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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2025-12-15
(45)【発行日】2025-12-23
(54)【発明の名称】表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法
(51)【国際特許分類】
C09D 183/12 20060101AFI20251216BHJP
C08G 65/336 20060101ALI20251216BHJP
C09D 5/16 20060101ALI20251216BHJP
C09D 7/63 20180101ALI20251216BHJP
【ＦＩ】
C09D183/12
C08G65/336
C09D5/16
C09D7/63
【請求項の数】
7
(21)【出願番号】P 2022016230
(22)【出願日】2022-02-04
(65)【公開番号】P2023114103
(43)【公開日】2023-08-17
【審査請求日】2024-08-20
(73)【特許権者】
【識別番号】000000044
【氏名又は名称】ＡＧＣ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100168985
【弁理士】
【氏名又は名称】蜂谷 浩久
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(74)【代理人】
【識別番号】100149401
【弁理士】
【氏名又は名称】上西 浩史
(72)【発明者】
【氏名】大野 光
(72)【発明者】
【氏名】青山 元志
(72)【発明者】
【氏名】岩瀬 卓也
【審査官】齊藤 光子
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１９－０８９３３２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０２１－０６３２３２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－１０５２３５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０９Ｄ
Ｃ０８Ｇ ６５／００－６７／０４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
（ＯＣＦ２）で表される単位及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位を含むフルオロポリエーテル鎖と、反応性シリル基と、を有する含フッ素エーテル化合物の混合物を含む表面処理剤であって、前記含フッ素エーテル化合物が下式（１－１）で表される構造を有し、
前記含フッ素エーテル化合物の混合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、下式（Ａ－１）を満たすことを特徴とする、表面処理剤。
Ｙ＞－０．００６２Ｘ２＋０．１３４３Ｘ＋０．１１２３ ・・・（Ａ－１）
ただし、Ｘ及びＹは、内部標準として１，４－ビストリフルロメチルベンゼンを用いて、前記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートに基づいて求められる値であり、
化学シフト －５０．５～－５１．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ１、
化学シフト －５２．０～－５２．８ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ２、
化学シフト －５３．８～－５４．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ３、
化学シフト －８７．０～－８８．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ１、
化学シフト －８８．８～－９０．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ２とした場合、
Ｘは、｛（ａ１＋ａ２＋ａ３）／２｝／｛（ｂ１＋ｂ２）／４｝を意味し、
Ｙは、（ａ３）／（ａ１＋ａ２＋ａ３）を意味する。
［Ｒ ｆ１ －（ＯＣＦ ２ ） ｍ１１ ・（ＯＣＦ ２ ＣＦ ２ ） ｍ１２ －Ｏ－Ｒ １ ］ ｊ －Ｌ １ －（Ｒ １１ －Ｔ １１ ） ｘ１ ・・・（１－１）
ただし、
Ｒ ｆ１ は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、Ｒ ｆ１ が複数ある場合、複数あるＲ ｆ１ は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｍ１１は、２以上の正数であり、
ｍ１２は、２以上の正数であり、
Ｒ １ は、アルキレン基又はフルオロアルキレン基であり、Ｒ １ が複数ある場合、複数あるＲ １ は互いに同一であっても異なっていてもよく（ただし、Ｒ １ がフルオロアルキレン基である場合、Ｒ １ は－ＣＦ ２ －及び－ＣＦ ２ ＣＦ ２ －以外のフルオロアルキレン基である。）、
ｊは１以上の整数であり、
Ｌ １ は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよいｊ＋ｘ１価の有機基であって、Ｒ １ 及びＲ １１ に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
Ｒ １１ は、Ｌ １ に結合する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であり、
Ｔ １１ は、－ＳｉＲ ａ１１ ｚ１１ Ｒ ａ１２ ３－ｚ１１ であり、Ｒ ａ１１ は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒ ａ１１ が複数ある場合、複数あるＲ ａ１１ は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ ａ１２ は非加水分解性基であり、Ｒ ａ１２ が複数ある場合、複数あるＲ ａ１２ は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｚ１１は１～３の整数であり、
ｘ１は１以上の整数である。
【請求項2】
前記式（Ａ－１）中のＸが２～８である、請求項１に記載の表面処理剤。
【請求項3】
前記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、下式（Ａ－２）を満たす、請求項１又は２に記載の表面処理剤。Ｙ＞－０．００５６Ｘ２＋０．１２３１Ｘ＋０．２１１９ ・・・（Ａ－２）
ただし、式（Ａ－２）のＸ及びＹは、前記式（Ａ－１）のＸ及びＹと同じである。
【請求項4】
請求項１～３のいずれか１項に記載の表面処理剤と、液状媒体と、を含むことを特徴とする、コーティング液。
【請求項5】
請求項１～３のいずれか１項に記載の表面処理剤又は請求項４に記載のコーティング液から形成された表面層を基材上に有することを特徴とする、物品。
【請求項6】
前記物品がタッチパネルであり、前記タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面に前記表面層を有する、請求項５に記載の物品。
【請求項7】
請求項１～３のいずれか１項に記載の表面処理剤又は請求項４に記載のコーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、基材上に表面層を形成することを特徴とする、物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
基材の表面に撥水撥油性、防汚性等を付与するために、フルオロポリエーテル鎖と、反応性シリル基と、を有する含フッ素エーテル化合物を用いた表面処理によって、基材の表面に含フッ素エーテル化合物の縮合物からなる表面層を形成することが知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特許第５７６１３０５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
近年、含フッ素エーテル化合物を用いて形成された表面層に対する要求性能が高くなっている。例えば、表面層が指で触れる面を構成する部材に適用される場合には、潤滑性（指で触った際の滑らかさ）に優れ、かつ、耐摩擦性に優れる表面層が求められる。
本発明者らが、特許文献１に記載されているような含フッ素エーテル化合物を用いて形成された表面層を評価したところ、表面層の潤滑性及び耐摩擦性の少なくとも一方について、改良の余地があることを見出した。
本発明者らが、特許文献１に記載されているような含フッ素エーテル化合物を用いて形成された表面層を評価したところ、表面層の潤滑性及び耐摩擦性の少なくとも一方について、改良の余地があることを見出した。
【0005】
そこで、本発明は、潤滑性及び耐摩擦性に優れた表面層を形成できる表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、（ＯＣＦ２）で表される単位及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位を含むフルオロポリエーテル鎖と、反応性シリル基と、を有する含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤において、含フッ素エーテル化合物を１９Ｆ－ＮＭＲによって測定して得られる、フルオロポリエーテル鎖を構成する単位中のフッ素原子に対応するピークの積分値が後述する式（Ａ－１）を満たす場合、その表面処理剤が潤滑性及び耐摩擦性に優れる表面層を形成できることを見出し、本発明に至った。
【0007】
すなわち、発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
［１］ （ＯＣＦ２）で表される単位及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位を含むフルオロポリエーテル鎖と、反応性シリル基と、を有する含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤であって、
上記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、下式（Ａ－１）を満たすことを特徴とする、表面処理剤。
Ｙ＞－０．００６２Ｘ２＋０．１３４３Ｘ＋０．１１２３ ・・・（Ａ－１）
ただし、Ｘ及びＹは、内部標準として１，４－ビストリフルロメチルベンゼンを用いて、上記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートに基づいて求められる値であり、
化学シフト －５０．５～－５１．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ１、
化学シフト －５２．０～－５２．８ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ２、
化学シフト －５３．８～－５４．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ３、
化学シフト －８７．０～－８８．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ１、
化学シフト －８８．８～－９０．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ２とした場合、
Ｘは、｛（ａ１＋ａ２＋ａ３）／２｝／｛（ｂ１＋ｂ２）／４｝を意味し、
Ｙは、（ａ３）／（ａ１＋ａ２＋ａ３）を意味する。
［２］ 上記式（Ａ－１）中のＸが２～８である、［１］に記載の表面処理剤。
［３］ 上記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、下式（Ａ－２）を満たす、［１］又は［２］に記載の表面処理剤。
Ｙ＞－０．００５６Ｘ２＋０．１２３１Ｘ＋０．２１１９ ・・・（Ａ－２）
ただし、式（Ａ－２）のＸ及びＹは、上記式（Ａ－１）のＸ及びＹと同じである。
［４］ 上記［１］～［３］のいずれかに記載の表面処理剤と、液状媒体と、を含むことを特徴とする、コーティング液。
［５］ 上記［１］～［３］のいずれかに記載の表面処理剤又は上記［４］に記載のコーティング液から形成された表面層を基材上に有することを特徴とする、物品。
［６］ 上記物品がタッチパネルであり、上記タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面に上記表面層を有する、［５］に記載の物品。
［７］ 上記［１］～［３］のいずれかに記載の表面処理剤又は上記［４］に記載のコーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、基材上に表面層を形成することを特徴とする、物品の製造方法。
［１］ （ＯＣＦ２）で表される単位及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位を含むフルオロポリエーテル鎖と、反応性シリル基と、を有する含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤であって、
上記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、下式（Ａ－１）を満たすことを特徴とする、表面処理剤。
Ｙ＞－０．００６２Ｘ２＋０．１３４３Ｘ＋０．１１２３ ・・・（Ａ－１）
ただし、Ｘ及びＹは、内部標準として１，４－ビストリフルロメチルベンゼンを用いて、上記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートに基づいて求められる値であり、
化学シフト －５０．５～－５１．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ１、
化学シフト －５２．０～－５２．８ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ２、
化学シフト －５３．８～－５４．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ３、
化学シフト －８７．０～－８８．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ１、
化学シフト －８８．８～－９０．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ２とした場合、
Ｘは、｛（ａ１＋ａ２＋ａ３）／２｝／｛（ｂ１＋ｂ２）／４｝を意味し、
Ｙは、（ａ３）／（ａ１＋ａ２＋ａ３）を意味する。
［２］ 上記式（Ａ－１）中のＸが２～８である、［１］に記載の表面処理剤。
［３］ 上記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、下式（Ａ－２）を満たす、［１］又は［２］に記載の表面処理剤。
Ｙ＞－０．００５６Ｘ２＋０．１２３１Ｘ＋０．２１１９ ・・・（Ａ－２）
ただし、式（Ａ－２）のＸ及びＹは、上記式（Ａ－１）のＸ及びＹと同じである。
［４］ 上記［１］～［３］のいずれかに記載の表面処理剤と、液状媒体と、を含むことを特徴とする、コーティング液。
［５］ 上記［１］～［３］のいずれかに記載の表面処理剤又は上記［４］に記載のコーティング液から形成された表面層を基材上に有することを特徴とする、物品。
［６］ 上記物品がタッチパネルであり、上記タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面に上記表面層を有する、［５］に記載の物品。
［７］ 上記［１］～［３］のいずれかに記載の表面処理剤又は上記［４］に記載のコーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、基材上に表面層を形成することを特徴とする、物品の製造方法。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、潤滑性及び耐摩擦性に優れた表面層を形成できる表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】横軸を式（Ａ－１）のＸの値、縦軸を式（Ａ－１）のＹの値とする直交座標系において、実施例欄で用いた各含フッ素エーテル化合物のＸ及びＹの値から与えられる点をプロットしたグラフである。
【図2】実施例欄の例１４で使用した含フッ素エーテル化合物の混合物５－１を用いて１９Ｆ－ＮＭＲ測定した際に得られたチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本明細書において、式（ｇ１）で表される基を、基（ｇ１）と記すことがある。また、式（Ｇ１）で表される構造を、構造（Ｇ１）と記すことがある。また、式（１－１）で表される化合物を、化合物（１－１）と記すことがある。他の式で表される化合物等もこれらに準ずる。
フルオロアルキル基とは、ペルフルオロアルキル基とパーシャルフルオロアルキル基とを合わせた総称である。ペルフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子で置換された基を意味する。またパーシャルフルオロアルキル基とは、水素原子の１個以上がフッ素原子で置換され、かつ、水素原子を１個以上有するアルキル基である。すなわちフルオロアルキル基は１個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。
「反応性シリル基」とは、加水分解性シリル基及びシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）の総称であり、「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基を形成し得る基を意味する。
「有機基」とは、置換基を有していてもよく、炭素鎖中にヘテロ原子又は他の結合を有してもよい炭化水素基を意味する。
「炭化水素基」とは、炭素原子と水素原子からなる基であり、脂肪族炭化水素基（例えば、２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖アルキレン基、分岐を有するアルキレン基、シクロアルキレン基等）、芳香族炭化水素基（例えば、２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基等）及びこれらの組み合わせからなる基である。
「表面層」とは、基材上に形成される層を意味する。
フルオロポリエーテル鎖の「分子量」は、１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン単位の数（平均値）を求めて算出される数平均分子量である。
数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。
フルオロアルキル基とは、ペルフルオロアルキル基とパーシャルフルオロアルキル基とを合わせた総称である。ペルフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子で置換された基を意味する。またパーシャルフルオロアルキル基とは、水素原子の１個以上がフッ素原子で置換され、かつ、水素原子を１個以上有するアルキル基である。すなわちフルオロアルキル基は１個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。
「反応性シリル基」とは、加水分解性シリル基及びシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）の総称であり、「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基を形成し得る基を意味する。
「有機基」とは、置換基を有していてもよく、炭素鎖中にヘテロ原子又は他の結合を有してもよい炭化水素基を意味する。
「炭化水素基」とは、炭素原子と水素原子からなる基であり、脂肪族炭化水素基（例えば、２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖アルキレン基、分岐を有するアルキレン基、シクロアルキレン基等）、芳香族炭化水素基（例えば、２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基等）及びこれらの組み合わせからなる基である。
「表面層」とは、基材上に形成される層を意味する。
フルオロポリエーテル鎖の「分子量」は、１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン単位の数（平均値）を求めて算出される数平均分子量である。
数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。
【0011】
本明細書においては、ＯＣＦ２ＣＨ２－Ｏのような、２つの酸素原子で挟まれたフッ素原子を含むアルキレン構造においては、２つの酸素原子で挟まれた部分構造と酸素原子とからなる繰り返し単位（上記の場合、「ＯＣＦ２ＣＨ２」）があると解釈する。
【0012】
［表面処理剤］
本発明の表面処理剤（以下、「本表面処理剤」ともいう。）は、（ＯＣＦ２）で表される単位及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位を含むフルオロポリエーテル鎖と、反応性シリル基と、を有する含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤であって、上記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、後述する式（Ａ－１）を満たす。
本表面処理剤を用いれば、潤滑性及び耐摩擦性に優れた表面層を形成できる。
本発明の表面処理剤（以下、「本表面処理剤」ともいう。）は、（ＯＣＦ２）で表される単位及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位を含むフルオロポリエーテル鎖と、反応性シリル基と、を有する含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤であって、上記含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、後述する式（Ａ－１）を満たす。
本表面処理剤を用いれば、潤滑性及び耐摩擦性に優れた表面層を形成できる。
【0013】
本表面処理剤は、２種以上の含フッ素エーテル化合物を含んでいてもよい。この場合、含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られる上記チャートは、２種以上の含フッ素エーテル化合物の混合物を測定して得られるチャートを意味する。
【0014】
＜式（Ａ－１）＞
Ｙ＞－０．００６２Ｘ２＋０．１３４３Ｘ＋０．１１２３ ・・・（Ａ－１）
式（Ａ－１）中、Ｘ及びＹは、内部標準として１，４－ビストリフルロメチルベンゼンを用いて、本表面処理剤に含まれる含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートに基づいて求められる値であり、
化学シフト－５０．５～－５１．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ１、
化学シフト－５２．０～－５２．８ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ２、
化学シフト－５３．８～－５４．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ３、
化学シフト－８７．０～－８８．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ１、
化学シフト－８８．８～－９０．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ２とした場合、
Ｘは、｛（ａ１＋ａ２＋ａ３）／２｝／｛（ｂ１＋ｂ２）／４｝を意味し、
Ｙは、（ａ３）／（ａ１＋ａ２＋ａ３）を意味する。
