7714816 ペリクル及びペリクルの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2025-07-18

(45)【発行日】2025-07-29

(54)【発明の名称】ペリクル及びペリクルの製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 1/62 20120101AFI20250722BHJP

【ＦＩ】

G03F1/62

【請求項の数】 29

(21)【出願番号】P 2024557669

(86)(22)【出願日】2024-03-25

(86)【国際出願番号】 JP2024011773

(87)【国際公開番号】W WO2024204107

(87)【国際公開日】2024-10-03

【審査請求日】2024-11-18

(31)【優先権主張番号】P 2023051838

(32)【優先日】2023-03-28

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】000102980

【氏名又は名称】リンテック株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000637

【氏名又は名称】弁理士法人樹之下知的財産事務所

(72)【発明者】

【氏名】河原 準

【審査官】今井 彰

(56)【参考文献】

【文献】米国特許出願公開第２０２１／０１３２４９０（ＵＳ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０２２／２１０７３１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】韓国公開特許第１０－２０１９－０１４１９８６（ＫＲ，Ａ）

【文献】特表２０２２－５３４４７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０－２０１７－０１２６２６５（ＫＲ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０－２０１６－０１２７２１８（ＫＲ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０－２０２０－０１４１９１３（ＫＲ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０－２０２３－００１１８３６（ＫＲ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０２８４６２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０２０－５２３６２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２０－１３４８７０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０９１００１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２２－０２９３９４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ １／６２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ペリクル膜と、
枠部と前記枠部に囲まれた開口部とを有し、前記ペリクル膜を支持する支持体と、
第１補強層と、
前記ペリクル膜を補強する第２補強層と、を備え、
前記枠部は、前記ペリクル膜と対向する支持面を有し、
前記ペリクル膜は、前記支持体に対向する第１ペリクル膜面と、前記第１ペリクル膜面とは反対側の第２ペリクル膜面と、を有し、
前記第２補強層は、前記支持体に支持された前記ペリクル膜を平面視した際に、前記ペリクル膜と前記支持体とが重なる領域であり、かつ、前記第２ペリクル膜面側に配置され、
前記第２補強層は、前記支持体の前記開口部側に張り出さず、前記第２補強層の内側端部が、前記枠部の内側端面に揃えて形成されているか、もしくは前記枠部の内側端面よりも内側に位置するように形成され、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、及びアモルファスカーボンからなる群から選択される１種以上の材料を含有し、
前記第１補強層は、前記第１ペリクル膜面側であって、前記ペリクル膜と前記支持体との間に配置され、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有し、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有する、ペリクル。

【請求項2】

請求項１に記載のペリクルにおいて、
前記第１補強層は、前記支持面に直接接して配置されている、ペリクル。

【請求項3】

請求項１又は請求項２に記載のペリクルにおいて、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブを含み、
前記第２補強層中のカーボンナノチューブは、前記枠部の前記支持面に対して平行方向に配向している、ペリクル。

【請求項4】

請求項１又は請求項２に記載のペリクルにおいて、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブを含有する、ペリクル。

【請求項5】

請求項１又は請求項２に記載のペリクルにおいて、
前記ペリクル膜の材料と前記第２補強層の材料とが同じである、ペリクル。

【請求項6】

請求項１又は請求項２に記載のペリクルにおいて、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブを含み、
前記第１補強層中のカーボンナノチューブは、前記枠部の前記支持面に対して平行方向に配向している、ペリクル。

【請求項7】

請求項２に記載のペリクルにおいて、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブを含有し、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブを含有し、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブを含有する、ペリクル。

【請求項8】

請求項７に記載のペリクルにおいて、
前記第２補強層中のカーボンナノチューブは、前記枠部の前記支持面に対して平行方向に配向し、
前記第１補強層中のカーボンナノチューブは、前記枠部の前記支持面に対して平行方向に配向している、ペリクル。

【請求項9】

請求項７又は請求項８に記載のペリクルにおいて、
前記第２補強層における膜の単位面積当たりのカーボンナノチューブの質量は、前記ペリクル膜と比べて、増量されている、ペリクル。

【請求項10】

請求項７又は請求項８に記載のペリクルにおいて、
前記第１補強層における膜の単位面積当たりのカーボンナノチューブの質量は、前記ペリクル膜と比べて、増量されている、ペリクル。

【請求項11】

請求項９に記載のペリクルにおいて、
前記第１補強層における膜の単位面積当たりのカーボンナノチューブの質量は、前記ペリクル膜と比べて、増量されている、ペリクル。

【請求項12】

請求項１又は請求項２に記載のペリクルにおいて、
前記第２補強層は、前記支持面の前記ペリクル膜が張り付けられていない領域まで張り出して、前記ペリクル膜の側部を覆っている、ペリクル。

【請求項13】

請求項１２に記載のペリクルにおいて、
前記第１補強層は、前記支持面の前記ペリクル膜が張り付けられていない領域まで張り出して、前記支持面の前記ペリクル膜が張り付けられていない領域まで張り出した前記第２補強層と接している、ペリクル。

【請求項14】

ペリクルを製造するペリクルの製造方法であって、
開口部と前記開口部を囲う枠部とを有する支持体に対して、前記開口部を覆うと共に、前記枠部の支持面で支持されるようにペリクル膜を張り付ける工程と、
前記ペリクル膜の前記支持体に対向する第１ペリクル膜面とは反対側の第２ペリクル膜面における領域であって、前記ペリクル膜を平面視した際に、前記ペリクル膜と前記支持体とが重なる領域に第２補強層を配置する工程と、を含む、ペリクルの製造方法。

【請求項15】

請求項１４に記載のペリクルの製造方法であって、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有する、ペリクルの製造方法。

【請求項16】

請求項１４に記載のペリクルの製造方法であって、
前記第２補強層を配置する工程において、前記第２補強層は、前記支持体の前記開口部側に張り出さず、前記第２補強層の内側端部が、前記枠部の内側端面に揃えて形成されるか、もしくは前記枠部の内側端面よりも内側に位置するように形成される、ペリクルの製造方法。

【請求項17】

請求項１４に記載のペリクルの製造方法であって、
前記ペリクル膜を張り付ける工程の前に、前記開口部の外周側であり、かつ、前記枠部の前記支持面に第１補強層を配置する工程をさらに含み、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有し、
前記ペリクル膜を張り付ける工程において、前記開口部を覆うと共に、前記第１補強層で支持されるように前記ペリクル膜を張り付ける、ペリクルの製造方法。

【請求項18】

請求項１７に記載のペリクルの製造方法であって、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有する、ペリクルの製造方法。

【請求項19】

ペリクルを製造するペリクルの製造方法であって、
ペリクル膜に第２補強層を配置する工程と、
前記第２補強層が配置された前記ペリクル膜を、開口部と前記開口部を囲う枠部とを有する支持体に対して、前記開口部を覆うと共に、前記枠部の支持面で支持されるように張り付ける工程と、を含み、
前記ペリクル膜を張り付ける工程の前に、前記開口部の外周側であり、かつ、前記枠部の前記支持面に第１補強層を配置する工程をさらに含み、
前記第２補強層を配置する工程において、前記第２補強層を、前記ペリクル膜の前記支持体に対向する第１ペリクル膜面とは反対側の第２ペリクル膜面における領域であって、前記支持体に張り付けられた後の前記ペリクル膜を平面視した際に、前記ペリクル膜と前記支持体とが重なる領域に予め配置し、
さらに、前記第２補強層を配置する工程において、前記第２補強層は、前記支持体の前記開口部側に張り出さず、前記第２補強層の内側端部が、前記枠部の内側端面に揃えて形成されるか、もしくは前記枠部の内側端面よりも内側に位置するように形成され、
前記ペリクル膜を張り付ける工程において、前記開口部を覆うと共に、前記第１補強層で支持されるように前記ペリクル膜を張り付け、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有し、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、及びアモルファスカーボンからなる群から選択される１種以上の材料を含有し、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有する、ペリクルの製造方法。

【請求項20】

請求項１７又は請求項１９に記載のペリクルの製造方法であって、
前記第１補強層は、前記支持面に直接接して配置される、ペリクルの製造方法。

【請求項21】

請求項１５又は請求項１９に記載のペリクルの製造方法であって、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブを含み、
前記第２補強層中のカーボンナノチューブが、前記ペリクル膜の膜面に対して平行方向に配向するように前記第２補強層を形成する、ペリクルの製造方法。

【請求項22】

請求項１７又は請求項１９に記載のペリクルの製造方法であって、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブを含有する、ペリクルの製造方法。

