7656516 基板処理装置及び基板処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-03-26

(45)【発行日】2025-04-03

(54)【発明の名称】基板処理装置及び基板処理方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20250327BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 648L

H01L21/304 643A

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2021137779

(22)【出願日】2021-08-26

(65)【公開番号】P2023031968

(43)【公開日】2023-03-09

【審査請求日】2024-05-27

(73)【特許権者】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100113435

【弁理士】

【氏名又は名称】黒木 義樹

(74)【代理人】

【識別番号】100122507

【弁理士】

【氏名又は名称】柏岡 潤二

(74)【代理人】

【識別番号】100171099

【弁理士】

【氏名又は名称】松尾 茂樹

(74)【代理人】

【識別番号】100153969

【弁理士】

【氏名又は名称】松澤 寿昭

(72)【発明者】

【氏名】玉田 純

(72)【発明者】

【氏名】南田 純也

【審査官】小池 英敏

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１６－９２１４４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１－２８１１３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２０－４７８９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００３／００１９５０６（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

Ｈ０１Ｌ ２１／３１

Ｃ２３Ｃ １６／００

Ｈ０１Ｌ ２１／３０６

Ｈ０１Ｌ ２１／３０６５

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１の処理液及び前記第１の処理液とは種類の異なる第２の処理液を含む複数の処理液を基板の表面にそれぞれ供給するように構成された液処理部と、
前記液処理部から排出される排出ガスを外部に排出するように構成された排気部であって、前記排出ガスは、前記第１の処理液による前記基板の処理に伴い前記液処理部から排出される第１の排出ガスと、前記第２の処理液による前記基板の処理に伴い前記液処理部から排出される第２の排出ガスとを含む、排気部とを備え、
前記排気部は、
前記排出ガスが流通するように構成されており、上流側に位置する第１の部分と、前記第１の部分よりも下流側に位置する第２の部分とを含む主排気管と、
前記第１の排出ガスが流通するように構成された第１の個別排気管と、
前記第２の排出ガスが流通するように構成された第２の個別排気管と、
前記主排気管と、前記第１の個別排気管及び前記第２の個別排気管の一方とを選択的に連通するように構成された切替部とを含み、
前記切替部は、
前記第１の部分と前記第１の個別排気管との間に配置され、前記液処理部から前記第１の排出ガスが排出された場合に前記第１の部分と前記第１の個別排気管とが連通した連通状態と、前記液処理部から前記第１の排出ガス以外の前記排出ガスが排出された場合に前記第１の部分と前記第１の個別排気管とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第１の切替機構と、
前記第２の部分と前記第２の個別排気管との間に配置され、前記液処理部から前記第２の排出ガスが排出された場合に前記第２の部分と前記第２の個別排気管とが連通した連通状態と、前記液処理部から前記第２の排出ガス以外の前記排出ガスが排出された場合に前記第２の部分と前記第２の個別排気管とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第２の切替機構と、
前記主排気管のうち前記第１の部分と第２の部分との間に配置され、前記液処理部から前記第１の排出ガスが排出された場合に前記第２の部分への前記第１の排出ガスの流通を制止する閉鎖状態と、前記液処理部から前記第１の排出ガス以外の前記排出ガスが排出された場合に前記第２の部分への前記第１の排出ガス以外の前記排出ガスの流通を許容する開放状態とを切り替えるように構成された第３の切替機構と、
外気を前記第２の部分に導入するように前記第２の部分に接続された外気導入管と、
前記外気導入管に配置され、前記液処理部から前記第１の排出ガスが排出された場合に前記第２の部分への外気の導入を許容する開放状態と、前記液処理部から前記第１の排出ガス以外の前記排出ガスが排出された場合に前記第２の部分への外気の導入を制止する閉鎖状態とを切り替えるように構成された第４の切替機構とを含む、基板処理装置。

【請求項2】

前記複数の処理液は、前記第１の処理液及び前記第２の処理液とは種類の異なる第３の処理液をさらに含み、
前記排出ガスは、前記第３の処理液による前記基板の処理に伴い前記液処理部から排出される第３の排出ガスをさらに含み、
前記排気部は、前記第３の排出ガスが流通するように構成された第３の個別排気管をさらに含み、
前記主排気管は、前記第３の切替機構よりも下流側に位置する第３の部分をさらに含み、
前記切替部は、前記第３の部分と前記第３の個別排気管との間に配置され、前記液処理部から前記第３の排出ガスが排出された場合に前記第３の部分と前記第３の個別排気管とが連通した連通状態と、前記液処理部から前記第３の排出ガス以外の前記排出ガスが排出された場合に前記第３の部分と前記第３の個別排気管とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第５の切替機構をさらに含み、前記主排気管と、前記第１の個別排気管、前記第２の個別排気管及び前記第３の個別排気管のいずれか一つとを選択的に連通するように構成されている、請求項１に記載の装置。

【請求項3】

前記第１の処理液は有機系処理液であり、
前記第２の処理液は、酸系処理液又はアルカリ系処理液である、請求項１又は２に記載の装置。

【請求項4】

前記液処理部から前記第１の排出ガスが排出された場合に、前記第３の切替機構が前記閉鎖状態となり且つ前記第４の切替機構が前記開放状態となることにより、前記第２の部分における圧力が前記第１の部分における圧力よりも高くなるように設定される、請求項１～３のいずれか一項に記載の装置。

【請求項5】

前記切替部は、
前記第１の部分の圧力を測定するように構成された第１のセンサと、
前記第２の部分の圧力を測定するように構成された第２のセンサと、
前記外気導入管のうち前記第４の切替機構よりも上流側に設けられた調節部とをさらに含み、
前記調節部は、前記第２のセンサによって測定された圧力の大きさが前記第１のセンサによって測定された圧力の大きさよりも大きくなるように、前記第２の部分への外気の導入量を調節するように構成されている、請求項１～４のいずれか一項に記載の装置。

【請求項6】

前記切替部は前記液処理部よりも上方に配置されている、請求項１～５のいずれか一項に記載の装置。

【請求項7】

前記切替部は、前記第１の部分と前記第１の切替機構との間に配置され、前記液処理部から前記第１の排出ガスが排出された場合に前記第１の部分と前記第１の切替機構とが連通した連通状態と、前記液処理部から前記第１の排出ガス以外の前記排出ガスが排出された場合に前記第１の部分と前記第１の切替機構とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第６の切替機構をさらに含む、請求項１～６のいずれか一項に記載の装置。

【請求項8】

請求項１～７のいずれか一項に記載の装置を用いて前記基板を処理する方法であって、
前記第１の切替機構を前記連通状態とし、前記第２の切替機構を前記非連通状態とし、前記第３の切替機構を前記閉鎖状態とし、且つ、前記第４の切替機構を前記開放状態とする第１の工程と、
前記第１の工程の後に、前記液処理部において前記第１の処理液により前記基板を処理する第２の工程と、
前記第１の切替機構を前記非連通状態とし、前記第２の切替機構を前記連通状態とし、前記第３の切替機構を前記開放状態とし、且つ、前記第４の切替機構を前記閉鎖状態とする第３の工程と、
前記第３の工程の後に、前記液処理部において前記第２の処理液により前記基板を処理する第４の工程とを含む、基板処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１は、複数種類の処理液を基板に個別に供給して基板を処理するように構成された液処理部と、液処理部内の雰囲気を外部に排出するように構成された排気部とを備える基板処理装置を開示している。排気部は、処理液の種類に対応する複数の個別排気管と、液処理部から排出されたガスをいずれかの個別排気管に導くように構成された切替部とを含んでいる。例えば、液処理部において基板に所定の処理液が供給されることに伴ってガスやミスト等が発生した場合、切替部は、液処理部と、当該所定の処理液の種類に対応する個別排気管とを接続するように流路を切り替える。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２０１６－０９２１４４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、複数種類の処理液を利用した液処理部において基板処理する際に、液処理部から排出される排出ガスが、当該排出ガスに対応する個別排気管とは異なる個別排気管に流入するのを抑制することが可能な基板処理装置及び基板処理方法を説明する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

