7799984 マスク支持体、マスク支持体の製造方法、マスク装置、有機デバイスの製造方法、有機デバイス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2026-01-07

(45)【発行日】2026-01-16

(54)【発明の名称】マスク支持体、マスク支持体の製造方法、マスク装置、有機デバイスの製造方法、有機デバイス

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/04 20060101AFI20260108BHJP

   H10K 50/10 20230101ALI20260108BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20260108BHJP

【ＦＩ】

C23C14/04 A

H05B33/14 A

H05B33/10

【請求項の数】 17

(21)【出願番号】P 2021032094

(22)【出願日】2021-03-01

(65)【公開番号】P2021175823

(43)【公開日】2021-11-04

【審査請求日】2024-01-29

(31)【優先権主張番号】P 2020077608

(32)【優先日】2020-04-24

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002897

【氏名又は名称】大日本印刷株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100120031

【弁理士】

【氏名又は名称】宮嶋 学

(74)【代理人】

【識別番号】100127465

【弁理士】

【氏名又は名称】堀田 幸裕

(74)【代理人】

【識別番号】100158964

【弁理士】

【氏名又は名称】岡村 和郎

(72)【発明者】

【氏名】馬場 良洋

(72)【発明者】

【氏名】青木 大吾

(72)【発明者】

【氏名】岡本 英介

【審査官】今井 淳一

(56)【参考文献】

【文献】特開２００６－２４４７４６（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１７／０１０６４７２（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２００４－３３５３８２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ １４／０４

Ｈ１０Ｋ ５０／１０

Ｈ０５Ｂ ３３／１０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１方向に延びる複数のマスクに前記第１方向において張力を加えた状態で複数の前記マスクを支持するマスク支持体であって、
開口を含む枠と、
前記開口に位置し、前記枠に接続されている桟と、を備え、
前記枠は、前記マスクが固定される枠第１面と、前記枠第１面の反対側に位置する枠第２面と、前記枠第１面と前記枠第２面との間に位置し、前記桟が接続されている内側面と、前記内側面の反対側に位置する外側面と、を含み、
前記桟は、前記枠第１面の側に位置する桟第１面と、前記桟第１面の反対側に位置する桟第２面と、前記桟第１面と前記桟第２面との間に位置する桟側面と、を含み、
前記枠第１面と前記桟第１面とが連続しており、
前記枠は、前記第１方向に延びる一対の第１辺と、前記第１方向に交差する第２方向に延びる一対の第２辺と、を含み、
複数の前記マスクは、前記第２辺に固定され、
前記桟は、前記第１辺に接続されている第１桟と、前記第２辺に接続されている第２桟と、を含み、
前記第２桟の幅は、前記第１桟の幅よりも大きい、マスク支持体。

【請求項2】

前記枠第１面と前記桟第１面とが同一平面上に位置している、請求項１に記載のマスク支持体。

【請求項3】

前記枠第１面の法線方向に沿って前記マスク支持体を見た場合に、前記内側面と前記桟側面とが、第１曲率半径を有する第１接続部を介して接続されている、請求項１又は２に記載のマスク支持体。

【請求項4】

前記内側面と前記桟第２面とが、第２曲率半径を有する第２接続部を介して接続されている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のマスク支持体。

【請求項5】

前記枠第１面の法線方向に沿って前記マスク支持体を見た場合に、前記第１桟の桟側面と前記第２桟の桟側面とが、第３曲率半径を有する第３接続部を介して接続されている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のマスク支持体。

【請求項6】

前記桟第１面における前記桟の幅は、前記桟第２面における前記桟の幅よりも大きい、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のマスク支持体。

【請求項7】

前記桟は、前記桟の厚み方向において前記桟第２面に近づくにつれて、前記桟の幅が減少する部分を含む、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のマスク支持体。

【請求項8】

前記内側面は、前記枠の厚み方向において前記枠第２面に近づくにつれて、平面視において前記開口の中心点から離れる部分を含む、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のマスク支持体。

【請求項9】

前記枠の厚みは、５ｍｍ以上４０ｍｍ以下である、請求項１乃至８のいずれか一項に記載のマスク支持体。

【請求項10】

前記桟の厚みは、５０μｍ以上１０００μｍ以下である、請求項１乃至９のいずれか一項に記載のマスク支持体。

【請求項11】

前記桟の厚みは、前記枠の厚みよりも小さい、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のマスク支持体。

