特許7791929IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

本開示の例示的シャワーヘッド、電極ユニット、ガス供給ユニット、基板 処理装置及び基板処理システム

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

処理ガスに対する腐食耐性を高める技術を提供する。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一つの例示的実施形態において、プラズマ処理用のシャワーヘッドであって、 第１の面と、前記第１の面と反対側の第２の面と、複数の内側面とを有する本体部であっ て、前記複数の内側面は、前記第１の面から前記第２の面に亘って前記本体部を貫通する 複数のガス孔を規定する、本体部を備え、前記第２の面は、第１の耐腐食性材料で構成さ れている、シャワーヘッドが提供される。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一つの例示的実施形態によれば、処理ガスに対する腐食耐性を高める技術を提
供することができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1A】 シャワーヘッドＳＨの平面図である。
【図1B】 図１ＡのＡ－Ａ断面図である。
【図2A】 膜ＣＲとして、ポリイミド膜が形成された場合の耐腐食効果を説明するための概念図である。
【図2B】 本体ＢＤがシリコンカーバイドで構成された場合の耐腐食効果を説明するための概念図である。
【図3】 基板処理装置１を概略的に示す図である。
【図4】 基板Ｗの断面構造の一例を示す図である。
【図5】 基板処理装置１における基板処理方法の一例を示すフローチャートである。
【図6】 上部電極における処理ガスの流れを説明するための図である。
【図7A】 ガス供給ユニットＧＵの斜視図である。
【図7B】 ガス供給ユニットＧＵの平面図である。
【図7C】 図６Ｂのガス供給ユニットＧＵのＡ－Ａ'断面図である。
１……基板処理装置、１０……チャンバ、１０ｓ……内部空間、１２……チャンバ本体、 １４……基板支持器、１６……電極プレート、１８……下部電極、２０……静電チャック 、３０……上部電極、３４……天板、３４ａ……ガス吐出孔、３６……支持体、３８…… ガス供給管、５０……排気装置、６２……高周波電源、６４……バイアス電源、８０…… 制御部、ＣＴ……制御部、ＥＦ……被エッチング膜、ＭＫ……マスク膜、ＯＰ……開口、 ＵＦ……下地膜、Ｗ……基板、ＳＨ……天板、ＣＲ……耐腐食性の膜、ＢＤ……本体部、 ＢＤ１……第１の面、ＢＤ２……第２の面、ＢＤ３……内側面、ＧＨ……ガス孔、ＧＨ… …ガス供給ユニット

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