7642685 ガス選択性膜を用いた温度依存性ガス検出方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-02-28

(45)【発行日】2025-03-10

(54)【発明の名称】ガス選択性膜を用いた温度依存性ガス検出方法

(51)【国際特許分類】

   G01M 3/20 20060101AFI20250303BHJP

   G01N 7/10 20060101ALI20250303BHJP

【ＦＩ】

G01M3/20 Z

G01N7/10 Z

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2022580240

(86)(22)【出願日】2021-05-25

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-07-20

(86)【国際出願番号】 EP2021063924

(87)【国際公開番号】W WO2021259581

(87)【国際公開日】2021-12-30

【審査請求日】2024-01-10

(31)【優先権主張番号】102020116660.5

(32)【優先日】2020-06-24

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(73)【特許権者】

【識別番号】500469855

【氏名又は名称】インフィコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

【氏名又は名称原語表記】Ｉｎｆｉｃｏｎ ＧｍｂＨ

【住所又は居所原語表記】Ｂｏｎｎｅｒ Ｓｔｒａｓｓｅ ４９８， Ｄ－５０９６８ Ｋｏｅｌｎ， Ｇｅｒｍａｎｙ

(74)【代理人】

【識別番号】100087941

【弁理士】

【氏名又は名称】杉本 修司

(74)【代理人】

【識別番号】100112829

【弁理士】

【氏名又は名称】堤 健郎

(74)【代理人】

【識別番号】100142608

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 由佳

(74)【代理人】

【識別番号】100155963

【弁理士】

【氏名又は名称】金子 大輔

(74)【代理人】

【識別番号】100150566

【弁理士】

【氏名又は名称】谷口 洋樹

(74)【代理人】

【識別番号】100213470

【弁理士】

【氏名又は名称】中尾 真二

(74)【代理人】

【識別番号】100220489

【弁理士】

【氏名又は名称】笹沼 崇

(74)【代理人】

【識別番号】100187469

【弁理士】

【氏名又は名称】藤原（橋詰） 由子

(74)【代理人】

【識別番号】100225026

【弁理士】

【氏名又は名称】古後 亜紀

(72)【発明者】

【氏名】デッカー・シルヴィオ

【審査官】福田 裕司

(56)【参考文献】

【文献】独国特許出願公開第１０２０１６２００２７０（ＤＥ，Ａ１）

【文献】特表２００９－５４０２６８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２００８－５４１０７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－１７９５８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００２－２０２２３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表平１１－５０７５８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許第０７９０５１３２（ＵＳ，Ｂ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０１Ｍ ３／００～３／４０

Ｇ０１Ｎ ７／１０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ガス選択性膜（１２）、
当該ガス選択性膜（１２）の温度である膜温度を変化させるための温度装置（１４）、および
前記ガス選択性膜（１２）を透過したガスの量に基づいて測定信号を検出するための検出器（２０）
を用いたガスの検出方法であって、
前記温度装置（１４）を用いて前記ガス選択性膜（１２）の前記膜温度を変化させる工
程と、
前記膜温度が第１の温度値（Ｔ_１）に設定される時間（ｔ）において、前記検出器（２０）を使用して少なくとも１つの第１の測定値（Ｈ_ｎ、Ｈ_ｎ＋１、Ｈ_ｎ＋２）を取得する工程と、
前記膜温度が前記第１の温度値（Ｔ_１）とは異なる第２の温度値（Ｔ_２）に設定される時間（ｔ）において、前記検出器（２０）を使用して少なくとも１つの第２の測定値（Ｌ_ｎ、Ｌ_ｎ＋１）を取得する工程と、
前記第１の測定値と第２の測定値の差を計算する工程と、
検出対象のガス種があるか否かを、前記差を用いて評価する工程と、
を有することを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項2】

請求項１に記載のガスの検出方法であって、前記膜温度の変更は、当該膜温度が前記第１の温度値（Ｔ _１ ）と前記第２の温度値（Ｔ _２ ）に交互に設定されるように、周期的に繰り返されるサイクルで行われ、
第１の膜温度における第１の測定値（Ｈ_ｎ，Ｈ_ｎ＋１）と、第２の膜温度における第２の測定値（Ｌ _ｎ ，Ｌ _ｎ＋１ ）は、少なくとも２つのサイクルにおいて取得されることを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項3】