【請求項23】

請求項１７又は請求項１９に記載のペリクルの製造方法において、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブを含み、
前記第１補強層中のカーボンナノチューブが、前記枠部の前記支持面に対して平行方向に配向するように前記第１補強層を形成する、ペリクルの製造方法。

【請求項24】

請求項１４又は請求項１９に記載のペリクルの製造方法において、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブを含有する、ペリクルの製造方法。

【請求項25】

請求項１４又は請求項１９に記載のペリクルの製造方法において、
前記ペリクル膜の材料と前記第２補強層の材料とが同じである、ペリクルの製造方法。

【請求項26】

請求項２０に記載のペリクルの製造方法であって、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブを含有し、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブを含有し、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブを含有する、ペリクルの製造方法。

【請求項27】

請求項２０に記載のペリクルにおいて、
前記第２補強層における膜の単位面積当たりのカーボンナノチューブの質量は、前記ペリクル膜と比べて、増量されている、ペリクルの製造方法。

【請求項28】

請求項２０に記載のペリクルにおいて、
前記第１補強層における膜の単位面積当たりのカーボンナノチューブの質量は、前記ペリクル膜と比べて、増量されている、ペリクルの製造方法。

【請求項29】

請求項２７に記載のペリクルにおいて、
前記第１補強層における膜の単位面積当たりのカーボンナノチューブの質量は、前記ペリクル膜と比べて、増量されている、ペリクルの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ペリクル及びペリクルの製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイス等の製造工程では、例えば、半導体ウエハ等の基板にフォトレジストを塗布し、フォトレジストを塗布した基板上に、フォトマスクを用いて光を照射し、フォトレジストを除去することにより、基板上に目的とする回路パターンが形成される。

【0003】

フォトマスク上に異物が付着した状態で光が照射されると、付着した異物によって、基板上に形成された回路パターンに支障を来す場合がある。このため、フォトマスク上への異物の付着を抑制するために、異物を捕捉させるペリクル膜を備えたペリクルが使用される場合がある。ペリクルは、フォトマスクの上方に、ペリクル膜がフォトマスクに接しない距離で配置される。

【0004】

近年、より微細な回路パターンを形成するために、極端紫外線（ＥＵＶ：Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ）の使用が検討されている。ＥＵＶは、波長１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の光を指す。ＥＵＶとしては、例えば、具体的には、１３．５ｎｍ±０．３ｎｍ程度の光線が使用されつつある。ＥＵＶがペリクル膜に照射された場合、ＥＵＶはペリクル膜を透過するものの、照射されたＥＵＶの一部はペリクル膜に吸収される。吸収されたＥＵＶの光エネルギーは熱エネルギーに変換されることにより、ペリクル膜の温度が上昇する。このため、ペリクル膜には、ＥＵＶの透過性、耐熱性及び耐久性等が求められる。

【0005】

例えば、特許文献１には、ペリクル膜を加熱処理（アニール処理）することにより、ペリクル膜の強度を向上させることができると記載されている。
また、特許文献２には、ペリクル膜とペリクルフレームとから構成され、ペリクル膜が接着剤又は粘着剤を介してペリクルフレームの上端面に設けられるフォトリソグラフィ用ペリクルが記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開２０２０－９１３１４号公報

【文献】特開２０２０－９８２２７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

特許文献１には、ペリクル膜の強度を向上させ得る方法が記載されているものの、ペリクルの耐衝撃性をさらに向上させる技術が求められている。
また、特許文献２のペリクルは、ペリクル膜が接着剤又は粘着剤を介して支持体（ペリクルフレーム）に固定されている。接着剤及び粘着剤は、耐熱性に優れた素材ではないため、ＥＵＶのような高エネルギーの光照射を受けると分解して異物となる可能性がある。

【0008】

本発明の目的は、耐衝撃性を向上させることができると共に、異物発生を抑制することができるペリクルを提供すること、並びに当該ペリクルを製造するためのペリクルの製造方法を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0009】

［１］．
ペリクル膜と、
枠部と前記枠部に囲まれた開口部とを有し、前記ペリクル膜を支持する支持体と、
前記ペリクル膜を補強する第２補強層と、を備え、
前記枠部は、前記ペリクル膜と対向する支持面を有し、
前記ペリクル膜は、前記支持体に対向する第１ペリクル膜面と、前記第１ペリクル膜面とは反対側の第２ペリクル膜面と、を有し、
前記第２補強層は、前記支持体に支持された前記ペリクル膜を平面視した際に、前記ペリクル膜と前記支持体とが重なる領域であり、かつ、前記第２ペリクル膜面側に配置されている、ペリクル。

【0010】

［２］．
［１］に記載のペリクルにおいて、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有する、ペリクル。

【0011】

［３］．
［２］に記載のペリクルにおいて、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブを含み、
前記第２補強層中のカーボンナノチューブは、前記枠部の前記支持面に対して平行方向に配向している、ペリクル。

【0012】

［４］．
［１］から［３］のいずれか一項に記載のペリクルにおいて、
前記ペリクル膜は、無機薄膜又は有機薄膜である、ペリクル。

【0013】

［５］．
［１］から［４］のいずれか一項に記載のペリクルにおいて、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有する、ペリクル。

【0014】

［６］．
［１］から［５］のいずれか一項に記載のペリクルにおいて、
前記ペリクル膜は、カーボンナノチューブを含有する、ペリクル。

【0015】

［７］．
［１］から［６］のいずれか一項に記載のペリクルにおいて、
前記ペリクル膜の材料と前記第２補強層の材料とが同じである、ペリクル。

【0016】

［８］．
［１］から［７］のいずれか一項に記載のペリクルにおいて、
前記第１ペリクル膜面側であって、前記ペリクル膜と前記支持体との間に配置されている第１補強層をさらに備える、ペリクル。

【0017】

［９］．
［８］に記載のペリクルにおいて、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有する、ペリクル。

【0018】

［１０］．
［８］又は［９］に記載のペリクルにおいて、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブを含み、
前記第１補強層中のカーボンナノチューブは、前記枠部の前記支持面に対して平行方向に配向している、ペリクル。

【0019】

［１１］．
ペリクルを製造するペリクルの製造方法であって、
開口部と前記開口部を囲う枠部とを有する支持体に対して、前記開口部を覆うと共に、前記枠部の支持面で支持されるようにペリクル膜を張り付ける工程と、
前記ペリクル膜の前記支持体に対向する第１ペリクル膜面とは反対側の第２ペリクル膜面における領域であって、前記ペリクル膜を平面視した際に、前記ペリクル膜と前記支持体とが重なる領域に第２補強層を配置する工程と、を含む、ペリクルの製造方法。

【0020】

［１２］．
ペリクルを製造するペリクルの製造方法であって、
ペリクル膜に第２補強層を配置する工程と、
前記第２補強層が配置された前記ペリクル膜を、開口部と前記開口部を囲う枠部とを有する支持体に対して、前記開口部を覆うと共に、前記枠部の支持面で支持されるように張り付ける工程と、を含み、
前記第２補強層を配置する工程において、前記第２補強層を、前記ペリクル膜の前記支持体に対向する第１ペリクル膜面とは反対側の第２ペリクル膜面における領域であって、前記支持体に張り付けられた後の前記ペリクル膜を平面視した際に、前記ペリクル膜と前記支持体とが重なる領域に予め配置する、ペリクルの製造方法。

【0021】

［１３］．
［１１］又は［１２］に記載のペリクルの製造方法であって、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有する、ペリクルの製造方法。

【0022】

［１４］．
［１３］に記載のペリクルの製造方法であって、
前記第２補強層は、カーボンナノチューブを含み、
前記第２補強層中のカーボンナノチューブが、前記ペリクル膜の膜面に対して平行方向に配向するように前記第２補強層を形成する、ペリクルの製造方法。

【0023】

［１５］．
［１１］から［１４］のいずれか一項に記載のペリクルの製造方法であって、
前記ペリクル膜を張り付ける工程の前に、前記開口部の外周側であり、かつ、前記枠部の前記支持面に第１補強層を配置する工程をさらに含み、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有し、
前記ペリクル膜を張り付ける工程において、前記開口部を覆うと共に、前記第１補強層で支持されるように前記ペリクル膜を張り付ける、ペリクルの製造方法。

【0024】

［１６］．
［１５］に記載のペリクルの製造方法において、
前記第１補強層は、カーボンナノチューブを含み、
前記第１補強層中のカーボンナノチューブが、前記枠部の前記支持面に対して平行方向に配向するように前記第１補強層を形成する、ペリクルの製造方法。

【0025】

本発明の一態様によれば、耐衝撃性を向上させることができると共に、異物発生を抑制することができるペリクルを提供すること、並びに当該ペリクルを製造するための製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0026】

