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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2025-04-09
(45)【発行日】2025-04-17
(54)【発明の名称】基板搬送装置および基板搬送方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/677 20060101AFI20250410BHJP
H01L 21/68 20060101ALI20250410BHJP
B25J 9/10 20060101ALI20250410BHJP
G03F 7/20 20060101ALI20250410BHJP
H01L 21/027 20060101ALI20250410BHJP
G01B 11/00 20060101ALI20250410BHJP
【ＦＩ】
H01L21/68 A
H01L21/68 F
B25J9/10 A
G03F7/20 521
H01L21/30 562
G01B11/00 Z
【請求項の数】
16
(21)【出願番号】P 2021046272
(22)【出願日】2021-03-19
(65)【公開番号】P2022145029
(43)【公開日】2022-10-03
【審査請求日】2023-12-18
(73)【特許権者】
【識別番号】000207551
【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
(74)【代理人】
【識別番号】100108523
【弁理士】
【氏名又は名称】中川 雅博
(74)【代理人】
【識別番号】100125704
【弁理士】
【氏名又は名称】坂根 剛
(74)【代理人】
【識別番号】100187931
【弁理士】
【氏名又は名称】澤村 英幸
(72)【発明者】
【氏名】▲桑▼原 丈二
【審査官】久宗 義明
(56)【参考文献】
【文献】米国特許出願公開第２００４／００６８３４７（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２００６－３５１８８４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－２２２７９６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００６－０６０１３５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１９－５３５１３２（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／６７７
Ｈ０１Ｌ ２１／６８
Ｂ２５Ｊ ９／１０
Ｇ０３Ｆ ７／２０
Ｈ０１Ｌ ２１／０２７
Ｇ０１Ｂ １１／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板を搬送する基板搬送装置であって、基板を保持可能に構成された保持部と、
ライン状の受光面を有しかつ前記保持部に設けられ、前記保持部上に配置された基板の外周部に向けて光をそれぞれ出射するとともに、前記受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、受光量を示す信号を出力する複数の反射型光検出器と、
前記複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、前記保持部上に配置された基板について前記保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出する部分位置算出部と、
前記部分位置算出部により算出された基板の前記複数の部分の位置に基づいて前記保持部に対する基板の位置を判定する位置判定部と、
前記保持部に設けられ、基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて第１の光量の光を出射するとともに、基板により反射された光を受光して、受光量を示す信号を出力する受光量測定器と、
光量位置情報生成部とを備え、
平面視で、各反射型検出器の一部が前記保持部上に配置された基板の外周部に重なる状態で、前記受光量測定器の全体は基板に重なり、
前記光量位置情報生成部は、
前記第１の光量と前記受光量測定器の出力信号とに基づいて基板の反射率を算出し、
算出された反射率と、前記保持部における前記複数の反射型光検出器の設計位置を示す検出器情報とに基づいて、前記複数の反射型光検出器が受光する受光量と前記保持部における基板の前記複数の部分の位置との間の関係を示す光量位置情報を生成し、
前記部分位置算出部は、前記複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、前記光量位置情報生成部により生成された前記光量位置情報に基づいて前記保持部における基板の前記複数の部分の位置をそれぞれ算出する、基板搬送装置。
【請求項2】
前記複数の反射型光検出器の各々は、前記受光面から上方に向かって延びる帯状の検出領域を有し、前記複数の部分は、平面視で複数の反射型光検出器の検出領域と前記保持部上に配置された基板の外周端部との交点である、請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項3】
前記複数の反射型光検出器は、前記受光面が一の方向において互いに重ならないように、前記保持部に設けられた第１および第２の反射型光検出器を含む、請求項１または２記載の基板搬送装置。
【請求項4】
前記複数の反射型光検出器が受光する受光量と前記保持部における基板の前記複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を記憶する記憶部をさらに備え、前記部分位置算出部は、前記複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、前記記憶部に記憶された前記光量位置情報に基づいて前記保持部における基板の前記複数の部分の位置をそれぞれ算出する、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項5】
前記保持部は、前記基板の下面を吸着保持する複数の吸着部をさらに有し、前記受光量測定器と前記複数の吸着部のうち一の吸着部との間の距離は、前記複数の反射型光検出器の各々と前記一の吸着部との間の距離よりも小さい、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項6】
基板を搬送する基板搬送装置であって、
基板を保持可能に構成された保持部と、
ライン状の受光面を有しかつ前記保持部に設けられ、前記保持部上に配置された基板の外周部に向けて光をそれぞれ出射するとともに、前記受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、受光量を示す信号を出力する複数の反射型光検出器と、
前記複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、前記保持部上に配置された基板について前記保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出する部分位置算出部と、
前記部分位置算出部により算出された基板の前記複数の部分の位置に基づいて前記保持部に対する基板の位置を判定する位置判定部と、
前記保持部における基板の前記複数の部分の高さを検出する高さ検出部と、
前記高さ検出部により検出された基板の前記複数の部分の高さに基づいて、前記部分位置算出部により算出された基板の前記複数の部分の位置をそれぞれ補正する補正部とを備え、
前記位置判定部は、前記補正部による補正後の基板の前記複数の部分の位置に基づいて、前記保持部に対する前記基板の位置を判定する、基板搬送装置。
【請求項7】
前記複数の反射型光検出器を制御する光検出器制御部をさらに備え、前記光検出器制御部は、前記保持部により基板が保持された状態で、前記複数の反射型光検出器を制御する第１の制御モードと、
前記保持部により基板が保持されずかつ前記保持部が支持部に支持された基板の下方の位置に配置された状態で、前記複数の反射型光検出器を制御する第２の制御モードとで動作可能に構成された、請求項１～６のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項8】
前記保持部を移動させる移動部と、前記位置判定部による判定結果に基づいて、前記保持部により保持された基板が予め定められた第１の位置から第２の位置へ搬送されるように前記移動部を制御する移動制御部とをさらに備える、請求項１～７のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項9】
基板を搬送する基板搬送方法であって、基板を保持可能に構成された保持部上に基板を配置するステップと、
ライン状の受光面を有しかつ前記保持部に設けられた複数の反射型光検出器を用いることにより、前記保持部上に配置された基板の外周部に向けて光を出射するとともに、前記受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、前記複数の反射型光検出器から受光量を示す信号をそれぞれ出力させるステップと、
前記複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、前記保持部上に配置された基板について前記保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出するステップと、
前記算出するステップにより算出された基板の前記複数の部分の位置に基づいて前記保持部に対する基板の位置を判定するステップと、
前記保持部に設けられる受光量測定器を用いて前記保持部上に配置された基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて第１の光量の光を出射するとともに基板から反射された光を受光することにより、当該受光量測定器から受光量を示す信号を出力させるステップと、
前記複数の反射型光検出器が受光する受光量と前記保持部における基板の前記複数の部分の位置との間の関係を示す光量位置情報を生成するステップとを含み、
平面視で、各反射型検出器の一部が前記保持部上に配置された基板の外周部に重なる状態で、前記受光量測定器の全体は基板に重なり、
前記光量位置情報を生成するステップは、
前記第１の光量と前記受光量測定器の出力信号とに基づいて基板の反射率を算出することと、
算出された反射率と、前記保持部における前記複数の反射型光検出器の設計位置を示す検出器情報とに基づいて、前記光量位置情報を生成することとを含み、
前記算出するステップは、前記複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、前記生成するステップにより生成された前記光量位置情報に基づいて前記保持部における基板の前記複数の部分の位置をそれぞれ算出することを含む、基板搬送方法。
【請求項10】
前記複数の反射型光検出器の各々は、前記保持部から上方に向かって延びる帯状の検出領域を有し、前記複数の部分は、平面視で複数の反射型光検出器の検出領域と前記保持部上に配置された基板の外周端部との交点である、請求項９記載の基板搬送方法。
【請求項11】
前記複数の反射型光検出器は、前記受光面が一の方向において互いに重ならないように、前記保持部に設けられた第１および第２の反射型光検出器を含む、請求項９または１０記載の基板搬送方法。
【請求項12】
前記複数の反射型光検出器が受光する受光量と前記保持部における基板の前記複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を記憶するステップをさらに含み、前記算出するステップは、前記複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、前記記憶するステップにより記憶された前記光量位置情報に基づいて前記保持部における基板の前記複数の部分の位置をそれぞれ算出することを含む、請求項９～１１のいずれか一項に記載の基板搬送方法。
【請求項13】
前記保持部上に基板を配置するステップは、前記保持部が有する複数の吸着部により基板の下面を吸着保持することを含み、前記受光量測定器と前記複数の吸着部のうち一の吸着部との間の距離は、前記複数の反射型光検出器の各々と前記一の吸着部との間の距離よりも小さい、請求項９～１２のいずれか一項に記載の基板搬送方法。
【請求項14】
基板を搬送する基板搬送方法であって、
基板を保持可能に構成された保持部上に基板を配置するステップと、
ライン状の受光面を有しかつ前記保持部に設けられた複数の反射型光検出器を用いることにより、前記保持部上に配置された基板の外周部に向けて光を出射するとともに、前記受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、前記複数の反射型光検出器から受光量を示す信号をそれぞれ出力させるステップと、
前記複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、前記保持部上に配置された基板について前記保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出するステップと、
前記算出するステップにより算出された基板の前記複数の部分の位置に基づいて前記保持部に対する基板の位置を判定するステップと、
前記保持部における基板の前記複数の部分の高さを検出するステップと、
前記高さを検出するステップにより検出された基板の前記複数の部分の高さに基づいて、前記算出するステップにより算出された基板の前記複数の部分の位置をそれぞれ補正するステップとを含み、
前記基板の位置を判定するステップは、前記補正するステップによる補正後の基板の前記複数の部分の位置に基づいて、前記保持部に対する前記基板の位置を判定することを含む、基板搬送方法。
【請求項15】
前記複数の反射型光検出器から受光量を出力させるステップは、前記保持部により保持された基板の外周部に向けて光を出射することと、前記保持部により基板が保持されずかつ前記保持部が支持部に支持された基板の下方の位置に配置された状態で基板の外周部に向けて光を出射することとを含む、請求項９～１４のいずれか一項に記載の基板搬送方法。
【請求項16】
前記基板の位置を判定するステップによる判定結果に基づいて、前記保持部により保持された基板が予め定められた第１の位置から第２の位置へ搬送されるように前記保持部を移動させるステップをさらに含む、請求項９～１５のいずれか一項に記載の基板搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基板を搬送する基板搬送装置および基板搬送方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来より、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の各種基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられる。
【0003】
基板処理装置では、例えば一枚の基板に対して複数の処理ユニットにおいて連続的に処理が行われる。そのため、基板処理装置には、複数の処理ユニットの間で基板を搬送する基板搬送装置が設けられる。このような基板搬送装置においては、基板が保持部により保持された状態で搬送される。基板が保持部に対してずれた位置で保持されていると、高い精度で基板を搬送することができない。そこで、保持部に対する基板の位置を判定する構成が提案されている。
【0004】
例えば、特許文献１に記載された基板搬送装置においては、処理対象となる基板が保持部（ハンド）により保持され、保持部が移動することにより基板が搬送される。具体的には、第１の位置から第２の位置への基板の搬送時には、第１の位置で保持部により基板が受け取られた後、基板を保持する保持部が予め定められた第３の位置（進退初期位置）まで移動する。この移動時に、保持部により保持される基板の外周端部の第１～第５の部分が検出される。それらの検出に基づいて、保持部における第１～第５の部分の位置がそれぞれ算出される。算出された第１～第５の部分の位置に基づいて保持部における基板の位置が判定される。また、特許文献２に記載された基板搬送装置においては、基板を保持する保持部（フォーク）が予め定められた位置にある状態で、保持部により保持される基板の外周端部の４つの部分の位置が計測される。計測結果に基づいて保持部における基板の位置が判定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特開２０１８－１３３４１５号公報
【文献】特開２０１２－１８２３９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
基板搬送装置による基板の搬送時間を短縮することができれば、基板処理装置における基板処理のスループットが向上する。そのため、基板搬送装置による基板の位置判定に要する時間は、低減されることが望ましい。
【0007】
本発明の目的は、基板の位置判定に要する時間を低減することが可能な基板搬送装置および基板搬送方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
（１）第１の発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、基板を保持可能に構成された保持部と、ライン状の受光面を有しかつ保持部に設けられ、保持部上に配置された基板の外周部に向けて光をそれぞれ出射するとともに、受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、受光量を示す信号を出力する複数の反射型光検出器と、複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、保持部上に配置された基板について保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出する部分位置算出部と、部分位置算出部により算出された基板の複数の部分の位置に基づいて保持部に対する基板の位置を判定する位置判定部と、保持部に設けられ、基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて第１の光量の光を出射するとともに、基板により反射された光を受光して、受光量を示す信号を出力する受光量測定器と、光量位置情報生成部とを備え、平面視で、各反射型検出器の一部が保持部上に配置された基板の外周部に重なる状態で、受光量測定器の全体は基板に重なり、光量位置情報生成部は、第１の光量と受光量測定器の出力信号とに基づいて基板の反射率を算出し、算出された反射率と、保持部における複数の反射型光検出器の設計位置を示す検出器情報とに基づいて、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の関係を示す光量位置情報を生成し、部分位置算出部は、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、光量位置情報生成部により生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出する。
