特許 7659711 光源装置、照明方法及び光源装置の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-04-01

(45)【発行日】2025-04-09

(54)【発明の名称】光源装置、照明方法及び光源装置の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20250402BHJP

   H05G 2/00 20060101ALI20250402BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 503

H05G2/00 K

【請求項の数】 9

(21)【出願番号】P 2024576543

(86)(22)【出願日】2024-04-17

(86)【国際出願番号】 JP2024015341

(87)【国際公開番号】W WO2024225147

(87)【国際公開日】2024-10-31

【審査請求日】2024-12-25

(31)【優先権主張番号】P 2023070595

(32)【優先日】2023-04-24

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】000115902

【氏名又は名称】レーザーテック株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100103894

【弁理士】

【氏名又は名称】家入 健

(72)【発明者】

【氏名】川口 潤也

(72)【発明者】

【氏名】▲高▼松 峻英

(72)【発明者】

【氏名】西澤 正泰

(72)【発明者】

【氏名】関 寛和

【審査官】田中 秀直

(56)【参考文献】

【文献】特表２０２２－５３０４９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－３５７９９８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２１－０４３３６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１８－５００６０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２２－１７４１６３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ ７／２０

Ｈ０５Ｇ ２／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

中心軸を回転軸として回転し、開口した一端及び閉じた他端を有する円筒状のルツボと、
前記ルツボの内周面に拡げられ、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、
前記ルツボの前記一端を覆い、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したデブリシールドと、
生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、
前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりも前記ターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状の光路カバーであって、前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記他端が前記外側カバーよりも前記コレクターミラー側に配置された前記光路カバーと、
前記光路カバーの前記他端または前記光路カバー内に配置され、前記ＥＵＶ光を透過させるフィルタと、
を備え、
前記光路カバーに形成された導入口から導入されたパージガスは、前記光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出され、前記排気空間を通って前記排気口から排気され、
前記排気ケースの前記外側カバーは、矩形状であり、前記ルツボ側の端が開口して前記デブリシールドと接続する、
光源装置。

【請求項2】

中心軸を回転軸として回転し、開口した一端及び閉じた他端を有する円筒状のルツボと、
前記ルツボの内周面に拡げられ、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、
前記ルツボの前記一端を覆い、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したデブリシールドと、
生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、
前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりも前記ターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、
前記レーザ光を透過させる透過部材と、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状のレーザ光路カバーであって、前記レーザ光路カバーの前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記レーザ光路カバーの前記他端または前記レーザ光路カバー内に前記透過部材を配置させた前記レーザ光路カバーと、
を備え、
前記レーザ光路カバーに形成された導入口から導入されたパージガスは、前記レーザ光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出され、前記排気空間を通って前記排気口から排気され、
前記排気ケースの前記外側カバーは、矩形状であり、前記ルツボ側の端が開口して前記デブリシールドと接続する、
光源装置。

【請求項3】

前記外側カバーは、前記ターゲット材が配置された前記排気空間と前記コレクターミラーが配置された光路空間とを分離する、
請求項１または２に記載の光源装置。

【請求項4】

中心軸を回転軸として回転し、開口した一端及び閉じた他端を有する円筒状のルツボと、
前記ルツボの内周面に拡げられ、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、
前記ルツボの前記一端を覆い、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したデブリシールドと、
生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、
前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりも前記ターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状の光路カバーであって、前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記他端が前記外側カバーよりも前記コレクターミラー側に配置された前記光路カバーと、
前記光路カバーの前記他端または前記光路カバー内に配置され、前記ＥＵＶ光を透過させるフィルタと、
を備え、
前記光路カバーに形成された導入口から導入されたパージガスは、前記光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出され、前記排気空間を通って前記排気口から排気されるように構成され、
前記排気ケースの前記外側カバーは、矩形状であり、前記ルツボ側の端が開口して前記デブリシールドと接続する光源装置を準備するステップと、
前記光路カバーに形成された導入口からパージガスを導入し、導入した前記パージガスを、前記光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出させ、前記排気空間を通って前記排気口から排気させるステップと、
前記ターゲット材に前記レーザ光を照射することにより前記ＥＵＶ光を生成するステップと、
を備えた照明方法。

【請求項5】

中心軸を回転軸として回転し、開口した一端及び閉じた他端を有する円筒状のルツボと、
前記ルツボの内周面に拡げられ、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、
前記ルツボの前記一端を覆い、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したデブリシールドと、
生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、
前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりも前記ターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、
前記レーザ光を透過させる透過部材と、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状のレーザ光路カバーであって、前記レーザ光路カバーの前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記レーザ光路カバーの前記他端または前記レーザ光路カバー内に前記透過部材を配置させた前記レーザ光路カバーと、
を備え、
前記光路カバーに形成された導入口から導入されたパージガスは、前記光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出され、前記排気空間を通って前記排気口から排気されるように構成され、
前記排気ケースの前記外側カバーは、矩形状であり、前記ルツボ側の端が開口して前記デブリシールドと接続する光源装置を準備するステップと、
前記レーザ光路カバーに形成された導入口からパージガスを導入し、導入した前記パージガスを、前記レーザ光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出させ、前記排気空間を通って前記排気口から排気させるステップと、
前記ターゲット材に前記レーザ光を照射することにより前記ＥＵＶ光を生成するステップと、
を備えた照明方法。

【請求項6】

前記外側カバーは、前記ターゲット材が配置された前記排気空間と前記コレクターミラーが配置された光路空間とを分離する、
請求項４または５に記載の照明方法。

【請求項7】

中心軸を回転軸として回転し、開口した一端及び閉じた他端を有する円筒状のルツボと、
前記ルツボの内周面に拡げられ、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、
前記ルツボの前記一端を覆い、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したデブリシールドと、
生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、
を含む光源を準備するステップと、
前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に外側カバーを配置させ、前記外側カバーよりも前記ターゲット材側に形成された排気空間に通じるように排気口を形成することにより排気ケースを配置させるステップと、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状の光路カバーを、前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記他端が前記外側カバーよりも前記コレクターミラー側になるように配置させるステップと、
前記ＥＵＶ光を透過させるフィルタを前記光路カバーの前記他端または前記光路カバー内に配置させるステップと、
前記光路カバーにパージガスが導入される導入口を形成するステップと、
を備え、
前記排気ケースの前記外側カバーは、矩形状であり、前記ルツボ側の端が開口して前記デブリシールドと接続する、
光源装置の製造方法。

【請求項8】

中心軸を回転軸として回転し、開口した一端及び閉じた他端を有する円筒状のルツボと、
前記ルツボの内周面に拡げられ、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、
前記ルツボの前記一端を覆い、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したデブリシールドと、
生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、
を含む光源を準備するステップと、
前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に外側カバーを配置させ、前記外側カバーよりも前記ターゲット材側に形成された排気空間に通じるように排気口を形成することにより排気ケースを配置させるステップと、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状のレーザ光路カバーを、前記レーザ光路カバーの前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記レーザ光路カバーの前記他端が前記レーザ光を通すにように配置させるステップと、
前記レーザ光が透過する透過部材を前記レーザ光路カバーの前記他端または前記レーザ光路カバー内に配置させるステップと、
前記レーザ光路カバーにパージガスが導入される導入口を形成するステップと、
を備え、
前記排気ケースの前記外側カバーは、矩形状であり、前記ルツボ側の端が開口して前記デブリシールドと接続する、
光源装置の製造方法。

【請求項9】

前記外側カバーは、前記ターゲット材が配置された前記排気空間と前記コレクターミラーが配置された光路空間とを分離するように配置された、
請求項７または８に記載の光源装置の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、光源装置、照明方法及び光源装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