【図1】第１実施形態に係るペリクルの一例を模式的に表す平面図である。

【図2】図１のＩＩ－ＩＩ断面を表す断面図である。

【図3】第２実施形態に係るペリクルの一例を模式的に表す平面図である。

【図4】図３のＩＶ－ＩＶ断面を表す断面図である。

【図5A】ペリクル膜の強度評価用ペリクルを模式的に表す平面図である。

【図5B】ペリクル膜の強度評価用ペリクルを模式的に表す側面図である。

【図6】ペリクル膜の強度評価を模式的に表す説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0027】

〔第１実施形態〕
（ペリクル）
第１実施形態に係るペリクルは、ペリクル膜と、ペリクル膜を支持する支持体と、ペリクル膜を補強する第２補強層と、を備える。
なお、本明細書において、「第１」及び「第２」等の序数は、構成等を区別することを目的として文言に付されているのであって、順序を特定することを目的として文言に付されていない。本明細書において、順序を特定することを目的として序数を付す場合には、別途、その旨が明記される。したがって、例えば、第１補強層（第２実施形態参照）及び第２補強層における「第１」及び「第２」は、ペリクルに互いに異なる補強層が複数設けられることに鑑みて、複数の補強層を区別することを目的として「補強層」という文言に付されている。
なお、本明細書において、第２補強層がペリクル膜よりも表側に配置されていることから、第２補強層を表側補強層と称することもでき、第１補強層が、ペリクル膜よりも内側に配置されていることから、第１補強層を内側補強層と称することもできる。

【0028】

以下、図面を参照して、第１実施形態に係るペリクルの一例について説明する。本発明は、図示されたペリクルに限定されない。なお、本明細書で図面を参照して説明する場合の図面においては、説明を容易にするために拡大又は縮小をして図示した部分がある。

【0029】

図１及び図２には、第１実施形態の一例として、ペリクル１２０が示されている。図１には、ペリクル膜１０が張り付けられている面側から平面視したペリクル１２０の平面図が示されており、図２には、図１に示されるペリクル１２０の断面図が示されている。

【0030】

ペリクル１２０は、ペリクル膜１０と、ペリクル膜１０を支持する支持体３０と、ペリクル膜１０を補強する第２補強層５０と、を備える。

【0031】

（支持体）
支持体３０は、枠部３１と、枠部３１に囲まれた開口部３２と、を有する。
枠部３１は、ペリクル膜１０と対向する支持面３４を有する。具体的には、支持面３４は、ペリクル膜１０を支持する際にペリクル膜１０の第１ペリクル膜面１１と対向する。開口部３２は、支持体３０における一方の面から他方の面に向かって貫通している。枠部３１及び開口部３２は、いずれも矩形に形成されている。本実施形態において、枠部３１の外形における四隅の角は、いずれも丸みを帯びているが、枠部３１の形状は、このような形状に限定されない。
支持体３０の材料としては、公知の材料を用いることができ、例えば、樹脂材料（ポリエチレン等）、金属材料（アルミニウム、アルミニウム合金、マグネシウム合金、ステンレス、チタン、チタン合金、及びインバー等）、セラミックス材料（ＳｉＣ、及びＳｉＮ等）、石英、及び繊維強化プラスチック材料（炭素繊維強化プラスチック、及びガラス繊維強化プラスチック等）などが用いられる。

【0032】

（ペリクル膜）
ペリクル膜１０は、支持体３０に対向する第１ペリクル膜面１１と、第１ペリクル膜面１１とは反対側の第２ペリクル膜面１２と、を有する。ペリクル膜１０は、ペリクル膜１０の周縁部１３が枠部３１の支持面３４の一部において固定されており、支持体３０の開口部３２を覆っている。ペリクル１２０において、ペリクル膜１０と支持面３４とが直接接していることが好ましい。

【0033】

ペリクル膜１０は、無機薄膜又は有機薄膜であることが好ましい。
ペリクル膜１０は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有することが好ましい。

【0034】

ペリクル膜１０は、カーボンナノチューブを含有することが好ましく、実質的にカーボンナノチューブのみからなることも好ましい。ここで、「実質的にカーボンナノチューブのみからなる」とは、カーボンナノチューブ製造時に用いられる金属触媒を除き、ペリクル膜中の９８質量％以上がカーボンナノチューブであることを意味する。すなわち、「実質的にカーボンナノチューブのみからなる」とは、カーボンナノチューブ製造時に用いられる金属触媒であってペリクル膜１０に含有される金属触媒の質量を減じた後のペリクル膜１０の全質量に対するカーボンナノチューブの質量の百分率が９８質量％以上であることを意味する。ペリクル膜１０が実質的にカーボンナノチューブのみからなる場合において、ペリクル膜１０に意図的に添加しない物質であって、原料又は製造工程で混入する不可避不純物は、ペリクル膜１０に含有されていてもよいし、含有されていなくてもよい。

【0035】

ペリクル膜１０に含まれるカーボンナノチューブは、特に限定されず、多層カーボンナノチューブ（ＭＷＣＮＴ：Ｍｕｌｔｉ－Ｗａｌｌｅｄ Ｃａｒｂｏｎ Ｎａｎｏｔｕｂｅｓ）、数層カーボンナノチューブ（ＦＷＣＮＴ：Ｆｅｗ－Ｗａｌｌｅｄ Ｃａｒｂｏｎ Ｎａｎｏｔｕｂｅｓ）、二層カーボンナノチューブ（ＤＷＣＮＴ：Ｄｏｕｂｌｅ－Ｗａｌｌｅｄ Ｃａｒｂｏｎ Ｎａｎｏｔｕｂｅｓ）、及び単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ：Ｓｉｎｇｌｅ－Ｗａｌｌｅｄ Ｃａｒｂｏｎ Ｎａｎｏｔｕｂｅ）からなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。

【0036】

本実施形態において、多層カーボンナノチューブは、例えば、４以上、２０以下の同心層を有し直径４ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であるカーボンナノチューブである。数層カーボンナノチューブは、例えば、２又は３の同心層を有し直径２ｎｍ以上、８ｎｍ以下であるカーボンナノチューブである。単層カーボンナノチューブは、例えば、１層であり管径が０．２ｎｍ以上、５ｎｍ以下である。

【0037】

カーボンナノチューブは、例えば、化学気相成長法、レーザーアブレーション法、又はアーク放電法によって得られる。

【0038】

本実施形態において、カーボンナノチューブの長さは、例えば、０．１μｍ以上、１０００μｍ以下であることが好ましい。
本実施形態において、カーボンナノチューブの長さは、０．５μｍ以上であることがより好ましく、１μｍ以上であることがさらに好ましい。
本実施形態において、カーボンナノチューブの長さは、６００μｍ以下であることがより好ましく、４００μｍ以下であることがさらに好ましい。

【0039】

本実施形態において、カーボンナノチューブの断面直径は、０．２ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることが好ましい。
本実施形態において、カーボンナノチューブの断面直径は、０．５ｎｍ以上であることがより好ましく、１ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
本実施形態において、カーボンナノチューブの断面直径は、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

【0040】

本実施形態に係るペリクル膜は、露光光に対する透明性を向上させる観点で、自立性を有することが好ましい。ペリクル膜が自立性を有するとは、ペリクル膜自体で自立した状態である膜を表し、ペリクル膜が自立保持性を有する膜（自立膜とも称する）であることを表す。つまり、自立性を有するペリクル膜は、基材等が存在しなくても、ペリクル膜自体で形状を保持することが可能な膜である。

【0041】

ペリクル１２０において、ペリクル膜１０の材料と第２補強層５０の材料とが同じであってもよいし、異なっていてもよい。例えば、ペリクル膜１０の材料及び第２補強層５０の材料がどちらもカーボンナノチューブであることも好ましい。ペリクル膜１０及び第２補強層５０が同じ材料で形成されていることにより、ペリクル膜１０と第２補強層５０との密着性を向上させることができる。

【0042】

本実施形態に係るペリクル膜の厚さは、特に限定されず、３ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましい。ペリクル膜の厚さは、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、３０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。ペリクル膜の厚さは、６００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましい。ペリクル膜の厚さが、例えば、３ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であれば、ペリクル膜の強度がより向上すると共に、ＥＵＶ透過性を確保しやすくなる。

【0043】

（第２補強層）
第２補強層５０は、支持体３０に支持されたペリクル膜１０を平面視した際に、ペリクル膜１０と支持体３０とが重なる領域であり、かつ、第２ペリクル膜面１２側に配置されている。第２補強層５０は、ペリクル膜１０の周縁部１３に沿って配置されている。ペリクル１２０において、ペリクル膜１０と第２補強層５０とが直接接していることが好ましい。