【請求項12】

前記枠の厚みに対する前記桟の厚みの比率が０．８５以下である、請求項１１に記載のマスク支持体。

【請求項13】

前記桟の幅は、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下である、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載のマスク支持体。

【請求項14】

請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のマスク支持体の製造方法であって、
第１面及び前記第１面の反対側に位置する第２面を含む板を準備する準備工程と、
前記第２面の法線方向に沿って前記板を見た場合の前記板の中央領域を前記第２面側から加工することによって、前記桟を形成する加工工程と、を備える、マスク支持体の製造方法。

【請求項15】

マスク装置であって、
請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のマスク支持体と、
貫通孔を含み、前記マスク支持体の前記第２辺の前記枠第１面に固定され、前記第１方向に延びる複数のマスクと、を備える、マスク装置。

【請求項16】

前記マスク支持体は、前記桟によって区画された２以上の開口を備え、
前記マスクは、２つ以上の有効領域を含み、
前記有効領域は、規則的に並ぶ貫通孔の群を含み、
平面視において、２つ以上の前記有効領域が１つの前記開口に重なっている、請求項１５に記載のマスク装置。

【請求項17】

有機デバイスの製造方法であって、
請求項１５又は１６に記載のマスク装置の前記マスクの前記貫通孔を介して有機材料を基板に蒸着させることによって、前記基板に蒸着層を形成する蒸着工程を備える、有機デバイスの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示の実施形態は、マスク支持体、マスク支持体の製造方法、マスク装置、有機デバイスの製造方法、有機デバイスに関する。

【背景技術】

【0002】

スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置の分野において、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置などの有機半導体デバイスの製造方法及び製造装置として、所望のパターンで配列された貫通孔が形成されたマスクを用い、所望のパターンで画素を形成する方法及び装置が知られている。例えば、まず、有機ＥＬ表示装置用の基板に、フレームに固定された状態のマスクを組み合わせる。続いて、有機材料を含む蒸着材料を、マスクの貫通孔を介して基板に付着させる。このような蒸着工程を実施することによって、マスクの貫通孔のパターンに対応したパターンで、蒸着材料を含む蒸着層を有する画素を基板上に形成できる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特許第５３８２２５９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

フレームなどの、マスクを支持するマスク支持体に変形が生じると、マスク支持体に固定されているマスクの位置が変化する。マスク支持体に変形が生じることを抑制することが求められる。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一実施形態による、マスクに張力を加えた状態でマスクを支持するマスク支持体は、開口を含む枠と、開口に位置し、枠に接続されている桟と、を備える。枠は、マスクが固定される枠第１面と、枠第１面の反対側に位置する枠第２面と、枠第１面と枠第２面との間に位置し、桟が接続されている内側面と、内側面の反対側に位置する外側面と、を含む。桟は、枠第１面の側に位置する桟第１面と、桟第１面の反対側に位置する桟第２面と、桟第１面と桟第２面との間に位置する桟側面と、を含む。枠第１面と桟第１面とが連続している。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、マスク支持体に変形が生じることを抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】有機デバイスの一例を示す断面図である。