【0009】
その基板搬送装置においては、保持部に設けられた複数の反射型光検出器から基板の外周部に光がそれぞれ出射される。この場合、基板の外周部で反射される光の光量は、ライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の位置に応じて変化する。そのため、複数の第１の反射型光検出器の出力信号により示される受光量によれば、複数の反射型光検出器のライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の複数の部分の位置を算出することが可能になる。それにより、保持部上に基板が配置された時点で、保持部に対する基板の位置を判定することができる。その結果、基板の搬送時における基板の位置判定に要する時間を低減することが可能になる。
上記のように、基板搬送装置は、保持部に設けられ、基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて光を出射するとともに、基板により反射された光を受光して、受光量を示す信号を出力する受光量測定器と、受光量測定器の出力信号に基づいて、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の関係を示す光量位置情報を生成する光量位置情報生成部とを備え、部分位置算出部は、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、光量位置情報生成部により生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出する。
この場合、基板に対する光の反射率が未知である場合でも、受光量測定器の出力信号に基づいて光量位置情報が生成される。それにより、生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
上記のように、基板搬送装置は、保持部に設けられ、基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて光を出射するとともに、基板により反射された光を受光して、受光量を示す信号を出力する受光量測定器と、受光量測定器の出力信号に基づいて、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の関係を示す光量位置情報を生成する光量位置情報生成部とを備え、部分位置算出部は、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、光量位置情報生成部により生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出する。
この場合、基板に対する光の反射率が未知である場合でも、受光量測定器の出力信号に基づいて光量位置情報が生成される。それにより、生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
【0010】
（２）複数の反射型光検出器の各々は、受光面から上方に向かって延びる帯状の検出領域を有し、複数の部分は、平面視で複数の反射型光検出器の検出領域と保持部上に配置された基板の外周端部との交点であってもよい。この場合、算出される基板の複数の部分の位置に基づいて基板の位置を判定することができる。
【0011】
（３）複数の反射型光検出器は、受光面が一の方向において互いに重ならないように、保持部に設けられた第１および第２の反射型光検出器を含んでもよい。この場合、第１および第２の反射型光検出器の出力信号と第１および第２の反射型光検出器の位置関係とに基づいて、基板の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
【0012】
（４）基板搬送装置は、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を記憶する記憶部をさらに備え、部分位置算出部は、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、記憶部に記憶された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出してもよい。この場合、光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
【0015】
（５）保持部は、基板の下面を吸着保持する複数の吸着部をさらに有し、受光量測定器と複数の吸着部のうち一の吸着部との間の距離は、複数の反射型光検出器の各々と一の吸着部との間の距離よりも小さくてもよい。
【0016】
この場合、受光量測定器は複数の反射型光検出器に比べて一の吸着部の近傍に位置する。そのため、基板に反り等の変形が発生している場合でも、受光量測定器からの光を受ける基板の内側部分の高さは、一の吸着部により略一定の高さに保持される。したがって、光量位置情報を生成するための条件のばらつきが低減される。その結果、適切に生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置をより高い精度で算出することができる。
【0017】
（６）第２の発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、基板を保持可能に構成された保持部と、ライン状の受光面を有しかつ保持部に設けられ、保持部上に配置された基板の外周部に向けて光をそれぞれ出射するとともに、受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、受光量を示す信号を出力する複数の反射型光検出器と、複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、保持部上に配置された基板について保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出する部分位置算出部と、部分位置算出部により算出された基板の複数の部分の位置に基づいて保持部に対する基板の位置を判定する位置判定部と、保持部における基板の複数の部分の高さを検出する高さ検出部と、高さ検出部により検出された基板の複数の部分の高さに基づいて、部分位置算出部により算出された基板の複数の部分の位置をそれぞれ補正する補正部とを備え、位置判定部は、補正部による補正後の基板の複数の部分の位置に基づいて、保持部に対する基板の位置を判定する。
【0018】
反射型光検出器から出射されて基板で反射されることにより当該反射型光検出器に帰還する光の光量は、反射型光検出器と基板との間の距離によっても変化する。上記の構成によれば、基板の外周端部の複数の部分の高さが検出され、検出された高さに基づいて基板の外周端部の複数の部分の位置の算出結果が補正される。したがって、基板の外周端部の複数の部分の位置をさらに高い精度で取得することができる。
【0019】
（７）基板搬送装置は、複数の反射型光検出器を制御する光検出器制御部をさらに備え、光検出器制御部は、保持部により基板が保持された状態で、複数の反射型光検出器を制御する第１の制御モードと、保持部により基板が保持されずかつ保持部が支持部に支持された基板の下方の位置に配置された状態で、複数の反射型光検出器を制御する第２の制御モードとで動作可能に構成されてもよい。
【0020】
この場合、保持部により基板が保持された状態および保持部が支持部に支持された基板の下方に配置された状態のうちいずれの状態にあっても、保持部における基板の位置をそれぞれ判定することができる。
【0021】
（８）基板搬送装置は、保持部を移動させる移動部と、位置判定部による判定結果に基づいて、保持部により保持された基板が予め定められた第１の位置から第２の位置へ搬送されるように移動部を制御する移動制御部とをさらに備えてもよい。
【0022】
この場合、位置判定部による判定結果に基づいて、保持部により保持される基板を予め定められた第１の位置から第２の位置へ高い精度で搬送することができる。
【0023】
（９）第３の発明に係る基板搬送方法は、基板を搬送する基板搬送方法であって、基板を保持可能に構成された保持部上に基板を配置するステップと、ライン状の受光面を有しかつ保持部に設けられた複数の反射型光検出器を用いることにより、保持部上に配置された基板の外周部に向けて光を出射するとともに、受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、複数の反射型光検出器から受光量を示す信号をそれぞれ出力させるステップと、複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、保持部上に配置された基板について保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出するステップと、算出するステップにより算出された基板の複数の部分の位置に基づいて保持部に対する基板の位置を判定するステップと、保持部に設けられる受光量測定器を用いて保持部上に配置された基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて第１の光量の光を出射するとともに基板から反射された光を受光することにより、当該受光量測定器から受光量を示す信号を出力させるステップと、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の関係を示す光量位置情報を生成するステップとを含み、平面視で、各反射型検出器の一部が保持部上に配置された基板の外周部に重なる状態で、受光量測定器の全体は基板に重なり、光量位置情報を生成するステップは、第１の光量と受光量測定器の出力信号とに基づいて基板の反射率を算出することと、算出された反射率と、保持部における複数の反射型光検出器の設計位置を示す検出器情報とに基づいて、光量位置情報を生成することとを含み、算出するステップは、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、生成するステップにより生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出することを含む。
【0024】
その基板搬送方法においては、保持部に設けられた複数の反射型光検出器から基板の外周部に光がそれぞれ出射される。この場合、基板の外周部で反射される光の光量は、ライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の位置に応じて変化する。そのため、複数の第１の反射型光検出器の出力信号により示される受光量によれば、複数の反射型光検出器のライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の複数の部分の位置を算出することが可能になる。それにより、保持部上に基板が配置された時点で、保持部に対する基板の位置を判定することができる。その結果、基板の搬送時における基板の位置判定に要する時間を低減することが可能になる。
上記のように、基板搬送方法は、保持部に設けられる受光量測定器を用いて保持部上に配置された基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて光を出射するとともに基板から反射された光を受光することにより、当該受光量測定器から受光量を示す信号を出力させるステップと、受光量測定器の出力信号に基づいて、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を生成するステップとをさらに含み、算出するステップは、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、生成するステップにより生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出することを含む。
この場合、基板に対する光の反射率が未知である場合でも、受光量測定器の出力信号に基づいて光量位置情報が生成される。それにより、生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
上記のように、基板搬送方法は、保持部に設けられる受光量測定器を用いて保持部上に配置された基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて光を出射するとともに基板から反射された光を受光することにより、当該受光量測定器から受光量を示す信号を出力させるステップと、受光量測定器の出力信号に基づいて、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を生成するステップとをさらに含み、算出するステップは、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、生成するステップにより生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出することを含む。
この場合、基板に対する光の反射率が未知である場合でも、受光量測定器の出力信号に基づいて光量位置情報が生成される。それにより、生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
【0025】
（１０）複数の反射型光検出器の各々は、保持部から上方に向かって延びる帯状の検出領域を有し、複数の部分は、平面視で複数の反射型光検出器の検出領域と保持部上に配置された基板の外周端部との交点であってもよい。この場合、算出される基板の複数の部分の位置に基づいて基板の位置を判定することができる。
【0026】
（１１）複数の反射型光検出器は、受光面が一の方向において互いに重ならないように、保持部に設けられた第１および第２の反射型光検出器を含んでもよい。この場合、第１および第２の反射型光検出器の出力信号と第１および第２の反射型光検出器の位置関係とに基づいて、基板の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
【0027】
（１２）基板搬送方法は、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を記憶するステップをさらに含み、算出するステップは、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、記憶するステップにより記憶された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出してもよい。この場合、光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
【0030】
（１３）保持部上に基板を配置するステップは、保持部が有する複数の吸着部により基板の下面を吸着保持することを含み、受光量測定器と複数の吸着部のうち一の吸着部との間の距離は、複数の反射型光検出器の各々と一の吸着部との間の距離よりも小さくてもよい。
【0031】
この場合、受光量測定器は複数の反射型光検出器に比べて一の吸着部の近傍に位置する。そのため、基板に反り等の変形が発生している場合でも、受光量測定器からの光を受ける基板の内側部分の高さは、一の吸着部により略一定の高さに保持される。したがって、光量位置情報を生成するための条件のばらつきが低減される。その結果、適切に生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置をより高い精度で算出することができる。
【0032】
（１４）第４の発明に係る基板搬送方法は、基板を搬送する基板搬送方法であって、基板を保持可能に構成された保持部上に基板を配置するステップと、ライン状の受光面を有しかつ保持部に設けられた複数の反射型光検出器を用いることにより、保持部上に配置された基板の外周部に向けて光を出射するとともに、受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、複数の反射型光検出器から受光量を示す信号をそれぞれ出力させるステップと、複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、保持部上に配置された基板について保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出するステップと、算出するステップにより算出された基板の複数の部分の位置に基づいて保持部に対する基板の位置を判定するステップと、保持部における基板の複数の部分の高さを検出するステップと、高さを検出するステップにより検出された基板の複数の部分の高さに基づいて、算出するステップにより算出された基板の複数の部分の位置をそれぞれ補正するステップとを含み、基板の位置を判定するステップは、補正するステップによる補正後の基板の複数の部分の位置に基づいて、保持部に対する基板の位置を判定することを含む。
【0033】
反射型光検出器から出射されて基板で反射されることにより当該反射型光検出器に帰還する光の光量は、反射型光検出器と基板との間の距離によっても変化する。上記の構成によれば、基板の外周端部の複数の部分の高さが検出され、検出された高さに基づいて基板の外周端部の複数の部分の位置の算出結果が補正される。したがって、基板の外周端部の複数の部分の位置をさらに高い精度で取得することができる。
【0034】
（１５）複数の反射型光検出器から受光量を出力させるステップは、保持部により保持された基板の外周部に向けて光を出射することと、保持部により基板が保持されずかつ保持部が支持部に支持された基板の下方の位置に配置された状態で基板の外周部に向けて光を出射することとを含んでもよい。
【0035】
この場合、保持部により基板が保持された状態および保持部が支持部に支持された基板の下方に配置された状態のうちいずれの状態にあっても、保持部における基板の位置をそれぞれ判定することができる。
【0036】
（１６）基板搬送方法は、基板の位置を判定するステップによる判定結果に基づいて、保持部により保持された基板が予め定められた第１の位置から第２の位置へ搬送されるように保持部を移動させるステップをさらに含んでもよい。
【0037】
この場合、基板の位置を判定するステップによる判定結果に基づいて、保持部により保持される基板を予め定められた第１の位置から第２の位置へ高い精度で搬送することができる。
【発明の効果】
【0038】
本発明によれば、基板の位置判定に要する時間を低減することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【0039】
【図1】第１の実施の形態に係る基板搬送装置の平面図である。
【図5】光量位置情報の一例を示す図である。
【図6】第１の実施の形態に係る基板搬送装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【図7】ハンドに定義されるＸＹ座標系の一例を示す平面図である。
【図8】複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合のハンド上の基板と４つの仮想円との位置関係をそれぞれ示す平面図である。
