特許 7655755 電子レンジ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-03-25

(45)【発行日】2025-04-02

(54)【発明の名称】電子レンジ

(51)【国際特許分類】

   F24C 7/02 20060101AFI20250326BHJP

【ＦＩ】

F24C7/02 511M

F24C7/02 511C

F24C7/02 551B

F24C7/02 551C

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2021053912

(22)【出願日】2021-03-26

(65)【公開番号】P2022151028

(43)【公開日】2022-10-07

【審査請求日】2023-11-01

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】000002473

【氏名又は名称】象印マホービン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100101454

【弁理士】

【氏名又は名称】山田 卓二

(74)【代理人】

【識別番号】100111039

【弁理士】

【氏名又は名称】前堀 義之

(72)【発明者】

【氏名】金井 孝博

(72)【発明者】

【氏名】石井 琢也

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 義治

(72)【発明者】

【氏名】稗田 雅則

(72)【発明者】

【氏名】椋田 朋訓

【審査官】豊島 ひろみ

(56)【参考文献】

【文献】特開２００９－１４４９７０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－１６３６９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－０２１７６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－２５７６１４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｆ２４Ｃ ７／０２

Ｈ０５Ｂ ６／４６ － ６／８０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

底壁、天壁、一対の側壁及び後壁によって画定され、これらの壁がそれぞれマイクロ波反射体からなる加熱室と、前記加熱室内の調理物を加熱するためのマグネトロンとを有する電子レンジ本体と、
前記電子レンジ本体に開閉可能に取り付けられ、前記加熱室の前側の開口を塞ぐ扉と、
前記一対の側壁にそれぞれ前後方向に延びるように設けられた一対のガイドレールと、
前記一対のガイドレールに着脱可能に配置され、前記調理物が配置されるプレートと、
前記プレートの上方に配置されたヒータと
を備え、
前記マグネトロンによるマイクロ波は、前記加熱室の前記底壁と前記プレートとの間に照射され、
前記ガイドレールに配置した前記プレートの前記後壁側には、前記マグネトロンが照射したマイクロ波が通過可能なマイクロ波通過部が設けられており、更に、
前記一対の側壁の前記ガイドレールの下方に、それぞれ前後方向に延びるように設けられた一対の下側ガイドレールと、
前記一対の下側ガイドレールに着脱可能に配置され、前記プレートの前後方向の寸法よりも前後方向の寸法が長い下側プレートと
を備える、電子レンジ。

【請求項2】

前記プレートは金属製である、請求項１に記載の電子レンジ。

【請求項3】

前記マイクロ波通過部の前後方向の寸法は３０ｍｍ以上である、請求項１又は２に記載の電子レンジ。

【請求項4】

前記マイクロ波通過部は、前記プレートと前記加熱室の前記後壁との間に設けられた空隙部からなる、請求項１から３のいずれか１項に記載の電子レンジ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、電子レンジに関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、調理物を配置するプレートを加熱室の後壁に近接して配置するようにした電子レンジが開示されている。この電子レンジでは、マグネトロンが照射したマイクロ波の殆どをプレートと電磁波反射体の間に導くことで、短時間で調理物に焦げ目を付けるようにしている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開平１０－１４９８７７号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１の電子レンジでは、マグネトロンが照射したマイクロ波の殆どがプレートと電磁波反射体の間に導かれるため、調理物の上側での加熱が不十分である。よって、特許文献１の電子レンジには、調理物の加熱に関して改善の余地がある。

【0005】

本発明は、調理物の加熱を効率化できる電子レンジを提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本明細書において、電子レンジという用語は、特に言及する場合を除き、オーブンとしての機能を有するもの（オーブンレンジ）、及びグリルとしての機能を有するものを含む。

【0007】

本発明の一態様は、底壁、天壁、一対の側壁及び後壁によって画定され、これらの壁がそれぞれマイクロ波反射体からなる加熱室と、前記加熱室内の調理物を加熱するためのマグネトロンとを有する電子レンジ本体と、前記電子レンジ本体に開閉可能に取り付けられ、前記加熱室の前側の開口を塞ぐ扉と、前記一対の側壁にそれぞれ前後方向に延びるように設けられた一対のガイドレールと、前記一対のガイドレールに着脱可能に配置され、前記調理物が配置されるプレートとを備え、前記マグネトロンによるマイクロ波は、前記加熱室の前記底壁と前記プレートとの間に照射され、前記ガイドレールに配置した前記プレートの前記後壁側には、前記マグネトロンが照射したマイクロ波が通過可能なマイクロ波通過部が設けられている、電子レンジを提供する。ここで、前記プレートの前記後壁側とは、プレート自体の後壁側にマイクロ波通過部を設ける構成、及びプレートよりも後壁側にマイクロ波通過部を設ける構成の両方が含まれる。