非特許文献１～非特許文献３には、回転するドラムの表面に形成させたキセノンを含むターゲット材にレーザ光を照射し、発生したプラズマからＥＵＶ光を生成する光源が開示されている。

【先行技術文献】

【非特許文献】

【0003】

【文献】「Progress towards Actinic Patterned Mask Inspection」、Oleg Khodykin、Workshop Proceedings、2015 International Workshop on EUV Lithography、2015年6月15日、［2023年3月6日検索］、インターネット＜https://www.euvlitho.com/2015/P51.pdf＞

【文献】「Bright and reliable Xe-based EUV source for metrology and inspection applications」、Oleg Khodykin、Workshop Proceedings、2015 International Workshop on EUV and Soft X-Ray Sources、2015年11月9日、［2023年3月6日検索］、インターネット＜https://www.euvlitho.com/2015/S31.pdf＞

【文献】「Status of Actinic Patterned Mask Inspection at KLA-Tencor」、Oleg Khodykin、Workshop Proceedings、2016 International Workshop on EUV and Soft X-Ray Sources、2016年11月7日、［2023年3月6日検索］、インターネット＜https://www.euvlitho.com/2016/S19.pdf＞

【発明の概要】

【0004】

ＥＵＶ光を生成する方法として、上述した非特許文献１～非特許文献３の他に、スズを含む液体状の溶融金属をルツボ等の容器に入れて回転させ、レーザ光を溶融金属に照射して発生させたプラズマからＥＵＶ光を生成する方法もある。いずれの方法においても、プラズマ発生時にキセノン、スズ、リチウム等のターゲット材から形成されたデブリによって、ミラー等の光学素子が劣化する。このことは、ＥＵＶ光源における深刻な問題となっている。

【0005】

これまで、レーザ光の光路やミラー近傍に不活性ガスを流してデブリを抑制する方法が提案されてきた。しかし、拡散した不活性ガスやガス化したターゲット材により、ＥＵＶ光が吸収されること、及び、デブリの形成を十分に抑制されずに光学素子の汚染が依然として発生することにより、ＥＵＶ光の光量が低下することが課題となっている。

【0006】

本開示は、このような問題を解決するためになされたものであり、ＥＵＶ光の光量の低下を抑制することができる光源装置、照明方法及び光源装置の製造方法を提供する。

【0007】

本実施形態の一態様に係る光源装置は、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりもターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状の光路カバーであって、前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記他端が前記外側カバーよりもコレクターミラー側に配置された前記光路カバーと、前記光路カバーの前記他端または前記光路カバー内に配置され、前記ＥＵＶ光を透過させるフィルタと、を備え、前記光路カバーに形成された導入口から導入されたパージガスは、前記光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出され、前記排気空間を通って前記排気口から排気される。

【0008】

本実施形態の一態様に係る光源装置は、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりもターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、前記レーザ光を透過させる透過部材と、開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状のレーザ光路カバーであって、前記レーザ光路カバーの前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記レーザ光路カバーの前記他端または前記レーザ光路カバー内に前記透過部材を配置させた前記レーザ光路カバーと、をさらに備え、前記レーザ光路カバーに形成された導入口から導入されたパージガスは、前記レーザ光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出され、前記排気空間を通って前記排気口から排気される。

【0009】

上記の光源装置では、前記外側カバーは、前記ターゲット材が配置された前記排気空間と前記コレクターミラーが配置された光路空間とを分離してもよい。

【0010】

上記の光源装置では、中心軸を回転軸として回転する円筒状のドラムであって、表面に前記ターゲット材が固化されるように冷却された前記ドラムと、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したハウジング、及び、前記ハウジングよりも前記ターゲット材側に形成された供給空間に通じる供給口を有する供給ケースと、をさらに備え、前記供給口から供給された前記ターゲット材のガスは、前記ドラムの表面で固化されることにより、前記ターゲット材が形成されてもよい。

【0011】

上記の光源装置では、中心軸を回転軸として回転し、開口した一端及び閉じた他端を有する円筒状のルツボであって、内面で前記ターゲット材が溶融するように加熱された前記ルツボと、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したデブリシールドと、をさらに備え、液体の前記ターゲット材を前記ルツボの内周面に拡げることにより、前記ターゲット材が形成されてもよい。

【0012】

本実施形態の一態様に係る照明方法は、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりもターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状の光路カバーであって、前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記他端が前記外側カバーよりもコレクターミラー側に配置された前記光路カバーと、前記光路カバーの前記他端または前記光路カバー内に配置され、前記ＥＵＶ光を透過させるフィルタと、を含む光源装置を準備するステップと、前記光路カバーに形成された導入口からパージガスを導入し、導入した前記パージガスを、前記光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出させ、前記排気空間を通って前記排気口から排気させるステップと、前記ターゲット材に前記レーザ光を照射することにより前記ＥＵＶ光を生成するステップと、を備える。

【0013】

本実施形態の一態様に係る照明方法は、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりもターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、前記レーザ光を透過させる透過部材と、開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状のレーザ光路カバーであって、前記レーザ光路カバーの前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記レーザ光路カバーの前記他端または前記レーザ光路カバー内に前記透過部材を配置させた前記レーザ光路カバーと、を含む光源装置を準備するステップと、前記レーザ光路カバーに形成された導入口からパージガスを導入し、導入した前記パージガスを、前記レーザ光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出させ、前記排気空間を通って前記排気口から排気させるステップと、前記ターゲット材に前記レーザ光を照射することにより前記ＥＵＶ光を生成するステップと、を備える。

【0014】

上記の照明方法では、前記外側カバーは、前記ターゲット材が配置された前記排気空間と前記コレクターミラーが配置された光路空間とを分離してもよい。

【0015】

上記の照明方法では、前記光源装置は、中心軸を回転軸として回転する円筒状のドラムであって、表面に前記ターゲット材が固化されるように冷却された前記ドラムと、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したハウジング、及び、前記ハウジングよりも前記ターゲット材側に形成された供給空間に通じる供給口を有する供給ケースと、をさらに含み、前記光源装置を準備するステップにおいて、前記供給口から前記ターゲット材の気体を前記供給空間に供給し、供給した前記ターゲット材の気体を前記ドラムの表面で固化させることにより、前記ターゲット材を形成してもよい。

【0016】

上記の照明方法では、前記光源装置は、中心軸を回転軸として回転し、開口した一端及び閉じた他端を有する円筒状のルツボであって、内面で前記ターゲット材が溶融するように加熱された前記ルツボと、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したデブリシールドと、をさらに含み、前記光源装置を準備するステップにおいて、液体状の前記ターゲット材を前記ルツボの内周面に拡げることにより前記ターゲット材を形成してもよい。

【0017】

本実施形態の一態様に係る光源装置の製造方法は、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、を含む光源を準備するステップと、前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に外側カバーを配置させ、前記外側カバーよりもターゲット材側に形成された排気空間に通じるように排気口を形成することにより排気ケースを配置させるステップと、開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状の光路カバーを、前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記他端が前記外側カバーよりもコレクターミラー側になるように配置させるステップと、前記ＥＵＶ光を透過させるフィルタを前記光路カバーの前記他端または前記光路カバー内に配置させるステップと、前記光路カバーにパージガスが導入される導入口を形成するステップと、を備える。

