特許 7656443 処理液循環方法、及び、基板処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-03-26

(45)【発行日】2025-04-03

(54)【発明の名称】処理液循環方法、及び、基板処理方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20250327BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 648F

H01L21/304 648G

H01L21/304 643A

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2021031079

(22)【出願日】2021-02-26

(65)【公開番号】P2022131885

(43)【公開日】2022-09-07

【審査請求日】2023-12-18

(73)【特許権者】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】110002310

【氏名又は名称】弁理士法人あい特許事務所

(74)【代理人】

【識別番号】100168583

【弁理士】

【氏名又は名称】前井 宏之

(72)【発明者】

【氏名】火口 友美

【審査官】西村 治郎

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－０４１０３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００２－１９０４６４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－１３９２５９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１７－２０８４１８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板に対して処理液を吐出するノズルに前記処理液を供給する処理液供給装置において、前記処理液を循環させるための処理液循環方法であって、
前記処理液供給装置は、
前記処理液を貯留する処理液タンクと、
上流端が前記処理液タンクに接続されるとともに、下流端が前記処理液タンクに接続されて、前記処理液が循環する第１循環配管と、
前記第１循環配管に接続され、前記ノズルに前記処理液を供給する配管と、
前記第１循環配管に配置され、前記処理液を送り出すポンプと、
前記第１循環配管に配置され、前記処理液に含まれるパーティクルを捕捉するフィルターと、
前記フィルターよりも下流において前記第１循環配管に配置され、前記第１循環配管を循環する前記処理液の圧力を調整する調圧バルブと
を備え、
前記処理液循環方法は、
前記ポンプの圧力を第１ポンプ圧力に一定に保持する圧力保持工程と、
前記ポンプの圧力が前記第１ポンプ圧力に一定に保持された状態で、前記調圧バルブによって前記処理液の圧力を第１圧力に設定することで、前記第１循環配管を通して前記処理液を循環させる第１循環工程と、
前記ポンプの圧力が前記第１ポンプ圧力に保持された状態において、前記調圧バルブによって前記第１循環配管を流れる前記処理液の圧力を第２圧力に設定して、前記第１循環配管に前記処理液を循環させ、前記第１循環配管を流れる前記処理液を前記ノズルに供給する処理液供給工程と
を含み、
前記第１圧力は、前記第２圧力よりも低く、
前記第２圧力は、前記ノズルが前記基板に前記処理液を吐出する時に前記第１循環配管を流れる前記処理液の圧力を示す、処理液循環方法。

【請求項2】

前記第１循環工程は、前記第１循環配管を流れる前記処理液の圧力が前記調圧バルブによって前記第１圧力に設定されている状態で、前記第１循環配管から前記ノズルに前記処理液を供給することで、前記ノズルに第１プリディスペンス処理を実行させる第１プリディスペンス工程を含み、
前記第１プリディスペンス処理は、前記ノズルが前記基板に前記処理液を吐出する動作よりも前に、前記ノズルが液受け部に向けて前記処理液を吐出する処理を含む、請求項１に記載の処理液循環方法。

【請求項3】

基板に対して処理液を吐出するノズルに前記処理液を供給する処理液供給装置において、前記処理液を循環させるための処理液循環方法であって、
前記処理液供給装置は、
前記処理液を貯留する処理液タンクと、
上流端が前記処理液タンクに接続されるとともに、下流端が前記処理液タンクに接続されて、前記処理液が循環する第１循環配管と、
前記第１循環配管に接続され、前記ノズルに前記処理液を供給する配管と、
前記第１循環配管に配置され、前記処理液を送り出すポンプと、
前記第１循環配管に配置され、前記処理液に含まれるパーティクルを捕捉するフィルターと、
前記フィルターよりも下流において前記第１循環配管に配置され、前記第１循環配管を循環する前記処理液の圧力を調整する調圧バルブと、
前記フィルターから延びる排液配管と
を備え、
前記処理液循環方法は、
前記ポンプの圧力を一定に保持する圧力保持工程と、
前記ポンプの圧力が一定に保持された状態で、前記調圧バルブによって前記処理液の圧力を第１圧力に設定することで、前記第１循環配管を通して前記処理液を循環させる第１循環工程と、
前記第１循環工程よりも前に、前記ポンプの圧力が一定に保持された状態で、前記処理液を前記フィルターから前記排液配管に排出する排液工程と
を含み、
前記第１圧力は、第２圧力よりも低く、
前記第２圧力は、前記ノズルが前記基板に前記処理液を吐出する時に前記第１循環配管を流れる前記処理液の圧力を示す、処理液循環方法。

【請求項4】

前記処理液供給装置は、前記フィルターの一次側において、前記第１循環配管から前記処理液タンクまで延びる第２循環配管を更に備え、
前記処理液循環方法は、前記排液工程よりも前に、前記ポンプの圧力が一定に保持された状態で、前記処理液を前記第２循環配管に供給することで、前記処理液を循環させる循環工程を更に含む、請求項３に記載の処理液循環方法。

【請求項5】

前記処理液循環方法は、前記第１循環工程よりも後に、前記ポンプの圧力が前記第１ポンプ圧力に一定に保持された状態で、前記調圧バルブによって前記処理液の圧力を前記第２圧力に設定することで、前記第１循環配管を通して前記処理液を循環させる第２循環工程を更に含む、請求項１または２に記載の処理液循環方法。

【請求項6】

前記第２循環工程は、前記第１循環配管から前記ノズルに前記処理液を供給することで、前記ノズルに第２プリディスペンス処理を実行させる第２プリディスペンス工程を含み、
前記第２プリディスペンス処理は、前記ノズルが前記基板に前記処理液を吐出する動作よりも前に、前記ノズルが液受け部に向けて前記処理液を吐出する処理を含む、請求項５に記載の処理液循環方法。

【請求項7】

前記処理液供給工程は、前記第２プリディスペンス工程よりも後に、前記第１循環配管から前記ノズルに前記処理液を供給する工程を含む、請求項６に記載の処理液循環方法。

【請求項8】

処理液によって基板を処理する基板処理方法であって、
請求項７に記載の処理液循環方法における前記処理液供給工程で前記ノズルに供給された前記処理液を、前記ノズルによって前記基板に吐出する、基板処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、処理液循環方法、及び、基板処理方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１に記載された液処理装置は、タンクと、循環ラインと、ポンプと、フィルターと、背圧弁と、制御部とを備える。タンクは、処理液を貯留する。循環ラインは、タンクから送られる処理液をタンクへ戻す。ポンプは、循環ラインにおける処理液の循環流を形成する。フィルターは、循環ラインにおけるポンプの下流側に設けられる。背圧弁は、循環ラインにおけるフィルターの下流側に設けられる。制御部は、ポンプ及び背圧弁を制御する。そして、制御部は、循環ラインにおける処理液の循環を開始する際に、ポンプの吐出圧力が第１圧力で立ち上がり、所定時間経過後にポンプの吐出圧力が第１圧力より大きい第２圧力に増加するようにポンプの吐出圧力を制御する。