基板処理装置の一例は、第１の処理液及び第１の処理液とは種類の異なる第２の処理液を含む複数の処理液を基板の表面にそれぞれ供給するように構成された液処理部と、液処理部から排出される排出ガスを外部に排出するように構成された排気部であって、排出ガスは、第１の処理液による基板の処理に伴い液処理部から排出される第１の排出ガスと、第２の処理液による基板の処理に伴い液処理部から排出される第２の排出ガスとを含む、排気部とを備える。排気部は、排出ガスが流通するように構成されており、上流側に位置する第１の部分と、第１の部分よりも下流側に位置する第２の部分とを含む主排気管と、第１の排出ガスが流通するように構成された第１の個別排気管と、第２の排出ガスが流通するように構成された第２の個別排気管と、主排気管と、第１の個別排気管及び第２の個別排気管の一方とを選択的に連通するように構成された切替部とを含む。切替部は、第１の部分と第１の個別排気管との間に配置され、液処理部から第１の排出ガスが排出された場合に第１の部分と第１の個別排気管とが連通した連通状態と、液処理部から第１の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第１の部分と第１の個別排気管とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第１の切替機構と、第２の部分と第２の個別排気管との間に配置され、液処理部から第２の排出ガスが排出された場合に第２の部分と第２の個別排気管とが連通した連通状態と、液処理部から第２の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第２の部分と第２の個別排気管とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第２の切替機構と、主排気管のうち第１の部分と第２の部分との間に配置され、液処理部から第１の排出ガスが排出された場合に第２の部分への第１の排出ガスの流通を制止する閉鎖状態と、液処理部から第１の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第２の部分への第１の排出ガス以外の排出ガスの流通を許容する開放状態とを切り替えるように構成された第３の切替機構と、外気を第２の部分に導入するように第２の部分に接続された外気導入管と、外気導入管に配置され、液処理部から第１の排出ガスが排出された場合に第２の部分への外気の導入を許容する開放状態と、液処理部から第１の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第２の部分への外気の導入を制止する閉鎖状態とを切り替えるように構成された第４の切替機構とを含む。

【発明の効果】

【0006】

本開示に係る基板処理装置及び基板処理方法によれば、複数種類の処理液を利用した液処理部において基板処理する際に、液処理部から排出される排出ガスが、当該排出ガスに対応する個別排気管とは異なる個別排気管に流入するのを抑制することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】図１は、基板処理システムの一例を模式的に示す平面図である。

【図2】図２は、図１の基板処理システムを模式的に示す側面図である。

【図3】図３は、液処理ユニットの一例を模式的に示す側面図である。

【図4】図４は、液処理ユニット及び排気ユニットの一例を模式的に示す図である。

【図5】図５は、図４の排気ユニットを模式的に示す部分拡大図であり、主排気管と有機系排出ガスの個別排気管とが連通した状態を示す図である。

【図6】図６は、基板処理システムの主要部の一例を示すブロック図である。

【図7】図７は、コントローラのハードウェア構成の一例を示す概略図である。

【図8】図８は、図４の排気ユニットを模式的に示す部分拡大図であり、主排気管とアルカリ系排出ガスの個別排気管とが連通した状態を示す図である。

【図9】図９は、図４の排気ユニットを模式的に示す部分拡大図であり、主排気管と酸系排出ガスの個別排気管とが連通した状態を示す図である。

【図10】図１０は、排気ユニットの他の例を模式的に示す図である。

【図11】図１１は、排気ユニットの他の例を模式的に示す図である。

【図12】図１２は、排気ユニットの他の例を模式的に示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。なお、本明細書において、図の上、下、右、左というときは、図中の符号の向きを基準とすることとする。

【0009】

［基板処理システム］
まず、図１及び図２を参照して、基板Ｗを処理するように構成された基板処理システム１（基板処理装置）について説明する。基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３と、コントローラＣｔｒ（制御部）とを備える。搬入出ステーション２及び処理ステーション３は、例えば水平方向に一列に並んでいてもよい。

【0010】

基板Ｗは、円板状を呈してもよいし、多角形など円形以外の板状を呈していてもよい。基板Ｗは、一部が切り欠かれた切欠部を有していてもよい。切欠部は、例えば、ノッチ（Ｕ字形、Ｖ字形等の溝）であってもよいし、直線状に延びる直線部（いわゆる、オリエンテーション・フラット）であってもよい。基板Ｗは、例えば、半導体基板（シリコンウエハ）、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）基板その他の各種基板であってもよい。基板Ｗの直径は、例えば２００ｍｍ～４５０ｍｍ程度であってもよい。

【0011】

搬入出ステーション２は、載置部４と、搬入搬出部５と、棚ユニット６とを含む。載置部４は、幅方向（図１の上下方向）において並ぶ複数の載置台（図示せず）を含んでいる。各載置台は、キャリア７（収容容器）を載置可能に構成されている。キャリア７は、少なくとも一つの基板Ｗを密封状態で収容するように構成されている。キャリア７は、基板Ｗを出し入れするための開閉扉（図示せず）を含む。

【0012】

搬入搬出部５は、搬入出ステーション２及び処理ステーション３が並ぶ方向（図１の左右方向）において、載置部４に隣接して配置されている。搬入搬出部５は、載置部４に対して設けられた開閉扉（図示せず）を含む。載置部４上にキャリア７が載置された状態で、キャリア７の開閉扉と搬入搬出部５の開閉扉とが共に開放されることで、搬入搬出部５内とキャリア７内とが連通する。

【0013】

搬入搬出部５は、搬送アームＡ１及び棚ユニット６を内蔵している。搬送アームＡ１は、搬入搬出部５の幅方向（図１の上下方向）における水平移動と、鉛直方向（図２の上下方向）における上下動と、鉛直軸周りにおける旋回動作とが可能に構成されている。搬送アームＡ１は、キャリア７から基板Ｗを取り出して棚ユニット６に渡し、また、棚ユニット６から基板Ｗを受け取ってキャリア７内に戻すように構成されている。棚ユニット６は、処理ステーション３の近傍に位置しており、搬入搬出部５と処理ステーション３との間での基板Ｗの受け渡しを仲介するように構成されている。

【0014】

処理ステーション３は、搬送部８と、複数の液処理ユニット１００（液処理部）と、排気ユニット２００（排気部）とを含む。搬送部８は、例えば、搬入出ステーション２及び処理ステーション３が並ぶ方向（図１の左右方向）において水平に延びている。搬送部８は、搬送アームＡ２を内蔵している。搬送アームＡ２は、搬送部８の長手方向（図１の左右方向）における水平移動と、鉛直方向における上下動と、鉛直軸周りにおける旋回動作とが可能に構成されている。搬送アームＡ２は、棚ユニット６から基板Ｗを取り出して液処理ユニット１００に渡し、また、液処理ユニット１００から基板Ｗを受け取って棚ユニット６内に戻すように構成されている。

【0015】

［液処理ユニット］
続いて、図３及び図４を参照して、液処理ユニット１００について詳しく説明する。液処理ユニット１００は、基板Ｗに所定の液処理（例えば、汚れや異物の除去処理、エッチング処理など）を行うように構成されている。液処理ユニット１００は、例えば、スピン洗浄により基板Ｗを１枚ずつ洗浄する枚葉式の洗浄装置であってもよい。