【0018】

本実施形態の一態様に係る光源装置の製造方法は、レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、を含む光源を準備するステップと、前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に外側カバーを配置させ、前記外側カバーよりもターゲット材側に形成された排気空間に通じるように排気口を形成することにより排気ケースを配置させるステップと、開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きい筒状のレーザ光路カバーを、前記レーザ光路カバーの前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記レーザ光路カバーの前記他端が前記レーザ光を通すにように配置させるステップと、前記レーザ光が透過する透過部材を前記レーザ光路カバーの前記他端または前記レーザ光路カバー内に配置させるステップと、前記レーザ光路カバーにパージガスが導入される導入口を形成するステップと、を備える。

【0019】

上記の光源装置の製造方法では、前記外側カバーは、前記ターゲット材が配置された前記排気空間と前記コレクターミラーが配置された光路空間とを分離するように配置されてもよい。

【0020】

上記の光源装置の製造方法では、前記光源は、中心軸を回転軸として回転する円筒状のドラムであって、表面に前記ターゲット材が固化されるように冷却された前記ドラムと、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したハウジング、及び、前記ハウジングよりも前記ターゲット材側に形成された供給空間に通じる供給口を有する供給ケースと、をさらに含み、前記供給口から前記ターゲット材の気体を前記供給空間に供給し、供給した前記ターゲット材の気体を前記ドラムの表面で固化させることにより、前記ターゲット材を形成するステップをさらに備えてもよい。

【0021】

上記の光源装置の製造方法では、前記光源は、中心軸を回転軸として回転し、開口した一端及び閉じた他端を有する円筒状のルツボであって、内面で前記ターゲット材が溶融するように加熱された前記ルツボと、前記レーザ光の照射位置に対向した部分が開口したデブリシールドと、をさらに含み、液体状の前記ターゲット材を前記ルツボの内周面に拡げることにより、前記ターゲット材を形成するステップをさらに備えてもよい。

【0022】

本開示によれば、ＥＵＶ光の光量の低下を抑制することができる光源装置、照明方法及び光源装置の製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】比較例に係る光源を例示した斜視図である。

【図2】比較例に係る光源を例示した断面図であり、図１のＩＩ－ＩＩ線による断面を模式的に示したものである。

【図3】比較例に係る光源を例示した断面図であり、図１のＩＩＩ－ＩＩＩ線による断面を模式的に示したものである。

【図4】比較例に係る光源を例示した断面図である。

【図5】実施形態１に係る光源装置を例示した断面図である。

【図6】実施形態１に係る光源装置を使用した照明方法を例示したフローチャート図である。

【図7】実施形態１に係る光源装置の製造方法を例示したフローチャート図である。

【図8】比較例に係る光源において、パージガスの流れを例示した図である。

【図9】比較例に係る光源において、パージガスの流れを例示した図である。

【図10】比較例に係る光源において、パージガスの流れを例示した図である。

【図11】比較例に係る光源において、パージガスの流れを例示した図である。

【図12】実施形態２に係る光源装置を例示した断面図である。

【図13】実施形態３に係る光源装置を例示した断面図である。

【図14】実施形態４に係る光源装置を例示した断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0024】

以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。以下の説明は、本開示の好適な実施形態を示すものであって、本開示の範囲が以下の実施形態に限定されるものではない。以下の説明において、同一の符号が付されたものは実質的に同様の内容を示している。

【0025】

実施形態の光源装置を説明する前に、＜比較例＞において、比較例の光源を説明する。その後、＜発明者が見出した課題＞において、比較例に係る光源に対して発明者が見出した課題を説明する。そして、＜実施形態１＞及び＜実施形態２＞において、本実施形態の光源装置、照明方法及び光源装置の製造方法を説明する。

【0026】

＜比較例＞
図１は、比較例に係る光源１０１を例示した斜視図である。図２は、比較例に係る光源１０１を例示した断面図であり、図１のＩＩ－ＩＩ線による断面を模式的に示したものである。図３は、比較例に係る光源１０１を例示した断面図であり、図１のＩＩＩ－ＩＩＩ線による断面を模式的に示したものである。なお、図が煩雑にならないように、いくつかの符号及びいくつかのハッチングを省略している。

【0027】

図１～図３に示すように、比較例の光源１０１は、ドラム１０、ターゲット材１１、供給ケース２０を備えている。供給ケース２０は、ハウジング２１及び供給口２２を有している。また、供給ケース２０は、ワイパー２５、真空シール２６、注入口２７及び窓２８をさらに有してもよい。

【0028】

ドラム１０は、中心軸Ｃを有する円筒状である。ドラム１０は、中心軸Ｃを回転軸として回転する。また、ドラム１０は、中心軸Ｃ方向に移動してもよい。

【0029】

ここで、光源１０１の説明の便宜のために、ＸＹＺ直交座標軸系を導入する。ドラム１０の中心軸Ｃが延びる方向をＺ軸方向とする。ドラム１０の中心軸Ｃに直交する面をＸＹ面とする。例えば、＋Ｚ軸方向を上方とし、－Ｚ軸方向を下方とする。なお、上方及び下方は、光源１０１の説明の便宜のためのものであり、実際の光源１０１が配置される方向を示すものではない。

【0030】

ドラム１０は、材料として、例えば、銅を含んでいる。ドラム１０の内部には、液体窒素等の冷却材１２が供給されている。よって、ドラム１０は、表面にターゲット材１１が固化されるように冷却されている。なお、ドラム１０の材料は、ドラム１０の表面の温度をターゲット材１１の凝固点以下にすることができれば、銅に限らず、他の材料を含んでもよい。

【0031】

ターゲット材１１は、レーザ光１３を照射することにより、プラズマ１４とともにＥＵＶ光１５を生成する。ターゲット材１１は、ドラム１０の表面に形成されている。ターゲット材１１は、例えば、キセノン（Ｘｅ）を含む。なお、ターゲット材１１は、レーザ光１３を照射することによって、プラズマ１４とともにＥＵＶ光１５を生成するものであれば、キセノンに限らず、スズ（Ｓｎ）、リチウム（Ｌｉ）等を含んでもよい。

【0032】

供給ケース２０は、ハウジング２１及び供給口２２を有する。ハウジング２１は、ドラム１０を覆っている。ハウジング２１は、例えば、内部が空洞の円筒状である。ドラム１０は、ハウジング２１の内部に配置されている。ドラム１０は、ハウジング２１の内部で回転する。ハウジング２１は、レーザ光１３の照射位置１７に対向した部分が開口している。したがって、ハウジング２１は、レーザ光１３の照射位置１７以外のターゲット材１１を覆ってもよい。ハウジング２１は、ハウジング２１よりもターゲット材１１側に空間を形成している。ハウジング２１よりもターゲット材１１側に形成された空間を供給空間２３と呼ぶ。

【0033】

供給口２２は、供給空間２３に通じている。また、供給口２２は、ターゲット材１１のガス１６の供給部２４につながっている。供給部２４は、供給口２２を介して供給空間２３にターゲット材１１のガス１６を供給する。供給口２２より供給されたターゲット材１１のガス１６は、ドラム１０の表面で固化されることにより、ターゲット材１１が形成される。

【0034】

レーザ光１３は、ドラム１０の表面で固化されたターゲット材１１を照射する。これにより、ターゲット材１１からプラズマ１４が発生する。よって、発生したプラズマ１４からＥＵＶ光１５を生成することができる。ドラム１０は、中心軸Ｃの周りで回転しつつ、中心軸Ｃ方向に移動する。よって、レーザ光１３の照射位置１７は、常に、レーザ光１３の未照射のターゲット材１１となっている。

【0035】

レーザ光１３は、集光レンズ等の透過部材７０及び窓２８を介してターゲット材１１を照射してもよい。ワイパー２５は、ドラム１０の表面で固化したターゲット材１１を成形してもよい。真空シール２６は、光源１０１の内部をシールする。注入口２７は、ドラム１０の内部に通じている。注入口２７を介してドラム１０の内部に液体窒素を注入する。