Ｙ＞－０．００６２Ｘ２＋０．１３４３Ｘ＋０．１１２３ ・・・（Ａ－１）
式（Ａ－１）中、Ｘ及びＹは、内部標準として１，４－ビストリフルロメチルベンゼンを用いて、本表面処理剤に含まれる含フッ素エーテル化合物の１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートに基づいて求められる値であり、
化学シフト－５０．５～－５１．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ１、
化学シフト－５２．０～－５２．８ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ２、
化学シフト－５３．８～－５４．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をａ３、
化学シフト－８７．０～－８８．５ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ１、
化学シフト－８８．８～－９０．２ｐｐｍに観測されるピークの積分値をｂ２とした場合、
Ｘは、｛（ａ１＋ａ２＋ａ３）／２｝／｛（ｂ１＋ｂ２）／４｝を意味し、
Ｙは、（ａ３）／（ａ１＋ａ２＋ａ３）を意味する。
【0015】
上記ａ１、ａ２、ａ３、ｂ１及びｂ２のそれぞれに対応するピークの意味は、次の通りである。
ａ１に対応するピーク：含フッ素エーテル化合物におけるフルオロポリエーテル鎖を構成する各単位の配列において、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－で表される配列の中央に位置する（ＯＣＦ２）中のフッ素原子に対応するピーク
ａ２に対応するピーク：フルオロポリエーテル鎖を構成する各単位の配列において、－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－で表される配列の中央に位置する（ＯＣＦ２）中のフッ素原子に対応するピーク
ａ３に対応するピーク：フルオロポリエーテル鎖を構成する各単位の配列において、－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２）－で表される配列の中央に位置する（ＯＣＦ２）中のフッ素原子に対応するピーク
ｂ１及びｂ２に対応するピーク：（ＯＣＦ２ＣＦ２）中のフッ素原子に対応するピーク
ａ１に対応するピーク：含フッ素エーテル化合物におけるフルオロポリエーテル鎖を構成する各単位の配列において、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－で表される配列の中央に位置する（ＯＣＦ２）中のフッ素原子に対応するピーク
ａ２に対応するピーク：フルオロポリエーテル鎖を構成する各単位の配列において、－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－で表される配列の中央に位置する（ＯＣＦ２）中のフッ素原子に対応するピーク
ａ３に対応するピーク：フルオロポリエーテル鎖を構成する各単位の配列において、－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２）－（ＯＣＦ２）－で表される配列の中央に位置する（ＯＣＦ２）中のフッ素原子に対応するピーク
ｂ１及びｂ２に対応するピーク：（ＯＣＦ２ＣＦ２）中のフッ素原子に対応するピーク
【0016】
Ｘは、｛（ａ１＋ａ２＋ａ３）／２｝／｛（ｂ１＋ｂ２）／４｝を意味し、具体的には、フルオロポリエーテル鎖における（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位に対する（ＯＣＦ２）で表される単位の割合を示す数値である。つまり、Ｘが大きい場合、フルオロポリエーテル鎖中における（ＯＣＦ２）で表される単位の存在割合が高いことを意味する。
ここで、（ａ１＋ａ２＋ａ３）に１／２を乗じており、（ｂ１＋ｂ２）に１／４を乗じているのは、ａ１、ａ２及びａ３が（ＯＣＦ２）における２つのフッ素原子に対応する積分値であり、ｂ１及びｂ２が（ＯＣＦ２ＣＦ２）における４つのフッ素原子に対応する積分値であるためである。
ここで、（ａ１＋ａ２＋ａ３）に１／２を乗じており、（ｂ１＋ｂ２）に１／４を乗じているのは、ａ１、ａ２及びａ３が（ＯＣＦ２）における２つのフッ素原子に対応する積分値であり、ｂ１及びｂ２が（ＯＣＦ２ＣＦ２）における４つのフッ素原子に対応する積分値であるためである。
【0017】
Ｙは、（ａ３）／（ａ１＋ａ２＋ａ３）を意味し、具体的には、フルオロポリエーテル鎖中の（ＯＣＦ２）を含む配列において、（ＯＣＦ２）が３つ以上連続して配列する構造の割合を示す数値である。つまり、Ｙが大きい場合、フルオロポリエーテル鎖中において（ＯＣＦ２）が連続して配列している部分が多いことを意味する。
【0018】
ここで、Ｙが大きい含フッ素エーテル化合物を得る方法としては、例えば、含フッ素エーテル化合物の製造時において、（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位に対する（ＯＣＦ２）で表される単位の割合が高い化合物Ｍ１１と、（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位を有する化合物Ｍ１２と、を反応させて得られた原料Ｍ１３を用いる方法が挙げられる。化合物Ｍ１１は、（ＯＣＦ２）の割合が高いので、（ＯＣＦ２）が連続して配列している傾向にある。そのため、化合物Ｍ１１を用いると、Ｙの値を高くすることが可能となる。
一方で、Ｙが小さい含フッ素エーテル化合物を得る方法としては、例えば、含フッ素エーテル化合物の製造時において、（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位に対する（ＯＣＦ２）で表される単位の割合が低い化合物Ｍ２１を用いる方法が挙げられる。化合物Ｍ２１は、（ＯＣＦ２）の割合が低いので、（ＯＣＦ２）が連続して配列しにくい傾向にある。そのため、化合物Ｍ２１を用いると、Ｙの値を低くすることが可能となる。
一方で、Ｙが小さい含フッ素エーテル化合物を得る方法としては、例えば、含フッ素エーテル化合物の製造時において、（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位に対する（ＯＣＦ２）で表される単位の割合が低い化合物Ｍ２１を用いる方法が挙げられる。化合物Ｍ２１は、（ＯＣＦ２）の割合が低いので、（ＯＣＦ２）が連続して配列しにくい傾向にある。そのため、化合物Ｍ２１を用いると、Ｙの値を低くすることが可能となる。
【0019】
１９Ｆ－ＮＭＲスペクトルにおけるピークの積分値を求める際には、１９Ｆ－ＮＭＲスペクトルにおいて該当するピークを挟むように優位なシグナルが無い２点を決定し、この2点を結ぶ直線をベースラインとして各積分値を算出する。
【0020】
ここで、図１は、横軸を上記Ｘ（すなわち、｛（ａ１＋ａ２＋ａ３）／２｝／｛（ｂ１＋ｂ２）／４｝）の値、縦軸を上記Ｙ（すなわち、（ａ３）／（ａ１＋ａ２＋ａ３））の値とする直交座標系に、後述の実施例欄で用いた各含フッ素エーテル化合物のＸ及びＹの値から与えられる点をプロットしたグラフである。
図１にプロットした点のうち、点Ａの群、及び、点Ｂの群は、耐摩擦性及び潤滑性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物を示し、点Ｃの群は、耐摩耗性及び潤滑性の少なくとも一方が不十分である表面層を形成する含フッ素エーテル化合物を示す。また、点Ａの群、及び、点Ｂの群を比較した場合、点Ａの群の含フッ素エーテル化合物を用いた方が、耐摩擦性及び潤滑性により優れた表面層を形成できる。
図１における曲線Ａ－１は、グラフ上にプロットした点Ｂの群と点Ｃの群とに基づいて得られた曲線である。曲線Ａ－１は、上記式（Ａ－１）に対応し、Ｙ＝－０．００６２Ｘ２＋０．１３４３Ｘ＋０．１１２３の二次関数で表される。
曲線Ａ－１よりも縦軸の正側に存在する点（図１においては、点Ａの群及び点Ｂの群）が、上記式（Ａ－１）を満たす含フッ素エーテル化合物であり、曲線Ａ－１上、及び、曲線Ａ－１よりも縦軸の負側に存在する点（図１においては、点Ｃの群）が、上記式（Ａ－１）を満たさない含フッ素エーテル化合物である。
なお、図１における曲線Ａ－２については後述する。
図１にプロットした点のうち、点Ａの群、及び、点Ｂの群は、耐摩擦性及び潤滑性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物を示し、点Ｃの群は、耐摩耗性及び潤滑性の少なくとも一方が不十分である表面層を形成する含フッ素エーテル化合物を示す。また、点Ａの群、及び、点Ｂの群を比較した場合、点Ａの群の含フッ素エーテル化合物を用いた方が、耐摩擦性及び潤滑性により優れた表面層を形成できる。
図１における曲線Ａ－１は、グラフ上にプロットした点Ｂの群と点Ｃの群とに基づいて得られた曲線である。曲線Ａ－１は、上記式（Ａ－１）に対応し、Ｙ＝－０．００６２Ｘ２＋０．１３４３Ｘ＋０．１１２３の二次関数で表される。
曲線Ａ－１よりも縦軸の正側に存在する点（図１においては、点Ａの群及び点Ｂの群）が、上記式（Ａ－１）を満たす含フッ素エーテル化合物であり、曲線Ａ－１上、及び、曲線Ａ－１よりも縦軸の負側に存在する点（図１においては、点Ｃの群）が、上記式（Ａ－１）を満たさない含フッ素エーテル化合物である。
なお、図１における曲線Ａ－２については後述する。
【0021】
本発明者らは、ＸとＹというパラメータに着目して、本発明の効果との関連性を調べたところ、「曲線Ａ－１」を境にして所定の効果が得られることを知見した。
ここで、Ｘは、簡潔にいえば（ＯＣＦ２）で表される単位の量を表しており、Ｙは、簡潔いえば両端が（ＯＣＦ２）で挟まれた（ＯＣＦ２）の量を表している。本発明者らは、Ｘの値が変化すると、これに連動して所定の効果が発現するＹの値が変化することに着目し、ＸとＹのパラメータが密接な関連性があることを見出し、上記曲線Ａ－１を導き出した。
ここで、Ｘは、簡潔にいえば（ＯＣＦ２）で表される単位の量を表しており、Ｙは、簡潔いえば両端が（ＯＣＦ２）で挟まれた（ＯＣＦ２）の量を表している。本発明者らは、Ｘの値が変化すると、これに連動して所定の効果が発現するＹの値が変化することに着目し、ＸとＹのパラメータが密接な関連性があることを見出し、上記曲線Ａ－１を導き出した。
【0022】
式（Ａ－１）におけるＸは、表面層の耐摩擦性及び潤滑性の少なくとも一方がより優れる点から、０．９～８が好ましく、２～８がより好ましく、３～６が更に好ましい。
【0023】
式（Ａ－１）におけるＹは、１．０未満であり、表面層の耐摩擦性及び潤滑性の少なくとも一方がより優れる点から、０．１０～０．９０が好ましく、０．４６～０．８５がより好ましく、０．５０～０．８５が更に好ましい。
【0024】
＜式（Ａ－２）＞
本表面処理剤に含まれる含フッ素エーテル化合物は、１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、下式（Ａ－２）を満たすことが好ましい。これにより、表面層の耐摩擦性及び潤滑性の少なくとも一方がより優れる。
本表面処理剤に含まれる含フッ素エーテル化合物は、１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、下式（Ａ－２）を満たすことが好ましい。これにより、表面層の耐摩擦性及び潤滑性の少なくとも一方がより優れる。
【0025】
Ｙ＞－０．００５６Ｘ２＋０．１２３１Ｘ＋０．２１１９ ・・・（Ａ－２）
式（Ａ－２）のＸ及びＹは、上記式（Ａ－１）のＸ及びＹと同じである。
式（Ａ－２）のＸ及びＹは、上記式（Ａ－１）のＸ及びＹと同じである。
【0026】
ここで、図１における曲線Ａ－２は、グラフ上にプロットした点Ａの群と点Ｂの群とに基づいて得られた曲線である。式（Ａ－２）は、図１における曲線Ａ－２に対応し、曲線Ａ－２は、Ｙ＝－０．００５６Ｘ２＋０．１２３１Ｘ＋０．２１１９の二次関数で表される。
曲線Ａ－２よりも縦軸の正側に存在する点（図１においては、点Ａの群）が、上記式（Ａ－２）を満たす含フッ素エーテル化合物であり、曲線Ａ－２上、及び、曲線Ａ－２よりも縦軸の負側に存在する点（図１においては、点Ｂの群）が、上記式（Ａ－２）を満たさない含フッ素エーテル化合物である。
本発明者らは、ＸとＹというパラメータに着目して、本発明の効果との関連性を調べたところ、「曲線Ａ－２」を境にして、本発明の効果がより向上することを見出した。
曲線Ａ－２よりも縦軸の正側に存在する点（図１においては、点Ａの群）が、上記式（Ａ－２）を満たす含フッ素エーテル化合物であり、曲線Ａ－２上、及び、曲線Ａ－２よりも縦軸の負側に存在する点（図１においては、点Ｂの群）が、上記式（Ａ－２）を満たさない含フッ素エーテル化合物である。
本発明者らは、ＸとＹというパラメータに着目して、本発明の効果との関連性を調べたところ、「曲線Ａ－２」を境にして、本発明の効果がより向上することを見出した。
【0027】
＜式（Ａ－３）＞
本表面処理剤に含まれる含フッ素エーテル化合物は、１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、上記式（Ａ－１）を満たし、かつ、下式（Ａ－３）を満たすことが好ましく、上記式（Ａ－２）を満たし、かつ、下式（Ａ－３）を満たすことがより好ましい。これにより、表面層の耐摩擦性及び潤滑性の少なくとも一方が特に優れる。
Ｙ＜－０．００４５Ｘ２＋０．０９８Ｘ＋０．４６４５ ・・・（Ａ－３）
式（Ａ－３）のＸ及びＹは、上記式（Ａ－１）のＸ及びＹと同じである。
式（Ａ－３）は、図１における曲線Ａ－３に対応し、曲線Ａ－３は、Ｙ＝－０．００４５Ｘ２＋０．０９８Ｘ＋０．４６４５の二次関数で表される。
本表面処理剤に含まれる含フッ素エーテル化合物は、１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートにおいて、上記式（Ａ－１）を満たし、かつ、下式（Ａ－３）を満たすことが好ましく、上記式（Ａ－２）を満たし、かつ、下式（Ａ－３）を満たすことがより好ましい。これにより、表面層の耐摩擦性及び潤滑性の少なくとも一方が特に優れる。
Ｙ＜－０．００４５Ｘ２＋０．０９８Ｘ＋０．４６４５ ・・・（Ａ－３）
式（Ａ－３）のＸ及びＹは、上記式（Ａ－１）のＸ及びＹと同じである。
式（Ａ－３）は、図１における曲線Ａ－３に対応し、曲線Ａ－３は、Ｙ＝－０．００４５Ｘ２＋０．０９８Ｘ＋０．４６４５の二次関数で表される。
【0028】
＜含フッ素エーテル化合物＞
本表面処理剤に含まれる含フッ素エーテル化合物は、（ＯＣＦ２）で表される単位及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位を含むフルオロポリエーテル鎖と、反応性シリル基と、を有する。
含フッ素エーテル化合物はフルオロポリエーテル鎖を有するため、含フッ素エーテル化合物を用いて得られる表面層は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性に優れる。
含フッ素エーテル化合物は反応性シリル基を有する。当該反応性シリル基は基材と強固に化学結合するため得られる表面層は摩擦耐久性に優れる。
本表面処理剤に含まれる含フッ素エーテル化合物は、（ＯＣＦ２）で表される単位及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される単位を含むフルオロポリエーテル鎖と、反応性シリル基と、を有する。
含フッ素エーテル化合物はフルオロポリエーテル鎖を有するため、含フッ素エーテル化合物を用いて得られる表面層は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性に優れる。
含フッ素エーテル化合物は反応性シリル基を有する。当該反応性シリル基は基材と強固に化学結合するため得られる表面層は摩擦耐久性に優れる。
【0029】
フルオロポリエーテル鎖は、下記構造（Ｇ１）を有することが好ましい。
（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２ ・・・（Ｇ１）
ただし、
ｍ１１は、含フッ素エーテル化合物における（ＯＣＦ２）の平均個数を意味し、２以上の正数であり、
ｍ１２は、含フッ素エーテル化合物における（ＯＣＦ２ＣＦ２）の平均個数を意味し、２以上の正数である。
（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２ ・・・（Ｇ１）
ただし、
ｍ１１は、含フッ素エーテル化合物における（ＯＣＦ２）の平均個数を意味し、２以上の正数であり、
ｍ１２は、含フッ素エーテル化合物における（ＯＣＦ２ＣＦ２）の平均個数を意味し、２以上の正数である。
【0030】
式（Ｇ１）において、（ＯＣＦ２）と（ＯＣＦ２ＣＦ２）の結合順序は任意である。例えば、式（Ｇ１）において（ＯＣＦ２）と（ＯＣＦ２ＣＦ２）が交互に配置されてもよく、（ＯＣＦ２）と（ＯＣＦ２ＣＦ２）が各々ブロックに配置されてもよく、またランダムであってもよい。
ｍ１１は、２以上の正数であり、２～１００の正数が好ましく、３～８０の正数がより好ましく、４～６０の正数が更に好ましい。
ｍ１２は、２以上の正数であり、２～１００の正数が好ましく、３～８０の正数がより好ましく、４～６０の正数が更に好ましい。
ｍ１１／ｍ１２の値は、０．８～９が好ましく、２～８がより好ましく、３～７が更に好ましい。
ｍ１１は、２以上の正数であり、２～１００の正数が好ましく、３～８０の正数がより好ましく、４～６０の正数が更に好ましい。
ｍ１２は、２以上の正数であり、２～１００の正数が好ましく、３～８０の正数がより好ましく、４～６０の正数が更に好ましい。
ｍ１１／ｍ１２の値は、０．８～９が好ましく、２～８がより好ましく、３～７が更に好ましい。
【0031】
含フッ素エーテル化合物における（ＯＣＦ２）の平均個数及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の平均個数は、１９Ｆ－ＮＭＲによって測定される。
【0032】
含フッ素エーテル化合物におけるフルオロポリエーテル鎖は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）以外のオキシフルオロアルキレン単位（以下、「他のオキシフルオロアルキレン単位」ともいう。）を含んでいてもよい。
他のオキシフルオロアルキレン単位の具体例としては、（ＯＧｆ１）ｍ１、（ＯＧｆ２）ｍ２、（ＯＧｆ３）ｍ３、（ＯＧｆ４）ｍ４、（ＯＧｆ５）ｍ５、（ＯＧｆ６）ｍ６が挙げられる。
ただし、Ｇｆ１は、炭素数１のフルオロアルキレン基であり（ただし、Ｇｆ１が－ＣＦ２－である場合を除く。）、
Ｇｆ２は、炭素数２のフルオロアルキレン基であり（ただし、Ｇｆ２が－ＣＦ２ＣＦ２－である場合を除く。）、
Ｇｆ３は、炭素数３のフルオロアルキレン基であり、
Ｇｆ４は、炭素数４のフルオロアルキレン基であり、
Ｇｆ５は、炭素数５のフルオロアルキレン基であり、
Ｇｆ６は、炭素数６のフルオロアルキレン基であり、
ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ独立に０又は１以上の整数を表す。
なお、フルオロポリエーテル鎖が（ＯＧｆ１）～（ＯＧｆ６）から選択される少なくとも一種の単位を有する場合、（ＯＧｆ１）～（ＯＧｆ６）の結合順序は任意である。ｍ１～ｍ６は、それぞれ、（ＯＧｆ１）～（ＯＧｆ６）の平均個数を表すものであり、配置を表すものではない。例えば、（ＯＧｆ５）ｍ５は、（ＯＧｆ５）の平均個数がｍ５個であることを表し、（ＯＧｆ５）ｍ５のブロック配置構造を表すものではない。同様に、（ＯＧｆ１）～（ＯＧｆ６）の記載順は、それぞれの単位の結合順序を表すものではない。
また上記炭素数３～６のフルオロアルキレン基は、直鎖フルオロアルキレン基であってもよく、分岐、又は環構造を有するフルオロアルキレン基であってもよい。
他のオキシフルオロアルキレン単位の具体例としては、（ＯＧｆ１）ｍ１、（ＯＧｆ２）ｍ２、（ＯＧｆ３）ｍ３、（ＯＧｆ４）ｍ４、（ＯＧｆ５）ｍ５、（ＯＧｆ６）ｍ６が挙げられる。
ただし、Ｇｆ１は、炭素数１のフルオロアルキレン基であり（ただし、Ｇｆ１が－ＣＦ２－である場合を除く。）、
Ｇｆ２は、炭素数２のフルオロアルキレン基であり（ただし、Ｇｆ２が－ＣＦ２ＣＦ２－である場合を除く。）、
Ｇｆ３は、炭素数３のフルオロアルキレン基であり、
Ｇｆ４は、炭素数４のフルオロアルキレン基であり、
Ｇｆ５は、炭素数５のフルオロアルキレン基であり、
Ｇｆ６は、炭素数６のフルオロアルキレン基であり、
ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ独立に０又は１以上の整数を表す。
なお、フルオロポリエーテル鎖が（ＯＧｆ１）～（ＯＧｆ６）から選択される少なくとも一種の単位を有する場合、（ＯＧｆ１）～（ＯＧｆ６）の結合順序は任意である。ｍ１～ｍ６は、それぞれ、（ＯＧｆ１）～（ＯＧｆ６）の平均個数を表すものであり、配置を表すものではない。例えば、（ＯＧｆ５）ｍ５は、（ＯＧｆ５）の平均個数がｍ５個であることを表し、（ＯＧｆ５）ｍ５のブロック配置構造を表すものではない。同様に、（ＯＧｆ１）～（ＯＧｆ６）の記載順は、それぞれの単位の結合順序を表すものではない。
また上記炭素数３～６のフルオロアルキレン基は、直鎖フルオロアルキレン基であってもよく、分岐、又は環構造を有するフルオロアルキレン基であってもよい。
【0033】
Ｇｆ１の具体例としては、－ＣＨＦ－が挙げられる。
Ｇｆ２の具体例としては、－ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦ－等が挙げられる。
Ｇｆ３の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＨＦ２）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＨ３）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨＦ２）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＨ２－、－ＣＦ（ＣＨＦ２）－ＣＨ２－、－ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨ２－、－ＣＦ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＦ３）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＨＦ２）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＦ３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨＦ２）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＦ３）－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨＦ２）－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨ２－等が挙げられる。
Ｇｆ４の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦ－、－ｃｙｃｌｏＣ４Ｆ６－等が挙げられる。
Ｇｆ５の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ｃｙｃｌｏＣ５Ｆ８－等が挙げられる。
Ｇｆ６の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ｃｙｃｌｏＣ６Ｆ１０－等が挙げられる。
ここで、－ｃｙｃｌｏＣ４Ｆ６－は、ペルフルオロシクロブタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロブタン－１，２－ジイル基、ペルフルオロシクロブタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ５Ｆ８－は、ペルフルオロシクロペンタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ６Ｆ１０－は、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。
Ｇｆ２の具体例としては、－ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦ－等が挙げられる。