【図9】複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合のハンド上の基板と４つの仮想円との位置関係をそれぞれ示す平面図である。
【図10】複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合のハンド上の基板と４つの仮想円との位置関係をそれぞれ示す平面図である。
【図11】複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合のハンド上の基板と４つの仮想円との位置関係をそれぞれ示す平面図である。
【図12】第１の実施の形態に係る搬送制御部の機能的な構成を示すブロック図である。
【図13】第１の実施の形態に係る基板搬送装置による基板の基本的な搬送動作を示すフローチャートである。
【図14】第１の実施の形態に係る基板搬送装置による基板の基本的な搬送動作を示すフローチャートである。
【図15】第２の実施の形態に係る基板搬送装置の平面図である。
【図16】第２の実施の形態に係る基板搬送装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【図17】第２の実施の形態に係る搬送制御部の機能的な構成を示すブロック図である。
【図18】第２の実施の形態に係る基板搬送装置による基板の基本的な搬送動作の一部を示すフローチャートである。
【図19】第３の実施の形態に係る基板搬送装置の平面図である。
【図20】第３の実施の形態に係る基板搬送装置の制御系の構成を示すブロック図である。
【図21】第３の実施の形態に係る搬送制御部の機能的な構成を示すブロック図である。
【図22】第３の実施の形態に係る基板搬送装置による基板の基本的な搬送動作の一部を示すフローチャートである。
【図23】第４の実施の形態に係る搬送制御部が第２の制御モードにあるときの基板搬送装置の動作の一例を説明するための図である。
【図24】第４の実施の形態に係る搬送制御部が第２の制御モードにあるときの基板搬送装置の動作の一例を説明するための図である。
【図25】第４の実施の形態に係る搬送制御部が第２の制御モードにあるときの基板搬送装置の動作の一例を説明するための図である。
【図26】第４の実施の形態に係る搬送制御部が第２の制御モードにあるときの基板搬送装置の動作の一例を説明するための図である。
【図27】第４の実施の形態に係る搬送制御部が第２の制御モードにあるときの基板搬送装置の動作の一例を説明するための図である。
【図28】第４の実施の形態に係る基板搬送装置の第２の動作モードによるハンドの位置調整動作を示すフローチャートである。
【図29】第４の実施の形態に係る基板搬送装置の第２の動作モードによるハンドの位置調整動作を示すフローチャートである。
【図30】第１～第４のいずれかの実施の形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置の全体構成を示す模式的ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0040】
以下、本発明の一実施の形態に係る基板搬送装置および基板搬送方法について図面を用いて説明する。以下の説明において、基板とは、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。
【0041】
また、以下に示す実施の形態で用いられる基板は、少なくとも一部が円形状の外周端部を有する。具体的には、基板には、位置決め用のノッチが形成され、基板のうちノッチを除く外周端部が円形状を有する。なお、基板には、ノッチに代えてオリエンテーションフラットが形成されてもよい。
【0042】
１．第１の実施の形態
［１］第１の実施の形態に係る基板搬送装置の構成
図１は第１の実施の形態に係る基板搬送装置の平面図であり、図２は図１の基板搬送装置５００の側面図であり、図３は図１の基板搬送装置５００の正面図である。図１～図３に示す基板搬送装置５００は、移動部材５１０（図２および図３）、回転部材５２０、２つのハンドＨ１，Ｈ２および複数の反射型光検出器ＳＡ１，ＳＡ２，ＳＡ３，ＳＡ４，ＳＡ５（図１）を含む。本実施の形態では、２つのハンドＨ１，Ｈ２の各々に、５つの反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５が設けられている。移動部材５１０は、ガイドレール（図示せず）に沿って水平方向に移動可能に構成される。
［１］第１の実施の形態に係る基板搬送装置の構成
図１は第１の実施の形態に係る基板搬送装置の平面図であり、図２は図１の基板搬送装置５００の側面図であり、図３は図１の基板搬送装置５００の正面図である。図１～図３に示す基板搬送装置５００は、移動部材５１０（図２および図３）、回転部材５２０、２つのハンドＨ１，Ｈ２および複数の反射型光検出器ＳＡ１，ＳＡ２，ＳＡ３，ＳＡ４，ＳＡ５（図１）を含む。本実施の形態では、２つのハンドＨ１，Ｈ２の各々に、５つの反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５が設けられている。移動部材５１０は、ガイドレール（図示せず）に沿って水平方向に移動可能に構成される。
【0043】
移動部材５１０上には、略直方体形状の回転部材５２０が上下方向の軸の周りで回転可能に設けられる。回転部材５２０には、支持部材５２１，５２２が設けられている。支持部材５２１，５２２は、ハンドＨ１，Ｈ２をそれぞれ支持する。ハンドＨ１，Ｈ２は、それぞれ支持部材５２１，５２２により支持された状態で、回転部材５２０の長手方向に進退可能となっている。本実施の形態では、ハンドＨ２が回転部材５２０の上面の上方に位置し、ハンドＨ１がハンドＨ２の上方に位置する。以下の説明では、図１～図３に矢印で示すように、回転部材５２０に対してハンドＨ１，Ｈ２が進退可能な方向を進退方向ＡＢと呼ぶ。本実施の形態では、図１～図３の矢印が向く方向を前方とし、その逆の方向を後方とする。
【0044】
ハンドＨ１，Ｈ２の各々は、ガイド部Ｈａおよびアーム部Ｈｂからなる。図１に示すように、ガイド部Ｈａは略Ｕ字型の平板形状を有し、アーム部Ｈｂは一方向に延びる矩形の平板形状を有する。ガイド部Ｈａは、アーム部Ｈｂの一端部から２本に枝分かれするように設けられている。
【0045】
ガイド部Ｈａの上面には、互いに離間する複数（本例では３つ）の部分に複数（本例では３つ）の吸着部ｓｍがそれぞれ設けられている。各吸着部ｓｍは、吸気系（図示せず）に接続される。複数の吸着部ｓｍ上に基板Ｗが載置される。この状態で、複数の吸着部ｓｍ上の基板Ｗの下面が吸気系により複数の吸着部ｓｍに吸着される。図１～図３では、各ハンドＨ１，Ｈ２により理想的な位置関係で吸着保持された状態の基板Ｗが二点鎖線で示される。
【0046】
反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、基本的に共通の構成を有する。各反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、平面視で当該反射型光検出器の一部が各ハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗの外周端部にそれぞれ重なるようにガイド部Ｈａ上に分散配置されている。
【0047】
より具体的には、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ４は、図１に示すように、ハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗの中心を基準として略９０°間隔で当該基板Ｗの外周端部に重なるように配置されている。一方、反射型光検出器ＳＡ５は、反射型光検出器ＳＡ４の近傍に配置されている。反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５間の距離は、基板Ｗの直径よりも小さくかつ基板Ｗの周方向におけるノッチの長さよりも大きい。なお、本実施の形態に係る基板Ｗの直径は例えば３００ｍｍであり、その基板Ｗが有するノッチの周方向の長さは例えば２．７３ｍｍである。ハンドＨ１，Ｈ２に取り付けられた複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の上端部の高さ位置は、ハンドＨ１，Ｈ２に取り付けられた複数の吸着部ｓｍの上端部の高さ位置よりも低い。したがって、基板Ｗが各ハンドＨ１，Ｈ２により保持された状態で、当該ハンドに設けられる反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の上端部は基板Ｗの下面から離間している。
【0048】
各反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、検出領域に向けてライン状の光を出射するとともに検出領域からの帰還光を受光し、受光量に応じた信号を出力する。本実施の形態においては、各反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、いわゆるファイバセンサであり、主として本体部、光ファイバおよびファイバユニットから構成される。本体部は、光源および受光素子を含む。ファイバユニットは、１または複数の光学系（レンズ等）を含み、光を出射する出射面および光を受光する受光面を有する。光ファイバは、本体部とファイバユニットとを接続する。
【0049】
ファイバセンサにおいては、本体部の光源で発生される光が、光ファイバを通してファイバユニットに導かれる。ファイバユニットでは、光ファイバを通して導かれた光が光学系を通してライン状の光に整形され、出射面から検出領域に出射される。検出領域で反射された光は、帰還光として受光面に入射し、光学系および光ファイバを通して本体部の受光素子に導かれる。受光素子は、光ファイバから導かれた光を受光することにより、受光量に応じた信号を出力する。
【0050】
このように、各反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５がファイバセンサで構成される場合、各ハンドＨ１，Ｈ２のガイド部Ｈａには、ファイバユニットのみが取り付けられる。また、アーム部ＨｂまたはハンドＨ１，Ｈ２とは異なる部材に、本体部が取り付けられる。その上で、ファイバユニットと本体部とが光ファイバにより接続される。そのため、図１～図３において、各ハンドＨ１，Ｈ２上に示される反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、ファイバセンサのうちファイバユニットを示す。なお、各反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、光源、受光素子および光学系が一のケーシング内に収容された構成を有してもよい。この場合、出射面および受光面は、一のケーシングに一体的に設けられる。
【0051】
反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、ハンドＨ１，Ｈ２上に基板Ｗが保持された状態で、ハンドＨ１，Ｈ２における基板Ｗの外周端部の複数の部分の位置を算出するために用いられる。反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５を代表して反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５により基板Ｗの外周端部の複数の部分の位置を算出する方法について説明する。
【0052】
図４は、図１の反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５の詳細を説明するためのハンドＨ１の一部拡大斜視図である。図４に示すように、各反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５は、一方向に延びるとともに上方に向く光通過面ｓｓを有し、光通過面ｓｓが延びる方向が進退方向ＡＢに平行となるようにガイド部Ｈａの上面に取り付けられている。光通過面ｓｓは、上記の出射面および受光面として機能する。この状態で、反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５は、光通過面ｓｓから上方に向かって延びる帯状の検出領域ｄｆ４，ｄｆ５をそれぞれ有する。
【0053】
本実施の形態に係るハンドＨ１においては、複数の吸着部ｓｍによりハンドＨ１上に基板Ｗが吸着保持されることにより、各反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５の光通過面ｓｓの一部が基板Ｗの外周部に対して所定距離離間しつつ対向する。図４では、ハンドＨ１により保持される基板Ｗがドットパターンで示される。この状態で、図４に一点鎖線の矢印で示すように、反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５の光通過面ｓｓから上方に向けてライン状の光が出射される。
【0054】
この場合、各光通過面ｓｓのうち基板Ｗに対向する部分から出射される光は、基板Ｗの下面で反射され、図４に太い実線の矢印で示すように当該光通過面ｓｓに入射する。一方、各光通過面ｓｓのうち基板Ｗに対向しない部分から出射される光は、基板Ｗの側方を通過する。そのため、各光通過面ｓｓのうち基板Ｗに対向しない部分には、光が入射しない。
【0055】
ここで、ハンドＨ１における反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５の位置が既知であり、進退方向ＡＢにおける反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５と基板Ｗとのおおまかな位置関係が既知であるものとする。これらの場合には、各反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５の出力信号に基づいて、基板Ｗの外周端部のうち各検出領域ｄｆ４，ｄｆ５に位置する部分のハンドＨ１における進退方向ＡＢの位置を算出することが可能となる。なお、反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５と基板Ｗとのおおまかな位置関係とは、例えばハンドＨ１により基板Ｗが保持された状態で反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５が基板Ｗの中心を基準として進退方向ＡＢにおける前方に位置するのか後方に位置するのかを意味する。また、上記の基板Ｗの外周端部のうち各検出領域ｄｆ４，ｄｆ５に位置する部分とは、平面視で各反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５の検出領域ｄｆ４，ｄｆ５とハンドＨ１上に保持された基板Ｗの外周端部との交点を意味する。
【0056】
ところで、光通過面ｓｓから出射されて、基板Ｗの下面で反射される光の反射率は、基板Ｗの種類に応じて異なる。そこで、本実施の形態では、各反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５について、当該反射型光検出器が受光する受光量と光が照射された基板Ｗの外周端部の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報が用いられる。光量位置情報は、後述する搬送制御部５５０（図６）に記憶される。
【0057】
図５は、光量位置情報の一例を示す図である。図５の光量位置情報は、図４の反射型光検出器ＳＡ４が受ける受光量と反射型光検出器ＳＡ４により検出される基板Ｗの外周端部の位置との関係を示す。図５では、反射型光検出器ＳＡ４に対応する光量位置情報がグラフにより示される。図５のグラフにおいて、縦軸は反射型光検出器ＳＡ４が受ける受光量を表し、横軸はハンドＨ１における進退方向ＡＢの位置を表す。縦軸にαで示される受光量は、例えば反射型光検出器ＳＡ４から出射されて基板Ｗにより反射された光の全てが帰還したときの受光量（以下、最大受光量と呼ぶ。）であり、基板Ｗの反射率に基づいて定まる。
【0058】
図５のグラフおよび位置Ｐ１に対応する吹き出し内に示すように、反射型光検出器ＳＡ４上に位置する基板Ｗの部分が検出領域ｄｆ４の全体を横切る場合には、受光量が最大受光量αで保持される。一方、図５のグラフおよび位置Ｐ２に対応する吹き出し内に示すように、反射型光検出器ＳＡ４上に位置する基板Ｗの部分が検出領域ｄｆ４の一部（後半部分）を横切る場合には、受光量が最大受光量αよりも低い値を示している。他方、図５のグラフおよび位置Ｐ３に対応する吹き出し内に示すように、反射型光検出器ＳＡ４上に位置する基板Ｗの部分が検出領域ｄｆ４を横切らない場合には、受光量が０となっている。
【0059】
これにより、図５の光量位置情報によれば、基板Ｗの外周端部の一部分が反射型光検出器ＳＡ４の検出領域ｄｆ４内に位置することにより、当該基板Ｗの外周端部の一部分についてハンドＨ１における位置を算出することが可能になる。図５の光位置検出情報は、例えば実験またはシミュレーション等により生成することができる。
【0060】
上記の構成によれば、各ハンドＨ１，Ｈ２により基板Ｗが保持された時点で、当該ハンドを移動させることなく、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５により当該ハンドにおける基板Ｗの外周端部の複数の部分の位置を算出することができる。
【0061】
各ハンドＨ１，Ｈ２においては、保持される基板Ｗの中心が位置すべき基準の位置（以下、基準位置と呼ぶ。）が予め定められている。各ハンドＨ１，Ｈ２における基準位置は、例えば３つの吸着部ｓｍの中心位置である。
【0062】
各ハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗの外周端部の５つの部分の位置を算出することができれば、当該ハンドにおける基板Ｗの位置を判定することができる。それにより、各ハンドＨ１，Ｈ２により実際に保持されている基板Ｗの中心が基準位置からどれだけずれているのかを算出することができる。
【0063】
［２］基板搬送装置５００の制御系の構成
図６は、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００の制御系の構成を示すブロック図である。図６に示すように、基板搬送装置５００は、上下方向駆動モータ５１１、上下方向エンコーダ５１２、水平方向駆動モータ５１３、水平方向エンコーダ５１４、回転方向駆動モータ５１５、回転方向エンコーダ５１６、上ハンド進退用駆動モータ５２５、上ハンドエンコーダ５２６、下ハンド進退用駆動モータ５２７、下ハンドエンコーダ５２８、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５、搬送制御部５５０および操作部５２９を含む。なお、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、ハンドＨ１，Ｈ２にそれぞれ対応するように設けられる。
