特許7684297ガス流回転を用いたエピタキシャル反応炉の反応室用基板支持装置、反応室及びエピタキシャル反応炉

発明の名称　ガス流回転を用いたエピタキシャル反応炉の反応室用基板支持装置、反応室及びエピタキシャル反応炉

出願人　エルピーイー　ソシエタ　ペル　アチオニ　（識別番号 501372765）

　　　　特許公開件数ランキング 30460 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 2712 位（5件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7684297

公報発行日　2025年5月27

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7684297

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