序で単位ローラが順次、水平姿勢に戻され、次の基板を受け入れる体制が整えられる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開平９－２２６９１６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

近年、基板の大型化および薄肉化に伴って、搬送方向における搬送ローラのピッチを狭くする必要が生じている。しかしながら、単位ローラ毎にシリンダを取り付けた構造を有する従来装置では、隣り合うシリンダの間での干渉を考慮すると、ピッチの削減にも限界があった。

【0005】

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、基板の主面に沿った搬送方向において互いに平行に配列された複数の搬送ローラによって搬送される基板の姿勢を変更する基板姿勢変更装置において、搬送ローラの狭ピッチ化を可能とすることを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

この発明の第１の態様は、基板の主面に沿った搬送方向において互いに平行に配列された複数の搬送ローラによって搬送方向に搬送される基板の姿勢を第１姿勢と第１姿勢より傾斜した第２姿勢との間で変更する基板姿勢変更装置であって、複数の搬送ローラを搬送方向において互いに隣接する複数本の搬送ローラからなる複数の搬送ローラ群に分割しながら、搬送ローラ群毎に当該搬送ローラ群を構成する搬送ローラの両端部を当該搬送ローラ群に対応して設けられたローラ支持部で回転自在に支持するローラ支持機構と、ローラ支持部毎に当該ローラ支持部に支持された搬送ローラの一方端側で搬送方向と平行な回動軸まわりに当該ローラ支持部を回動させることによって当該ローラ支持部で支持された搬送ローラを一体的に当該ローラ支持部に対応して設けられた回動部で第１姿勢と第２姿勢との間で切り替える回動機構と、ローラ支持部毎に当該ローラ支持部に支持された搬送ローラを当該ローラ支持部に対応して設けられた駆動部で駆動する駆動機構と、を備え、各駆動部は、当該駆動部に対応する搬送ローラのうちの１本を直接駆動ローラと定義する一方で、残りを間接駆動ローラと定義したとき、駆動力を発生するモータと、駆動力をモータから直接駆動ローラの一方端部に伝達する一方側動力伝達部と、駆動力により回転する直接駆動ローラの回転力を直接駆動ローラの他方端側で間接駆動ローラに伝達する他方側動力伝達部と、を有し、一方側動力伝達部は、搬送方向に延設された状態でローラ支持部に対して回転自在に軸支された回転シャフトを有し、回転シャフトのうちモータの回転軸と直交しながら対向する第１位置においてモータで発生した駆動力を回転シャフトに伝達するとともに、回転シャフトのうち直接駆動ローラの一方端部と直交しながら対向する第２位置において回転シャフトに伝達された駆動力を直接駆動ローラに伝達することを特徴としている。

【0007】

また、この発明の第２の態様は、基板処理装置であって、上記基板姿勢変更装置と、複数の搬送ローラによって搬送方向に搬送される基板の主面に処理液を供給する処理液供給部と、を備えたことを特徴としている。

【0008】

このように構成された発明では、搬送方向に基板を搬送するための複数の搬送ローラが、搬送方向において互いに隣接する複数本の搬送ローラからなる複数の搬送ローラ群に分割されている。そして、搬送ローラ群毎に、ローラ支持部が設けられるとともに当該搬送ローラ群を構成する搬送ローラの両端部を回転自在に支持する。また、ローラ支持部毎に、回動部が設けられるとともに当該ローラ支持部に支持された搬送ローラの一方端側で搬送方向と平行な回動軸まわりに当該ローラ支持部を回動可能となっている。したがって、回動部によるローラ支持部の回動によって、搬送ローラ群単位で、搬送ローラが第１姿勢と第２姿勢との間で切り替えられる。

【0009】

また、ローラ支持部毎に、駆動部が設けられるとともに当該ローラ支持部に支持された搬送ローラ（＝直接駆動ローラ＋間接駆動ローラ）を駆動する。より具体的には、各駆動部では、モータで発生した駆動力が直接駆動ローラに伝達されるとともに直接駆動ローラを介して間接駆動ローラにも伝達され、当該ローラ支持部に支持された全搬送ローラが同期して回転する。したがって、搬送ローラの狭ピッチ化が可能となる。その理由は以下のとおりである。

