特許7786220IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

この発明は、半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

パワー半導体チップ101が、SiC(炭化珪素)から構成されるSiCチップである場合、パワー半導体チップ101下の接合層125は、Sn(スズ)-Sb(アンチモン)、Sn-Cu(銅)、Sn-Ag(銀)、Sn-Sb-Ag等のはんだで積層基板105に接合されている。接合層125のはんだの厚さは均一で約100μm程度である。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

上述した課題を解決し、本発明の目的を達成するため、この発明にかかる半導体モジュールは、次の特徴を有する。半導体モジュールは、接合層を介して半導体素子を搭載した積層基板と、前記半導体素子と前記接合層と前記積層基板とを含む被封止部材を封止する封止材(封止樹脂)と、を備える。前記積層基板は、前記半導体素子側に銅または銅合金の導電性板を有し、前記接合層の厚さは、前記半導体素子の低温側から高温側に向か・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明にかかる半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法によれば、パワーサイクル試験など熱応力によるはんだ接合部のクラックを防止できるという効果を奏する。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの構成を示す断面図である。
【図2】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールのパワー半導体チップと接合層との拡大図である。
【図3A】 パワー半導体チップの上面図である。
【図3B】 パワー半導体チップの他の上面図である。
【図4】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールのパワー半導体チップと導電性板との接合層を示す模式図である。
【図5】 図4の接合層のソース電極パッド側端部の拡大図である。
【図6】 接合層の厚さ83μmでのCu-Sn化合物相の比率を示す模式図である。
【図7】 接合層の厚さ32μmでのCu-Sn化合物相の比率を示す模式図である。
【図8】 接合層の厚さ15μmでのCu-Sn化合物相の比率を示す模式図である。
【図9】 接合層の厚さとCu-Sn化合物相の比率を示すグラフである。
【図10】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの第1の製造方法を示す断面図である(その1)。
【図11】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの第1の製造方法を示す断面図である(その2)。
【図12】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの第2の製造方法を示す断面図である(その1)。
【図13】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの第2の製造方法を示す断面図である(その2)。
【図14】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの第3の製造方法を示す断面図である。
【図15】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの実施例のd1、d2、Lを示す表である。
【図16】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの参考例のd1、d2、Lを示す表である。
【図17】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの実施例の評価結果を示す表である。
【図18】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの参考例の評価結果を示す表である。
【図19】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールの他の上面図である。
【図20】 実施の形態にかかるパワー半導体モジュールのSBDの上面図である。
【図21】 従来構造のパワー半導体モジュールの構成を示す断面図である。
【図22】 従来構造のパワー半導体モジュールのパワー半導体チップと導電性板との接合層でのクラックを示す模式図である。
【図23】 図22の接合層のソース電極パッド側端部の拡大図である。
【図24】 従来構造のパワー半導体モジュールのサーモカメラ測定結果を示す模式図である。

代表図 図1本件の代表的な図

1、101 パワー半導体チップ 2、102 絶縁基板 3、103 第1導電性板 4、104 第2導電性板 5、105 積層基板 7、107 ケース 8、108 封止樹脂 9、109 金属端子 10、110 金属ワイヤ 25、27、125 接合層 26、126 放熱ベース 30、130 プライマー層 31、131 クラック 32、132 ソース電極パッド 33、133 ゲート電極パッド 34、134 Cu-Sn化合物相 35、135 Sn相 36 傾斜治具 37 レジスト 38 SBD部 39 高機能部 40 はんだ 50、150 パワー半導体モジュール

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