【図2】図１の有機デバイスを拡大して示す断面図である。

【図3】蒸着装置の一例を示す断面図である。

【図4】蒸着装置のマスク装置の一例を示す平面図である。

【図5】マスク装置のマスクの中間部の一例を示す平面図である。

【図6】マスクの貫通孔の断面形状の一例を示す断面図である。

【図7】図４のマスク装置からマスクを取り除いた状態を示す平面図である。

【図8】図４のマスク装置のVIII－VIII線に沿った断面図である。

【図9】図４のマスク装置のIX－IX線に沿った断面図である。

【図10A】図７において符号Xが付された点線で囲まれた範囲におけるマスク支持体の一例を拡大して示す平面図。

【図10B】図１０Ａの第１接続部を拡大して示す平面図である。

【図11A】図１０Ａのマスク支持体のXI－XI線に沿った断面図である。

【図11B】図１１Ａの第２接続部を拡大して示す断面図である。

【図12】マスク支持体の製造方法の一例を示す断面図である。

【図13】マスク支持体の製造方法の一例を示す断面図である。

【図14】図１３の板を第２面側から見た場合を示す平面図である。

【図15】マスク装置を用いて形成した蒸着層の一例を示す断面図である。

【図16】マスク装置の一例を示す平面図である。

【図17】図１６のマスク装置のXVII－XVII線に沿った断面図である。

【図18】マスク装置の一例を示す平面図である。

【図19】図１８のマスク装置からマスクを取り除いた状態を示す平面図である。

【図20】図１８のマスク装置のXX－XX線に沿った断面図である。

【図21】図１８のマスク装置のXXI－XXI線に沿った断面図である。

【図22A】図１９において符号XXIIが付された点線で囲まれた範囲におけるマスク支持体の一例を拡大して示す平面図。

【図22B】図２２Ａの第１接続部を拡大して示す平面図である。

【図23A】図２２Ａのマスク支持体のXXIII－XXIII線に沿った断面図である。

【図23B】図２３Ａの第２接続部を拡大して示す断面図である。

【図24】マスク装置の一例を示す平面図である。

【図25】図２４のマスク装置からマスクを取り除いた状態を示す平面図である。

【図26】図２４のマスク装置のXXVI－XXVI線に沿った断面図である。

【図27】図２６のマスク装置の第２桟部材の溶接領域及びその周囲を拡大して示す断面図である。

【図28】マスク装置の一例を示す平面図である。

【図29】図２８のマスク装置からマスクを取り除いた状態を示す平面図である。

【図30】図２８のマスク装置のXXX－XXX線に沿った断面図である。

【図31】図２８のマスク装置のXXXI－XXXI線に沿った断面図である。

【図32A】図２９において符号XXXIIが付された点線で囲まれた範囲におけるマスク支持体の一例を拡大して示す平面図。

【図32B】図３２Ａの第３接続部を拡大して示す平面図である。

【図33】マスク支持体の一例を示す平面図である。

【図34】マスク支持体の一例を示す平面図である。

【図35】図３３に示すマスク支持体を備えるマスク装置を図３３のXXXV－XXXV線に沿って切断した場合を示す断面図である。

【図36】図３４に示すマスク支持体を備えるマスク装置を図３４のXXXVI－XXXVI線に沿って切断した場合を示す断面図である。

【図37】マスク装置の一例を示す断面図である。

【図38】マスク装置の一例を示す断面図である。

【図39】マスク装置の一例を示す断面図である。

【図40】マスク装置の一例を示す断面図である。

【図41】実施例におけるマスク支持体を示す平面図である。

【図42】シミュレーションの結果を示す表である。

【図43】シミュレーションの結果を示すグラフである。

【図44】シミュレーションの結果を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0008】

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」や「基材」や「板」や「シート」や「フィルム」などのある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。

【0009】

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈する。

【0010】

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に」や「下に」、「上側に」や「下側に」、又は「上方に」や「下方に」とする場合、ある構成が他の構成に直接的に接している場合を含む。さらに、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合、つまり間接的に接している場合も含む。また、特別な説明が無い限りは、「上」や「上側」や「上方」、又は、「下」や「下側」や「下方」という語句は、上下方向が逆転してもよい。

【0011】

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上現実の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。

【0012】

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、本明細書の一実施形態は、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態と組み合わせられ得る。また、その他の実施形態同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。

【0013】

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。

【0014】

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「～」という記号によって表現される数値範囲は、「～」という符号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「３４～３８質量％」という表現によって画定される数値範囲は、「３４質量％以上且つ３８質量％以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。

【0015】

以下、本開示の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。

【0016】

本開示の第１の態様は、マスクに張力を加えた状態で前記マスクを支持するマスク支持体であって、
開口を含む枠と、
前記開口に位置し、前記枠に接続されている桟と、を備え、
前記枠は、前記マスクが固定される枠第１面と、前記枠第１面の反対側に位置する枠第２面と、前記枠第１面と前記枠第２面との間に位置し、前記桟が接続されている内側面と、前記内側面の反対側に位置する外側面と、を含み、
前記桟は、前記枠第１面の側に位置する桟第１面と、前記桟第１面の反対側に位置する桟第２面と、前記桟第１面と前記桟第２面との間に位置する桟側面と、を含み、
前記枠第１面と前記桟第１面とが連続している、マスク支持体である。