【0008】

加熱室を画定する全ての壁がマイクロ波反射体からなり、プレートの後壁側にはマイクロ波通過部が設けられている。そのため、マグネトロンが照射したマイクロ波のうち後壁側に向かうマイクロ波は、後壁と一対の側壁とで全て反射され、マイクロ波通過部を通過してプレートの上側へ漏れなく回りこんだ後、天壁で更に反射されて、プレート上に配置された調理物の上側に照射される。よって、調理物の加熱を効率化できる。

【0009】

前記マイクロ波通過部の前後方向の寸法は３０ｍｍ以上である。

【0010】

マイクロ波通過部の前後方向の寸法が３０ｍｍ以上であるため、マイクロ波通過部を通してプレートの上側にマイクロ波を確実に回りこませることができる。

【0011】

前記マイクロ波通過部は、前記プレートと前記加熱室の前記後壁との間に設けられた空隙部からなる。

【0012】

マイクロ波通過部が空隙部からなるため、後壁側に向かうマイクロ波をプレートの上側へ確実に通過させることができる。

【0013】

前記一対の側壁のうちの少なくとも一方、又は前記一対のガイドレールのうちの少なくとも一方に、前記プレートの後方への移動を規制するストッパを備える。

【0014】

ストッパによってプレートの後方への移動が規制されるため、後壁とプレートの間にマイクロ波が通過可能な空隙部を確保できる。

【0015】

前記空隙部の少なくとも一部は、前記後壁に後方へ窪むように設けられた凹部によって構成されている。

【0016】

後壁に後方へ窪む凹部が設けられているため、後壁とプレートの間にマイクロ波が通過可能な空隙部を確保できる。

【0017】

前記扉は、前記マイクロ波を反射する反射層を有するガラス製の窓部を備え、前記ガイドレールに配置した前記プレートの前端と前記扉との間の間隔は０ｍｍ以上３０ｍｍ未満である。

【0018】

扉とプレートの間からマイクロ波を回りこませる場合、マイクロ波を透過可能なガラス製の窓部近辺をマイクロ波が通過するため、マイクロ波が減衰されやすい。これに対して、本態様では、扉とプレートの間の間隔が、マイクロ波の通過を防止ないし抑制可能な０ｍｍ以上３０ｍｍ未満に設定されているため、マグネトロンが照射したマイクロ波の殆どを、プレートの後壁側のマイクロ波通過部を通してプレートの上側へ回りこませることができる。よって、マイクロ波を効率的に調理物に照射できるため、調理物の加熱を効率化できる。

【0019】

前記電子レンジ本体は、前記加熱室内の前記プレートの上方に位置するヒータを備える。

【0020】

プレートの上方にヒータを備えるため、調理物の上面に焦げ目を迅速につけることができる。

【0021】

前記プレートは金属製である。ここで、金属製のプレートには、表面にシリカ（二酸化ケイ素）を主成分とするガラス質の釉薬を焼き付けたホーロープレートが含まれる。

【0022】

プレートが金属製であるため、マイクロ波通過部を通してプレートの上側へマイクロ波を漏れなく回りこませ、調理物を効率的に加熱できる。また、金属製のプレートはヒータ加熱にも使用できる。よって、調理物に応じた加熱コースによってプレートを交換する必要がないため、ユーザの利便性を向上できる。

【0023】

前記一対の側壁の前記ガイドレールの下方に、それぞれ前後方向に延びるように設けられた一対の下側ガイドレールと、前記一対の下側ガイドレールに着脱可能に配置され、前記プレートの前後方向の寸法よりも前後方向の寸法が長い下側プレートとを備える。

【0024】

上側のプレートと下側のプレートとはヒータからの距離が異なるため、ヒータによる加熱量もそれぞれ異なる。よって、調理物に応じて上側プレートと下側プレートを選択的に使用することで、調理物に応じた理想的な加熱を行うことができる。

【0025】

前記マグネトロンによるマイクロ波加熱と、前記ヒータによるヒータ加熱とを切り換える制御部を備える。

【0026】

マグネトロンによるマイクロ波加熱とヒータによるヒータ加熱とを自動的に切り換える制御部を備える。そのため、マイクロ波加熱によって調理物の中心部まで火を通し、ヒータ加熱によって調理物の表面に焦げ目を素早くつける等、調理物に応じて理想的な加熱を行うことができる。

