特許7778995分子線構造を有する多層分子膜フォトレジストおよびその製造方法

発明の名称　分子線構造を有する多層分子膜フォトレジストおよびその製造方法

出願人　ヒューネットプラス カンパニー リミテッド　（識別番号 522167205）

　　　　特許公開件数ランキング 3363 位（2件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 13778 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7778995

公報発行日　2025年12月3

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7778995

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