【0017】

本開示の第２の態様は、上述した第１の態様によるマスク支持体において、前記枠第１面と前記桟第１面とが同一平面上に位置してもよい。

【0018】

本開示の第３の態様は、上述した第１の態様または上述した第２の態様のそれぞれによるマスク支持体において、前記枠第１面の法線方向に沿って前記マスク支持体を見た場合に、前記内側面と前記桟側面とが、第１曲率半径を有する第１接続部を介して接続されていてもよい。

【0019】

本開示の第４の態様は、上述した第１の態様から上述した第３の態様のそれぞれによるマスク支持体において、前記内側面と前記桟第２面とが、第２曲率半径を有する第２接続部を介して接続されていてもよい。

【0020】

本開示の第５の態様は、上述した第１の態様から上述した第４の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記枠は、第１方向に延びる一対の第１辺と、前記第１方向に交差する第２方向に延びる一対の第２辺と、を含み、
前記マスクは、前記第２辺に固定され、
前記桟は、前記第１辺に接続されている第１桟を含んでもよい。

【0021】

本開示の第６の態様は、上述した第１の態様から上述した第４の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記枠は、第１方向に延びる一対の第１辺と、前記第１方向に交差する第２方向に延びる一対の第２辺と、を含み、
前記マスクは、前記第２辺に固定され、
前記桟は、前記第２辺に接続されている第２桟を含んでもよい。

【0022】

本開示の第７の態様は、上述した第１の態様から上述した第４の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記枠は、第１方向に延びる一対の第１辺と、前記第１方向に交差する第２方向に延びる一対の第２辺と、を含み、
前記マスクは、前記第２辺に固定され、
前記桟は、前記第１辺に接続されている第１桟と、前記第２辺に接続されている第２桟と、を含み、
前記枠第１面の法線方向に沿って前記マスク支持体を見た場合に、前記第１桟の桟側面と前記第２桟の桟側面とが、第３曲率半径を有する第３接続部を介して接続されていてもよい。

【0023】

本開示の第８の態様は、上述した第１の態様から上述した第７の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記桟第１面における前記桟の幅は、前記桟第２面における前記桟の幅よりも大きくてもよい。

【0024】

本開示の第９の態様は、上述した第１の態様から上述した第８の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記桟は、前記桟の厚み方向において前記桟第２面に近づくにつれて、前記桟の幅が減少する部分を含んでもよい。

【0025】

本開示の第１０の態様は、上述した第１の態様から上述した第９の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記内側面は、前記枠の厚み方向において前記枠第２面に近づくにつれて、平面視において前記開口の中心から離れる部分を含んでもよい。

【0026】

本開示の第１１の態様は、上述した第１の態様から上述した第１０の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記枠の厚みは、５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよい。

【0027】

本開示の第１２の態様は、上述した第１の態様から上述した第１１の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記桟の厚みは、５０μｍ以上１０００μｍ以下であってもよい。

【0028】

本開示の第１３の態様は、上述した第１の態様から上述した第１２の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記桟の厚みは、前記枠の厚みよりも小さくてもよい。

【0029】

本開示の第１４の態様は、上述した第１の態様から上述した第１３の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記枠の厚みに対する前記桟の厚みの比率が０．８５以下であってもよい。

【0030】

本開示の第１５の態様は、上述した第１の態様から上述した第１４の態様のそれぞれによるマスク支持体において、
前記桟の幅は、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下であってもよい。

【0031】

本開示の第１６の態様は、上述した第１の態様から上述した第１５の態様のいずれかによるマスク支持体の製造方法であって、
第１面及び前記第１面の反対側に位置する第２面を含む板を準備する準備工程と、
前記第２面の法線方向に沿って前記板を見た場合の前記板の中央領域を前記第２面側から加工することによって、前記桟を形成する加工工程と、を備える、マスク支持体の製造方法である。

【0032】

本開示の第１７の態様は、マスク装置であって、
上述した第１の態様から上述した第１５の態様のいずれかによるマスク支持体と、
貫通孔を含み、前記マスク支持体の前記枠第１面に固定されているマスクと、を備える、マスク装置である。

【0033】

本開示の第１８の態様は、上述した第１７の態様によるマスク装置であって、
前記マスク支持体は、前記桟によって区画された２以上の開口を備え、
前記マスクは、２つ以上の有効領域を含み、
前記有効領域は、規則的に並ぶ貫通孔の群を含み、
平面視において、２つ以上の前記有効領域が１つの前記開口に重なっていてもよい。