【0010】

例えば上記駆動力を当該ローラ支持部に支持された搬送ローラの全てに伝達する動力伝達機構を搬送ローラの一方端側に設けてもよい。この場合、搬送方向における動力伝達機構の大型化によって搬送ローラのピッチが制限される。これに対し、本発明のように動力伝達機構を搬送ローラの両側に振り分けて設けることで、搬送方向における動力伝達機構の小型化が可能となり、その結果、当該ローラ支持部に支持される搬送ローラを比較的狭いピッチで配列することができる。

【発明の効果】

【0011】

以上のように、本発明によれば、狭ピッチで配列された複数の搬送ローラによって搬送される基板の姿勢を変更することができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明に係る基板処理装置の一実施形態であるリンス部を装備する基板処理システムの一例を示す図である。

【図2】本発明に係る基板処理装置の一実施形態であるリンス部を示す模式図である。

【図3】基板姿勢変更装置を上方から見た平面図である。

【図4】基板姿勢変更装置の一部を拡大した図である。

【図5】搬送ローラの姿勢を切り替える回動部の構成および動作を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

図１は本発明に係る基板処理装置の一実施形態であるリンス部を装備する基板処理システムの一例を示す図である。本実施形態の基板処理システム１００は、液晶表示装置用ガラス基板Ｇ（以下、基板Ｇと称する）に対して、レジスト液の塗布、露光、および露光後の現像を行う装置である。基板処理システム１００は、搬入部１、洗浄部２、デハイドベーク部３、塗布部４、減圧乾燥部５、プリベーク部６、露光部７、現像部８、本発明の「基板処理装置」の一例に相当するリンス部９、ポストベーク部１０および搬出部１１を備えている。これらの処理ユニットは上記の順に互いに隣接して配置され、制御部１２により制御されることで、図示を省略する搬送部によって破線矢印で示す順序で搬送される基板Ｇに対して種々の処理が施される。

【0014】

搬入部１は、基板処理システム１００において処理される基板Ｇを、基板処理システム１００内に搬入する。洗浄部２は、搬入部１へ搬入された基板Ｇを洗浄し、微細なパーティクルをはじめ、有機汚染や金属汚染、油脂、自然酸化膜等を除去する。デハイドベーク部３は、基板Ｇを加熱し、洗浄部２において基板Ｇに付着した洗浄液を気化させることによって、基板Ｇを乾燥させる。

【0015】

塗布部４は、デハイドベーク部３で乾燥処理を行った後の基板Ｇをステージの上面で吸着保持しながら基板Ｇの表面にレジスト液を塗布液として塗布する。そして、減圧乾燥部５は、基板Ｇの表面に塗布された当該レジスト液の溶媒を減圧により蒸発させて、基板Ｇを乾燥させる。

【0016】

上記減圧乾燥部５において減圧乾燥処理が施された基板Ｇはプリベーク部６に搬送され、加熱処理される。このプリベーク部６は基板Ｇを加熱し、基板Ｇ表面のレジスト成分を固化させる加熱処理ユニットである。これにより、基板Ｇの表面に塗布液の薄膜、すなわちレジスト膜が形成される。

【0017】

次に、露光部７は、レジスト膜が形成された基板Ｇの表面に対して、露光処理を行う。露光部７は、回路パターンが描画されたマスクを通して遠紫外線を照射し、レジスト膜にパターンを転写する。現像部８は、露光部７においてパターンが露光された基板Ｇを現像液に浸して、現像処理を行う。