【発明の効果】

【0027】

本発明の電子レンジでは、調理物の加熱を効率化できる。

【図面の簡単な説明】

【0028】

【図1】本発明の第１実施形態に係る電子レンジの斜視図。

【図2】本発明の第１実施形態に係る電子レンジの正面図。

【図3】電子レンジ本体とプレートの分解斜視図。

【図4】図１のIV-IV線での模式的な断面図。

【図5】図２のＶ-Ｖ線での模式的な断面図。

【図6】図４のVI－VIでの模式的な断面図。

【図7】上側プレートのみを配置した図５と同様の断面図。

【図8】図５のVIII部分の拡大図。

【図9】プレートの分解斜視図。

【図10】本発明の第２実施形態に係る電子レンジの図５と同様の断面図。

【図11】変形例に係る電子レンジの図５と同様の断面図。

【図12】変形例に係る電子レンジの図６と同様の断面図。

【図13】他の変形例に係る電子レンジの図６と同様の断面図。

【図14】加熱室内で発生する電界と磁界の概念図。

【発明を実施するための形態】

【0029】

以下、本発明の実施の形態を図面に従って説明する。

【0030】

（第１実施形態）
図１から図３は、本発明の第１実施形態に係る電子レンジ１を示す。個々の図において、Ｘ方向が電子レンジ本体１０の前後方向であり、Ｙ方向が電子レンジ本体１０の幅方向であり、Ｚ方向が電子レンジ本体１０の高さ方向である。

【0031】

図１から図３を参照すると、電子レンジ１は、電子レンジ本体１０と、電子レンジ本体１０に開閉可能に取り付けられた扉２０と、電子レンジ本体１０内に着脱可能に配置される２種類のプレート４０，４５とを備える。

【0032】

電子レンジ本体１０は、筐体１１内に加熱室１２を備える。加熱室１２は、図１において手前側が開口１７となっている直方体状の空間である。図４及び図５を参照すると、加熱室１２は、いずれも矩形状の底壁１３、天壁１４、一対の側壁１５、及び後壁１６によって画定されている。これらの壁１３～１６はいずれも、マイクロ波反射体である金属板からなる。

【0033】

底壁１３は、ＸＹ平面に沿って延び、図示しない支持枠によって筐体１１の底壁上に所定間隔をあけて支持されている。天壁１４は、底壁１３の高さ方向Ｚ上側に対向して配設され、ＸＹ平面に沿って延びている。一対の側壁１５は、互いに幅方向Ｙに対向し、それぞれＸＺ平面に沿って延びている。一対の側壁１５それぞれの下端は底壁１３に連なり、一対の側壁１５それぞれの上端は天壁１４に連なっている。底壁１３、天壁１４及び一対の側壁１５それぞれの前端は、筐体１１の前壁に連なり、加熱室１２の開口１７を画定している。後壁１６は、ＹＺ平面に沿って延びており、底壁１３、天壁１４及び一対の側壁１５それぞれの後端に連なっている。

【0034】

図１及び図５を参照すると、扉２０は、筐体１１の前側に取り付けられ、加熱室１２の開口１７を開放可能に塞ぐ。扉２０は、幅方向Ｙに延びる回転軸（図示せず）を中心として、図１に示す開位置と、図５に示す閉位置とに回転可能である。扉２０は、金属製で不透明な枠体２１と、加熱室１２内を透視可能な窓部２２とを備える。

【0035】

図５に最も明瞭に示すように、窓部２２は、加熱室１２を臨む内窓２３と、内窓２３の外側に間隔をあけて配置された外窓２４とを備える。内窓２３と外窓２４はいずれもマイクロ波を透過可能なガラス製である。内窓２３と外窓２４の間には、内窓２３の外側に隣接するようにマイクロ波を反射する反射層２５が設けられている。反射層２５は、視認性確保のために、例えば直径１ｍｍの多数の孔を設けたパンチングメタルからなる。

【0036】

引き続いて図５を参照すると、電子レンジ本体１０は更に、マグネトロン３０、ヒータ３１、及び制御部３３を備える。また、電子レンジ本体１０は上側プレート４０を配置する上側ガイドレール３５と、下側プレート４５を配置する下側ガイドレール３８とを備える。

【0037】

マグネトロン３０は、筐体１１と加熱室１２の間に配置され、加熱室１２内の調理物をマイクロ波によってマイクロ波加熱する。より具体的には、底壁１３の中央には給電口１８が設けられており、この給電口１８の下面にダクト３０ａが取り付けられている。マグネトロン３０は、ダクト３０ａ内に取り付けられ、制御部３３に電気的に接続されている。但し、給電口１８は、加熱室１２の底壁１３と上側プレート４０との間であれば、後壁１６に設けられてもよいし、一対の側壁１５のうちの一方に設けられてもよい。

【0038】

ヒータ３１は、上側プレート４０上に位置するように天壁１４側に配置され、加熱室１２内の調理物を輻射熱によってヒータ加熱する。本実施形態では、ヒータ３１は、前後方向Ｘに間隔をあけて一対配置されており、それぞれ一対の側壁１５のうちの一方から他方にかけて幅方向Ｙに延びている。但し、ヒータ３１は、上側プレート４０の前後方向Ｘの中央に位置するように１本のみ設けられてもよいし、３本以上設けられてもよい。

【0039】

制御部３３は、マグネトロン３０とヒータ３１をそれぞれ制御し、加熱室１２内の調理物を加熱する。制御部３３には、例えば１個のマイクロコンピュータを用いることができる。制御部３３による加熱処理には、調理終了までマグネトロン３０のみを駆動させるマイクロ波加熱コースと、調理終了までヒータ３１のみを駆動させるヒータ加熱コースと、マグネトロン３０とヒータ３１の両方を駆動させる複合加熱コースとが含まれる。