【0044】

第２補強層５０の厚さは、ペリクル膜１０の厚さよりも大きいことが好ましく、耐衝撃性を得やすくする観点から、０．０５μｍ以上であることが好ましく、０．１μｍ以上であることがより好ましい。また、第２補強層５０の厚さは、生産性の観点及び加熱による異物発生の抑止の観点から、１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましい。

【0045】

第２補強層５０は、現像に支障ない範囲（現像に必要な露光光を遮らない範囲）で、ペリクル１２０の平面視において、支持体３０の開口部３２側に張り出していてもよい。また、第２補強層５０の内側端部は、図２に示すように、枠部３１の内側端面に揃えて形成されていてもよい。また、第２補強層５０の内側端部は、ペリクル膜１０の補強に支障ない範囲で、枠部３１の内側端面よりも内側に位置するように形成されていてもよい。

【0046】

第２補強層５０は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料（補強材）を含有することが好ましい。第２補強層５０がこれら材料を含有することで、ペリクル１２０は、露光時の熱に対しても安定的に機能すると共に、耐久性にも優れ、さらには、第２補強層５０からのパーティクル（数百ｎｍ～数十ｎｍのサイズの微粒子）が発生し難い。第２補強層５０中のこれら材料（補強材）の含有量は、６０質量％以上であるか、７０質量％以上であるか、８０質量％以上であるか、９０質量％以上であるか、９５質量％以上であるか、又は９８質量％以上であることが好ましい。第２補強層５０は、カーボンナノチューブ、グラフェン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有することがより好ましい。第２補強層５０は、カーボンナノチューブ又はグラフェンで形成されていることがさらに好ましい。カーボンナノチューブ及びグラフェンのようなナノカーボン素材は、耐熱性に優れる。第２補強層５０中のナノカーボン素材の含有量は、６０質量％以上であるか、７０質量％以上であるか、８０質量％以上であるか、９０質量％以上であるか、９５質量％以上であるか、９８質量％以上であることが好ましい。

【0047】

第２補強層５０は、カーボンナノチューブを含有することがより好ましく、実質的にカーボンナノチューブのみからなることがさらに好ましい。ここで、「実質的にカーボンナノチューブのみからなる」とは、カーボンナノチューブ製造時に用いられる金属触媒を除き、第２補強層５０中の９８質量％以上がカーボンナノチューブであることを意味する。すなわち、第２補強層５０が「実質的にカーボンナノチューブのみからなる」とは、カーボンナノチューブ製造時に用いられる金属触媒であって第２補強層５０に含有される金属触媒の質量を減じた後の第２補強層５０の全質量に対するカーボンナノチューブの質量の百分率が９８質量％以上であることを意味する。第２補強層５０が実質的にカーボンナノチューブのみからなる場合において、第２補強層５０に意図的に添加しない物質であって、原料又は製造工程で混入する不可避不純物は、第２補強層５０に含有されていてもよいし、含有されていなくてもよい。

【0048】

第２補強層５０は、現像に支障ない範囲（現像に必要な露光光を遮らない範囲）に形成されるので、第２補強層５０中のカーボンナノチューブの含有量（例えば、膜の単位面積当たりのカーボンナノチューブの質量）をペリクル膜１０よりも増やすことができる。その結果、第２補強層５０の強度が向上し、ペリクル膜１０の耐衝撃性も向上する。

【0049】

第２補強層５０がカーボンナノチューブを含有する場合、第２補強層５０に含まれるカーボンナノチューブは、特に限定されず、多層カーボンナノチューブ、数層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、及び単層カーボンナノチューブからなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。

【0050】

第２補強層５０がカーボンナノチューブを含む場合、第２補強層５０中のカーボンナノチューブは、枠部３１の支持面３４に対して平行方向に配向していることが好ましい。すなわち、各カーボンナノチューブの長軸方向が、枠部３１の支持面３４に沿った方向であることが好ましい。

【0051】

第２補強層５０がカーボンナノチューブを含む場合、第２補強層５０中のカーボンナノチューブは、枠部３１の支持面３４に対して垂直方向に配向していてもよい。第２補強層５０は、カーボンナノチューブフォレストであることも好ましい。カーボンナノチューブフォレストは、カーボンナノチューブを、支持体又は基板の面に対して垂直方向に配向するよう、支持体又は基板の上に複数成長させた成長体のことであり、「アレイ」と称される場合もある。同質量のカーボンナノチューブを用いた補強層同士で比較すると、カーボンナノチューブが垂直方向に配向したＣＮＴ層は、カーボンナノチューブが水平方向に配向したＣＮＴ層に比べて、耐衝撃性がさらに向上する。そのため、第２補強層５０中のカーボンナノチューブが垂直方向に配向していることにより、第２補強層５０の衝撃吸収性が向上する。

【0052】

本明細書において、「垂直方向に配向している」とは、支持体又は基板の面に対して略垂直に配向していることを意味しており、「略垂直」とは、支持体又は基板の面に対する第２補強層５０中の材料（カーボンナノチューブ等）の配向方向の角度が、９０度±２０度（７０度以上、１１０度以下）であることを意味している。

【0053】

（ペリクルの製造方法）
次に、第１実施形態に係るペリクルの製造方法（以下、第１実施形態の製造方法と称する場合がある。）について説明する。第１実施形態の製造方法は、下記工程（Ｐ１）及び（Ｐ２）を含む態様でもよいし、下記工程（Ｐ３）及び（Ｐ４）を含む態様でもよい。

【0054】

工程（Ｐ１）は、開口部３２と開口部３２を囲う枠部３１とを有する支持体３０に対してペリクル膜１０を張り付ける工程である。より具体的には、工程（Ｐ１）は、枠部３１の支持面３４側において、開口部３２を覆うと共に、枠部３１の支持面３４で支持されるようにペリクル膜１０を張り付ける工程である。

【0055】

工程（Ｐ２）は、ペリクル膜１０の支持体３０に対向する第１ペリクル膜面１１とは反対側の第２ペリクル膜面１２における領域であって、ペリクル膜１０を平面視した際に、ペリクル膜１０と支持体３０とが重なる領域に第２補強層５０を配置する工程である。
すなわち、工程（Ｐ１）及び（Ｐ２）の順に実施される製造方法においては、先に支持体３０にペリクル膜１０を張り付け、その後、ペリクル膜１０の第２ペリクル膜面１２に第２補強層５０を配置する。

【0056】

工程（Ｐ３）は、ペリクル膜１０に第２補強層５０を配置する工程であり、具体的には、ペリクル膜１０の第１ペリクル膜面１１とは反対側の第２ペリクル膜面１２における領域に第２補強層５０を配置する工程である。この工程（Ｐ３）（第２補強層を配置する工程）においては、支持体３０に張り付けられた後のペリクル膜１０を平面視した際に、ペリクル膜１０と支持体３０とが重なる領域又は位置に予め第２補強層５０を配置する。すなわち、工程（Ｐ３）においては、予めペリクル膜１０に第２補強層５０を配置し、この第２補強層５０付きのペリクル膜１０を製造する。

【0057】

工程（Ｐ４）は、枠部３１の支持面３４側において、開口部３２を覆うと共に、枠部３１の支持面３４で支持されるように第２補強層５０付きのペリクル膜１０を張り付ける工程である。
すなわち、工程（Ｐ３）及び（Ｐ４）の順に実施される製造方法においては、先にペリクル膜１０に第２補強層５０を配置し、その後、第２補強層５０付きのペリクル膜１０の第１ペリクル膜面１１側を支持体３０に張り付ける。

【0058】

ペリクル膜１０に第２補強層５０を配置する方法としては、ペリクル膜１０の所定位置に第２補強層５０を形成する方法が挙げられる。

【0059】

第２補強層５０は、ペリクル膜１０の材料、及びペリクル膜１０に配置する面積等に応じて適宜選択した材料を用いて形成すればよい。第２補強層５０の形成方法は、用いる材料に応じて適宜選択すればよい。

【0060】

例えば、第２補強層５０に含有させる材料（補強材）を溶媒中に分散させて補強材分散液を調製し、この補強材分散液をペリクル膜１０に塗布し、溶媒を蒸発させて補強材からなる膜を第２補強層５０として形成することもできる。

【0061】

第２補強層５０がカーボンナノチューブを含有する層（ＣＮＴ層）である場合、第２補強層５０中のカーボンナノチューブが、ペリクル膜１０の膜面に対して平行方向に配向するように第２補強層５０を形成することが好ましい。第２補強層５０中のカーボンナノチューブがこのように配向していることにより、同じく平行方向にカーボンナノチューブが配向しているペリクル膜との絡み合いが生じ、補強効果の向上を見込むことができる。