【0003】

ポンプの吐出圧力が第１圧力となるように制御して処理液の循環を開始することにより、フィルターの上流側と下流側との間にかかる差圧を、小さい差圧に抑えることができる。その結果、処理液の循環を開始した直後に、ポンプの吐出圧力に起因して異物（パーティクル）がフィルターを通り抜けることを抑制できる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２０１９－４１０３９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本願の発明者は、特許文献１に記載された液処理装置と異なる方法によって処理液に含まれるパーティクルを低減する技術について、鋭意研究を行った。

【0006】

本発明の目的は、処理液に含まれるパーティクルを効果的に低減できる処理液循環方法、及び、基板処理方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一局面によれば、処理液循環方法では、基板に対して処理液を吐出するノズルに前記処理液を供給する処理液供給装置において、前記処理液を循環させる。前記処理液供給装置は、処理液タンクと、第１循環配管と、配管と、ポンプと、フィルターと、調圧バルブとを備える。処理液タンクは、前記処理液を貯留する。第１循環配管は、上流端が前記処理液タンクに接続されるとともに、下流端が前記処理液タンクに接続されて、前記処理液が循環する。配管は、前記第１循環配管に接続され、前記ノズルに前記処理液を供給する。ポンプは、前記第１循環配管に配置され、前記処理液を送り出す。フィルターは、前記第１循環配管に配置され、前記処理液に含まれるパーティクルを捕捉する。調圧バルブは、前記フィルターよりも下流において前記第１循環配管に配置され、前記第１循環配管を循環する前記処理液の圧力を調整する。前記処理液循環方法は、前記ポンプの圧力を一定に保持する圧力保持工程と、前記ポンプの圧力が一定に保持された状態で、前記調圧バルブによって前記処理液の圧力を第１圧力に設定することで、前記第１循環配管を通して前記処理液を循環させる第１循環工程とを含む。前記第１圧力は、第２圧力よりも低い。第２圧力は、前記ノズルが前記基板に前記処理液を吐出する時に前記第１循環配管を流れる前記処理液の圧力を示す。

【0008】

前記圧力保持工程において、前記ポンプの圧力を第１ポンプ圧力に一定に保持してもよい。前記第１循環工程において、前記ポンプの圧力が前記第１ポンプ圧力に一定に保持された状態であってもよい。前記処理液循環方法が、前記ポンプの圧力が前記第１ポンプ圧力に保持された状態において、前記調圧バルブによって前記第１循環配管を流れる前記処理液の圧力を第２圧力に設定して、前記第１循環配管に前記処理液を循環させ、前記第１循環配管を流れる前記処理液を前記ノズルに供給する処理液供給工程を含んでいてもよい。
本発明の一態様においては、前記第１循環工程は、第１プリディスペンス工程を含むことが好ましい。前記第１プリディスペンス工程は、前記第１循環配管から前記ノズルに前記処理液を供給することで、前記ノズルに第１プリディスペンス処理を実行させることが好ましい。前記第１プリディスペンス処理は、前記ノズルが前記基板に前記処理液を吐出する動作よりも前に、前記ノズルが液受け部に向けて前記処理液を吐出する処理を含むことが好ましい。前記第１プリディスペンス工程が、前記第１循環配管を流れる前記処理液の圧力が前記調圧バルブによって前記第１圧力に設定されている状態で実行されてもよい。

【0009】

本発明の一態様においては、前記処理液供給装置は、前記フィルターから延びる排液配管を更に備えることが好ましい。前記処理液循環方法は、排液工程を更に含むことが好ましい。排液工程は、前記第１循環工程よりも前に、前記ポンプの圧力が一定に保持された状態で、前記処理液を前記フィルターから前記排液配管に排出することが好ましい。

【0010】

本発明の一態様においては、前記処理液供給装置は、前記フィルターの一次側において、前記第１循環配管から前記処理液タンクまで延びる第２循環配管を更に備えることが好ましい。前記処理液循環方法は、循環工程を更に含むことが好ましい。循環工程では、前記排液工程よりも前に、前記ポンプの圧力が一定に保持された状態で、前記処理液を前記第２循環配管に供給することで、前記処理液を循環させることが好ましい。

【0011】

本発明の一態様においては、前記処理液循環方法は、第２循環工程を更に含むことが好ましい。第２循環工程では、前記第１循環工程よりも後に、前記ポンプの圧力が一定に保持された状態で、前記調圧バルブによって前記処理液の圧力を前記第２圧力に設定することで、前記第１循環配管を通して前記処理液を循環させることが好ましい。第２循環工程において、前記ポンプの圧力が前記第１ポンプ圧力に一定に保持された状態で、前記処理液の圧力を前記第２圧力に設定してもよい。

【0012】

本発明の一態様においては、前記第２循環工程は、第２プリディスペンス工程を含むことが好ましい。第２プリディスペンス工程では、前記第１循環配管から前記ノズルに前記処理液を供給することで、前記ノズルに第２プリディスペンス処理を実行させることが好ましい。前記第２プリディスペンス処理は、前記ノズルが前記基板に前記処理液を吐出する動作よりも前に、前記ノズルが液受け部に向けて前記処理液を吐出する処理を含むことが好ましい。

【0013】

本発明の一態様においては、前記処理液供給工程が、前記第２プリディスペンス工程よりも後に、前記第１循環配管から前記ノズルに前記処理液を供給する工程を含んでいてもよい。

【0014】

本発明の他の局面によれば、基板処理方法は、処理液によって基板を処理する。基板処理方法において、上記処理液循環方法における前記処理液供給工程で前記ノズルに供給された前記処理液を、前記ノズルによって前記基板に吐出する。

【発明の効果】

【0015】

本発明に係る処理液循環方法および基板処理方法によれば、処理液に含まれるパーティクルを効果的に低減できる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】本発明の実施形態に係る基板処理装置の内部を示す平面図である。

【図2】本実施形態に係る処理ユニットの内部を示す側面図である。

【図3】本実施形態に係る処理液供給装置の構成を示す図である。

【図4】本実施形態に係る基板処理方法を示すフローチャートである。

【図5】本実施形態に係る処理液供給装置の内循環動作を示す図である。

【図6】本実施形態に係る処理液供給装置のフィルター排液動作を示す図である。

【図7】本実施形態に係る処理液供給装置の第１圧力での外循環動作を示す図である。

【図8】本実施形態に係る処理液供給装置のプリディスペンス動作を示す図である。

【図9】本実施形態に係る処理液供給装置の第２圧力での外循環動作を示す図である。

【図10】本実施形態に係る処理液供給装置の処理液供給動作を示す図である。

【図11】本実施形態に係る調圧バルブ一次側圧力の時間変化及びパーティクル数の時間変化を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一または相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。また、図面には、説明の便宜のため、三次元直交座標系（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を適宜記載している。そして、図中、Ｘ軸およびＹ軸は水平方向に平行であり、Ｚ軸は鉛直方向に平行である。

【0018】

まず、図１を参照して、基板処理装置１００を説明する。図１は、基板処理装置１００の内部を示す平面図である。図１に示す基板処理装置１００は、基板Ｗを処理液によって処理する。

【0019】

基板Ｗは、例えば、半導体ウェハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、電界放出ディスプレイ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＦＥＤ）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、又は、太陽電池用基板である。

