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特許7726792高分子マトリックスの層の屈折率を調整して微小光学（ＭＯ）焦点を最適化するためのナノ粒子の使用
発明の名称 高分子マトリックスの層の屈折率を調整して微小光学（ＭＯ）焦点を最適化するためのナノ粒子の使用
出願人 クレイン アンド カンパニー、 インコーポレイテッド （識別番号 516166085）
特許公開件数ランキング 14983 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 4258 位（1件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-7726792
公報発行日 2025年8月20
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7726792
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