請求項２に記載のガスの検出方法であって、
少なくとも２つのサイクルにおいて取得された２つの前記第１の測定値（Ｈ_ｎ、Ｈ_ｎ＋１）の平均値と、
前記２つの第１の測定値（Ｈ_ｎ、Ｈ_ｎ＋１）の間に取得された前記第２の測定値（Ｌｎ）との、
差を計算することを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項4】

請求項２に記載のガスの検出方法であって、
少なくとも２つのサイクルにおいて取得された２つの前記第２の測定値（Ｌ_ｎ、Ｌ_ｎ＋１）の平均値と、
前記２つの第２の測定値（Ｌ_ｎ、Ｌ_ｎ＋１）の間に取得された前記第１の測定値（Ｈ_ｎ＋１）との、
差を計算することを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項5】

請求項１から４のいずれか一項に記載のガスの検出方法であって、前記膜温度の変更は、当該膜温度を測定し調整することによって行われ、当該膜温度の調整は、ゼロよりも大きい前記第１の温度値（Ｔ _１ ）と、前記第２の温度値（Ｔ_２）の間で行われることを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項6】

請求項１から５のいずれか一項に記載のガスの検出方法であって、第１の温度値（Ｔ_１）と第２の温度値（Ｔ_２）との間の設定の変更は、先の温度値を設定した時から少なくとも２秒後に行われることを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項7】

請求項１から６のいずれか一項に記載のガスの検出方法であって、前記膜温度として設定される前記第１の温度値（Ｔ_１ ）と前記第２の温度値（Ｔ_２）の間の差が、２～１０Ｋであることを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項8】

請求項１から７のいずれか一項に記載のガスの検出方法であって、前記第１の測定値と第２の測定値は、前記温度装置（１４）に対して第１の温度値（Ｔ _１ ）または第２の温度値（Ｔ _２ ）が新たに設定された後、少なくとも２～５秒後にのみ、取得されることを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項9】

請求項８に記載のガスの検出方法であって、前記温度装置（１４）が加熱形式の装置であり、前記膜温度の少なくとも前記第１の温度値（Ｔ_１）が前記ガス選択性膜（１２）の外部環境の温度よりも高いことを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項10】

請求項９に記載のガスの検出方法であって、前記膜温度として新しい温度値を設定する前に、加熱が停止され、前記第１の温度値（Ｔ_１）と前記第２の温度値（Ｔ_２）がそれぞれ周囲温度よりも高いことを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項11】

請求項１から１０のいずれか一項に記載のガスの検出方法であって、前記検出器（２０）にガスを引き込むポンプを使用することは無いことを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項12】

請求項１から１１のいずれか一項に記載のガスの検出方法であって、当該方法は、
建物の部屋内のガスを検出するために使用されることを特徴とする、ガスの検出方法。

【請求項13】

請求項１から１２のいずれか一項に記載のガスの検出方法であって、前記検出器（２０）がガス測定装置または圧力測定装置であることを特徴とする、ガスの検出方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ガス選択膜を用いたガス検知方法に関し、とりわけ特定のガスに対する透過性が温度に依存するガス選択性膜を用いたガス検知方法に関する。

【背景技術】

【0002】

このようなガス選択性膜を用いたガス検出では、膜温度を、検出対象のガス種における膜のガス透過率が最大となる温度値に設定することが知られている。このため、室温よりも高い温度でガス透過性が最大となる場合には、通常、膜を加熱することが行われている。

【0003】

膜を透過するガスの量は、膜温度と、上流側のガス（すなわち、膜に到達する直前におけるガス）および下流側のガス（膜を通過した直後におけるガス）の分圧差と、に依存する。膜の下流側で検出されるべきガスの検出は、検出器を用いて行われ、当該検出器は、ガス測定装置（例えば質量分析器）や、ガスの全圧を測定する圧力測定装置であってもよい。膜が特定のガス種に対して高い選択性を有する場合、ガスの全圧を測定することが有利である。