【0020】

処理液は、例えば、薬液である。薬液は、例えば、希フッ酸（ＤＨＦ）、フッ酸（ＨＦ）、フッ硝酸（フッ酸と硝酸（ＨＮＯ₃）との混合液）、バファードフッ酸（ＢＨＦ）、フッ化アンモニウム、ＨＦＥＧ（フッ酸とエチレングリコールとの混合液）、燐酸（Ｈ₃ＰＯ₄）、硫酸、酢酸、硝酸、塩酸、アンモニア水、過酸化水素水、有機酸（例えば、クエン酸、シュウ酸）、有機アルカリ（例えば、ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）、硫酸過酸化水素水混合液（ＳＰＭ）、アンモニア過酸化水素水混合液（ＳＣ１）、塩酸過酸化水素水混合液（ＳＣ２）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、界面活性剤、又は、腐食防止剤である。

【0021】

図１に示すように、基板処理装置１００は、複数のロードポートＬＰと、インデクサーロボットＩＲと、センターロボットＣＲと、複数の処理ユニット１と、制御装置２と、複数の流体ボックス３と、処理液キャビネット４とを備える。

【0022】

ロードポートＬＰの各々は、複数枚の基板Ｗを積層して収容する。インデクサーロボットＩＲは、ロードポートＬＰとセンターロボットＣＲとの間で基板Ｗを搬送する。センターロボットＣＲは、インデクサーロボットＩＲと処理ユニット１との間で基板Ｗを搬送する。処理ユニット１の各々は、基板Ｗに処理液を供給して、基板Ｗを処理する。流体ボックス３の各々は流体機器を収容する。処理液キャビネット４は処理液を収容する。

【0023】

具体的には、複数の処理ユニット１は、平面視においてセンターロボットＣＲを取り囲むように配置された複数のタワーＴＷ（図１の例では４つのタワーＴＷ）を形成している。各タワーＴＷは、上下に積層された複数の処理ユニット１（図１の例では３つの処理ユニット１）を含む。複数の流体ボックス３は、それぞれ、複数のタワーＴＷに対応している。処理液キャビネット４内の処理液は、いずれかの流体ボックス３を介して、流体ボックス３に対応するタワーＴＷに含まれる全ての処理ユニット１に供給される。

【0024】

制御装置２は、ロードポートＬＰ、インデクサーロボットＩＲ、センターロボットＣＲ、処理ユニット１、流体ボックス３、及び、処理液キャビネット４を制御する。制御装置２は、例えば、コンピューターである。

【0025】

制御装置２は、制御部２１と、記憶部２２とを含む。制御部２１は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）等のプロセッサーを含む。記憶部２２は、記憶装置を含み、データ及びコンピュータープログラムを記憶する。具体的には、記憶部２２は、半導体メモリー等の主記憶装置と、半導体メモリー、ソリッドステートドライブ、及び／又は、ハードディスクドライブ等の補助記憶装置とを含む。記憶部２２は、リムーバブルメディアを含んでいてもよい。記憶部２２は、非一時的コンピューター読取可能記憶媒体の一例に相当する。

【0026】

次に、図２を参照して、処理ユニット１を説明する。図２は、処理ユニット１の内部を示す側面図である。

【0027】

図２に示すように、処理ユニット１は、チャンバー１１と、スピンチャック１２と、スピンモーター１３と、ノズル１４と、ノズル移動部１５と、複数のガード１６と、待機ポッド１７と、ノズル１８とを含む。基板処理装置１００は、処理液供給装置２００と、排液配管７と、バルブ８と、バルブ１９と、配管２０とを更に備える。処理液供給装置２００は、バルブ５と、配管６とを含む。なお、排液配管７及びバルブ８は、処理液供給装置２００の構成要素と捉えることもできる。

【0028】

チャンバー１１は略箱形状を有する。チャンバー１１は、スピンチャック１２、スピンモーター１３、ノズル１４、ノズル移動部１５、複数のガード１６、待機ポッド１７、ノズル１８、配管６の一部、排液配管７の一部、及び、配管２０の一部を収容する。なお、例えば、バルブ５、８、１９がチャンバー１１に収容されていてもよい。

【0029】

スピンチャック１２は基板Ｗを保持する。具体的には、スピンモーター１３は、スピンチャック１２を回転軸線ＡＸ１の周りに回転させる。従って、スピンチャック１２は、基板Ｗを水平に保持しながら、回転軸線ＡＸ１の周りに基板Ｗを回転させる。具体的には、スピンチャック１２は、スピンベース１２１と、複数のチャック部材１２２とを含む。スピンベース１２１は、略円板状であり、水平な姿勢で複数のチャック部材１２２を支持する。複数のチャック部材１２２は基板Ｗを水平な姿勢で保持する。

【0030】

ノズル１４は、基板Ｗに対して処理液を吐出する。ノズル移動部１５は、ノズル１４を昇降したり、ノズル１４を回動軸線ＡＸ２の周りに水平回動させたりする。ノズル移動部１５は、ノズル１４を昇降させるために、例えば、ボールねじ機構と、ボールねじ機構に駆動力を与える電動モーターとを含む。また、ノズル移動部１５は、ノズル１４を水平回動させるために、例えば、電動モーターを含む。

【0031】

処理液供給装置２００は、ノズル１４に処理液を供給する。具体的には、処理液供給装置２００の配管６がノズル１４に処理液を供給する。従って、配管６には処理液が流れる。バルブ５は、配管６に配置される。そして、バルブ５は、配管６の流路を開閉し、ノズル１４に対する処理液の供給と供給停止とを切り替える。

【0032】

待機ポッド１７は、ノズル１４の待機位置の下方に配置される。待機位置は、回転軸線ＡＸ１に対してスピンチャック１２よりも外側の位置を示す。待機ポッド１７は、待機位置に位置するノズル１４によって吐出される処理液を受ける。ノズル移動部１５は、待機位置と処理位置との間で、ノズル１４を水平回動させる。ノズル１４の処理位置は、基板Ｗの上方の位置を示す。ノズル１４は、基板Ｗに処理液を吐出する前に、待機位置において、プリディスペンス処理を実行する。プリディスペンス処理とは、基板Ｗに処理液を吐出する前に、待機ポッド１７に向けて処理液を吐出する処理のことである。一方、ノズル１４は、処理位置において、基板Ｗに向けて処理液を吐出する。待機ポッド１７は、本発明の「液受け部」の一例に相当する。

【0033】

待機ポッド１７には、排液配管７が接続される。プリディスペンス処理において、待機ポッド１７が受けた処理液は、排液配管７を通して排出される。排液配管７は、例えば、排液タンクに接続される。排液配管７には、バルブ８が配置される。バルブ８は、排液配管７の流路を開閉し、排液配管７による処理液の排出と排出停止とを切り替える。

【0034】

ノズル１８は、基板Ｗに向けてリンス液を供給する。その結果、基板Ｗから処理液が洗い流される。リンス液は、例えば、脱イオン水、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、または、希釈濃度（例えば、１０ｐｐｍ～１００ｐｐｍ程度）の塩酸水である。

【0035】

配管２０はノズル１８にリンス液を供給する。従って、配管２０にはリンス液が流れる。バルブ１９は、配管２０に配置される。そして、バルブ１９は、配管２０の流路を開閉し、ノズル１８に対するリンス液の供給と供給停止とを切り替える。