【0016】

液処理ユニット１００は、チャンバ１１０と、送風部１２０と、回転保持部１３０と、供給部１４０と、カップ体１５０とを含む。

【0017】

チャンバ１１０は、その内部に基板Ｗを搬入出することが可能に構成された筐体である。チャンバ１１０の側壁には、図示しない搬入搬出口が形成されている。基板Ｗは、搬送アームＡ２により、当該搬入搬出口を通じて、チャンバ１１０の内部に搬送され、また、チャンバ１１０から外部に搬出される。

【0018】

送風部１２０は、チャンバ１１０の天壁に取り付けられている。送風部１２０は、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、下方に向かう下降流をチャンバ１１０内に形成するように構成されている。

【0019】

回転保持部１３０は、駆動部１３１と、シャフト１３２と、保持部１３３とを含む。駆動部１３１は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、シャフト１３２を回転させるように構成されている。駆動部１３１は、例えば電動モータ等の動力源であってもよい。

【0020】

保持部１３３は、シャフト１３２の先端部に設けられている。保持部１３３は、例えば吸着等により、基板Ｗの裏面を吸着保持するように構成されている。すなわち、回転保持部１３０は、基板Ｗの姿勢が略水平の状態で、基板Ｗの表面に対して垂直な中心軸（回転軸）周りで基板Ｗを回転させるように構成されていてもよい。

【0021】

供給部１４０は、種類の異なる複数の処理液をノズルＮから基板Ｗの表面に供給するように構成されている。供給部１４０は、図４に示されるように、液源１４１～１４４と、バルブ１４５～１４８と、配管Ｄ１～Ｄ５とを含む。

【0022】

液源１４１は、処理液Ｌ１（第２の処理液又は第３の処理液）の供給源として構成されていてもよい。処理液Ｌ１は、例えば、酸系処理液であってもよい。酸系処理液は、例えば、ＳＣ－２液（塩酸、過酸化水素及び純水の混合液）、ＳＰＭ（硫酸及び過酸化水素水の混合液）、ＨＦ液（フッ酸）、ＤＨＦ液（希フッ酸）、ＨＮＯ_３＋ＨＦ液（硝酸及びフッ酸の混合液）などを含んでいてもよい。液源１４１は、配管Ｄ１，Ｄ５を介してノズルＮに接続されている。

【0023】

液源１４２は、処理液Ｌ２（第２の処理液又は第３の処理液）の供給源として構成されていてもよい。処理液Ｌ２は、例えば、アルカリ系処理液であってもよい。アルカリ系処理液は、例えば、ＳＣ－１液（アンモニア、過酸化水素及び純水の混合液）、過酸化水素水などを含んでいてもよい。液源１４２は、配管Ｄ２，Ｄ５を介してノズルＮに接続されている。

【0024】

液源１４３は、処理液Ｌ３（第１の処理液）の供給源として構成されていてもよい。処理液Ｌ３は、例えば、有機系処理液であってもよい。有機系処理液は、例えば、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などを含んでいてもよい。液源１４３は、配管Ｄ３，Ｄ５を介してノズルＮに接続されている。

【0025】

液源１４４は、処理液Ｌ４の供給源として構成されていてもよい。処理液Ｌ４は、例えば、リンス液であってもよい。リンス液は、例えば、純水（ＤＩＷ：deionized water）、オゾン水、炭酸水（ＣＯ_２水）、アンモニア水などを含んでいてもよい。液源１４４は、配管Ｄ４，Ｄ５を介してノズルＮに接続されている。

【0026】

バルブ１４５～１４８はそれぞれ、配管Ｄ１～Ｄ４に設けられている。バルブ１４５～１４８はそれぞれ、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて開閉するように構成されている。

【0027】

ノズルＮは、吐出口が基板Ｗの表面に向かうように基板Ｗの上方に配置されていていもよい。ノズルＮは、図示しない駆動源によって、基板Ｗの上方において水平移動又は上下動するように構成されていてもよい。

【0028】

図３に戻って、カップ体１５０は、保持部１３３の周囲を取り囲むように設けられている。カップ体１５０は、回転保持部１３０によって基板Ｗが保持及び回転されることで、基板Ｗの外周縁から周囲に飛散する処理液を捕集するように構成されている。カップ体１５０の底部には、排液口１５１と、排気口１５２とが設けられている。排液口１５１は、カップ体１５０によって捕集された処理液Ｌ１～Ｌ４を液処理ユニット１００の外部に排出するように構成されている。

【0029】

排気口１５２は、送風部１２０によって基板Ｗの周囲に形成された下降流を液処理ユニット１００の外部に排出するように構成されている。排気口１５２からは、液処理ユニット１００において基板Ｗに処理液Ｌ１～Ｌ４が供給され、基板Ｗが処理液Ｌ１～Ｌ４によって処理されることに伴って基板Ｗの周囲に発生するガスが、排出ガスとして排出される。すなわち、排出ガスは、処理液Ｌ１による基板Ｗの処理に伴い液処理ユニット１００の排気口１５２から排出される酸系の排出ガスＧ１（第２の排出ガス又は第３の排出ガス）と、処理液Ｌ２による基板Ｗの処理に伴い液処理ユニット１００の排気口１５２から排出されるアルカリ系の排出ガスＧ２（第２の排出ガス又は第３の排出ガス）と、処理液Ｌ３による基板Ｗの処理に伴い液処理ユニット１００の排気口１５２から排出される有機系の排出ガスＧ３（第１の排出ガス）とを含む。なお、液処理ユニット１００の排気口１５２から排出される排出ガスＧ１～Ｇ３は、処理液Ｌ１～Ｌ３のミストを随伴していてもよい。

【0030】

［排気ユニット］
続いて、図２、図４及び図５を参照して、排気ユニット２００について詳しく説明する。排気ユニット２００の主要部は、図２に示されるように、搬入出ステーション２及び処理ステーション３の上方に配置されている。排気ユニット２００は、図２、図４及び図５に示されるように、個別排気管２１０，２２０，２３０と、複数の主排気管２４０と、複数の切替ユニット３００（切替部）とを含む。

【0031】

個別排気管２１０，２２０，２３０は、図２及び図４に示されるように、搬入出ステーション２及び処理ステーション３の上方に配置されている。個別排気管２１０は、排出ガスＧ３を基板処理システム１の外部まで導く排気経路として構成されている。個別排気管２２０は、排出ガスＧ２を基板処理システム１の外部まで導く排気経路として構成されている。個別排気管２３０は、排出ガスＧ１を基板処理システム１の外部まで導く排気経路として構成されている。図４に示されるように、個別排気管２１０，２２０，２３０にはそれぞれ、ポンプＰ１～Ｐ３が設けられている。すなわち、排出ガスＧ１～Ｇ３はそれぞれ、異なる個別排気管２１０，２２０，２３０を通じて送気され、基板処理システム１の外に排出される。

【0032】

複数の主排気管２４０は、処理ステーション３に設けられている複数の液処理ユニット１００にそれぞれ対応している。複数の切替ユニット３００は、処理ステーション３に設けられている複数の液処理ユニット１００にそれぞれ対応している。すなわち、複数の主排気管２４０のうちの一の主排気管２４０は、複数の液処理ユニット１００のうちの一の液処理ユニット１００から排出される排出ガスを、複数の切替ユニット３００のうちの一の切替ユニット３００に流すように構成されている。各主排気管２４０の構成はいずれも同等であり、各切替ユニット３００の構成はいずれも同等である。そのため、以下では、一の液処理ユニット１００に対応する一の主排気管２４０及び一の切替ユニット３００について説明し、他の主排気管２４０及び他の切替ユニット３００についての説明は省略する。