【0036】

＜発明者が見出した課題＞
図４は、比較例に係る光源１０１を例示した断面図である。図４に示すように、比較例の光源１０１において、レーザ光１３を照射することにより生成されたＥＵＶ光１５は、コレクターミラー３０によって反射され、光源１０１の外部に取り出される。ＥＵＶ光１５の生成時に、プラズマ１４の発生に伴って、ターゲット材１１のデブリ１８が発生する場合がある。発生したデブリ１８は、コレクターミラー３０等の光学素子に付着し、光学素子におけるＥＵＶ光１５の反射光及び透過光の光量を低減させる。

【0037】

そこで、光学素子へのデブリ１８の付着を抑制するために、レーザ光１３の光路及び光学素子の近傍に不活性ガス等を含むパージガス４４を流して、デブリ１８の付着を抑制する場合がある。パージガス４４は、例えば、アルゴン（Ａｒ）、ヘリウム（Ｈｅ）、窒素（Ｎ_２）及び水素（Ｈ_２）の少なくともいずれかを含んでもよいし、これら以外のガスを含んでもよい。しかしながら、拡散したパージガス４４、及び、ガス化したターゲット材１１のガス１６により、ＥＵＶ光１５が吸収され、ＥＵＶ光１５の光量が低減するという課題がある。また、発生したデブリ１８が十分に抑制されずに依然として、光学素子が劣化し、ＥＵＶ光１５の光量が低減するという課題がある。

【0038】

＜実施形態１＞
次に、実施形態１に係る光源装置を説明する。本実施形態に係る光源装置は、パージガス４４及びターゲット材１１のガス１６の拡散範囲を限定することにより、ＥＵＶ光１５の光路を高真空に保ち、パージガス４４等によるＥＵＶ光１５の吸収を抑制しつつ、デブリ１８の除去効果を向上させる。

【0039】

図５は、実施形態１に係る光源装置１を例示した断面図である。図５に示すように、本実施形態の光源装置１は、ドラム１０、ターゲット材１１、供給ケース２０、コレクターミラー３０、排気ケース４０、光路カバー５０、フィルタ６０、透過部材７０、及び、光路カバー８０を備えている。光源装置１におけるドラム１０、ターゲット材１１及び供給ケース２０の構成は、比較例の光源１０１における構成と同様である。

【0040】

コレクターミラー３０は、ターゲット材１１にレーザ光１３を照射することにより生成されたＥＵＶ光１５を反射させる。コレクターミラー３０は、例えば、ＥＵＶ光１５を検査装置の照明光学系に反射する。これにより、検査装置は、ＥＵＶ光１５を検査光に用いることができる。なお、コレクターミラー３０は、検査装置に限らず、露光装置等の他の光学装置にＥＵＶ光１５を反射させてもよい。

【0041】

排気ケース４０は、外側カバー４１及び排気口４２を有する。外側カバー４１は、ターゲット材１１とコレクターミラー３０との間に配置されている。具体的には、外側カバー４１は、ターゲット材１１とコレクターミラー３０との間に配置された部分を含む。外側カバー４１は、供給ケース２０を覆ってもよい。本実施形態では、外側カバー４１は、内部が空洞の円筒状である。供給ケース２０は、外側カバー４１の内部に配置されている。外側カバー４１は、外側カバー４１よりもターゲット材１１側に空間を形成している。外側カバー４１よりもターゲット材１１側に形成された空間を排気空間４３と呼ぶ。

【0042】

排気口４２は、排気空間４３に通じている。また、排気口４２は、排気ポンプに接続されてもよい。これにより、排気口４２を介して排気空間４３を排気することができる。

【0043】

光路カバー５０は、ターゲット材１１と、コレクターミラー３０と、の間に配置されている。光路カバー５０は、コーン形状または内部が空洞の円錐台形状を有している。具体的には、光路カバー５０は、開口した一端５１及び開口した他端５２を有する筒状であるが、一端５１の開口径よりも他端５２の開口径の方が大きく、一端５１の開口から他端５２の開口に向かって、径が大きくなった筒状である。光路カバー５０の一端５１は、外側カバー４１よりもターゲット材１１側においてターゲット材１１に対向する。光路カバー５０の他端５２は、外側カバー４１よりもコレクターミラー３０側においてコレクターミラー３０に対向するように配置されている。

【0044】

光路カバー５０は、外側カバー４１を貫通して配置されている。すなわち、光路カバー５０の一端５１は、外側カバー４１よりもターゲット材１１側の排気空間４３に突出している。光路カバー５０の他端５２は、外側カバー４１よりもコレクターミラー３０側の空間に突出している。外側カバー４１よりもコレクターミラー３０側の空間を光路空間４６と呼ぶ。ターゲット材１１が配置された排気空間４３とコレクターミラー３０が配置された光路空間４６とは、光路カバー５０によって接続されている。外側カバー４１は、ターゲット材１１が配置された排気空間４３とコレクターミラー３０が配置された光路空間４６とを分離する。光路空間４６は、真空ポンプ等の排気ポンプによって、高真空状態に保たれることが望ましい。

【0045】

フィルタ６０は、光路カバー５０の他端５２を塞ぐように配置されている。フィルタ６０は、ＥＵＶ光１５を透過させる。光路カバー５０にはパージガス４４を導入するための導入口５３が形成されている。例えば、導入口５３は、光路カバー５０において外側カバー４１よりもコレクターミラー３０側に形成されている。導入口５３から導入されたパージガス４４は、光路カバー５０の一端５１からターゲット材１１に向けて噴出され、排気空間４３を通って排気口４２から排気される。

【0046】

透過部材７０は、レーザ光１３を透過させる。透過部材７０は、例えば、レーザ光１３を集光する集光レンズ７０ｂでもよいし、ガラス板７０ａでもよい。なお、透過部材７０は、レーザ光１３を透過させることができれば、集光レンズ７０ｂ及びガラス板７０ａに限らず、他の光学部材でもよい。

【0047】

光路カバー８０は、ターゲット材１１と、透過部材７０と、の間に配置されている。光路カバー８０をレーザ光路部材とも呼ぶ。光路カバー８０は、コーン形状または内部が空洞の円錐台形状を有している。具体的には、光路カバー８０は、開口した一端８１及び開口した他端８２を有する筒状であるが、一端８１の開口径よりも他端８２の開口径の方が大きく、一端８１の開口から他端８２の開口に向かって、径が大きくなった筒状である。光路カバー８０の一端８１は、ターゲット材１１に対向し、他端８２は、透過部材７０に対向するように配置されている。

【0048】

光路カバー８０は、外側カバー４１を貫通して配置されてもよい。すなわち、光路カバー８０の一端８１は、外側カバー４１よりもターゲット材１１側の排気空間４３に突出している。光路カバー８０の他端８２は、外側カバー４１よりも透過部材７０側の空間に突出している。外側カバー４１よりも透過部材７０側の空間は、光路空間４６につながっていてもよい。ターゲット材１１が配置された排気空間４３と透過部材７０が配置された空間とは、光路カバー８０によって接続されている。外側カバー４１は、ターゲット材１１が配置された排気空間４３と透過部材７０が配置された光路空間４６とを分離する。

【0049】

透過部材７０は、光路カバー８０の他端８２を塞ぐように配置されている。光路カバー８０には、パージガス４４を導入するための導入口８３が形成されている。例えば、導入口８３は、光路カバー８０において外側カバー４１よりも透過部材７０側に形成されている。導入口８３から導入されたパージガス４４は、光路カバー８０の一端８１からターゲット材１１に向けて噴出され、排気空間４３を通って排気口４２から排気される。