【0036】

各ガード１６は略筒形状を有する。各ガード１６は、基板Ｗから排出された処理液又はリンス液を受け止める。

【0037】

次に、図３を参照して、処理液供給装置２００の詳細を説明する。図３は、処理液供給装置２００を示す図である。図３に示すように、処理液供給装置２００は、処理液タンク３０と、ヒーター３１、３２と、温度センサー３３と、ポンプ３４と、パルスダンパー３５と、バルブ３６と、フィルター３７と、バルブ３８と、温度センサー３９、４０と、圧力計４１と、温度センサー４２と、調圧バルブ４３と、バルブ４４、４５、４６、４７、４８、４９と、外循環配管６０と、内循環配管６１と、排液配管６２と、配管６３と、排液配管６４と、配管６５、６６とを更に含む。また、処理液供給装置２００は、複数の処理ユニット１に対応して、複数の配管６及び複数のバルブ５を含んでいる。

【0038】

ヒーター３１、３２、ポンプ３４、バルブ３６、バルブ３８、調圧バルブ４３、及び、バルブ５、８、４４、４５、４６、４７、４８、４９は、制御装置２によって制御される。また、温度センサー３３、３９、４０、４２は、処理液の温度を検出し、検出した温度を示す検出値を、制御装置２に出力する。さらに、圧力計４１は、処理液の圧力を検出し、検出した圧力を示す検出値を制御装置２に出力する。

【0039】

また、例えば、処理液タンク３０、ヒーター３１、３２、温度センサー３３、ポンプ３４、パルスダンパー３５、バルブ３６、フィルター３７、バルブ３８、温度センサー３９、バルブ４４、４５、４６、４７、４８、４９、外循環配管６０の一部、内循環配管６１、排液配管６２の一部、配管６３、排液配管６４の一部、配管６５、及び、配管６６の一部は、処理液キャビネット４（図１）に収容される。

【0040】

一方、例えば、外循環配管６０の一部、温度センサー４０、圧力計４１、温度センサー４２、調圧バルブ４３、バルブ５、及び、配管６の一部は、流体ボックス３（図１）に収容される。

【0041】

処理液タンク３０は、処理液を貯留する。配管６６は、処理液の新液を処理液タンク３０に補充する。バルブ４９は、配管６６に配置され、配管６６の流路を開閉する。

【0042】

外循環配管６０の上流端７０及び下流端７１は、処理液タンク３０に接続される。外循環配管６０は、第１配管６０１と、第２配管６０２とを含む。第１配管６０１の一端は処理液タンク３０に接続され、第１配管６０１の他端はフィルター３７に接続される。第１配管６０１の一端が、外循環配管６０の上流端である。第２配管６０２の一端はフィルター３７に接続され、第２配管６０２の他端は処理液タンク３０に接続される。第２配管６０２の他端が、外循環配管６０の下流端である。なお、図面の簡略化のために図示を省略したが、複数の第２配管６０２が、それぞれ、複数のタワーＴＷ（図１）に対応して設けられている。そして、複数の第２配管６０２は、フィルター３７の二次側で分岐する。

【0043】

ヒーター３１、ヒーター３２、ポンプ３４、パルスダンパー３５、バルブ３６、及び、フィルター３７は、この順番で、上流から下流に向かって外循環配管６０（具体的には第１配管６０１）に配置される。また、フィルター３７は、外循環配管６０の位置７３に配置される。位置７３は、ポンプ３４よりも下流の位置であって、分岐位置７４及び調圧バルブ４３よりも上流の位置である。

【0044】

ヒーター３１、３２は、処理液タンク３０内の処理液を加熱して、処理液タンク３０内の処理液の温度を調整する。なお、本実施形態では、処理液供給装置２００は、直列に接続される２つのヒーター３１、３２を有しているが、１つのヒーターを有していてもよいし、３以上のヒーターを有していてもよい。

【0045】

ポンプ３４は、処理液タンク３０内の処理液を外循環配管６０に送り出す。具体的には、ポンプ３４は、処理液タンク３０内の処理液を第１配管６０１に送り出す。温度センサー３３は、ヒーター３２とポンプ３４との間の位置８０で、第１配管６０１を流れる処理液の温度を検出する。パルスダンパー３５は、ポンプ３４から送り出される処理液の脈動を抑制する。バルブ３６は、フィルター３７の一次側において、第１配管６０１の流路を開閉する。

【0046】

フィルター３７は、フィルター３７を通過する処理液に含まれるパーティクルを捕捉する。換言すれば、フィルター３７は、フィルター３７を通過する処理液に含まれるパーティクルを除去する。更に換言すれば、フィルター３７は処理液をろ過する。

【0047】

例えば、フィルター３７は多数の孔（不図示）を有する。そして、処理液は、フィルター３７の孔を通過する。その結果、フィルター３７によって処理液がろ過される。具体的には、処理液に含まれるパーティクルは、フィルター３７の孔を通過する際に、孔を区画する壁面によって吸着され、孔内に捕捉される。その結果、パーティクルが処理液中から除去される。

【0048】

フィルター３７によるパーティクルの捕捉能力は、フィルター３７を通過する処理液の流量が多いと大きくなる。つまり、外循環配管６０において処理液の循環流量が増加すると、より多くの処理液がフィルター３７を通過するため、より多くのパーティクルがフィルター３７によって捕捉される。一方、フィルター３７によるパーティクルの捕捉能力は、フィルター３７を通過する処理液の流量が少ないと小さくなる。つまり、外循環配管６０において処理液の循環流量が減少すると、フィルター３７を通過する処理液の流量が減少するため、フィルター３７によるパーティクルの捕捉能力が低下する。

【0049】

バルブ３８は、フィルター３７の二次側において、第２配管６０２の流路を開閉する。温度センサー３９は、フィルター３７及びバルブ３８よりも下流の位置８１で、第２配管６０２（外循環配管６０）を流れる処理液の温度を検出する。温度センサー４０は、温度センサー３９よりも下流の位置８２で、第２配管６０２（外循環配管６０）を流れる処理液の温度を検出する。位置８２は、分岐位置７４よりも上流の位置である。

【0050】

圧力計４１は、調圧バルブ４３の一次側の位置８３で、第２配管６０２（外循環配管６０）を流れる処理液の圧力を検出する。つまり、圧力計４１は、調圧バルブ４３の一次側圧力を検出する。位置８３は、分岐位置７４よりも下流の位置である。温度センサー４２は、調圧バルブ４３の一次側の位置８４で、第２配管６０２（外循環配管６０）を流れる処理液の温度を検出する。つまり、温度センサー４２は、調圧バルブ４３の一次側温度を検出する。位置８４は、分岐位置７４よりも下流の位置である。

【0051】

調圧バルブ４３は、フィルター３７及び分岐位置７４よりも下流の位置において、第２配管６０２（外循環配管６０）に配置される。調圧バルブ４３は、処理液の圧力を調整して、処理液の圧力を一定に保持する。例えば、調圧バルブ４３は、調圧バルブ４３の一次側圧力が目標圧力以上になった場合、一次側圧力を二次側に逃して、一次側圧力を目標圧力に保持する。つまり、調圧バルブ４３は、調圧バルブ４３の一次側における処理液の圧力を、調圧バルブ４３に対して設定された目標圧力に設定する。例えば、制御装置２（図１）が、調圧バルブ４３に対して目標圧力を設定する。調圧バルブ４３は、例えば、背圧弁又はリリーフ弁である。