【0040】

複合加熱で制御部３３は、例えば、マグネトロン３３によるマイクロ波加熱とヒータ３１によるヒータ加熱とを自動的に切り換えて、調理物の加熱を行う。具体的には、マグネトロン３３を駆動し、マイクロ波加熱によって調理物の中心部まで火を通す。予め設定されたマイクロ波加熱時間、又はユーザが設定したマイクロ波加熱時間が経過すると、マグネトロン３３の駆動を停止する。続いて、ヒータ３１を駆動し、ヒータ加熱によって調理物の表面に焦げ目をつける。予め設定されたヒータ加熱時間、又はユーザが設定したヒータ加熱時間が経過すると、ヒータ３１の駆動を停止する。

【0041】

図４及び図５を参照すると、一対の上側ガイドレール３５はそれぞれ、一対の側壁１５のうち高さ方向Ｚの同じ位置に配置され、前後方向Ｘへ水平に延びている。一対の上側ガイドレール３５上には、上側プレート４０の後方への移動を規制するストッパ３６が設けられている。ストッパ３６は、一対の側壁１５からそれぞれ幅方向Ｙ内側へ突出している。

【0042】

ストッパ３６は、それぞれ一対の上側ガイドレール３５の後端に位置するように設けられているが、一対の上側ガイドレール３５の中間部分にそれぞれ設けられていてもよい。また、ストッパ３６は、一対の上側ガイドレール３５からそれぞれ上向きに突出していてもよい。また、ストッパ３６は、一対の側壁１５のうちの一方のみ、又は一対の上側ガイドレール３５のうちの一方のみに設けられていてもよい。

【0043】

引き続いて図４及び図５を参照すると、一対の下側ガイドレール３８はそれぞれ、一対の側壁１５のうち、上側ガイドレール３５の下方に間隔をあけて配設されている。一対の下側ガイドレール３８はそれぞれ、高さ方向Ｚの同じ位置に配置され、前後方向Ｘへ水平に延びている。下側ガイドレール３８上には、移動規制用のストッパは設けられていない。

【0044】

図１及び図３を参照すると、上側プレート４０は、両側が一対の上側ガイドレール３５上にそれぞれ載置されることで、加熱室１２に支持される。上側プレート４０は、マイクロ波加熱コース、ヒータ加熱コース、及び複合加熱コースの全てで使用可能である。

【0045】

図８及び図９を参照すると、上側プレート４０は、プレート本体４１と、プレート本体４１の外周に取り付けられた絶縁カバー４２とを備える。

【0046】

プレート本体４１は、平面視で長方形状の底壁部４１ａと、底壁部４１ａの外周に立設された外周壁部４１ｂとを備える。底壁部４１ａには何ら貫通孔は設けられていない。外周壁部４１ｂの上端には、内向きに曲げ加工された断面略円筒状のカール部４１ｃが設けられている。底壁部４１ａ、外周壁部４１ｂ及びカール部４１ｃを含む全体はマイクロ波反射体からなる。例えば、プレート本体４１を金属製とすることで、全体をマイクロ波反射体とすることができる。ここで、金属製のプレート本体４１には、表面にシリカ（二酸化ケイ素）を主成分とするガラス質の釉薬を焼き付けたホーロープレートが含まれる。このホーロープレートを用いる場合、絶縁カバー４２は設けなくてもよい。

【0047】

絶縁カバー４２は、絶縁性を有する耐熱性ゴム又は耐熱性樹脂からなり、マグネトロン３０によるマイクロ波加熱時に放電を防ぐために設けられている。絶縁カバー４２は、底壁部４１ａの外面外周部を覆う環状の底カバー部４２ａと、外周壁部４１ｂの外面を覆う側面カバー部４２ｂと、カール部４１ｃの外面を覆う上カバー部４２ｃとを備える。絶縁カバー４２は、本実施形態ではプレート本体４１の全周を覆うように四角筒状に設けられているが、プレート本体４１のうち、少なくとも加熱室１２の側壁１５と接する部分及び近接する部分のみに設けてもよい。

【0048】

図１及び図３を参照すると、下側プレート４５は、両側が一対の下側ガイドレール３８上にそれぞれ載置されることで、加熱室１２に支持される。下側プレート４５は、ヒータ加熱コースのみで使用可能である。下側プレート４５には、上側プレート４０のような絶縁カバーは用いられていない。但し、上側プレート４０と同様に、下側プレート４５にも絶縁カバーを設けてもよい。

