特許 7661251 表示パネル及び表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-04-04

(45)【発行日】2025-04-14

(54)【発明の名称】表示パネル及び表示装置

(51)【国際特許分類】

   G09F 9/30 20060101AFI20250407BHJP

   G02F 1/1333 20060101ALI20250407BHJP

   G02F 1/1339 20060101ALI20250407BHJP

   G09F 9/00 20060101ALI20250407BHJP

   G09F 9/302 20060101ALI20250407BHJP

   G09F 9/35 20060101ALI20250407BHJP

【ＦＩ】

G09F9/30 320

G02F1/1333

G02F1/1339 500

G09F9/00 366Z

G09F9/30 349B

G09F9/30 365

G09F9/302 Z

G09F9/35

【請求項の数】 29

(21)【出願番号】P 2021577600

(86)(22)【出願日】2020-12-30

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-05-11

(86)【国際出願番号】 CN2020141413

(87)【国際公開番号】W WO2021196784

(87)【国際公開日】2021-10-07

【審査請求日】2023-12-26

(31)【優先権主張番号】202010243978.6

(32)【優先日】2020-03-31

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(73)【特許権者】

【識別番号】510280589

【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(72)【発明者】

【氏名】▲陳▼ ▲凱▼

(72)【発明者】

【氏名】▲陳▼ 延青

(72)【発明者】

【氏名】▲劉▼ 瑞超

(72)【発明者】

【氏名】▲トン▼ ▲潔▼

(72)【発明者】

【氏名】▲張▼ 小▲鳳▼

(72)【発明者】

【氏名】秦 ▲偉▼▲達▼

(72)【発明者】

【氏名】王 ▲寧▼

(72)【発明者】

【氏名】王 炎

(72)【発明者】

【氏名】李 ▲偉▼

(72)【発明者】

【氏名】辛 昊毅

【審査官】新井 重雄

(56)【参考文献】

【文献】中国特許出願公開第１１０５１５２４３（ＣＮ，Ａ）

【文献】特開２０１３－２０５８４０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－００４９３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１８／０３７９８８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】中国特許出願公開第１０９０６１９３４（ＣＮ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０９Ｆ ９／３０

Ｇ０２Ｆ １／１３３３

Ｇ０２Ｆ １／１３３９

Ｇ０９Ｆ ９／００

Ｇ０９Ｆ ９／３０２

Ｇ０９Ｆ ９／３５

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

表示領域及び光電センサ領域であって、前記表示領域は、前記光電センサ領域の外側に位置し、前記表示領域は、アレイ状に配列される複数の画素を含み、複数の画素のうちの各画素は、複数のカラーサブ画素を含み、前記光電センサ領域は、光透過領域と、前記光透過領域を取り囲むフレーム領域とを含み、前記フレーム領域は、
前記光透過領域を取り囲む第１領域と、
前記第１領域の前記光透過領域から離れる側に位置し、且つ前記第１領域を取り囲む第２領域と、
前記第２領域の前記光透過領域から離れる側に位置し、且つ第２領域と前記表示領域との間に位置することにより、前記第２領域と前記表示領域とを隔てる第３領域と、を含む表示領域及び光電センサ領域と、
アレイ状に配列される複数のスペーサであって、前記表示領域内に位置するが、前記光透過領域内に位置しない複数のスペーサと、
前記第１領域内に位置し、前記光透過領域の周りに並んでおり且つ互いに隔てられる複数の第１支持柱と、
前記第２領域内に位置し、前記第２領域の周りに並んでおり且つ互いに隔てられる複数の第２支持柱と、
前記第３領域内に位置し且つアレイ状に配列される複数の第３支持柱とを含む、表示パネルであって、
前記表示パネルは、
第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第２基板の前記第１基板に近接する側に位置し、前記フレーム領域を被覆し、且つ前記表示領域に前記複数のカラーサブ画素を画定し、前記複数のスペーサと、前記複数の第１支持柱と、前記複数の第２支持柱と、前記複数の第３支持柱とは、前記第１基板における正投影が、ブラックマトリクスの前記第１基板における正投影内に位置するブラックマトリクスと、
前記第２基板上に位置し且つ前記ブラックマトリクスの前記第１基板に近接する側に位置し、前記フレーム領域と前記表示領域とを被覆する保護層とをさらに含み、前記複数のスペーサと、前記複数の第１支持柱と、前記複数の第２支持柱と、前記複数の第３支持柱とは、前記第１基板と前記保護層との間に位置することにより、前記第１基板と前記第２基板との間の距離を維持する、表示パネル。

【請求項2】

前記第２領域に位置し且つ前記ブラックマトリクスと前記保護層との間に位置し、前記複数の第２支持柱の前記第１基板における正投影は、第１スペーサ層の前記第１基板における正投影内に位置する第１スペーサ層をさらに含む、請求項１に記載の表示パネル。

【請求項3】

前記第１スペーサ層の平面配列図形は、前記第１領域を取り囲むクローズド環状である、請求項２に記載の表示パネル。

【請求項4】

前記第１領域において、前記保護層は、前記ブラックマトリクスと直接接触し、
前記保護層は、前記第１領域内に階段構造を有し、前記階段構造は、前記第２領域から離れる第１部分と、前記第２領域に近接する第２部分とを含み、
前記第１基板に垂直する方向において、前記第１部分の高さは、前記第２部分の高さよりも小さく、前記第１支持柱の高さは、前記第２支持柱の高さよりも大きい、請求項２又は３に記載の表示パネル。

【請求項5】

前記複数の第１支持柱の平面配列図形は、少なくとも一つ環状を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項6】

前記複数の第１支持柱の平面配列図形は、複数の同心環を含み、
前記同心環の径方向に沿って、前記複数の同心環における第１支持柱が整列されるか、又は前記複数の同心環のうちの隣接する同心環における第１支持柱が交錯する、請求項５に記載の表示パネル。

【請求項7】

前記複数の第１支持柱の前記第１基板における正投影の総面積と、前記複数の第２支持柱の前記第１基板における正投影の総面積との比は、５～１０である、請求項６に記載の表示パネル。

【請求項8】

同一の前記同心環に位置する前記複数の第１支持柱のうち、隣接する２つの第１支持柱の中心の間の距離は、前記表示領域の一つの画素の長さ又は幅と等しい、請求項７に記載の表示パネル。

【請求項9】

前記第３領域に位置し且つ前記ブラックマトリクスと前記保護層との間に位置し、前記複数の第３支持柱の前記第１基板における正投影は、第２スペーサ層の前記第１基板における正投影内に位置する第２スペーサ層をさらに含む、請求項４に記載の表示パネル。

【請求項10】

前記第１スペーサ層は、前記第２スペーサ層と一体的に成形されるか、又は前記保護層によって互いに隔てられ、請求項９に記載の表示パネル。

【請求項11】

前記第２基板の前記第１基板に近接する側に位置し、且つ第１部分と、第２部分と、第３部分とを含むカラーフィルム層を含み、
前記カラーフィルム層の第１部分は、前記表示領域の複数のカラーサブ画素中に位置し、且つ、前記カラーフィルム層の第１部分の前記第１基板における正投影は、前記ブラックマトリクスの前記第１基板における正投影と重ならず、
前記カラーフィルム層の第２部分は、前記第２領域中に位置し且つ前記第１スペーサ層として構成され、且つ、前記カラーフィルム層の第２部分の前記第１基板における正投影は、前記ブラックマトリクスの前記第１基板における正投影と重なり、
前記カラーフィルム層の第３部分は、前記第３領域中に位置し且つ前記第２スペーサ層として構成される、請求項９又は１０に記載の表示パネル。

【請求項12】

前記表示領域に位置する前記複数のスペーサは、複数の主スペーサと複数の副スペーサとを含み、前記主スペーサが前記第１基板に垂直する方向における高さは、前記副スペーサが前記第１基板に垂直する方向における高さよりも大きく、
前記複数の第２支持柱のそれぞれの形状と寸法、及び、前記複数の第３支持柱のそれぞれの形状と寸法は、前記複数の副スペーサのそれぞれの形状と寸法と同じであり、
前記複数の第１支持柱のそれぞれの形状と寸法は、前記複数の主スペーサのそれぞれの形状と寸法と同じである、請求項１１に記載の表示パネル。

【請求項13】

前記第１基板の前記第２基板に近接する側に位置し、且つ前記第１基板と直接接触するバッファ層と、
前記バッファ層の前記第１基板から離れる側に位置し、且つ前記表示領域と前記フレーム領域に位置する駆動回路層とをさらに含み、
前記複数のスペーサと、前記複数の第１支持柱と、前記複数の第２支持柱と、前記複数の第３支持柱とは、いずれも前記駆動回路層と前記保護層との間に位置し、前記光透過領域には駆動回路層が設けられておらず、前記駆動回路層の前記光透過領域に近接する周縁は、前記第１領域に位置するか、又は前記光透過領域と前記第１領域との境界部に位置する、請求項１～４のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項14】

前記光透過領域において、前記バッファ層と前記第２基板との間に第１液晶層が設けられ、前記第１液晶層は、前記バッファ層と直接接触する、請求項１３に記載の表示パネル。

【請求項15】

前記フレーム領域と前記表示領域において、前記保護層と駆動回路層との間に第２液晶層が設けられ、前記第１液晶層における液晶と、前記第２液晶層における液晶とは、前記複数の第１支持柱の間の間隔と、前記複数の第２支持柱の間の間隔と、前記複数の第３支持柱の間の間隔とを介して連通する、請求項１４に記載の表示パネル。

【請求項16】

前記保護層は、前記光透過領域をさらに被覆し、前記光透過領域において、前記保護層は、前記第２基板と直接接触し、前記第１液晶層は、前記バッファ層と前記保護層との間に位置し且つ前記保護層と直接接触する、請求項１４又は１５に記載の表示パネル。

【請求項17】

前記光透過領域には液晶層が設けられておらず、
前記光透過領域において、前記第２基板と前記バッファ層との間に空気が充填され、
前記表示パネルは、第１シーラントを含み、前記第１シーラントは、前記第２基板と前記バッファ層との間に位置し、光透過領域を取り囲み且つ前記バッファ層と前記保護層と直接接触する、請求項１３～１６のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項18】

複数の前記光透過領域を含み、隣接する２つの前記光透過領域は、それぞれ第１光透過領域と第２光透過領域であり、前記表示パネルは、
前記第１光透過領域を取り囲む第２領域と、前記第２光透過領域を取り囲む第２領域との間に位置する中間領域と、
前記第１スペーサ層と同層であり且つそれに接続され、第１部分と第２部分とを含み、ただし、前記第１部分と前記第２部分とは、前記第１基板に平行する面における、前記第１光透過領域から前記第２光透過領域までの方向に垂直する方向において互いに対向し、前記中間領域は、前記第１部分と前記第２部分との間に位置する第３スペーサ層と、
前記第１部分に沿って並んでおり且つ互いに隔てられ、ただし、複数の第４支持柱の前記第１基板における正投影は、前記第１部分の前記第１基板における正投影内に位置する複数の第４支持柱と、
前記第２部分に沿って並んでおり且つ互いに隔てられ、ただし、前記第１基板における正投影は、前記第２部分の前記第１基板における正投影内に位置し、前記第１基板に垂直する方向において、前記複数の第４支持柱と、複数の第５支持柱とは、前記複数の第２支持柱と同層に設けられ、前記複数の第４支持柱のそれぞれの形状と寸法、及び、前記複数の第５支持柱のそれぞれの形状と寸法は、前記複数の第２支持柱のそれぞれの形状と寸法と同じである複数の第５支持柱とをさらに含む、請求項１１又は１２に記載の表示パネル。