【0018】

リンス部９は、現像部８において現像処理した基板Ｇに対してリンス処理を施す。これにより、現像処理の進行を停止させる。このリンス部９は、本発明に係る基板姿勢変更装置と、基板Ｇの上面（本発明の「主面」の一例に相当）に処理液の一例であるリンス液を供給する処理液供給部と、を備えている。このリンス部９は、その上面を上方に向けた水平姿勢（本願発明の「第１姿勢」の一例）で現像部８から搬入されてくる基板Ｇを受け入れた後で、制御部１２からの指令に応じて基板姿勢変更装置により水平姿勢から数度傾斜した傾斜姿勢（本願発明の「第２姿勢」の一例）に基板Ｇの姿勢を変更する。そして、リンス部９は、傾斜姿勢のままリンス液を上面に供給してリンス処理を行った後で、基板Ｇをポストベーク部１０に搬出する。また、従来装置と同様に、傾斜姿勢の基板Ｇの後端が通過した順序で基板Ｇを搬送する搬送ローラが順次、水平姿勢に戻され、次の基板Ｇを受け入れる体制が整えられる。なお、リンス部９の構成および動作については、後で詳述する。

【0019】

ポストベーク部１０は、基板Ｇを加熱し、リンス部９において基板Ｇに付着したリンス液を気化させることによって、基板Ｇを乾燥させる。基板処理システム１００の各処理ユニットにおいて処理が施された基板Ｇは、搬出部１１へ搬送される。そして、搬出部１１から基板Ｇが基板処理システム１００の外部へ搬出される。

【0020】

なお、本実施形態の基板処理システム１００は露光部７を有しているが、本発明の基板処理装置においては、露光部が省略されていてもよい。その場合、基板処理装置を、別体の露光装置と組み合わせて使用すればよい。

【0021】

図２は本発明に係る基板処理装置の一実施形態であるリンス部９を示す模式図である。図２および以降の各図にはそれらの方向関係を明確にするため、Ｚ方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を適宜付している。また、理解を容易にする目的で、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。

【0022】

このリンス部９は、現像部８およびポストベーク部１０の間に設けられた筐体９１に収容されている。筐体９１は、現像部８とリンス部９とを区画する仕切板９１１、およびリンス部９とポストベーク部１０とを区画する仕切板９１２を備えている。仕切板９１１には基板Ｇを通過させるための通路口９１３が、また仕切板９１２には基板Ｇを通過させるための通路口９１４が、それぞれ設けられている。

【0023】

リンス部９では、複数の搬送ローラ９２が基板Ｇの上面に沿った搬送方向Ｘに配列されている。各搬送ローラ９２は、回転軸９２１と、回転軸９２１に固着された複数の基板支持部９２２とで構成されている。本実施形態では、基板Ｇの大型化および薄肉化に対応すべく、搬送ローラ９２は従来装置（例えば特許文献１に記載の装置）よりも狭いピッチで配列されている。本実施形態では、２４個の搬送ローラ９２が配列されている。また、搬送ローラ９２により搬送する基板Ｇの姿勢を水平姿勢と傾斜姿勢との間で変更するために、基板姿勢変更装置９３が設けられている。

【0024】

図３は基板姿勢変更装置を上方から見た平面図である。図４は基板姿勢変更装置の一部を拡大した図であり、同図（ａ）は拡大平面図であり、同図（ｂ）は拡大側面図である。基板姿勢変更装置９３は、図３に示すように、８個のローラ支持部９４ａ～９４ｈを有するローラ支持機構９４を備えている。ローラ支持部９４ａ～９４ｈは、搬送方向Ｘに沿って、この順序で隣接して配置されている。すなわち、本実施形態では、２４個の搬送ローラ９２が搬送方向Ｘにおいて互いに隣接する３本の搬送ローラからなる８個の搬送ローラ群９２ａ～９２ｈに分割され、搬送ローラ群９２ａ～９２ｈを構成する搬送ローラ９２がそれぞれローラ支持部９４ａ～９４ｈの内部で回転自在に支持されている。そして、ローラ支持部９４ａ～９４ｈに対し、駆動部９５ａ～９５ｈがそれぞれ設けられて搬送ローラ９２を駆動し、また回動部９６ａ～９６ｂがそれぞれ設けられて搬送ローラ９２の姿勢を切り替えるように、制御部１２は装置各部を制御する。このように、基板姿勢変更装置９３は、駆動部９５ａ～９５ｈを有する駆動機構と、回動部９６ａ～９６ｈを有する回動機構とを備え、搬送ローラ群単位で個別に搬送ローラ９２の駆動と姿勢とを制御可能となっている。なお、本実施形態では、基板処理システム１００全体を制御する制御部１２により基板姿勢変更装置９３を制御しているが、リンス部９の各部制御に特化した制御部を設け、当該制御部により搬送ローラ群単位で個別に搬送ローラ９２の駆動と姿勢とを制御するように構成してもよい。また、ローラ支持部９４ａ～９４ｈ、駆動部９５ａ～９５ｈおよび回動部９６ａ～９６ｈは、それぞれ同一構成であるため、以下において、ローラ支持部９４ａ、駆動部９５ａおよび回動部９６ａの構成および動作について説明し、その他については同一または相当符号を付して説明を省略する。