【0033】

主排気管２４０は、図２及び図４に示されるように、液処理ユニット１００と切替ユニット３００との間を上下方向に沿って延びている。すなわち、主排気管２４０は、主排気管２４０の上流端部（下端部）は、排気口１５２に接続されている。主排気管２４０の下流端部（上端部）は、切替ユニット３００に到達している。

【0034】

主排気管２４０の上流端部（下端部）は、図示しない排液部に接続されている。排出ガスＧ１～Ｇ３にミストが随伴している場合、ミストは気体よりも重いため、排出ガスＧ１～Ｇ３が主排気管２４０を上昇する一方で、ミストは主排気管２４０を上昇し難い。ミストは、排出ガスＧ１～Ｇ３が主排気管２４０を上昇する過程で冷却されて液滴となり、主排気管２４０を落下する。その結果、ミストに由来する液滴が排液部から基板処理システム１の外に排出される。すなわち、主排気管２４０において気液分離が行われる。

【0035】

主排気管２４０の下流端部は、図５に示されるように、第１の部分２４１と、第２の部分２４２と、第３の部分２４３とを含む。第１の部分２４１、第２の部分２４２及び第３の部分２４３は、上流側から下流側に向けてこの順で直列に並んでいる。

【0036】

切替ユニット３００は、図２及び図４に示されるように、搬入出ステーション２及び処理ステーション３の上方に配置されている。すなわち、切替ユニット３００は、液処理ユニット１００よりも上方に配置されている。切替ユニット３００は、主排気管２４０と、個別排気管２１０，２２０，２３０のいずれか一つとを選択的に連通するように構成されている。切替ユニット３００は、図５に示されるように、バルブＶ１～Ｖ５と、流入管３１１～３１３と、流出管３２１～３２３と、外気導入管３３０～３３３と、外気導入管３４０と、調節部３５０と、センサＳＥ１，ＳＥ２とを含む。

【0037】

バルブＶ１（第１の切替機構）は、流入口Ｖ１ａ，Ｖ１ｂと、流出口Ｖ１ｃとを含む。バルブＶ１は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作するように構成されている。バルブＶ１は、主排気管２４０の第１の部分２４１と、個別排気管２１０との間に配置されている。バルブＶ１は、流入口Ｖ１ａと流出口Ｖ１ｃとが連通するが流入口Ｖ１ｂと流出口Ｖ１ｃとが連通しない状態（図５参照）と、流入口Ｖ１ｂと流出口Ｖ１ｃとが連通するが流入口Ｖ１ａと流出口Ｖ１ｃとが連通しない状態（図８及び図９参照）とを切替可能である。

【0038】

バルブＶ２（第２の切替機構）は、流入口Ｖ２ａ，Ｖ２ｂと、流出口Ｖ２ｃとを含む。バルブＶ２は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作するように構成されている。バルブＶ２は、主排気管２４０の第２の部分２４２と、個別排気管２２０との間に配置されている。バルブＶ２は、流入口Ｖ２ａと流出口Ｖ２ｃとが連通するが流入口Ｖ２ｂと流出口Ｖ２ｃとが連通しない状態（図８参照）と、流入口Ｖ２ｂと流出口Ｖ２ｃとが連通するが流入口Ｖ２ａと流出口Ｖ２ｃとが連通しない状態（図５及び図９参照）とを切替可能である。

【0039】

バルブＶ３（第５の切替機構）は、流入口Ｖ３ａ，Ｖ３ｂと、流出口Ｖ３ｃとを含む。バルブＶ３は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作するように構成されている。バルブＶ３は、主排気管２４０の第３の部分２４３と、個別排気管２３０との間に配置されている。バルブＶ３は、流入口Ｖ３ａと流出口Ｖ３ｃとが連通するが流入口Ｖ３ｂと流出口Ｖ３ｃとが連通しない状態（図９参照）と、流入口Ｖ３ｂと流出口Ｖ３ｃとが連通するが流入口Ｖ３ａと流出口Ｖ３ｃとが連通しない状態（図５及び図８参照）とを切替可能である。

【0040】

バルブＶ４（第３の切替機構）は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて開閉するように構成されている。バルブＶ４は、排出ガスが流通可能な開放状態と、排出ガスの流通が制止される閉鎖状態とを切替可能である。バルブＶ４は、主排気管２４０の第１の部分２４１と第２の部分２４２との間に配置されている。換言すれば、主排気管２４０の第２の部分２４２と第３の部分２４３とは、バルブＶ４よりも下流側に位置している。

【0041】

バルブＶ５（第４の切替機構）は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて開閉するように構成されている。バルブＶ５は、外気が流通可能な開放状態と、外気の流通が制止される閉鎖状態とを切替可能である。バルブＶ５は、外気導入管３４０に配置されている。

【0042】

流入管３１１は、主排気管２４０の第１の部分２４１と、バルブＶ１の流入口Ｖ１ａとを接続するように延びている。流入管３１２は、主排気管２４０の第２の部分２４２と、バルブＶ２の流入口Ｖ２ａとを接続するように延びている。流入管３１３は、主排気管２４０の第３の部分２４３と、バルブＶ３の流入口Ｖ３ａとを接続するように延びている。

【0043】

流出管３２１は、個別排気管２１０と、バルブＶ１の流出口Ｖ１ｃとを接続するように延びている。流出管３２２は、個別排気管２２０と、バルブＶ２の流出口Ｖ２ｃとを接続するように延びている。流出管３２３は、個別排気管２３０と、バルブＶ３の流出口Ｖ３ｃとを接続するように延びている。

【0044】

外気導入管３３０～３３３は、個別排気管２１０，２２０，２３０に外気を供給するように構成されている。外気導入管３３０は、外気に流体的に接続された上端部を含む。外気導入管３３１は、外気導入管３３０と、バルブＶ１の流入口Ｖ１ｂとを接続するように延びている。外気導入管３３２は、外気導入管３３０と、バルブＶ２の流入口Ｖ２ｂとを接続するように延びている。外気導入管３３３は、外気導入管３３０と、バルブＶ３の流入口Ｖ３ｂとを接続するように延びている。

【0045】

外気導入管３４０は、主排気管２４０の第２の部分２４２に外気を供給するように構成されている。外気導入管３４０は、外気に流体的に接続された上端部と、主排気管２４０の第２の部分２４２とを接続するように延びている。

【0046】

調節部３５０は、外気導入管３４０のうちバルブＶ５よりも上流側に配置されている。調節部３５０は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作するように構成されている。調節部３５０は、例えば外気導入管３４０の開口面積を変化させることにより、外気導入管３４０を流れる外気の流量を調節し、外気導入管３４０に連通する主排気管２４０の第２の部分２４２の圧力を調節するように構成されている。

【0047】

センサＳＥ１（第１のセンサ）は、主排気管２４０の第１の部分２４１の圧力を測定するように構成されている。センサＳＥ１は、測定した圧力のデータをコントローラＣｔｒに送信するように構成されている。センサＳＥ２（第２のセンサ）は、主排気管２４０の第２の部分２４２の圧力を測定するように構成されている。センサＳＥ２は、測定した圧力のデータをコントローラＣｔｒに送信するように構成されている。

【0048】

［コントローラの詳細］
コントローラＣｔｒは、基板処理システム１を部分的又は全体的に制御するように構成されている。コントローラＣｔｒは、図６に例示されるように、機能モジュールとして、読取部Ｍ１と、記憶部Ｍ２と、処理部Ｍ３と、指示部Ｍ４とを有する。これらの機能モジュールは、コントローラＣｔｒの機能を便宜上複数のモジュールに区切ったものに過ぎず、コントローラＣｔｒを構成するハードウェアがこのようなモジュールに分かれていることを必ずしも意味するものではない。各機能モジュールは、プログラムの実行により実現されるものに限られず、専用の電気回路（例えば論理回路）、又は、これを集積した集積回路（ＡＳＩＣ：ApplicationSpecific Integrated Circuit）により実現されるものであってもよい。