Ｇｆ３の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＨＦ２）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＨ３）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨＦ２）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＨ２－、－ＣＦ（ＣＨＦ２）－ＣＨ２－、－ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨ２－、－ＣＦ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＦ３）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＨＦ２）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＦ３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨＦ２）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＦ３）－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨＦ２）－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨ２－等が挙げられる。
Ｇｆ４の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦ－、－ｃｙｃｌｏＣ４Ｆ６－等が挙げられる。
Ｇｆ５の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ｃｙｃｌｏＣ５Ｆ８－等が挙げられる。
Ｇｆ６の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ｃｙｃｌｏＣ６Ｆ１０－等が挙げられる。
ここで、－ｃｙｃｌｏＣ４Ｆ６－は、ペルフルオロシクロブタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロブタン－１，２－ジイル基、ペルフルオロシクロブタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ５Ｆ８－は、ペルフルオロシクロペンタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ６Ｆ１０－は、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。
【0034】
フルオロポリエーテル鎖中のフッ素原子の割合［｛フッ素原子数／（フッ素原子数＋水素原子数）｝×１００（％）］は、撥水撥油性及び指紋除去性に優れる点から、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上が更に好ましい。
また、フルオロポリエーテル鎖部分の分子量は、耐摩擦性の点から、２，０００～２０，０００が好ましく、２，５００～１５，０００がより好ましく、３，０００～１０，０００が更に好ましい。
また、フルオロポリエーテル鎖部分の分子量は、耐摩擦性の点から、２，０００～２０，０００が好ましく、２，５００～１５，０００がより好ましく、３，０００～１０，０００が更に好ましい。
【0035】
フルオロポリエーテル鎖を構成する全単位の合計個数に対して、他のオキシフルオロアルキレン単位の合計個数の割合は、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。
【0036】
反応性シリル基は、基（ｇ１）が好ましい。
－ＳｉＲａ１ ｚ１Ｒａ２ ３－ｚ１ ・・・（ｇ１）
ただし、
Ｒａ１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒａ１が複数ある場合、複数あるＲａ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒａ２は非加水分解性基であり、Ｒａ２が複数ある場合、複数あるＲａ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｚ１は１～３の整数である。
－ＳｉＲａ１ ｚ１Ｒａ２ ３－ｚ１ ・・・（ｇ１）
ただし、
Ｒａ１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒａ１が複数ある場合、複数あるＲａ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒａ２は非加水分解性基であり、Ｒａ２が複数ある場合、複数あるＲａ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｚ１は１～３の整数である。
【0037】
Ｒａ１が水酸基の場合、Ｓｉ原子と共にシラノール（Ｓｉ－ＯＨ）基を構成する。また、加水分解性基は加水分解反応によって水酸基（すなわちシラノール基）となる基である。シラノール基は、更に分子間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材（又は下地層）の表面の水酸基（基材（又は下地層）－ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材（又は下地層）－Ｏ－Ｓｉ）を形成する。含フッ素エーテル化合物は、基（ｇ１）を１以上有することにより、表面層形成後の耐摩擦性に優れる。
【0038】
Ｒａ１の加水分解性基としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナート基（－ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。アシル基としては、炭素数１～６のアシル基が好ましい。アシルオキシ基としては、炭素数１～６のアシルオキシ基が好ましい。
【0039】
Ｒａ１は、含フッ素エーテル化合物の製造のしやすさの点から、中でも、炭素数１～４のアルコキシ基又はハロゲン原子が好ましい。Ｒａ１におけるアルコキシ基は、含フッ素エーテル化合物の保存安定性に優れ、反応時のアウトガスが抑制される点から、中でも、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、長期の保存安定性の点からはエトキシ基がより好ましく、加水分解反応委時間を短時間にする点からはメトキシ基がより好ましい。ハロゲン原子としては、中でも塩素原子が好ましい。
【0040】
Ｒａ２の非加水分解性基としては、水素原子又は１価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられ、製造の容易性等の点から、アルキル基が好ましい。また、製造の容易性等の点から、炭化水素基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
【0041】
ｚ１は１～３の整数であればよく、基材（又は下地層）との密着性の点から、２又は３が好ましく、３がより好ましい。
基（ｇ１）の具体例としては、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、－ＳｉＣｌ３、－Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＮＣＯ）３等が挙げられる。製造における取扱いやすさの点から、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が好ましい。
なお、１分子中に基（ｇ１）が複数ある場合、当該複数ある基（ｇ１）は同一であっても異なっていてもよい。
基（ｇ１）の具体例としては、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、－ＳｉＣｌ３、－Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＮＣＯ）３等が挙げられる。製造における取扱いやすさの点から、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が好ましい。
なお、１分子中に基（ｇ１）が複数ある場合、当該複数ある基（ｇ１）は同一であっても異なっていてもよい。
【0042】
含フッ素エーテル化合物は、上記フルオロポリエーテル鎖と、上記基（ｇ１）が直接又は連結基を介して結合している。当該連結基としては２価以上の有機基が挙げられる。
含フッ素エーテル化合物１分子中のフルオロポリエーテル鎖の数は１個であっても２個以上であってもよい。合成の容易性等の点から、１分子中のフルオロポリエーテル鎖の数は１～２０個が好ましく、１～１０個がより好ましく、１～４個が更に好ましい。
また、含フッ素エーテル化合物１分子中の基（ｇ１）の数は１個であっても２個以上であってもよい。耐摩擦性と撥水撥油性等を両立する点から、基（ｇ１）の数は１～３２個が好ましく、１～１８個がより好ましく、２～１２個が更に好ましい。
なお、フルオロポリエーテル鎖が複数ある場合、複数あるフルオロポリエーテル鎖は同一であっても異なっていてもよい。また、基（ｇ１）が複数ある場合、複数ある基（ｇ１）は同一であっても異なっていてもよい。
含フッ素エーテル化合物１分子中のフルオロポリエーテル鎖の数は１個であっても２個以上であってもよい。合成の容易性等の点から、１分子中のフルオロポリエーテル鎖の数は１～２０個が好ましく、１～１０個がより好ましく、１～４個が更に好ましい。
また、含フッ素エーテル化合物１分子中の基（ｇ１）の数は１個であっても２個以上であってもよい。耐摩擦性と撥水撥油性等を両立する点から、基（ｇ１）の数は１～３２個が好ましく、１～１８個がより好ましく、２～１２個が更に好ましい。
なお、フルオロポリエーテル鎖が複数ある場合、複数あるフルオロポリエーテル鎖は同一であっても異なっていてもよい。また、基（ｇ１）が複数ある場合、複数ある基（ｇ１）は同一であっても異なっていてもよい。
【0043】
含フッ素エーテル化合物の含有量は、本表面処理剤の全質量に対して、０．０１～１００質量％が好ましく、０．１０～９９．９９質量％がより好ましく、１．００～９９．００質量％が更に好ましい。含フッ素エーテル化合物の含有量が上記範囲にあれば、表面層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、外観により優れる。
【0044】
含フッ素エーテル化合物は、上記の構成を満たすものであればよい。合成の容易性、化合物の取り扱いの容易性等の点からは、中でも下式（１－１）、下式（１－２）又は下式（１－３）で表される化合物であることが好ましい。
［Ｒｆ１－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ１］ｊ－Ｌ１－（Ｒ１１－Ｔ１１）ｘ１ ・・・（１－１）
（Ｔ３１－Ｒ３１）ｘ３－Ｌ３－Ｒ３－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ２－Ｌ２－（Ｒ２１－Ｔ２１）ｘ２ ・・・（１－２）
Ｑ１［－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ４－Ｌ４－（Ｒ４１－Ｔ４１）ｘ４］ｒ１ ・・・（１－３）
ただし、
Ｒｆ１は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１が複数ある場合、複数あるＲｆ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２は、上述の通りであり、
Ｒ１は、アルキレン基又はフルオロアルキレン基であり、Ｒ１が複数ある場合、複数あるＲ１は互いに同一であっても異なっていてもよく（ただし、Ｒ１がフルオロアルキレン基である場合、Ｒ１は－ＣＦ２－及び－ＣＦ２ＣＦ２－以外のフルオロアルキレン基である。）、
Ｌ１は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよいｊ＋ｘ１価の有機基であって、Ｒ１及びＲ１１に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
Ｒ１１は、Ｌ１に結合する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であり、
Ｔ１１は、－ＳｉＲａ１１ ｚ１１Ｒａ１２ ３－ｚ１１であり、
Ｒａ１１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒａ１１が複数ある場合、複数あるＲａ１１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒａ１２は非加水分解性基であり、Ｒａ１２が複数ある場合、複数あるＲａ１２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｊは１以上の整数であり、
ｚ１１は１～３の整数であり、
ｘ１は１以上の整数であり、
Ｒ２及びＲ３は、各々独立に、アルキレン基又はフルオロアルキレン基であり（ただし、Ｒ１がフルオロアルキレン基である場合、Ｒ１は－ＣＦ２－及び－ＣＦ２ＣＦ２－以外のフルオロアルキレン基である。）、
Ｌ２は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ２価の有機基であって、Ｒ２及びＲ２１に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
Ｒ２１は、Ｌ２に隣接する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であり、
Ｌ３は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ３価の有機基であって、Ｒ３及びＲ３１に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
Ｒ３１は、Ｌ３に隣接する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であり、
Ｔ２１及びＴ３１は、各々独立に、－ＳｉＲａ２１ ｚ２１Ｒａ２２ ３－ｚ２１であり、
Ｒａ２１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒａ２１が複数ある場合、複数あるＲａ２１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒａ２２は非加水分解性基であり、Ｒａ２２が複数ある場合、複数あるＲａ２２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｚ２１は１～３の整数であり、
ｘ２及びｘ３は各々独立に１以上の整数であり、
Ｑ１は分岐点を有するｒ１価の基であり、
Ｒ４は、各々独立に、アルキレン基又はフルオロアルキレン基であり（ただし、Ｒ１がフルオロアルキレン基である場合、Ｒ１は－ＣＦ２－及び－ＣＦ２ＣＦ２－以外のフルオロアルキレン基である。）、
Ｌ４は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ４価の有機基であって、Ｒ４及びＲ４１に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
Ｒ４１は、Ｌ４に隣接する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であり、
Ｔ４１は、－ＳｉＲａ４１ ｚ４１Ｒａ４２ ３－ｚ４１であり、
Ｒａ４１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒａ４１が複数ある場合、複数あるＲａ４１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒａ４２は非加水分解性基であり、Ｒａ４２が複数ある場合、複数あるＲａ４２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｚ４１は１～３の整数であり、
ｘ４は１以上の整数であり、
ｒ１は３又は４である。
以下、各化合物の構成について説明するが、同様の構造を有する符号についてはそのことを示し、適宜読み替えて参照できるものとする。
［Ｒｆ１－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ１］ｊ－Ｌ１－（Ｒ１１－Ｔ１１）ｘ１ ・・・（１－１）
（Ｔ３１－Ｒ３１）ｘ３－Ｌ３－Ｒ３－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ２－Ｌ２－（Ｒ２１－Ｔ２１）ｘ２ ・・・（１－２）
Ｑ１［－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ４－Ｌ４－（Ｒ４１－Ｔ４１）ｘ４］ｒ１ ・・・（１－３）
ただし、
Ｒｆ１は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１が複数ある場合、複数あるＲｆ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２は、上述の通りであり、
Ｒ１は、アルキレン基又はフルオロアルキレン基であり、Ｒ１が複数ある場合、複数あるＲ１は互いに同一であっても異なっていてもよく（ただし、Ｒ１がフルオロアルキレン基である場合、Ｒ１は－ＣＦ２－及び－ＣＦ２ＣＦ２－以外のフルオロアルキレン基である。）、
Ｌ１は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよいｊ＋ｘ１価の有機基であって、Ｒ１及びＲ１１に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
Ｒ１１は、Ｌ１に結合する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であり、
Ｔ１１は、－ＳｉＲａ１１ ｚ１１Ｒａ１２ ３－ｚ１１であり、
Ｒａ１１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒａ１１が複数ある場合、複数あるＲａ１１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒａ１２は非加水分解性基であり、Ｒａ１２が複数ある場合、複数あるＲａ１２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｊは１以上の整数であり、
ｚ１１は１～３の整数であり、
ｘ１は１以上の整数であり、
Ｒ２及びＲ３は、各々独立に、アルキレン基又はフルオロアルキレン基であり（ただし、Ｒ１がフルオロアルキレン基である場合、Ｒ１は－ＣＦ２－及び－ＣＦ２ＣＦ２－以外のフルオロアルキレン基である。）、
Ｌ２は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ２価の有機基であって、Ｒ２及びＲ２１に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
Ｒ２１は、Ｌ２に隣接する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であり、
Ｌ３は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ３価の有機基であって、Ｒ３及びＲ３１に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
Ｒ３１は、Ｌ３に隣接する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であり、
Ｔ２１及びＴ３１は、各々独立に、－ＳｉＲａ２１ ｚ２１Ｒａ２２ ３－ｚ２１であり、
Ｒａ２１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒａ２１が複数ある場合、複数あるＲａ２１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒａ２２は非加水分解性基であり、Ｒａ２２が複数ある場合、複数あるＲａ２２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｚ２１は１～３の整数であり、
ｘ２及びｘ３は各々独立に１以上の整数であり、
Ｑ１は分岐点を有するｒ１価の基であり、
Ｒ４は、各々独立に、アルキレン基又はフルオロアルキレン基であり（ただし、Ｒ１がフルオロアルキレン基である場合、Ｒ１は－ＣＦ２－及び－ＣＦ２ＣＦ２－以外のフルオロアルキレン基である。）、
Ｌ４は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよい１＋ｘ４価の有機基であって、Ｒ４及びＲ４１に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子であり、
Ｒ４１は、Ｌ４に隣接する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であり、
Ｔ４１は、－ＳｉＲａ４１ ｚ４１Ｒａ４２ ３－ｚ４１であり、
Ｒａ４１は水酸基又は加水分解性基であって、Ｒａ４１が複数ある場合、複数あるＲａ４１は互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒａ４２は非加水分解性基であり、Ｒａ４２が複数ある場合、複数あるＲａ４２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｚ４１は１～３の整数であり、
ｘ４は１以上の整数であり、
ｒ１は３又は４である。
以下、各化合物の構成について説明するが、同様の構造を有する符号についてはそのことを示し、適宜読み替えて参照できるものとする。
【0045】
（化合物（１－１））
化合物（１－１）は、下記式（１－１）で表される構造を有する。
［Ｒｆ１－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ１］ｊ－Ｌ１－（Ｒ１１－Ｔ１１）ｘ１ ・・・（１－１）
ただし、式（１－１）中の各符号は上述の通りである。
化合物（１－１）は、下記式（１－１）で表される構造を有する。
［Ｒｆ１－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ１］ｊ－Ｌ１－（Ｒ１１－Ｔ１１）ｘ１ ・・・（１－１）
ただし、式（１－１）中の各符号は上述の通りである。
【0046】
Ｒｆ１は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基である。当該フルオロアルキル基は、直鎖であってもよく、分岐及び／又は環構造を有していてもよい。耐摩擦性の点から直鎖フルオロアルキル基が好ましく、合成の容易性等の点から、フルオロアルキル基の炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
【0047】
（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２は、上述の通りである。
【0048】
Ｒ１は、アルキレン基又はフルオロアルキレン基である。ただし、Ｒ１がフルオロアルキレン基である場合、Ｒ１は－ＣＦ２－及び－ＣＦ２ＣＦ２－以外のフルオロアルキレン基である。
Ｒ１におけるアルキレン基及びフルオロアルキレン基は直鎖であってもよく、分岐及び／又は環構造を有していてもよい。合成の容易性等の点から直鎖又は分岐を有するアルキレン基又はフルオロアルキレン基が好ましく、直鎖もしくは分岐としてメチル基又はフルオロメチル基を有するアルキレン基又はフルオロアルキレン基がより好ましい。Ｒ１における炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。なお、Ｒ１は、Ｌ１が単結合の場合、Ｒ１１に結合する。この場合、Ｒ１中のＲ１１に結合する炭素原子が少なくとも１個のフッ素原子又はフルオロアルキル基と結合しているものとする。
Ｒ１におけるアルキレン基及びフルオロアルキレン基は直鎖であってもよく、分岐及び／又は環構造を有していてもよい。合成の容易性等の点から直鎖又は分岐を有するアルキレン基又はフルオロアルキレン基が好ましく、直鎖もしくは分岐としてメチル基又はフルオロメチル基を有するアルキレン基又はフルオロアルキレン基がより好ましい。Ｒ１における炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。なお、Ｒ１は、Ｌ１が単結合の場合、Ｒ１１に結合する。この場合、Ｒ１中のＲ１１に結合する炭素原子が少なくとも１個のフッ素原子又はフルオロアルキル基と結合しているものとする。