【0062】

第２補強層５０がＣＮＴ層である場合、例えば、化学気相成長（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；ＣＶＤ）法、レーザーアブレーション法、又はアーク放電法でＣＮＴ層を形成することができる。ペリクル膜１０の上に、直接、ＣＶＤ法によってＣＮＴ層を形成してもよいし、基板上にＣＮＴ層を形成した後に基板上のＣＮＴ層をペリクル膜１０の上に転写してもよい。例えば、ペリクル膜１０へ配置する予定の第２補強層５０の位置及び形状に対応した基板を準備し、当該基板の上にＣＮＴ層を形成し、当該ＣＮＴ層をペリクル膜１０に転写すれば、第２補強層５０を良好な精度でペリクル膜１０に配置することができる。ＣＮＴ層が形成された基板をペリクル膜１０に固定してもよい。

【0063】

第２補強層５０がカーボンナノチューブフォレストである場合、カーボンナノチューブを、直接、ペリクル膜１０に複数成長させることで、カーボンナノチューブフォレストを形成してもよい。または、基板上にカーボンナノチューブフォレストを形成し、当該基板をペリクル膜１０に固定してもよいし、当該カーボンナノチューブフォレストをペリクル膜１０に転写してもよい。

【0064】

基板の上にＣＮＴ層を形成する場合、基板としては、適宜公知の基板を使用でき、例えば、プラスチック基板、ガラス基板、シリコン基板、及び金属基板（鉄、及び銅等の金属又はこれらの合金（例えば、ステンレス）を含む基板）等からなる群から選択される少なくともいずれかの基板を使用できる。これらの基板の表面には、二酸化ケイ素膜が積層されていてもよい。第２補強層５０としてのＣＮＴ層が形成された基板は、接着部材（例えば、両面テープ）により、ペリクル膜１０の周縁部１３に固定されていてもよい。
基板上に化学気相成長させるカーボンナノチューブは、多層カーボンナノチューブ、数層カーボンナノチューブ、及び単層カーボンナノチューブからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、複数種のカーボンナノチューブからなる混合物でもよい。

【0065】

第２補強層５０がグラフェンを含有する層（グラフェン層）である場合、ＣＶＤ法によって第２補強層５０としてのグラフェン層を形成することもできる。例えば、ペリクル膜１０の上に、直接、ＣＶＤ法によってグラフェン層を形成してもよいし、金属箔（例えば、Ｎｉ箔又はＣｕ箔等）の基材上にＣＶＤ法によってグラフェン層を形成した後に基材上のグラフェン層をペリクル膜１０の上に転写してもよい。第２補強層５０としてのグラフェン層は、１層からなる単層構造でもよいが、ペリクル膜を補強する効果を高める観点から、２層以上からなる多層構造でもよい。第２補強層５０は、現像に支障ない範囲に形成されるので、グラフェン層が多層構造であっても現像に支障が生じない。グラフェン層が多層構造の場合は、予めグラフェン層を多層に形成しておき、ペリクル膜１０の上に転写してもよい。

【0066】

第１実施形態の製造方法は、工程（Ｐ１）又は工程（Ｐ３）の前に、支持体を準備する工程（Ｐ５）及びペリクル膜を準備する工程（Ｐ６）を含んでいてもよい。

【0067】

支持体を準備する工程（Ｐ５）は、前述の支持体を構成する材料を用い、公知の方法によって、目的とする形状に形成された支持体を準備すればよい。

【0068】

ペリクル膜を準備する工程（Ｐ６）は、第１実施形態に係るペリクル膜を準備すればよい。例えば、第１実施形態に係るペリクル膜は、次に説明するペリクル膜の製造方法によって製造することもできる。

【0069】

（ペリクル膜の製造方法）
ペリクル膜の製造方法は、特に限定されず、用いる材料に応じて適宜選択すればよい。

【0070】

カーボンナノチューブを含有するペリクル膜の好ましい製造方法の一例は、例えば、カーボンナノチューブを分散させる工程（ＰＥ１）と、分散させたカーボンナノチューブを通気性部材上に沈降及び堆積させて、通気性部材上にマット状に形成したカーボンナノチューブの膜化物を得る工程（ＰＥ２）と、カーボンナノチューブの膜化物から通気性部材を取り除き、ペリクル膜を得る工程（ＰＥ３）とを備える。

【0071】

まず、工程（ＰＥ１）において、カーボンナノチューブを液体中に分散させ、カーボンナノチューブが液体中に分散されたカーボンナノチューブ分散液を調製する。液体は、水を含む液体であることが好ましい。カーボンナノチューブ分散液は、カーボンナノチューブのみを含んでいてもよく、カーボンナノチューブの他に、カーボンナノチューブを分散させる分散剤等の各種の添加剤を含んでいてもよい。

【0072】

次いで、工程（ＰＥ２）において、分散させたカーボンナノチューブを通気性部材の上に、沈降及び堆積させる。例えば、工程（ＰＥ１）で調製したカーボンナノチューブ分散液を通気性部材としてのろ過膜によってろ過することで、カーボンナノチューブを沈降及び堆積させて、ろ過膜上に、マット状に形成したカーボンナノチューブの膜化物を形成させる。ろ過膜は、例えば、メンブレンフィルタなどを用いることが好ましい。

【0073】

次いで、工程（ＰＥ３）において、マット状に形成したカーボンナノチューブの膜化物からろ過膜を取り除くことで、カーボンナノチューブを含むペリクル膜が得られる。マット状に形成した繊維の膜化物からろ過膜を取り除く前、又はマット状に形成した繊維の膜化物からろ過膜を取り除いた後に、必要に応じて、乾燥工程を設けてもよい。得られたペリクル膜は、自立膜である。

【0074】

第１実施形態の製造方法は、必要に応じて、枠部３１の支持面３４の少なくとも一部に接着層を設ける工程（Ｐ７）を含んでいてもよい。枠部３１の支持面３４の少なくとも一部に接着層が設けられる場合は、前記接着層を介して、枠部３１の支持面３４で支持されるようにペリクル膜１０が架設される。接着層に各種接着剤を使用する場合、接着層を設ける工程は、支持面３４に接着剤を塗布することで、接着剤を含む接着層が設けられる。

【0075】

ペリクル１２０は、例えば、半導体デバイス、ＩＣパッケージ、プリント基板、液晶ディスプレイ又は有機ＥＬディスプレイ等を製造する際の防塵カバーとして使用される。ペリクル１２０は、例えば、第１ペリクル膜面１１がフォトマスクと対向するように、フォトマスクの上方に、フォトマスクと離間して配置されて使用される。ペリクル１２０が使用されることによって、フォトマスクへの異物の付着が抑制される。

【0076】

（第１実施形態の効果）
第１実施形態に係るペリクルによれば、ペリクル膜１０の第２ペリクル膜面１２側に第２補強層５０が配置されているので、ペリクル膜１０が破損し難くなり、ペリクル１２０の耐衝撃性が向上する。

【0077】

第１実施形態に係るペリクルにおいて、第２補強層５０が配置される領域は、ペリクル１２０の平面視でペリクル膜１０と支持体３０とが重なる領域であるため、第２補強層５０の透明性は、低くてもよい。そのため、第２補強層５０に用いることができる材料の選択肢が広がると共に、第２補強層５０中の補強材の含有量（例えば、膜の単位面積当たりの補強材の質量）をペリクル膜１０よりも増やすことができる。その結果、第２補強層５０の強度が向上し、ペリクル１２０の耐衝撃性も向上する。第２補強層５０が配置される領域は、ペリクル膜１０の周縁部１３であるため、ペリクル膜１０の周縁部１３をより効果的に保護することができる。

【0078】

第１実施形態に係るペリクルにおいて、第２補強層５０は、接着剤層又は粘着剤層ではなく、耐熱性に優れた材料で形成されているため、ＥＵＶのような高エネルギーの光照射を受けても分解し難い。そのため、第１実施形態に係るペリクルのように第２補強層５０が設けられていても、異物発生を抑制できる。

【0079】

第１実施形態の製造方法によれば、耐衝撃性がさらに向上したペリクルを製造することができる。

【0080】

〔第２実施形態〕
（ペリクル）
次に、第２実施形態に係るペリクルの構成について説明する。第２実施形態の説明において第１実施形態と同一の構成要素は、同一符号や名称を付す等して説明を省略もしくは簡略化する。また、第２実施形態では、特に言及されない構造及び材料等については、第１実施形態で説明した構造及び材料等と同様の構造及び材料等を採用することができる。