【0034】

本開示の第１９の態様は、有機デバイスの製造方法であって、
上述した第１７の態様または上述した第１８の態様のそれぞれによるマスク装置の前記マスクの前記貫通孔を介して有機材料を基板に蒸着させることによって、前記基板に蒸着層を形成する蒸着工程を備える、有機デバイスの製造方法である。

【0035】

本開示の第２０の態様は、有機デバイスであって、
上述した第１９の態様による有機デバイスの製造方法の前記蒸着工程によって前記基板に形成された前記蒸着層を備える、有機デバイスである。

【0036】

以下、本開示の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。

【0037】

図１は、有機デバイス１００の一例を示す断面図である。有機デバイス１００は、第１面１１１及び第１面１１１の反対側に位置する第２面１１２を含む基板１１０と、基板１１０の第１面１１１の面内方向に沿って並ぶ複数の素子１０５と、を備えてもよい。図示はしないが、素子１０５は、図１の奥行方向にも並んでもよい。例えば、素子１０５は、第１面１１１の面内方向における２つの配列方向において周期的に並んでもよい。素子１０５は、第１電極層１２０と、第１電極層１２０上に位置する蒸着層１３０と、蒸着層１３０上に位置する第２電極層１４０と、を含んでもよい。

【0038】

図２は、図１の有機デバイスを拡大して示す断面図である。蒸着層１３０は、第１電極層１２０上に位置する第１蒸着層１３１と、第１電極層１２０上に位置する第２蒸着層１３２と、を含んでもよい。第１蒸着層１３１と第２蒸着層１３２とは、平面視において、素子１０５の配列方向において隣接してもよい。例えば、平面視において、第１蒸着層１３１に重なる第１電極層１２０と、第２蒸着層１３２に重なる第１電極層１２０とが、素子１０５の配列方向において隣接してもよい。

【0039】

図示はしないが、蒸着層１３０は、素子１０５の配列方向において第１蒸着層１３１または第２蒸着層１３２と隣接する第３蒸着層などのその他の蒸着層を含んでもよい。

【0040】

図２に示すように、有機デバイス１００は、平面視において隣り合う２つの第１電極層１２０の間に位置する絶縁層１６０を備えてもよい。絶縁層１６０は、例えばポリイミドを含んでいる。絶縁層１６０は、第１電極層１２０の端部に重なってもよい。

【0041】

基板１１０は、絶縁性を有する板状の部材であってもよい。基板１１０は、光を透過させる透明性を有してもよい。基板１１０は、ガラスを含んでもよい。

【0042】

第１電極層１２０は、導電性を有する材料を含んでもよい。例えば、第１電極層１２０は、金属、導電性を有する金属酸化物や、その他の無機材料などを含んでもよい。第１電極層１２０は、インジウム・スズ酸化物などの、透明性及び導電性を有する金属酸化物を含んでもよい。

【0043】

第１蒸着層１３１、第２蒸着層１３２及び第３蒸着層は、有機材料を含む有機層であってもよい。有機デバイス１００が有機ＥＬ表示装置である場合、第１蒸着層１３１、第２蒸着層１３２及び第３蒸着層はそれぞれ、発光層であってもよい。例えば、第１蒸着層１３１、第２蒸着層１３２及び第３蒸着層はそれぞれ、赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層であってもよい。

【0044】

第１蒸着層１３１、第２蒸着層１３２及び第３蒸着層はそれぞれ、対応するマスクが設置されている蒸着装置において、マスクの貫通孔を介して有機材料を基板１１０に蒸着させることによって形成されてもよい。

【0045】

図示はしないが、素子１０５は、第１電極層１２０と蒸着層１３０との間、または蒸着層１３０と第２電極層１４０との間に位置する、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを含んでもよい。

【0046】

第２電極層１４０は、金属などの、導電性を有する材料を含んでもよい。第２電極層１４０を構成する材料としては、白金、金、銀、銅、鉄、錫、クロム、アルミニウム、インジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、クロム、炭素等及びこれらの合金を利用できる。

【0047】

図２に示すように、第２電極層１４０は、平面視において隣り合う２つの蒸着層１３０に跨るように広がってもよい。図示はしないが、第２電極層１４０は、隣り合う２つの蒸着層１３０の上に位置する第２電極層１４０の間に隙間があるように形成されていてもよい。