【0049】
ｊは１分子中の［Ｒｆ１－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ１］の数を表し、１以上の整数であればよく、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましい。
【0050】
Ｒ１１は、Ｌ１に結合する原子がエーテル性酸素原子でもよく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基である。
Ｒ１１におけるアルキレン基は、直鎖であってもよく、分岐及び／又は環構造を有していてもよい。本表面処理剤が表面層を形成する際に密に配置されやすい点からは、直鎖又は分岐としてメチル基を有するアルキレン基が好ましく、直鎖アルキレン基がより好ましい。
Ｒ１１は、具体的には下式（ｇ２）で表すことができる。
＊－（Ｏ）ａ１－（Ｒｇ２Ｏ）ａ２－Ｒｇ２－＊＊ ・・・（ｇ２）
ただし、
Ｒｇ２は、炭素数１以上のアルキレン基であり、複数あるＲｇ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ａ１は０又は１であり、
ａ２は０以上の整数であり、
＊はＬ１に結合する結合手であり、
＊＊はＴ１１に結合する結合手である。
Ｒ１１におけるアルキレン基は、直鎖であってもよく、分岐及び／又は環構造を有していてもよい。本表面処理剤が表面層を形成する際に密に配置されやすい点からは、直鎖又は分岐としてメチル基を有するアルキレン基が好ましく、直鎖アルキレン基がより好ましい。
Ｒ１１は、具体的には下式（ｇ２）で表すことができる。
＊－（Ｏ）ａ１－（Ｒｇ２Ｏ）ａ２－Ｒｇ２－＊＊ ・・・（ｇ２）
ただし、
Ｒｇ２は、炭素数１以上のアルキレン基であり、複数あるＲｇ２は互いに同一であっても異なっていてもよく、
ａ１は０又は１であり、
ａ２は０以上の整数であり、
＊はＬ１に結合する結合手であり、
＊＊はＴ１１に結合する結合手である。
【0051】
ａ１が０の場合は結合手＊を有する原子が炭素原子となり、ａ１が１の場合は結合手＊を有する原子が酸素原子となる。化合物（１－１）においてａ１は０又は１のいずれでもよく、合成等の点から適宜選択すればよい。
ａ２はＲｇ２Ｏの繰り返し数であり、表面層としての耐久性等の点から、０～６が好ましく、０～３がより好ましく、０～１が更に好ましい。
ａ２はＲｇ２Ｏの繰り返し数であり、表面層としての耐久性等の点から、０～６が好ましく、０～３がより好ましく、０～１が更に好ましい。
【0052】
Ｒ１１は、表面層として撥水撥油性、指紋汚れ除去性により優れ、耐摩擦性等の耐久性にも優れる点から、下式（ｇ３）で表される基であることが更に好ましい。
＊－（Ｏ）ａ１－Ｒｇ３－＊＊ ・・・（ｇ３）
ただし、
Ｒｇ３はアルキレン基であり、
ａ１、＊及び＊＊は式（ｇ２）と同様である。
＊－（Ｏ）ａ１－Ｒｇ３－＊＊ ・・・（ｇ３）
ただし、
Ｒｇ３はアルキレン基であり、
ａ１、＊及び＊＊は式（ｇ２）と同様である。
【0053】
Ｒｇ３におけるアルキレン基は、直鎖であってもよく、分岐及び／又は環構造を有していてもよい。化合物（１－１）が表面層を形成する際に密に配置されやすい点からは直鎖アルキレン基が好ましい。
【0054】
Ｔ１１は－ＳｉＲａ１１
ｚ１１Ｒａ１２
３－ｚ１１であり、Ｒａ１１、Ｒａ１２、ｚ１１は、それぞれ上記基（ｇ１）を構成するＲａ１、Ｒａ２、ｚ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
【0055】
ｘ１は１分子中の－Ｒ１１－Ｔ１１の数を表し、１以上の整数であればよく、１～３２が好ましく、１～１８がより好ましく、２～１２が更に好ましい。
【0056】
Ｌ１は、単結合又は、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉを有していてもよく、分岐点を有していてもよいｊ＋ｘ１価の基であって、Ｒ１及びＲ１１に結合する原子は、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子である。なおＲ１及びＲ１１に結合する原子は同一原子であってもよく、異なる原子であってもよい。
【0057】
Ｌ１が単結合の場合、式（１－１）のＲ１とＲ１１は直接結合し、化合物（１－１）は下式（１－１’）で表される。
Ｒｆ１－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ１－Ｒ１１－Ｔ１１ ・・・（１－１’）
ただし、式（１－１’）中の各符号は、式（１－１）と同様である。
Ｒｆ１－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ１－Ｒ１１－Ｔ１１ ・・・（１－１’）
ただし、式（１－１’）中の各符号は、式（１－１）と同様である。
【0058】
Ｌ１が３価以上の基の場合、Ｌ１はＣ、Ｎ、Ｓｉ、環構造及び（ｊ＋ｘ１）価のオルガノポリシロキサン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の分岐点（以下、「分岐点Ｐ１」ともいう。）を有する。
【0059】
Ｎが分岐点Ｐ１となる場合、分岐点Ｐ１は、例えば＊－Ｎ（－＊＊）２又は（＊－）２Ｎ－＊＊で表される。ただし、＊はＲ１側の結合手であり、＊＊はＲ１１側の結合手である。
Ｃが分岐点Ｐ１となる場合、分岐点Ｐ１は、例えば＊－Ｃ（－＊＊）３、（＊－）２Ｃ（－＊＊）２、（＊－）３Ｃ－＊＊、＊－ＣＲ２９（－＊＊）２、又は（＊－）２ＣＲ２９－＊＊で表される。ただし、＊はＲ１側の結合手であり、＊＊はＲ１１側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基であり、例えば、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
Ｓｉが分岐点Ｐ１となる場合、分岐点Ｐ１は、例えば＊－Ｓｉ（－＊＊）３、（＊－）２Ｓｉ（－＊＊）２、（＊－）３Ｓｉ－＊＊、＊－ＳｉＲ２９（－＊＊）２、又は（＊－）２ＳｉＲ２９－＊＊で表される。ただし、＊はＲ１側の結合手であり、＊＊はＲ１１側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基であり、例えば、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
Ｃが分岐点Ｐ１となる場合、分岐点Ｐ１は、例えば＊－Ｃ（－＊＊）３、（＊－）２Ｃ（－＊＊）２、（＊－）３Ｃ－＊＊、＊－ＣＲ２９（－＊＊）２、又は（＊－）２ＣＲ２９－＊＊で表される。ただし、＊はＲ１側の結合手であり、＊＊はＲ１１側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基であり、例えば、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
Ｓｉが分岐点Ｐ１となる場合、分岐点Ｐ１は、例えば＊－Ｓｉ（－＊＊）３、（＊－）２Ｓｉ（－＊＊）２、（＊－）３Ｓｉ－＊＊、＊－ＳｉＲ２９（－＊＊）２、又は（＊－）２ＳｉＲ２９－＊＊で表される。ただし、＊はＲ１側の結合手であり、＊＊はＲ１１側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基であり、例えば、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
【0060】
分岐点Ｐ１を構成する環構造としては、化合物（１－１）を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性、耐光性及び耐薬品性が更に優れる点から、３～８員環の脂肪族環、３～８員環の芳香族環、３～８員環のヘテロ環、及びこれらの環のうちの２つ以上からなる縮合環からなる群から選ばれる１種が好ましく、下式に挙げられる環構造がより好ましい。環構造は、ハロゲン原子、アルキル基（炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を含んでいてもよい。）、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基、アルコキシ基、オキソ基（＝Ｏ）等の置換基を有してもよい。
【0061】
【化1】
【0062】
分岐点Ｐ１を構成するオルガノポリシロキサン残基としては、例えば、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ２５は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はフェニル基である。Ｒ２５のアルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１がより好ましい。
【0063】
【化2】
【0064】
２価以上のＬ１は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ２６）－、－Ｎ（Ｒ２６）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ２６）－、－Ｓ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ２６）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒ２６）－、－Ｎ（Ｒ２６）ＳＯ２－、－Ｓｉ（Ｒ２６）２－、－ＯＳｉ（Ｒ２６）２－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｐｈ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－及び２価のオルガノポリシロキサン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合（以下、「結合Ｂ１」ともいう。）を有していてもよい。
ただし、Ｒ２６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基であり、Ｐｈは、フェニレン基である。Ｒ２６のアルキル基の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
ただし、Ｒ２６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基であり、Ｐｈは、フェニレン基である。Ｒ２６のアルキル基の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
【0065】
２価のオルガノポリシロキサン残基としては、例えば、下式の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ２７は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はフェニル基である。Ｒ２７のアルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１がより好ましい。
【0066】
【化3】
【0067】
結合Ｂ１としては、化合物（１－１）を製造しやすい点から、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ２６－、－Ｎ（Ｒ２６）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－、及び－ＮＲ２６－からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合が好ましく、表面層の耐光性及び耐薬品性が更に優れる点から、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ２６－、－Ｎ（Ｒ２６）Ｃ（Ｏ）－又は－Ｃ（Ｏ）－がより好ましい。
【0068】
２価のＬ１としては、Ｒ１及びＲ１１に結合する原子が、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子である。すなわち、Ｒ１及びＲ１１に隣接する原子が各々結合Ｂ１の構成元素である。２価のＬ１の具体例としては、単結合、１個以上の結合Ｂ１（例えば、＊－Ｂ１－＊＊、＊－Ｂ１－Ｒ２８－Ｂ１－＊＊）等が挙げられる。ただし、Ｒ２８は単結合又は２価の有機基であり、＊はＲ１側の結合手であり、＊＊はＲ１１側の結合手である。
【0069】
３価以上のＬ１は、Ｒ１及びＲ１１に結合する原子が、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子である。すなわち、Ｒ１及びＲ１１に隣接する原子が各々結合Ｂ１又は分岐点Ｐ１の構成元素である。３価以上のＬ１の具体例としては、１個以上の分岐点Ｐ１（例えば｛（＊－）ｊＰ１（－＊＊）ｘ１｝、｛（＊－）ｊＰ１－Ｒ２８－Ｐ１（－＊＊）ｘ１｝等）、１個以上の分岐点Ｐ１と１個以上の結合Ｂ１との組み合わせ（例えば、｛＊－Ｂ１－Ｒ２８－Ｐ１（－＊＊）ｘ１｝、｛＊－Ｂ１－Ｒ２８－Ｐ１（－Ｒ２８－Ｂ１－＊＊）ｘ１｝等が挙げられる。ただし、Ｒ２８は単結合又は２価の有機基であり、＊はＲ１側の結合手であり、＊＊はＲ１１側の結合手である。
【0070】
上記Ｒ２８における２価の有機基としては、例えば、２価の脂肪族炭化水素基（アルキレン基、シクロアルキレン基等）、２価の芳香族炭化水素基（フェニレン基等）等の炭化水素基が挙げられ、当該炭化水素基の炭素－炭素原子間に結合Ｂ１を有していてもよい。２価の有機基の炭素数は１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。
【0071】
上記Ｌ１としては、化合物（１－１）を製造しやすい点から、下式（Ｌ１）～（Ｌ７）のいずれかで表される基が好ましい。
【0072】
【化4】
【0073】
（－Ａ１－）ｄ５Ｃ（Ｒｅ２）４－ｄ５―ｄ６（－Ｑ２２－）ｄ６ ・・・（Ｌ２）
（－Ａ２－）ｄ７Ｎ（－Ｑ２３－）３－ｄ７ ・・・（Ｌ３）
（－Ａ３－）ｄ８Ｚ１（－Ｑ２４－）ｄ９ ・・・（Ｌ４）
（－Ａ２－）ｄ１０Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｄ１０－ｄ１１（－Ｑ２５－）ｄ１１ ・・・（Ｌ５）
－Ａ１－Ｑ２６－ ・・・（Ｌ６）
－Ａ１－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｄ１２（－Ｑ２５－）ｄ１２ ・・・（Ｌ７）
（－Ａ２－）ｄ７Ｎ（－Ｑ２３－）３－ｄ７ ・・・（Ｌ３）
（－Ａ３－）ｄ８Ｚ１（－Ｑ２４－）ｄ９ ・・・（Ｌ４）
（－Ａ２－）ｄ１０Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｄ１０－ｄ１１（－Ｑ２５－）ｄ１１ ・・・（Ｌ５）
－Ａ１－Ｑ２６－ ・・・（Ｌ６）
－Ａ１－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｄ１２（－Ｑ２５－）ｄ１２ ・・・（Ｌ７）
【0074】
ただし、式（Ｌ１）～式（Ｌ７）においては、Ａ１、Ａ２又はＡ３側が式（１－１）のＲ１と接続し、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６側がＲ１１に接続する。
ここで、Ａ１は、単結合、－Ｂ３－、－Ｂ３－Ｒ３０－、又は－Ｂ３－Ｒ３０－Ｂ２－であって、Ｒ３０はアルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ６－又は－Ｏ－を有する基であり、Ｂ２は、－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ６－又は－Ｏ－であり、Ｂ３は－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、又は－ＮＲｅ６－であり、
Ａ２は、単結合又は－Ｂ３－Ｒ３０－であり、
Ａ３は、Ａ３が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合はＡ１であり、Ａ３が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合はＡ２であり、
Ｑ１１は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ６－又は－Ｏ－を有する基であり、
Ｑ２２は、単結合、－Ｂ３－、－Ｒ３０－Ｂ３－又は－Ｂ２－Ｒ３０－Ｂ３－であり、
Ｑ２３は、単結合又は－Ｒ３０－Ｂ３－であり、
Ｑ２４は、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合、Ｑ２２であり、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合、Ｑ２３であり、
Ｑ２５は、単結合又は－Ｒ３０－Ｂ３－であり、
Ｑ２６は、単結合又は－Ｒ３０－Ｂ３－であり、
Ｚ１は、Ａ３が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有する（ｄ８＋ｄ９）価の環構造を有する基であり、
Ｒｅ１は、水素原子又はアルキル基であり、
Ｒｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基又はアシルオキシ基であり、
Ｒｅ３は、アルキル基であり、
Ｒｅ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基であり、
ｄ１は０～３の整数であり、ｄ２は０～３の整数であって、ｄ１＋ｄ２は１～３の整数であり、
ｄ３は０～３の整数であり、ｄ４は０～３の整数であって、ｄ３＋ｄ４は１～３の整数であり、
ｄ１＋ｄ３は１～５の整数であり、
ｄ２＋ｄ４は１～５の整数であり、
ｄ５は１～３の整数であり、ｄ６は１～３の整数であって、ｄ５＋ｄ６は２～４の整数であり、
ｄ７は１又は２であり、
ｄ８は１以上の整数であり、
ｄ９は１以上の整数であり、
ｄ１０は１～３の整数であり、ｄ１１は１～３の整数であって、ｄ１０＋ｄ１１は２～４の整数であり、
ｄ１２は１～３の整数である。
なお、Ａ１が複数ある場合、当該複数あるＡ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。Ａ２、Ａ３、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５、Ｒｅ１、Ｒｅ２、Ｒｅ３についても同様である。
また、ｄ１＋ｄ３、ｄ５、ｄ７、ｄ８、ｄ１０がｊであり、ｄ２＋ｄ４、ｄ６、３－ｄ７、ｄ９、ｄ１１、１＋ｄ１２がｘ１である。
ここで、Ａ１は、単結合、－Ｂ３－、－Ｂ３－Ｒ３０－、又は－Ｂ３－Ｒ３０－Ｂ２－であって、Ｒ３０はアルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ６－又は－Ｏ－を有する基であり、Ｂ２は、－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ６－又は－Ｏ－であり、Ｂ３は－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、又は－ＮＲｅ６－であり、
Ａ２は、単結合又は－Ｂ３－Ｒ３０－であり、
Ａ３は、Ａ３が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合はＡ１であり、Ａ３が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合はＡ２であり、
Ｑ１１は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ６－又は－Ｏ－を有する基であり、
Ｑ２２は、単結合、－Ｂ３－、－Ｒ３０－Ｂ３－又は－Ｂ２－Ｒ３０－Ｂ３－であり、
Ｑ２３は、単結合又は－Ｒ３０－Ｂ３－であり、
Ｑ２４は、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合、Ｑ２２であり、Ｑ２４が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合、Ｑ２３であり、
Ｑ２５は、単結合又は－Ｒ３０－Ｂ３－であり、
Ｑ２６は、単結合又は－Ｒ３０－Ｂ３－であり、
Ｚ１は、Ａ３が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有する（ｄ８＋ｄ９）価の環構造を有する基であり、
Ｒｅ１は、水素原子又はアルキル基であり、
Ｒｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基又はアシルオキシ基であり、
Ｒｅ３は、アルキル基であり、
Ｒｅ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基であり、
ｄ１は０～３の整数であり、ｄ２は０～３の整数であって、ｄ１＋ｄ２は１～３の整数であり、
ｄ３は０～３の整数であり、ｄ４は０～３の整数であって、ｄ３＋ｄ４は１～３の整数であり、
ｄ１＋ｄ３は１～５の整数であり、
ｄ２＋ｄ４は１～５の整数であり、
ｄ５は１～３の整数であり、ｄ６は１～３の整数であって、ｄ５＋ｄ６は２～４の整数であり、
ｄ７は１又は２であり、
ｄ８は１以上の整数であり、
ｄ９は１以上の整数であり、
ｄ１０は１～３の整数であり、ｄ１１は１～３の整数であって、ｄ１０＋ｄ１１は２～４の整数であり、
ｄ１２は１～３の整数である。
なお、Ａ１が複数ある場合、当該複数あるＡ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。Ａ２、Ａ３、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５、Ｒｅ１、Ｒｅ２、Ｒｅ３についても同様である。
また、ｄ１＋ｄ３、ｄ５、ｄ７、ｄ８、ｄ１０がｊであり、ｄ２＋ｄ４、ｄ６、３－ｄ７、ｄ９、ｄ１１、１＋ｄ１２がｘ１である。
【0075】
Ｒ３０のアルキレン基の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性、耐光性及び耐薬品性が更に優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
Ｚ１における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。
Ｚ１における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。
【0076】
Ｒｅ１、Ｒｅ２又はＲｅ３のアルキル基の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
Ｒｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
ｄ９は、化合物（１－１）を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性が更に優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３が更に好ましい。
Ｒｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
ｄ９は、化合物（１－１）を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性が更に優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３が更に好ましい。
【0077】
上記Ｌ１の他の形態としては、下式（Ｌ１１）～（Ｌ１７）のいずれかで表される基が挙げられる。
【0078】
【化5】
【0079】
（－Ａ１－）ｄ５Ｃ（Ｒｅ２）４－ｄ５―ｄ６（－Ｑ２２－Ｇ）ｄ６ ・・・（Ｌ１２）
（－Ａ２－）ｄ７Ｎ（－Ｑ２３－Ｇ）３－ｄ７ ・・・（Ｌ１３）
（－Ａ３－）ｄ８Ｚ１（－Ｑ２４－Ｇ）ｄ９ ・・・（Ｌ１４）
（－Ａ２－）ｄ１０Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｄ１０－ｄ１１（－Ｑ２５－Ｇ）ｄ１１ ・・・（Ｌ１５）
－Ａ１－Ｑ２６－Ｇ ・・・（Ｌ１６）
－Ａ１－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｄ１２（－Ｑ２５－Ｇ）ｄ１２ ・・・（Ｌ１７）