【0004】

ガス選択性膜を用いた温度依存性ガス検知では、ガスの測定信号に、例えば温度に依存するオフセット信号や、ガスセンサの経年劣化に依存するオフセット信号が、重畳される。このオフセット信号を決定するために、センサの上流側においてポンプを用いて排気を行うことによりガスを除去し、ガスのない真空中におけるオフセット信号を測定することができる。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明の目的は、ガス選択性膜を用いた温度依存性ガス検出方法を提供し、特にオフセット信号による測定信号への影響を低減した温度依存性ガス検出方法を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明による方法は、請求項１の特徴によって定義される。

【0007】

本発明による検出は、検出対象のガス種に対して、温度に依存した透過性を有する、ガス選択性膜を用いて行われる。温度装置は、膜温度を変化させるように構成されている。温度デバイスは、好ましくは加熱装置である。しかし、膜の透過性が膜の周囲温度よりも低い温度で最大となる場合には、冷却装置であることも考えられる。検出器が設けられ、膜を透過するガスの量に依存して測定信号を検出するように構成される。検出器は、ガス測定装置（例えば質量分析器）、あるいは圧力測定装置（例えば全圧測定装置）であってもよい。

【0008】

本発明の方法によれば、膜温度は、時系列で当該温度をゼロとは異なる少なくとも２つの異なる値に順次調整するように、温度装置を用いて変更される。検出器の測定信号を取得することにより、膜温度として第１の温度値を採用した時における少なくとも１つの第１の測定値が得られる。その後、第１の時間とは異なる第２の時間における測定信号の、少なくとも１つの第２の測定値が取得され、第２の時間における膜温度として、第１の温度値とは異なる第２の温度値を採用する。取得された２つの測定値から差分が算出される。算出された差分信号に基づいて、検出対象ガスが存在しており、且つそれが測定されたか否かの評価が行われる。

【0009】

ガス選択性膜における検出対象ガスの透過率は、２つの膜温度のうちの一方の膜温度において、他方の膜温度よりも高いことが好ましい。例えば、膜温度が第１の温度値の時に、膜温度が第２の温度値の時よりも透過率が高くなっていてもよい。好ましくは、透過率は、膜温度が第１の温度値の時に最大となる。

【0010】

第１の膜温度の時よりも第２の膜温度の時の方が膜の透過率が低い場合、第１の測定値よりも第２の測定値の方がオフセットの割合が小さくなる。一方、透過率が増加することによって、検出対象ガスに起因して生じる測定信号が占める割合は、第１の測定値においてより高くなる。このオフセットの割合は、差分を算出することにより減少させることができる。

【0011】

好ましくは、膜温度は、膜温度が交互にかつ周期的に繰り返される間隔で順次２つの温度値を採用するように周期的に変更され、それぞれの温度に対する測定値は、少なくとも２つの異なる間隔を空けつつ取得される。したがって、第１の測定値は、膜温度が第１の温度値を採用する場合に、それぞれの場合において連続した間隔で取得される。また、膜温度として第２の温度値を採用した場合には、それぞれの場合において第２の測定値が連続した間隔で取得される。

【0012】

膜温度の変化は、ゼロとは異なる２つの温度値の間の制御によって行うことができる。温度制御は、膜温度をより低い温度値からより高い温度値へと制御するために、温度測定装置を用いて膜温度を測定し、加熱装置を用いて膜を加熱することによって行うことができる。

【0013】

後続の間隔の２つの測定値について差を計算する場合、測定値の平均値は、それぞれの場合において後続の間隔にわたって計算され、使用され得る。例えば、差は、少なくとも２つの異なる間隔で取得された第１の測定値の平均値と、これら２つの第１の測定値の間で取得された第２の測定値との間で計算することができる。代替案として、差は、少なくとも２つの異なる間隔で取得された平均値と、２つの第２の測定値の間で取得された第１の測定値との間でも計算することができる。