【請求項19】

前記第１部分の前記中間領域に近接する側に位置し、前記第１部分に沿って並んでおり且つ互いに隔てられる複数の第６支持柱と、
前記第２部分の前記中間領域に近接する側に位置し、前記第２部分に沿って並んでおり且つ互いに隔てられる複数の第７支持柱とをさらに含み、
前記第１基板に垂直する方向において、前記複数の第６支持柱と、前記複数の第７支持柱とは、前記複数の第１支持柱と同層に設けられ、前記複数の第６支持柱のそれぞれの形状と寸法、及び、前記複数の第７支持柱のそれぞれの形状と寸法は、前記複数の第１支持柱のそれぞれの形状と寸法と同じである、請求項１８に記載の表示パネル。

【請求項20】

前記第１部分と前記第２部分との平面形状は、いずれも直線セグメントであり且つ互いに平行する、請求項１８又は１９に記載の表示パネル。

【請求項21】

前記ブラックマトリクスは、前記中間領域を被覆し、前記中間領域内の構造は、前記第３領域内の構造と同じである、請求項１８～２０のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項22】

前記中間領域は、中間表示領域であり、前記中間表示領域は、アレイ状に配列される複数の中間画素を含み、前記複数の中間画素のそれぞれは、複数のカラー中間サブ画素を含み、前記ブラックマトリクスは、前記中間表示領域に前記複数のカラー中間サブ画素を画定し、前記中間表示領域の光透過率は、表示領域の光透過率以下である、請求項１８～２０のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項23】

前記保護層は、前記中間表示領域をさらに被覆し、
前記中間表示領域を被覆する前記保護層の部分が前記第１基板に垂直する方向における厚さは、前記表示領域を被覆する前記保護層の部分が前記第１基板に垂直する方向における厚さよりも大きい、請求項２２に記載の表示パネル。

【請求項24】

前記中間表示領域に位置し、アレイ状に配列される複数の中間スペーサをさらに含み、
前記複数の中間スペーサの構造は、前記表示領域における前記複数のスペーサの構造と同じである、請求項２２又は２３に記載の表示パネル。

【請求項25】

前記中間表示領域に位置し、アレイ状に配列される複数の中間スペーサをさらに含み、
前記中間表示領域における複数の中間スペーサの配列密度は、前記表示領域における前記複数のスペーサの配列密度よりも小さい、請求項２２～２４のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項26】

前記光電センサ領域は、少なくとも３つの光透過領域と補助機能領域とを含み、前記少なくとも３つの光透過領域と、前記補助機能領域とは、２×２マトリクス状に配列され、前記２×２マトリクスの第１行と第２行との間の間隔と、前記２×２マトリクスの第１列と第２列との間の間隔は、十字状領域を構成し、前記十字状領域内の構造は、前記中間領域内の構造と同じである、請求項１８～２５のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項27】

前記表示パネルは、液晶表示パネルであり、第１基板は、アレイ基板であり、第２基板は、カラーフィルタ基板であり、又は、
前記表示パネルは、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示パネルであり、前記第１基板は、アレイ基板であり、前記第２基板は、パッケージカバープレートである、請求項１～２６のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項28】

請求項１～２７のいずれか１項に記載の表示パネルを含む表示装置。

【請求項29】

前記第２基板の前記第１基板から離れる側は、表示側であり、
前記表示装置は、
前記光透過領域に位置し且つ前記第１基板の前記第２基板から離れる側に位置し、前記表示側からの光を受け取るように構成される光電センサデバイスをさらに含む、請求項２８に記載の表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

［関連出願の相互参照］
本願は、２０２０年３月３１日に提出された出願番号が第２０２０１０２４３９７８．６である中国特許出願の優先権を主張し、ここで、上記中国特許出願に開示されている内容の全体が本願の一部として援用される。

【0002】

本開示の少なくとも一つの実施例は、表示パネル及び表示装置に関する。

【背景技術】

【0003】

一般的には、表示デバイス（例えば、携帯電話、タブレットパソコン等）は、光電センサ装置、例えば撮像装置、指紋認識装置を有し、当該撮像装置は、一般的には、表示画面の表示領域外の一側に設けられる。しかし、撮像装置の取り付けには一定の位置が必要となるため、表示画面の全画面化、狭額縁設計に不利である。例えば、撮像装置と表示画面の表示領域とを結合してもよく、表示領域において、撮像装置（例えば前置撮像装置）のために位置を保留することによって、表示画面の表示領域の最大化を取得する。デバイスによって受け取られた信号強度を確保するために、当該撮像装置のために保留された位置は、高透過率を備える必要がある。撮像装置の撮影効果を確保するために、当該撮像装置のために保留された位置は、比較的に高い均一性を備える必要がある。

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0004】

本開示の少なくとも一つの実施例は、表示パネルを提供する。当該表示パネルは、表示領域と、光電センサ領域と、複数のスペーサと、複数の第１支持柱と、複数の第２支持柱と、複数の第３支持柱とを含む。前記表示領域は、前記光電センサ領域の外側に位置し、前記表示領域は、アレイ状に配列される複数の画素を含み、複数の画素のうちの各画素は、複数のカラーサブ画素を含み、前記光電センサ領域は、光透過領域と、前記光透過領域を取り囲むフレーム領域とを含み、前記フレーム領域は、第１領域と、第２領域と、第３領域とを含む。第１領域は、前記光透過領域を取り囲み、第２領域は、前記第１領域の前記光透過領域から離れる側に位置し、且つ前記第１領域を取り囲み、第３領域は、前記第２領域の前記光透過領域から離れる側に位置し、且つ第２領域と前記表示領域との間に位置することにより、前記第２領域と前記表示領域とを隔て、複数のスペーサがアレイ状に配列され、前記複数のスペーサは、前記表示領域内に位置するが、前記光透過領域内に位置せず、複数の第１支持柱は、前記第１領域内に位置し、前記光透過領域の周りに並んでおり且つ互いに隔てられ、複数の第２支持柱は、前記第２領域内に位置し、前記第２領域の周りに並んでおり且つ互いに隔てられ、複数の第３支持柱は、前記第３領域内に位置し且つアレイ状に配列される。

【0005】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルは、第１基板と、第２基板と、ブラックマトリクスと、保護層とをさらに含む。第２基板は、前記第１基板に対向し、ブラックマトリクスは、前記第２基板の前記第１基板に近接する側に位置し、前記フレーム領域を被覆し、且つ前記表示領域に前記複数のカラーサブ画素を画定し、前記複数のスペーサと、前記複数の第１支持柱と、前記複数の第２支持柱と、前記複数の第３支持柱との前記第１基板における正投影は、前記ブラックマトリクスの前記第１基板における正投影内に位置し、保護層は、前記第２基板上に位置し且つ前記ブラックマトリクスの前記第１基板に近接する側に位置し、前記フレーム領域と前記表示領域とを被覆し、ただし、前記複数のスペーサと、前記複数の第１支持柱と、前記複数の第２支持柱と、前記複数の第３支持柱とは、前記第１基板と前記保護層との間に位置することにより、前記第１基板と前記第２基板との間の距離を維持する。

【0006】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルは、第１スペーサ層をさらに含み、それは、前記第２領域に位置し且つ前記ブラックマトリクスと前記保護層との間に位置し、前記複数の第２支持柱の前記第１基板における正投影は、前記第１スペーサ層の前記第１基板における正投影内に位置する。

【0007】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記第１スペーサ層の平面配列図形は、前記第１領域を取り囲むクローズド環状である。

【0008】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記第１領域において、前記保護層は、前記ブラックマトリクスと直接接触し、前記保護層は、前記第１領域内に階段構造を有し、前記階段構造は、前記第２領域から離れる第１部分と、前記第２領域に近接する第２部分とを含み、前記第１基板に垂直する方向において、前記第１部分の高さは、前記第２部分の高さよりも小さく、前記第１支持柱の高さは、前記第２支持柱の高さよりも大きい。

【0009】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記複数の第１支持柱の平面配列図形は、少なくとも一つ環状を含む。

【0010】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記複数の第１支持柱の平面配列図形は、複数の同心環を含み、前記同心環の径方向に沿って、前記複数の同心環における第１支持柱が整列されるか、又は前記複数の同心環のうちの隣接する同心環における第１支持柱が交錯する。

【0011】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記複数の第１支持柱の前記第１基板における正投影の総面積と、前記複数の第２支持柱の前記第１基板における正投影の総面積との比は、５～１０である。

【0012】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、同一の前記同心環に位置する前記複数の第１支持柱のうち、隣接する２つの第１支持柱の中心の間の距離は、前記表示領域の一つの画素の長さ又は幅と等しい。

【0013】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルは、第２スペーサ層をさらに含み、それは、前記第３領域に位置し且つ前記ブラックマトリクスと前記保護層との間に位置し、前記複数の第３支持柱の前記第１基板における正投影は、前記第２スペーサ層の前記第１基板における正投影内に位置する。

【0014】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記第１スペーサ層は、前記第２スペーサ層と一体的に成形されるか、又は前記保護層によって互いに隔てられる。

【0015】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにはカラーフィルム層が含まれ、カラーフィルム層は、前記第２基板の前記第１基板に近接する側に位置し、且つ第１部分と、第２部分と、第３部分とを含み、前記カラーフィルム層の第１部分は、前記表示領域の複数のカラーサブ画素中に位置し、且つ、前記カラーフィルム層の第１部分の前記第１基板における正投影は、前記ブラックマトリクスの前記第１基板における正投影と重ならず、前記カラーフィルム層の第２部分は、前記第２領域中に位置し且つ前記第１スペーサ層として構成され、且つ、前記カラーフィルム層の第２部分の前記第１基板における正投影は、前記ブラックマトリクスの前記第１基板における正投影と重なり、前記カラーフィルム層の第３部分は、前記第３領域中に位置し且つ前記第２スペーサ層として構成される。

【0016】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記表示領域に位置する前記複数のスペーサは、複数の主スペーサと複数の副スペーサとを含み、前記主スペーサが前記第１基板に垂直する方向における高さは、前記副スペーサが前記第１基板に垂直する方向における高さよりも大きく、前記複数の第２支持柱のそれぞれの形状と寸法、及び、前記複数の第３支持柱のそれぞれの形状と寸法は、前記複数の副スペーサのそれぞれの形状と寸法と同じであり、前記複数の第１支持柱のそれぞれの形状と寸法は、前記複数の主スペーサのそれぞれの形状と寸法と同じである。

【0017】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルは、バッファ層と駆動回路層とをさらに含む。バッファ層は、前記第１基板の前記第２基板に近接する側に位置し、且つ前記第１基板と直接接触し、駆動回路層は、前記バッファ層の前記第１基板から離れる側に位置し、且つ前記表示領域と前記フレーム領域に位置し、ただし、前記複数のスペーサと、前記複数の第１支持柱と、前記複数の第２支持柱と、前記複数の第３支持柱とは、いずれも前記駆動回路層と前記保護層との間に位置し、前記光透過領域には駆動回路層が設けられておらず、前記駆動回路層の光透過領域に近接する周縁は、前記第１領域に位置するか、又は前記光透過領域と前記第１領域との境界部に位置する。

【0018】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記光透過領域において、前記バッファ層と前記第２基板との間に第１液晶層が設けられ、前記第１液晶層は、バッファ層と直接接触する。

【0019】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記フレーム領域と前記表示領域において、前記保護層と駆動回路層との間に第２液晶層が設けられ、前記第１液晶層における液晶と、前記第２液晶層における液晶とは、前記複数の第１支持柱の間の間隔と、前記複数の第２支持柱の間の間隔と、前記複数の第３支持柱の間の間隔とを介して連通する。