図６は、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００の制御系の構成を示すブロック図である。図６に示すように、基板搬送装置５００は、上下方向駆動モータ５１１、上下方向エンコーダ５１２、水平方向駆動モータ５１３、水平方向エンコーダ５１４、回転方向駆動モータ５１５、回転方向エンコーダ５１６、上ハンド進退用駆動モータ５２５、上ハンドエンコーダ５２６、下ハンド進退用駆動モータ５２７、下ハンドエンコーダ５２８、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５、搬送制御部５５０および操作部５２９を含む。なお、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、ハンドＨ１，Ｈ２にそれぞれ対応するように設けられる。
【0064】
上下方向駆動モータ５１１は、搬送制御部５５０の制御により移動部材５１０（図２）を上下方向に移動させる。上下方向エンコーダ５１２は、上下方向駆動モータ５１１の回転角度を示す信号を搬送制御部５５０に出力する。それにより、搬送制御部５５０は、移動部材５１０の上下方向の位置を検出することができる。
【0065】
水平方向駆動モータ５１３は、搬送制御部５５０の制御により移動部材５１０（図２）を水平方向に移動させる。水平方向エンコーダ５１４は、水平方向駆動モータ５１３の回転角度を示す信号を搬送制御部５５０に出力する。それにより、搬送制御部５５０は、移動部材５１０の水平方向の位置を検出することができる。
【0066】
回転方向駆動モータ５１５は、搬送制御部５５０の制御により回転部材５２０（図１）を上下方向の軸の周りで回転させる。回転方向エンコーダ５１６は、回転方向駆動モータ５１５の回転角度を示す信号を搬送制御部５５０に出力する。それにより、搬送制御部５５０は、水平面内での回転部材５２０の向きを検出することができる。
【0067】
上ハンド進退用駆動モータ５２５は、搬送制御部５５０の制御によりハンドＨ１（図１）を回転部材５２０上で水平方向に進退させる。上ハンドエンコーダ５２６は、上ハンド進退用駆動モータ５２５の回転角度を示す信号を搬送制御部５５０に出力する。それにより、搬送制御部５５０は、回転部材５２０上でのハンドＨ１の位置を検出することができる。
【0068】
下ハンド進退用駆動モータ５２７は、搬送制御部５５０の制御によりハンドＨ２（図２）を回転部材５２０上で水平方向に進退させる。下ハンドエンコーダ５２８は、下ハンド進退用駆動モータ５２７の回転角度を示す信号を搬送制御部５５０に出力する。それにより、搬送制御部５５０は、回転部材５２０上でのハンドＨ２の位置を検出することができる。
【0069】
反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、搬送制御部５５０の制御により光通過面ｓｓ（図４）から上方に向けてライン状の光を出射する。反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５から出力される信号は、搬送制御部５５０に与えられる。それにより、搬送制御部５５０は、ハンドＨ１に設けられた反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の出力信号および予め記憶された光量位置情報に基づいてハンドＨ１における基板Ｗの外周端部の複数の部分の位置を算出する。同様に、搬送制御部５５０は、ハンドＨ２に設けられた反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の出力信号および予め記憶された光量位置情報に基づいてハンドＨ２における基板Ｗの外周端部の複数の部分の位置を算出する。
【0070】
搬送制御部５５０には、操作部５２９が接続される。使用者は、操作部５２９を操作することにより各種指令および情報を搬送制御部５５０に与えることができる。
【0071】
［３］ハンドＨ１，Ｈ２における基板Ｗの位置の判定
上記の各ハンドＨ１，Ｈ２においては、Ｘ軸およびＹ軸を有するＸＹ座標系が定義される。Ｘ軸およびＹ軸は、各ハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗに平行な水平面内に位置し、各ハンドＨ１，Ｈ２の基準位置で直交する。そのため、基準位置は、原点Ｏとなる。本例では、Ｙ軸は、各ハンドＨ１，Ｈ２の進退方向に対して平行に定義される。
上記の各ハンドＨ１，Ｈ２においては、Ｘ軸およびＹ軸を有するＸＹ座標系が定義される。Ｘ軸およびＹ軸は、各ハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗに平行な水平面内に位置し、各ハンドＨ１，Ｈ２の基準位置で直交する。そのため、基準位置は、原点Ｏとなる。本例では、Ｙ軸は、各ハンドＨ１，Ｈ２の進退方向に対して平行に定義される。
【0072】
図７は、ハンドＨ１に定義されるＸＹ座標系の一例を示す平面図である。図７では、ハンドＨ１に定義されるＸＹ座標系のＸ軸およびＹ軸が一点鎖線で示される。また、基準位置が原点Ｏとして示される。さらに、ハンドＨ１により保持される基板Ｗが実線で示される。図７の例において、ハンドＨ１により保持される基板Ｗの中心位置は原点Ｏにあるものとする。
【0073】
基板搬送装置５００においては、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５によりハンドＨ１における基板Ｗの外周端部の５つの部分ｐ１～ｐ５の位置がそれぞれ算出される。算出された部分ｐ１～ｐ５の位置に基づいてハンドＨ１における基板Ｗの位置が判定される。同様に、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５によりハンドＨ２における基板Ｗの５つの部分ｐ１～ｐ５が算出され、算出された部分ｐ１～ｐ５の位置に基づいてハンドＨ２における基板Ｗの位置が判定される。判定された基板Ｗの位置に基づいて、上記の上下方向駆動モータ５１１、水平方向駆動モータ５１３、回転方向駆動モータ５１５、上ハンド進退用駆動モータ５２５および下ハンド進退用駆動モータ５２７が制御される。ハンドＨ１における基板Ｗの位置の判定方法を説明する。
【0074】
まず、例えばハンドＨ１上に基板Ｗが吸着保持された状態で、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の光通過面ｓｓ（図４）からライン状の光が基板Ｗの外周部に向けて出射される。出射された各光の一部が基板Ｗの下面により反射され、光通過面ｓｓに入射する。このとき反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５から出力される信号と、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５にそれぞれ対応する光量位置情報とに基づいて、ハンドＨ１における基板Ｗの５つの部分ｐ１～ｐ５の位置がそれぞれ算出される。
【0075】
次に、ＸＹ座標系において部分ｐ１，ｐ２，ｐ３，ｐ４のうち互いに異なる３つの部分の位置を通る４つの仮想円が算出されるとともに、４つの仮想円の中心位置がそれぞれ算出される。さらに、４つの中心位置間の複数のずれ量が算出される。
【0076】
以下の説明においては、部分ｐ１，ｐ２，ｐ３を通る仮想円を仮想円ｃｒ１と呼び、部分ｐ２，ｐ３，ｐ４を通る仮想円を仮想円ｃｒ２と呼び、部分ｐ１，ｐ３，ｐ４を通る仮想円を仮想円ｃｒ３と呼び、部分ｐ１，ｐ２，ｐ４を通る仮想円を仮想円ｃｒ４と呼ぶ。また、ハンドＨ１における仮想円ｃｒ１，ｃｒ２，ｃｒ３，ｃｒ４のそれぞれの中心位置をｖｐ１，ｖｐ２，ｖｐ３，ｖｐ４とする。
【0077】
図７に点線で示すように、中心位置ｖｐ１～ｖｐ４の間の複数のずれ量の全てが０である場合、４つの中心位置ｖｐ１～ｖｐ４はハンドＨ１における基板Ｗの中心位置Ｃに一致する。また、複数のずれ量の少なくとも１つが０にならない場合でも、４つの中心位置ｖｐ１～ｖｐ４の間の複数のずれ量の全てが予め定められたしきい値以下である場合には、４つの中心位置ｖｐ１～ｖｐ４はハンドＨ１における基板Ｗの中心位置Ｃにほぼ一致する。ここで、しきい値は、例えばハンドＨ１における反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ４の実際の位置と設計上の取付位置（設計位置）との間で許容される誤差に定められる。
【0078】
このように、複数のずれ量の全てがしきい値以下である場合には、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ４により検出される基板Ｗの部分ｐ１～ｐ４のいずれにもノッチＮが存在しない。そのため、４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４の全てがハンドＨ１における基板Ｗの位置を表すので、４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４のいずれかまたは全てに基づいてハンドＨ１における基板Ｗの位置を判定することができる。
【0079】
図８～図１１は、複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合のハンドＨ１上の基板Ｗと４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４との位置関係をそれぞれ示す平面図である。なお、図８～図１１では、ハンドＨ１の図示を省略する。図８に基板Ｗと仮想円ｃｒ１との位置関係が示され、図９に基板Ｗと仮想円ｃｒ２との位置関係が示される。また、図１０に基板Ｗと仮想円ｃｒ３との位置関係が示され、図１１に基板Ｗと仮想円ｃｒ４との位置関係が示される。
【0080】
複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合には、４つの中心位置ｖｐ１～ｖｐ４のうち１つの中心位置（本例では仮想円ｃｒ１の中心位置ｖｐ１）のみがハンドＨ１における基板Ｗの中心位置Ｃに一致するかまたはほぼ一致する（図８）。一方、残りの３つの中心位置（本例では仮想円ｃｒ２，ｃｒ３，ｃｒ４の中心位置ｖｐ２，ｖｐ３，ｖｐ４）はハンドＨ１における基板Ｗの中心位置Ｃから一定値よりも大きくずれる（図９、図１０および図１１）。
【0081】
このように、複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合には、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ４により検出される基板Ｗの部分ｐ１～ｐ４のいずれか（本例では部分ｐ４）にノッチＮが存在する。
【0082】
ここで、上記のように、反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５間の距離は、基板Ｗの直径よりも小さくかつ基板Ｗの周方向におけるノッチＮの長さよりも大きい。この場合、部分ｐ５は他の部分ｐ１～ｐ４に対して少なくともノッチＮの周方向の長さよりも大きく離間する。そのため、反射型光検出器ＳＡ５により検出される基板Ｗの部分ｐ５には、ノッチＮが存在しない。したがって、ハンドＨ１，Ｈ２における基板Ｗの位置を示す仮想円は、部分ｐ５の位置を通ることになる。そこで、４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４のうち部分ｐ５の位置を通る仮想円を選択することにより、選択された仮想円に基づいてハンドＨ１における基板Ｗの位置を判定することができる。
【0083】
［４］搬送制御部５５０の機能的な構成
図１２は、第１の実施の形態に係る搬送制御部５５０の機能的な構成を示すブロック図である。搬送制御部５５０は、部分位置算出部５１、仮想円算出部５２、基板位置判定部５３、検出器位置記憶部５４、しきい値記憶部５５、移動制御部５８、座標情報記憶部５９、座標情報補正部６０および光量位置情報記憶部８１を含む。搬送制御部５５０は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）、ＲＯＭ（リードオンリメモリ）および記憶装置により構成される。ＣＰＵがＲＯＭまたは記憶装置等の記憶媒体に記憶されたコンピュータプログラムを実行することにより、搬送制御部５５０の各構成要素の機能が実現される。なお、搬送制御部５５０の一部またはすべての構成要素が電子回路等のハードウェアにより実現されてもよい。
図１２は、第１の実施の形態に係る搬送制御部５５０の機能的な構成を示すブロック図である。搬送制御部５５０は、部分位置算出部５１、仮想円算出部５２、基板位置判定部５３、検出器位置記憶部５４、しきい値記憶部５５、移動制御部５８、座標情報記憶部５９、座標情報補正部６０および光量位置情報記憶部８１を含む。搬送制御部５５０は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）、ＲＯＭ（リードオンリメモリ）および記憶装置により構成される。ＣＰＵがＲＯＭまたは記憶装置等の記憶媒体に記憶されたコンピュータプログラムを実行することにより、搬送制御部５５０の各構成要素の機能が実現される。なお、搬送制御部５５０の一部またはすべての構成要素が電子回路等のハードウェアにより実現されてもよい。
【0084】
ここで、基板搬送装置５００は、一の処理ユニットの所定の位置（以下、受け取り位置と呼ぶ。）にある基板Ｗを受け取って搬送し、他の処理ユニットの所定の位置（以下、載置位置と呼ぶ。）に基板Ｗを載置するものとする。受け取り位置および載置位置は基板搬送装置５００全体について固定された座標系の座標で表される。受け取り位置の座標を受け取り座標と呼び、載置位置の座標を載置座標と呼ぶ。
【0085】
座標情報記憶部５９は、受け取り位置の受け取り座標および載置位置の載置座標を座標情報として予め記憶する。移動制御部５８は、座標情報記憶部５９に記憶された座標情報（受け取り座標）に基づいて、基板Ｗを受け取り位置から受け取るように図６の上下方向駆動モータ５１１、水平方向駆動モータ５１３および回転方向駆動モータ５１５を制御するとともに、上ハンド進退用駆動モータ５２５または下ハンド進退用駆動モータ５２７を制御する。このとき、ハンドＨ１またはハンドＨ２は、回転部材５２０上で進退する。
【0086】
検出器位置記憶部５４は、各ハンドＨ１，Ｈ２上の複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の設計位置を検出器情報として記憶する。光量位置情報記憶部８１は、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の各々に対応する光量位置情報を記憶する。部分位置算出部５１は、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の出力信号、検出器位置記憶部５４に記憶された検出器情報および光量位置情報記憶部８１に記憶された光量位置情報に基づいて、ハンドＨ１またはハンドＨ２における基板Ｗの複数の部分ｐ１～ｐ５の位置を算出する。
【0087】
仮想円算出部５２は、部分位置算出部５１により算出された部分ｐ１～ｐ４の位置から４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４（図７～図１１）をそれぞれ算出する。また、仮想円算出部５２は、算出された各仮想円ｃｒ１～ｃｒ４の中心位置ｖｐ１～ｖｐ４（図７～図１１）それぞれを算出する。
【0088】
しきい値記憶部５５は、上記のしきい値を記憶する。基板位置判定部５３は、仮想円算出部５２により算出された複数の中心位置ｖｐ１～ｖｐ４の間の複数のずれ量を算出する。また、基板位置判定部５３は、複数のずれ量の全てがしきい値記憶部５５に記憶されたしきい値以下であるか否かを判定する。
【0089】
基板位置判定部５３は、複数のずれ量の全てがしきい値以下である場合に、４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４のいずれかまたは全てに基づいてハンドＨ１またはハンドＨ２における基板Ｗの位置を判定する。一方、基板位置判定部５３は、上記の複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合に、４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４のうち、部分位置算出部５１により算出された部分ｐ５の位置を通る仮想円を選択する。また、基板位置判定部５３は、選択した仮想円に基づいてハンドＨ１またはハンドＨ２における基板Ｗの位置を判定する。
【0090】
座標情報補正部６０は、基板位置判定部５３により判定されたハンドＨ１またはハンドＨ２における基板Ｗの位置に基づいて、ハンドＨ１またはハンドＨ２の基準位置に対する基板Ｗの中心位置Ｃのずれを算出する。また、座標情報補正部６０は、算出されたずれに基づいて座標情報記憶部５９に記憶された座標情報（載置座標）を補正する。移動制御部５８は、座標情報記憶部５９に記憶されかつ補正された座標情報（載置座標）に基づいて、受け取り位置で受け取った基板Ｗを載置位置に載置するように図６の上下方向駆動モータ５１１、水平方向駆動モータ５１３および回転方向駆動モータ５１５を制御するとともに、上ハンド進退用駆動モータ５２５または下ハンド進退用駆動モータ５２７を制御する。このとき、ハンドＨ１またはハンドＨ２が回転部材５２０上で進退する。
【0091】
［５］基板搬送装置５００の動作
図１３および図１４は、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００による基板Ｗの基本的な搬送動作を示すフローチャートである。以下、ハンドＨ１を用いた基板Ｗの搬送動作について説明する。初期状態において、ハンドＨ１は、回転部材５２０上で最も後方に位置する。また、初期状態のハンドＨ１には、基板Ｗは保持されていないものとする。
図１３および図１４は、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００による基板Ｗの基本的な搬送動作を示すフローチャートである。以下、ハンドＨ１を用いた基板Ｗの搬送動作について説明する。初期状態において、ハンドＨ１は、回転部材５２０上で最も後方に位置する。また、初期状態のハンドＨ１には、基板Ｗは保持されていないものとする。
【0092】
図１２の移動制御部５８は、座標情報記憶部５９に記憶された座標情報（受け取り座標）に基づいて、ハンドＨ１を受け取り位置の近傍に移動させ（ステップＳ１）、ハンドＨ１を前進させることにより受け取り位置にある基板Ｗを受け取らせる（ステップＳ２）。そこで、部分位置算出部５１は、検出器位置記憶部５４および光量位置情報記憶部８１から検出器情報および光量位置情報を読み込む（ステップＳ３）。
【0093】
次に、部分位置算出部５１は、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５から基板Ｗの外周部に向けて光を出射させ、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の出力信号、検出器情報および光量位置情報に基づいて基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ５のハンドＨ１における位置を算出する（ステップＳ４）。
【0094】