【0014】

膜温度を変更するために、膜温度に影響するパラメータを温度装置で調整し変更することができる。このパラメータの変更、及びそれに伴う膜温度のある温度値から次の温度値への変更は、少なくとも２秒の期間が経った後すぐに、好ましくは約５秒～約１５秒の範囲内の期間を経た後に生じさせることが望ましい。

【0015】

温度装置によって調整されて変更される、複数の異なる膜温度の差は、約２Ｋ～１０Ｋであってもよく、好ましくは約３Ｋ～６Ｋであってもよい。これは、特に第１の温度値と第２の温度値との差に適用される。ここで、温度装置は、加熱として設計されることが好ましく、少なくとも膜温度についての第１の温度値は、膜の外部環境（membrane environment）の温度よりも高い。膜温度を後続の新たな温度値へと調整する前に、数秒のあいだ加熱を停止にすることができ、膜温度として設定された第１の温度値および同じく設定された第２の温度値は、それぞれ周囲温度よりも高い温度である。有利には、測定信号の測定値は、温度装置において新たな温度値が設定された後、または膜温度に影響を及ぼすパラメータが変更された後、数秒後に、好ましくは約２～５秒ほど後に、各関連する区間で取得される。

【0016】

本発明の方法において、好ましくは、膜の上流側のガスの圧力と膜の下流側のガスの圧力との間の差圧を発生させるためにポンプを使用することはない。本発明の方法は、特に、建物の室内でのガスの検知に用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。

【0018】

【図1】ガス検出装置の概略図である。

【図2】測定信号の模式図である。

【図3】図１の温度装置および制御装置の概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

図１は、温度に依存した透過性を有するガス選択性膜１２を備えるガス検出装置１０を模式的に示している。膜１２は、膜１２上に配置された加熱素子を有する加熱形式の温度装置１４によって加熱される。加熱装置は、制御装置１６を介して制御される。制御装置１６は、温度装置１４の一部である。加熱の出力と、膜１２の加熱効果とに影響を与えるパラメータは、制御装置１６を介して入力される。そのため、加熱装置１４に影響を与え、また膜１２の温度を変化させるパラメータは、制御装置１６を介して変更することができる。加熱装置（heating）１４は、ガスが加熱装置１４を通過すると共に、膜１２を図１の矢印１８の方向に通過できるように、膜１２に設置される。圧力測定装置の形式の検出器２０は、図１に矢印１８で示した流れ方向における下流側、すなわち膜１２の背後に配置される。膜１２を透過したガスは、検出器に到達し、そこで測定される圧力を増加させる。代替案として、検出器２０はまた、例えば質量分析計等の形態のガス検出器であってもよい。

【0020】

図３に示すように、温度装置１４は、膜温度を測定する温度センサ１４ａと、膜１２を加熱する膜加熱装置１４ｂとを備える。また、制御装置１６は、膜加熱装置１４ｂを介して調整すべき膜温度を入力するための温度プリセット手段１６ａを備え、さらに、温度センサ１４ａで測定した膜温度と、前記温度プリセット手段によりプリセットされた膜温度とに応じて、膜加熱装置１４ｂの加熱出力を制御する制御論理回路１６ｂと、を備える。

【0021】

検出器２０は、当該検出器２０からの測定信号を受信すると共に評価する評価ユニット２２に接続されている。評価装置２２を用いることにより、検出器２０で生成された測定信号の測定値が取得され、複数の測定値の間の差分が算出される。

【0022】

図２においては、検出器２０で取得された測定信号Ｓは、時間ｔ（秒単位）の関数としてプロットされている。時間ｔ＝０においては、制御装置１６を介して加熱装置１４が起動されると共に、第１のパラメータＰ_１がプリセットされる。第１のパラメータＰ_１にセットされると、加熱装置１４が、膜１２を、ガス検出装置１０の外部環境における室温に相当する温度よりも高い、第１の膜温度Ｔ_１にまで加熱させることとなる。例えば、温度Ｔ_１は、８０℃であってもよい。温度Ｔ_１においては、膜１２が検出対象のガスに対して、比較的高い透過性を有するが、本実施形態における検出対象のガスは、ヘリウムである。