【0049】

下側プレート４５は、上側プレート４０のプレート本体４１と同様に、平面視で長方形状の底壁部と、底壁部の外周に立設された外周壁部とを備える。底壁部には何ら貫通孔は設けられていない。外周壁部の上端には、内向きに曲げ加工された断面略円筒状のカール部が設けられている。底壁部、外周壁部及びカール部を含む全体はマイクロ波反射体からなる。例えば、下側プレート４５を金属製とすることで、全体をマイクロ波反射体とすることができる。金属製の下側プレート４５には、表面にシリカ（二酸化ケイ素）を主成分とするガラス質の釉薬を焼き付けたホーロープレートが含まれる。

【0050】

次に、上側プレート４０及び下側プレート４５それぞれの寸法設定について、具体的に説明する。なお、以下に説明では、個々のプレート４０，４５について前端及び後端という用語を使用するが、実際の使用上、個々のプレート４０，４５には前側及び後側の区別はない。

【0051】

図４、図５及び図６を参照すると、上側プレート４０は、幅方向Ｙの寸法Ｗ１よりも前後方向Ｘの寸法Ｄ１が小さい平面視長方形状である。下側プレート４５も、幅方向Ｙの寸法Ｗ２よりも前後方向Ｘの寸法Ｄ２が小さい平面視長方形状である。上側プレート４０の幅方向Ｙの寸法Ｗ１と、下側プレート４５の幅方向Ｙの寸法Ｗ２とは、同じである。上側プレート４０の前後方向Ｘの寸法Ｄ１と、下側プレート４５の前後方向Ｘの寸法Ｄ２とは異なっており、下側プレート４５の寸法Ｄ２は上側プレート４０の寸法Ｄ１よりも長い。下側プレート４５の寸法Ｄ２は、加熱室１２の前後方向Ｘの寸法、つまり、後壁１６の内面から扉２０の内面までの寸法よりも若干小さく、後壁１６及び扉２０に対して干渉しない程度の隙間を確保できる長さに設定されている。

【0052】

図５及び図６を参照すると、上側プレート４０の前後方向Ｘの中央よりも後壁１６側には、マイクロ波が通過可能な第１空隙部（マイクロ波通過部）４３Ａが設けられている。より具体的には、上側プレート４０の後端がストッパ３６に当接した状態で、上側プレート４０の後端と加熱室１２の後壁１６との間には、定められた間隔Ｓ１の第１空隙部４３Ａが、上側プレート４０の全幅方向Ｙにかけて形成される。言い換えれば、上側プレート４０の後端と加熱室１２の後壁１６との間に間隔Ｓ１の第１空隙部４３Ａが形成されるように、上側ガイドレール３５上にストッパ３６が設けられている。第１空隙部４３Ａの前後方向Ｘの間隔（寸法）Ｓ１は、マグネトロン３０が照射したマイクロ波が低減することなく通過可能な３０ｍｍ以上である。第１空隙部４３Ａの間隔Ｓ１の上限は無いが、過度に大きくすると、上側プレート４０上の調理物配置スペースが少なくなる点で好ましくない。

【0053】

上側プレート４０の後端がストッパ３６に当接した状態で、上側プレート４０の前端と扉２０との間には、定められた間隔Ｓ２の第２空隙部４３Ｂが形成される。言い換えれば、上側プレート４０の前端と扉２０との間に間隔Ｓ２の第２空隙部４３Ｂが形成されるように、ストッパ３６の前後方向Ｘの位置と、上側プレート４０の前後方向Ｘの寸法Ｄ１とが設定されている。第２空隙部４３Ｂの前後方向Ｘの間隔（寸法）Ｓ２は、マグネトロン３０が照射したマイクロ波の通過を防止ないし抑制可能な０ｍｍ以上３０ｍｍ未満である。

【0054】

マグネトロン３０によってマイクロ波を照射すると、加熱室１２内には、図１４に示す電磁波が発生し、向きが異なる電界と磁界が生じる。これらの電界と磁界の強さ（振幅の大きさ）が食品を温める強さに相当する。マグネトロン３０による発振周波数は２４５０ＭＨｚであるため、電磁波の波長（λ）は約１２０ｍｍになる。電磁波のピークは、節（ゼロ点）から波長の４分の１となるため、３０ｍｍ以上の隙間があれば、最も強い電界と磁界を通過させることができる。第１空隙部４３Ａではマイクロ波の通過を積極的に許容するために、第１空隙部４３Ａの間隔Ｓ１を３０ｍｍ以上としている。第２空隙部４３Ｂではマイクロ波の通過を防止ないし抑制するために、第２空隙部４３Ｂの間隔Ｓ２を０ｍｍ以上３０ｍｍ未満としている。

【0055】

下側プレート４５を下側ガイドレール３８上に配置した状態で、下側プレート４５の後端と加熱室１２の後壁１６との間には間隔Ｓ３の第１空隙部４６Ａが形成され、下側プレート４５の前端と扉２０との間には間隔Ｓ４の第２空隙部４６Ｂが形成される。第１空隙部４６Ａの前後方向Ｘの間隔Ｓ３、及び第２空隙部４６Ｂの前後方向Ｘの間隔Ｓ４は、いずれもマグネトロン３０が照射したマイクロ波の通過を防止ないし抑制可能な０ｍｍ以上３０ｍｍ未満である。また、本実施形態では、第１空隙部４６Ａの間隔Ｓ３と第２空隙部４６Ｂの間隔Ｓ４の合計寸法（Ｓ３＋Ｓ４）を、０ｍｍ以上３０ｍｍ未満に設定されている。