【0052】

外循環配管６０には、調圧バルブ４３によって設定された目標圧力に応じた流量の処理液が流れる。例えば、調圧バルブ４３によって設定された目標圧力が小さいほど、外循環配管６０を流れる処理液の流量は大きくなる。換言すれば、調圧バルブ４３によって設定された目標圧力が大きいほど、外循環配管６０を流れる処理液の流量は小さくなる。

【0053】

外循環配管６０（第２配管６０２）の複数の分岐位置７４には、それぞれ、複数の配管６が接続される。そして、配管６は、分岐位置７４からノズル１４まで延びる。分岐位置７４は、フィルター３７よりも下流の位置であって、調圧バルブ４３よりも上流の位置である。以下、調圧バルブ４３を単に「バルブ４３」と記載する場合がある。

【0054】

内循環配管６１は、第１配管６０１（外循環配管６０）の分岐位置７２から処理液タンク３０まで延びる。分岐位置７２は、ポンプ３４よりも下流、かつ、フィルター３７よりも上流の位置である。バルブ４４は、内循環配管６１に配置される。そして、バルブ４４は、内循環配管６１の流路を開閉する。

【0055】

排液配管６２は、フィルター３７から延びる。排液配管６２は、フィルター３７の内部（具体的には内部一次側）に存在する処理液を排出するための配管である。具体的には、排液配管６２の一端が、フィルター３７の内部の一次側空間に接続され、排液配管６２の他端が、例えば、排液タンクに接続される。バルブ４５は、排液配管６２に配置される。そして、バルブ４５は、排液配管６２の流路を開閉する。

【0056】

排液配管６４は、フィルター３７から延びる。排液配管６４は、フィルター３７の内部（具体的には内部二次側）に存在する処理液を排出するための配管である。具体的には、排液配管６４の一端が、フィルター３７の内部の二次側空間に接続され、排液配管６４の他端が、例えば、排液タンクに接続される。バルブ４６は、排液配管６４に配置される。そして、バルブ４６は、排液配管６４の流路を開閉する。

【0057】

配管６３は、フィルター３７から処理液タンク３０まで延びる。配管６３は、パーティクルの発生の原因になるフィルター３７の内部（具体的には内部一次側）の気泡を除去するための配管である。具体的には、配管６３の一端が、フィルター３７の内部の一次側空間に接続され、配管６３の他端が、処理液タンク３０に接続される。バルブ４７は、配管６３に配置される。そして、バルブ４７は、配管６３の流路を開閉する。

【0058】

配管６５は、フィルター３７から処理液タンク３０まで延びる。配管６５は、パーティクルの発生の原因になるフィルター３７の内部（具体的には内部二次側）の気泡を除去するための配管である。具体的には、配管６５の一端が、フィルター３７の内部の二次側空間に接続され、配管６５の他端が、処理液タンク３０に接続される。バルブ４８は、配管６５に配置される。そして、バルブ４８は、配管６５の流路を開閉する。

【0059】

次に、図４～図１０を参照して、本実施形態に係る基板処理方法を説明する。図４は、本実施形態に係る基板処理方法を示すフローチャートである。図５は、処理液供給装置２００の内循環動作を示す図である。図６は、処理液供給装置２００のフィルター排液動作を示す図である。図７は、処理液供給装置２００の第１圧力Ｐ１での外循環動作を示す図である。図８は、処理液供給装置２００のプリディスペンス動作を示す図である。図９は、処理液供給装置２００の第２圧力Ｐ２での外循環動作を示す図である。図１０は、処理液供給装置２００の処理液供給動作を示す図である。

【0060】

図５～図１０のバルブ５、８、３６、３８、４３、４４、４５、４６、４７、４８を示す記号において、白色はバルブが閉じていることを示し、黒色はバルブが開いていることを示す。また、ポンプ３４を示す記号において、白色の三角形はポンプ３４が停止していることを示し、黒色の三角形はポンプ３４が駆動していることを示す。さらに、処理液の流通経路が、太線によって示される。

【0061】

図４に示すように、本実施形態に係る基板処理方法は、工程Ｓ１～工程Ｓ１０を含む。工程Ｓ４は工程Ｓ４０を含む。工程Ｓ５は工程Ｓ５０を含む。基板処理方法は、基板処理装置１００によって実行される。特に、工程Ｓ１～Ｓ５は、処理液循環方法を構成する。処理液循環方法は、処理液供給装置２００によって実行される。処理液循環方法では、基板Ｗに対して処理液を吐出するノズル１４に処理液を供給する処理液供給装置２００において、処理液を循環させる。

【0062】

図４及び図５に示すように、まず、工程Ｓ１において、処理液供給装置２００は、ポンプ３４を駆動し、ポンプ３４の圧力（吐出圧力）を一定に保持する。具体的には、制御装置２（図１）が、ポンプ３４の圧力（吐出圧力）が一定に保持されるように、ポンプ３４を制御する。工程Ｓ１は、本発明の「圧力保持工程」の一例に相当する。

【0063】

次に、工程Ｓ２において、処理液供給装置２００は、処理液を内循環させる。内循環は、内循環配管６１によって、処理液を循環させることを示す。工程Ｓ２は、本発明の「循環工程」の一例に相当する。

【0064】

具体的には、図５に示すように、処理液供給装置２００は、制御装置２の制御によって、バルブ４４を開け、バルブ５、８、３６、３８、４３、４５、４６、４７、４８を閉じる。その結果、処理液タンク３０に貯留された処理液が、第１配管６０１及び内循環配管６１を通って循環する。この場合、制御装置２は、温度センサー３３によって検出された処理液の温度を監視しながら、内循環する処理液の温度が目標温度になるように、ヒーター３１、３２を制御する。内循環する処理液の温度が目標温度に到達すると、処理は工程Ｓ３に進む。

【0065】

すなわち、工程Ｓ２では、処理液供給装置２００は、工程Ｓ３よりも前に、ポンプ３４の圧力が一定に保持された状態で、処理液を内循環配管６１に供給することで、処理液を循環させる。その結果、工程Ｓ３よりも前に、処理液の温度を目標温度に到達させることができる。

【0066】

次に、図４及び図６に示すように、工程Ｓ３において、処理液供給装置２００は、フィルター３７の内部の処理液を排液配管６２に排出する。図６の例では、処理液供給装置２００は、フィルター３７の内部の一次側空間に存在する処理液を排液配管６２に排出する。工程Ｓ３は、本発明の「排液工程」の一例に相当する。

【0067】

具体的には、図６に示すように、処理液供給装置２００は、制御装置２の制御によって、所定排液期間だけ、バルブ３６、４５を開け、バルブ５、８、３８、４３、４４、４６、４７、４８を閉じる。従って、所定排液期間において、フィルター３７の内部の処理液が、排液配管６２に排出される。その結果、処理液中のパーティクルもまた、排液配管６２から排出される。なお、所定排液期間は、例えば、実験的及び／又は経験的に予め定められる。