【0020】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記保護層は、前記光透過領域をさらに被覆し、前記光透過領域において、前記保護層は、前記第２基板と直接接触し、前記第１液晶層は、前記バッファ層と前記保護層との間に位置し且つ前記保護層と直接接触する。

【0021】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記光透過領域には液晶層が設けられておらず、前記光透過領域において、前記第２基板と前記バッファ層との間に空気が充填され、前記表示パネルは、第１シーラントを含み、前記第１シーラントは、前記第２基板と前記バッファ層との間に位置し、光透過領域を取り囲み且つ前記バッファ層と前記保護層と直接接触する。

【0022】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルは、複数の前記光透過領域を含み、隣接する２つの前記光透過領域は、それぞれ第１光透過領域と第２光透過領域であり、前記表示パネルは、中間領域と、第３スペーサ層と、複数の第４支持柱と、複数の第５支持柱とを含む。中間領域は、前記第１光透過領域を取り囲む第２領域と、前記第２光透過領域を取り囲む第２領域との間に位置し、第３スペーサ層は、前記第１スペーサ層と同層であり且つそれに接続され、第１部分と第２部分とを含み、ただし、前記第１部分と前記第２部分とは、互いに対向し、前記中間領域は、前記第１部分と前記第２部分との間に位置し、複数の第４支持柱は、前記第１部分に沿って並んでおり且つ互いに隔てられ、ただし、前記複数の第４支持柱の前記第１基板における正投影は、前記第１部分の前記第１基板における正投影内に位置し、複数の第５支持柱は、前記第２部分に沿って並んでおり且つ互いに隔てられ、ただし、前記複数の第５支持柱の前記第１基板における正投影は、前記第２部分の前記第１基板における正投影内に位置し、前記第１基板に垂直する方向において、前記複数の第４支持柱と、前記複数の第５支持柱とは、前記複数の第２支持柱と同層に設けられ、前記複数の第４支持柱のそれぞれの形状と寸法、及び、前記複数の第５支持柱のそれぞれの形状と寸法は、前記複数の第２支持柱のそれぞれの形状と寸法と同じである。

【0023】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルは、複数の第６支持柱と複数の第７支持柱とをさらに含む。複数の第６支持柱は、前記第１部分の前記中間領域に近接する側に位置し、前記第１部分に沿って並んでおり且つ互いに隔てられ、複数の第７支持柱は、前記第２部分の前記中間領域に近接する側に位置し、前記第２部分に沿って並んでおり且つ互いに隔てられ、前記第１基板に垂直する方向において、前記複数の第６支持柱と、前記複数の第７支持柱とは、前記複数の第１支持柱と同層に設けられ、前記複数の第６支持柱のそれぞれの形状と寸法、及び、前記複数の第７支持柱のそれぞれの形状と寸法は、前記複数の第１支持柱のそれぞれの形状と寸法と同じである。

【0024】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記第１部分と前記第２部分との平面形状は、いずれも直線セグメントであり且つ互いに平行する。

【0025】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記ブラックマトリクスは、前記中間領域を被覆し、前記中間領域内の構造は、前記第３領域内の構造と同じである。

【0026】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記中間領域は、中間表示領域であり、前記中間表示領域は、アレイ状に配列される複数の中間画素を含み、前記複数の中間画素のそれぞれは、複数のカラー中間サブ画素を含み、前記ブラックマトリクスは、前記中間表示領域に前記複数のカラー中間サブ画素を画定し、前記中間表示領域の光透過率は、表示領域の光透過率以下である。

【0027】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記保護層は、前記中間表示領域をさらに被覆し、前記中間表示領域を被覆する前記保護層の部分が前記第１基板に垂直する方向における厚さは、前記表示領域を被覆する前記保護層の部分が前記第１基板に垂直する方向における厚さよりも大きい。

【0028】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルは、複数の中間スペーサをさらに含み、それは、前記中間表示領域に位置し、アレイ状に配列され、前記複数の中間スペーサの構造は、前記表示領域における前記複数のスペーサの構造と同じである。

【0029】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルは、複数の中間スペーサをさらに含む。複数の中間スペーサは、前記中間表示領域に位置し、アレイ状に配列され、前記中間表示領域における複数の中間スペーサの配列密度は、前記表示領域における前記複数のスペーサの配列密度よりも小さい。

【0030】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記光電センサ領域は、少なくとも３つの光透過領域と補助機能領域とを含み、前記少なくとも３つの光透過領域と、前記補助機能領域とは、２×２マトリクス状に配列され、前記２×２マトリクスの第１行と第２行との間の間隔と、前記２×２マトリクスの第１列と第２列との間の間隔は、十字状領域を構成し、前記十字状領域内の構造は、前記中間領域内の構造と同じである。

【0031】

例えば、本開示の一つの実施例による表示パネルにおいて、前記表示パネルは、液晶表示パネルであり、第１基板は、アレイ基板であり、第２基板は、カラーフィルタ基板であり、又は、前記表示パネルは、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示パネルであり、前記第１基板は、アレイ基板であり、前記第２基板は、パッケージカバープレートである。

【0032】

本開示の一つの実施例は、表示装置を提供する。当該表示装置は、本開示の実施例によるいずれか一つの表示パネルを含む。

【0033】

例えば、本開示の一つの実施例による表示装置において、前記第２基板の前記第１基板から離れる側は、表示側であり、前記表示装置は、光電センサデバイスをさらに含む。光電センサデバイスは、前記光透過領域に位置し且つ前記第１基板の前記第２基板から離れる側に位置し、前記表示側からの光を受け取るように構成される。

【0034】

本発明の実施例の技術案をより明瞭に説明するために、以下は、本実施例の添付図面を簡単に紹介し、自明なことに、以下の記述における添付図面は、本発明のいくつかの実施例のみに関し、本発明に対する制限ではない。

【図面の簡単な説明】

【0035】

【図1A】本開示の一つの実施例による表示パネルの全体的な平面概略図である。

【図1B】本開示の一つの実施例による別の表示パネルの全体的な平面概略図である。

【図1C】本開示の一つの実施例によるさらに別の表示パネルの全体的な平面概略図である。

【図2A】図１Ａにおける光電センサ領域及びその周辺領域の拡大概略図である。

【図2B】図１Ａにおける光電センサ領域及びその周辺領域の別の拡大概略図である。

【図3A】図２ＡにおけるＡ－Ａ’線に沿う断面概略図である。

【図3B】本開示の実施例による表示パネルの駆動回路層を含む局所的第１方向に沿う断面概略図である。

【図3C】図３Ｂに示される駆動回路層の局所的第２方向に沿う断面概略図である。

【図3D】図２ＡにおけるＡ－Ａ’線に沿う別の断面概略図である。

【図4】図２ＡにおけるＡ－Ａ’線に沿うさらに別の断面概略図である。

【図5】図２ＡにおけるＡ－Ａ’線に沿うまたさらに別の断面概略図である。

【図6A】本開示の一つの実施例による別の表示パネルの全体的な平面概略図である。

【図6B】本開示の一つの実施例によるさらに別の表示パネルの全体的な平面概略図である。

【図6C】本開示の一つの実施例によるまたさらに別の表示パネルの全体的な平面概略図である。

【図6D】本開示の一つの実施例によるまたさらに別の表示パネルの全体的な平面概略図である。

【図7A】図６Ａにおける光電センサ領域及びその周辺領域の拡大概略図である。

【図7B】図７ＡにおけるＢ－Ｂ’線に沿う断面概略図である。

【図8A】図６Ａにおける光電センサ領域及びその周辺領域の別の拡大概略図である。

【図8B】図８ＡにおけるＣ－Ｃ’線に沿う断面概略図である。

【図9】本開示の一つの実施例による表示パネルの製作方法概略図である。

【図10】本開示の一つの実施例による表示装置の概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0036】

本発明の実施例の目的、技術案及び利点をさらに明確に説明するために、以下、本発明の実施例の図面を参照して、本発明の実施例の技術案について明確かつ完全に説明する。記載された実施例は、本発明の一部の実施例であり、全ての実施例ではないことは、明らかである。記載された本発明の実施例に基づいて、当業者が創造的な労働をせずに取得するその他の実施例は、いずれも本発明の保護範囲に含まれる。

【0037】

特に定義されない限り、ここで使用される技術用語又は科学用語は、当業者が理解する通常の意味である。本発明の明細書及び特許請求の範囲で使用される「第１」、「第２」及び類似する語は、何らかの順序、数量又は重要性を示すものではなく、異なる構成部分を区別するためのものにすぎない。「含む」や「含まれる」などの類似する語は、当該語の前に出現した素子や物が当該語の後に挙げられる素子や物、及びそれらの均等物を含むことを意味するが、その他の素子や物を排除するものではない。「内」、「外」、「上」、「下」などは、相対位置関係を示すためのものにすぎず、説明対象の絶対位置が変わると、当該相対位置関係もそれに応じて変わる可能性がある。

【0038】

本開示における添付図面は、厳密に実際の比率で描かれているものではなく、様々な支柱の数は、図に示された数に限定されるものではなく、各構造の具体的な寸法と数は、実際の必要に応じて決定されてもよい。本開示に記載される添付図面は、構造概略図にすぎない。

【0039】

光電センサ装置例えば撮像装置又は指紋認識装置を有する表示パネル、例えば液晶表示パネルにおいて、一般的には、撮像装置が設けられる領域において、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間に位置するスペーサを設けて、当該領域のセルギャップ及び構造の安定性を維持することができ、それにより、使用プロセスにおいて当該領域の均一性を向上させることにより、比較的に高い撮像装置の撮影効果の確保に有利である。このように、スペーサは、光が当該領域を透過して光電センサデバイスに到達することを妨げることにより、撮像装置が設けられる領域の光透過率が比較的に低い。一般的には、撮像装置が設けられる領域中に、信号線、フィルムトランジスタ、ストレージコンデンサ等を含む画素回路のような駆動回路がさらに設けられる。

【0040】

本開示の少なくとも一つの実施例は、表示パネルを提供する。当該表示パネルは、表示領域と、光電センサ領域と、複数のスペーサと、複数の第１支持柱と、複数の第２支持柱と、複数の第３支持柱とを含む。前記表示領域は、前記光電センサ領域の外側に位置し、前記表示領域は、アレイ状に配列される複数の画素を含み、複数の画素のうちの各画素は、複数のカラーサブ画素を含み、前記光電センサ領域は、光透過領域と、前記光透過領域を取り囲むフレーム領域とを含み、前記フレーム領域は、第１領域と、第２領域と、第３領域とを含む。第１領域は、前記光透過領域を取り囲み、第２領域は、前記第１領域の前記光透過領域から離れる側に位置し、且つ前記第１領域を取り囲み、第３領域は、前記第２領域の前記光透過領域から離れる側に位置し、且つ第２領域と前記表示領域との間に位置することにより、前記第２領域と前記表示領域とを隔て、複数のスペーサがアレイ状に配列され、前記複数のスペーサは、前記表示領域内に位置するが、前記光透過領域内に位置せず、複数の第１支持柱は、前記第１領域内に位置し、前記光透過領域の周りに並んでおり且つ互いに隔てられ、複数の第２支持柱は、前記第２領域内に位置し、前記第２領域の周りに並んでおり且つ互いに隔てられ、複数の第３支持柱は、前記第３領域内に位置し且つアレイ状に配列される。