（－Ａ２－）ｄ７Ｎ（－Ｑ２３－Ｇ）３－ｄ７ ・・・（Ｌ１３）
（－Ａ３－）ｄ８Ｚ１（－Ｑ２４－Ｇ）ｄ９ ・・・（Ｌ１４）
（－Ａ２－）ｄ１０Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｄ１０－ｄ１１（－Ｑ２５－Ｇ）ｄ１１ ・・・（Ｌ１５）
－Ａ１－Ｑ２６－Ｇ ・・・（Ｌ１６）
－Ａ１－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｄ１２（－Ｑ２５－Ｇ）ｄ１２ ・・・（Ｌ１７）
【0080】
ただし、式（Ｌ１１）～式（Ｌ１７）において、Ａ１、Ａ２又はＡ３側が式（１－１）のＲ１と接続し、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６側がＲ１１に接続する。Ｇは、下記の基（Ｇ２１）であり、Ｌ１が有する２以上のＧは同一であっても異なっていてもよい。Ｇ以外の符号は、式（Ｌ１）～式（Ｌ７）における符号と同じである。
－Ｓｉ（Ｒ２１）３－ｋ（－Ｑ３－）ｋ ・・・（Ｇ２１）
ただし、式（Ｇ２１）において、Ｓｉ側がＱ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６に接続し、Ｑ３側がＲ１１に接続する。Ｒ２１は、アルキル基である。Ｑ３は、単結合、又は－Ｒ３１－Ｂ３－であって、Ｒ３１は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ３２－又は－Ｏ－を有する基、又は－（ＯＳｉ（Ｒ２２）２）ｐ１１－Ｏ－であり、２以上のＱ３は同一であっても異なっていてもよい。ｋは、２又は３である。Ｒ３２は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。Ｒ２２は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ２２は同一であっても異なっていてもよい。ｐ１１は、０～５の整数であり、ｐ１１が２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ２２）２）は同一であっても異なっていてもよい。
－Ｓｉ（Ｒ２１）３－ｋ（－Ｑ３－）ｋ ・・・（Ｇ２１）
ただし、式（Ｇ２１）において、Ｓｉ側がＱ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６に接続し、Ｑ３側がＲ１１に接続する。Ｒ２１は、アルキル基である。Ｑ３は、単結合、又は－Ｒ３１－Ｂ３－であって、Ｒ３１は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ３２－又は－Ｏ－を有する基、又は－（ＯＳｉ（Ｒ２２）２）ｐ１１－Ｏ－であり、２以上のＱ３は同一であっても異なっていてもよい。ｋは、２又は３である。Ｒ３２は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。Ｒ２２は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ２２は同一であっても異なっていてもよい。ｐ１１は、０～５の整数であり、ｐ１１が２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ２２）２）は同一であっても異なっていてもよい。
【0081】
Ｑ３のアルキレン基の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性、耐光性及び耐薬品性が更に優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
Ｒ２１のアルキル基の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
Ｒ２２のアルキル基の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
Ｒ２２のアルコキシ基の炭素数は、化合物（１－１）の保存安定性に優れる点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
ｐ１１は、０又は１が好ましい。
Ｒ２１のアルキル基の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
Ｒ２２のアルキル基の炭素数は、化合物（１－１）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
Ｒ２２のアルコキシ基の炭素数は、化合物（１－１）の保存安定性に優れる点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
ｐ１１は、０又は１が好ましい。
【0082】
化合物（１－１）としては、例えば、下記のものが挙げられる。ただしＲｆは［Ｒｆ１－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ１］である。
【0083】
【化6】
【0084】
【化7】
【0085】
【化8】
【0086】
【化9】
【0087】
【化10】
【0088】
【化11】
【0089】
【化12】
【0090】
【化13】
【0091】
【化14】
【0092】
【化15】
【0093】
【化16】
【0094】
【化17】
【0095】
【化18】
【0096】
（化合物（１－２））
化合物（１－２）は、下記式（１－２）で表される構造を有する。
（Ｔ３１－Ｒ３１）ｘ３－Ｌ３－Ｒ３－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ２－Ｌ２－（Ｒ２１－Ｔ２１）ｘ２ ・・・（１－２）
ただし、式（１－２）中の各符号は上述の通りである。
化合物（１－２）は、下記式（１－２）で表される構造を有する。
（Ｔ３１－Ｒ３１）ｘ３－Ｌ３－Ｒ３－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ２－Ｌ２－（Ｒ２１－Ｔ２１）ｘ２ ・・・（１－２）
ただし、式（１－２）中の各符号は上述の通りである。
【0097】
（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２は、上述の通りである。
【0098】
Ｒ２及びＲ３は各々独立に上記Ｒ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
【0099】
Ｒ２１及びＲ３１は上記Ｒ１１と同様であり、好ましい態様も同様である。ただし、「Ｌ１に結合する」は、Ｒ２１の場合は「Ｌ２に結合する」に読み替え、Ｒ３１の場合は「Ｌ３に結合する」と読み替えるものとする。また、「Ｔ１１に結合する」は、Ｒ２１の場合は「Ｔ２１に結合する」に読み替え、Ｒ３１の場合は「Ｔ３１に結合する」と読み替えるものとする。なお、Ｌ２が単結合の場合、Ｒ２１はＲ２に直接結合する。また、Ｌ３が単結合の場合、Ｒ３１はＲ３に直接結合する。
【0100】
Ｔ２１及びＴ３１は各々独立に－ＳｉＲａ２１
ｚ２１Ｒａ２２
３－ｚ２１であり、Ｒａ２１、Ｒａ２２、ｚ２１は、それぞれ上記基（ｇ１）を構成するＲａ１、Ｒａ２、ｚ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
【0101】
ｘ２及びｘ３は各々独立にｘ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
【0102】
Ｌ２及びＬ３は各々独立に上記Ｌ１のうちｊが１の場合と同様である。
例えばＬ２及びＬ３が単結合の場合は、化合物（１－２）は、下式（１－２’）で表される。
Ｔ３１－Ｒ３１－Ｒ３－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ２－Ｌ２－Ｒ２１－Ｔ２１ ・・・（１－２’）
ただし、式（１－２’）中の各符号は、式（１－２）と同様である。
例えばＬ２及びＬ３が単結合の場合は、化合物（１－２）は、下式（１－２’）で表される。
Ｔ３１－Ｒ３１－Ｒ３－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ２－Ｌ２－Ｒ２１－Ｔ２１ ・・・（１－２’）
ただし、式（１－２’）中の各符号は、式（１－２）と同様である。
【0103】
Ｌ２又はＬ３が３価以上の基の場合、当該Ｌ２又はＬ３はＣ、Ｎ、Ｓｉ、環構造及び（１＋ｘ２）価又は（１＋ｘ３）価のオルガノポリシロキサン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の分岐点（以下、「分岐点Ｐ２」ともいう。）を有する。
【0104】
Ｎが分岐点Ｐ２となる場合、分岐点Ｐ２は、例えば＊－Ｎ（－＊＊）２で表される。ただし、＊はＲ２又はＲ３側の結合手であり、＊＊はＲ２１又はＲ３１側の結合手である。
Ｃが分岐点Ｐ２となる場合、分岐点Ｐ２は、例えば＊－Ｃ（－＊＊）３、又は＊－ＣＲ２９（－＊＊）２で表される。ただし、＊はＲ２又はＲ３側の結合手であり、＊＊はＲ２１又はＲ３１側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基であり、例えば、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
Ｓｉが分岐点Ｐ２となる場合、分岐点Ｐ２は、例えば＊－Ｓｉ（－＊＊）３、又は＊－ＳｉＲ２９（－＊＊）２で表される。ただし、＊はＲ２又はＲ３側の結合手であり、＊＊はＲ２１又はＲ３１側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基であり、例えば、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
Ｃが分岐点Ｐ２となる場合、分岐点Ｐ２は、例えば＊－Ｃ（－＊＊）３、又は＊－ＣＲ２９（－＊＊）２で表される。ただし、＊はＲ２又はＲ３側の結合手であり、＊＊はＲ２１又はＲ３１側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基であり、例えば、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
Ｓｉが分岐点Ｐ２となる場合、分岐点Ｐ２は、例えば＊－Ｓｉ（－＊＊）３、又は＊－ＳｉＲ２９（－＊＊）２で表される。ただし、＊はＲ２又はＲ３側の結合手であり、＊＊はＲ２１又はＲ３１側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基であり、例えば、水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。
【0105】
分岐点Ｐ２を構成する環構造、オルガノポリシロキサン残基は、上記分岐点Ｐ１と同様であり好ましい態様も同様である。
また、２価以上のＬ２又はＬ３は各々独立に上記結合Ｂ１を有していてもよい。結合Ｂ１の態様は前述の通りであり、好ましい態様も同様である。
また、２価以上のＬ２又はＬ３は各々独立に上記結合Ｂ１を有していてもよい。結合Ｂ１の態様は前述の通りであり、好ましい態様も同様である。
【0106】
２価のＬ２又はＬ３は、Ｒ２及びＲ２１、もしくは、Ｒ３及びＲ３１に結合する原子が、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子である。すなわち、Ｒ２及びＲ２１、もしくは、Ｒ３及びＲ３１に隣接する原子が各々結合Ｂ１の構成元素である。２価のＬ２又はＬ３の具体例としては、単結合、１個以上の結合Ｂ１（例えば、＊－Ｂ１－＊＊、＊－Ｂ１－Ｒ２８－Ｂ１－＊＊）等が挙げられる。ただし、Ｒ２８は単結合又は２価の有機基であり、＊はＲ２又はＲ３側の結合手であり、＊＊はＲ２１又はＲ３１側の結合手である。
【0107】
３価以上のＬ２又はＬ３は、Ｒ２及びＲ２１、もしくは、Ｒ３及びＲ３１に結合する原子が、各々独立に、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、分岐点を構成する炭素原子、又はオキソ基（＝Ｏ）を有する炭素原子である。すなわち、Ｒ２及びＲ２１、もしくは、Ｒ３及びＲ３１に隣接する原子が各々結合Ｂ１又は分岐点Ｐ２の構成元素である。３価以上のＬ２又はＬ３の具体例としては、１個以上の分岐点Ｐ２（例えば｛＊－Ｐ２（－＊＊）ｘ｝、｛＊－Ｐ１－Ｒ２８－Ｐ１－＊＊ｘ１等）、１個以上の分岐点Ｐ２と１個以上の結合Ｂ１との組み合わせ（例えば、｛＊－Ｂ１－Ｒ２８－Ｐ１（－＊＊）ｘ｝、｛＊－Ｂ１－Ｒ２８－Ｐ１（－Ｒ２８－Ｂ１－＊＊）ｘ｝等が挙げられる。ただし、ｘは、Ｌ２の場合はｘ２であり、Ｌ３の場合はｘ３である。Ｒ２８は単結合又は２価の有機基であり、＊はＲ２又はＲ３側の結合手であり、＊＊はＲ２１又はＲ３１側の結合手である。
上記Ｒ２８の態様は前述の通りであり、好ましい態様も同様である。
上記Ｒ２８の態様は前述の通りであり、好ましい態様も同様である。
【0108】
上記Ｌ２又はＬ３としては、化合物（１－２）を製造しやすい点から、各々独立に下式（Ｌ２１）～（Ｌ２７）のいずれかで表される基が好ましい。
【0109】
【化19】
【0110】
－Ａ１－Ｃ（Ｒｅ２）４－ｄ６（－Ｑ２２－）ｄ６ ・・・（Ｌ２２）
－Ａ２－Ｎ（－Ｑ２３－）２ ・・・（Ｌ２３）
－Ａ３－Ｚ１（－Ｑ２４－）ｄ９ ・・・（Ｌ２４）
－Ａ２－Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｄ１１（－Ｑ２５－）ｄ１１ ・・・（Ｌ２５）
－Ａ１－Ｑ２６－ ・・・（Ｌ２６）
－Ａ１－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｄ１２（－Ｑ２５－）ｄ１２ ・・・（Ｌ２７）
－Ａ２－Ｎ（－Ｑ２３－）２ ・・・（Ｌ２３）
－Ａ３－Ｚ１（－Ｑ２４－）ｄ９ ・・・（Ｌ２４）
－Ａ２－Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｄ１１（－Ｑ２５－）ｄ１１ ・・・（Ｌ２５）
－Ａ１－Ｑ２６－ ・・・（Ｌ２６）
－Ａ１－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｄ１２（－Ｑ２５－）ｄ１２ ・・・（Ｌ２７）
【0111】
ただし、式（Ｌ２１）～式（Ｌ２７）においては、Ａ１、Ａ２又はＡ３側が式Ｒ２又はＲ３と接続し、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６側がＲ２１又はＲ３１に接続する。
ここで、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ｑ１１、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５、Ｑ２６、Ｒｅ１、Ｒｅ２、Ｒｅ３、Ｒｅ６は上記Ｌ１で説明したものと同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｚ１は、Ａ３が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有する（１＋ｄ９）価の環構造を有する基であり、
ｄ２は０～３の整数であり、ｄ４は０～３の整数であって、ｄ２＋ｄ４は１～５の整数であり、
ｄ６は１～３の整数あり、
ｄ９は１以上の整数であり、
ｄ１１は１～３の整数であり
ｄ１２は１～３の整数である。
なお、ｄ２＋ｄ４、ｄ６、ｄ９、ｄ１１、１＋ｄ１２がｘ２又はｘ３である。
ｄ９は、化合物（１－２）を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性が更に優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３が更に好ましい。
ここで、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ｑ１１、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５、Ｑ２６、Ｒｅ１、Ｒｅ２、Ｒｅ３、Ｒｅ６は上記Ｌ１で説明したものと同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｚ１は、Ａ３が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有する（１＋ｄ９）価の環構造を有する基であり、
ｄ２は０～３の整数であり、ｄ４は０～３の整数であって、ｄ２＋ｄ４は１～５の整数であり、
ｄ６は１～３の整数あり、
ｄ９は１以上の整数であり、
ｄ１１は１～３の整数であり
ｄ１２は１～３の整数である。
なお、ｄ２＋ｄ４、ｄ６、ｄ９、ｄ１１、１＋ｄ１２がｘ２又はｘ３である。
ｄ９は、化合物（１－２）を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性が更に優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３が更に好ましい。
【0112】
上記Ｌ２又はＬ３の他の形態としては、下式（Ｌ３１）～（Ｌ３７）のいずれかで表される基が挙げられる。
【0113】
【化20】
【0114】
－Ａ１－Ｃ（Ｒｅ２）４－ｄ６（－Ｑ２２－Ｇ）ｄ６ ・・・（Ｌ３２）
－Ａ２－Ｎ（－Ｑ２３－Ｇ）２ ・・・（Ｌ３３）
－Ａ３－Ｚ１（－Ｑ２４－Ｇ）ｄ９ ・・・（Ｌ３４）
－Ａ２－Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｄ１１（－Ｑ２５－Ｇ）ｄ１１ ・・・（Ｌ３５）
－Ａ１－Ｑ２６－Ｇ ・・・（Ｌ３６）
－Ａ１－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｄ１２（－Ｑ２５－Ｇ）ｄ１２ ・・・（Ｌ３７）
－Ａ２－Ｎ（－Ｑ２３－Ｇ）２ ・・・（Ｌ３３）
－Ａ３－Ｚ１（－Ｑ２４－Ｇ）ｄ９ ・・・（Ｌ３４）
－Ａ２－Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｄ１１（－Ｑ２５－Ｇ）ｄ１１ ・・・（Ｌ３５）
－Ａ１－Ｑ２６－Ｇ ・・・（Ｌ３６）
－Ａ１－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｄ１２（－Ｑ２５－Ｇ）ｄ１２ ・・・（Ｌ３７）
【0115】
ただし、式（Ｌ３１）～式（Ｌ３７）において、Ａ１、Ａ２又はＡ３側が式のＲ２又はＲ３と接続し、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６側がＲ２１又はＲ３１に接続する。Ｇは、上記基（Ｇ２１）であり、好ましい態様も同様である。Ｇ以外の符号は、式（Ｌ２１）～式（Ｌ２７）における符号と同じであり、好ましい態様も同様である。
【0116】
化合物（１－２）としては、例えば、下記のものが挙げられる。ただしＱｆは－Ｒ３－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ２－である。
【0117】
【化21】
【0118】
【化22】
【0119】
【化23】
【0120】
（化合物（１－３））
化合物（１－３）は、下記式（１－３）で表される構造を有する。
Ｑ１［－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ４－Ｌ４－（Ｒ４１－Ｔ４１）ｘ４］ｒ１ ・・・（１－３）
ただし、式（１－３）中の各符号は上述の通りである。
化合物（１－３）は、下記式（１－３）で表される構造を有する。
Ｑ１［－（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ４－Ｌ４－（Ｒ４１－Ｔ４１）ｘ４］ｒ１ ・・・（１－３）
ただし、式（１－３）中の各符号は上述の通りである。
【0121】
（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２は、上述の通りである。
【0122】
Ｒ４は上記Ｒ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
【0123】
Ｒ４１は上記Ｒ１１と同様であり、好ましい態様も同様である。ただし、「Ｌ１に結合する」は、「Ｌ４に結合する」と読み替えるものとする。また、「Ｔ１１に結合する」は、「Ｔ４１に結合する」と読み替えるものとする。なお、Ｌ４が単結合の場合、Ｒ４１はＲ４に直接結合する。
【0124】
Ｔ４１は、－ＳｉＲａ４１
ｚ４１Ｒａ４２
３－ｚ４１であり、Ｒａ４１、Ｒａ４２、ｚ４１は、それぞれ上記基（ｇ１）を構成するＲａ１、Ｒａ２、ｚ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
【0125】
ｘ４はｘ１と同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｌ４は、Ｌ２又はＬ３と同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｌ４は、Ｌ２又はＬ３と同様であり、好ましい態様も同様である。
【0126】
Ｑ１は分岐点を有するｒ１価の基であり、ｒ１は３又は４である。
【0127】
Ｑ１を構成する分岐点Ｐ３としては、Ｎ、Ｃ、Ｓｉ又は環構造が挙げられる。分岐点Ｐ３は１個であってもよく、２個以上有していてもよい。
【0128】
Ｎが分岐点Ｐ３となる場合、分岐点Ｐ１は、例えば、Ｎ（－＊）３、ＮＲ２９（－＊）２で表される。
Ｃが分岐点Ｐ３となる場合、分岐点Ｐ３は、例えばＣ（－＊）４、ＣＲ２９（－＊）３、Ｃ（Ｒ２９）２（－＊）２等が挙げられる。
Ｓｉが分岐点Ｐ３となる場合、分岐点Ｐ３は、例えばＳｉ（－＊）４、ＳｉＲ２９（－＊）３、Ｓｉ（Ｒ２９）２（－＊）２等が挙げられる。
ただし、＊は（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基である。Ｒ２９としては、例えば、水素原子、フッ素原子、水酸基、アルキル基、フルオロアルキル基、Ｒ４１－Ｔ４１を有しないフルオロポリエーテル鎖等が挙げられる。
Ｃが分岐点Ｐ３となる場合、分岐点Ｐ３は、例えばＣ（－＊）４、ＣＲ２９（－＊）３、Ｃ（Ｒ２９）２（－＊）２等が挙げられる。
Ｓｉが分岐点Ｐ３となる場合、分岐点Ｐ３は、例えばＳｉ（－＊）４、ＳｉＲ２９（－＊）３、Ｓｉ（Ｒ２９）２（－＊）２等が挙げられる。
ただし、＊は（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２側の結合手であり、Ｒ２９は１価の基である。Ｒ２９としては、例えば、水素原子、フッ素原子、水酸基、アルキル基、フルオロアルキル基、Ｒ４１－Ｔ４１を有しないフルオロポリエーテル鎖等が挙げられる。
【0129】
分岐点Ｐ３を構成する環構造としては、分岐点Ｐ１と同様のものが挙げられ、環構造の置換基として、上述の置換基のほか、更にフッ素原子、フルオロアルキル基、Ｒ４１－Ｔ４１を有しないフルオロポリエーテル鎖を有していてもよい。
【0130】
上記Ｑ１としては、化合物（１－３）を製造しやすい点から、下式（Ｑ１）～（Ｑ８）のいずれかで表される基が好ましい。
【0131】
【化24】
【0132】
Ｃ（－Ａ１１－）ｄ２３（Ｒｅ１２）４－ｄ２３ ・・・（Ｑ２）
Ｎ（－Ａ１２－）３ ・・・（Ｑ３）
Ｚ１（－Ａ１３－）ｄ２４ ・・・（Ｑ４）
Ｓｉ（－Ａ１２－）ｄ２５（Ｒｅ１３）４－ｄ２５ ・・・（Ｑ５）
ＣＨ（－Ａ１１－）２－Ｓｉ（Ｒｅ１３）３－ｄ２６（－Ａ１１－）ｄ２６ ・・・（Ｑ６）
Ｎ（－Ａ１２－）３ ・・・（Ｑ３）
Ｚ１（－Ａ１３－）ｄ２４ ・・・（Ｑ４）
Ｓｉ（－Ａ１２－）ｄ２５（Ｒｅ１３）４－ｄ２５ ・・・（Ｑ５）
ＣＨ（－Ａ１１－）２－Ｓｉ（Ｒｅ１３）３－ｄ２６（－Ａ１１－）ｄ２６ ・・・（Ｑ６）
【0133】
【化25】
【0134】
【化26】
【0135】
ただし、式（Ｑ１）～式（Ｑ８）においては、Ａ１１、Ａ１２又はＡ１３が（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２と接続する。
ここで、Ａ１１は、単結合、－Ｒ４０－、－Ｂ１３－Ｒ４０－であって、Ｒ４０はアルキレン基、フルオロアルキレン基、もしくは炭素数２以上のアルキレン基又はフルオロアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ１７－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ１７－又は－Ｏ－を有する基であり、Ｂ１３は、－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ６－又は－Ｏ－であり、