仮想円算出部５２は、算出された基板Ｗの部分ｐ１～ｐ４の位置のうち互いに異なる３つの部分の位置を通る４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４をそれぞれ算出するとともに、それらの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４の中心位置ｖｐ１～ｖｐ４をそれぞれ算出する（ステップＳ５）。
【0095】
次に、基板位置判定部５３は、算出された複数の中心位置ｖｐ１～ｖｐ４の間の複数のずれ量を算出し（ステップＳ６）、算出された複数のずれ量の全てがしきい値記憶部５５に記憶されたしきい値以下であるか否かを判別する（ステップＳ７）。
【0096】
複数のずれ量の全てがしきい値以下である場合に、基板位置判定部５３は、４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４のいずれかまたは全てに基づいてハンドＨ１における基板Ｗの位置を判定する（ステップＳ８）。
【0097】
次に、座標情報補正部６０は、判定された基板Ｗの位置に基づいて基準位置に対する基板Ｗの中心位置Ｃのずれを算出し、算出結果に基づいてハンドＨ１により載置されることになる基板Ｗの位置と載置位置とのずれが相殺されるように座標情報記憶部５９に記憶された座標情報（載置座標）を補正する（ステップＳ９）。
【0098】
その後、移動制御部５８は、補正された座標情報（載置座標）に基づいて、載置位置へ基板Ｗを搬送するようにハンドＨ１の搬送制御を開始し（ステップＳ１０）、ハンドＨ１により保持された基板Ｗを載置位置に載置させる（ステップＳ１１）。これにより、ハンドＨ１における基板Ｗの位置によらず、基板Ｗを載置位置に正確に載置することが可能になる。
【0099】
上記のステップＳ７において、複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合に、基板位置判定部５３は、４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４のうち部分ｐ５の位置を通る１つの仮想円を選択する（ステップＳ１２）。その後、基板位置判定部５３は、選択した仮想円に基づいてハンドＨ１における基板Ｗの位置を判定し（ステップＳ１３）、ステップＳ９に進む。
【0100】
なお、上記の搬送動作においては、ステップＳ３の処理がステップＳ２またはステップＳ１の前に行われてもよい。また、上記の搬送動作においては、ステップＳ７，Ｓ８の動作に代えて、ステップＳ１２，Ｓ１３の動作が行われてもよい。この場合、ずれ量に関するしきい値を設定する必要がない。
【0101】
なお、各ハンドＨ１，Ｈ２上に保持される基板Ｗの中心が基準位置から著しくずれた位置にある場合には、基板Ｗの外周端部が複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の検出領域ｄｆ１～ｄｆ５上に位置しない可能性がある。この場合、光量位置情報を用いても基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ５について正確な位置を算出することができない。したがって、上記ステップＳ４において、部分位置算出部５１は、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５のうち少なくとも一の反射型光検出器の出力信号が「受光量＝０」または「受光量＝最大受光量α」を示す場合に搬送動作を停止させてもよい。さらに、この場合、部分位置算出部５１は、各ハンドＨ１，Ｈ２による基板Ｗの保持状態に異常がある旨の警報信号を基板搬送装置５００の外部装置へ出力してもよい。
【0102】
［６］第１の実施の形態の効果
（１）上記の基板搬送装置５００においては、ハンドＨ１，Ｈ２の各々に設けられた複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５から基板Ｗの外周部にライン状の光がそれぞれ出射される。この場合、基板Ｗの外周部で反射される光の光量は、ライン状の光通過面ｓｓが延びる方向（進退方向ＡＢ）における基板Ｗの外周端部の位置に応じて変化する。
（１）上記の基板搬送装置５００においては、ハンドＨ１，Ｈ２の各々に設けられた複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５から基板Ｗの外周部にライン状の光がそれぞれ出射される。この場合、基板Ｗの外周部で反射される光の光量は、ライン状の光通過面ｓｓが延びる方向（進退方向ＡＢ）における基板Ｗの外周端部の位置に応じて変化する。
【0103】
複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の出力信号は、光通過面ｓｓに入射する光の受光量を示す。そのため、それらの受光量によれば、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の光通過面ｓｓが延びる方向における基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ５の位置を算出することが可能になる。それにより、ハンドＨ１，Ｈ２により保持された基板Ｗの位置を算出するために、ハンドＨ１，Ｈ２を特定の位置に移動させる等の動作が不要である。したがって、ハンドＨ１，Ｈ２上に基板Ｗが配置された時点で、ハンドＨ１，Ｈ２に対する基板Ｗの位置を判定することができる。その結果、基板Ｗの位置判定に要する時間を低減することが可能になる。また、基板Ｗの位置判定結果に基づいて、ハンドＨ１，Ｈ２により保持された基板Ｗを載置位置へ高い精度で搬送することができる。
【0104】
（２）複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、進退方向ＡＢに平行に延びている。また、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５のうち反射型光検出器ＳＡ１，ＳＡ２と反射型光検出器ＳＡ３，ＳＡ４とは、進退方向ＡＢにおいて互いに重ならないように配置されている。特に、上記の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ４は、ハンドＨ１，Ｈ２上に定義されたＸ軸およびＹ軸により分割される４つの領域にそれぞれ位置するように配置されている。この配置によれば、例えば反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ４がＸ軸およびＹ軸により分割される４つの領域のうち１つまたは３つの領域に集中して配置される場合に比べて、検出対象となる基板Ｗの複数の部分ｐ１～ｐ４が基板Ｗの外周端部上でより均一に分散される。したがって、光量位置情報に基づいて基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ４を高い精度で算出することができる。
【0105】
２．第２の実施の形態
第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００について、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００と異なる点を説明する。図１５は、第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００の平面図である。
第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００について、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００と異なる点を説明する。図１５は、第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００の平面図である。
【0106】
図１５に示すように、第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００は、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００の構成に加えて、ハンドＨ１，Ｈ２上に反射型光検出器ＳＢ１がさらに設けられる。反射型光検出器ＳＢ１は、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５と基本的に同じ構成を有するファイバセンサであり、複数の吸着部ｓｍのうち一の吸着部ｓｍの近傍に配置されている。
【0107】
基板搬送装置５００においては、ハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗの種類は１つに限定されない。反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５から出射される光に対する基板Ｗの反射率は、基板の種類に応じて異なる。第１の実施の形態で説明したように、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５にそれぞれ対応する光量位置情報の最大受光量αの値は、基板Ｗの反射率に基づいて定まる。したがって、各反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の設計位置および基板Ｗの反射率を知ることができれば、ハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗごとに、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５にそれぞれ対応する光量位置情報を生成することが可能になる。すなわち、図１２の光量位置情報記憶部８１に予め多数の光量位置情報を記憶させる必要がなくなる。
【0108】
そこで、本実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、基板Ｗの反射率を求めるために反射型光検出器ＳＢ１が用いられる。例えば、ハンドＨ１に設けられる反射型光検出器ＳＢ１は、検出領域ｄｆ１１に沿うように、ハンドＨ１に保持された基板Ｗの外周部よりも内側の部分に向けてライン状の光を出射する。以下の説明では、反射型光検出器ＳＢ１から出射される光を受ける基板Ｗの部分を内側部分ｐ１０と呼ぶ。
【0109】
この場合、反射型光検出器ＳＢ１の光通過面ｓｓから出射されて基板Ｗにより反射された光の全てが内側部分ｐ１０で反射され、光通過面ｓｓに入射する。このとき、光通過面ｓｓから出射される光の光量と、反射型光検出器ＳＢ１の出力信号とに基づいて基板Ｗの反射率が算出される。また、算出された基板Ｗの反射率と、検出器情報（反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の設計位置）とに基づいてハンドＨ１の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５にそれぞれ対応する光量位置情報が生成される。
【0110】
ハンドＨ２に設けられる反射型光検出器ＳＢ１（図示せず）も、ハンドＨ１に設けられる反射型光検出器ＳＢ１と同様に、ハンドＨ２に保持された基板Ｗの外周部よりも内側の部分に向けてライン状の光を出射する。それにより、上記の例と同様の方法により、ハンドＨ２の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５にそれぞれ対応する光量位置情報が生成される。
【0111】
図１６は、第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００の制御系の構成を示すブロック図である。図１６に示すように、第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００は、第１の実施の形態に係る図６の基板搬送装置５００の構成に加えて、ハンドＨ１，Ｈ２にそれぞれ設けられる反射型光検出器ＳＢ１を含む。反射型光検出器ＳＢ１は、搬送制御部５５０の制御により光通過面ｓｓから上方に向けてライン状の光を出射する。反射型光検出器ＳＢ１から出力される信号は、搬送制御部５５０に与えられる。
【0112】
図１７は、第２の実施の形態に係る搬送制御部５５０の機能的な構成を示すブロック図である。本実施の形態に係る搬送制御部５５０は、第１の実施の形態に係る図１２の搬送制御部５５０の構成のうち光量位置情報記憶部８１に代えて光量位置情報生成部８２を備える。
【0113】
光量位置情報生成部８２は、ハンドＨ１の反射型光検出器ＳＢ１の出力信号、反射型光検出器ＳＢ１の出力信号および検出器位置記憶部５４に記憶された検出器情報に基づいて、ハンドＨ１の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５にそれぞれ対応する光量位置情報を生成する。また、光量位置情報生成部８２は、ハンドＨ２の反射型光検出器ＳＢ１から出力される光の光量、反射型光検出器ＳＢ１の出力信号および検出器位置記憶部５４に記憶された検出器情報に基づいて、ハンドＨ２の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５にそれぞれ対応する光量位置情報を生成する。
【0114】
これにより、部分位置算出部５１は、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の出力信号、検出器位置記憶部５４に記憶された検出器情報および光量位置情報生成部８２により生成された光量位置情報に基づいて、ハンドＨ１またはハンドＨ２における基板Ｗの複数の部分ｐ１～ｐ５の位置を算出する。
【0115】
図１８は、第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００による基板Ｗの基本的な搬送動作の一部を示すフローチャートである。本実施の形態に係る基板Ｗの搬送動作においては、第１の実施の形態に係る図１２のステップＳ１，Ｓ２と同様の動作が行われた後、光量位置情報生成部８２が、反射型光検出器ＳＢ１を用いて光量位置情報を生成する（ステップＳ３１）。その後、第１の実施の形態と同様に、図１２および図１３のステップＳ４～Ｓ１３の動作が行われる。
【0116】
本実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、基板Ｗに対する光の反射率が未知であり光量位置情報が存在しない場合でも、反射型光検出器ＳＢ１の出力信号に基づいて反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５にそれぞれ対応する光量位置情報が生成される。それにより、生成された光量位置情報に基づいて、基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ５の位置を高い精度で算出することができる。
【0117】
反射型光検出器ＳＢ１は、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５に比べて一の吸着部ｓｍの近傍に位置する。各吸着部ｓｍが基板Ｗの下面を吸着保持した状態で、当該吸着部ｓｍの近傍に位置する基板Ｗの内側部分ｐ１０の高さは、吸着部ｓｍにより略一定の高さに保持される。したがって、基板Ｗの反射率を算出するための条件、すなわち光量位置情報を生成するための条件のばらつきが低減され、光量位置情報を適切に生成することが可能となる。その結果、適切に生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置をより高い精度で算出することができる。
【0118】
３．第３の実施の形態
第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００について、第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００と異なる点を説明する。図１９は、第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００の平面図である。
第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００について、第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００と異なる点を説明する。図１９は、第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００の平面図である。
【0119】
図１９に示すように、第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００は、第２の実施の形態に係る基板搬送装置５００の構成に加えて、ハンドＨ１，Ｈ２上に反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ４がさらに設けられる。反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ４は、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５と基本的に同じ構成を有するファイバセンサである。
【0120】
反射型光検出器ＳＣ１は、平面視で反射型光検出器ＳＡ１の近傍でかつ当該反射型光検出器ＳＣ１の検出領域ｄｆ２１全体がハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗに重なるように配置されている。反射型光検出器ＳＣ２は、平面視で反射型光検出器ＳＡ２の近傍でかつ当該反射型光検出器ＳＣ２の検出領域ｄｆ２２全体がハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗに重なるように配置されている。反射型光検出器ＳＣ３は、平面視で反射型光検出器ＳＡ３の近傍でかつ当該反射型光検出器ＳＣ３の検出領域ｄｆ２３全体がハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗに重なるように配置されている。さらに、反射型光検出器ＳＣ４は、平面視で反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５の近傍でかつ当該反射型光検出器ＳＣ４の検出領域ｄｆ２４全体がハンドＨ１，Ｈ２により保持される基板Ｗに重なるように配置されている。
【0121】
上記のように、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の各々は、ファイバセンサである。ファイバセンサの本体部からファイバユニットに導かれる光は、光通過面ｓｓから所定の広がり角で出射される。そのため、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５と基板Ｗとの間の距離（本例では高さ）が変動すると、それらの距離の変動に応じて反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５が受ける光の量も変動する。
【0122】