【0041】

なお、本開示において、図３Ａ、図３Ｄ、図４と図５における第１支持柱４１、第２支持柱４２と第３支持柱４３の数は、図２Ａと図２Ｂにおける数に完全に対応しておらず、本開示のこれらの添付図面は、記載された各構造の間の構造関係を表すための概略図に過ぎない。図２Ａと図２Ｂにおいて、寸法制限のため、主スペーサ４０１と副スペーサ４０２とがブラックマトリクスへの正投影は、ブラックマトリクス内に完全に位置しないように見え、実際には、本開示の実施例では、主スペーサ４０１と副スペーサ４０２とがブラックマトリクスへの正投影は、ブラックマトリクス内に完全に位置しないように見え、特許請求の範囲と明細書の文字記述を基準として、当該添付図面は、各構造を表す平面配列図に過ぎない。

【0042】

例示的に、図１Ａは、本開示の一つの実施例による表示パネルの全体的な平面概略図であり、図２Ａは、図１Ａにおける光電センサ領域及びその周辺領域の拡大概略図であり、図３Ａは、図２ＡにおけるＡ－Ａ線に沿う断面概略図である。図１Ａに示すように、表示パネルは、表示領域３と光電センサ領域２０とを含む。表示領域３は、光電センサ領域２０の外側に位置し、例えば表示領域３は、少なくとも一部の光電センサ領域２０を取り囲む。例えば、図１Ａに示される実施例では、表示領域３は、光電センサ領域２０全体を取り囲み、他の実施例では、表示領域３は、一部の光電センサ領域２０を取り囲んでもよい。例えば図１Ｂに示すように、光電センサ領域２０は、表示パネルの頂角位置に位置し、表示領域３も光電センサ領域２０の一部を取り囲み、また図１Ｃに示すように、光電センサ領域２０は、表示パネルの周縁に位置し、且つ表示パネルの外輪郭の一辺の中間位置に位置し、当該辺に近接する光電センサ領域２０の一端は、当該辺の付近の非表示領域に接続され、表示領域３は、非表示領域と接触する一端以外の光電センサ領域２０の他の部分を取り囲む。図１Ａ－１Ｃに示される状況は、例示的なものに過ぎず、表示領域３と光電センサ領域２０との具体的な位置関係は、図１Ａ－１Ｃに示される状況に限られず、表示領域３が少なくとも一部の光電センサ領域２０を取り囲むことを満たしていればよい。

【0043】

図２Ａと図３Ａを結び付けて、当該表示パネルは、複数のスペーサ４０と、複数の第１支持柱４１と、複数の第２支持柱４２と、複数の第３支持柱４３とを含む。表示領域３は、光電センサ領域２０の外側に位置し、表示領域３は、アレイ状に配列される複数の画素８を含み、複数の画素８における各画素は、複数のカラーサブ画素を含み、例えば第１サブ画素８１と、第２サブ画素８２と、第３サブ画素８３とを含み、例えば第１サブ画素８１、第２サブ画素８２と第３サブ画素８３は、赤色光、青色光、緑色光をそれぞれ透過する。光電センサ領域２０は、光透過領域１と、光透過領域１を取り囲むフレーム領域２とを含み、フレーム領域は、第１領域２１と、第２領域２２と、第３領域２３とを含む。第１領域２１は、光透過領域１を取り囲み、第２領域２２は、第１領域２１の光透過領域１から離れる側に位置し、すなわち第２領域２２は、光透過領域１の外側に位置し、且つ第１領域２１を取り囲み、第３領域２３は、第２領域２２の光透過領域１から離れる側に位置し、且つ第２領域２２と表示領域３との間に位置することにより、第２領域２２と表示領域３とを隔て、複数のスペーサ４０は、アレイ状に配列され、複数のスペーサ４０は、表示領域３内に位置するが、光透過領域１内に位置せず、複数の第１支持柱４１は、第１領域２１内に位置し、光透過領域１の周りに並んでおり且つ互いに隔てられ、複数の第２支持柱４２は、第２領域２２内に位置し、第２領域２２の周りに並んでおり且つ互いに隔てられ、複数の第３支持柱４３は、第３領域２３内に位置し且つアレイ状に配列される。当該表示パネルにおいて、複数のスペーサ４０が表示領域３内に位置するが、光透過領域１内に位置しないため、光透過領域１の光透過率が明らかに向上する。光透過領域１の内部にスペーサの支持がないが、フレーム領域２に位置して互いに隔てられる複数の第１支持柱４１と、第２支持柱４２とは、光透過領域１の周辺の安定性を維持し、それにより、光透過領域１の空間の安定性を維持し、光透過領域１の領域安定性を向上させ、それにより、光透過領域１の光透過率と光透過領域１から透過する光の色の均一性と安定性を向上させることができる。且つ、第１領域２１、第２領域２２と第３領域２３に液晶が設けられる場合、当該方案において、複数の第１支持柱４１が互いに隔てられ且つ複数の第２支持柱４２が互いに隔てられ、それにより、光透過領域１における液晶は、複数の第１支持柱４１の間の間隔と、複数の第２支持柱４２の間の間隔とを介して流れることができ、それにより、光透過領域１における液晶と、他の領域例えば第１領域２１と第２領域２２における液晶との間の流動性を確保する。環境温度が変化する場合、液晶の体積が変化し、複数の第１支持柱４１の高さ、複数の第２支持柱４２の高さも同期に変化することにより、液晶の体積は、セルギャップにマッチングし、光透過領域１内に任意の支持柱も設けられていないため、液晶の流動性を保持することは、光透過領域１内の液晶の体積がセルギャップにマッチングしないことによる表示異常を避けることができる。また、当該表示パネルを製作するプロセスにおいて、表示パネルが液晶表示パネルである場合、液晶を灌入するステップにおいて、光透過領域１の面積は、液晶を滴下する液晶滴に対して非常に微小であり、液晶を光透過領域１に正確に直接滴下しにくいため、液晶を表示領域３等の比較的に大きい領域に滴下してもよく、液晶は、第２領域２２と第１領域２１とを順次に経由し、且つ複数の第１支持柱４１の間の間隔と、複数の第２支持柱４２の間の間隔とを経由して光透過領域１中に流入し、光透過領域１中に液晶を充填することを実現する。複数の第１支持柱４１又は複数の第２支持柱４２が光透過領域１全体を取り囲むクローズド環状である場合、上記技術的効果を達成することができない。また、第３領域２３において、複数の第３支持柱４３も互いに隔てられ、第３領域２３は、第１領域２１と第２領域２２の外側（すなわち光透過領域から離れる一側）に位置し且つ少なくとも一部の光透過領域１を取り囲み、そのため第３領域２３は、より表示領域３に近接し、例えば表示領域３と隣接し、表示領域３中にアレイ状に配列される複数のスペーサが設けられることにより、第３領域２３にアレイ状に配列される複数の第３支持柱４３を設ければ、表示領域３と隣接する第３領域２３の構造は、表示領域３の構造と一致する傾向があり、セルギャップも一致する傾向があり、それにより、第３領域２３は、フレーム領域２から表示領域３までの遷移領域とすることができ、それにより、フレーム領域２に近接する表示領域３の周縁領域と、表示領域３の中間領域との構造は、均一で一致し、それにより、表示領域３全体の範囲内に均一な表示効果を取得する。例えば第３領域２３は、ｄｕｍｍｙ領域であり、それにより、表示領域３と光電センサ領域２０との境界の周縁部分の均一性を維持する。

【0044】

例えば、第３領域２３にアレイ状に配列される複数の第３支持柱４３の配列密度とアレイ形式は、表示領域３におけるアレイ状に配列される複数のスペーサの配列密度とアレイ形式と同じであり、それにより、表示領域３と隣接する第３領域２３の構造は、表示領域３の構造と一致する傾向があり、フレーム領域２に近接する表示領域３の周縁領域と、表示領域３の中間領域との構造は、均一で一致し、表示領域３全体の範囲内に均一な表示効果を取得することにさらに有利である。もちろん、他の実施例では、第３領域２３にアレイ状に配列される複数の第３支持柱４３の配列密度とアレイ形式は、表示領域３におけるアレイ状に配列される複数のスペーサの配列密度とアレイ形式と異なってもよい。

【0045】

例えば、第２基板１０２の第１基板１０１から離れる側は、表示側である。図３Ａに示すように、例えば第１基板１０１の第２基板１０２から離れる側に光電センサデバイス１５を設けてもよく、光電センサデバイス１５は、表示側からの光を受け取るように構成され、すなわち表示側からの光は、光透過領域を経て光電センサデバイス１５に到達することにより、光透過領域１における構造は、光透過率のサイズと光透過色の均一性に影響を与え、それにより、光電センサデバイス１５によって受け取られた光の量、光の輝度の均一性及び色の均一性に影響を与える。

【0046】

例えば、第１支持柱４１の配列密度は、第２支持柱４２の配列密度よりも大きく、すなわち、隣接する２つの第１支持柱４１の間の距離は、隣接する２つの第２支持柱４２の間の距離よりも小さく、より光透過領域１に近接する第１領域２１により安定的な支持を提供する。

【0047】

例えば、表示領域３における副スペーサ４０２の配列密度は、いずれも２８７／２８８であり、すなわち、表示領域３に各２８８個のサブ画素に対応して２８７個の副スペーサ４０２が設けられ、主スペーサ４０１の配列密度は、１／２８８であり、すなわち、表示領域３に各２８８個のサブ画素に対応して１つの主スペーサ４０１が設けられる。例えば、第３領域２３における第３支持柱４３の配列密度は、副スペーサ４０２の配列密度と同じであり、それにより、第３領域２３の支持柱の配列及びセルギャップは、表示領域３のスペーサの配列及びセルギャップとそれぞれ一致する。

【0048】

例えば、図３Ａに示すように、表示パネルは、第１基板１０１と、第２基板１０２と、ブラックマトリクス５と、保護層６とをさらに含む。第２基板１０２は、第１基板１０１に対向し、ブラックマトリクス５は、第２基板１０２の第１基板１０１に近接する側に位置し、フレーム領域２を被覆することにより、フレーム領域２は、非透光であり、且つブラックマトリクス５は、表示領域１に上記複数のカラーサブ画素を画定し、複数のスペーサ４０と、複数の第１支持柱４１と、複数の第２支持柱４２と、複数の第３支持柱４３とが第１基板１０１への正投影は、ブラックマトリクス５が第１基板１０１への正投影内に位置することにより、表示領域３内に複数のスペーサ４０が開口率に影響を与えることを避ける。保護層６は、第２基板１０２上に位置し且つブラックマトリクス５の第１基板１０１に近接する側に位置し、フレーム領域２と表示領域３とを被覆することにより、フレーム領域２と表示領域３中の第２基板１０２上の複数のサブ画素とブラックマトリクスを保護する。複数のスペーサ４０と、複数の第１支持柱４１と、複数の第２支持柱４２と、複数の第３支持柱４３とは、第１基板１０１と保護層６との間に位置することにより、第１基板１０１と第２基板１０２との間のセルギャップを維持する。