【0050】

このように、本実施形態の光源装置１は、ターゲット材１１の周囲を排気ケース４０で囲うとともに、ＥＵＶ光１５及びレーザ光１３が配置された光路空間４６と、ターゲット材１１が配置された排気空間４３とを分離する。また、光路カバー５０の他端５２をフィルタ６０でシールし、光路カバー８０の他端８２を透過部材７０でシールする。このような構成とすることにより、レーザ光１３の入射口である光路カバー８０の一端８１及びＥＵＶ光１５の出射口である光路カバー５０の一端５１から排気口４２へ向かう不活性ガス（Ａｒ、Ｈｅ、Ｎ_２及びＨ_２）等のパージガス４４の流れを形成する。よって、パージガス４４等のガス圧の高い範囲を限定して、デブリ１８の除去効果を向上させることができる。

【0051】

さらに、光路カバー５０及び光路カバー８０を、それぞれ、一端５１及び一端８１に向かうほど径が絞られるコーン形状とすることで、一端５１及び一端８１におけるガス圧及びガス流速を効率的に上昇させることができ、デブリ１８の除去効果を向上させることができる。

【0052】

次に、本実施形態の動作として、光源装置１を用いた照明方法を説明する。図６は、実施形態１に係る光源装置１を用いた照明方法を例示したフローチャート図である。図６に示すように、照明方法は、光源装置１を準備するステップ（Ｓ１１）、パージガス４４を噴出させるステップ（Ｓ１２）及びＥＵＶ光１５を生成するステップ（Ｓ１３）を備えている。

【0053】

まず、ステップＳ１１に示すように、光源装置１を準備する。光源装置１は、ターゲット材１１、コレクターミラー３０、排気ケース４０、光路カバー５０及びフィルタ６０を備えている。また、光源装置１は、さらに、ドラム１０、供給ケース２０、透過部材７０及び光路カバー８０を備えてもよい。

【0054】

ステップＳ１１において、供給口２２からターゲット材１１のガス１６を供給空間２３に供給し、供給したターゲット材１１のガス１６をドラム１０の表面で固化させることにより、ターゲット材１１を形成してもよい。

【0055】

次に、ステップＳ１２に示すように、パージガス４４を噴出させる。具体的には、光路カバー５０に形成された導入口５３からパージガス４４を導入し、導入したパージガス４４を、光路カバー５０の一端５１からターゲット材１１に向けて噴出させる。そして、パージガス４４を、排気空間４３を通って排気口４２から排気させる。

【0056】

ステップＳ１２において、光路カバー８０に形成された導入口８３からパージガス４４を導入し、導入したパージガス４４を、光路カバー８０の一端８１からターゲット材１１に向けて噴出させてもよい。そして、パージガス４４を、排気空間４３を通って排気口４２から排気させてもよい。

【0057】

次に、ステップＳ１３に示すように、ＥＵＶ光１５を生成する。具体的には、ターゲット材１１にレーザ光１３を照射することにより、ＥＵＶ光１５を生成する。このようにして、ＥＵＶ光１５を含む照明光を生成することにより、検査装置等における照明光を形成することができる。

【0058】

次に、本実施形態の光源装置１の製造方法を説明する。本実施形態の光源装置１の製造方法は、例えば、比較例の光源１０１から光源装置１を製造する。図７は、実施形態１に係る光源装置１の製造方法を例示したフローチャート図である。図７に示すように、光源装置１の製造方法は、光源１０１を準備するステップ（Ｓ２１）、排気ケース４０を配置するステップ（Ｓ２２）、光路カバー５０を配置するステップ（Ｓ２３）、フィルタ６０を配置するステップ（Ｓ２４）、パージガス４４の導入口５３を形成するステップ（Ｓ２５）を備えている。なお、ステップＳ２２～Ｓ２５の順序は、この順序に限らず、他の順序で製造してもよいし、いずれかの順序を並列に行ってもよい。

【0059】

ステップＳ２１に示すように、光源１０１を準備する。光源１０１は、ターゲット材１１及びコレクターミラー３０を備えている。また、光源１０１は、さらに、ドラム１０及び供給ケース２０を備えてもよい。

【0060】

次に、ステップＳ２２に示すように、排気ケース４０を配置させる。具体的には、ターゲット材１１とコレクターミラー３０との間に外側カバー４１を配置させる。そして、外側カバー４１よりもターゲット材１１側に形成された排気空間４３に通じるように排気口４２を形成する。ターゲット材１１を囲むように外側カバー４１を配置させてもよい。このようにして、排気ケース４０を配置させる。外側カバー４１は、ターゲット材１１が配置された排気空間４３とコレクターミラー３０が配置された光路空間４６とを分離するように配置されることが好ましい。これにより、パージガス４４及びターゲット材１１のガス１６でＥＵＶ光１５の光量が低減することを抑制することができる。

【0061】

次に、ステップＳ２３に示すように、光路カバー５０を配置させる。具体的には、光路カバー５０を、一端５１が外側カバー４１よりもターゲット材１１側においてターゲット材１１に対向し、他端５２が外側カバー４１よりもコレクターミラー３０側においてコレクターミラー３０に対向するように、外側カバー４１を貫通させて配置させる。

【0062】

次に、ステップＳ２４に示すように、フィルタ６０を配置させる。具体的には、ＥＵＶ光１５を透過させるフィルタ６０で光路カバー５０の他端５２を塞ぐようにフィルタ６０を配置させる。

【0063】

次に、ステップＳ２５に示すように、光路カバー５０にパージガス４４が導入される導入口５３を形成する。このようにして、光源装置１を製造することができる。なお、以下に示すように、光路カバー８０を配置させるステップ、透過部材７０を配置させるステップ、導入口８３を形成するステップ、及び、ターゲット材１１を形成するステップをさらに備えてもよい。

【0064】

光路カバー８０を配置させるステップにおいて、光路カバー８０を、一端８１がターゲット材１１に対向し、他端８２がレーザ光１３を通すにように配置させる。透過部材７０を配置させるステップにおいて、レーザ光１３が透過する透過部材７０で光路カバー８０の他端８２を塞ぐように透過部材７０を配置させる。導入口８３を形成するステップにおいて、光路カバー８０にパージガス４４の導入口８３を形成する。ターゲット材１１を形成するステップにおいて、供給口２２からターゲット材１１のガス１６を供給空間２３に供給し、供給したターゲット材１１のガス１６をドラム１０の表面で固化させることにより、ターゲット材１１を形成する。

【0065】

次に、本実施形態の効果を説明する。本実施形態の光源装置１は、排気ケース４０、光路カバー５０、フィルタ６０を用いてパージガス４４及びターゲット材１１のガス１６の拡散範囲を限定している。これにより、ＥＵＶ光１５が通る光路を高真空状態に維持することができ、パージガス４４及びターゲット材１１のガス１６によるＥＵＶ光１５の吸収を抑制することができる。よって、ＥＵＶ光１５の光量の低下を抑制することができる。

【0066】

他端５２の開口から一端５１の開口に向かって、径が絞られるコーン形状の光路カバー５０を通してパージガス４４を噴出させるので、ターゲット材１１近傍に噴出されるガスの流速を大きくすることができる。その結果、デブリを押し出す力を増加させ、コレクターミラー３０等の光学部材の汚染を抑制することができる。光路カバー８０についても同様である。