【0068】

すなわち、処理液供給装置２００は、工程Ｓ４よりも前に、ポンプ３４の圧力が一定に保持された状態で、処理液をフィルター３７から排液配管６２に排出する。従って、フィルター３７よりも一次側に存在するパーティクル、及び、フィルター３７の内部（内部一次側）に存在するパーティクルを、排液配管６２を通して排出できる。その結果、処理液に含まれるパーティクルを効果的に低減できる。

【0069】

なお、例えば、工程Ｓ３において、処理液供給装置２００は、バルブ４５を開くと同時に、バルブ４５を開いた後に、又は、バルブ４５を開く前に、一定期間だけ、バルブ４６を開いてもよい。この場合は、フィルター３７の内部（内部二次側）に存在するパーティクルを、排液配管６４を通して排出できる。その結果、処理液に含まれるパーティクルを更に効果的に低減できる。

【0070】

次に、図４及び図７に示すように、工程Ｓ４において、処理液供給装置２００は、処理液を外循環させる。外循環は、外循環配管６０によって、処理液を循環させることを示す。特に、工程Ｓ４では、処理液供給装置２００は、処理液の圧力を第１圧力Ｐ１に設定して、処理液を外循環させる。第１圧力Ｐ１は、第２圧力Ｐ２より低い。第２圧力Ｐ２は、ノズル１４が基板Ｗに処理液を吐出する時に外循環配管６０を流れる処理液の圧力を示す。つまり、第２圧力Ｐ２は、ノズル１４が基板Ｗに処理液を吐出する際に外循環配管６０から配管６を介してノズル１４に処理液を供給する時の処理液の圧力を示す。工程Ｓ４は、本発明の「第１循環工程」の一例に相当する。

【0071】

具体的には、図７に示すように、処理液供給装置２００は、制御装置２の制御によって、第１循環期間だけ、バルブ３６、３８、４３を開け、バルブ５、８、４５、４６、４７、４８を閉じる。その結果、第１循環期間において、処理液タンク３０に貯留された処理液が、外循環配管６０を通って循環する。この場合、制御装置２は、調圧バルブ４３の目標圧力を第１圧力Ｐ１に設定することで、処理液の圧力を第１圧力Ｐ１に設定する。従って、処理液は、第１圧力Ｐ１に応じた流量で外循環配管６０を循環する。なお、第１循環期間は、例えば、実験的及び／又は経験的に予め定められる。第１循環期間は、第１圧力Ｐ１での外循環期間である。また、調圧バルブ４３の目標圧力が第１圧力Ｐ１に設定されると、調圧バルブ４３一次側の処理液の圧力が第１圧力Ｐ１になるため、圧力計４１が検出する処理液の圧力は、第１圧力Ｐ１である。

【0072】

すなわち、工程Ｓ４では、処理液供給装置２００は、ポンプ３４の圧力が一定に保持された状態で、調圧バルブ４３によって処理液の圧力を第１圧力Ｐ１に設定することで、外循環配管６０を通して処理液を循環させる。従って、処理液の圧力を第２圧力Ｐ２（＞第１圧力Ｐ１）に設定する場合と比較して、外循環配管６０を流れる処理液の流量を増加できる。その結果、フィルター３７によるパーティクルの捕捉能力が向上して、処理液に含まれるパーティクルを更に効果的に低減できる。

【0073】

なお、調圧バルブ４３の目標圧力を第１圧力Ｐ１に設定した場合の調圧バルブ４３の開度は、調圧バルブ４３の目標圧力を第２圧力Ｐ２に設定した場合の調圧バルブ４３の開度よりも相対的に大きい。第１圧力Ｐ１は第２圧力Ｐ２よりも小さいからである。

【0074】

また、図４及び図８に示すように、処理液供給装置２００は、工程Ｓ４の実行中に、工程Ｓ４０を実行することが好ましい。

【0075】

工程Ｓ４０では、処理液供給装置２００は、ノズル１４に第１プリディスペンス処理を実行させる。第１プリディスペンス処理は、ノズル１４が基板Ｗに処理液を吐出する動作よりも前であって、工程Ｓ４の実行中に、ノズル１４が待機ポッド１７に向けて処理液を吐出する処理を示す。特に、工程Ｓ４０では、処理液供給装置２００は、処理液の圧力を第１圧力Ｐ１に設定して、ノズル１４に第１プリディスペンス処理を実行させる。工程Ｓ４０は、本発明の「第１プリディスペンス工程」の一例に相当する。

【0076】

具体的には、図８に示すように、処理液供給装置２００は、制御装置２の制御によって、第１排液期間だけ、バルブ５、８、３６、３８、４３を開け、バルブ４５、４６、４７、４８を閉じる。その結果、第１排液期間において、外循環配管６０を流れる処理液が配管６からノズル１４に供給される。そして、ノズル１４は、第１排液期間において、待機ポッド１７に処理液を吐出する。従って、第１排液期間では、待機ポッド１７の処理液は、排液配管７に排出される。その結果、処理液中のパーティクルもまた、排液配管７から排出される。なお、第１排液期間は、例えば、実験的及び／又は経験的に予め定められる。

【0077】

すなわち、工程Ｓ４０では、外循環配管６０からノズル１４に処理液を供給することで、ノズル１４に第１プリディスペンス処理を実行させる。従って、フィルター３７の二次側からノズル１４までの間に存在するパーティクルが排液配管７によって除去される。その結果、処理液に含まれるパーティクルを更に効果的に低減できる。

【0078】

また、処理液供給装置２００は、工程Ｓ４の実行中に、工程Ｓ４０を複数回実行してもよい。工程Ｓ４０を複数回実行することで、処理液に含まれるパーティクルを更に効果的に低減できる。処理液供給装置２００は、工程Ｓ４０を複数回実行する場合、例えば、定期的に又は不定期に工程Ｓ４０を実行する。

【0079】

例えば、処理液供給装置２００は、処理液の温度が低いほど、工程Ｓ４０を実行する回数を多くする。処理液の温度が低いほど、処理液の粘度が大きくなり、処理液が循環し難いからである。処理液が循環し難いと、フィルター３７によるパーティクルの捕捉能力が低下するため、工程Ｓ４０の回数を多くすることで、パーティクルを効果的に低減する。また、同様の理由により、例えば、処理液供給装置２００は、処理液の濃度が高いほど、工程Ｓ４０を実行する回数を多くしてもよい。さらに、同様の理由により、例えば、処理液供給装置２００は、処理液の粘度が大きいほど、工程Ｓ４０を実行する回数を多くしてもよい。

【0080】

なお、処理液供給装置２００は、工程Ｓ４において、バルブ４７、４８を開くことで、フィルター３７の内部の気泡を除去してもよい。

【0081】

次に、図４及び図９に示すように、工程Ｓ５において、処理液供給装置２００は、処理液を外循環させる。特に、工程Ｓ５では、処理液供給装置２００は、処理液の圧力を第２圧力Ｐ２に設定して、処理液を外循環させる。第２圧力Ｐ２は、第１圧力Ｐ１より高い。工程Ｓ５は、本発明の「第２循環工程」の一例に相当する。