例えば、ＸＹ座標上の基板Ｗの位置が固定されている状態で、反射型光検出器ＳＡ１と基板Ｗとの間の距離が拡大されると光通過面ｓｓに帰還する光量の減少量が大きくなる。一方、ＸＹ座標上の基板Ｗの位置が固定されている状態で、反射型光検出器ＳＡ１と基板Ｗとの間の距離が縮小されると光通過面ｓｓに帰還する光量の減少量が小さくなる。そのため、反射型光検出器ＳＡ１と基板Ｗの部分ｐ１との間の距離が、光量位置情報の生成時における反射型光検出器ＳＢ１と基板Ｗの内側部分ｐ１０との間の距離に対して異なると、部分ｐ１の位置の算出精度が低下する。反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５と基板Ｗとの間の距離が変化することによる反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の受光量の変化の度合いは、出射される光の広がり角度大きい程大きくなる。
【0123】
そこで、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５，ＳＢ１と基板Ｗとの間の距離のばらつきに起因する部分ｐ１～ｐ５の位置の算出精度の低下を抑制するために、基板Ｗの内側部分ｐ１０の高さと基板Ｗの部分ｐ１～ｐ５の高さとの差分が取得される。
【0124】
具体的には、光量位置情報の生成時における基板Ｗの内側部分ｐ１０の高さとして、反射型光検出器ＳＢ１の出力信号が取得される。この出力信号が示す受光量を基準受光量と呼ぶ。また、光量位置情報の生成時における基板Ｗの部分ｐ１，ｐ２，ｐ３の高さとして、反射型光検出器ＳＣ１，ＳＣ２，ＳＣ３の出力信号がそれぞれ取得される。反射型光検出器ＳＣ１，ＳＣ２，ＳＣ３の出力信号が示す受光量を第１、第２および第３の受光量と呼ぶ。また、光量位置情報の生成時における基板Ｗの部分ｐ４，ｐ５の高さとして、反射型光検出器ＳＣ４の出力信号が取得される。反射型光検出器ＳＣ４の出力信号が示す受光量を第４の受光量と呼ぶ。
【0125】
この場合、基板Ｗの内側部分ｐ１０の高さと基板Ｗの部分ｐ１の高さとの差分は、例えば基準受光量に対する第１の受光量の比率で表すことができる。また、基板Ｗの内側部分ｐ１０の高さと基板Ｗの部分ｐ２の高さとの差分は、例えば基準受光量に対する第２の受光量との比率で表すことができる。また、基板Ｗの内側部分ｐ１０の高さと基板Ｗの部分ｐ３の高さとの差分は、例えば基準受光量に対する第３の受光量の比率で表すことができる。さらに、基板Ｗの内側部分ｐ１０の高さと基板Ｗの部分ｐ４，ｐ５の高さとの差分は、例えば基準受光量に対する第４の受光量の比率で表すことができる。
【0126】
上記の各比率によれば、基板Ｗの内側部分ｐ１０および部分ｐ１～ｐ５の高さのばらつきに起因する位置算出の誤差が相殺されるように、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の出力信号に基づいて算出された基板Ｗの部分ｐ１～ｐ５の位置を補正することが可能になる。
【0127】
例えば、反射型光検出器ＳＡ１の出力信号と光量位置情報とに基づいて、基板Ｗの部分ｐ１が進退方向ＡＢにおける反射型光検出器ＳＡ１の前端から後方に向かって１ｍｍの位置にあると算出された場合を想定する。この場合、基準受光量に対する第１の受光量の比率が７０％である場合には、上記の判定結果を補正することにより、基板Ｗの部分ｐ１は反射型光検出器ＳＡ１の前端から後方に向かって１．４２９ｍｍの位置にあるとすることができる。
【0128】
また、反射型光検出器ＳＡ２の出力信号と光量位置情報とに基づいて、基板Ｗの部分ｐ２が進退方向ＡＢにおける反射型光検出器ＳＡ２の前端から後方に向かって１．１ｍｍの位置にあると算出された場合を想定する。この場合、基準受光量に対する第２の受光量の比率が８０％である場合には、上記の判定結果を補正することにより、基板Ｗの部分ｐ２は反射型光検出器ＳＡ２の前端から後方に向かって１．３７５ｍｍの位置にあるとすることができる。
【0129】
また、反射型光検出器ＳＡ３の出力信号と光量位置情報とに基づいて、基板Ｗの部分ｐ３が進退方向ＡＢにおける反射型光検出器ＳＡ３の後端から前方に向かって１．２ｍｍの位置にあると算出された場合を想定する。この場合、基準受光量に対する第３の受光量の比率が９０％である場合には、上記の判定結果を補正することにより、基板Ｗの部分ｐ３は反射型光検出器ＳＡ３の後端から前方に向かって１．３３３ｍｍの位置にあるとすることができる。
【0130】
さらに、反射型光検出器ＳＡ４の出力信号と光量位置情報とに基づいて、基板Ｗの部分ｐ４が進退方向ＡＢにおける反射型光検出器ＳＡ４の後端から前方に向かって１．３ｍｍの位置にあると算出された場合を想定する。この場合、基準受光量に対する第４の受光量の比率が１００％である場合には、上記の判定結果を補正することにより、基板Ｗの部分ｐ４は反射型光検出器ＳＡ４の後端から前方に向かって１．３ｍｍの位置にあるとすることができる。
【0131】
図２０は、第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００の制御系の構成を示すブロック図である。図２０に示すように、第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００は、第２の実施の形態に係る図１６の基板搬送装置５００の構成に加えて、ハンドＨ１，Ｈ２にそれぞれ設けられる反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ５を含む。反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ５は、搬送制御部５５０の制御により光通過面ｓｓから上方に向けてライン状の光を出射する。反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ５から出力される信号は、搬送制御部５５０に与えられる。
【0132】
図２１は、第３の実施の形態に係る搬送制御部５５０の機能的な構成を示すブロック図である。本実施の形態に係る搬送制御部５５０は、第２の実施の形態に係る図１７の搬送制御部５５０の構成に加えて、部分位置補正部８３を備える。
【0133】
部分位置補正部８３は、ハンドＨ１の反射型光検出器ＳＢ１，ＳＣ１～ＳＣ５の出力信号に基づいて、部分位置算出部５１により算出された基板Ｗの複数の部分ｐ１～ｐ５の位置を補正する。この場合、仮想円算出部５２は、部分位置補正部８３により補正された部分ｐ１～ｐ４の位置から４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４（図７～図１１）をそれぞれ算出する。
【0134】
図２２は、第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００による基板Ｗの基本的な搬送動作の一部を示すフローチャートである。本実施の形態に係る基板Ｗの搬送動作においては、第２の実施の形態に係る図１８のステップＳ１，Ｓ２，Ｓ３１，Ｓ４と同様の動作が行われた後、部分位置補正部８３が、反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ４を用いてステップＳ４で算出された基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ５の位置を補正する（ステップＳ４１）。その後、第１の実施の形態と同様に、図１２および図１３のステップＳ５～Ｓ１３の動作が行われる。
【0135】
本実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、基板Ｗの内側部分ｐ１０に光が照射されることにより光量位置情報が生成される。内側部分ｐ１０に対する基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ５の高さが、反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ４により取得される。反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の出力信号に基づいて算出される基板Ｗの複数の部分ｐ１～ｐ５の位置が、複数の部分ｐ１～ｐ５の高さに基づいて補正される。これにより、基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ５の位置をさらに高い精度で取得することができる。
【0136】
なお、本実施の形態においては、基板Ｗの部分ｐ４，ｐ５の高さを取得するために、２つの部分ｐ４，ｐ５に対して共通の反射型光検出器ＳＣ４が用いられている。この例に限らず、反射型光検出器ＳＡ４，ＳＡ５の近傍には、基板Ｗの部分ｐ４，ｐ５の高さをそれぞれ取得するための２つの反射型光検出器が設けられてもよい。
【0137】
４．第４の実施の形態
第４の実施の形態に係る基板搬送装置５００について、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００と異なる点を説明する。本実施の形態に係る基板搬送装置５００は、ハンドＨ１上に基板Ｗが保持された状態および支持部に支持された基板Ｗの下方にハンドＨ１が配置された状態で、ハンドＨ１に対する基板Ｗの位置を判定することが可能である。また、ハンドＨ２上に基板Ｗが保持された状態および支持部に支持された基板Ｗの下方にハンドＨ２が配置された状態で、ハンドＨ２に対する基板Ｗの位置を判定することが可能である。
第４の実施の形態に係る基板搬送装置５００について、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００と異なる点を説明する。本実施の形態に係る基板搬送装置５００は、ハンドＨ１上に基板Ｗが保持された状態および支持部に支持された基板Ｗの下方にハンドＨ１が配置された状態で、ハンドＨ１に対する基板Ｗの位置を判定することが可能である。また、ハンドＨ２上に基板Ｗが保持された状態および支持部に支持された基板Ｗの下方にハンドＨ２が配置された状態で、ハンドＨ２に対する基板Ｗの位置を判定することが可能である。
【0138】
以下の説明では、ハンドＨ１，Ｈ２上に基板Ｗが保持された状態で当該ハンドＨ１，Ｈ２に対する基板Ｗの位置を判定するときの搬送制御部５５０の制御モードを第１の制御モードと呼ぶ。一方、支持部に支持された基板Ｗの下方にハンドＨ１，Ｈ２が配置された状態で当該ハンドＨ１，Ｈ２に対する基板Ｗの位置を判定するときの搬送制御部５５０の制御モードを第２の制御モードと呼ぶ。使用者は、例えば図６の操作部５２９を操作して、搬送制御部５５０の制御モードを指定する。これにより、搬送制御部５５０は、使用者の指定に応答して、指定された制御モードで基板搬送装置５００の各部の制御を行う。
【0139】
搬送制御部５５０が第１の制御モードにあるときの基板搬送装置５００の動作は、第１の実施の形態で説明した通りである。それにより、ハンドＨ１，Ｈ２に保持される基板Ｗのハンドにおける位置に応じて座標情報が補正される。一方、第２の制御モードは、例えばハンドＨ１，Ｈ２による基板Ｗの保持が行われる直前でハンドＨ１，Ｈ２と基板Ｗとの位置関係を調整する場合、または基板搬送装置５００のティーチングを行う場合に有効に利用することができる。以下、搬送制御部５５０が第２の制御モードにあるときの基板搬送装置５００の具体的な動作の一例を説明する。
【0140】
図２３～図２７は、第４の実施の形態に係る搬送制御部５５０が第２の制御モードにあるときの基板搬送装置５００の動作の一例を説明するための図である。例えば、一の処理ユニットに支持部としてスピンチャックｃｈが設けられているものとする。また、図２３の平面図および図２４の側面図で示すように、スピンチャックｃｈ上に基板Ｗが保持されているものとする。さらに、スピンチャックｃｈ上に保持された基板Ｗの中心位置Ｃが受け取り位置に設定されておりかつハンドＨ１が当該スピンチャックｃｈ上の基板Ｗを受け取るものとする。
【0141】
この場合、図２３および図２４に白抜きの矢印で示すように、ハンドＨ１は受け取り位置でスピンチャックｃｈの上面からわずかに下方の位置に向かって移動する。それにより、図２５の側面図に示すように、ハンドＨ１がスピンチャックｃｈにより保持された基板Ｗの下方の位置で保持される。ここで、上下方向におけるハンドＨ１の吸着部ｓｍと基板Ｗとの間の距離は、例えば数ｍｍ～数十ｍｍ程度に維持される。
【0142】
この状態で、図２５に実線の矢印で示すように、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の光通過面ｓｓから基板Ｗの外周部に向かってライン状の光が出射される。このとき、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５と基板Ｗとの間の距離が所定の範囲内にあれば、基板Ｗの下面の外周部で反射される光は反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５にそれぞれ帰還する。それにより、ハンドＨ１により基板Ｗが保持されていない場合でも、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の出力信号に基づいてハンドＨ１における基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ５の位置（ＸＹ座標上の位置）を算出することができる。算出結果に基づいて、ハンドＨ１に対する基板Ｗの位置を判定することができる。
【0143】
ハンドＨ１に対する基板Ｗの位置を判定した結果、図２６の平面図に示すように、基板Ｗの中心位置ＣがハンドＨ１の基準位置ｒｐからずれている場合を想定する。この場合、図２６に白抜きの矢印で示すように、判定結果に基づいてずれが相殺されるようにハンドＨ１が移動する。その結果、図２７の平面図に示すように、基板Ｗの中心位置ＣがハンドＨ１の基準位置ｒｐに一致する。なお、図２６および図２７では、スピンチャックｃｈにより吸着保持される基板Ｗが二点鎖線で示される。
【0144】
上記のように、スピンチャックｃｈにより保持される基板ＷをハンドＨ１が受け取る前に、基板Ｗの中心位置Ｃが基準位置ｒｐに一致するように、基板Ｗに対するハンドＨ１の位置が調整される。この状態でハンドＨ１が基板Ｗを受け取る場合には、搬送先の座標情報（載置座標）を補正する必要がなくなる。
【0145】
なお、スピンチャックｃｈに保持される基板Ｗの受け取りに関するティーチング時には、最初に、スピンチャックｃｈの回転中心に基板Ｗの中心が一致するように、スピンチャックｃｈ上に基板Ｗを吸着保持させる。その後、図２３～図２７の一連の動作を行う。この場合、最終的なハンドＨ１の水平方向の位置を受け取り座標または載置座標として決定することができる。
【0146】
図２８および図２９は、第４の実施の形態に係る基板搬送装置５００の第２の動作モードによるハンドＨ１の位置調整動作を示すフローチャートである。初期状態においては、例えば一の処理ユニット内に設けられた支持部（例えば、図２３のスピンチャックｃｈ）上の予め定められた位置に基板Ｗが支持されているものとする。また、図１２の座標情報記憶部５９には、一の処理ユニットの支持部上の位置を暫定的に示す座標情報が記憶されているものとする。さらに、初期状態のハンドＨ１には、基板Ｗは保持されていないものとする。
【0147】
図１２の移動制御部５８は、座標情報記憶部５９に記憶された座標情報に基づいて、ハンドＨ１を支持部に支持された基板Ｗの下方の位置に移動させる（ステップＳ１０１）。そこで、図１２の部分位置算出部５１は、図１２の検出器位置記憶部５４および光量位置情報記憶部８１から検出器情報および光量位置情報を読み込む（ステップＳ１０２）。
【0148】
その後、図１３のステップＳ４，Ｓ５，Ｓ６と同様に、基板Ｗの外周端部の複数の部分ｐ１～ｐ５の位置の算出、複数の仮想円ｃｒ１～ｃｒ４およびそれらの中心位置ｖｐ１～ｖｐ４の算出、ならびに複数の中心位置ｖｐ１～ｖｐ４の間の複数のずれ量の算出が行われる（ステップＳ１０３，Ｓ１０４，Ｓ１０５）。
【0149】
また、図１４のステップＳ７と同様に、ステップＳ１０５で算出された複数のずれ量の全てが図１２のしきい値記憶部５５に記憶されたしきい値以下であるか否かが判別される（ステップＳ１０６）。そこで、複数のずれ量の全てがしきい値以下である場合に、図１４のステップＳ８と同じ処理が行われる（ステップＳ１０７）。一方、複数のずれ量のうち少なくとも１つがしきい値を超える場合に、図１４のステップＳ１２，Ｓ１３と同じ処理が行われる（ステップＳ１１０，Ｓ１１１）。
【0150】
ステップＳ１０７またはステップＳ１１１の処理後、移動制御部５８は、基板Ｗの中心位置Ｃが基準位置ｒｐに一致するようにハンドＨ１の位置を調整する（ステップＳ１０８）。そこで、図１２の座標情報記憶部５９は、現時点でハンドＨ１が位置する座標を記憶する（ステップＳ１０９）。これにより、ハンドＨ１の位置調整動作が終了する。ハンドＨ２についても、ハンドＨ１と同様の位置調整動作が行われる。なお、各ハンドＨ１，Ｈ２の位置調整動作後、当該ハンドＨ１，Ｈ２は、基板Ｗを受け取るとともに受け取った基板Ｗを他の処理ユニットに搬送してもよい。
【0151】
本実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、ハンドＨ１，Ｈ２に基板Ｗが保持された状態およびハンドＨ１，Ｈ２が支持部に支持された基板Ｗの下方に配置された状態のうちいずれの状態にあっても、ハンドＨ１，Ｈ２における基板Ｗの位置をそれぞれ判定することができる。それにより、判定結果に基づいて、高い精度で基板Ｗを搬送することおよび基板搬送装置５００のティーチングを行うことが可能になる。
【0152】
なお、本実施の形態に係る基板搬送装置５００は、搬送制御部５５０が第１および第２の制御モードで動作可能である点を除いて、第１の実施の形態に係る基板搬送装置５００と同じ構成を有するとしているが、本発明はこれに限定されない。本実施の形態に係る基板搬送装置５００は、搬送制御部５５０が第１および第２の制御モードで動作可能である点を除いて、第２および第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００と同じ構成を有してもよい。すなわち、第２および第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００において、搬送制御部５５０が上記の第１および第２の制御モードで動作可能に構成されてもよい。
【0153】
５．第５の実施の形態
図３０は、第１～第４のいずれかの実施の形態に係る基板搬送装置５００を備えた基板処理装置の全体構成を示す模式的ブロック図である。図３０に示すように、基板処理装置１００は、露光装置８００に隣接して設けられ、制御装置２１０、第１～第４のいずれかの実施の形態に係る基板搬送装置５００、熱処理部２３０、塗布処理部２４０および現像処理部２５０を備える。
図３０は、第１～第４のいずれかの実施の形態に係る基板搬送装置５００を備えた基板処理装置の全体構成を示す模式的ブロック図である。図３０に示すように、基板処理装置１００は、露光装置８００に隣接して設けられ、制御装置２１０、第１～第４のいずれかの実施の形態に係る基板搬送装置５００、熱処理部２３０、塗布処理部２４０および現像処理部２５０を備える。
【0154】
制御装置２１０は、例えばＣＰＵおよびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、基板搬送装置５００、熱処理部２３０、塗布処理部２４０および現像処理部２５０の動作を制御する。また、制御装置２１０は、基板搬送装置５００のハンドＨ１，Ｈ２を所定の処理ユニットの支持部に位置合わせするための指令を搬送制御部５５０に与える。