【0049】

例えば、表示パネルは、第１スペーサ層７１をさらに含み、第２領域２２に位置し且つブラックマトリクス５と保護層６との間に位置し、複数の第２支持柱４２が第１基板１０１への正投影は、第１スペーサ層７１が第１基板１０１への正投影内に位置する。表示パネルの製作プロセスを簡略化するために、同一のマスクを利用して同一の膜層に対して一回のパターンニングプロセスを行って第２支持柱４２と、第３支持柱４３と、表示領域３の副スペーサ４０２とを形成してもよく、そのため、第２支持柱４２が第１基板１０１に垂直する方向における高さと、第３支持柱４３が第１基板１０１に垂直する方向における高さと、表示領域３の副スペーサ４０２高さとは、同じである。このような場合、第２支持柱４２が第１基板１０１に垂直する方向における高さｈ_２が限られ、ｈ_２は、第１スペーサ層７１が第１基板１０１に垂直する方向における厚さと重ね合されることにより、各第２支持柱４２と第１スペーサ層７１とは、第２領域２２において、必要とする第１基板１０１と第２基板１０２との間の距離をともに維持する。第２支持柱４２が力を受けて変形が発生して高さが変更する場合、第１スペーサ層７１は、第２領域２２において、必要とする第１基板１０１と第２基板１０２との間の距離を維持することに対するこのような変更の影響を減少することを補助することができる。もちろん、上記製作プロセスを簡略化する状況を考慮しない場合、必要に応じて、第２支持柱４２は、第１基板１０１に垂直する方向における任意の高さを有することができる。

【0050】

例えば、図２Ａに示すように、第１スペーサ層７１の平面配列図形は、第１領域２１を取り囲むクローズド環状であり、それにより、光透過領域１を取り囲む各位置にいずれも光透過領域１の周辺の安定性を維持し、それにより、光透過領域１の光透過率と、光透過領域１から透過する光の色の均一性と安定性を向上させる。

【0051】

例えば、図３Ａに示すように、第１領域２１において、保護層６は、ブラックマトリクス６と直接接触し、すなわち第１領域２１中に第１スペーサ層７１、又は第１スペーサ層７１の高さと同様な他の構造が設けられておらず、第２基板１０２に垂直する方向において、保護層６とブラックマトリクス６との間に任意の他の層又は構造も存在しない。それにより、保護層６は、第１領域２１内に階段構造を有し、階段構造は、第２領域２２から離れる第１部分６１と、第２領域２２に近接する第２部分６２とを含み、第１基板１０１に垂直する方向において、第１部分６１の高さＨ_１は、第２部分６２の高さＨ_２よりも小さく、第１支持柱４１の高さは、第２支持柱４２の高さよりも大きい。光透過領域１から比較的に遠い第２領域２２に第１スペーサ層７１が設けられるが、第１領域２１中に第１スペーサ層７１が設けられていないため、当該階段構造は、光透過領域１内に位置せず、それにより、光透過領域１の光透過均一性への影響を避ける。なお、第１部分６１の高さとは、第２基板１０２から離れる第１部分６１の表面から、第１基板１０１に面する第２基板１０２の表面までの距離であり、第２部分６２の高さとは、第２基板１０２から離れる第２部分６２の表面から、第１基板１０１に面する第２基板１０２の表面までの距離である。

【0052】

例えば、複数の第１支持柱４１の平面配列図形は、全体的に少なくとも一つの環状を含む。例えば、図２Ａに示すように、複数の第１支持柱４１の平面配列図形は、全体的に複数の同心環、例えば２つの同心環を含み、第１支持柱４１の寸法とフレーム領域２の面積を比較することによって、第１支持柱４１の数を決定することができ、それにより、異なる寸法の表示パネルに基づいて設計し、比較的に高い支持効果を達成し、以下で具体的に紹介する。例えば、各同心環の形状は、同心環によって取り囲まれる光透過領域１の平面形状と一致し、それにより、複数の第１支持柱４１が光透過領域１の周辺の安定性をより良く維持することに有利である。例えば本実施例では、光透過領域１の平面形状と、各同心環の形状とは、いずれも円形であり、他の実施例では、光透過領域１の平面形状が矩形である場合、各同心環の形状も矩形であり、光透過領域１の平面形状が楕円形である場合、各同心環の形状も楕円形である。上記列挙された状況は、例示的なものに過ぎず、本開示の実施例は、光透過領域１の平面形状と各同心環の形状を限定しない。

【0053】

例えば、複数の同心環の径方向に沿って、複数の同心環における第１支持柱４１が整列され、図２Ａに示すように、光透過領域１に近接する第１同心環中に位置する第１支持柱４１１は、光透過領域１から離れる第２同心環中に位置する第１支持柱４１２と径方向に沿って整列され、又は、複数の同心環の径方向に沿って、複数の同心環のうちの隣接する同心環における第１支持柱４１が交錯し、図２Ｂに示すように、図２Ｂにおいて、光透過領域１に近接する第１同心環中に位置する第１支持柱４１１は、光透過領域１から離れて第１同心環と隣接する第２同心環中に位置する第１支持柱４１２と交錯して設けられ、すなわち径方向に沿って整列されておらず、それにより、より高い支持効果を達成し、隣接する同心環上の第１支持柱４１の支持作用は、位置において相補することにより、光透過領域１を取り囲む各位置にいずれも均一で一致する支持効果を達成し、光透過領域１の均一性と安定性をよりよく維持する。図２Ｂに示される実施例の他の言及されていない特徴は、いずれも図２Ａにおけるものと同じであり、図２Ａに示される実施例に対する記述を参照する。

【0054】

例えば、複数の第１支持柱４１が第１基板１０１への正投影の総面積と、複数の第２支持柱４２が第１基板１０１への正投影の総面積との比は、５～１０であり、試験を経て、このように、比較的に高い支持効果を達成することができる。例えば、複数の第１支持柱４１が第１基板１０１への正投影の総面積と、フレーム領域２の面積との比は、０．４％～０．６％であり、複数の第２支持柱４２が第１基板１０１への正投影の総面積と、フレーム領域２の面積との比は、０．０６％～０．０８％であり、実験と計算を経て、このように、比較的に高い支持効果と均一で調和のとれた構造設計に達することができる。例えば、フレーム領域２の平面形状が円環である場合、フレーム領域の面積Ｓは、円環面積の計算式で計算され、Ｓ＝π×（ａ^２－ｂ^２）／４、ただし、ａは、フレーム領域の外環が位置する円の直径であり、ｂは、フレーム領域の内環が位置する円の直径である。フレーム領域２の平面形状が他の形状である場合、実際の状況に応じて計算を行うことができる。

【0055】

例えば、同一の同心環に位置する複数の第１支持柱４１のうち、隣接する２つの第１支持柱４１の中心の間の距離は、表示領域３の一つの画素の長さ又は幅と等しい。なお、当該画素とは、複数のサブ画素（例えばＲＧＢ３つのサブ画素を含む）を含む一つの画素ユニットである。フレーム領域２の面積と、一つの第１支持柱４１と、一つの第２支持柱４２の面積とが決定された後、上記比に基づいて第１支持柱４１と第２支持柱４２との数を決定し、計算を経て、同一の同心環に位置する隣接する複数の第１支持柱４１のうち、隣接する２つの第１支持柱４１の中心の間の距離が表示領域３の一つの画素の長さ又は幅と等しい場合、第１支持柱４１と第２支持柱４２の密度が適切であり、製作しやすく、且つ支持安定効果が比較的に高い。例えば、一つの第２支持柱４２の長さと第２支持柱４２と隣接する間隔との和は、１００μｍ～２００μｍである。

【0056】

例えば、図３Ａに示すように、表示パネルは、第２スペーサ層７２をさらに含む。第２スペーサ層７２は、第３領域２３に位置し且つブラックマトリクス５と保護層６との間に位置し、複数の第３支持柱４３が第１基板１０１への正投影は、第２スペーサ層７２が第１基板１０１への正投影内に位置する。表示パネルの製作プロセスを簡略化するために、同一のマスクを利用して同一の膜層に対して一回のパターンニングプロセスを行って第２支持柱４２と、第３支持柱４３と、表示領域３の副スペーサ４０２とを形成してもよく、そのため、第３支持柱４３が第１基板１０１に垂直する方向における高さと、第２支持柱４２が第１基板１０１に垂直する方向における高さと、表示領域３の副スペーサ４０２高さとは、同じである。このような場合、第３支持柱４３が第１基板１０１に垂直する方向における高さｈ_３が限られ、ｈ_３は、第２スペーサ層７２が第１基板１０１に垂直する方向における厚さと重ね合されることにより、各第３支持柱４３と第２スペーサ層７２とは、第３領域２３において、必要とする第１基板１０１と第２基板１０２との間の距離をともに維持する。第３支持柱４３が力を受けて変形が発生して高さが変更する場合、第２スペーサ層７２は、第３領域２３において、必要とする第１基板１０１と第２基板１０２との間の距離を維持することに対するこのような変更の影響を減少することを補助することができる。もちろん、上記製作プロセスを簡略化する状況を考慮しない場合、必要に応じて、第３支持柱４３は、第１基板１０１に垂直する方向における任意の高さを有することができる。

【0057】

例えば、図３Ａに示される実施例では、第１スペーサ層７１と第２スペーサ層７２とは、保護層６によって互いに隔てられ、又は、別の実施例では、図３Ｄに示すように、第１スペーサ層７１と第２スペーサ層７２とは、一体的に成形されることによって、表示パネルの構造を簡略化し、且つ、このような場合、第１スペーサ層７１と第２スペーサ層７２とは、同一の膜層に対して同一のパターンニングプロセスを実行して形成されてもよく、製作プロセスを簡略化する。

【0058】

例えば、図３Ａに示すように、表示パネルは、カラーフィルム層を含み、カラーフィルム層は、第２基板１０２の第１基板１０１に近接する側に位置し、且つ第１部分と、第２部分と、第３部分とを含む。表示領域３に位置するブラックマトリクスの部分は、複数のカラーサブ画素８１／８２／８３を画定し、カラーフィルム層の第１部分は、表示領域３の複数のカラーサブ画素８１／８２／８３中に位置し、複数のカラーサブ画素８１／８２／８３のカラーフィルタ層とする。カラーフィルム層の第２部分は、第２領域２２中に位置し且つ第１スペーサ層７１として構成され、且つ、カラーフィルム層の第２部分が第１基板１０１への正投影は、ブラックマトリクス５が第１基板１０１への正投影と重なる。カラーフィルム層の第３部分は、第３領域２３中に位置し且つ第２スペーサ層７２として構成される。このように、カラーフィルタを形成するための膜層に対して同一のパターンニングプロセスを実行することによって、表示領域３における複数のサブ画素８１／８２／８３におけるカラーフィルタと、第１スペーサ層７１と、第２スペーサ層７２とを同時に形成することができ、製作プロセスと生産効率を簡略化することができる。第１スペーサ層７１と第２スペーサ層７２は、任意の色のカラーフィルタ、例えば赤色、緑色、青色又は白色等であってもよく、本開示の実施例は、これを限定しない。上記実施例では、カラーフィルム層の一部は、第１スペーサ層７１と第２スペーサ層７２として、それにより、表示パネルの製作プロセスを簡略化する。このような場合、例えば、図３Ｄに示される実施例では、表示領域３におけるカラーフィルム層は、第２スペーサ層７２として第３領域２３中に直接延びることができ、もちろん、他の実施例では、表示領域３におけるカラーフィルム層と第２スペーサ層７２とは、切断されてもよい。図３Ｄに示される実施例の他の言及されていない特徴は、いずれも図３Ａにおけるものと同じであり、図３Ａに対する記述を参照してもよい。なお、他の実施例では、第３領域２３中に第２スペーサ層７２が設けられていなくてもよく、又は、第１スペーサ層７１と第２スペーサ層７２としてカラーフィルム層を採用しなくてもよく、他の膜層を別途採用して第１スペーサ層７１と第２スペーサ層７２を製作し、第１スペーサ層７１と第２スペーサ層７２は、有機膜層又は無機膜層であってもよく、当該有機膜層の材料は、例えば樹脂であり、当該無機膜層の材料は、例えば酸化珪素、窒化珪素又はシリカ等である。