Ａ１２は、単結合、又は－Ｒ４０－であり、
Ａ１３は、Ａ１３が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合はＡ１１であり、Ａ１３が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合はＡ１２であり、
Ｚ１は、Ａ１３が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有するｒ１価の環構造を有する基であり、
Ｑ５２は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、フルオロアルキレン基、もしくは炭素数２以上のアルキレン基又はフルオロアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ１７－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ１７－又は－Ｏ－を有する基であり、
Ｒｅ１１は、水素原子、フッ素原子、アルキル基、フルオロアルキル基、Ｒ４１－Ｔ４１を有しないフルオロポリエーテル鎖、又はｒ１が３～４となる範囲で－Ｑ５２－Ｃ（Ｒｅ１１）３－ｄ２１（－Ａ１１－）ｄ２１の繰り返し構造を有する基であり、
Ｒｅ１２は、水素原子、フッ素原子、水酸基、アルキル基、フルオロアルキル基、又はＲ４１－Ｔ４１を有しないフルオロポリエーテル鎖であり、
Ｒｅ１３は、アルキル基又はフルオロアルキル基であり、
Ｒｅ１４、Ｒｅ１５、及び、Ｒｅ１６はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、又はフルオロアルキル基であり、
Ｒｅ１７は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、フルオロアルキル基又はフッ素置換されていてもよいフェニル基であり、
ｄ２１は０～３の整数であり、ｄ２２は０～３の整数であって、ｄ２１＋ｄ２２は３～４の整数であり、
ｄ２３は３又は４であり、
ｄ２４は３又は４であり、
ｄ２５は３又は４であり、
ｄ２６は１又は２であり、
ｄ２７は１～３の整数であり、
ｄ２８は１又は２であり、
ｄ２９は１～３の整数であり、
ｄ３０は１～３の整数であり、
ｄ３１は１又は２であり、
ｄ３２は１又は２であり、
ｄ３３は１～３の整数である。
なお、Ａ１１が複数ある場合、当該複数あるＡ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。Ａ１２、Ａ１３、Ｒｅ１１、Ｒｅ１２、Ｒｅ１３についても同様である。
ここで、Ａ１１は、単結合、－Ｒ４０－、－Ｂ１３－Ｒ４０－であって、Ｒ４０はアルキレン基、フルオロアルキレン基、もしくは炭素数２以上のアルキレン基又はフルオロアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ１７－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ１７－又は－Ｏ－を有する基であり、Ｂ１３は、－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ６－又は－Ｏ－であり、
Ａ１２は、単結合、又は－Ｒ４０－であり、
Ａ１３は、Ａ１３が結合するＺ１における原子が炭素原子の場合はＡ１１であり、Ａ１３が結合するＺ１における原子が窒素原子の場合はＡ１２であり、
Ｚ１は、Ａ１３が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有するｒ１価の環構造を有する基であり、
Ｑ５２は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、フルオロアルキレン基、もしくは炭素数２以上のアルキレン基又はフルオロアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲｅ１７－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲｅ１７－又は－Ｏ－を有する基であり、
Ｒｅ１１は、水素原子、フッ素原子、アルキル基、フルオロアルキル基、Ｒ４１－Ｔ４１を有しないフルオロポリエーテル鎖、又はｒ１が３～４となる範囲で－Ｑ５２－Ｃ（Ｒｅ１１）３－ｄ２１（－Ａ１１－）ｄ２１の繰り返し構造を有する基であり、
Ｒｅ１２は、水素原子、フッ素原子、水酸基、アルキル基、フルオロアルキル基、又はＲ４１－Ｔ４１を有しないフルオロポリエーテル鎖であり、
Ｒｅ１３は、アルキル基又はフルオロアルキル基であり、
Ｒｅ１４、Ｒｅ１５、及び、Ｒｅ１６はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、又はフルオロアルキル基であり、
Ｒｅ１７は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、フルオロアルキル基又はフッ素置換されていてもよいフェニル基であり、
ｄ２１は０～３の整数であり、ｄ２２は０～３の整数であって、ｄ２１＋ｄ２２は３～４の整数であり、
ｄ２３は３又は４であり、
ｄ２４は３又は４であり、
ｄ２５は３又は４であり、
ｄ２６は１又は２であり、
ｄ２７は１～３の整数であり、
ｄ２８は１又は２であり、
ｄ２９は１～３の整数であり、
ｄ３０は１～３の整数であり、
ｄ３１は１又は２であり、
ｄ３２は１又は２であり、
ｄ３３は１～３の整数である。
なお、Ａ１１が複数ある場合、当該複数あるＡ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。Ａ１２、Ａ１３、Ｒｅ１１、Ｒｅ１２、Ｒｅ１３についても同様である。
【0136】
Ｒ４０のアルキレン基又はフルオロアルキレン基の炭素数は、化合物（１－３）を製造しやすい点、及び表面層の耐摩擦性、耐光性及び耐薬品性が更に優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
Ｚ１における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。
Ｚ１における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。
【0137】
Ｒｅ１１、Ｒｅ１２、Ｒｅ１３、Ｒｅ１４、Ｒｅ１５及びＲｅ１６において、アルキル基又はフルオロアルキレン基の炭素数は、化合物（１－３）を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が更に好ましい。
【0138】
化合物（１－３）としては、例えば、下記のものが挙げられる。ただしＲｆ３は（ＯＣＦ２）ｍ１１・（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２－Ｏ－Ｒ４である。
【0139】
【化27】
【0140】
【化28】
【0141】
【化29】
【0142】
【化30】
【0143】
＜その他の成分＞
本表面処理剤は、上記含フッ素エーテル化合物以外の含フッ素化合物、及び、下記不純物の少なくとも一方を含んでいてもよい。不純物としては、上記含フッ素エーテル化合物及び他の含フッ素化合物の製造上不可避の化合物等が挙げられる。なお、本表面処理剤は、後述する液状媒体を含まない。
本表面処理剤は、上記含フッ素エーテル化合物以外の含フッ素化合物、及び、下記不純物の少なくとも一方を含んでいてもよい。不純物としては、上記含フッ素エーテル化合物及び他の含フッ素化合物の製造上不可避の化合物等が挙げられる。なお、本表面処理剤は、後述する液状媒体を含まない。
【0144】
他の含フッ素化合物としては、上記含フッ素エーテル化合物の製造過程で副生する含フッ素化合物（以下、「副生含フッ素化合物」ともいう。）、上記含フッ素エーテル化合物と同様の用途に用いられる公知の含フッ素化合物等が挙げられる。
他の含フッ素化合物としては、上記含フッ素エーテル化合物の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。
他の含フッ素化合物としては、上記含フッ素エーテル化合物の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。
【0145】
副生含フッ素化合物としては、上記含フッ素エーテル化合物の合成時における未反応の含フッ素化合物等が挙げられる。本表面処理剤が副生含フッ素化合物を含む場合、該副生含フッ素化合物を除去、もしくは該副生含フッ素化合物量を低減させるための精製工程を簡略化することができる。
【0146】
公知の含フッ素化合物としては、例えば、下記の文献に記載の化合物が挙げられる。
日本特開平１１－０２９５８５号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
日本特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー、
日本特開２０００－１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物、
日本特開２０００－３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
日本特表２００２－５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン、
日本特表２００８－５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物、
日本特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体、
米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書、国際公開第２０１４／１２６０６４号、日本特開２０１４－０７０１６３号公報に記載の化合物、
国際公開第２０１１／０６００４７号、国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物、
国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物、
日本特開２０１２－７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー、
国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、日本特開２０１４－０８０４７３号公報、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号、国際公開第２０１７／１８７７７５号に記載の含フッ素エーテル化合物、
日本特開２０１４－２１８６３９号公報、国際公開第２０１７／０２２４３７号、国際公開第２０１８／０７９７４３号、国際公開第２０１８／１４３４３３号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物、
日本特開２０１５－１９９９０６号公報、日本特開２０１６－２０４６５６号公報、日本特開２０１６－２１０８５４号公報、日本特開２０１６－２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン
国際公開第２０１８／２１６６３０号、国際公開第２０１９／０３９２２６号、国際公開第２０１９／０３９３４１号、国際公開第２０１９／０３９１８６号、国際公開第２０１９／０４４４７９号、日本特開２０１９－４４１５８号公報、国際公開第２０１９／０４４４７９号、国際公開第２０１９／１６３２８２号に記載の含フッ素エーテル化合物。
また、含フッ素化合物の市販品としては、信越化学工業社製のＫＹ－１００シリーズ（ＫＹ－１７８、ＫＹ－１８５、ＫＹ－１９５等）、ＡＧＣ社製のＳＵＲＥＣＯ（登録商標） ２１０１Ｓ等のＳＵＲＥＣＯ ＡＦシリーズ、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９等が挙げられる。
日本特開平１１－０２９５８５号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
日本特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー、
日本特開２０００－１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物、
日本特開２０００－３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
日本特表２００２－５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン、
日本特表２００８－５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物、
日本特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体、
米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書、国際公開第２０１４／１２６０６４号、日本特開２０１４－０７０１６３号公報に記載の化合物、
国際公開第２０１１／０６００４７号、国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物、
国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物、
日本特開２０１２－７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー、
国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、日本特開２０１４－０８０４７３号公報、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号、国際公開第２０１７／１８７７７５号に記載の含フッ素エーテル化合物、
日本特開２０１４－２１８６３９号公報、国際公開第２０１７／０２２４３７号、国際公開第２０１８／０７９７４３号、国際公開第２０１８／１４３４３３号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物、
日本特開２０１５－１９９９０６号公報、日本特開２０１６－２０４６５６号公報、日本特開２０１６－２１０８５４号公報、日本特開２０１６－２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン
国際公開第２０１８／２１６６３０号、国際公開第２０１９／０３９２２６号、国際公開第２０１９／０３９３４１号、国際公開第２０１９／０３９１８６号、国際公開第２０１９／０４４４７９号、日本特開２０１９－４４１５８号公報、国際公開第２０１９／０４４４７９号、国際公開第２０１９／１６３２８２号に記載の含フッ素エーテル化合物。
また、含フッ素化合物の市販品としては、信越化学工業社製のＫＹ－１００シリーズ（ＫＹ－１７８、ＫＹ－１８５、ＫＹ－１９５等）、ＡＧＣ社製のＳＵＲＥＣＯ（登録商標） ２１０１Ｓ等のＳＵＲＥＣＯ ＡＦシリーズ、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９等が挙げられる。
【0147】
本表面処理剤が上述の他の含フッ素化合物を含む場合、他の含フッ素化合物の含有量は、本表面処理剤の全質量に対して、上記含フッ素エーテル化合物の特性を充分に発揮できる点から、５０質量％未満が好ましく、３０質量％未満がより好ましく、１０質量％未満が更に好ましい。
【0148】
［コーティング液］
本発明のコーティング液（以下、「本コーティング液」ともいう。）は、本表面処理剤と液状媒体とを含む。本コーティング液は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
本コーティング液は、本表面処理剤を含んでいればよく、含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生物等の不純物を含んでもよい。
本発明のコーティング液（以下、「本コーティング液」ともいう。）は、本表面処理剤と液状媒体とを含む。本コーティング液は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
本コーティング液は、本表面処理剤を含んでいればよく、含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生物等の不純物を含んでもよい。
【0149】
本表面処理剤の含有量は、本コーティング液の全質量に対して、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましい。
【0150】
液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であってもよく、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を含んでもよい。
【0151】
フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化アルカンの具体例としては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物、水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
フッ素化アルカンの具体例としては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物、水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
【0152】
本コーティング液は、液状媒体を６０～９９．９９９質量％含むことが好ましく、８５～９９．９９質量％含むことが好ましく、９０～９９．９質量％含むことがより好ましい。
【0153】
本コーティング液は、本表面処理剤と液状媒体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、それら以外の他の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、例えば、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
本コーティング液における、他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。
他の成分としては、例えば、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
本コーティング液における、他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。
【0154】
本表面処理剤と他の成分の合計の濃度（以下、「固形分濃度」ともいう。）は、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．０１～１０質量％が更に好ましく、０．０１～１質量％が特に好ましい。コーティング液の固形分濃度は、加熱前のコーティング液の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。
【0155】
［物品］
本発明の物品（以下、「本物品」ともいう。）は、基材と、基材上に配置された表面層と、を有し、基材と表面層との間に下地層を有することが好ましい。
表面層は、本表面処理剤又は本コーティング液から形成される層であり、上記含フッ素エーテル化合物の縮合体を含む。
本発明の物品（以下、「本物品」ともいう。）は、基材と、基材上に配置された表面層と、を有し、基材と表面層との間に下地層を有することが好ましい。
表面層は、本表面処理剤又は本コーティング液から形成される層であり、上記含フッ素エーテル化合物の縮合体を含む。
【0156】
基材の材質及び形状は、本物品の用途等に応じて適宜選択すればよい。基材の材質としては、ガラス、樹脂、サファイア、金属、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。特に、撥水撥油性が求められる基材として、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、電子機器の筐体を構成する基材等が挙げられる。タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材は、透光性を有する。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラス又は透明樹脂が好ましい。
【0157】
基材は、下地層が設けられる面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、プラズマグラフト重合処理等の表面処理を施したものであってもよい。表面処理を施した表面は、基材と下地層の接着性が更に優れ、その結果、表面層の耐摩擦性が更に向上する。表面処理としては、表面層の耐摩擦性が更に優れる点から、コロナ放電処理又はプラズマ処理が好ましい。
【0158】
下地層はケイ素を含む酸化物（好ましくは、酸化ケイ素）を含む層が好ましく、更に他の元素を有していてもよい。下地層が酸化ケイ素を含むことで、上記含フッ素エーテル化合物の反応性シリル基が脱水縮合し、下地層との間でＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が形成され耐摩擦性に優れた表面層が形成される。
【0159】
下地層中の酸化ケイ素の含有量は、６５質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８５質量％以上が更に好ましく、９０質量％以上が特に好ましい。酸化ケイ素の含有量が下限値以上であれば、下地層においてＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が充分に形成され、下地層の機械特性が充分に確保される。酸化ケイ素の含有量は、他の元素の合計の含有量（酸化物の場合は酸化物換算した量）の合計を下地層の質量から除いた残部である。
【0160】
表面層の耐久性の点から、下地層中の酸化物は、更に、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、白金族元素、ホウ素、アルミニウム、リン、チタン、ジルコニウム、鉄、ニッケル、クロム、モリブデン、及びタングステンより選択される１種以上の元素を含むことが好ましい。これらの元素を含むことで、下地層と含フッ素エーテル化合物との結合が強くなり耐摩擦性が向上する。
【0161】
下地層の厚さは、１～２００ｎｍが好ましく、２～２０ｎｍがより好ましい。下地層の厚さが下限値以上であれば、下地層による接着性の向上効果が充分に得られやすい。下地層の厚さが上限値以下であれば、下地層自体の耐摩擦性が高くなる。下地層の厚さを測定する方法としては、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ等）による下地層の断面観察による方法や、光干渉膜厚計、分光エリプソメータ、段差計等を用いる方法が挙げられる。
【0162】
下地層の形成方法は、例えば、基材の表面に、所望の下地層の組成を有する蒸着材料を蒸着する方法等が挙げられる。
蒸着法は一例として、真空蒸着法が挙げられる。真空蒸着法は、蒸着材料を真空槽内で蒸発させ、基材の表面に付着させる方法である。
蒸着時の温度（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を設置するボートの温度）は、１００～３０００℃が好ましく、２５０～３０００℃がより好ましい。
蒸着時の圧力（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を設置する槽内の絶対圧は、１Ｐａ以下が好ましく、０．１Ｐａ以下がより好ましい。
蒸着材料を用いて下地層を形成する場合、１つの蒸着材料を用いてもよいし、異なる元素を含む２つ以上の蒸着材料を用いてもよい。
蒸着材料の蒸発方法としては、高融点金属製の抵抗加熱用ボート上で蒸着材料を溶融し、蒸発させる抵抗加熱法、電子ビームを蒸着材料に照射し、蒸着材料を直接加熱して表面を溶融し、蒸発させる電子銃法等が挙げられる。蒸着材料の蒸発方法としては、局所的に加熱できるため高融点物質も蒸発できる点、電子ビームが当たっていないところは低温であるため容器との反応や不純物の混入のおそれがない点から、電子銃法が好ましい。電子銃法に用いる蒸着材料としては、気流が生じても飛散しにくい点から、溶融粒状体又は焼結体が好ましい。