【0056】

次に、制御部３３による加熱処理について説明する。

【0057】

図７に示すように、マイクロ波加熱コースの場合、上側プレート４０を使用できる。上側ガイドレール３５に上側プレート４０を配置し、下側ガイドレール３８に下側プレート４５を配置しない場合、加熱室１２内は、上側プレート４０よりも下側の空間Ａと、上側プレート４０よりも上側の空間Ｂとに区画される。下側空間Ａと上側空間Ｂは、第１空隙部４３Ａを介して連通している。

【0058】

制御部３３によってマイクロ波加熱が実行されると、図７に破線で示すように、マグネトロン３０からマイクロ波が、ダクト３０ａ及び給電口１８を通して加熱室１２内に放射状に照射される。加熱室１２を画定する壁１３～１６と上側プレート４０はマイクロ波反射体からなり、扉２０はマイクロ波反射体からなる反射層２５を備える。また、扉２０と上側プレート４０の間の第２空隙部４３Ｂの間隔Ｓ２（図５参照）は、マイクロ波の通過を防止ないし抑制可能な０ｍｍ以上３０ｍｍ未満である。そのため、マイクロ波が照射された下側空間Ａのうち第１空隙部４３Ａよりも前側では、マイクロ波が繰り返し反射される。

【0059】

下側空間Ａのうち第１空隙部４３Ａが形成された領域では、マイクロ波は、第１空隙部４３Ａを通って上側空間Ｂに入射する。また、後壁１６及び一対の側壁１５のうち、第１空隙部４３Ａを画定する部分に向かうマイクロ波は、後壁１６と側壁１５でそれぞれ反射され、第１空隙部４３Ａを通して上側空間Ｂに入射する。上側空間Ｂでは、マイクロ波は、上側プレート４０上に配置された調理物の上面に入射されるまで、天壁１４、一対の側壁１５及び上側プレート４０で繰り返し反射される。

【0060】

扉２０と上側プレート４０の間の第２空隙部４３Ｂの間隔Ｓ２（図５参照）は、マイクロ波の通過を防止ないし抑制可能な０ｍｍ以上３０ｍｍ未満である。そのため、第２空隙部４３Ｂを通って、下側空間Ａのマイクロ波が上側空間Ｂに入り込むことが防止ないし抑制される。また、ガラス製の窓部２２が反射層２５を備えていても、窓部２２からのマイクロ波の漏れ根絶は困難であるが、第２空隙部４３Ｂではマイクロ波の通過が防止ないし抑制されているため、窓部２２からのマイクロ波の漏れを最小限に抑えることができる。

【0061】

以上のように、本実施形態では、マグネトロン３０が照射したマイクロ波の殆どを、第１空隙部４３Ａを通して上側空間Ｂに回りこませ、調理物に入射させることができる。よって、マイクロ波を効率的に調理物に照射できるため、調理物の加熱を効率化できる。

【0062】

複合加熱コースの場合、前述したマイクロ波加熱に引き続いてヒータ加熱が行われる。具体的には、制御部３３は、マグネトロン３０によるマイクロ波の照射を停止した後、ヒータ３１を駆動させ、輻射熱によって調理物を加熱する。これにより、調理物の中心部を加熱した後、調理物の上面に焦げ目を迅速につけることができる。

【0063】

ヒータ加熱コースでは、上側プレート４０のみが使用される場合と、下側プレート４５のみが使用される場合と、上側プレート４０と下側プレート４５の両方が使用される場合とがある。加熱室１２内に配置した上側プレート４０と下側プレート４５は、ヒータ３１からの距離が異なるため、ヒータ３１による加熱量もそれぞれ異なる。よって、上側プレート４０及び下側プレート４５のうちの一方を用いることで、調理物に応じた理想的な加熱を行うことができる。また、上側プレート４０及び下側プレート４５の両方を用いることで、異なる２つの調理を一度に行うことができる。

【0064】

このように構成した電子レンジ１は、以下の特徴を有する。

【0065】

加熱室１２を画定する全ての壁１３～１６がマイクロ波反射体からなり、上側プレート４０の後壁１６側には第１空隙部（マイクロ波通過部）４３Ａが設けられている。そのため、マグネトロン３０が照射したマイクロ波のうち後壁１６側に向かうマイクロ波は、後壁１６と一対の側壁１５とで全て反射され、第１空隙部４３Ａを通過して上側プレート４０の上側へ漏れなく回りこむ。その後、天壁１４で更に反射されて、上側プレート４０上に配置された調理物の上側に照射される。よって、調理物の加熱を効率化できる。