【0059】

例えば、表示領域３に位置する複数のスペーサ４０は、複数の主スペーサ４０１と複数の副スペーサ４０２とを含み、主スペーサ４０１が第１基板１０１に垂直する方向における高さｈ_４１は、副スペーサ４０２が第１基板１０１に垂直する方向における高さｈ_４２よりも大きい。複数の第２支持柱４２のそれぞれの形状と寸法、及び、複数の第３支持柱４３のそれぞれの形状と寸法は、複数の副スペーサ４０２のそれぞれの形状と寸法と同じであり、複数の第１支持柱４１のそれぞれの形状と寸法は、複数の主スペーサ４０１のそれぞれの形状と寸法と同じである。このように、各第１支持柱４１が第１基板１０１に垂直する方向における高さｈ_１は、各第２支持柱４２が第１基板１０１に垂直する方向における高さｈ_２よりも大きく、且つ各第１支持柱４１が第１基板１０１に垂直する方向における高さｈ_１は、各第３支持柱４３が第１基板１０１に垂直する方向における高さｈ_３よりも大きく、それにより、第１領域２１中にスペーサ層が設けられていないため、第２領域２２と第３領域２３と発生する段差を補足することができる。且つ、同一のマスクを用いて同一のパターンニングプロセスにおいて複数の第２支持柱４２と、複数の第３支持柱４３と、複数の副スペーサ４０２とを形成することができ、且つ同一のマスクを用いて同一のパターンニングプロセスにおいて複数の第１支持柱４１と複数の主スペーサ４０１とを形成することができる。

【0060】

例えば、他の実施例では、複数の第３支持柱４３は、複数の主支持柱と複数の副支持柱とを含んでもよく、複数の主支持柱のそれぞれの形状と寸法は、複数の主スペーサ４０１のそれぞれの形状と寸法と同じであり、複数の副支持柱のそれぞれの形状と寸法は、複数の副スペーサ４０２のそれぞれの形状と寸法と同じであり、それにより、同一のマスクを用いて同一のパターンニングプロセスにおいて複数の第２支持柱４２と、複数の副支持柱と、複数の副スペーサ４０２とを形成することができ、且つ同一のマスクを用いて同一のパターンニングプロセスにおいて複数の第１支持柱４１と、複数の主支持柱と、複数の主スペーサ４０１とを形成することができる。

【0061】

例えば、図３Ａに示すように、表示パネルは、バッファ層１１と駆動回路層１２とをさらに含む。バッファ層１１は、第１基板１０１の第２基板１０２に近接する側に位置し且つ第１基板１０１と直接接触することによって、後続のエッチングプロセスによる第１基板１０１への損傷を防止する。すなわち、光透過領域１において、バッファ層１１と第１基板１０１との間に任意の他の層又は構造も存在せず、光透過領域１の光透過率を向上させることに有利であり、それにより、光電センサ装置の感応効果を向上させる、より高い撮影効果、例えばより高い写真効果、より迅速で正確な指紋認識効果を実現する。

【0062】

駆動回路層１２は、バッファ層１１の第１基板１０１から離れる側に位置し且つ表示領域３とフレーム領域２に位置する。複数のスペーサ４０と、複数の第１支持柱４１と、複数の第２支持柱４２と、複数の第３支持柱４３とは、いずれも駆動回路層１２と保護層６との間に位置し、光透過領域１中に駆動回路層１２が設けられておらず、駆動回路層１２の光透過領域１に近接する周縁は、光透過領域１と第１領域２１との境界部に位置し、図３Ａに示す通りである。駆動回路層１２が第１基板１０１に垂直する方向における厚さは、バッファ層１１が第１基板１０１に垂直する方向における厚さよりも大きいが、光透過領域１中に駆動回路層１２が設けられていないため、駆動回路層１２の光透過領域１に近接する周縁において、駆動回路層１２と、バッファ層１１とは、階段構造（又は段差）を有し、それにより、駆動回路層１２の周縁位置の階段構造（又は段差）は、光透過領域１内に入らず、それにより、光透過領域１における階段構造の光透過率均一性と光透過色の均一性に対する影響を避ける。又は、他の実施例では、光透過領域１に近接する駆動回路層１２の周縁は、第１領域２１中に位置する。

【0063】

図３Ｂは、本開示の実施例による表示パネルの駆動回路層を含む局所１０３の第１方向に沿う断面概略図であり、図３Ｃは、図３Ｂに示される駆動回路層の局所１０３の第２方向に沿う断面概略図であり、第１方向は、第２方向に垂直する。例えば、当該表示パネルは、液晶表示パネルであり、第１基板１０１と第２基板１０２との間に液晶が充填される。図３Ｂと図３Ｃを結び付けて、駆動回路層１２は、フィルムトランジスタを含み、駆動トランジスタを例として例示する。図３Ｂに示すように、フィルムトランジスタは、ゲート電極５０と、半導体層６０と、ソースドレイン電極層１８とを含み、図３Ｃに示すように、ソースドレイン電極層１８は、ソース電極１８１とドレイン電極１８２とを含む。駆動回路層１２は、ゲート電極５０を被覆するゲート絶縁層１６と、半導体層６０をソース電極１８１とドレイン電極１８２から絶縁する第１絶縁層１７と、共通電極３１と、共通電極３１に対向する画素電極３２と、共通電極３１をソース電極１８１とドレイン電極１８２から絶縁する第２絶縁層１９と、共通電極３１を画素電極３２から絶縁する第３絶縁層３５をさらに含む。画素電極３２は、第２絶縁層１９と第３絶縁層３５を貫通するビアホールを介してドレイン電極１８２に電気的に接続される。例えば、共通電極３１が全面に形成され、且つ前記ビアホールが設けられる位置で切断される。共通電極に共通電圧を印加し、画素電極に画素電圧を印加することにより、画素電圧と共通電圧とは、偏向電界を形成し、液晶を偏向させることによって、光スイッチとして、カラーフィルム層と協力してカラー表示を実現する。例えば、駆動回路層１２は、各種の信号線（図示せず）をさらに含み、例えば画素電極と共通電極に電圧を提供する電源線、ゲート電極５０に走査電圧を提供するゲート線及びソース電極１８１とドレイン電極１８２にデータ電圧を提供するデータ線等であり、本分野の通常技術設計を参照してもよい。

【0064】

例えば、図３Ａに示すように、光透過領域１において、バッファ層１１と第２基板１０２との間に第１液晶層が設けられ１３１、第１液晶層１３１は、バッファ層１１と直接接触する。第１液晶層１３１は、第２基板１０２上に位置する第１配向層９１の光透過領域中に位置する部分と、第１基板１０１上に位置する第２配向層９２の光透過領域１中に位置する部分と、第１配向層９１と第２配向層９２との間に位置する第１液晶とを含む。第１配向層９１、第２配向層９２の材料は、例えばは、ポリイミド（ＰＩ）である。バッファ層１１と第２基板１０２との間に第１液晶層を充填する状況は、空気を充填する状況と比べて、空気を充填する場合、光線は、第２基板１０２の下面と第１基板１０１の上面に反射及び屈折が発生することにより、透過率を低減させ、第１液晶層とガラス基板（例えば第１基板１０１と第２基板１０２とは、いずれもガラス基板）とは、屈折率が近いため、第１液晶層１３１を充填した後、第１基板１０１と、第１液晶層１３１と、第２基板１０２との三者は、一つの一体となる媒体と見なすことができ、それにより、光線は、第２基板１０２の下面と第１基板１０１の上面に発生する反射回数が減少し、さらに透過率を向上させる。当該方案において、光透過領域１における第１基板１０１と第２基板１０２との間に保護層６が存在せず、バッファ層１１と第１液晶層１３１のみが存在し、支持柱、又はスペーサ、又は第１支持柱、第２支持柱、スペーサの高さと近い他の任意の構造が設けられていない。本方案と比べて、光透過領域１中にスペーサ又は支持柱等の同様な構造を設け場合、スペーサ又は支持柱等の同様な構造は、光が光透過領域１を透過して光電センサデバイスに到達することを妨げ、それにより、撮像装置が設けられる領域の光透過率が比較的に低く、且つ、光透過領域１を透過して光電センサデバイス１５に到達する光の輝度の均一性と色の均一性を低減させ、より高い撮影効果の取得に不利である。

【0065】

例えば、フレーム領域２と表示領域３において、保護層６と駆動回路層１２との間に第２液晶層が設けられ１３２、第１液晶層１３１における液晶と第２液晶層１３２における液晶は、複数の第１支持柱４１の間の間隔と、複数の第２支持柱４２の間の間隔と、複数の第３支持柱４３の間の間隔とを介して連通する。

【0066】

例えば、別の実施例では、図４に示すように、保護層６は、光透過領域１をさらに被覆する。光透過領域１において、保護層６は、第２基板１０２と直接接触し、第１液晶層１３２は、バッファ層１１と保護層６との間に位置し且つ保護層６と直接接触する。このような場合、光透過領域１において、第１基板１０１と第２基板１０２との間に保護層６、バッファ層１１と第１液晶層１３２のみが設けられることによって、光透過領域１の光透過率及び光電センサデバイス１５に到達する光の輝度の均一性と色の均一性を向上させる。このとき、例えば保護層６は、全面に第２基板１０２上に形成され、保護層６に対してパターンニングプロセスを行う必要がなく、その材料は、熱硬化性材料である。図４に示される実施例の他の言及されていない特徴は、いずれも図３Ａにおけるものと同じであり、図３Ａに対する記述を参照してもよい。

【0067】

例えば、別の実施例では、図５に示すように、光透過領域１中に液晶層が設けられていない。光透過領域１において、第２基板１０２とバッファ層１１との間に空気１３３が充填され、表示パネルは、第１シーラント１４を含み、第１シーラント１４は、第２基板１０２とバッファ層１１との間に位置し、光透過領域１全体を取り囲み且つバッファ層１１と保護層６といずれも直接接触する。このような場合、光透過領域１において、第１基板１０１と第２基板１０２との間に保護層６、バッファ層１１と空気１３３のみが設けられることによって、光透過領域１の光透過率及び光電センサデバイス１５に到達する光の輝度の均一性と色の均一性を向上させる。

【0068】

図６Ａは、本開示の一つの実施例による別の表示パネルの全体的な平面概略図であり、図６Ｂは、本開示の一つの実施例によるさらに別の表示パネルの全体的な平面概略図であり、図６Ｃは、本開示の一つの実施例によるまたさらに別の表示パネルの全体的な平面概略図であり、図７Ａは、図６Ａにおける光電センサ領域及びその周辺領域の拡大概略図であり、図７Ｂは、図７ＡにおけるＢ－Ｂ’線に沿う断面概略図である。例えば、図６Ａと図７Ａに示される実施例では、表示パネルは、複数の光透過領域を含み、表示パネルが２つの光透過領域を含むことを例として、他の実施例では、３つの光透過領域（図６Ｂに示すように）、４つの光透過領域（図６Ｃに示すように）等を含んでもよく、本開示の実施例は、光透過領域の数を限定しない。例えば、複数の光透過領域のうちの隣接する２つの光透過領域は、それぞれ第１光透過領域１１０と第２光透過領域１２０である。表示パネルは、中間領域１３０と、第３スペーサ層７３と、複数の第４支持柱４４と、複数の第５支持柱４５とをさらに含む。