蒸着法は一例として、真空蒸着法が挙げられる。真空蒸着法は、蒸着材料を真空槽内で蒸発させ、基材の表面に付着させる方法である。
蒸着時の温度（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を設置するボートの温度）は、１００～３０００℃が好ましく、２５０～３０００℃がより好ましい。
蒸着時の圧力（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を設置する槽内の絶対圧は、１Ｐａ以下が好ましく、０．１Ｐａ以下がより好ましい。
蒸着材料を用いて下地層を形成する場合、１つの蒸着材料を用いてもよいし、異なる元素を含む２つ以上の蒸着材料を用いてもよい。
蒸着材料の蒸発方法としては、高融点金属製の抵抗加熱用ボート上で蒸着材料を溶融し、蒸発させる抵抗加熱法、電子ビームを蒸着材料に照射し、蒸着材料を直接加熱して表面を溶融し、蒸発させる電子銃法等が挙げられる。蒸着材料の蒸発方法としては、局所的に加熱できるため高融点物質も蒸発できる点、電子ビームが当たっていないところは低温であるため容器との反応や不純物の混入のおそれがない点から、電子銃法が好ましい。電子銃法に用いる蒸着材料としては、気流が生じても飛散しにくい点から、溶融粒状体又は焼結体が好ましい。
【0163】
表面層は、上記含フッ素エーテル化合物の縮合体を含む。含フッ素エーテル化合物の縮合体は、含フッ素エーテル化合物中の加水分解性シリル基が加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）が形成され、シラノール基が分子間で縮合反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が形成された構造、及び、含フッ素エーテル化合物中のシラノール基が基材又は下地層の表面のシラノール基又はＳｉ－ＯＭ基（ただし、Ｍはアルカリ金属元素である。）と縮合反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が形成された構造を含む。また、表面層は含フッ素エーテル化合物以外の含フッ素化合物の縮合体を含んでいてもよい。すなわち、表面層は、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を、含フッ素化合物の反応性シリル基の一部又は全部が縮合反応した状態で含む。
【0164】
表面層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍがより好ましい。表面層の厚さが下限値以上であれば、表面層による効果が充分に得られる。表面層の厚さが上限値以下であれば、利用効率が高い。
表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計で得られた厚さである。表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。
表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計で得られた厚さである。表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。
【0165】
本物品はタッチパネルであることが好ましい。この場合、表面層はタッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面に形成されていることが好ましい。
【0166】
［物品の製造方法］
本物品の製造方法は、本表面処理剤又は本コーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、基材上に表面層を形成する方法である。
本物品の製造方法は、本表面処理剤又は本コーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、基材上に表面層を形成する方法である。
【0167】
本表面処理剤は、ドライコーティング法にそのまま用いることができる。本表面処理剤は、ドライコーティング法によって密着性に優れた表面層を形成するのに好適である。ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。含フッ素エーテル化合物の分解を抑える点、及び装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適に利用できる。
真空蒸着には、鉄や鋼等の金属材料からなる金属多孔体に本表面処理剤を担持させたペレット状物質を使用してもよい。本表面処理剤を担持させたペレット状物質は、金属多孔体に本表面処理剤の溶液を含浸し、乾燥して液状媒体を除去することにより製造できる。本表面処理剤の溶液としては、本コーティング液を用いることができる。
真空蒸着には、鉄や鋼等の金属材料からなる金属多孔体に本表面処理剤を担持させたペレット状物質を使用してもよい。本表面処理剤を担持させたペレット状物質は、金属多孔体に本表面処理剤の溶液を含浸し、乾燥して液状媒体を除去することにより製造できる。本表面処理剤の溶液としては、本コーティング液を用いることができる。
【0168】
本コーティング液は、ウェットコーティング法に好適に用いることができる。ウェットコーティング法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。
【0169】
表面層の耐摩擦性を向上させるために、必要に応じて、含フッ素エーテル化合物と基材（又は下地層）との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。例えば、水分を有する大気中で表面層が形成された基材を加熱して、加水分解性基の加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
表面処理後、表面層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、表面層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。
表面処理後、表面層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、表面層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。
【実施例】
【0170】
以下、例を挙げて本発明を詳細に説明する。例２、３、５、６、８、９、１１、１２、１４、１５、１７、１８は実施例であり、例１、４、７、１０、１３、１６は比較例である。ただし本発明はこれらの例に限定されない。
【0171】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成］
＜化合物ａ－２の合成＞
５００ｍＬの３つ口フラスコに、２０％のＫＯＨ水溶液の２．９ｇ、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールの３３ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１１０ｇ、化合物ａ－１を２２０ｇ、パーフルオロプロピルビニルエーテルの１４．６ｇを加えた。次いで、窒素雰囲気下、４０℃で２０時間攪拌した。攪拌後、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機層をエバポレータで濃縮することによって、粗生成物の２３３ｇを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して分離精製を行い、化合物ａ－２の１００ｇを得た。
＜化合物ａ－２の合成＞
５００ｍＬの３つ口フラスコに、２０％のＫＯＨ水溶液の２．９ｇ、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールの３３ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１１０ｇ、化合物ａ－１を２２０ｇ、パーフルオロプロピルビニルエーテルの１４．６ｇを加えた。次いで、窒素雰囲気下、４０℃で２０時間攪拌した。攪拌後、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機層をエバポレータで濃縮することによって、粗生成物の２３３ｇを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して分離精製を行い、化合物ａ－２の１００ｇを得た。
【0172】
ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ ・・・（ａ－１）
ｍ≒１４、ｎ≒１３
ｍ≒１４、ｎ≒１３
【0173】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ ・・・（ａ－２）
ｍ≒１４、ｎ≒１３
ｍ≒１４、ｎ≒１３
【0174】
＜化合物ａ－３の合成＞
１００ｍＬのナスフラスコに、化合物ａ－２の３０．０ｇ、フッ化ナトリウム粉末の０．９ｇ、ジクロロペンタフルオロプロパン（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＫ－２２５）の３０ｇを取り入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの３．５ｇを加えた。次いで、窒素雰囲気下、５０℃で２４時間撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、減圧留去した。得られた粗生成物をＡＣ－２０００（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）で希釈し、シリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物ａ－３の３１．８ｇを得た。
１００ｍＬのナスフラスコに、化合物ａ－２の３０．０ｇ、フッ化ナトリウム粉末の０．９ｇ、ジクロロペンタフルオロプロパン（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＫ－２２５）の３０ｇを取り入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの３．５ｇを加えた。次いで、窒素雰囲気下、５０℃で２４時間撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、減圧留去した。得られた粗生成物をＡＣ－２０００（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）で希釈し、シリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物ａ－３の３１．８ｇを得た。
【0175】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３ ・・・（ａ－３）
ｍ≒１４、ｎ≒１３
ｍ≒１４、ｎ≒１３
【0176】
＜化合物ａ－４の合成＞
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、及び０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また、０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＣｌＣＦ２ＣＦＣｌＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ（以下、「ＣＦＥ－４１９」ともいう。）の７５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、化合物ａ－３の３１．０ｇをＣＦＥ－４１９の１２４ｇに溶解した溶液を、４．３時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．１７ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物ａ－４の３１．１ｇを得た。
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、及び０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また、０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＣｌＣＦ２ＣＦＣｌＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ（以下、「ＣＦＥ－４１９」ともいう。）の７５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、化合物ａ－３の３１．０ｇをＣＦＥ－４１９の１２４ｇに溶解した溶液を、４．３時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．１７ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物ａ－４の３１．１ｇを得た。
【0177】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ｝ＣＦ２ＣＦ２ＯＣ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３ ・・・（ａ－４）
ｍ≒１４、ｎ≒１３
ｍ≒１４、ｎ≒１３
【0178】
＜化合物ａ－５の合成＞
ＰＦＡ製丸底フラスコに、化合物ａ－４の３０．０ｇ及びＡＫ－２２５の６０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの２．０ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物ａ－５の２７．６ｇを得た。
ＰＦＡ製丸底フラスコに、化合物ａ－４の３０．０ｇ及びＡＫ－２２５の６０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの２．０ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物ａ－５の２７．６ｇを得た。
【0179】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝ＯＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３ ・・・（ａ－５）
ｍ≒１４、ｎ≒１３
ｍ≒１４、ｎ≒１３
【0180】
＜化合物ａ－６の合成＞
１００ｍＬの３つ口ナスフラスコ中にて、塩化リチウムの０．１８ｇをエタノールの１８．３ｇに溶解させた。これに、化合物ａ－５の２５．０ｇを加えて氷浴で冷却しながら、水素化ホウ素ナトリウムの０．７５ｇをエタノールの２２．５ｇに溶解した溶液をゆっくり滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温（２３℃）までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温（２３℃）で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。塩酸水溶液を滴下した溶液に、ＡＣ－２０００の２０ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮して、カラム精製を行い、化合物ａ－６の２４．６ｇを得た。
１００ｍＬの３つ口ナスフラスコ中にて、塩化リチウムの０．１８ｇをエタノールの１８．３ｇに溶解させた。これに、化合物ａ－５の２５．０ｇを加えて氷浴で冷却しながら、水素化ホウ素ナトリウムの０．７５ｇをエタノールの２２．５ｇに溶解した溶液をゆっくり滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温（２３℃）までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温（２３℃）で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。塩酸水溶液を滴下した溶液に、ＡＣ－２０００の２０ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮して、カラム精製を行い、化合物ａ－６の２４．６ｇを得た。
【0181】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＨ ・・・（ａ－６）
ｍ≒１４、ｎ≒１３
ｍ≒１４、ｎ≒１３
【0182】
＜化合物ａ－７の合成＞
１００ｍＬの２つ口ナスフラスコ内に、化合物ａ－６の２０．０ｇ、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの０．２１ｇ、臭化アリルの１．７６ｇ、及び３０％水酸化ナトリウム水溶液の２．６ｇを加え、６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、ＡＣ－２０００の２０ｇを加え、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物ａ－７の１９．８ｇを得た。
１００ｍＬの２つ口ナスフラスコ内に、化合物ａ－６の２０．０ｇ、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの０．２１ｇ、臭化アリルの１．７６ｇ、及び３０％水酸化ナトリウム水溶液の２．６ｇを加え、６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、ＡＣ－２０００の２０ｇを加え、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物ａ－７の１９．８ｇを得た。
【0183】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（ａ－７）
ｍ≒１４、ｎ≒１３
ｍ≒１４、ｎ≒１３
【0184】
＜化合物ａ－８の合成＞
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた３０ｍＬの４つ口フラスコに化合物ａ－７の６ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの６ｇ、トリアセトキシメチルシランの０．０１８ｇ及びトリクロロシランの０．４１ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液（０．０２８ｍｌ）を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、揮発分を留去してカラム精製を行い、化合物ａ－８の５．７ｇを得た。
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた３０ｍＬの４つ口フラスコに化合物ａ－７の６ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの６ｇ、トリアセトキシメチルシランの０．０１８ｇ及びトリクロロシランの０．４１ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液（０．０２８ｍｌ）を加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、揮発分を留去してカラム精製を行い、化合物ａ－８の５．７ｇを得た。
【0185】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３ ・・・（ａ－８）
ｍ≒１４、ｎ≒１３
ｍ≒１４、ｎ≒１３
【0186】
＜化合物ａ－９の合成＞
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた３０ｍｌの４つ口フラスコに化合物ａ－８の５ｇ、及び１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．９ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液（６．９１ｍｌ）を加えた後、室温（２３℃）まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノール（２ｍｌ）を加えた後、室温（２３℃）まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作を行った。続いて、揮発分を留去することにより、化合物ａ－９の５ｇを得た。
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた３０ｍｌの４つ口フラスコに化合物ａ－８の５ｇ、及び１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの５ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．９ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液（６．９１ｍｌ）を加えた後、室温（２３℃）まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノール（２ｍｌ）を加えた後、室温（２３℃）まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作を行った。続いて、揮発分を留去することにより、化合物ａ－９の５ｇを得た。
【0187】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３ ・・・（ａ－９）
ｍ≒１４、ｎ≒１３
ｍ≒１４、ｎ≒１３
【0188】
＜化合物Ｘ１－１の合成＞
化合物ａ－９の５．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．０３ｇ、トリメトキシシランの０．３６ｇ、アニリンの０．０１ｇ及び１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、室温（２３℃）で８時間撹拌した。溶媒等を減圧留去し、孔径０．５μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物Ｘ１－１の５．２ｇを得た。
化合物ａ－９の５．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．０３ｇ、トリメトキシシランの０．３６ｇ、アニリンの０．０１ｇ及び１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、室温（２３℃）で８時間撹拌した。溶媒等を減圧留去し、孔径０．５μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物Ｘ１－１の５．２ｇを得た。
【0189】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ ・・・（Ｘ１－１）
ｍ１１の平均個数：１３．９、ｍ１２の平均個数：１５．４
ｍ１１の平均個数：１３．９、ｍ１２の平均個数：１５．４
【0190】
化合物Ｘ１－１における（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の平均個数は、１９Ｆ－ＮＭＲによって求めた。また、後述の各フッ素エーテル化合物の（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の平均個数についても、化合物Ｘ１－１と同様にして求めた。
【0191】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成］
＜化合物ｂ－１の合成＞
１００ｍｌの４つ口フラスコにエチレングリコールの５ｇ、４８％ＫＯＨ水溶液の７．５ｇ、水の６ｇ、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールを混合し、滴下ロートからパーフルオロプロピルビニルエーテルの５ｇを滴下した。次いで、窒素雰囲気下、４０℃で２０時間攪拌した。攪拌後、希塩酸水溶液で１回洗浄し有機層をエバポレータで濃縮した後、カラム精製を行い、化合物ｂ－１の２２ｇを得た。
