発明の名称 リソグラフィに基づく3次元(3D)構造体の付加製造のためのシステム及び方法
出願人 クビキュア ゲーエムベーハー (識別番号 519053061)
特許公開件数ランキング 14682 位(0件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 12559 位(0件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-7645266
公報発行日 2025年3月13
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7645266
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