【0023】

その結果、測定信号Ｓは、例えば図２に示すような測定電流の形態で、約１０秒の時間ｔが経過すると第１の測定値Ｈ_ｎとして測定される最大値まで増加する。その後、加熱装置１４のパラメータが、制御装置１６を介して、Ｐ_１からＰ_２に変更され、その結果、膜温度の値がＴ_１からＴ_２に低下する。第２の膜温度Ｔ_２は、第１の膜温度Ｔ_１よりも低いが、ガス検出装置１０の外部環境における室温よりも依然として高い。特に、第２の膜温度Ｔ_２は、検出対象のガス種に対する膜１２の透過性がＴ_１のときよりも低くなる温度である。

【0024】

したがって、測定信号Ｓは、温度Ｔ_１に起因する局所的な最大値から、温度Ｔ_２に起因する局所的な最小値にまで減少し、約２０秒の時間ｔが経過すると、第２の測定値Ｌ_ｎとして測定される。その後、制御装置１６を介して、パラメータがＰ_２からＰ_１に戻され、それによって温度変化の周期的な繰り返しの次のサイクルが開始される。結果として生じる第１の間隔は、図２においてｎとして識別され、０から２０秒まで、時間ｔが延びる。２０秒の時間ｔにおいて、温度切り替えの周期的な繰り返しにおける次の間隔ｎ＋１が開始される。制御装置１６のパラメータをＰ_２からＰ_１に変更すると、膜温度が第１の膜温度Ｔ_１まで上昇する。約３０秒が経った時点で、次に第２の間隔ｎ＋１における第１の測定値がＨ_ｎ＋１として測定され、パラメータが再びＰ_２に変更されて、その結果、膜温度はＴ_２にまで下がる。その結果としての測定信号は、第２の間隔ｎ＋１を空けて第２の測定値Ｌ_ｎ＋１として測定される。その後、第２の間隔は４０秒で終了し、第３の間隔ｎ＋２が開始される。

【0025】

測定信号のオフセットの線形ドリフト（linear drift）は，以下のようにして除去することができる。

【0026】

評価装置２２によって、それぞれの区間ｎ、ｎ＋１、ｎ＋２等における第１の測定値Ｈ_ｎ、Ｈ_ｎ＋１、Ｈ_ｎ＋２等と、第２の測定値Ｌ_ｎ、Ｌ_ｎ＋１等とが取得される。評価装置２２は、第１の測定値と第２の測定値との差を算出するが、本実施形態では、後続の間隔ｎ，ｎ＋１の第１の測定値Ｈ_ｎ，Ｈ_ｎ＋１における平均値（Ｈ_ｎ＋Ｈ_ｎ＋１）／２を算出し、そこから２つの第１測定値Ｈ_ｎ，Ｈ_ｎ＋１の間で取得した第２測定値Ｌ_ｎを減算して算出する。これより、ｎをゼロよりも大きい自然数とした区間ｎの微分信号ΔＳ_ｎは、次のようになる。
ΔＳ_ｎ ＝（Ｈ_ｎ ＋Ｈ_ｎ＋１）／２－Ｌ_ｎ

【0027】

代替案として、平均値の計算が、２つの連続する間隔ｎ、ｎ＋１の第２測定値Ｌ_ｎ、Ｌ_ｎ＋１を用いて、（Ｌ_ｎ＋Ｌ_ｎ＋１）／２として実行されることも考えられる。ここで、第１測定値は、２つの第２測定値Ｌ_ｎ 、Ｌ_ｎ＋１ の間に取得された第１測定値Ｈ_ｎ＋１の計算に用いられる。ここで、結果の信号差は、次のとおりである。
ΔＳ_ｎ ＝Ｈ_ｎ＋１－（Ｌ_ｎ＋Ｌ_ｎ＋１）／２

【0028】

基本的には、第１測定値および第２測定値の両方の平均値を算出することも考えられ、その場合、平均値の算出は、それぞれ２つ以上の間隔にわたって行うとしてもよい。

【0029】

第２測定値Ｌ_ｎ，Ｌ_ｎ＋１は、膜温度が第２温度Ｔ_２に設定され、それによって膜１２の透過性が最小となった時点における各区間で取得される。したがって、第２の測定値Ｌ_ｎ，Ｌ_ｎ＋１はそれぞれ、膜１２を透過したガスに起因しないオフセット信号に概ね相当する。