【0081】

第２実施形態に係るペリクルは、第１ペリクル膜面側であって、ペリクル膜と支持体との間に配置されている第１補強層をさらに備える点で、第１実施形態に係るペリクルと異なる。その他の点については第１実施形態と同様である。
すなわち、第２実施形態において、ペリクル膜は、その周縁部が第１補強層と第２補強層との間に挟まれた状態で補強されると共に、支持体に支持されている。

【0082】

以下、図面を参照して、第２実施形態に係るペリクルの一例について説明する。本発明は、図示されたペリクルに限定されない。

【0083】

図３及び図４には、第２実施形態の一例として、ペリクル１１０が示されている。図３には、ペリクル膜１０が架設されている面側から平面視したペリクル１１０の平面図が示されており、図４には、図３に示されるペリクル１１０の断面図が示されている。

【0084】

ペリクル１１０は、ペリクル膜１０、ペリクル膜１０を支持する支持体３０、ペリクル膜１０を補強する第１補強層４０及び第２補強層５０を備える。

【0085】

（第１補強層）
第１補強層４０は、支持体３０に支持されたペリクル膜１０を平面視した際に、ペリクル膜１０と支持体３０とが重なる領域であり、かつ、第１ペリクル膜面１１側でペリクル膜１０と支持体３０との間に配置されている。第１補強層４０は、ペリクル膜１０の周縁部１３に沿って配置されている。第１補強層４０は、支持面３４に直接接して配置されていることも好ましい。支持面３４に第１補強層４０が配置されている支持体３０を、ペリクル支持体３０Ａと称する場合がある。

【0086】

第１補強層４０は、現像に支障ない範囲（現像に必要な露光光を遮らない範囲）で、ペリクル１１０の平面視において、支持体３０の開口部３２側に張り出していてもよい。また、第１補強層４０の内側端部（開口部３２側の端部）は、図４に示すように、枠部３１の内側端面（開口部３２側の端面）に揃えて形成されていてもよい。また、第１補強層４０の内側端部は、ペリクル膜１０の支持及び補強に支障ない範囲で、枠部３１の内側端面よりも内側に位置するように形成されていてもよい。

【0087】

第１補強層４０の厚さは、ペリクル膜１０の厚さよりも大きいことが好ましく、耐衝撃性を得やすくする観点から、０．０５μｍ以上であることが好ましく、０．１μｍ以上であることがより好ましい。また、第１補強層４０の厚さは、生産性の観点及び加熱による異物発生の抑止の観点から、１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましい。

【0088】

第１補強層４０は、カーボンナノチューブ、グラフェン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファスカーボン、シリコン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料（補強材）を含有することが好ましい。第１補強層４０がこれら材料を含有することで、ペリクル１１０は、露光時の熱に対しても安定的に機能すると共に、耐久性にも優れ、さらには、第１補強層４０からのパーティクル（数百ｎｍ～数十ｎｍのサイズの微粒子）が発生し難い。第１補強層４０中のこれら材料（補強材）の含有量は、６０質量％以上であるか、７０質量％以上であるか、８０質量％以上であるか、９０質量％以上であるか、９５質量％以上であるか、又は９８質量％以上であることが好ましい。第１補強層４０は、カーボンナノチューブ、グラフェン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、及び窒化ホウ素からなる群から選択される１種以上の材料を含有することがより好ましい。第１補強層４０は、カーボンナノチューブ又はグラフェンで形成されていることがさらに好ましい。カーボンナノチューブ及びグラフェンのようなナノカーボン素材は、耐熱性に優れるため、ナノカーボン素材を含有する第１補強層４０は、耐熱性が向上する。第１補強層４０中のナノカーボン素材の含有量は、６０質量％以上であるか、７０質量％以上であるか、８０質量％以上であるか、９０質量％以上であるか、９５質量％以上であるか、９８質量％以上であることが好ましい。

【0089】

第１補強層４０がカーボンナノチューブを含む場合、第１補強層４０中のカーボンナノチューブは、枠部３１の支持面３４に対して平行方向に配向していることが好ましい。すなわち、各カーボンナノチューブの長軸方向が、枠部３１の支持面３４に沿った方向であることが好ましい。

【0090】

第１補強層４０がカーボンナノチューブを含む場合、第１補強層４０中のカーボンナノチューブは、枠部３１の支持面３４に対して垂直方向に配向していてもよい。第１補強層４０は、カーボンナノチューブフォレストであることも好ましい。第１補強層４０中のカーボンナノチューブが垂直方向に配向していることにより、第１補強層４０の衝撃吸収性が向上する。

【0091】

第１補強層４０は、カーボンナノチューブを含有することがより好ましく、実質的にカーボンナノチューブのみからなることがさらに好ましい。ここで、「実質的にカーボンナノチューブのみからなる」とは、カーボンナノチューブ製造時に用いられる金属触媒を除き、第１補強層４０中の９８質量％以上がカーボンナノチューブであることを意味する。すなわち、第１補強層４０が「実質的にカーボンナノチューブのみからなる」とは、カーボンナノチューブ製造時に用いられる金属触媒であって第１補強層４０に含有される金属触媒の質量を減じた後の第１補強層４０の全質量に対するカーボンナノチューブの質量の百分率が９８質量％以上であることを意味する。第１補強層４０が実質的にカーボンナノチューブのみからなる場合において、第１補強層４０に意図的に添加しない物質であって、原料又は製造工程で混入する不可避不純物は、第１補強層４０に含有されていてもよいし、含有されていなくてもよい。

【0092】

第１補強層４０がカーボンナノチューブを含有する場合、第１補強層４０に含まれるカーボンナノチューブは、特に限定されず、多層カーボンナノチューブ、数層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、及び単層カーボンナノチューブからなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。

【0093】

ペリクル１１０において、第１補強層４０の材料と第２補強層５０の材料とが同じであってもよいし、異なっていてもよい。

【0094】

（第２補強層）
第２実施形態における第２補強層５０は、第１実施形態と同様である。

【0095】

（ペリクル膜）
第２実施形態におけるペリクル膜１０は、第１実施形態と同様である。
ペリクル１１０において、ペリクル膜１０の材料と第１補強層４０の材料とが同じであってもよいし、異なっていてもよい。例えば、ペリクル膜１０の材料及び第１補強層４０の材料がどちらも同じカーボンナノチューブであることも好ましい。ペリクル膜１０及び第１補強層４０が同じ材料で形成されていることにより、ペリクル膜１０と第１補強層４０との密着性を向上させることができる。
また、ペリクル膜１０の材料と第１補強層４０の材料と第２補強層５０の材料とが同じであってもよいし、異なっていてもよい。ペリクル膜１０の材料と第１補強層４０の材料と第２補強層５０の材料とが同じである場合、これらの密着性が向上する。ペリクル膜１０の材料と第１補強層４０の材料と第２補強層５０の材料とがカーボンナノチューブであることが好ましい。

【0096】

（ペリクルの製造方法）
次に、第２実施形態に係るペリクルの製造方法（以下、第２実施形態の製造方法と称する場合がある。）について説明する。
第２実施形態の製造方法は、ペリクル膜１０を支持体３０に張り付ける工程の前に、開口部３２の外周側であり、かつ、枠部３１の支持面３４に第１補強層４０を配置する工程（ＰＳ１）をさらに含む。第１実施形態において説明した支持体を準備する工程（Ｐ５）は、本実施形態においてはペリクル支持体３０Ａを製造する工程（ＰＳ１）に相当する。

【0097】

（ペリクル支持体の製造方法）
工程（ＰＳ１）は、支持体３０の支持面３４に第１補強層４０を形成してペリクル支持体３０Ａを製造する工程である。

【0098】

第１補強層４０は、ペリクル膜１０の材料、及びペリクル膜１０を支持する面積等に応じて適宜選択した材料を用いて形成すればよい。第１補強層４０の形成方法は、用いる材料に応じて適宜選択すればよい。

【0099】

例えば、第１補強層４０に含有させる材料（補強材）を溶媒中に分散させて補強材分散液を調製し、この補強材分散液を支持体３０の支持面３４に塗布し、溶媒を蒸発させて補強材からなる膜を第１補強層４０として形成することもできる。

【0100】

第１補強層４０がカーボンナノチューブを含有する層（ＣＮＴ層）である場合、第１補強層４０中のカーボンナノチューブが、枠部３１の支持面３４に対して平行方向に配向するように第１補強層４０を形成することが好ましい。