【0082】

具体的には、図９に示すように、処理液供給装置２００は、制御装置２の制御によって、第２循環期間だけ、バルブ３６、３８、４３を開け、バルブ５、８、４５、４６、４７、４８を閉じる。その結果、第２循環期間において、処理液タンク３０に貯留された処理液が、外循環配管６０を通って循環する。この場合、制御装置２は、調圧バルブ４３の目標圧力を第２圧力Ｐ２に設定することで、処理液の圧力を第２圧力Ｐ２に設定する。従って、処理液は、第２圧力Ｐ２に応じた流量で外循環配管６０を循環する。なお、第２循環期間は、例えば、実験的及び／又は経験的に予め定められる。第２循環期間は、第２圧力Ｐ２での外循環期間である。また、調圧バルブ４３の目標圧力が第２圧力Ｐ２に設定されると、調圧バルブ４３一次側の処理液の圧力が第２圧力Ｐ２になるため、圧力計４１が検出する処理液の圧力は、第２圧力Ｐ２を示す。

【0083】

すなわち、工程Ｓ５では、処理液供給装置２００は、ポンプ３４の圧力が一定に保持された状態で、調圧バルブ４３によって処理液の圧力を第２圧力Ｐ２（＞第１圧力Ｐ１）に設定することで、外循環配管６０を通して処理液を循環させる。従って、処理液の圧力が高くなる。その結果、処理液の圧力を、ノズル１４によって基板Ｗに処理液を吐出するために好適な値に設定できる。

【0084】

また、図４及び図８に示すように、処理液供給装置２００は、工程Ｓ５の実行中に、工程Ｓ５０を実行することが好ましい。

【0085】

工程Ｓ５０では、処理液供給装置２００は、ノズル１４に第２プリディスペンス処理を実行させる。第２プリディスペンス処理は、ノズル１４が基板Ｗに処理液を吐出する動作よりも前であって、工程Ｓ５の実行中に、ノズル１４が待機ポッド１７に向けて処理液を吐出する処理を示す。特に、工程Ｓ５０では、処理液供給装置２００は、処理液の圧力を第２圧力Ｐ２に設定して、ノズル１４に第２プリディスペンス処理を実行させる。工程Ｓ５０は、本発明の「第２プリディスペンス工程」の一例に相当する。

【0086】

具体的には、図８に示すように、処理液供給装置２００は、制御装置２の制御によって、第２排液期間だけ、バルブ５、８、３６、３８、４３を開け、バルブ４５、４６、４７、４８を閉じる。その結果、第２排液期間において、外循環配管６０を流れる処理液が配管６からノズル１４に供給される。そして、ノズル１４は、第２排液期間において、待機ポッド１７に処理液を吐出する。従って、第２排液期間では、待機ポッド１７の処理液は、排液配管７に排出される。その結果、処理液中のパーティクルもまた、排液配管７から排出される。なお、第２排液期間は、例えば、実験的及び／又は経験的に予め定められる。

【0087】

すなわち、工程Ｓ５０では、外循環配管６０からノズル１４に処理液を供給することで、ノズル１４に第２プリディスペンス処理を実行させる。従って、フィルター３７の二次側からノズル１４までの間に存在するパーティクルが排液配管７によって除去される。その結果、処理液に含まれるパーティクルを更に効果的に低減できる。

【0088】

また、処理液供給装置２００は、工程Ｓ５の実行中に、工程Ｓ５０を複数回実行してもよい。工程Ｓ５０を複数回実行することで、処理液に含まれるパーティクルを更に効果的に低減できる。処理液供給装置２００は、工程Ｓ５０を複数回実行する場合、例えば、定期的に又は不定期に工程Ｓ５０を実行する。

【0089】

例えば、処理液供給装置２００は、処理液の温度が低いほど、工程Ｓ５０を実行する回数を多くする。理由は、工程Ｓ４０を複数回実行する場合と同様である。また、同様の理由により、例えば、処理液供給装置２００は、処理液の濃度が高いほど、工程Ｓ５０を実行する回数を多くしてもよい。さらに、同様の理由により、例えば、処理液供給装置２００は、処理液の粘度が大きいほど、工程Ｓ５０を実行する回数を多くしてもよい。

【0090】

なお、処理液供給装置２００は、工程Ｓ５において、バルブ４７、４８を開くことで、フィルター３７の内部の気泡を除去してもよい。

【0091】

次に、図１、図２、及び、図４に示すように、工程Ｓ６において、センターロボットＣＲは、基板Ｗを処理ユニット１に搬入する。そして、処理ユニット１において、スピンチャック１２は、基板Ｗを保持しつつ回転させる。

【0092】

次に、図４及び図１０に示すように、工程Ｓ７において、処理液供給装置２００は、外循環配管６０から配管６を介してノズル１４に処理液を供給する。その結果、ノズル１４は、処理液を基板Ｗに吐出する。そして、基板Ｗは、処理液によって処理される。工程Ｓ７は、本発明の「処理液供給工程」の一例に相当する。なお、工程Ｓ７は、本実施形態に係る処理液循環方法に含まれていてもよい。

【0093】

具体的には、図１０に示すように、処理液供給装置２００は、制御装置２の制御によって、所定処理期間だけ、バルブ５、３６、３８、４３を開け、バルブ８、４５、４６、４７、４８を閉じる。その結果、所定処理期間において、外循環配管６０を流れる処理液が配管６からノズル１４に供給される。そして、所定処理期間において、ノズル１４は、基板Ｗに処理液を吐出する。バルブ５が開かれてから所定処理期間が経過すると、バルブ５が閉じられ、ノズル１４からの処理液の吐出が停止される。なお、所定処理期間は、基板Ｗの処理目的に応じて予め定められる。

【0094】

すなわち、工程Ｓ７では、処理液供給装置２００は、工程Ｓ５よりも後に、外循環配管６０からノズル１４に処理液を供給する。図４の例において、工程Ｓ７では、処理液供給装置２００は、工程Ｓ５０よりも後に、外循環配管６０からノズル１４に処理液を供給する。そして、ノズル１４に供給された処理液を、ノズル１４によって基板Ｗに吐出する。その結果、パーティクルの低減された処理液によって基板Ｗを処理できる。

【0095】

次に、図２及び図４に示すように、工程Ｓ８において、ノズル１８は、リンス液を基板Ｗに吐出する。その結果、基板Ｗ上の処理液が、リンス液によって洗い流される。

【0096】

具体的には、図２に示すように、バルブ１９が開かれると、ノズル１８は、リンス液を基板Ｗに吐出する。バルブ１９が開かれてから所定リンス期間が経過すると、バルブ１９が閉じられ、ノズル１８からのリンス液の吐出が停止される。なお、所定リンス期間は、例えば、実験的及び／又は経験的に予め定められる。

【0097】

次に、図２及び図４に示すように、工程Ｓ９において、基板Ｗの高速回転によって基板Ｗを乾燥させる。

【0098】

具体的には、スピンモーター１３が基板Ｗを回転方向に加速させ、工程Ｓ７及び工程Ｓ８での基板Ｗの回転速度よりも大きい高回転速度で基板Ｗを回転させる。その結果、液体が基板Ｗから除去され、基板Ｗが乾燥する。基板Ｗの高速回転が開始されてから所定乾燥期間が経過すると、スピンモーター１３が回転を停止する。そして、基板Ｗの回転が停止される。なお、所定乾燥期間は、例えば、実験的及び／又は経験的に予め定められる。

【0099】

次に、図１、図２、及び、図４に示すように、工程Ｓ１０において、センターロボットＣＲは、基板Ｗを処理ユニット１から搬出する。つまり、処理済みの基板Ｗがチャンバー１１から搬出される。そして、基板処理方法は終了する。