【0067】

図８～図１１は、比較例に係る光源１０１において、パージガス４４の流れを例示した図である。図８～図１１に示すように、比較例の光源１０１においては、レーザ光１３及びＥＵＶ光１５の光路にパージガス４４が分布し、ＥＵＶ光１５の光量が低減している。比較例の光源１０１では、コレクターミラー３０の位置関係、パージガス４４の流れ系統及びパージガス４４の圧力の各条件を変化させても、ＥＵＶ光１５が通る光路を高真空状態に維持することができない。これに対して、本実施形態の光源装置１は、パージガス４４が流れる排気空間４３とＥＵＶ光１５が通る光路空間４６とを分離することができるので、ＥＵＶ光１５が通る光路を高真空状態に維持することができる。

【0068】

＜実施形態２＞
次に、実施形態２に係る光源装置を説明する。本実施形態の光源装置において、ターゲット材１１は、ドラム１０の表面に固化される代わりに、ルツボの内部に配置される。図１２は、実施形態２に係る光源装置２を例示した断面図である。図１２に示すように、光源装置２は、ルツボ９０、デブリシールド９３、ターゲット材１１ａ、コレクターミラー３０、排気ケース２４０、光路カバー５０、フィルタ６０、透過部材７０及び光路カバー８０を備えている。実施形態２の光源装置２におけるコレクターミラー３０、光路カバー５０、フィルタ６０、透過部材７０及び光路カバー８０の構成は、実施形態１の光源装置１における構成と同様である。

【0069】

ルツボ９０は、中心軸Ｃを有する。ルツボ９０は、中心軸Ｃを回転軸として回転する。ルツボ９０は、開口した一端９１及び閉じた他端９２を有する円筒状である。ルツボ９０は、内面でターゲット材１１ａが溶融するように加熱されている。

【0070】

ターゲット材１１ａは、液体であり、ルツボ９０の内部に配置されている。ターゲット材１１ａは、ルツボ９０の回転の遠心力により、ルツボ９０の内周面に拡がっている。このように、液体のターゲット材１１ａをルツボ９０の内面に拡げることにより、ターゲット材１１ａが形成されている。

【0071】

ルツボ９０の開口した一端９１は、デブリシールド９３で覆われている。ルツボ９０の一端９１と、デブリシールド９３とは、ルツボ９０の回転に影響を与えないように分離されている。ルツボ９０の一端９１と、デブリシールド９３とは、パージガス４４が漏れないようなわずかな隙間となっているが、これに限らない。すなわちルツボ９０の一端９１とデブリシールド９３との間からパージガス４４が排出されるようにしてもよく、この場合、排気ケース２４０は、ルツボ９０の円筒部分の外側に設けた外側カバー２４１を含み、外側カバー２４１はルツボ９０の円筒部分と対向する位置（例えば、ルツボ９０から、パージガス４４が漏れ出す隙間の位置に対向する位置）に、少なくとも１つの排気口２４２を有してもよい。デブリシールド９３は、ターゲット材１１ａにおけるレーザ光１３の照射位置１７に対向した部分が開口している。

【0072】

排気ケース２４０は、外側カバー２４１及び排気口２４２を有する。外側カバー２４１は、ターゲット材１１ａとコレクターミラー３０との間に配置されている。外側カバー２４１は、デブリシールド９３を覆ってもよい。本実施形態では、外側カバー２４１は、下方が開口した矩形状である。外側カバー２４１の下端は、デブリシールド９３に接続してもよい。排気口２４２は、外側カバー２４１よりもターゲット材１１ａ側に形成された排気空間２４３に通じている。

【0073】

光路カバー５０は、ターゲット材１１ａと、コレクターミラー３０と、の間に配置されている。光路カバー５０の一端５１は、ターゲット材１１ａに対向し、他端５２は、コレクターミラー３０に対向するように配置されている。光路カバー５０は、外側カバー２４１を貫通して配置されている。すなわち、光路カバー５０の一端５１は、外側カバー２４１よりもターゲット材１１ａ側の空間に突出している。光路カバー５０の他端５２は、外側カバー２４１よりもコレクターミラー３０側の空間に突出している。外側カバー２４１及びデブリシールド９３は、ターゲット材１１ａが配置された排気空間２４３とコレクターミラー３０が配置された光路空間４６とを分離する。

【0074】

光路カバー５０の導入口５３は、光路カバー５０において外側カバー２４１よりもコレクターミラー３０側に形成されている。導入口５３から導入されたパージガス４４は、光路カバー５０の一端５１からターゲット材１１ａに向けて噴出され、排気空間２４３を通って排気口２４２から排気される。

【0075】

光路カバー８０は、ターゲット材１１ａと、透過部材７０と、の間に配置されている。光路カバー８０の一端８１は、ターゲット材１１ａに対向し、他端８２は、透過部材７０に対向するように配置されている。光路カバー８０は、デブリシールド９３を貫通して配置されている。光路カバー８０の一端８１は、デブリシールド９３よりもターゲット材１１ａ側の空間に位置している。光路カバー８０の他端８２は、デブリシールド９３よりも透過部材７０側の空間に突出する。外側カバー２４１及びデブリシールド９３は、ターゲット材１１ａが配置された排気空間２４３と透過部材７０が配置された光路空間４６とを分離する。

【0076】

光路カバー８０の導入口８３は、光路カバー８０においてデブリシールド９３よりも透過部材７０側に形成されている。導入口８３から導入されたパージガス４４は、光路カバー８０の一端８１からターゲット材１１ａに向けて噴出され、排気空間２４３を通って排気口２４２から排気される。

【0077】

本実施形態の光源装置２を用いた照明方法は、光源装置２を準備するステップＳ１１において、液体状のターゲット材１１ａをルツボ９０の内周面に拡げることにより、ターゲット材１１ａを形成する。また、本実施形態の光源装置２の製造方法は、液体状のターゲット材１１ａをルツボ９０の内周面に拡げることにより、ターゲット材１１ａを形成するステップをさらに備える。

【0078】

本実施形態によれば、光源装置２は、ルツボ９０内における液体金属をターゲット材１１ａに使用することができるので、ターゲット材１１ａの選択肢を広げることができる。これ以外の構成及び効果は、実施形態１の記載に含まれている。

【0079】

＜実施形態３＞
次に、実施形態３に係る光源装置を説明する。本実施形態の光源装置は、実施形態１の光源装置１に比べて、光路カバー５０の一端５１及び他端５２の位置が異なっている。また、光路カバー８０の一端８１及び他端８２の位置が異なっている。

【0080】

図１３は、実施形態３に係る光源装置３を例示した断面図である。図１３に示すように、光源装置３において、光路カバー５０は、コレクターミラー３０及びフィルタ６０を内部に含むように配置されている。光路カバー５０は、コーン形状または内部が空洞の円錐台形状の部分を有しているが、これに限らない。例えば、光路カバー５０は、径が一端５１の開口から他端５２の開口に向かって、徐々に大きくならない部分を含んでもよい。具体的には、光路カバー５０は、開口した一端５１及び開口した他端５２を有する筒状であり、一端５１の開口径よりも他端５２の開口径の方が大きい筒状であれば、コーン形状及び円錐台形状以外の部分を含んでもよい。

【0081】

光路カバー５０の一端５１は、ターゲット材１１に対向する。光路カバー５０の一端５１は、外側カバー４１に接続している。このように、本実施形態において、光路カバー５０は、外側カバー４１を貫通しなくてもよい。光路カバー５０の他端５２は、外側カバー４１よりもコレクターミラー３０側に配置されている。光路カバー５０の他端５２は、コレクターミラー３０よりもターゲット材１１から離れる方向に位置している。つまり、コレクターミラー３０及びフィルタ６０は、光路カバー５０の内部に配置され、一端５１と他端５２との間に配置されている。なお、光路カバー５０は、コレクターミラー３０で反射した反射光が通る部分に開口を有してもよいし、反射光が通る部分に反射光を透過する透過部材が嵌めこまれてもよい。