【0069】

中間領域１３０は、第１光透過領域１１０を取り囲む第２領域と、第２光透過領域１２０を取り囲む第２領域との間に位置する。第３スペーサ層７３は、上記第１スペーサ層７１と同層であり且つそれに接続され、第１部分７３１と第２部分７３２とを含む。第１部分７３１と第２部分７３２とは、互いに対向し、中間領域１３０は、第１部分７３１と第２部分７３２との間に位置する。複数の第４支持柱４４は、第１部分７３１に沿って並んでおり且つ互いに隔てられる。複数の第４支持柱４４が第１基板１０１への正投影は、第１部分７３１が第１基板１０１への正投影内に位置する。複数の第５支持柱４５は、第２部分７３２に沿って並んでおり且つ互いに隔てられ、複数の第５支持柱４５が第１基板１０１への正投影は、第２部分７３２が第１基板１０１への正投影内に位置し、第１基板１０１に垂直する方向において、複数の第４支持柱４４と、複数の第５支持柱４５とは、複数の第２支持柱４２と同層に設けられ、複数の第４支持柱４４のそれぞれの形状と寸法、及び、複数の第５支持柱４５のそれぞれの形状と寸法は、複数の第２支持柱４２のそれぞれの形状と寸法と同じであり、それにより、表示パネルが相応な領域において同じセルギャップ（第１基板１０１と第２基板１０２との間の距離）を有することを維持する。

【0070】

例えば、図７Ａに示すように、表示パネルは、複数の第６支持柱４６と複数の第７支持柱４７とをさらに含む。複数の第６支持柱４６は、第１部分７３１の中間領域１３０に近接する側に位置し、第１部分７３１に沿って並んでおり且つ互いに隔てられ、複数の第７支持柱４７は、第２部分７３２の中間領域１３０に近接する側に位置し、第２部分７３２に沿って並んでおり且つ互いに隔てられる。第１基板１０１に垂直する方向において、複数の第６支持柱４６と、複数の第７支持柱４７とは、複数の第１支持柱４１と同層に設けられ、複数の第６支持柱４６のそれぞれの形状と寸法、及び、複数の第７支持柱４７のそれぞれの形状と寸法は、複数の第１支持柱４１のそれぞれの形状と寸法と同じであり、且つ複数の第６支持柱４６と複数の第７支持柱４７とが所在する位置にスペーサ層も設けられておらず、それにより、これらの位置と第１領域２１とが同じセルギャップを有することを維持する。当該方案は、隣接する２つの光透過領域の間のフレーム領域に支持を提供し、同じセルギャップを維持することができ、隣接する２つの光透過領域の間のフレーム領域の安定性をさらに向上させることによって、２つの光透過領域の均一性を保持する。

【0071】

例えば、第１部分７３１と第２部分７３２との平面形状は、いずれも直線セグメントであり且つ互いに平行することによって、構造を平坦化し、簡素化し、製作しやすい。もちろん、他の実施例では、第１部分７３１と第２部分７３２との平面形状も折線、平滑曲線等を含んでもよく、フレーム領域の具体的な形状に基づいて、実際の必要に応じて設計されてもよく、隣接する２つの光透過領域との間の領域に上記実施例と同様に必要とする支持作用を達成することができればよい。

【0072】

例えば、図７に示される実施例では、第１光透過領域１１０を取り囲む第３領域と、第２光透過領域１２０を取り囲む第３領域とは、互いに接続されて一つの全体的領域を形成し、この全体的領域は、フレーム領域全体を取り囲み、表示領域３とフレーム領域とを隔てることにより、フレーム領域と表示領域３との間に遷移を形成し、表示領域３のフレーム領域に近接する周縁の安定性を維持する。

【0073】

図７Ａ－７Ｂに示される実施例では、ブラックマトリクス５は、中間領域１３０を被覆することにより、中間領域１３０は、非透光であり、中間領域１３０内の構造は、上記第３領域２３内の構造と同じである。例えば、第３領域２３における第３支持柱４３が複数の主支持柱と複数の副支持柱を含む場合、図７Ｂに示すように、中間領域１３０中に複数の中間スペーサ４９が設けられ、複数の中間スペーサ４９は、複数の中間主スペーサ４９１と複数の中間副スペーサ４９２とを含み、複数の中間主スペーサ４９１のそれぞれの形状と寸法は、第３領域２３における複数の主支持柱のそれぞれの形状と寸法、及び、表示領域３における複数の主スペーサ４０１のそれぞれの形状と寸法と同じであり、複数の中間副スペーサ４９２のそれぞれの形状と寸法は、第３領域２３における複数の副支持柱のそれぞれの形状と寸法、及び、表示領域３における複数の副スペーサ４０２のそれぞれの形状と寸法と同じであり、それにより、中間領域と第１領域２１とが同じセルギャップを有することを維持し、且つ同一のマスクを用いて同一のパターンニングプロセスにおいて複数の中間副スペーサ４９２と、複数の第２支持柱４２と、複数の副支持柱と、複数の副スペーサ４０２とを形成することができ、且つ同一のマスクを用いて同一のパターンニングプロセスにおいて複数の中間主スペーサ４９１と、複数の第１支持柱４１と、複数の主支持柱と、複数の主スペーサ４０１とを形成することができる。図７Ａに示される実施例の他の言及されていない特徴は、いずれも図３Ａにおけるものと同じであり、図３Ａに示される実施例に対する記述を参照する。

【0074】

他の実施例では、第３領域２３における複数の第３支持柱４３は、主支持柱を含まず、中間領域１３０は、中間主スペーサを含まなくてもよく、中間領域１３０における複数の中間スペーサ４９のそれぞれの形状と寸法と、第３領域２３における複数の第３支持柱４３のそれぞれの形状と寸法とは、いずれも表示領域３における複数の副スペーサ４０２のそれぞれの形状と寸法と同じである。例えば、第３領域２３における複数の第３支持柱４３は、前記主支持柱を含み、中間領域１３０における複数の中間スペーサ４９は、前記中間主スペーサ４９１を含まず、又は、第３領域２３における複数の第３支持柱４３は、前記主支持柱を含まず、中間領域１３０における複数の中間スペーサ４９は、前記中間主スペーサ４９１を含み、すなわち上記特徴は、互いに組み合わせられてもよい。

【0075】

図８Ａは、図６Ａにおける光電センサ領域及びその周辺領域の別の拡大概略図であり、図８Ｂは、図８ＡにおけるＣ－Ｃ’線に沿う断面概略図である。例えば、図８Ａ－８Ｂに示される実施例と図７Ａに示される実施例との区別は、中間領域１３０が中間表示領域であり、中間表示領域１３０がアレイ状に配列される複数の中間画素を含み、複数の中間画素のそれぞれが複数のカラー中間サブ画素を含み、ブラックマトリクス５が中間表示領域１３０において前記複数のカラー中間サブ画素を画定し、中間表示領域１３０の光透過率が表示領域３の光透過率よりも小さく、すなわち中間表示領域１３０が階調表示領域であり、中間表示領域１３０の輝度が比較的に暗く、輝度が表示領域３の輝度の３０％以下であることである。例えば、中間表示領域１３０に位置するブラックマトリクス５の部分と、表示領域３に位置するブラックマトリクス５の部分とに異なる面積を備えさせることにより、中間表示領域１３０の開口率が表示領域３の開口率よりも小さい。例えば、図８Ａと図８Ｂに示される実施例では、中間表示領域１３０に位置するブラックマトリクス５の部分の線幅ｗ_２は、表示領域３に位置するブラックマトリクス５の部分の線幅ｗ_１よりも大きく、それにより、中間表示領域１３０の輝度が表示領域３の輝度の３０％以下であることを実現する。もちろん、他の実施例では、中間表示領域１３０において、光透過率調整膜層、例えばフィルタ層（上記カラーフィルム層ではない）を別途設けて中間表示領域１３０の光透過率を低減させることにより、中間表示領域１３０の輝度が表示領域３の輝度の３０％以下であることを実現する。当該実施例では、中間表示領域１３０の輝度を低減させて暗い表示を実現させ、例えば表示駆動回路によって中間表示領域１３０に常に黒い画面を表示させ、中間表示領域１３０の構造を簡略化し、表示駆動回路の設計を簡略化し、プロセス難易度を低減させることができるとともに、中間表示領域１３０の面積が非常に小さいため、このような方式は、中間表示領域１３０の付近の表示効果に明らかな影響を与えない。

【0076】

又は、他の実施例では、中間表示領域１３０は、通常表示領域であり、中間表示領域１３０の光透過率は、表示領域３の光透過率に等しく、すなわち通常に表示し、それにより、中間表示領域１３０の付近の表示品質を向上させ、ユーザ体験をよりよく向上させる。

【0077】

例えば、図８Ａに示される実施例では、表示パネルは、複数の中間スペーサをさらに含み、複数の中間スペーサは、中間表示領域１３０に位置し、アレイ状に配列される。例えば、複数の中間スペーサの構造は、表示領域３における複数のスペーサ４０の構造と同じである。

【0078】

例えば、少なくとも一つ実施例では、前記中間表示領域１３０における複数の中間副スペーサ４９２の配列密度は、表示領域３における複数の副スペーサ４０２の配列密度よりも小さい。例えば、前記中間表示領域において、中間主スペーサ４９１の配列密度は、表示領域３における複数の主スペーサ４０１の配列密度よりも小さく、且つ中間副スペーサ４９２の配列密度は、表示領域３における複数の副スペーサ４０２の配列密度よりも小さい。例えば、表示領域３において、副スペーサ４０２の配列密度は、２８７／２８８であり、すなわち、表示領域３に各２８８個のサブ画素に対応して２８７個の副スペーサ４０２が設けられ、例えば、主スペーサ４０１の配列密度は、１／２８８であり、すなわち、表示領域３に各２８８個のサブ画素に対応して１つの主スペーサ４０１が設けられ、しかしながら、前記中間表示領域において、中間副スペーサ４９２の配列密度は、７０／７２であり、すなわち、前記中間表示領域において各７２個のサブ画素に対応して７０個の中間副スペーサ４９２が設けられ、例えば、中間主スペーサ４９１の配列密度は、１／７２であり、すなわち、前記中間表示領域に各７２個のサブ画素に対応して１つの中間主スペーサ４９１が設けられる。上に記載のように、表示領域３に対して、前記中間表示領域におけるブラックマトリクス５の面積が比較的に大きく、表示パネルの製作プロセスにおいて、ブラックマトリクス５を形成した後、ブラックマトリクス５は、表示領域３において複数のサブ画素開口を画定し、且つ前記中間表示領域において複数の中間サブ画素開口を画定し、各中間サブ画素開口の寸法は、各サブ画素開口の寸法よりも小さく、後続に例えば保護層６を形成するプロセスにおいて、中間サブ画素開口と比べて、保護層６を形成するための膜層は、サブ画素開口に入りやすいため、一般的には最終的に硬化した後に形成される保護層６の前記中間表示領域に位置する部分が第１基板１０１に垂直する方向における厚さは、保護層６の表示領域３に位置する部分が第１基板１０１に垂直する方向における厚さよりも大きく、すなわち、前記保護層は、前記中間表示領域をさらに被覆し、前記中間表示領域を被覆する前記保護層の部分が前記第１基板に垂直する方向における厚さは、前記表示領域を被覆する前記保護層の部分が前記第１基板に垂直する方向における厚さよりも大きい。それにより、同じ寸法のスペーサは、前記中間表示領域より表示領域３において、外力の作用で変形がより発生しやすく、すなわち前記中間表示領域における中間主スペーサ４９１と中間副スペーサ４９２は、変形がより発生にくい。中間副スペーサ４９２の数と分布密度は、中間主スペーサ４９１の数の分布密度よりもはるかに大きいため、副スペーサ４９２の数と分布密度は、中間表示領域１３０のセルギャップの安定性に大きな影響を与える。そのため、前記中間表示領域１３０における中間副スペーサ４９２の配列密度を表示領域３における副スペーサ４０２の配列密度よりも小さくすることにより、前記中間表示領域１３０における中間副スペーサ４９２の変形可能性又は変形量を増大することにより、それが中間表示領域において十分なバッファ作用を果たし、安定的なセルギャップを維持し、表示領域３と同じセルギャップを可能な限り維持する。