【0100】

次に、図４及び図１１を参照して、本実施形態に係る処理液供給装置２００が処理液中のパーティクル数を効果的に減少できることについて説明する。図１１は、調圧バルブ４３の一次側圧力の時間変化及びパーティクル数の時間変化を示すグラフである。グラフＧＰ１において、横軸は、時間を示し、縦軸は、処理液の圧力を示す。この場合、処理液の圧力は、調圧バルブ４３の一次側圧力を示す。つまり、処理液の圧力は、圧力計４１によって計測された処理液の圧力を示す。また、グラフＧＰ２において、横軸は、時間を示し、縦軸は、処理液中のパーティクル数を示す。パーティクル数は、処理液を基板Ｗに吐出した後において基板Ｗ上の処理液に含まれるパーティクルの数を示す。

【0101】

図１１に示すように、内循環（工程Ｓ２）が実行される際には、時刻ｔ１において、パーティクル数が最も多い。

【0102】

そして、フィルター排液（工程Ｓ３）の実行によって、時刻ｔ２でのパーティクル数は、時刻ｔ１でのパーティクル数よりも減少する。なぜなら、フィルター３７よりも一次側に存在しているパーティクル、及び、フィルター３７の内部に存在しているパーティクルが、排液配管６２によって排出されるからである。

【0103】

次に、第１圧力Ｐ１による外循環（工程Ｓ４）の実行によって、時刻ｔ３でのパーティクル数は、時刻ｔ２でのパーティクル数よりも減少する。なぜなら、時刻ｔ３において処理液の圧力が第１圧力Ｐ１（＜第２圧力Ｐ２）に設定されることで、処理液の循環流量が増加して、フィルター３７がより多くのパーティクルを捕捉できるからである。つまり、処理液の循環流量が増加すると、より多くの処理液がフィルター３７を通過するため、より多くのパーティクルがフィルター３７によって捕捉される。具体的には、フィルター３７よりも二次側に存在するパーティクルが、外循環することで一次側からフィルター３７に流入し、フィルター３７によって捕捉される。

【0104】

次に、第１圧力Ｐ１による外循環開始直後の時刻ｔ４では、第１プリディスペンス処理（工程Ｓ４０）が実行される。従って、フィルター３７の二次側からノズル１４までの間に存在するパーティクルが排液配管７によって除去される。その結果、時刻ｔ４でのパーティクル数は、時刻ｔ３でのパーティクル数よりも減少する。

【0105】

次に、第１圧力Ｐ１による外循環中の時刻ｔ５では、第１プリディスペンス処理（工程Ｓ４０）が再び実行される。従って、フィルター３７の二次側からノズル１４までの間に存在するパーティクルが排液配管７によって更に除去される。その結果、時刻ｔ５でのパーティクル数は、時刻ｔ４でのパーティクル数よりも減少する。

【0106】

次に、第２圧力Ｐ２による外循環（工程Ｓ５）の実行によって、時刻ｔ６でのパーティクル数は、時刻ｔ５でのパーティクル数よりも若干増加する。なぜなら、時刻ｔ６において処理液の圧力が第２圧力Ｐ２（＞第１圧力Ｐ１）に設定されることで、処理液の循環流量が減少して、フィルター３７によるパーティクルの捕捉能力が若干低下するからである。つまり、処理液の循環流量が減少すると、フィルター３７を通過する処理液の流量が減少するため、フィルター３７によるパーティクルの捕捉能力が低下する。

【0107】

そこで、第２圧力Ｐ２による外循環開始直後の時刻ｔ７では、第２プリディスペンス処理（工程Ｓ５０）が実行される。従って、フィルター３７の二次側からノズル１８までの間に存在するパーティクルが排液配管７によって除去される。その結果、時刻ｔ７でのパーティクル数は、時刻ｔ６でのパーティクル数よりも減少する。

【0108】

そして、第２圧力Ｐ２による外循環によって、ノズル１４への処理液の供給が待機される。この場合、処理液に含まれるパーティクルの数は大幅に減少している。その結果、パーティクルの極めて少ない処理液によって基板Ｗを処理できる。また、第２圧力Ｐ２（＞第１圧力Ｐ１）によって、ノズル１４が基板Ｗに処理液を吐出する際に必要な吐出圧力を確保できる。

【0109】

以上、図面を参照して本発明の実施形態について説明した。ただし、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施できる。また、上記の実施形態に開示される複数の構成要素は適宜改変可能である。例えば、ある実施形態に示される全構成要素のうちのある構成要素を別の実施形態の構成要素に追加してもよく、または、ある実施形態に示される全構成要素のうちのいくつかの構成要素を実施形態から削除してもよい。

【0110】

図面は、発明の理解を容易にするために、それぞれの構成要素を模式的に示しており、図示された各構成要素の厚さ、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合もある。また、上記の実施形態で示す各構成要素の構成は一例であって、特に限定されるものではなく、本発明の効果から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能であることは言うまでもない。

【0111】

（１）本実施形態では、図４に示す処理液循環方法は、少なくとも、工程Ｓ１及び工程Ｓ４を含んでいればよい。処理液に含まれるパーティクルを効果的に除去できるからである。従って、処理液循環方法は、工程Ｓ２、工程Ｓ３、及び、工程Ｓ５を含まなくてもよい。また、処理液循環方法は、工程Ｓ２、工程Ｓ３、及び、工程Ｓ５のうちの１以上の工程を含んでいてもよい。また、工程Ｓ４は工程Ｓ４０を含まなくてもよい。さらに、工程Ｓ５は工程Ｓ５０を含まなくてもよい。

【0112】

（２）図３に示す処理液供給装置２００は、バルブ３８を有していなくてもよい。理由は次の通りである。すなわち、例えば、工程Ｓ３において、処理液の温度が比較的低い場合は、処理液の粘度が比較的高いため、バルブ３８が存在しない場合でも、処理液がフィルター３７の二次側に流れ難い。従って、処理液が排液配管６２に流れ、工程Ｓ３を容易に実行できる。

【0113】

（３）図３に示す処理液供給装置２００は、バルブ３６を有していなくてもよい。理由は次の通りである。すなわち、例えば、工程Ｓ２では、処理液の温度が比較的低く、処理液の粘度が比較的高いため、バルブ３６が存在しない場合でも、処理液がフィルター３７の二次側及び排液配管６２に流れ難い。従って、処理液が内循環配管６１に流れ、工程Ｓ２を容易に実行できる。

【0114】

（４）図３に示す処理液供給装置２００は、バルブ３６及びバルブ３８を有していなくてもよい。理由は、上記（１）、（２）に示した通りである。

【産業上の利用可能性】

【0115】

本発明は、処理液循環方法、及び、基板処理方法に関するものであり、産業上の利用可能性を有する。

【符号の説明】

【0116】

６ 配管
１４ ノズル
１７ 待機ポッド（液受け部）
３０ 処理液タンク
３４ ポンプ
３７ フィルター
４３ 調圧バルブ
６０ 外循環配管（第１循環配管）
６１ 内循環配管（第２循環配管）
６２、６４ 排液配管
１００ 基板処理装置
２００ 処理液供給装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】