【0155】
基板搬送装置５００は、基板Ｗを熱処理部２３０、塗布処理部２４０、現像処理部２５０および露光装置８００の間で搬送する。塗布処理部２４０および現像処理部２５０の各々は、複数の処理ユニットＰＵを含む。塗布処理部２４０に設けられる処理ユニットＰＵには、支持部６００としてスピンチャックが設けられる。また、処理ユニットＰＵには、スピンチャックにより回転される基板Ｗにレジスト膜を形成するための処理液を供給する処理液ノズル５が設けられる。それにより、未処理の基板Ｗにレジスト膜が形成される。レジスト膜が形成された基板Ｗには、露光装置８００において露光処理が行われる。
【0156】
現像処理部２５０に設けられる処理ユニットＰＵには、スピンチャックにより回転される基板Ｗに現像液を供給する現像液ノズル６が設けられる。それにより、露光装置８００による露光処理後の基板Ｗが現像される。
【0157】
熱処理部２３０は、基板Ｗに加熱または冷却処理を行う複数の処理ユニットＴＵを含む。処理ユニットＴＵにおいては、支持部６００として温度調整プレートが設けられる。温度調整プレートは、加熱プレートまたはクーリングプレートである。熱処理部２３０においては、塗布処理部２４０による塗布処理、現像処理部２５０による現像処理、および露光装置８００による露光処理の前後に基板Ｗの熱処理が行われる。
【0158】
上記の基板処理装置１００には、第１～第４のいずれかの実施の形態に係る基板搬送装置５００が設けられる。それにより、基板Ｗの位置判定に要する時間を低減することができるので、基板の搬送時間が短縮され、基板処理のスループットが向上する。また、複数の処理ユニットＰＵ，ＴＵ間で基板Ｗが高い精度で搬送される。それにより、各処理ユニットＰＵ，ＴＵにおいて、基板Ｗの位置ずれに起因する処理不良の発生が防止され、基板Ｗの処理精度が向上する。
【0159】
６．他の実施の形態
（１）第１～第４の実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、ファイバセンサであり、検出領域ｄｆ１～ｄｆ５にライン状の光を出射するが、本発明はこれに限定されない。反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、基板Ｗにより反射される光を受ける受光面がライン状に形成されていればよい。したがって、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、円形状、楕円形状または矩形状の光を上方に向けて出射する構成を有してもよい。
（１）第１～第４の実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、ファイバセンサであり、検出領域ｄｆ１～ｄｆ５にライン状の光を出射するが、本発明はこれに限定されない。反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、基板Ｗにより反射される光を受ける受光面がライン状に形成されていればよい。したがって、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、円形状、楕円形状または矩形状の光を上方に向けて出射する構成を有してもよい。
【0160】
（２）第１～第４の実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、ハンドＨ１，Ｈ２における基板Ｗの位置を判定するために５つの反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５が用いられるが、本発明はこれに限定されない。
【0161】
例えば、位置判定の対象となる基板Ｗの設計半径が既知である場合には、ハンドＨ１，Ｈ２の各々に、基板Ｗの位置判定用の４つの反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ４のみが設けられてもよい。この場合、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ４を用いて生成される４つの仮想円ｃｒ１～ｃｒ４のうち、設計半径に一致するかまたは最も近い半径を有する仮想円（本例では仮想円ｃｒ４）を選択することにより、選択された仮想円に基づいてハンドＨ１，Ｈ２における基板Ｗの位置を判定することができる。
【0162】
また、例えば位置判定の対象となる基板Ｗにノッチが形成されていない場合には、ハンドＨ１，Ｈ２の各々に、基板Ｗの位置判定用の３つの反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ３のみが設けられてもよい。この場合、３つの反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ３から算出される基板Ｗの３つの部分ｐ１～ｐ３の位置を通る仮想円に基づいてハンドＨ１，Ｈ２における基板Ｗの位置を判定することができる。
【0163】
さらに、例えば位置判定の対象となる基板Ｗにノッチが形成されておらずかつ基板Ｗの設計半径が既知である場合には、ハンドＨ１，Ｈ２の各々に、基板Ｗの位置判定用の２つの反射型光検出器ＳＡ１，ＳＡ２のみが設けられてもよい。この場合、２つの反射型光検出器ＳＡ１，ＳＡ２から算出される基板Ｗの２つの部分ｐ１，ｐ２の位置を通りかつ設計半径を有する２つの仮想円と、予め推定される基板Ｗと反射型光検出器ＳＡ１，ＳＡ２との位置関係とに基づいてハンドＨ１，Ｈ２における基板Ｗの位置を判定することができる。
【0164】
（３）第１～第４の実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、光通過面ｓｓが進退方向ＡＢに平行となるように、ハンドＨ１，Ｈ２上に配置されるが、本発明はこれに限定されない。反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５は、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の光通過面ｓｓの少なくとも一部が他の光通過面ｓｓとは異なる方向に延びるように形成されてもよい。
【0165】
（４）第２および第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、反射型光検出器ＳＢ１は反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５と基本的に同じ構成を有するが、本発明はこれに限定されない。反射型光検出器ＳＢ１は、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５から出射される光に対する基板Ｗの反射率を求めることが可能な構成を有すればよく、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５とは異なる構成を有してもよい。
【0166】
（５）第３の実施の形態に係る基板搬送装置５００においては、反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ４は反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５と基本的に同じ構成を有するが、本発明はこれに限定されない。反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ４は、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５を用いて算出される基板Ｗの複数の部分ｐ１～ｐ５の内側部分ｐ１０に対する高さを求めることが可能な構成を有すればよい。そのため、第３の実施の形態では、反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ４に代えて、基板Ｗの複数の部分ｐ１～ｐ５および内側部分ｐ１０の高さ関係を算出するための複数の高さセンサが設けられてもよい。
【0167】
７．請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。上記の実施の形態では、基板搬送装置５００が基板搬送装置の例であり、ハンドＨ１，Ｈ２が保持部の例であり、光通過面ｓｓが受光面の例であり、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５が複数の反射型光検出器の例であり、部分位置算出部５１が部分位置算出部の例であり、基板位置判定部５３が基板位置判定部の例である。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。上記の実施の形態では、基板搬送装置５００が基板搬送装置の例であり、ハンドＨ１，Ｈ２が保持部の例であり、光通過面ｓｓが受光面の例であり、複数の反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５が複数の反射型光検出器の例であり、部分位置算出部５１が部分位置算出部の例であり、基板位置判定部５３が基板位置判定部の例である。
【0168】
また、反射型光検出器ＳＡ１～ＳＡ５の検出領域ｄｆ１～ｄｆ５が帯状の検出領域の例であり、進退方向ＡＢが一の方向の例であり、反射型光検出器ＳＡ１，ＳＡ２が第１の反射型光検出器の例であり、反射型光検出器ＳＡ３，ＳＡ４，ＳＡ５が第２の反射型光検出器の例であり、光量位置情報記憶部８１が記憶部の例である。
【0169】
また、反射型光検出器ＳＢ１が受光量測定器の例であり、光量位置情報生成部８２が光量位置情報生成部の例であり、複数の吸着部ｓｍが複数の吸着部の例であり、複数の反射型光検出器ＳＣ１～ＳＣ４が高さ検出部の例であり、部分位置補正部８３が補正部の例である。
【0170】
また、上下方向駆動モータ５１１、水平方向駆動モータ５１３、回転方向駆動モータ５１５、上ハンド進退用駆動モータ５２５、下ハンド進退用駆動モータ５２７、移動部材５１０および回転部材５２０を含む構成が移動部の例であり、受け取り位置が第１の位置の例であり、載置位置が第２の位置の例であり、移動制御部５８が移動制御部の例である。
【0171】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
８．参考形態
（１）第１の参考形態に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、基板を保持可能に構成された保持部と、ライン状の受光面を有しかつ保持部に設けられ、保持部上に配置された基板の外周部に向けて光をそれぞれ出射するとともに、受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、受光量を示す信号を出力する複数の反射型光検出器と、複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、保持部上に配置された基板について保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出する部分位置算出部と、部分位置算出部により算出された基板の複数の部分の位置に基づいて保持部に対する基板の位置を判定する位置判定部とを備える。
その基板搬送装置においては、保持部に設けられた複数の反射型光検出器から基板の外周部に光がそれぞれ出射される。この場合、基板の外周部で反射される光の光量は、ライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の位置に応じて変化する。そのため、複数の第１の反射型光検出器の出力信号により示される受光量によれば、複数の反射型光検出器のライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の複数の部分の位置を算出することが可能になる。それにより、保持部上に基板が配置された時点で、保持部に対する基板の位置を判定することができる。その結果、基板の搬送時における基板の位置判定に要する時間を低減することが可能になる。
（２）複数の反射型光検出器の各々は、受光面から上方に向かって延びる帯状の検出領域を有し、複数の部分は、平面視で複数の反射型光検出器の検出領域と保持部上に配置された基板の外周端部との交点であってもよい。この場合、算出される基板の複数の部分の位置に基づいて基板の位置を判定することができる。
（３）複数の反射型光検出器は、受光面が一の方向において互いに重ならないように、保持部に設けられた第１および第２の反射型光検出器を含んでもよい。この場合、第１および第２の反射型光検出器の出力信号と第１および第２の反射型光検出器の位置関係とに基づいて、基板の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（４）基板搬送装置は、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を記憶する記憶部をさらに備え、部分位置算出部は、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、記憶部に記憶された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出してもよい。この場合、光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（５）基板搬送装置は、保持部に設けられ、基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて光を出射するとともに、基板により反射された光を受光して、受光量を示す信号を出力する受光量測定器と、受光量測定器の出力信号に基づいて、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の関係を示す光量位置情報を生成する光量位置情報生成部とを備え、部分位置算出部は、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、光量位置情報生成部により生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出してもよい。
この場合、基板に対する光の反射率が未知である場合でも、受光量測定器の出力信号に基づいて光量位置情報が生成される。それにより、生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（６）保持部は、基板の下面を吸着保持する複数の吸着部をさらに有し、受光量測定器と複数の吸着部のうち一の吸着部との間の距離は、複数の反射型光検出器の各々と一の吸着部との間の距離よりも小さくてもよい。
この場合、受光量測定器は複数の反射型光検出器に比べて一の吸着部の近傍に位置する。そのため、基板に反り等の変形が発生している場合でも、受光量測定器からの光を受ける基板の内側部分の高さは、一の吸着部により略一定の高さに保持される。したがって、光量位置情報を生成するための条件のばらつきが低減される。その結果、適切に生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置をより高い精度で算出することができる。
（７）基板搬送装置は、保持部における基板の複数の部分の高さを検出する高さ検出部と、高さ検出部により検出された基板の複数の部分の高さに基づいて、部分位置算出部により算出された基板の複数の部分の位置をそれぞれ補正する補正部をさらに備え、位置判定部は、補正部による補正後の基板の複数の部分の位置に基づいて、保持部に対する基板の位置を判定してもよい。
反射型光検出器から出射されて基板で反射されることにより当該反射型光検出器に帰還する光の光量は、反射型光検出器と基板との間の距離によっても変化する。上記の構成によれば、基板の外周端部の複数の部分の高さが検出され、検出された高さに基づいて基板の外周端部の複数の部分の位置の算出結果が補正される。したがって、基板の外周端部の複数の部分の位置をさらに高い精度で取得することができる。
（８）基板搬送装置は、複数の反射型光検出器を制御する光検出器制御部をさらに備え、光検出器制御部は、保持部により基板が保持された状態で、複数の反射型光検出器を制御する第１の制御モードと、保持部により基板が保持されずかつ保持部が支持部に支持された基板の下方の位置に配置された状態で、複数の反射型光検出器を制御する第２の制御モードとで動作可能に構成されてもよい。
この場合、保持部により基板が保持された状態および保持部が支持部に支持された基板の下方に配置された状態のうちいずれの状態にあっても、保持部における基板の位置をそれぞれ判定することができる。
（９）基板搬送装置は、保持部を移動させる移動部と、位置判定部による判定結果に基づいて、保持部により保持された基板が予め定められた第１の位置から第２の位置へ搬送されるように移動部を制御する移動制御部とをさらに備えてもよい。
この場合、位置判定部による判定結果に基づいて、保持部により保持される基板を予め定められた第１の位置から第２の位置へ高い精度で搬送することができる。
（１０）第２の参考形態に係る基板搬送方法は、基板を搬送する基板搬送方法であって、基板を保持可能に構成された保持部上に基板を配置するステップと、ライン状の受光面を有しかつ保持部に設けられた複数の反射型光検出器を用いることにより、保持部上に配置された基板の外周部に向けて光を出射するとともに、受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、複数の反射型光検出器から受光量を示す信号をそれぞれ出力させるステップと、複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、保持部上に配置された基板について保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出するステップと、算出するステップにより算出された基板の複数の部分の位置に基づいて保持部に対する基板の位置を判定するステップとを含む。
その基板搬送方法においては、保持部に設けられた複数の反射型光検出器から基板の外周部に光がそれぞれ出射される。この場合、基板の外周部で反射される光の光量は、ライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の位置に応じて変化する。そのため、複数の第１の反射型光検出器の出力信号により示される受光量によれば、複数の反射型光検出器のライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の複数の部分の位置を算出することが可能になる。それにより、保持部上に基板が配置された時点で、保持部に対する基板の位置を判定することができる。その結果、基板の搬送時における基板の位置判定に要する時間を低減することが可能になる。
（１１）複数の反射型光検出器の各々は、保持部から上方に向かって延びる帯状の検出領域を有し、複数の部分は、平面視で複数の反射型光検出器の検出領域と保持部上に配置された基板の外周端部との交点であってもよい。この場合、算出される基板の複数の部分の位置に基づいて基板の位置を判定することができる。
