特許7642178掃除用パテ及びこれを用いた半導体実装部品の清掃方法

発明の名称　掃除用パテ及びこれを用いた半導体実装部品の清掃方法

出願人　富士高分子工業株式会社　（識別番号 237422）

　　　　特許公開件数ランキング 13975 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 2323 位（2件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7642178

公報発行日　2025年3月7

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7642178

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