【0066】

第１空隙部４３Ａの前後方向の寸法Ｓ１が３０ｍｍ以上であるため、第１空隙部４３Ａを通して上側プレート４０の上側にマイクロ波を確実に回りこませることができる。

【0067】

マイクロ波通過部が上側プレート４０と加熱室１２の後壁１６との間に設けられた第１空隙部４３Ａからなるため、後壁１６側に向かうマイクロ波を上側プレート４０の上側へ確実に通過させることができる。

【0068】

ストッパ３６によって上側プレート４０の後方への移動が規制されるため、後壁１６と上側プレート４０の間にマイクロ波が通過可能な第１空隙部４３Ａを確保できる。

【0069】

扉２０と上側プレート４０の間からマイクロ波を回りこませる場合、マイクロ波を透過可能なガラス製の窓部２２近辺をマイクロ波が通過するため、マイクロ波が減衰されやすい。これに対して本実施形態では、扉２０と上側プレート４０の間の間隔Ｓ２が、マイクロ波の通過を防止ないし抑制可能な０ｍｍ以上３０ｍｍ未満に設定されているため、マグネトロン３０が照射したマイクロ波の殆どを、上側プレート４０の後端側の第１空隙部４３Ａから上側プレート４０の上側へ回りこませることができる。よって、マイクロ波を効率的に調理物に照射できるため、調理物の加熱を効率化できる。

【0070】

上側プレート４０の上方にヒータ３１を備えるため、調理物の上面に焦げ目を迅速につけることができる。

【0071】

上側プレート４０が金属製であるため、第１空隙部４３を通して上側プレート４０の上側へマイクロ波を漏れなく回りこませ、調理物を効率的に加熱できる。また、金属製の上側プレート４０はヒータ加熱にも使用できる。よって、調理物に応じた加熱コースによってプレートを交換する必要がないため、ユーザの利便性を向上できる。

【0072】

上側プレート４０と下側プレート４５とはヒータ３１からの距離が異なるため、ヒータ３１による加熱量もそれぞれ異なる。よって、調理物に応じて上側プレート４０と下側プレート４５を選択的に使用することで、調理物に応じた理想的な加熱を行うことができる。

【0073】

マグネトロン３０によるマイクロ波加熱とヒータ３１によるヒータ加熱とを自動的に切り換える制御部３３を備える。そのため、マイクロ波加熱によって調理物の中心部まで火を通し、ヒータ加熱によって調理物の表面に焦げ目を素早くつける等、調理物に応じて理想的な加熱を行うことができる。

【0074】

（第２実施形態）
図１０は第２実施形態の電子レンジ１を示す。この電子レンジ１では、加熱室１２の後壁１６に設けた凹部１６ｂによって、第１空隙部４３Ａを確保した点で第１実施形態と相違する。

【0075】

凹部１６ｂは、後壁本体１６ａにそれぞれ連なる上板部１６ｃ、下板部１６ｄ、及び一対の側板部１６ｅを備える。また、凹部１６ｂは、上板部１６ｃ、下板部１６ｄ、及び一対の側板部１６ｅそれぞれの後端に連なる端板部１６ｆを備える。

【0076】

上板部１６ｃは、前後方向Ｘの前側から後側に向けて下側へ傾斜した平板状であり、全体が装着状態の上側プレート４０よりも上側に位置する。下板部１６ｄは、前後方向Ｘの前側から後側に向けて上側へ傾斜する平板状であり、全体が装着状態の上側プレート４０よりも下側に位置する。一対の側板部１６ｅはそれぞれ、上板部１６ｃ及び下板部１６ｄそれぞれの側端に連なっており、全体が装着状態の上側プレート４０よりも幅方向Ｙの外側に位置する。

【0077】

端板部１６ｆは、後壁本体１６ａに対して平行に位置するように、ＹＺ平面に沿って延びている。この端板部１６ｆと上側プレート４０の後端との間に第１空隙部４３Ａが形成されており、この第１空隙部４３Ａの前後方向の間隔Ｓ１が８ｍｍ以上に設定されている。ストッパ３６を形成する位置は、端板部１６ｆを基準として設定されている。

【0078】

このように構成した第２実施形態では、第１実施形態と同様の作用及び効果を得ることができる。また、第２実施形態では、第１空隙部４３Ａの一部が、後壁１６に後方へ窪むように設けられた凹部１６ｂによって構成されている。そのため、後壁１６と上側プレート４０の間にマイクロ波が通過可能な第１空隙部４３Ａを確保できる。また、第１空隙部４３Ａの確保のために、上側プレート４０を過度に小さくする必要はない。よって、調理物の配置スペースを十分に確保できる。

【0079】

なお、本発明の電子レンジ１は、前記実施形態の構成に限定されず、種々の変更が可能である。

【0080】

例えば、図１１に示すように、上側プレート４０を加熱室１２の前後方向の中央に配置し、上側プレート４０と扉２０の間には、３０ｍｍ以上の間隔Ｓ２で第２空隙部４３Ｂを設けてもよい。