【0079】

図６Ａ－６Ｂにおいて、複数の光透過領域は、直線に沿って並んでおり、すなわち複数の光透過領域の平面配列図形は、直線セグメントである。他の実施例では、複数の光透過領域は、直線に沿って並んでいなくてもよい。例えば、複数の光透過領域の平面配列図形は、三角形、矩形等の多辺形であるか、又は円形であり、本開示の実施例は、これを限定しない。表示パネルが３つ、４つ等の複数の光透過領域を含む状況に対して、任意の隣接する２つの光透過領域の間の中間領域の構造は、いずれも図７Ａ－７Ｂの中間領域の構造と同じであるか、又は図８Ａ－８Ｂにおける中間表示領域の構造と同じであり、フレーム領域２と表示領域３との間にいずれも上記第３領域２３が存在し、ここでは重複な説明を繰り返さない。

【0080】

例示的に、図６Ｃに示される実施例では、光電センサ領域２０は、少なくとも３つの光透過領域を含み、例えば第１光透過領域１１０と、第２光透過領域１２０と、第３光透過領域１３００と、補助機能領域１４０とを含み、例えば補助機能領域１４０は、補光領域であり、補光ランプを設けるために用いられ、補光ランプは、第１光透過領域１１０と、第２光透過領域１２０と、第３光透過領域１３００とが作動する時に補光を発射できるように構成され、当該補光は、被撮影物体例えば指（光電センサデバイスが指紋認識デバイスである場合）又は顔（光電センサデバイスが顔認識デバイス又はカメラである場合）等の任意の物体によって反射された後に第１光透過領域１１０、第２光透過領域１２０と第３光透過領域１３００中に入射することができ、それにより、第１光透過領域１１０、第２光透過領域１２０と第３光透過領域１３００中に設けられる光電センサデバイスによって受け取られ、それにより、外界光線が不足している場合に光電センサデバイスの撮影品質を向上させる。例えば、別のいくつかの実施例では、補助機能領域１４０も第４光透過領域によって置き換えられ、すなわち光電センサ領域２０は、４つの光透過領域を含み、４つの光透過領域のうちの各光透過領域は、いずれも上記光電センサデバイスを設けるために用いられる。このとき、第１光透過領域１１０と、第２光透過領域１２０と、第３光透過領域１３００と、第４光透過領域１４０とは、２×２マトリクス状に配列され、その平面配列図形は、矩形である。

【0081】

例えば、図６Ｃに示すように、第１光透過領域１１０と、第２光透過領域１２０と１３００と、補助機能領域とは、２×２マトリクス状に配列され、前記２×２マトリクスの第１行と第２行との間の間隔と、前記２×２マトリクスの第１列と第２列との間の間隔とは、十字状領域１５０を構成し、十字状領域１５０内の構造は、前記中間領域内の構造と同じである。隣接する両者の間の他の構造、例えば第４支持柱、第５支持柱、第６支持柱と第７支持柱等は、いずれも前の実施例における記述と同じであり、ここでは重複な説明を繰り返さない。

【0082】

上記実施例では、光電センサ領域２０の位置は、表示パネルの周縁に近接し、すなわち非表示領域に近接することによって、非表示領域に位置し、光電センサ領域２０中の光電センサデバイスの作動を制御するための信号線を光電センサ領域２０にアクセスしやすく、例えばこれらの信号線は、表示領域を貫通せず、非表示領域から光電センサ領域２０に直接アクセスしてもよい。他の実施例では、光電センサ領域２０は、他の位置に位置してもよい。例えば、図６Ｄは、本開示の一つの実施例によるまたさらに別の表示パネルの全体的な平面概略図である。図６Ｄに示すように、光電センサ領域２０は、表示パネルの中間領域に位置し、このとき、上記信号線のうちの少なくとも一部、例えば電源線（ＶＤＤ線等）は、表示領域３を貫通する必要があり、当該信号線が表示領域３におけるブラックマトリクスへの正投影は、当該ブラックマトリクス内に位置する。必要な場合に、信号クロストークを防止するために、当該信号線とブラックマトリクスにおける信号線との間に絶縁層を設けてもよい。

【0083】

例えば、上記実施例では、表示パネルは、液晶表示パネルであり、第１基板１０１は、アレイ基板であり、第２基板１０２は、カラーフィルタ基板である。又は、他の実施例では、表示パネルは、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示パネルであり、第１基板１０１は、アレイ基板であり、第２基板１０２は、パッケージカバープレート、他の相応な構造は、ＯＬＥＤ表示パネルの構造に基づいて設計されてもよい。もちろん、ＯＬＥＤ表示パネルにおいて、パッケージカバープレートの代わりに、パッケージフィルムを採用してパッケージングしてもよい。

【0084】

本開示の実施例では、例えば、第１基板１０１と第２基板１０２は、いずれもベース基板例えばガラス基板、石英基板、ポリイミド基板等であり、本開示の実施例は、第１基板１０１と第２基板１０２の具体的な材料を限定しない。

【0085】

図９は、本開示の一つの実施例による表示パネルの製作方法概略図である。図９に示すように、第１基板１０１上にバッファ層１１と、駆動回路層１２と、第２配向層９２と、第１支持柱と、第２支持柱と、第３支持柱と、スペーサとを順次に製造し、第２基板１０２上にブラックマトリクス５、複数の画素、第１スペーサ層、第２スペーサ層と保護層等に必要とする膜層を製造し、例えば第２基板１０２上に表示領域を取り囲む第２シーラント１４０をコーティングし、第１基板１０１上に液晶を滴下し、光透過領域１の面積は、液晶を滴下する液晶滴に対して非常に微小であり、液晶を光透過領域１に正確に直接滴下しにくいため、液晶を表示領域３等の比較的に大きい領域に滴下してもよい。さらに第２基板１０２と第１基板１０１とを接合し、第２シーラント１４０によって第２基板１０２と第１基板１０１とを互いに接着する。液晶は、第２領域２２と第１領域２１とを順次に経由し、且つ複数の第１支持柱４１の間の間隔と、複数の第２支持柱４２の間の間隔とを経由して光透過領域１中に流入し、光透過領域１中に液晶を充填することを実現する。

【0086】

表示パネルの製作方法において、第１スペーサ層７１と第２スペーサ層７２とは、同一の膜層に対して同一のパターンニングプロセスを実行して形成されてもよく、カラーフィルタを形成するための膜層に対して同一のパターンニングプロセスを実行することによって、表示領域３における複数のサブ画素８１／８２／８３におけるカラーフィルタと、第１スペーサ層７１と、第２スペーサ層７２とを同時に形成することができ、同一のマスクを用いて同一のパターンニングプロセスにおいて複数の第２支持柱４２と、複数の第３支持柱４３と、複数の副スペーサ４０２と、複数の第４支持柱４４と、複数の第５支持柱４５とを形成し、且つ同一のマスクを用いて同一のパターンニングプロセスにおいて複数の第１支持柱４１と、複数の主スペーサ４０１と、複数の第６支持柱４６と、複数の第７支持柱４７とを形成することによって、製作プロセスを簡略化する。なお、複数の中間スペーサの構造と、表示領域３における複数のスペーサ４０とは、同じパターンニングプロセスにおいて同じマスクを利用して形成される。

【0087】

例えば、図３Ａに示される表示パネルを形成するプロセスにおいて、第２基板１０２全体を被覆する保護材料層を形成した後、マスクを利用して当該保護材料層に対してパターンニングプロセスを実行することにより、光透過領域１に位置する保護材料層の部分を除去し、図３Ａに示される保護層６を得る。このとき、例えば保護層６の材料は、感光材料、例えば感光樹脂である。

【0088】

例えば、図５に示される表示パネルを形成するプロセスにおいて、第１基板１１上に光透過領域１全体を取り囲む第１シーラント１４を形成した後、例えば微細コーティングを採用し、その後第１基板１１の表示領域３に液晶を滴下し、さらに接合を行う。

【0089】

図１０は、本開示の一つの実施例による表示装置の概略図である。図１０に示すように、当該表示装置１０００は、本開示の実施例によるいずれか一つの表示パネル１００を含む。例えば当該表示装置１０００は、液晶表示装置又はＯＬＥＤ表示装置である。例えば、当該表示装置は、携帯電話、タブレットパソコン、ディスプレイ、ノートパソコン、ＡＴＭ機等の表示機能を有する任意の製品又は部材のような製品として実現することができる。当該表示装置１０００は、表示パネル１００が有する全部の技術的効果を有し、ここでは重複な説明を繰り返さない。

【0090】

例えば、第２基板１０２の第１基板１０１から離れる側は、表示側である。表示装置は、光電センサデバイス１５をさらに含み、図３Ａに示す通りである。例えば光電センサデバイス１５は、第１基板１０１の第２基板１０２から離れる側に位置し、光電センサデバイス１５は、表示側からの光を受け取るように構成され、すなわち表示側からの光は、光透過領域を経て光電センサデバイス１５に到達する。本開示の実施例による表示装置における光電センサデバイス１５によって受け取られた光の量が比較的に大きく、光の輝度の均一性が比較的に高く且つ色の均一性が比較的に高い。

【0091】

例えば、表示装置１０００の他の構造例えば液晶表示装置に必要とするバックライト等は、本分野では、通常技術を参照して設計されてもよく、本開示の実施例は、これを制限しない。

【0092】

例えば当該表示装置は、表示モジュールであってもよく、例えば上記表示パネルと光電センサデバイス１５とを含み、又は上記表示パネルとバックライトとを含み、他の構造をさらに含む表示機器等、例えば上記携帯電話、タブレットパソコン、ディスプレイ、ノートパソコン、ＡＴＭ機等の製品であってもよい。

【0093】

以上に記載のは、本発明の例示的な実施形態に過ぎず、本発明の保護範囲を制限するためのものではなく、本発明の保護範囲は、添付される請求の範囲によって決定される。

【符号の説明】

【0094】

１ 光透過領域
２ フレーム領域
３ 表示領域
５ ブラックマトリクス
６ 保護層
８ 画素
１１ バッファ層
１２ 駆動回路層
１５ 光電センサデバイス
１８ ソースドレイン電極層
１９ 第２絶縁層
２０ 光電センサ領域
２１ 第１領域
２２ 第２領域
２３ 第３領域
３１ 共通電極
３２ 画素電極
３５ 第３絶縁層
４０ スペーサ
４１、４１１、４１２ 第１支持柱
４２ 第２支持柱
４３ 第３支持柱
６１ 第１部分
６２ 第２部分
７１ 第１スペーサ層
７２ 第２スペーサ層
８１ 第１サブ画素
８２ 第２サブ画素
８３ 第３サブ画素
９１ 第１配向層
９２ 第２配向層
１０１ 第１基板
１０２ 第２基板
１１０ 第１光透過領域
１２０ 第２光透過領域
１３０ 中間領域
１４０ 補助機能領域
１５０ 十字状領域
４０１ 主スペーサ
４０２ 副スペーサ
１３００ 第３光透過領域

【図1A】

【図1B】

【図1C】

【図2A】

【図2B】

【図3A】

【図3B】

【図3C】

【図3D】

【図4】

【図5】

【図6A】

【図6B】

【図6C】

【図6D】

【図7A】

【図7B】

【図8A】

【図8B】

【図9】

【図10】