【0049】

読取部Ｍ１は、コンピュータ読み取り可能な記録媒体ＲＭからプログラムを読み取るように構成されている。記録媒体ＲＭは、基板処理システム１の各部を動作させるためのプログラムを記録している。記録媒体ＲＭは、例えば、半導体メモリ、光記録ディスク、磁気記録ディスク、光磁気記録ディスクであってもよい。なお、以下では、基板処理システム１の各部は、送風部１２０、回転保持部１３０、供給部１４０、バルブＶ１～Ｖ５、ポンプＰ１～Ｐ３及び調節部３５０の各部を含みうる。

【0050】

記憶部Ｍ２は、種々のデータを記憶するように構成されている。記憶部Ｍ２は、例えば、読取部Ｍ１において記録媒体ＲＭから読み出したプログラム、外部入力装置（図示せず）を介してオペレータから入力された設定データなどを記憶してもよい。記憶部Ｍ２は、例えば、基板Ｗの処理のための処理条件（処理レシピ）のデータを記憶してもよい。記憶部Ｍ２は、例えば、センサＳＥ１，ＳＥ２によって取得された圧力のデータを記憶してもよい。

【0051】

処理部Ｍ３は、各種データを処理するように構成されている。処理部Ｍ３は、例えば、記憶部Ｍ２に記憶されている各種データに基づいて、基板処理システム１の各部を動作させるための信号を生成してもよい。処理部Ｍ３は、例えば、センサＳＥ１，ＳＥ２によって取得された圧力のデータに基づいて、第２の部分２４２が第１の部分２４１の圧力よりも高くなるような外気導入管３４０の開口面積を算出してもよい。処理部Ｍ３は、算出した当該開口面積に基づいて調節部３５０を動作させるための信号を生成してもよい。

【0052】

指示部Ｍ４は、処理部Ｍ３において生成された動作信号を、基板処理システム１の各部に送信するように構成されている。

【0053】

コントローラＣｔｒのハードウェアは、例えば一つ又は複数の制御用のコンピュータにより構成されていてもよい。コントローラＣｔｒは、図７に例示されるように、ハードウェア上の構成として回路Ｃ１を含んでいてもよい。回路Ｃ１は、電気回路要素（circuitry）で構成されていてもよい。回路Ｃ１は、例えば、プロセッサＣ２と、メモリＣ３と、ストレージＣ４と、ドライバＣ５と、入出力ポートＣ６とを含んでいてもよい。

【0054】

プロセッサＣ２は、メモリＣ３及びストレージＣ４の少なくとも一方と協働してプログラムを実行し、入出力ポートＣ６を介した信号の入出力を実行することで、上述した各機能モジュールを実現するように構成されていてもよい。メモリＣ３及びストレージＣ４は、記憶部Ｍ２として機能してもよい。ドライバＣ５は、基板処理システム１の各部をそれぞれ駆動するように構成された回路であってもよい。入出力ポートＣ６は、ドライバＣ５と基板処理システム１の各部との間で、信号の入出力を仲介するように構成されていてもよい。

【0055】

基板処理システム１は、一つのコントローラＣｔｒを備えていてもよいし、複数のコントローラＣｔｒで構成されるコントローラ群（制御部）を備えていてもよい。基板処理システム１がコントローラ群を備えている場合には、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのコントローラＣｔｒによって実現されていてもよいし、２個以上のコントローラＣｔｒの組み合わせによって実現されていてもよい。コントローラＣｔｒが複数のコンピュータ（回路Ｃ１）で構成されている場合には、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのコンピュータ（回路Ｃ１）によって実現されていてもよいし、２つ以上のコンピュータ（回路Ｃ１）の組み合わせによって実現されていてもよい。コントローラＣｔｒは、複数のプロセッサＣ２を有していてもよい。この場合、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのプロセッサＣ２によって実現されていてもよいし、２つ以上のプロセッサＣ２の組み合わせによって実現されていてもよい。

【0056】

［基板処理方法］
続いて、図１～図５、図８及び図９を参照して、基板Ｗの処理方法について説明する。ここでは、切替ユニット３００の初期状態として、図８に示されるように、バルブＶ１～Ｖ５が下記の状態とされている。
・バルブＶ１：流入口Ｖ１ｂと流出口Ｖ１ｃとが連通した状態（第１の部分２４１と個別排気管２１０とが連通していない状態）
・バルブＶ２：流入口Ｖ２ａと流出口Ｖ２ｃとが連通した状態（第２の部分２４２と個別排気管２２０とが連通した状態）
・バルブＶ３：流入口Ｖ３ｂと流出口Ｖ３ｃとが連通した状態（第３の部分２４３と個別排気管２３０とが連通していない状態）
・バルブＶ４：開放状態
・バルブＶ５：閉鎖状態

【0057】

まず、コントローラＣｔｒが搬送アームＡ１，Ａ２を制御して、基板Ｗをキャリア７から液処理ユニット１００に搬送する（図１及び図２参照）。次に、基板Ｗを液処理ユニット１００の回転保持部１３０に保持させる（図３参照）。次に、コントローラＣｔｒが回転保持部１３０を制御して、回転保持部１３０によって基板Ｗを所定の回転数で回転させる。この状態で、コントローラＣｔｒが供給部１４０を制御して、ノズルＮから基板Ｗの表面の中央部に、例えばアルカリ系の処理液Ｌ２を供給させる（図４参照）。

【0058】

基板Ｗの表面に供給された処理液Ｌ２は、基板Ｗの回転によって、基板Ｗの中央部から外周縁に向けて表面を全体的に流れた後、外周縁から外方に振り切られる。そのため、ノズルＮからの処理液Ｌ２の供給が継続されている間、基板Ｗの表面に処理液Ｌ２の液膜が形成される。これにより、基板Ｗの表面が処理液Ｌ２によって処理される。

【0059】

基板Ｗの外周縁から外方に振り切られた処理液Ｌ２は、カップ体１５０に捕集される。処理液Ｌ２による基板Ｗの処理に伴い発生したガスは、液処理ユニット１００の排気口１５２から排出される。液処理ユニット１００から排出されたアルカリ系の排出ガスＧ２は、主排気管２４０を通じて、切替ユニット３００に導入される（図４参照）。

【0060】

切替ユニット３００に導入された排出ガスＧ２は、主排気管２４０の第１の部分２４１及び第２の部分２４２と、流入管３１２と、バルブＶ２と、流出管３２２とを流れて、個別排気管２２０から基板処理システム１の外に排出される（図８参照）。外気導入管３３０から導入された外気は、外気導入管３３１と、バルブＶ１と、流出管３２１とを流れて、個別排気管２１０から基板処理システム１の外に排出される（図８参照）。外気導入管３３０から導入された外気は、外気導入管３３３と、バルブＶ３と、流出管３２３とを流れて、個別排気管２３０から基板処理システム１の外に排出される（図８参照）。なお、バルブＶ５は閉鎖状態であるので、外気導入管３４０から主排気管２４０の第２の部分２４２には外気が導入されない

【0061】

次に、コントローラＣｔｒが供給部１４０を制御して、ノズルＮから基板Ｗの表面の中央部に、処理液Ｌ４（リンス液）を供給させる（図４参照）。これにより、基板Ｗの表面に残存する処理液Ｌ２が、処理液Ｌ４によって洗い流される。