【0081】

図１０に示す第２実施形態では、上側プレート４０の寸法Ｄ１を下側プレート４５の寸法Ｄ２（図５参照）と同一にし、第１空隙部４３Ａの全部が凹部１６ｂによって構成されてもよい。

【0082】

図１２に示すように、第１空隙部（マイクロ波通過部）４３Ａは、上側プレート４０自体の後壁１６側に形成した切欠部４０ａによって構成されてもよい。図１２の例では切欠部４０ａは、矩形状であるが、円弧状であってもよく、その形状は必要に応じて変更が可能である。また、切欠部４０ａの幅方向Ｙの寸法ｗは、マグネトロン３０が照射したマイクロ波が低減することなく通過可能な３０ｍｍ以上であり、上限は無い。上側プレート４０の後端と加熱室１２の後壁１６との間、及び上側プレート４０の前端と扉２０との間には、いずれもマグネトロン３０が照射したマイクロ波の通過を防止ないし抑制可能な０ｍｍ以上３０ｍｍ未満の空隙部が形成されるように、上側プレート４０の前後方向Ｘの寸法Ｄ１は設定される。このようにすれば、前記実施形態と同様の作用及び効果を得ることができるうえ、上側ガイドレール３５のストッパ３６が不要であるため構成を簡素化できる。

【0083】

図１２に示す切欠部４０ａの代わりに打抜部によって第１空隙部（マイクロ波通過部）４３Ａを構成してもよい。打抜部は上側プレート４０の後端よりも前側に設けられる。但し、打抜部は、上側プレート４０の前後方向Ｘの中央よりも後端（後壁１６）寄りに設けられる。また、打抜部の対向する縁の間の間隔は、マイクロ波が低減することなく通過可能な３０ｍｍ以上に設定される。

【0084】

図１３に示すように、上側プレート４０は、扉２０側に配置される金属製のプレート本体４１と、後壁１６側に配置される樹脂（マイクロ波透過体）製の成形部４４とを備える構成とし、成形部４４がマイクロ波通過部を構成するようにしてもよい。このような上側プレート４０は、インサート成形によって製造できる。上側プレート４０の前後方向Ｘの寸法Ｄ１、つまりプレート本体４１の前端から成形部４４の後端までの寸法は、加熱室１２の後壁１６との間及び扉２０との間に０ｍｍ以上３０ｍｍ未満の空隙部が形成される長さに設定される。このようにしても、前記実施形態と同様の作用及び効果を得ることができるうえ、上側ガイドレール３５のストッパ３６が不要であるため構成を簡素化できる。

【0085】

図１３に示す成形部４４を上側プレート４０とは別体で設けてもよい。また、図６に示す第１空隙部４３Ａに、樹脂製の成形部品（いわゆるスペーサ）を配置してもよい。このようにしても、前記実施形態と同様の作用及び効果を得ることができるうえ、上側ガイドレール３５のストッパ３６が不要であるため構成を簡素化できる。

【0086】

下側ガイドレール３８を設けずに、上側プレート４０のみを配置可能としてもよい。ヒータ３１を設けずに、マイクロ波加熱のみを実行可能としてもよい。

【0087】

マグネトロン３０が照射したマイクロ波が、下側ガイドレール３８に配置した下側プレート４５の後端と加熱室１２の後壁１６との間の第１空隙部４６Ａを通過可能としてもよい。つまり、第１空隙部４６Ａの前後方向Ｘの寸法（間隔Ｓ３）を、マグネトロン３０が照射したマイクロ波が積極的に通過可能な距離にしてもよい。

【符号の説明】

【0088】

１ 電子レンジ
１０ 電子レンジ本体
１１ 筐体
１２ 加熱室
１３ 底壁
１４ 天壁
１５ 側壁
１６ 後壁
１６ａ 後壁本体
１６ｂ 凹部
１６ｃ 上板部
１６ｄ 下板部
１６ｅ 側板部
１６ｆ 端板部
１７ 開口
１８ 給電口
２０ 扉
２１ 枠体
２２ 窓部
２３ 内窓
２４ 外窓
２５ 反射層
３０ マグネトロン
３０ａ ダクト
３１ ヒータ
３３ 制御部
３５ 上側ガイドレール
３６ ストッパ
３８ 下側ガイドレール
４０ 上側プレート
４０ａ 切欠部
４１ プレート本体
４１ａ 底壁部
４１ｂ 外周壁部
４１ｃ カール部
４２ 絶縁カバー
４２ａ 底カバー部
４２ｂ 側面カバー部
４２ｃ 上カバー部
４３Ａ 第１空隙部（マイクロ波通過部）
４３Ｂ 第２空隙部
４４ 成形部（マイクロ波通過部）
４５ 下側プレート
４６Ａ 第１空隙部
４６Ｂ 第２空隙部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】