【0101】

第１補強層４０がＣＮＴ層である場合、例えば、化学気相成長（ＣＶＤ）法、レーザーアブレーション法、又はアーク放電法でＣＮＴ層を形成することができる。支持体３０の支持面３４の上に、直接、ＣＶＤ法によってＣＮＴ層を形成してもよいし、基板上にＣＮＴ層を形成した後に基板上のＣＮＴ層を支持面３４の上に転写してもよいし、ＣＮＴ層が形成された基板を支持面３４に固定してもよい。

【0102】

第１補強層４０がカーボンナノチューブフォレストである場合、支持体３０の支持面３４に対して垂直方向に配向するようにカーボンナノチューブを、直接、複数成長させることで、カーボンナノチューブフォレストを形成することができる。または、基板上にカーボンナノチューブフォレストを形成し、当該基板上のＣＮＴ層を支持面３４の上に転写するか、又は当該基板を支持面３４に固定することもできる。

【0103】

基板の上にＣＮＴ層を形成する場合、基板としては、適宜公知の基板を使用でき、例えば、プラスチック基板、ガラス基板、シリコン基板、及び金属基板（鉄、及び銅等の金属又はこれらの合金（例えば、ステンレス）を含む基板）等からなる群から選択される少なくともいずれかの基板を使用できる。これらの基板の表面には、二酸化ケイ素膜が積層されていてもよい。第１補強層４０としてのＣＮＴ層が形成された基板は、接着部材（例えば、両面テープ）により、支持面３４に固定されていてもよい。
基板上に化学気相成長させるカーボンナノチューブは、多層カーボンナノチューブ、数層カーボンナノチューブ、及び単層カーボンナノチューブからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、複数種のカーボンナノチューブからなる混合物でもよい。

【0104】

第１補強層４０は、現像に支障ない範囲（現像に必要な露光光を遮らない範囲）に形成されるので、第１補強層４０中のカーボンナノチューブの含有量（例えば、膜の単位面積当たりのカーボンナノチューブの質量）をペリクル膜１０よりも増やすことができる。その結果、第１補強層４０の強度が向上し、ペリクル膜１０の耐衝撃性も向上する。

【0105】

第１補強層４０がグラフェンを含有する層（グラフェン層）である場合、ＣＶＤ法によって第１補強層４０としてのグラフェン層を形成することもできる。例えば、支持体３０の支持面３４の上に、直接、ＣＶＤ法によってグラフェン層を形成してもよいし、金属箔（例えば、Ｎｉ箔又はＣｕ箔等）の基材上にＣＶＤ法によってグラフェン層を形成した後に基材上のグラフェン層を支持面３４の上に転写してもよい。第１補強層４０としてのグラフェン層は、１層からなる単層構造でもよいが、ペリクル膜を補強する効果を高める観点から、２層以上からなる多層構造でもよい。第１補強層４０は、現像に支障ない範囲に形成されるので、グラフェン層が多層構造であっても現像に支障が生じない。グラフェン層が多層構造の場合は、予めグラフェン層を多層に形成しておき、支持面３４の上に転写してもよい。

【0106】

第２実施形態の製造方法は、ペリクル支持体３０Ａを製造する工程（ＰＳ１）の後に、下記工程（ＰＸ１）及び（ＰＸ２）を含むか、もしくは下記工程（ＰＸ３）及び（ＰＸ４）を含む。

【0107】

工程（ＰＸ１）は、ペリクル支持体３０Ａに対してペリクル膜１０を張り付ける工程である。より具体的には、工程（ＰＸ１）は、枠部３１の支持面３４側において、開口部３２を覆うと共に、第１補強層４０で支持されるようにペリクル膜１０を張り付ける工程である。工程（ＰＸ１）は、ペリクル膜１０が張り付けられる対象が、第１補強層４０を配置済みのペリクル支持体３０Ａである点以外は、第１実施形態の工程（Ｐ１）と同様である。

【0108】

工程（ＰＸ２）は、ペリクル膜１０の第２ペリクル膜面１２における領域であって、ペリクル膜１０を平面視した際に、ペリクル膜１０と支持体３０とが重なる領域に第２補強層５０を配置する工程である。すなわち、工程（ＰＸ２）においては、先にペリクル支持体３０Ａにペリクル膜１０を張り付け、その後、ペリクル膜１０の第２ペリクル膜面１２に第２補強層５０を配置する。工程（ＰＸ２）は、第２補強層５０が配置される対象が、ペリクル支持体３０Ａで支持されたペリクル膜１０である点以外は、第１実施形態の工程（Ｐ２）と同様である。

【0109】

工程（ＰＸ３）は、ペリクル膜１０に第２補強層５０を配置する工程であり、具体的には、ペリクル膜１０の第２ペリクル膜面１２における領域に第２補強層５０を配置する工程である。工程（ＰＸ３）は、第１実施形態の工程（Ｐ３）と同じである。

【0110】

工程（ＰＸ４）は、ペリクル支持体３０Ａに対して、第２補強層５０付きのペリクル膜１０を張り付ける工程である。より具体的には、工程（ＰＸ４）は、枠部３１の支持面３４側において、開口部３２を覆うと共に、第１補強層４０で支持されるように第２補強層５０付きのペリクル膜１０を張り付ける工程である。工程（ＰＸ４）は、第２補強層５０付きのペリクル膜１０が張り付けられる対象が、第１補強層４０を配置済みのペリクル支持体３０Ａである点以外は、第１実施形態の工程（Ｐ４）と同様である。

【0111】

第２実施形態の製造方法も、工程（ＰＸ１）の前に、第１実施形態において説明したペリクル膜を製造する工程を含んでいてもよい。

【0112】

ペリクル１１０は、第１実施形態のペリクル１２０と同様、防塵カバーとして使用される。

【0113】

（第２実施形態の効果）
第２実施形態に係るペリクルによれば、第１実施形態に係るペリクルと同様の効果を奏する。さらに、第２実施形態に係るペリクルは、第１ペリクル膜面１１側に第１補強層４０を有するので、ペリクル膜１０がさらに補強され、ペリクル１１０の耐衝撃性がさらに向上する。

【0114】

第２実施形態に係るペリクル及びペリクル支持体において、第１補強層４０は、接着剤層及び粘着剤層ではなく、耐熱性に優れた材料で形成されているため、ＥＵＶのような高エネルギーの光照射を受けても分解し難い。そのため、第２実施形態に係るペリクル及びペリクル支持体によれば、ペリクル膜が接着剤層又は粘着剤層を介して支持体に固定されたペリクルと比べて、異物発生を抑制できる。

【0115】

第２実施形態に係るペリクル及びペリクル支持体において、第１補強層４０が、カーボンナノチューブが垂直方向に配向したＣＮＴ層（例えば、カーボンナノチューブフォレスト）である場合、同質量のカーボンナノチューブを用いた補強層同士で比較すると、カーボンナノチューブが垂直方向に配向したＣＮＴ層は、カーボンナノチューブが水平方向に配向したＣＮＴ層に比べて、耐衝撃性がさらに向上する。

【0116】

第２実施形態に係るペリクル及びペリクル支持体において、第１補強層４０が配置される領域は、ペリクル１１０の平面視でペリクル膜１０と支持体３０とが重なる領域であるため、第１補強層４０の透明性は、低くてもよい。そのため、第１補強層４０に用いることができる材料の選択肢が広がると共に、第１補強層４０中の補強材の含有量（例えば、膜の単位面積当たりの補強材の質量）をペリクル膜１０よりも増やすことができる。その結果、第１補強層４０の強度が向上し、ペリクル１１０の耐衝撃性も向上する。

【0117】

第２実施形態に係るペリクル及びペリクル支持体によれば、耐衝撃性が向上しているため、ペリクルの交換回数が低減され、ペリクルを利用する製造プロセス（例えば、半導体デバイス等の製造プロセス）の生産性を向上させることができる。

【0118】

第２実施形態の製造方法によれば、耐衝撃性が向上したペリクルを製造することができる。

【0119】

〔実施形態の変形〕
なお、本発明は前記実施形態に限定されず、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
図１～図４を参照して第１実施形態及び第２実施形態に係るペリクルの一例について説明したが、本発明に係るペリクルは、これらペリクルの一例に限定されない。

【0120】

本発明に係るペリクルは、前述の第１実施形態及び第２実施形態に係るペリクル膜を用いたペリクルの効果が得られるのであれば、種々の形態を採用し得る。第１実施形態及び第２実施形態に係るペリクルを構成する各部材の各部における形状及び寸法等は、例えば、第１実施形態及び第２実施形態に係るペリクルが使用されるときのフォトマスク（不図示）の寸法に応じて決定されればよい。

【0121】

また、例えば、図１～図４に示されるペリクル１１０，１２０のペリクル膜１０及び支持体３０は、いずれも矩形に形成されている。本発明に係るペリクルは、これに限られず、円形、楕円形、及び多角形等の目的とする任意の形状に形成されていればよい。