【0062】

次に、コントローラＣｔｒが切替ユニット３００を制御して、バルブＶ１～Ｖ５を下記の状態に変更する（図９参照）。
・バルブＶ１：流入口Ｖ１ｂと流出口Ｖ１ｃとが連通した状態（第１の部分２４１と個別排気管２１０とが連通していない状態）
・バルブＶ２：流入口Ｖ２ｂと流出口Ｖ２ｃとが連通した状態（第２の部分２４２と個別排気管２２０とが連通していない状態）
・バルブＶ３：流入口Ｖ３ａと流出口Ｖ３ｃとが連通した状態（第３の部分２４３と個別排気管２３０とが連通した状態）
・バルブＶ４：開放状態
・バルブＶ５：閉鎖状態
次に、回転保持部１３０によって基板Ｗが回転した状態で、コントローラＣｔｒが供給部１４０を制御して、ノズルＮから基板Ｗの表面の中央部に、例えば酸系の処理液Ｌ１を供給させる（図４参照）。

【0063】

基板Ｗの表面に供給された処理液Ｌ１は、基板Ｗの回転によって、基板Ｗの中央部から外周縁に向けて表面を全体的に流れた後、外周縁から外方に振り切られる。そのため、ノズルＮからの処理液Ｌ１の供給が継続されている間、基板Ｗの表面に処理液Ｌ１の液膜が形成される。これにより、基板Ｗの表面が処理液Ｌ１によって処理される。

【0064】

基板Ｗの外周縁から外方に振り切られた処理液Ｌ１は、カップ体１５０に捕集される。処理液Ｌ１による基板Ｗの処理に伴い発生したガスは、液処理ユニット１００の排気口１５２から排出される。液処理ユニット１００から排出された酸系の排出ガスＧ１は、主排気管２４０を通じて、切替ユニット３００に導入される（図４参照）。

【0065】

切替ユニット３００に導入された排出ガスＧ１は、主排気管２４０の第１の部分２４１、第２の部分２４２及び第３の部分２４３と、流入管３１３と、バルブＶ３と、流出管３２３とを流れて、個別排気管２３０から基板処理システム１の外に排出される（図９参照）。外気導入管３３０から導入された外気は、外気導入管３３１と、バルブＶ１と、流出管３２１とを流れて、個別排気管２１０から基板処理システム１の外に排出される（図９参照）。外気導入管３３０から導入された外気は、外気導入管３３２と、バルブＶ２と、流出管３２２とを流れて、個別排気管２２０から基板処理システム１の外に排出される（図９参照）。なお、バルブＶ５は閉鎖状態であるので、外気導入管３４０から主排気管２４０の第２の部分２４２には外気が導入されない

【0066】

次に、コントローラＣｔｒが供給部１４０を制御して、ノズルＮから基板Ｗの表面の中央部に、処理液Ｌ４（リンス液）を供給させる（図４参照）。これにより、基板Ｗの表面に残存する処理液Ｌ１が、処理液Ｌ４によって洗い流される。

【0067】

次に、コントローラＣｔｒが切替ユニット３００を制御して、バルブＶ１～Ｖ５を下記の状態に変更する（図５参照）。
・バルブＶ１：流入口Ｖ１ａと流出口Ｖ１ｃとが連通した状態（第１の部分２４１と個別排気管２１０とが連通した状態）
・バルブＶ２：流入口Ｖ２ｂと流出口Ｖ２ｃとが連通した状態（第２の部分２４２と個別排気管２２０とが連通していない状態）
・バルブＶ３：流入口Ｖ３ｂと流出口Ｖ３ｃとが連通した状態（第３の部分２４３と個別排気管２３０とが連通していない状態）
・バルブＶ４：閉鎖状態
・バルブＶ５：開放状態
次に、回転保持部１３０によって基板Ｗが回転した状態で、コントローラＣｔｒが供給部１４０を制御して、ノズルＮから基板Ｗの表面の中央部に、例えば有機系の処理液Ｌ３を供給させる（図４参照）。

【0068】

基板Ｗの表面に供給された処理液Ｌ３は、基板Ｗの回転によって、基板Ｗの中央部から外周縁に向けて表面を全体的に流れた後、外周縁から外方に振り切られる。そのため、ノズルＮからの処理液Ｌ３の供給が継続されている間、基板Ｗの表面に処理液Ｌ３の液膜が形成される。これにより、基板Ｗの表面が処理液Ｌ３によって処理される。

【0069】

基板Ｗの外周縁から外方に振り切られた処理液Ｌ３は、カップ体１５０に捕集される。処理液Ｌ３による基板Ｗの処理に伴い発生したガスは、液処理ユニット１００の排気口１５２から排出される。液処理ユニット１００から排出された有機系の排出ガスＧ３は、主排気管２４０を通じて、切替ユニット３００に導入される（図４参照）。

【0070】

切替ユニット３００に導入された排出ガスＧ３は、主排気管２４０の第１の部分２４１と、流入管３１１と、バルブＶ１と、流出管３２１とを流れて、個別排気管２１０から基板処理システム１の外に排出される（図５参照）。外気導入管３３０から導入された外気は、外気導入管３３２と、バルブＶ２と、流出管３２２とを流れて、個別排気管２２０から基板処理システム１の外に排出される（図５参照）。外気導入管３３０から導入された外気は、外気導入管３３３と、バルブＶ３と、流出管３２３とを流れて、個別排気管２３０から基板処理システム１の外に排出される（図５参照）。

【0071】

ここで、バルブＶ４が閉鎖状態で且つバルブＶ５が開放状態であり、外気導入管３４０から主排気管２４０の第２の部分２４２に外気が導入される。これにより、第２の部分２４２の圧力が第１の部分２４１の圧力よりも高くなっていてもよい。あるいは、センサＳＥ１，ＳＥ２による圧力の測定結果に基づいて、コントローラＣｔｒが調節部３５０を制御することにより、第２の部分２４２の圧力が第１の部分２４１の圧力よりも高くなるように、外気導入管３４０の開口面積を変化させてもよい。

【0072】

その後、コントローラＣｔｒが回転保持部１３０を制御して、基板Ｗを所定の回転数で回転させる。これにより、基板Ｗの表面が乾燥する。さらに、コントローラＣｔｒが搬送アームＡ１，Ａ２を制御して、乾燥済の基板Ｗを液処理ユニット１００からキャリア７に搬送する（図１及び図２参照）。以上により、基板Ｗの処理が完了する。

【0073】

［作用］
以上の例によれば、主排気管２４０のうち第１の部分２４１と第２の部分２４２との間にバルブＶ４が配置されているので、液処理ユニット１００から排出ガスＧ３が排出されたときにバルブＶ４が閉鎖状態とされることで、排出ガスＧ３がバルブＶ４よりも下流側の第２の部分２４２に流れ難くなる。また、以上の例によれば、液処理ユニット１００から排出ガスＧ３が排出されたときに、バルブＶ５を介して外気導入管３４０から第２の部分２４２に外気が導入される。そのため、バルブＶ４の構造（例えば、寸法精度など）に起因して、バルブＶ４にわずかな隙間が存在するような場合であっても、当該隙間を通じて排出ガスＧ３が第２の部分２４２を流れることが、外気導入管３４０から導入される外気によって抑制される。したがって、排出ガスＧ３が個別排気管２２０，２３０に到達し難くなる。その結果、複数種類の処理液を利用した液処理ユニット１００において基板処理する際に、液処理ユニット１００から排出される排出ガスＧ３が、対応する個別排気管２１０とは異なる個別排気管２２０，２３０に流入するのを抑制することが可能となる。

