特許7795590照射のための装置、装置の動作方法及び照射のためのパラメータ化された動作環境を作成するためのシステム

発明の名称　照射のための装置、装置の動作方法及び照射のためのパラメータ化された動作環境を作成するためのシステム

出願人　ジェイケイ−ホールディング　ゲーエムベーハー　（識別番号 512069599）

　　　　特許公開件数ランキング 8324 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 2106 位（1件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7795590

公報発行日　2026年1月7

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7795590

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