【0122】

また、図１及び図２に示されるペリクル１２０では、第２補強層５０がペリクル膜１０の周縁部１３に配置されているが、本発明に係るペリクルは、このような例に限定されない。例えば、第２補強層５０は、ペリクル膜１０の周縁部１３に配置されているだけでなく、支持面３４のペリクル膜１０が張り付けられていない領域まで張り出していてもよい。第２補強層５０が支持面３４側まで張り出して、ペリクル膜１０の側部も覆っていてもよい。第２補強層５０でペリクル膜１０の側部を覆うことにより、ペリクル膜１０が支持体３０から剥がれることを抑制できる。第２補強層５０は、ペリクル膜１０の周縁部１３から張り出して、支持面３４のうち第１補強層４０が配置されておらず露出した部分の一部又は全面と接していてもよい。図３及び図４に示されるペリクル１１０においても、第２補強層５０が支持面３４側まで張り出していてもよい。

【0123】

また、例えば、図３及び図４に示されるペリクル１１０では、ペリクル膜１０の周縁部１３が支持体３０の支持面３４の一部に配置された第１補強層４０によって固定されている。本発明に係るペリクルは、このような例に限定されず、ペリクル膜１０の周縁部１３が、支持体の支持面３４の全面に配置された第１補強層４０によって固定されてもよい。例えば、第１補強層４０は、ペリクル膜１０を支持する領域だけでなく、支持面３４のペリクル膜１０が張り付けられていない領域まで張り出していてもよい。このように張り出した第１補強層４０と、前述のように張り出した第２補強層５０とが接していてもよい。このように第１補強層４０と第２補強層５０とが互いに接するように配置されることで、ペリクル膜１０の周縁部１３が第１補強層４０及び第２補強層５０の間で挟持され、ペリクル膜１０を補強する効果がさらに向上する。

【実施例】

【0124】

以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、これらの実施例に何ら限定されない。

【0125】

［実施例１］
図５Ａ及び図５Ｂを参照して実施例１に係るペリクルの作製について説明する。図５Ａには、ペリクル膜１０Ｗ側から平面視したペリクルＷＫの平面図が模式的に表されている。図５Ｂには、ペリクルＷＫを短手方向に沿って側面視した側面図が模式的に表されている。
支持体３０Ｗとして、１ｃｍ×１ｃｍのサイズの開口部３２Ｗを有するアクリル板（２ｃｍ×５ｃｍ×２ｍｍ）を準備した。開口部３２Ｗは、支持体３０Ｗの第１端部Ｅ１側の中央付近に位置する。
次に、ＳＷＣＮＴを水に分散させて、第１ＳＷＣＮＴ分散液を調製した。メンブレンフィルターを用いて、第１ＳＷＣＮＴ分散液をろ過して、メンブレンフィルター上にＳＷＣＮＴのみからなる膜をペリクル膜１０Ｗとして形成した。メンブレンフィルター全体を水中に沈めて、ＳＷＣＮＴのみからなるペリクル膜１０Ｗを水面上に単離した。
ペリクル膜１０Ｗが単離されている水中に支持体３０Ｗを沈め、当該支持体３０Ｗを水中から引き上げ、開口部３２Ｗを覆うようにペリクル膜１０Ｗを自立膜としてピックアップした。このようにして、ペリクルＷＫを作製した。ペリクルＷＫにおいては、ペリクル膜１０Ｗ（ＣＮＴ自立膜）は、支持体３０Ｗと一体化していた。
次に、第１ＳＷＣＮＴ分散液に比べてＳＷＣＮＴを高濃度で水に分散させて第２ＳＷＣＮＴ分散液を調製した。
次に、支持体３０Ｗに支持されたペリクル膜１０Ｗを平面視した際に、ペリクル膜１０Ｗと支持体３０とが重なる領域であり、かつ、ペリクル膜１０Ｗの周縁部に、第２ＳＷＣＮＴ分散液を滴下して自然乾燥させ、水平方向に配向したＳＷＣＮＴを含有する第２補強層５０Ｗを形成した。このようにして、実施例１に係るペリクルＷＫを作製した。実施例１に係るペリクルＷＫにおいては、ＳＷＣＮＴの含有量をペリクル膜１０Ｗよりも大幅に増量とした第２補強層５０Ｗを形成することができた。

【0126】

［参考例１］
まず、ＭＷＣＮＴを水に分散させて、第１ＭＷＣＮＴ分散液を調製した。支持体３０Ｗの開口部３２Ｗの外周に、第１ＭＷＣＮＴ分散液を滴下して自然乾燥させ、水平方向に配向したＭＷＣＮＴを含有する第１補強層を形成した。このようにして第１補強層付きの支持体３０Ｗ（ペリクル支持体）を得た。
次に、実施例１と同様にしてＳＷＣＮＴのみからなるペリクル膜１０Ｗを水面上に単離した。ペリクル膜１０Ｗが単離されている水中に第１補強層付きの支持体３０Ｗ（ペリクル支持体）を沈め、当該支持体３０Ｗを水中から引き上げ、開口部３２Ｗを覆うと共に第１補強層の上で支持されるようにペリクル膜１０Ｗを自立膜としてピックアップした。このようにして、参考例１に係るペリクルを作製した。参考例１に係るペリクルにおいては、ペリクル膜１０Ｗ（ＣＮＴ自立膜）は、支持体３０Ｗと一体化すると共に第１補強層によって補強されていた。

【0127】

［比較例１］
比較例１に係るペリクルは、第２補強層５０Ｗを設けなかったこと以外、実施例１と同様にして作製した。

【0128】

［耐衝撃性評価］
評価方法は、次のような手順で行った。図６は、ペリクルＷＫを用いてペリクル膜の強度を評価する方法を模式的に表しており、ペリクルＷＫを短手方向に沿って側面視した状態を表している。図６に示されるように、まず、ペリクルＷＫを水平な台Ｔの上に配置した。ペリクルＷＫの第２端部Ｅ２側に接するように、ストッパーＳを配置した。次に、ペリクルＷＫの第２端部Ｅ２側を滑らないようにした状態で、第１端部Ｅ１側を持ち上げて、台ＴとペリクルＷＫとの間に、厚さ１ｍｍの板状部材Ｂを挟み込んだ。次に、板状部材Ｂを水平方向Ｈに抜き取り、ペリクルＷＫを落下させた。ペリクルＷＫを落下させた後に、ペリクル膜１０Ｗの破損の有無を目視にて確認した。破損が無かった場合は、厚さ１ｍｍの板状部材Ｂを積み重ねて、２枚の板状部材Ｂを挟み込み、２枚の板状部材Ｂを水平方向Ｈに抜き取り、ペリクルＷＫを落下させた。この操作を、ペリクル膜１０Ｗに破損が生じるまで繰り返し、ペリクル膜１０Ｗに破損が生じなかった落下時の最大高さをペリクル膜１０Ｗの耐衝撃性として評価した。なお、当該最大高さは、厚さ１ｍｍの板状部材Ｂを積み重ねたときの板状部材Ｂの最大枚数に相当する。ペリクル膜１０Ｗの耐衝撃性評価は、上記手順の試験を３回行い、３回の平均値とした。実施例１、参考例１、及び比較例１に係るペリクルの耐衝撃性評価の結果を表１に示す。

【0129】

【表1】

【0130】

表１に示すように、ペリクル膜の第２ペリクル膜面側に第２補強層を配置した実施例１に係るペリクルによれば、ペリクル膜が破損し難くなり、耐衝撃性が向上した。実施例１に係るペリクルは、ＭＷＣＮＴが水平方向に配向した第１補強層を有する参考例１に係るペリクルに比べて、さらに優れた耐衝撃性を示した。また、第２補強層は、カーボンナノチューブで形成されており耐熱性に優れるため、ＥＵＶのような高エネルギーの光を照射しても分解し難い。

【符号の説明】

【0131】

１０…ペリクル膜、１０Ｗ…ペリクル膜、１１…第１ペリクル膜面、１２…第２ペリクル膜面、１３…周縁部、３０…支持体、３０Ａ…ペリクル支持体、３０Ｗ…支持体、３１…枠部、３２…開口部、３２Ｗ…開口部、３４…支持面、４０…第１補強層、５０…第２補強層、５０Ｗ…第２補強層、１１０…ペリクル、１２０…ペリクル、Ｂ…板状部材、Ｅ１…第１端部、Ｅ２…第２端部、Ｈ…水平方向、Ｓ…ストッパー、Ｔ…台、ＷＫ…ペリクル。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5A】

【図5B】

【図6】