【0074】

以上の例によれば、有機系の排出ガスＧ３が個別排気管２２０，２３０に流入し難くなる。そのため、酸系排出ガス又はアルカリ系排出ガスに揮発性有機化合物が混入することが抑制される。そのため、個別排気管２２０，２３０を通じて排出されるガスによる大気汚染を抑制することが可能となる。

【0075】

以上の例によれば、第２の部分２４２の圧力が第１の部分２４１の圧力よりも高く設定されうる。この場合、バルブＶ４にわずかな隙間が存在するような場合であっても、排出ガスＧ３が、当該隙間を通じて第２の部分２４２にほとんど流れなくなる。そのため、排出ガスＧ３が個別排気管２２０，２３０に極めて到達し難くなる。

【0076】

以上の例によれば、調節部３５０は、センサＳＥ１，ＳＥ２による圧力の測定結果に基づいて、第２の部分２４２の圧力が第１の部分２４１の圧力よりも高くなるように、第２の部分２４２への外気の導入量を調節しうる。この場合、例えば、液処理ユニット１００における処理条件の変更などによって第１の部分２４１の圧力が変化しても、第２の部分２４２の圧力が第１の部分２４１の圧力よりも大きくなるように第２の部分２４２及び第３の部分２４３の圧力が調節部３５０によって調節される。そのため、第１の部分２４１の圧力変動に影響されることなく、排出ガスＧ３の第２の部分２４２への流入を抑制することが可能となる。

【0077】

以上の例によれば、切替ユニット３００は液処理ユニット１００よりも上方に配置されている。そのため、液処理ユニット１００からの排出ガスにミストが随伴している場合、ミストが分離された後の排出ガスが切替ユニット３００に到達する。したがって、ミストに起因する汚れや不純物等が切替ユニット３００に付着することを抑制することが可能となる。

【0078】

［変形例］
本明細書における開示はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。特許請求の範囲及びその要旨を逸脱しない範囲において、以上の例に対して種々の省略、置換、変更などが行われてもよい。

【0079】

（１）基板Ｗを処理するための処理液の種類が２種類の場合（例えば、酸系の処理液Ｌ１、アルカリ系の処理液Ｌ２及び有機系の処理液Ｌ３のうちのいずれか２つ）、図１０に示されるように、排気ユニット２００は、個別排気管２３０を含んでいなくてもよい。それに伴い、切替ユニット３００は、第３の部分２４３、流入管３１３、外気導入管３３３、流出管３２３、バルブＶ３を含んでいなくてもよい。基板Ｗを処理するための処理液の種類が４種類以上の場合には、図示はしないが、排気ユニット２００は、個別排気管及びそれに付随する部材を処理液の種類の数に応じて含んでいてもよい。

【0080】

（２）図１１に示されるように、切替ユニット３００は、流入管３１３に配置されたバルブＶ６（第６の切替機構）をさらに含んでいてもよい。バルブＶ６は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて開閉するように構成されている。バルブＶ６は、排出ガスが流通可能な開放状態と、排出ガスの流通が制止される閉鎖状態とを切替可能である。この場合、第１の部分２４１とバルブＶ１との間にバルブＶ６が配置されるので、液処理ユニット１００から排出ガスＧ１，Ｇ２が排出されたときにバルブＶ６が閉鎖状態とされることで、個別排気管２１０からバルブＶ１を介して排出ガスＧ３が逆流し難くなる。そのため、排出ガスＧ３が個別排気管２２０，２３０によりいっそう到達し難くなる。

【0081】

（３）図１２に示されるように、切替ユニット３００は、第３の部分２４３に配置されたバルブＶ７をさらに含んでいてもよい。バルブＶ７は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて開閉するように構成されている。バルブＶ７は、排出ガスが流通可能な開放状態と、排出ガスの流通が制止される閉鎖状態とを切替可能である。この場合、液処理ユニット１００から排出ガスＧ３が排出されたときにバルブＶ７が閉鎖状態とされることで、排出ガスＧ３が個別排気管２３０によりいっそう到達し難くなる。

【0082】

また、図１２に示されるように、切替ユニット３００は、第３の部分２４３に接続された外気導入管３６０と、外気導入管３６０に配置されたバルブＶ８とをさらに含んでいてもよい。外気導入管３６０は、第３の部分２４３に外気を供給するように構成されている。バルブＶ８は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて開閉するように構成されている。バルブＶ８は、外気が流通可能な開放状態と、外気の流通が制止される閉鎖状態とを切替可能である。この場合、液処理ユニット１００から排出ガスＧ３が排出されたときにバルブＶ８が開放状態とされることで、排出ガスＧ３が第３の部分２４３を流れることが、外気導入管３６０から導入される外気によって抑制される。

【0083】

さらに、図１２に示されるように、切替ユニット３００は、外気導入管３６０のうちバルブＶ８よりも上流側に配置された調節部３７０をさらに含んでいてもよい。調節部３７０は、調節部３５０と同様に、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作するように構成されている。調節部３７０は、例えば外気導入管３６０の開口面積を変化させることにより、外気導入管３６０を流れる外気の流量を調節し、外気導入管３６０に連通する主排気管２４０の第３の部分２４３の圧力を調節するように構成されている。この場合、第３の部分２４３の圧力が第１の部分２４１の圧力よりも高くなるように、外気導入管３６０の開口面積が調節部３７０によって調節されうる。図示はしていないが、切替ユニット３００は、主排気管２４０の第３の部分２４３の圧力を測定するように構成されたセンサをさらに含んでいてもよい。当該センサと、センサＳＥ１とによる圧力の測定結果に基づいて、コントローラＣｔｒが調節部３７０を制御することにより、第３の部分２４３の圧力が第１の部分２４１の圧力よりも高くなるように、外気導入管３６０の開口面積を変化させてもよい。

【0084】

（４）外気導入管３４０の開口面積が所定の大きさとなるように、調節部３５０がコントローラＣｔｒによって制御された後は、調節部３５０による当該開口面積の調節が行われなくてもよい。あるいは、センサＳＥ１，ＳＥ２による圧力の測定結果に基づいて、常にあるいは所定の時間間隔で、調節部３５０による外気導入管３４０の開口面積の調節が行われてもよい。

【0085】

［他の例］
例１．基板処理装置の一例は、第１の処理液及び第１の処理液とは種類の異なる第２の処理液を含む複数の処理液を基板の表面にそれぞれ供給するように構成された液処理部と、液処理部から排出される排出ガスを外部に排出するように構成された排気部であって、排出ガスは、第１の処理液による基板の処理に伴い液処理部から排出される第１の排出ガスと、第２の処理液による基板の処理に伴い液処理部から排出される第２の排出ガスとを含む、排気部とを備える。排気部は、排出ガスが流通するように構成されており、上流側に位置する第１の部分と、第１の部分よりも下流側に位置する第２の部分とを含む主排気管と、第１の排出ガスが流通するように構成された第１の個別排気管と、第２の排出ガスが流通するように構成された第２の個別排気管と、主排気管と、第１の個別排気管及び第２の個別排気管の一方とを選択的に接続するように構成された切替部とを含む。切替部は、第１の部分と第１の個別排気管との間に配置され、液処理部から第１の排出ガスが排出された場合に第１の部分と第１の個別排気管とが連通した連通状態と、液処理部から第１の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第１の部分と第１の個別排気管とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第１の切替機構と、第２の部分と第２の個別排気管との間に配置され、液処理部から第２の排出ガスが排出された場合に第２の部分と第２の個別排気管とが連通した連通状態と、液処理部から第２の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第２の部分と第２の個別排気管とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第２の切替機構と、主排気管のうち第１の部分と第２の部分との間に配置され、液処理部から第１の排出ガスが排出された場合に第２の部分への第１の排出ガスの流通を制止する閉鎖状態と、液処理部から第１の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第２の部分への第１の排出ガス以外の排出ガスの流通を許容する開放状態とを切り替えるように構成された第３の切替機構と、外気を第２の部分に導入するように第２の部分に接続された外気導入管と、導入管に配置され、液処理部から第１の排出ガスが排出された場合に第２の部分への外気の導入を許容する開放状態と、液処理部から第１の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第２の部分への外気の導入を制止する閉鎖状態とを切り替えるように構成された第４の切替機構とを含む。