【0082】

フィルタ６０は、光路カバー５０の内部におけるコレクターミラー３０よりもターゲット材１１側に配置されている。このように、本実施形態のフィルタ６０は、光路カバー５０の他端５２を塞ぐように配置されなくてもよい。

【0083】

なお、前述の実施形態１における光路カバー５０の一端５１及び他端５２の位置と、本実施形態における光路カバー５０の一端５１及び他端５２の位置とを適宜組み合わせてもよい。つまり、光路カバー５０の一端５１は、外側カバー４１を貫通するように、外側カバー４１よりもターゲット材１１側に配置されてもよいし、外側カバー４１に接続されてもよい。一端５１のそれぞれの場合において、他端５２は、フィルタ６０によって塞がれるように、フィルタ６０に接続されてもよいし、コレクターミラー３０よりもターゲット材１１から離れるように配置されてもよい。

【0084】

光路カバー８０は、透過部材７０（例えば、ガラス板７０ａ及び集光レンズ７０ｂの少なくともいずれか）を内部に含むように配置されている。光路カバー８０は、コーン形状または内部が空洞の円錐台形状の部分を有しているが、これに限らない。例えば、光路カバー８０は、径が一端８１の開口から他端８２の開口に向かって、徐々に大きくならない部分を含んでもよい。具体的には、光路カバー８０は、開口した一端８１及び開口した他端８２を有する筒状であり、一端８１の開口径よりも他端８２の開口径の方が大きい筒状であれば、コーン形状及び円錐台形状以外の部分を含んでもよい。

【0085】

光路カバー８０の一端８１は、ターゲット材１１に対向する。光路カバー８０の一端８１は、外側カバー４１に接続している。このように、本実施形態において、光路カバー８０は、外側カバー４１を貫通しなくてもよい。光路カバー８０の他端８２は、外側カバー４１よりも透過部材７０側に配置されている。光路カバー８０の他端８２は、透過部材７０よりもターゲット材１１から離れる方向に位置している。つまり、透過部材７０は、光路カバー８０の内部に配置され、一端８１と他端８２との間に配置されている。

【0086】

ガラス板７０ａは、光路カバー８０の内部における集光レンズ７０ｂよりもターゲット材１１側に配置されている。このように、本実施形態のガラス板７０ａ等の透過部材７０は、光路カバー８０の他端８２を塞ぐように配置されなくてもよい。

【0087】

なお、前述の実施形態１における光路カバー８０の一端８１及び他端８２の位置と、本実施形態における光路カバー８０の一端８１及び他端８２の位置とを適宜組み合わせてもよい。つまり、光路カバー８０の一端８１は、外側カバー４１を貫通するように、外側カバー４１よりもターゲット材１１側に配置されてもよいし、外側カバー４１に接続されてもよい。一端８１のそれぞれの場合において、他端８２は、ガラス板７０ａ等の透過部材７０によって塞がれるように、透過部材７０に接続されてもよいし、透過部材７０よりもターゲット材１１から離れるように配置されてもよい。

【0088】

また、光路カバー５０の一端５１及び他端５２の位置と、光路カバー８０の一端８１及び他端８２の位置とを適宜組み合わせてもよい。

【0089】

実施形態３における上述した構成以外の構成、上述した構成以外を含む光源装置３を用いた照明方法、及び、上述した構成以外を含む光源装置３の製造方法は、実施形態１及び２の記載に含まれている。

【0090】

＜実施形態４＞
次に、実施形態４に係る光源装置を説明する。本実施形態の光源装置は、実施形態２の光源装置２に比べて、光路カバー５０の一端５１及び他端５２の位置が異なっている。また、光路カバー８０の一端８１及び他端８２の位置が異なっている。

【0091】

図１４は、実施形態４に係る光源装置４を例示した断面図である。図１４に示すように、光源装置４において、光路カバー５０は、コレクターミラー３０及びフィルタ６０を内部に含むように配置されている。光路カバー５０は、コーン形状または内部が空洞の円錐台形状の部分を有しているが、これに限らない。例えば、光路カバー５０は、径が一端５１の開口から他端５２の開口に向かって、徐々に大きくならない部分を含んでもよい。具体的には、光路カバー５０は、開口した一端５１及び開口した他端５２を有する筒状であり、一端５１の開口径よりも他端５２の開口径の方が大きい筒状であれば、コーン形状及び円錐台形状以外の部分を含んでもよい。

【0092】

光路カバー５０の一端５１は、ターゲット材１１ａに対向する。光路カバー５０の一端５１は、外側カバー２４１に接続している。このように、本実施形態において、光路カバー５０は、外側カバー２４１を貫通しなくてもよい。光路カバー５０の他端５２は、外側カバー２４１よりもコレクターミラー３０側に配置されている。光路カバー５０の他端５２は、コレクターミラー３０よりもターゲット材１１ａから離れる方向に位置している。つまり、コレクターミラー３０及びフィルタ６０は、光路カバー５０の内部に配置され、一端５１と他端５２との間に配置されている。なお、光路カバー５０は、コレクターミラー３０で反射した反射光が通る部分に開口を有してもよいし、反射光が通る部分に反射光を透過する透過部材が嵌めこまれてもよい。

【0093】

フィルタ６０は、光路カバー５０の内部におけるコレクターミラー３０よりもターゲット材１１ａ側に配置されている。このように、本実施形態のフィルタ６０は、光路カバー５０の他端５２を塞ぐように配置されなくてもよい。

【0094】

なお、前述の実施形態２における光路カバー５０の一端５１及び他端５２の位置と、本実施形態における光路カバー５０の一端５１及び他端５２の位置とを適宜組み合わせてもよい。つまり、光路カバー５０の一端５１は、外側カバー２４１を貫通するように、外側カバー２４１よりもターゲット材１１ａ側に配置されてもよいし、外側カバー２４１に接続されてもよい。一端５１のそれぞれの場合において、他端５２は、フィルタ６０によって塞がれるように、フィルタ６０に接続されてもよいし、コレクターミラー３０よりもターゲット材１１ａから離れるように配置されてもよい。

【0095】

光路カバー８０は、透過部材７０（例えば、ガラス板７０ａ及び集光レンズ７０ｂの少なくともいずれか）を内部に含むように配置されている。光路カバー８０は、コーン形状または内部が空洞の円錐台形状の部分を有しているが、これに限らない。例えば、光路カバー８０は、径が一端８１の開口から他端８２の開口に向かって、徐々に大きくならない部分を含んでもよい。具体的には、光路カバー８０は、開口した一端８１及び開口した他端８２を有する筒状であり、一端８１の開口径よりも他端８２の開口径の方が大きい筒状であれば、コーン形状及び円錐台形状以外の部分を含んでもよい。

【0096】

光路カバー８０の一端８１は、ターゲット材１１ａに対向する。光路カバー８０の一端８１は、外側カバー２４１を貫通している。このように、本実施形態において、光路カバー８０の一端８１は、外側カバー２４１に接続しなくてもよい。光路カバー８０の他端８２は、外側カバー２４１よりも透過部材７０側に配置されている。光路カバー８０の他端８２は、透過部材７０よりもターゲット材１１ａから離れる方向に位置している。つまり、透過部材７０は、光路カバー８０の内部に配置され、一端８１と他端８２との間に配置されている。