＜化合物ｂ－１の合成＞
１００ｍｌの４つ口フラスコにエチレングリコールの５ｇ、４８％ＫＯＨ水溶液の７．５ｇ、水の６ｇ、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールを混合し、滴下ロートからパーフルオロプロピルビニルエーテルの５ｇを滴下した。次いで、窒素雰囲気下、４０℃で２０時間攪拌した。攪拌後、希塩酸水溶液で１回洗浄し有機層をエバポレータで濃縮した後、カラム精製を行い、化合物ｂ－１の２２ｇを得た。
【0192】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ ・・・（ｂ－１）
【0193】
＜化合物ｂ－２の合成＞
１００ｍｌの４つ口フラスコに化合物ｂ－１の２０ｇ、トリエチルアミンの１０ｇ、ＡＣ－２０００の２００ｇを加えた混合液に、トシルクロライドの１５ｇを加えた。４０℃で８時間混合を行い、濾過、濃縮、カラム精製を行い、化合物ｂ－２の１８ｇを得た。
１００ｍｌの４つ口フラスコに化合物ｂ－１の２０ｇ、トリエチルアミンの１０ｇ、ＡＣ－２０００の２００ｇを加えた混合液に、トシルクロライドの１５ｇを加えた。４０℃で８時間混合を行い、濾過、濃縮、カラム精製を行い、化合物ｂ－２の１８ｇを得た。
【0194】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ－Ｔｓ ・・・（ｂ－２）
【0195】
＜化合物ｂ－４の合成＞
１００ｍｌの４つ口フラスコに下記化合物ｂ－３の２３ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２３ｇ、炭酸セシウムの２ｇ、ｂ－２の３ｇを加えた。窒素雰囲気下、７０℃で２０時間攪拌した。希塩酸水溶液で洗浄、水で３回洗浄して濃縮、カラム精製を行い、化合物ｂ－４の２４ｇを得た。
１００ｍｌの４つ口フラスコに下記化合物ｂ－３の２３ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２３ｇ、炭酸セシウムの２ｇ、ｂ－２の３ｇを加えた。窒素雰囲気下、７０℃で２０時間攪拌した。希塩酸水溶液で洗浄、水で３回洗浄して濃縮、カラム精製を行い、化合物ｂ－４の２４ｇを得た。
【0196】
ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ ・・・ｂ－３
ｍ≒１４、ｎ≒１２
ｍ≒１４、ｎ≒１２
【0197】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ－ＣＨ２ＣＦ２｛（ＯＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｎ｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ ・・・（ｂ－４）
ｍ≒１４、ｎ≒１２
ｍ≒１４、ｎ≒１２
【0198】
＜含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成＞
化合物ａ－２の代わりに化合物ｂ－４を用いる以外は、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成と同様にして含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２を合成した。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１と異なっている。
化合物ａ－２の代わりに化合物ｂ－４を用いる以外は、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成と同様にして含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２を合成した。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１と異なっている。
【0199】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ１－２）
ｍ１１の平均個数：１３．９、ｍ１２の平均個数：１５．４
ｍ１１の平均個数：１３．９、ｍ１２の平均個数：１５．４
【0200】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ２－１の合成］
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ２－１を得た。
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ２－１を得た。
【0201】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ２－１）
ｍ１１の平均個数：２２．３、ｍ１２の平均個数：１０．６
ｍ１１の平均個数：２２．３、ｍ１２の平均個数：１０．６
【0202】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ２－２の合成］
化合物ｂ－１の合成においてエチレングリコールの代わりにジエチレングリコールを用いて得られた化合物を用いた以外は、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成と同様にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ２－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ２－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ２－１と異なっている。
化合物ｂ－１の合成においてエチレングリコールの代わりにジエチレングリコールを用いて得られた化合物を用いた以外は、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成と同様にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ２－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ２－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ２－１と異なっている。
【0203】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ２－２）
ｍ１１の平均個数：２２．３、ｍ１２の平均個数：１０．６
ｍ１１の平均個数：２２．３、ｍ１２の平均個数：１０．６
【0204】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ３－１の合成］
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ３－１を得た。
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ３－１を得た。
【0205】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ３－１）
ｍ１１の平均個数：２５．９、ｍ１２の平均個数：８．６
ｍ１１の平均個数：２５．９、ｍ１２の平均個数：８．６
【0206】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ３－２の合成］
化合物ｂ－１の合成においてエチレングリコールの代わりにジエチレングリコールを用いて得られた化合物を用いた以外は、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成と同様にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ３－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ３－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ３－１と異なっている。
化合物ｂ－１の合成においてエチレングリコールの代わりにジエチレングリコールを用いて得られた化合物を用いた以外は、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成と同様にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ３－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ３－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ３－１と異なっている。
【0207】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ３－２）
ｍ１１の平均個数：２５．９、ｍ１２の平均個数：８．６
ｍ１１の平均個数：２５．９、ｍ１２の平均個数：８．６
【0208】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ４－１の合成］
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ４－１を得た。
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ４－１を得た。
【0209】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ４－１）
ｍ１１の平均個数：２８．５、ｍ１２の平均個数：７．１
ｍ１１の平均個数：２８．５、ｍ１２の平均個数：７．１
【0210】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ４－２の合成］
化合物ｂ－１の合成においてエチレングリコールの代わりにジエチレングリコールを用いて得られた化合物を用いた以外は、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成と同様にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ４－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ４－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ４－１と異なっている。
化合物ｂ－１の合成においてエチレングリコールの代わりにジエチレングリコールを用いて得られた化合物を用いた以外は、含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成と同様にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ４－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ４－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ４－１と異なっている。
【0211】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ４－２）
ｍ１１の平均個数：２８．５、ｍ１２の平均個数：７．１
ｍ１１の平均個数：２８．５、ｍ１２の平均個数：７．１
【0212】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ５－１の合成］
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ５－１を得た。
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ５－１を得た。
【0213】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ５－１）
ｍ１１の平均個数：３１．６、ｍ１２の平均個数：５．４
ｍ１１の平均個数：３１．６、ｍ１２の平均個数：５．４
【0214】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ５－２の合成］
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ５－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ５－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ５－１と異なっている。
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ５－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ５－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ５－１と異なっている。
【0215】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ５－２）
ｍ１１の平均個数：３１．６、ｍ１２の平均個数：５．４
ｍ１１の平均個数：３１．６、ｍ１２の平均個数：５．４
【0216】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ６－１の合成］
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ６－１を得た。
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－１の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ６－１を得た。
【0217】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ６－１）
ｍ１１の平均個数：３３．６、ｍ１２の平均個数：４．２
ｍ１１の平均個数：３３．６、ｍ１２の平均個数：４．２
【0218】
［含フッ素エーテル化合物Ｘ６－２の合成］
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ６－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ６－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ６－１と異なっている。
含フッ素エーテル化合物Ｘ１－２の合成を参考にして、含フッ素エーテル化合物Ｘ６－２を得た。
なお、含フッ素エーテル化合物Ｘ６－２は、（ＯＣＦ２）及び（ＯＣＦ２ＣＦ２）の配列が含フッ素エーテル化合物Ｘ６－１と異なっている。
【0219】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－｛（ＯＣＦ２）ｍ１１（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ１２｝－ＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３ （Ｘ６－２）
ｍ１１の平均個数：３３．６、ｍ１２の平均個数：４．２
ｍ１１の平均個数：３３．６、ｍ１２の平均個数：４．２
【0220】
［混合物の調製］
表１に記載の含フッ素エーテル化合物を混合して、混合物１－１、１－２、２－１、２－２、３－１、３－２、４－１、４－２、５－１、５－２、６－１、６－２を得た。なお、各混合物の調製にあたって、式（Ａ－１）におけるＹの値が表１の値になるような割合で各含フッ素エーテル化合物を混合した。
表１に記載の含フッ素エーテル化合物を混合して、混合物１－１、１－２、２－１、２－２、３－１、３－２、４－１、４－２、５－１、５－２、６－１、６－２を得た。なお、各混合物の調製にあたって、式（Ａ－１）におけるＹの値が表１の値になるような割合で各含フッ素エーテル化合物を混合した。
【0221】
［式（Ａ－１）のＸ及びＹの値］
得られた含フッ素エーテル化合物又は混合物を用いて、４００ＭＨｚの１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートに基づいて、式（Ａ－１）のＸ及びＹの値を算出した。また、Ｘ及びＹの値に基づいて、式（Ａ－１）及び式（Ａ－２）の充足性を判定し、式を満たす場合を「○」、満たさない場合を「×」とした。結果を表１に示す。
１９Ｆ－ＮＭＲ測定は、以下の測定条件で実施した。
測定装置：ＪＥＯＬ社製「ＪＮＭ－ＥＣＺ ４００」
内部標準：１，４－ビストリフルロメチルベンゼン
得られた含フッ素エーテル化合物又は混合物を用いて、４００ＭＨｚの１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られるチャートに基づいて、式（Ａ－１）のＸ及びＹの値を算出した。また、Ｘ及びＹの値に基づいて、式（Ａ－１）及び式（Ａ－２）の充足性を判定し、式を満たす場合を「○」、満たさない場合を「×」とした。結果を表１に示す。
１９Ｆ－ＮＭＲ測定は、以下の測定条件で実施した。
測定装置：ＪＥＯＬ社製「ＪＮＭ－ＥＣＺ ４００」
内部標準：１，４－ビストリフルロメチルベンゼン
【0222】
１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られた代表的なチャートを図２に示す。
図２は、混合物５－１を用いて、４００ＭＨｚの１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られたチャートである。
図２に示すように、化学シフト－５０．５～－５１．２ｐｐｍ、－５２．０～－５２．８ｐｐｍ、－５３．８～－５４．５ｐｐｍ、－８７．０～－８８．５ｐｐｍ、－８８．８～－９０．２ｐｐｍのそれぞれにピークが観測された。なお、図２における化学シフト－６３．５ｐｐｍのピークは、１，４－ビストリフルロメチルベンゼンに対応するピークである。
なお、チャートは示していないが、他の含フッ素エーテル化合物及び混合物についても、上記化学シフトの範囲にピークが観測された。
図２は、混合物５－１を用いて、４００ＭＨｚの１９Ｆ－ＮＭＲ測定によって得られたチャートである。
図２に示すように、化学シフト－５０．５～－５１．２ｐｐｍ、－５２．０～－５２．８ｐｐｍ、－５３．８～－５４．５ｐｐｍ、－８７．０～－８８．５ｐｐｍ、－８８．８～－９０．２ｐｐｍのそれぞれにピークが観測された。なお、図２における化学シフト－６３．５ｐｐｍのピークは、１，４－ビストリフルロメチルベンゼンに対応するピークである。
なお、チャートは示していないが、他の含フッ素エーテル化合物及び混合物についても、上記化学シフトの範囲にピークが観測された。
【0223】
［例１～例１８］
真空蒸着装置内に、基材（無アルカリガラス（イーグルＸＧ：製品名、コーニング社製、５０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ））を配置し、真空蒸着装置内を５×１０－３Ｐａ以下の圧力になるまで排気した。基材の一方の主面に対向するように距離１０００ｍｍの位置に、表１に記載の各例の各含フッ素エーテル化合物又は混合物を収容した蒸着用容器を抵抗加熱によって３００℃に加熱し、含フッ素エーテル化合物又は混合物を真空蒸着させて、基材上の含フッ素エーテル化合物又は混合物の厚さが１０ｎｍとなった時点で製膜を終了した。その後、含フッ素エーテル化合物又は混合物が堆積した基材を、温度２００℃で３０分間加熱（後処理）して、表面層付き基材（物品）を得た。
真空蒸着装置内に、基材（無アルカリガラス（イーグルＸＧ：製品名、コーニング社製、５０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ））を配置し、真空蒸着装置内を５×１０－３Ｐａ以下の圧力になるまで排気した。基材の一方の主面に対向するように距離１０００ｍｍの位置に、表１に記載の各例の各含フッ素エーテル化合物又は混合物を収容した蒸着用容器を抵抗加熱によって３００℃に加熱し、含フッ素エーテル化合物又は混合物を真空蒸着させて、基材上の含フッ素エーテル化合物又は混合物の厚さが１０ｎｍとなった時点で製膜を終了した。その後、含フッ素エーテル化合物又は混合物が堆積した基材を、温度２００℃で３０分間加熱（後処理）して、表面層付き基材（物品）を得た。
【0224】
［評価試験］
例１～１８の表面層付き基材を用いて、以下の評価試験を実施した。
例１～１８の表面層付き基材を用いて、以下の評価試験を実施した。
【0225】
＜耐摩擦性（スチールウール）＞
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で往復させて、水接触角が１００度未満になる往復回数を測定した。往復回数が多いほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記の通りである。
Ａ（優良）：往復回数が７００１回以上
Ｂ（良）：往復回数が６００１回以上７０００回以下
Ｃ（可）：往復回数が４００１回以上６０００回以下
Ｄ（不可）：往復回数が４０００回以下
（水接触角の測定方法）
表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水の接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出して、水接触角とした。接触角の算出には２θ法を用いた。
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で往復させて、水接触角が１００度未満になる往復回数を測定した。往復回数が多いほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記の通りである。
Ａ（優良）：往復回数が７００１回以上
Ｂ（良）：往復回数が６００１回以上７０００回以下
Ｃ（可）：往復回数が４００１回以上６０００回以下
Ｄ（不可）：往復回数が４０００回以下
（水接触角の測定方法）
表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水の接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出して、水接触角とした。接触角の算出には２θ法を用いた。
【0226】
＜潤滑性＞
人工皮膚（出光テクノファイン社製、ＰＢＺ１３００１）に対する表面層の動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システム（新東科学社製、ＨＨＳ２０００）を用い、接触面積：３ｃｍ×３ｃｍ、荷重：０．９８Ｎの条件で測定した。動摩擦係数が小さいほど潤滑性に優れる。評価基準は下記の通りである。
Ａ（優良）：動摩擦係数が０．０２未満
Ｂ（良）：動摩擦係数が０．０２以上０．０３未満
Ｃ（可）：動摩擦係数が０．０３以上０．０４未満
Ｄ（不可）：動摩擦係数が０．０４以上
人工皮膚（出光テクノファイン社製、ＰＢＺ１３００１）に対する表面層の動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システム（新東科学社製、ＨＨＳ２０００）を用い、接触面積：３ｃｍ×３ｃｍ、荷重：０．９８Ｎの条件で測定した。動摩擦係数が小さいほど潤滑性に優れる。評価基準は下記の通りである。
Ａ（優良）：動摩擦係数が０．０２未満
Ｂ（良）：動摩擦係数が０．０２以上０．０３未満
Ｃ（可）：動摩擦係数が０．０３以上０．０４未満
Ｄ（不可）：動摩擦係数が０．０４以上
【0227】
【表1】
【0228】
表１に示す通り、式（Ａ－１）を満たす含フッ素エーテル化合物を用いれば、潤滑性及び耐摩擦性に優れた表面層を形成できるのが確認された（例２、３、５、６、８、９、１１、１２、１４、１５、１７、１８）。
また、表１に示す通り、式（Ａ－２）を満たす含フッ素エーテル化合物を用いれば、潤滑性及び耐摩擦性の少なくとも一方がより優れた表面層を形成できるのが確認された（例３、６、９、１２、１５、１８）。
また、表１に示す通り、式（Ａ－２）を満たす含フッ素エーテル化合物を用いれば、潤滑性及び耐摩擦性の少なくとも一方がより優れた表面層を形成できるのが確認された（例３、６、９、１２、１５、１８）。
【図1】
【図2】