【0030】

評価部２２は、オフセット信号による差分信号への影響が小さくなるため、差分信号ΔＳ_ｎに基づいて、測定信号Ｓが検出対象のガス種に起因するものか否か、また検出対象のガスがどの程度の量存在しているのかを、判断することができる。

【0031】

制御装置１６および加熱装置１４を介した膜温度の制御は、まず、図示しない測定装置を用いて膜温度を測定することによって行われる。温度を測定した結果に応じて、制御装置１６は、より高い所望の温度値に到達するまで、加熱装置１４を使用して膜１２を加熱させる。

【0032】

このように、本発明は、オフセット信号と、検出ガスに起因する目的の信号（useful signal）とを区別するために、膜温度を周期的に変化させる原理に基づいている。それにより、膜の前後のガス圧の分圧差が予め設定されている状態で、膜を透過するガスの量が周期的に変化する。２つの温度レベルＴ_１，Ｔ_２の間の測定信号の信号差は、分圧差に比例するが、センサのオフセットには依存しない。信号差を測定し、結果的にシステムを較正すると、センサの擾乱（disturbing）オフセット信号とは無関係に、所望の有用な信号が得られる。

【0033】

本実施形態では，２つの温度レベルＴ_１，Ｔ_２の差はわずか５Ｋである。２つの温度レベル間の信号偏差ΔＳは、隣接する２つの高温信号Ｈ_ｎ＋Ｈ_ｎ＋１と、低い温度レベルの中間信号Ｌ_ｎとの平均化によって得ることができる。原理的には、２つの低レベルと中間平均高レベルとの平均化によって信号を得ることも可能である。この方法では、バックグラウンドの線形ドリフトも補正される。このドリフトは、図２の信号振幅の折れ線が左から右へ落ちる負の勾配として見える。

【0034】

本発明の方法は、好ましくは環境大気のモニタリングに使用されてもよい。ここでは、センサは必ずしも迅速に応答する必要はない。同様に、空気の積極的な搬送も最終的には必要ない。