【0097】

ガラス板７０ａは、光路カバー８０の内部における集光レンズ７０ｂよりもターゲット材１１ａ側に配置されている。このように、本実施形態のガラス板７０ａ等の透過部材７０は、光路カバー８０の他端８２を塞ぐように配置されなくてもよい。

【0098】

なお、前述の実施形態１における光路カバー８０の一端８１及び他端８２の位置と、本実施形態における光路カバー８０の一端８１及び他端８２の位置とを適宜組み合わせてもよい。つまり、光路カバー８０の一端８１は、外側カバー２４１を貫通するように、外側カバー２４１よりもターゲット材１１ａ側に配置されてもよいし、外側カバー２４１に接続されてもよい。一端８１のそれぞれの場合において、他端８２は、ガラス板７０ａ等の透過部材７０によって塞がれるように、透過部材７０に接続されてもよいし、透過部材７０よりもターゲット材１１ａから離れるように配置されてもよい。

【0099】

また、光路カバー５０の一端５１及び他端５２の位置と、光路カバー８０の一端８１及び他端８２の位置とを適宜組み合わせてもよい。

【0100】

実施形態４における上述した構成以外の構成、上述した構成以外を含む光源装置４を用いた照明方法、及び、上述した構成以外を含む光源装置４の製造方法は、実施形態１～３の記載に含まれている。

【0101】

以上、本開示の実施形態を説明したが、本開示はその目的と利点を損なうことのない適宜の変形を含み、更に、上記の実施形態による限定は受けない。比較例、実施形態１及び２の各構成を組み合わせたものも本開示の技術思想に含まれる。

【0102】

また、以下の光源装置、照明方法及び光源装置の製造方法も本開示の技術思想に含まれる。

【0103】

（付記１）
レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、
生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、
前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりも前記ターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きく、前記一端の開口から前記他端の開口に向かって、径が大きくなる筒状の光路カバーであって、前記一端が前記外側カバーよりも前記ターゲット材側において前記ターゲット材に対向し、前記他端が前記外側カバーよりも前記コレクターミラー側において前記コレクターミラーに対向するように前記外側カバーを貫通して配置された前記光路カバーと、
前記光路カバーの前記他端を塞ぎ、前記ＥＵＶ光を透過させるフィルタと、
を備え、
前記光路カバーに形成された導入口から導入されたパージガスは、前記光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出され、前記排気空間を通って前記排気口から排気される、
光源装置。
（付記２）
前記レーザ光を透過させる透過部材と、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きく、前記一端の開口から前記他端の開口に向かって、径が大きくなる筒状のレーザ光路カバーであって、前記レーザ光路カバーの前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記レーザ光路カバーの前記他端が前記透過部材に対向するように配置された前記レーザ光路カバーと、
をさらに備え、
前記透過部材は、前記レーザ光路カバーの前記他端を塞ぎ、
前記レーザ光路カバーに形成された導入口から導入された前記パージガスは、前記レーザ光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出され、前記排気空間を通って前記排気口から排気される、
付記１に記載の光源装置。
（付記３）
レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、
生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、
前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に配置された外側カバー、及び、前記外側カバーよりも前記ターゲット材側に形成された排気空間に通じる排気口を有する排気ケースと、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きく、前記一端の開口から前記他端の開口に向かって、径が大きくなる筒状の光路カバーであって、前記一端が前記外側カバーよりも前記ターゲット材側において前記ターゲット材に対向し、前記他端が前記外側カバーよりも前記コレクターミラー側において前記コレクターミラーに対向するように前記外側カバーを貫通して配置された前記光路カバーと、
前記光路カバーの前記他端を塞ぎ、前記ＥＵＶ光を透過させるフィルタと、
を含む光源装置を準備するステップと、
前記光路カバーに形成された導入口からパージガスを導入し、導入した前記パージガスを、前記光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出させ、前記排気空間を通って前記排気口から排気させるステップと、
前記ターゲット材に前記レーザ光を照射することにより前記ＥＵＶ光を生成するステップと、
を備えた照明方法。
（付記４）
前記光源装置は、
前記レーザ光を透過させる透過部材と、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きく、前記一端の開口から前記他端の開口に向かって、径が大きくなる筒状のレーザ光路カバーであって、前記レーザ光路カバーの前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記レーザ光路カバーの前記他端が前記透過部材に対向するように配置された前記レーザ光路カバーと、
をさらに含み、
前記排気口から排気させるステップにおいて、
前記レーザ光路カバーに形成された導入口から前記パージガスを導入し、導入した前記パージガスを、前記レーザ光路カバーの前記一端から前記ターゲット材に向けて噴出させ、前記排気空間を通って前記排気口から排気させる、
付記３に記載の照明方法。
（付記５）
レーザ光を照射することによりプラズマとともにＥＵＶ光を生成するターゲット材と、
生成された前記ＥＵＶ光を反射させるコレクターミラーと、
を含む光源を準備するステップと、
前記ターゲット材と前記コレクターミラーとの間に外側カバーを配置させ、前記外側カバーよりも前記ターゲット材側に形成された排気空間に通じるように排気口を形成することにより排気ケースを配置させるステップと、
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きく、前記一端の開口から前記他端の開口に向かって、径が大きくなる筒状の光路カバーを、前記一端が前記外側カバーよりも前記ターゲット材側において前記ターゲット材に対向し、前記他端が前記外側カバーよりも前記コレクターミラー側において前記コレクターミラーに対向するように前記外側カバーを貫通させて配置させるステップと、
前記ＥＵＶ光を透過させるフィルタで前記光路カバーの他端を塞ぐステップと、
前記光路カバーにパージガスが導入される導入口を形成するステップと、
を備えた光源装置の製造方法。
（付記６）
開口した一端及び開口した他端を有し、前記一端の開口径よりも前記他端の開口径の方が大きく、前記一端の開口から前記他端の開口に向かって、径が大きくなる筒状のレーザ光路カバーを、前記レーザ光路カバーの前記一端が前記ターゲット材に対向し、前記レーザ光路カバーの前記他端が前記レーザ光を通すにように配置させるステップと、
前記レーザ光が透過する前記透過部材で前記レーザ光路カバーの他端を塞ぐステップと、
前記レーザ光路カバーに前記パージガスが導入される導入口を形成するステップと、
を備えた、
付記５に記載の光源装置の製造方法。

【0104】

この出願は、２０２３年４月２４日に出願された日本出願特願２０２３－０７０５９５を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

【符号の説明】

【0105】

１、２、３、４ 光源装置
１０ ドラム
１１、１１a ターゲット材
１２ 冷却材
１３ レーザ光
１４ プラズマ
１５ ＥＵＶ光
１６ ガス
１７ 照射位置
１８ デブリ
２０ 供給ケース
２１ ハウジング
２２ 供給口
２３ 供給空間
２４ 供給部
２５ ワイパー
２６ 真空シール
２７ 注入口
２８ 窓
３０ コレクターミラー
４０ 排気ケース
４１ 外側カバー
４２ 排気口
４３ 排気空間
４４ パージガス
４６ 光路空間
５０ 光路カバー
５１ 一端
５２ 他端
５３ 導入口
６０ フィルタ
７０ 透過部材
７０ａ ガラス板
７０ｂ 集光レンズ
８０ 光路カバー
８１ 一端
８２ 他端
８３ 導入口
９０ ルツボ
９１ 一端
９２ 他端
９３ デブリシールド
１０１ 光源
２４０ 排気ケース
２４１ 外側カバー
２４２ 排気口
２４３ 排気空間
Ｃ 中心軸

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】