【0086】

例１の場合、主排気管のうち第１の部分と第２の部分との間に第３の切替機構が配置されているので、液処理部から第１の排出ガスが排出されたときに第３の切替機構が閉鎖状態とされることで、第１の排出ガスが第３の切替機構よりも下流側の第２の部分に流れ難くなる。また、例１の場合、液処理部から第１の排出ガスが排出されたときに、第４の切替機構を介して外気導入管から第２の部分に外気が導入される。そのため、第３の切替機構の構造（例えば、寸法精度など）に起因して、第３の切替機構にわずかな隙間が存在するような場合であっても、当該隙間を通じて第１の排出ガスが第２の部分を流れることが、第２の部分に導入される外気によって抑制される。したがって、第１の排出ガスが第２の個別排気管に到達し難くなる。その結果、複数種類の処理液を利用した液処理部において基板処理する際に、液処理部から排出される排出ガスが、当該排出ガスに対応する個別排気管とは異なる個別排気管に流入するのを抑制することが可能となる。

【0087】

例２．例１の装置において、複数の処理液は、第１の処理液及び第２の処理液とは種類の異なる第３の処理液をさらに含み、排出ガスは、第３の処理液による基板の処理に伴い液処理部から排出される第３の排出ガスをさらに含み、排気部は、第３の排出ガスが流通するように構成された第３の個別排気管をさらに含み、主排気管は、第３の切替機構よりも下流側に位置する第３の部分をさらに含み、切替部は、第３の部分と第３の個別排気管との間に配置され、液処理部から第３の排出ガスが排出された場合に第３の部分と第３の個別排気管とが連通した連通状態と、液処理部から第３の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第３の部分と第３の個別排気管とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第５の切替機構をさらに含み、主排気管と、第１の個別排気管、第２の個別排気管及び第３の個別排気管のいずれか一つとを選択的に連通するように構成されていてもよい。この場合、例１の装置と同様に、第１の排出ガスが第２の個別排気管及び第３の個別排気管に到達し難くなる。

【0088】

例３．例１又は例２の装置において、第１の処理液は有機系処理液であり、第２の処理液は、酸系処理液又はアルカリ系処理液であってもよい。この場合、酸系排出ガス又はアルカリ系排出ガスに揮発性有機化合物が混入することが抑制される。そのため、第２の個別排気管を通じて排出されるガスによる大気汚染を抑制することが可能となる。

【0089】

例４．例１～例３のいずれかの装置において、液処理部から第１の排出ガスが排出された場合に、第３の切替機構が閉鎖状態となり且つ第４の切替機構が開放状態となることにより、第２の部分における圧力が第１の部分における圧力よりも高くなるように設定されてもよい。この場合、第３の切替機構にわずかな隙間が存在するような場合であっても、第１の排出ガスが、当該隙間を通じて第２の部分にほとんど流れなくなる。そのため、第１の排出ガスが第２の個別排気管に極めて到達し難くなる。

【0090】

例５．例１～例４のいずれかの装置において、切替部は、第１の部分の圧力を測定するように構成された第１のセンサと、第２の部分の圧力を測定するように構成された第２のセンサと、外気導入管のうち第４の切替機構よりも上流側に設けられた調節部をとさらに含み、調節部は、第２のセンサによって測定された圧力の大きさが第１のセンサによって測定された圧力の大きさよりも大きくなるように、第２の部分への外気の導入量を調節するように構成されていてもよい。この場合、例４の装置と同様の作用効果が得られる。また、この場合、例えば、液処理部における処理条件の変更などによって第１の部分の圧力が変化しても、第２の部分の圧力が第１の部分の圧力よりも大きくなるように第２の部分の圧力が調節部によって調節される。そのため、第１の部分の圧力変動に影響されることなく、第１の排出ガスの第２の部分への流入を抑制することが可能となる。

【0091】

例６．例１～例５のいずれかの装置において、切替部は液処理部よりも上方に配置されていてもよい。ところで、排出ガスに処理液のミストが随伴していることがある。しかしながら、ミストは気体よりも重いため、排出ガスが上昇してもミストは上昇し難い。すなわち、例６の場合、液処理部から排出された直後の排出ガスに処理液のミストが随伴していたとしても、排出ガスが切替部に向けて流れる過程でミストが液化して落下する。そのため、ミストが分離された後の排出ガスが切替部に到達する。したがって、ミストに起因する汚れや不純物等が切替部に付着することを抑制することが可能となる。

【0092】

例７．例１～例６のいずれかの装置において、切替部は、第１の部分と第１の切替機構との間に配置され、液処理部から第１の排出ガスが排出された場合に第１の部分と第１の切替機構とが連通した連通状態と、液処理部から第１の排出ガス以外の排出ガスが排出された場合に第１の部分と第１の切替機構とが連通していない非連通状態とを切り替えるように構成された第６の切替機構をさらに含んでいてもよい。この場合、第１の部分と第１の切替機構との間に第６の切替機構が配置されているので、液処理部から第２の排出ガスが排出されたときに第６の切替機構が閉鎖状態とされることで、第１の個別排気管から第１の切替機構を介して第１の排出ガスが逆流し難くなる。そのため、第１の排出ガスが第２の個別排気管によりいっそう到達し難くなる。

【0093】

例８．基板処理方法の一例は、例１～例７のいずれかの装置を用いて基板を処理する方法であって、第１の切替機構を連通状態とし、第２の切替機構を非連通状態とし、第３の切替機構を閉鎖状態とし、且つ、第４の切替機構を開放状態とする第１の工程と、第１の工程の後に、液処理部において第１の処理液により基板を処理する第２の工程と、第１の切替機構を非連通状態とし、第２の切替機構を連通状態とし、第３の切替機構を開放状態とし、且つ、第４の切替機構を閉鎖状態とする第３の工程と、第３の工程の後に、液処理部において第２の処理液により基板を処理する第４の工程とを含む。この場合、例１の装置と同様の作用効果が得られる。

【符号の説明】

【0094】

１…基板処理システム（基板処理装置）、１００…液処理ユニット（液処理部）、２００…排気ユニット（排気部）、２１０，２２０，２３０…個別排気管、２４０…主排気管、２４１…第１の部分、２４２…第２の部分、２４３…第３の部分、３００…切替ユニット（切替部）、３４０…外気導入管、３５０…調節部、Ｃｔｒ…コントローラ（制御部）、Ｇ１…排出ガス（第２の排出ガス又は第３の排出ガス）、Ｇ２…排出ガス（第２の排出ガス又は第３の排出ガス）、Ｇ３…排出ガス（第１の排出ガス）、Ｌ１…処理液（第２の処理液又は第３の処理液）、Ｌ２…処理液（第２の処理液又は第３の処理液）、Ｌ３…処理液（第１の処理液）、ＳＥ１…センサ（第１のセンサ）、ＳＥ２…センサ（第２のセンサ）、Ｖ１…バルブ（第１の切替機構）、Ｖ２…バルブ（第２の切替機構）、Ｖ３…バルブ（第５の切替機構）、Ｖ４…バルブ（第３の切替機構）、Ｖ５…バルブ（第４の切替機構）、Ｖ６…バルブ（第６の切替機構）、Ｗ…基板。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】