【0035】

膜温度Ｔ_１，Ｔ_２を変化させることにより、膜１２の透過性を変更すると共に、ガス検出装置１０のセンサ感度を変更することができる。この感度の変化は、検出対象のガス種（ヘリウム）の分圧に比例する測定信号Ｓの変化、本実施例では電流の変化を伴っている。膜温度の変化は、パラメータＰ１，Ｐ２を変化させることで実現する。ここでは、大気圧下でできるだけ小さなセンサ電流（測定信号Ｓ）を連続して発生させることにより、センサの寿命を過度に短くしないために、パラメータはできるだけ低い値に設定されている。図２の本実施形態では，パラメータＰ_１，Ｐ_２の変更は，パラメータＰ_１，Ｐ_２の間を行き来しながら、１０秒ごとに行われる。パラメータが変更された後，次の各測定値Ｈ_ｎ，Ｌ_ｎの測定までに約８秒の期間を設け、加熱の制御に必要な期間を待機させるようにしている。
なお本発明は、下記の態様を含む。
〔態様１〕
ガス選択性膜（１２）、当該ガス選択性膜（１２）の温度である膜温度を変化させるための温度装置（１４）、および前記ガス選択性膜（１２）を透過したガスの量に基づいて測定信号を検出するための検出器（２０）を用いたガスの検出方法であって、
前記温度装置（１４）を用いて前記ガス選択性膜（１２）の前記膜温度を変化させる工程と、
前記膜温度が第１の温度値（Ｔ _１ ）に設定される時間（ｔ）において、前記検出器（２０）を使用して少なくとも１つの第１の測定値（Ｈ _ｎ 、Ｈ _ｎ＋１ 、Ｈ _ｎ＋２ ）を取得する工程と、
前記膜温度が前記第１の温度値（Ｔ _１ ）とは異なる第２の温度値（Ｔ _２ ）に設定される時間（ｔ）において、前記検出器（２０）を使用して少なくとも１つの第２の測定値（Ｌ _ｎ 、Ｌ _ｎ＋１ ）を取得する工程と、
前記２つの測定値の差を計算する工程と、
検出したいガス種があるか否かを、前記差を用いて評価する工程と、
を有することを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様２〕
態様１に記載のガスの検出方法であって、
前記膜温度の変更は、当該膜温度が交互に２つの温度値（Ｔ _１ ，Ｔ _２ ）に設定されるように繰り返される間隔（ｎ、ｎ＋１）を空けながら周期的に行われ、それぞれの前記膜温度における測定値（Ｈ _ｎ ，Ｌ _ｎ ，Ｈ _ｎ＋１ ，Ｈ _ｎ＋１ ，Ｌ _ｎ＋１ ）は、少なくとも２つの異なる間隔（ｎ、ｎ＋１）を空けながら取得されることを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様３〕
態様２に記載のガスの検出方法であって、少なくとも２つの異なる間隔（ｎ、ｎ＋１）を空けて取得された前記第１の測定値（Ｈ _ｎ 、Ｈ _ｎ＋１ ）の平均値と、前記２つの第１の測定値（Ｈ _ｎ 、Ｈ _ｎ＋１ ）の間にある前記第２の測定値（Ｌ _ｎ ）と、の間で差を計算することを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様４〕
態様２に記載のガスの検出方法であって、少なくとも２つの異なる間隔（ｎ、ｎ＋１）を空けて取得された前記第２の測定値（Ｌ _ｎ 、Ｌ _ｎ＋１ ）の平均値と、前記２つの第２の測定値（Ｌ _ｎ 、Ｌ _ｎ＋１ ）の間にある前記第１の測定値（Ｈ _ｎ＋１ ））と、の間で差を計算することを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様５〕
態様１から４のいずれか一態様に記載のガスの検出方法であって、前記膜温度の変更は、当該膜温度を測定し調整することによって行われ、当該膜温度の調整は、ゼロよりも大きい２つの温度値（Ｔ _１ ，Ｔ _２ ）の間で行われることを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様６〕
態様１から５のいずれか一態様に記載のガスの検出方法であって、ある温度値（Ｔ _１ ）から次の温度値（Ｔ _２ ）への変更は、少なくとも２秒後に、好ましくは少なくとも約５～１５秒後に行われることを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様７〕
態様１から６のいずれか一態様に記載のガスの検出方法であって、前記膜温度として設定される前記温度値（Ｔ _１ ，Ｔ _２ ）の間の差が、約２～１０Ｋ、好ましくは約３～６Ｋであることを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様８〕
態様１から７のいずれか一態様に記載のガスの検出方法であって、前記測定信号（Ｓ）の測定値は、前記温度装置（１４）に対して新しい温度値が設定された後、少なくとも約２～５秒後にのみ、各間隔をおいて取得されることを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様９〕
態様８に記載のガスの検出方法であって、前記温度装置（１４）が加熱形式であり、前記膜温度の少なくとも前記第１の温度値（Ｔ _１ ）が前記ガス選択性膜（１２）の外部環境の温度よりも高いことを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様１０〕
態様９に記載のガスの検出方法であって、前記膜温度として新しい温度値を設定する前に、加熱（１４）が不活性化され、前記第１の温度値（Ｔ _１ ）と前記第２の温度値（Ｔ _２ ）がそれぞれ周囲温度よりも高いことを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様１１〕
態様１から１０のいずれか一態様に記載のガスの検出方法であって、
前記ガス選択性膜（１２）の上流側におけるガスの圧力と、前記ガス選択性膜（１２）の下流側におけるガスの圧力との間に差圧を生じさせるために、ポンプを使用することは無いことを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様１２〕
態様１から１１のいずれか一態様に記載のガスの検出方法であって、当該方法は、
建物の部屋内のガスを検出するために使用されることを特徴とする、ガスの検出方法。
〔態様１３〕
態様１から１２のいずれか一態様に記載のガスの検出方法であって、前記検出器（２０）がガス測定装置または圧力測定装置であることを特徴とする、ガスの検出方法。

【図1】

【図2】

【図3】