【0025】

図３および図４（ａ）に示すように、ローラ支持部９４ａは、鉛直方向Ｚに開口した角筒形状を有する支持本体９４０を有している。支持本体９４０の内部には、Ｘ方向に延びる仕切板９４１、９４２が基板Ｇの幅方向Ｙに一定間隔だけ離間して固定配置されている。仕切板９４１、９４２によってローラ支持部９４ａの内部では、３つの空間ＳＰ１～ＳＰ３が形成されている。また、各仕切板９４１、９４２には、３つのベアリング９４３が搬送ローラ９２の配列ピッチＰでＸ方向に取り付けられている。そして、Ｙ方向において互いに対向する一対のベアリング９４３に搬送ローラ９２のシャフト両端部がそれぞれ挿入され、搬送ローラ９２が空間ＳＰ２において回転自在に軸支されている。また、搬送ローラ９２の（－Ｙ）方向側に位置する空間ＳＰ１（以下「一方側空間ＳＰ１」という）に一方側動力伝達部９５１が配置される一方、搬送ローラ９２の（＋Ｙ）方向側に位置する空間ＳＰ３（以下「他方側空間ＳＰ３」という）に他方側動力伝達部９５２が配置されている。また、支持本体９４０の（－Ｙ）方向側の側面には、モータ９５３が取り付けられている。具体的には、モータ９５３は一方側動力伝達部９５１を挟んで搬送ローラ９２の反対側で、かつローラ支持部９４ａの外側に取り付けられている。これらローラ支持部９４ａに設けられた一方側動力伝達部９５１、他方側動力伝達部９５２およびモータ９５３は、搬送ローラ群９２ａを構成する搬送ローラ９２を回転駆動するための駆動部９５ａの構成要素であり、その詳細については後で説明する。

【0026】

搬送ローラ群９２ａおよび駆動部９５ａが取り付けられたローラ支持部９４ａは、筐体９１内において、搬送ローラ９２の一方端側、つまり（－Ｙ）方向側で、搬送方向Ｘと平行な回動軸ＡＸまわりに回動自在に設けられている。また、ローラ支持部９４ａの他方側、つまり（＋Ｙ）方向側では、回動部９６ａが取り付けられている。

【0027】

図５は搬送ローラの姿勢を切り替える回動部の構成および動作を示す図であり、同図（ａ）は搬送ローラを水平姿勢に切り替えたときの回動部の各部を示す図であり、同図（ｂ）は搬送ローラを傾斜姿勢に切り替えたときの回動部の各部を示す図である。回動部９６ａは、ローラ支持部９４ａの（＋Ｙ）方向側の下面領域を鉛直方向Ｚに昇降することで、ローラ支持部９４ａを回動軸ＡＸまわりに回動し、搬送ローラ９２の姿勢を水平姿勢と傾斜姿勢との間で切り替える。より具体的には、回動部９６ａは、上記下面領域に取り付けられてローラ支持部９４ａを下方から支持する支持部材９６１と、支持部材９６１を昇降させる昇降部９６２と、支持部材９６１と昇降部９６２の一部とを連結するリンクブロック９６３とを有している。

