特許7795245チャンバー内の温度と気体分子の量の調整を利用したはんだ付け方法

発明の名称　チャンバー内の温度と気体分子の量の調整を利用したはんだ付け方法

出願人　南京屹立芯創半導体科技有限公司　（識別番号 522500044）

　　　　特許公開件数ランキング 15681 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 4454 位（1件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7795245

公報発行日　2026年1月7

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7795245

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-7795245「チャンバー内の温度と気体分子の量の調整を利用したはんだ付け方法」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録