（１２）複数の反射型光検出器は、受光面が一の方向において互いに重ならないように、保持部に設けられた第１および第２の反射型光検出器を含んでもよい。この場合、第１および第２の反射型光検出器の出力信号と第１および第２の反射型光検出器の位置関係とに基づいて、基板の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（１３）基板搬送方法は、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を記憶するステップをさらに含み、算出するステップは、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、記憶するステップにより記憶された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出してもよい。この場合、光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（１４）基板搬送方法は、保持部に設けられる受光量測定器を用いて保持部上に配置された基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて光を出射するとともに基板から反射された光を受光することにより、当該受光量測定器から受光量を示す信号を出力させるステップと、受光量測定器の出力信号に基づいて、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を生成するステップとをさらに含み、算出するステップは、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、生成するステップにより生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出することを含んでもよい。
この場合、基板に対する光の反射率が未知である場合でも、受光量測定器の出力信号に基づいて光量位置情報が生成される。それにより、生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（１５）保持部上に基板を配置するステップは、保持部が有する複数の吸着部により基板の下面を吸着保持することを含み、受光量測定器と複数の吸着部のうち一の吸着部との間の距離は、複数の反射型光検出器の各々と一の吸着部との間の距離よりも小さくてもよい。
この場合、受光量測定器は複数の反射型光検出器に比べて一の吸着部の近傍に位置する。そのため、基板に反り等の変形が発生している場合でも、受光量測定器からの光を受ける基板の内側部分の高さは、一の吸着部により略一定の高さに保持される。したがって、光量位置情報を生成するための条件のばらつきが低減される。その結果、適切に生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置をより高い精度で算出することができる。
（１６）基板搬送方法は、保持部における基板の複数の部分の高さを検出するステップと、高さを検出するステップにより検出された基板の複数の部分の高さに基づいて、算出するステップにより算出された基板の複数の部分の位置をそれぞれ補正するステップをさらに含み、基板の位置を判定するステップは、補正するステップによる補正後の基板の複数の部分の位置に基づいて、保持部に対する基板の位置を判定することを含んでもよい。
反射型光検出器から出射されて基板で反射されることにより当該反射型光検出器に帰還する光の光量は、反射型光検出器と基板との間の距離によっても変化する。上記の構成によれば、基板の外周端部の複数の部分の高さが検出され、検出された高さに基づいて基板の外周端部の複数の部分の位置の算出結果が補正される。したがって、基板の外周端部の複数の部分の位置をさらに高い精度で取得することができる。
（１７）複数の反射型光検出器から受光量を出力させるステップは、保持部により保持された基板の外周部に向けて光を出射することと、保持部により基板が保持されずかつ保持部が支持部に支持された基板の下方の位置に配置された状態で基板の外周部に向けて光を出射することとを含んでもよい。
この場合、保持部により基板が保持された状態および保持部が支持部に支持された基板の下方に配置された状態のうちいずれの状態にあっても、保持部における基板の位置をそれぞれ判定することができる。
（１８）基板搬送方法は、基板の位置を判定するステップによる判定結果に基づいて、保持部により保持された基板が予め定められた第１の位置から第２の位置へ搬送されるように保持部を移動させるステップをさらに含んでもよい。
この場合、基板の位置を判定するステップによる判定結果に基づいて、保持部により保持される基板を予め定められた第１の位置から第２の位置へ高い精度で搬送することができる。
８．参考形態
（１）第１の参考形態に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、基板を保持可能に構成された保持部と、ライン状の受光面を有しかつ保持部に設けられ、保持部上に配置された基板の外周部に向けて光をそれぞれ出射するとともに、受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、受光量を示す信号を出力する複数の反射型光検出器と、複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、保持部上に配置された基板について保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出する部分位置算出部と、部分位置算出部により算出された基板の複数の部分の位置に基づいて保持部に対する基板の位置を判定する位置判定部とを備える。
その基板搬送装置においては、保持部に設けられた複数の反射型光検出器から基板の外周部に光がそれぞれ出射される。この場合、基板の外周部で反射される光の光量は、ライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の位置に応じて変化する。そのため、複数の第１の反射型光検出器の出力信号により示される受光量によれば、複数の反射型光検出器のライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の複数の部分の位置を算出することが可能になる。それにより、保持部上に基板が配置された時点で、保持部に対する基板の位置を判定することができる。その結果、基板の搬送時における基板の位置判定に要する時間を低減することが可能になる。
（２）複数の反射型光検出器の各々は、受光面から上方に向かって延びる帯状の検出領域を有し、複数の部分は、平面視で複数の反射型光検出器の検出領域と保持部上に配置された基板の外周端部との交点であってもよい。この場合、算出される基板の複数の部分の位置に基づいて基板の位置を判定することができる。
（３）複数の反射型光検出器は、受光面が一の方向において互いに重ならないように、保持部に設けられた第１および第２の反射型光検出器を含んでもよい。この場合、第１および第２の反射型光検出器の出力信号と第１および第２の反射型光検出器の位置関係とに基づいて、基板の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（４）基板搬送装置は、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を記憶する記憶部をさらに備え、部分位置算出部は、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、記憶部に記憶された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出してもよい。この場合、光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（５）基板搬送装置は、保持部に設けられ、基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて光を出射するとともに、基板により反射された光を受光して、受光量を示す信号を出力する受光量測定器と、受光量測定器の出力信号に基づいて、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の関係を示す光量位置情報を生成する光量位置情報生成部とを備え、部分位置算出部は、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、光量位置情報生成部により生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出してもよい。
この場合、基板に対する光の反射率が未知である場合でも、受光量測定器の出力信号に基づいて光量位置情報が生成される。それにより、生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（６）保持部は、基板の下面を吸着保持する複数の吸着部をさらに有し、受光量測定器と複数の吸着部のうち一の吸着部との間の距離は、複数の反射型光検出器の各々と一の吸着部との間の距離よりも小さくてもよい。
この場合、受光量測定器は複数の反射型光検出器に比べて一の吸着部の近傍に位置する。そのため、基板に反り等の変形が発生している場合でも、受光量測定器からの光を受ける基板の内側部分の高さは、一の吸着部により略一定の高さに保持される。したがって、光量位置情報を生成するための条件のばらつきが低減される。その結果、適切に生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置をより高い精度で算出することができる。
（７）基板搬送装置は、保持部における基板の複数の部分の高さを検出する高さ検出部と、高さ検出部により検出された基板の複数の部分の高さに基づいて、部分位置算出部により算出された基板の複数の部分の位置をそれぞれ補正する補正部をさらに備え、位置判定部は、補正部による補正後の基板の複数の部分の位置に基づいて、保持部に対する基板の位置を判定してもよい。
反射型光検出器から出射されて基板で反射されることにより当該反射型光検出器に帰還する光の光量は、反射型光検出器と基板との間の距離によっても変化する。上記の構成によれば、基板の外周端部の複数の部分の高さが検出され、検出された高さに基づいて基板の外周端部の複数の部分の位置の算出結果が補正される。したがって、基板の外周端部の複数の部分の位置をさらに高い精度で取得することができる。
（８）基板搬送装置は、複数の反射型光検出器を制御する光検出器制御部をさらに備え、光検出器制御部は、保持部により基板が保持された状態で、複数の反射型光検出器を制御する第１の制御モードと、保持部により基板が保持されずかつ保持部が支持部に支持された基板の下方の位置に配置された状態で、複数の反射型光検出器を制御する第２の制御モードとで動作可能に構成されてもよい。
この場合、保持部により基板が保持された状態および保持部が支持部に支持された基板の下方に配置された状態のうちいずれの状態にあっても、保持部における基板の位置をそれぞれ判定することができる。
（９）基板搬送装置は、保持部を移動させる移動部と、位置判定部による判定結果に基づいて、保持部により保持された基板が予め定められた第１の位置から第２の位置へ搬送されるように移動部を制御する移動制御部とをさらに備えてもよい。
この場合、位置判定部による判定結果に基づいて、保持部により保持される基板を予め定められた第１の位置から第２の位置へ高い精度で搬送することができる。
（１０）第２の参考形態に係る基板搬送方法は、基板を搬送する基板搬送方法であって、基板を保持可能に構成された保持部上に基板を配置するステップと、ライン状の受光面を有しかつ保持部に設けられた複数の反射型光検出器を用いることにより、保持部上に配置された基板の外周部に向けて光を出射するとともに、受光面により基板から反射された光をそれぞれ受光して、複数の反射型光検出器から受光量を示す信号をそれぞれ出力させるステップと、複数の反射型光検出器の出力信号に基づいて、保持部上に配置された基板について保持部における基板の外周端部の複数の部分の位置をそれぞれ算出するステップと、算出するステップにより算出された基板の複数の部分の位置に基づいて保持部に対する基板の位置を判定するステップとを含む。
その基板搬送方法においては、保持部に設けられた複数の反射型光検出器から基板の外周部に光がそれぞれ出射される。この場合、基板の外周部で反射される光の光量は、ライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の位置に応じて変化する。そのため、複数の第１の反射型光検出器の出力信号により示される受光量によれば、複数の反射型光検出器のライン状の受光面が延びる方向における基板の外周端部の複数の部分の位置を算出することが可能になる。それにより、保持部上に基板が配置された時点で、保持部に対する基板の位置を判定することができる。その結果、基板の搬送時における基板の位置判定に要する時間を低減することが可能になる。
（１１）複数の反射型光検出器の各々は、保持部から上方に向かって延びる帯状の検出領域を有し、複数の部分は、平面視で複数の反射型光検出器の検出領域と保持部上に配置された基板の外周端部との交点であってもよい。この場合、算出される基板の複数の部分の位置に基づいて基板の位置を判定することができる。
（１２）複数の反射型光検出器は、受光面が一の方向において互いに重ならないように、保持部に設けられた第１および第２の反射型光検出器を含んでもよい。この場合、第１および第２の反射型光検出器の出力信号と第１および第２の反射型光検出器の位置関係とに基づいて、基板の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（１３）基板搬送方法は、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を記憶するステップをさらに含み、算出するステップは、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、記憶するステップにより記憶された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出してもよい。この場合、光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（１４）基板搬送方法は、保持部に設けられる受光量測定器を用いて保持部上に配置された基板の外周部よりも内側に位置する内側部分に向けて光を出射するとともに基板から反射された光を受光することにより、当該受光量測定器から受光量を示す信号を出力させるステップと、受光量測定器の出力信号に基づいて、複数の反射型光検出器が受光する受光量と保持部における基板の複数の部分の位置との間の予め定められた関係を示す光量位置情報を生成するステップとをさらに含み、算出するステップは、複数の反射型光検出器の出力信号に加えて、生成するステップにより生成された光量位置情報に基づいて保持部における基板の複数の部分の位置をそれぞれ算出することを含んでもよい。
この場合、基板に対する光の反射率が未知である場合でも、受光量測定器の出力信号に基づいて光量位置情報が生成される。それにより、生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置を高い精度で算出することができる。
（１５）保持部上に基板を配置するステップは、保持部が有する複数の吸着部により基板の下面を吸着保持することを含み、受光量測定器と複数の吸着部のうち一の吸着部との間の距離は、複数の反射型光検出器の各々と一の吸着部との間の距離よりも小さくてもよい。
この場合、受光量測定器は複数の反射型光検出器に比べて一の吸着部の近傍に位置する。そのため、基板に反り等の変形が発生している場合でも、受光量測定器からの光を受ける基板の内側部分の高さは、一の吸着部により略一定の高さに保持される。したがって、光量位置情報を生成するための条件のばらつきが低減される。その結果、適切に生成された光量位置情報に基づいて、基板の外周端部の複数の部分の位置をより高い精度で算出することができる。
（１６）基板搬送方法は、保持部における基板の複数の部分の高さを検出するステップと、高さを検出するステップにより検出された基板の複数の部分の高さに基づいて、算出するステップにより算出された基板の複数の部分の位置をそれぞれ補正するステップをさらに含み、基板の位置を判定するステップは、補正するステップによる補正後の基板の複数の部分の位置に基づいて、保持部に対する基板の位置を判定することを含んでもよい。
反射型光検出器から出射されて基板で反射されることにより当該反射型光検出器に帰還する光の光量は、反射型光検出器と基板との間の距離によっても変化する。上記の構成によれば、基板の外周端部の複数の部分の高さが検出され、検出された高さに基づいて基板の外周端部の複数の部分の位置の算出結果が補正される。したがって、基板の外周端部の複数の部分の位置をさらに高い精度で取得することができる。
（１７）複数の反射型光検出器から受光量を出力させるステップは、保持部により保持された基板の外周部に向けて光を出射することと、保持部により基板が保持されずかつ保持部が支持部に支持された基板の下方の位置に配置された状態で基板の外周部に向けて光を出射することとを含んでもよい。
この場合、保持部により基板が保持された状態および保持部が支持部に支持された基板の下方に配置された状態のうちいずれの状態にあっても、保持部における基板の位置をそれぞれ判定することができる。
（１８）基板搬送方法は、基板の位置を判定するステップによる判定結果に基づいて、保持部により保持された基板が予め定められた第１の位置から第２の位置へ搬送されるように保持部を移動させるステップをさらに含んでもよい。
この場合、基板の位置を判定するステップによる判定結果に基づいて、保持部により保持される基板を予め定められた第１の位置から第２の位置へ高い精度で搬送することができる。
【符号の説明】
【0172】
５…処理液ノズル，６…現像液ノズル，５１…部分位置算出部，５２…仮想円算出部，５３…基板位置判定部，５４…検出器位置記憶部，５５…しきい値記憶部，５８…移動制御部，５９…座標情報記憶部，６０…座標情報補正部，８１…光量位置情報記憶部，８２…光量位置情報生成部，８３…部分位置補正部，１００…基板処理装置，２１０…制御装置，２３０…熱処理部，２４０…塗布処理部，２５０…現像処理部，５００…基板搬送装置，５１０…移動部材，５１１…上下方向駆動モータ，５１２…上下方向エンコーダ，５１３…水平方向駆動モータ，５１４…水平方向エンコーダ，５１５…回転方向駆動モータ，５１６…回転方向エンコーダ，５２０…回転部材，５２１，５２２…支持部材，５２５…上ハンド進退用駆動モータ，５２６…上ハンドエンコーダ，５２７…下ハンド進退用駆動モータ，５２８…下ハンドエンコーダ，５２９…操作部，５５０…搬送制御部，６００…支持部，８００…露光装置，ＡＢ…進退方向，Ｃ，ｖｐ１～ｖｐ４…中心位置，ｄｆ１～ｄｆ５，ｄｆ１１，ｄｆ２１～ｄｆ２４…検出領域，Ｗ…基板，Ｈ１，Ｈ２…ハンド，Ｈａ…ガイド部，Ｈｂ…アーム部，Ｎ…ノッチ，ＰＵ，ＴＵ…処理ユニット，ＳＡ１～ＳＡ５，ＳＢ１，ＳＣ１～ＳＣ４…反射型光検出器，ｃｒ１～ｃｒ４…仮想円，ｐ１～ｐ５…部分，ｐ１０…内側部分，ｒｐ…基準位置，ｓｍ…吸着部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】