【0028】

昇降部９６２は、図５に示すように、筐体９１に取り付けられた柱状部材９６２ａと、鉛直方向Ｚに平行に延びた状態で柱状部材９６２ａに取り付けられたボールネジ９６２ｂと、ボールネジ９６２ｂの下端部に連結されたモータ９６２ｃと、ボールネジ９６２ｂに螺合されたブラケット９６２ｄとを備えている。そして、制御部１２からの昇降指令に応じてモータ９６２ｃが作動すると、ボールネジ９６２ｂが回転し、その回転量に応じてブラケット９６２ｄが鉛直方向Ｚに昇降する。このように構成されたブラケット９６２ｄに対し、リンクブロック９６３を介して支持部材９６１が連結されている。より詳しくは、図５（ａ）に示すように、支持部材９６１は上下方向に延設されたロッド形状を有している。そして、ブラケット９６２ｄが下限位置に位置しているとき、支持部材９６１およびリンクブロック９６３の中心軸が鉛直方向Ｚと平行となっている。ただし、支持部材９６１の中心軸はリンクブロック９６３の中心軸から（－Ｙ）方向に少しずれている。そして、制御部１２からの上昇指令がモータ９６２ｃに与えられると、図５（ｂ）に示すように、回転量に応じてブラケット９６２ｄが鉛直方向Ｚに上昇する。このブラケット９６２ｄの上昇に応じてリンクブロック９６３および支持部材９６１を介してローラ支持部９４ａの（＋Ｙ）方向側の端部が上方に押し遣られ、ローラ支持部９４ａが回動軸ＡＸまわりに回動する。その結果、図４（ｂ）中の１点鎖線で示すように、当該ローラ支持部９４ａに支持された搬送ローラ９２が水平姿勢より数度だけ傾斜した傾斜姿勢に変更される。

【0029】

逆に、この傾斜姿勢の状態（ブラケット９６２ｄが上限位置に位置した状態）で制御部１２からモータ９６２ｃに下降指令が与えられると、ブラケット９６２ｄの下降に伴い、リンクブロック９６３および支持部材９６１とともにローラ支持部９４ａの（＋Ｙ）方向側の端部が下降する。これによって、搬送ローラ９２は水平姿勢に戻る（図５（ａ））。

【0030】

図４（ａ）に戻って、駆動部９５ａの構成および動作について説明する。駆動部９５ａは、一方側動力伝達部９５１、他方側動力伝達部９５２およびモータ９５３を有している。モータ９５３は、回転軸９６３ａを一方側空間ＳＰ１に進入させた状態で、ローラ支持部９４ａの（－Ｙ）方向側の外側面に取り付けられている。

【0031】

一方側空間ＳＰ１には、一方側動力伝達部９５１が配置されている。一方側動力伝達部９５１は、Ｘ方向に延設された回転シャフト９５１ａを有している。回転シャフト９５１ａは一方側空間ＳＰ１内でローラ支持部９４ａに対して回転自在に軸支されている。回転シャフト９５１ａのうちモータ９５３の回転軸と対向する位置において、回転軸に取り付けられたスパイラルギア９５１ｂと噛合するようにスパイラルギア９５１ｃが取り付けられている。このため、制御部１２からの指令に応じてモータ９５３が作動すると、モータ９５３で発生した駆動力が一対のスパイラルギア９５１ｂ、９５１ｃを介して回転シャフト９５１ａに伝達され、回転シャフト９５１ａが回転する。この回転シャフト９５１ａのうち一の搬送ローラ９２の（－Ｙ）方向側の端部、つまり回転軸９２１の一方側端部に対向する位置において、当該端部に取り付けられたスパイラルギア９５１ｄと噛合するようにスパイラルギア９５１ｅが取り付けられている。このため、回転シャフト９５１ａの回転が一対のスパイラルギア９５１ｄ、９５１ｅを介して搬送ローラ９２の回転軸９２１に伝達され、搬送ローラ９２が回転する。このように、モータ９５３で発生した駆動力が一方側動力伝達部９５１を介して一の搬送ローラ９２（図４（ａ）において最も（－Ｘ）方向側に位置するもの）に伝達され、直接的に駆動される。このように回転シャフト９５１ａ、４つのスパイラルギア９５１ｂ～９５１ｅによって一方側動力伝達部９５１が構成され、モータ９５３の駆動力を上記搬送ローラ９２に直接的に伝達している。こうして直接駆動される搬送ローラ９２を「直接駆動ローラ」と称する。また、３つの搬送ローラ９２のうち残りの２本（図４（ａ）において直接駆動ローラよりも（＋Ｘ）方向側に位置するもの）については、次に説明するように、直接駆動ローラを介して駆動されるため、「間接駆動ローラ」と称する。なお、一方側動力伝達部９５１では、スパイラルギア９５１ｂ～９５１ｅによって動力伝達を図っているが、磁石の吸引・反発の力を利用したマグネットギアなどの非接触動力伝達装置を用いてもよい。また、ギア輪列方式やベルト方式などの他の動力伝達方法を用いてもよい。この点については、次に説明する他方側動力伝達部９５２についても同様である。

【0032】

直接駆動ローラの回転軸９２１の（＋Ｙ）方向側端部、つまり他方側端部は空間ＳＰ３に延設され、他方側動力伝達部９５２と接続されている。他方側動力伝達部９５２は、Ｘ方向に延設された回転シャフト９５２ａを有している。回転シャフト９５２ａは他方側空間ＳＰ３内でローラ支持部９４ａに対して回転自在に軸支されている。回転シャフト９５２ａのうち直接駆動ローラの回転軸９２１と対向する位置において、当該回転軸９２１に取り付けられたスパイラルギア９５２ｂと噛合するようにスパイラルギア９５２ｃが取り付けられている。このため、直接駆動ローラの回転力が一対のスパイラルギア９５２ｂ、９５２ｃを介して回転シャフト９５２ａに伝達され、回転シャフト９５２ａが回転する。この回転シャフト９５２ａのうち２つの間接駆動ローラの（＋Ｙ）方向側の端部、つまり回転軸９２１の他方側端部に対向する位置において、各端部に取り付けられたスパイラルギア９５２ｄ、９５２ｅと噛合するようにスパイラルギア９５２ｆ、９５２ｇが取り付けられている。このため、上記回転力がスパイラルギア９５２ｄ～９５２ｇを介して間接駆動ローラに伝達され、間接駆動ローラが直接駆動ローラと同期して回転する。これによって、これら直接駆動ローラ、間接駆動ローラの姿勢を問わず、基板Ｇを搬送方向Ｘに搬送可能となっている。

【0033】

上記した構成や動作については、上記したように他のローラ支持部９４ｂ～９４ｈ、駆動部９５ｂ～９５ｈおよび回動部９６ｂ～９６ｈも同様である。したがって、制御部１２により駆動部９５ａ～９５ｈおよび回動部９６ａ～９６ｈを統合的に制御することで、従来装置と同様に、基板Ｇの姿勢を水平姿勢および傾斜姿勢に変更し、しかも何れの姿勢でも基板Ｇを搬送方向Ｘに搬送することができる。また、制御部１２により駆動部９５ａ～９５ｈおよび回動部９６ａ～９６ｈを個別に制御することで、基板Ｇの姿勢変更のタイミングや搬送速度を搬送ローラ群単位で調整することも可能となっている。例えば、各搬送ローラ群での基板Ｇの有無に応じて当該搬送速度を変更してもよい。

【0034】

リンス部９には、図２に示すように、上記搬送ローラ９２により搬送される基板Ｇの上面にリンス液Ｌを供給する処理液供給部として、リンス液ノズル９７ａと、シャワーノズル９７ｂとが設けられている。リンス液ノズル９７ａは、筐体９１における仕切板９１１の下流側近傍に設けられている。また、リンス液ノズル９７ａよりも下流側で、複数のシャワーノズル９７ｂが基板Ｇの上方からリンス液を供給する。これにより基板Ｇの上面はリンス液Ｌの液膜により覆われ洗浄される。

【0035】

以上のように、本実施形態では、搬送方向Ｘに基板Ｇを搬送するための複数の搬送ローラ９２を８個の搬送ローラ群９２ａ～９２ｈに分割し、搬送ローラ群単位で搬送ローラ９２の姿勢を水平姿勢と傾斜姿勢との間で変更するように構成している。したがって、互いに隣接する搬送ローラ９２のピッチＰを狭めても、搬送ローラ９２の姿勢を切り替えるための回動部９６ａ～９６ｈが互いに干渉するのを確実に防止することができる。

【0036】

また、本実施形態では、搬送ローラ群単位で搬送ローラ９２の駆動が制御される。より詳しくは、ローラ支持部９４ａ～９４ｈ毎に駆動部９５ａ～９５ｈが設けられている。そして、各駆動部９５ａ～９５ｈでは、モータ９５３で発生した駆動力が一方端側（－Ｙ方向側）で直接駆動ローラに伝達されるとともに、他方端側（＋Ｙ方向側）で直接駆動ローラを介して間接駆動ローラ，９２Ｉに伝達され、３本の搬送ローラ９２が同期して回転する。すなわち、動力伝達機構として機能する一方側動力伝達部９５１および他方側動力伝達部９５２をそれぞれ搬送ローラ９２の一方側および他方側に振り分けて設けることで、搬送方向Ｘにおける動力伝達機構の小型化が可能となる。その結果、１個のモータ９５３で駆動する３本の搬送ローラ９２を比較的短いピッチＰで配列することが可能となり、従前からの基板Ｇはもちろんのこと、大型でかつ薄肉の基板Ｇについて、基板Ｇの姿勢変更および搬送が可能となる。

【0037】

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記実施形態では、搬送ローラ群を互いに隣接する３つの搬送ローラで構成しているが、搬送ローラ群を構成する搬送ローラの個数は、「３」に限定されるものではなく、「２」または「４以上」であってもよい。

【0038】

また、上記実施形態では、搬送ローラ群９２ａ～９２ｈにおける搬送ローラ個数を一致させているが、搬送ローラ群間で搬送ローラ個数を相違させてもよい。

【0039】

また、上記実施形態では、ローラ支持部９４ａ～９４ｈの（＋Ｙ）方向側の下面領域を鉛直方向Ｚに昇降させる駆動源として、いわゆるボールネジ駆動を用いているが、特許文献１に記載のシリンダなどの他の駆動源を用いてもよい。

【0040】

また、上記実施形態では、リンス部９に配列された全搬送ローラ９２が本発明の「複数の搬送ローラ」に相当しているが、全搬送ローラ９２の一部が本発明の「複数の搬送ローラ」に相当するように構成してもよい。例えば、リンス液ノズル９７ａの下方に位置する搬送ローラ９２を除く搬送ローラ９２全部が本発明の「複数の搬送ローラ」に相当するように構成してもよい。

【0041】

また、上記実施形態では、現像処理を受けた基板Ｇに対してリンス処理を施すリンス部９に対して本発明を適用しているが、図１中の洗浄部２に対して本発明を適用してもよい。また、これら洗浄部２やリンス部９以外に、複数の搬送ローラにより基板を搬送する基板搬送装置および当該基板搬送装置を装備する基板処理装置全般に本発明を適用することができる。

【産業上の利用可能性】

【0042】

この発明は、基板の主面に沿った搬送方向において互いに平行に配列された複数の搬送ローラによって搬送される基板を第１姿勢と第２姿勢との間で変更する姿勢変更技術全般に適用することができる。

【符号の説明】

【0043】

９…リンス部（基板処理装置）
９２…搬送ローラ
９２ａ～９２ｈ…搬送ローラ群
９３…基板姿勢変更装置
９４…ローラ支持機構
９４ａ～９４ｈ…ローラ支持部
９５ａ～９５ｈ…駆動部
９６ａ～９６ｂ…回動部
９７ａ…リンス液ノズル（処理液供給部）
９７ｂ…シャワーノズル（処理液供給部）
９５１…一方側動力伝達部
９５２…他方側動力伝達部
９５３…モータ
９６２…昇降部
ＡＸ…回動軸
Ｇ…基板
Ｌ…リンス液（処理液）
Ｘ…搬送方向
Ｙ…幅方向
Ｚ…鉛直方向

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】