【0048】

基板１１０の第１面１１１に蒸着層１３０を形成するための蒸着装置１０について説明する。図３は、蒸着装置１０の一例を示す縦断面図である。

【0049】

図３に示すように、蒸着装置１０は、その内部に、蒸着源６、ヒータ８、及びマスク装置３０を備えてもよい。蒸着装置１０は、蒸着装置１０の内部を真空雰囲気にするための排気手段を更に備えてもよい。蒸着源６は、例えばるつぼであり、有機発光材料などの蒸着材料７を収容する。ヒータ８は、蒸着源６を加熱する。これにより、ヒータ８は、真空雰囲気の下で蒸着材料７を蒸発させる。マスク装置３０は、るつぼ６と対向するよう配置されている。

【0050】

図３に示すように、マスク装置３０は、少なくとも１つのマスク５０と、マスク５０を支持するマスク支持体４０と、を備えてもよい。マスク支持体４０は、マスク５０が固定されている枠第１面４１ａと、枠第１面４１ａの反対側に位置する枠第２面４１ｂと、を含む枠４１を備えてもよい。マスク支持体４０は、枠４１の内側においてマスク支持体４０を枠第１面４１ａ側から枠第２面４１ｂ側に貫通する開口４３を含んでもよい。マスク５０は、平面視において開口４３を横切るように枠４１に固定されていてもよい。枠４１は、マスク５０が撓むことを抑制するように、マスク５０に張力を加えた状態でマスク５０を支持していてもよい。「平面視」とは、枠４１の枠第１面４１ａの法線方向に沿ってマスク装置３０を見ることを意味する。

【0051】

１つの蒸着装置１０のマスク装置３０のマスク５０は、１種類の蒸着層１３０に、例えば第１蒸着層１３１に対応していてもよい。この場合、有機デバイス１００の製造装置は、複数の蒸着装置１０を備えてもよい。例えば、有機デバイス１００の製造装置は、第１蒸着層１３１に対応する蒸着装置１０と、第２蒸着層１３２に対応する蒸着装置１０と、第３蒸着層に対応する蒸着装置１０と、を備えてもよい。基板１１０を複数の蒸着装置１０に順に投入する。蒸着工程を実施することによって、基板１１０に第１蒸着層１３１、第２蒸着層１３２及び第３蒸着層を形成できる。

【0052】

マスク装置３０は、図３に示すように、蒸着材料７を付着させる対象物である基板１１０にマスク５０が対面するよう、蒸着装置１０内に配置されている。マスク５０は、蒸着源６から飛来した蒸着材料７を通過させる複数の貫通孔５６を含む。以下の説明において、マスク５０の面のうち、基板１１０の側に位置する面を第１面５５ａと称し、第１面５５ａの反対側に位置する面を第２面５５ｂと称する。

【0053】

蒸着装置１０は、図３に示すように、基板１１０を保持する基板ホルダ２を備えてもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の厚み方向において移動可能であってもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の面方向において移動可能であってもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の傾きを制御するよう構成されていてもよい。例えば、基板ホルダ２は、基板１１０の外縁に取り付けられた複数のチャックを含み、各チャックは、基板１１０の厚み方向や面方向において独立に移動可能であってもよい。

【0054】

蒸着装置１０は、図３に示すように、マスク装置３０を保持するマスクホルダ３を備えてもよい。マスクホルダ３は、マスク５０の厚み方向において移動可能であってもよい。マスクホルダ３は、マスク５０の面方向において移動可能であってもよい。例えば、マスクホルダ３は、マスク支持体４０の外縁に取り付けられた複数のチャックを含み、各チャックは、マスク５０の厚み方向や面方向において独立に移動可能であってもよい。

【0055】

基板ホルダ２又はマスクホルダ３の少なくともいずれか一方を移動させることによって、基板１１０に対するマスク装置３０のマスク５０の位置を調整できる。

【0056】

蒸着装置１０は、図３に示すように、基板１１０の面のうちマスク装置３０とは反対側の面である第２面１１２側に配置されている冷却板４を備えてもよい。冷却板４は、冷却板４の内部に冷媒を循環させるための流路を有してもよい。冷却板４は、蒸着工程の際に基板１１０の温度が上昇することを抑制できる。

【0057】

蒸着装置１０は、図３に示すように、基板１１０の面のうちマスク装置３０とは反対側の面である第２面１１２側に配置されている磁石５を備えてもよい。磁石５は、図３に示すように、冷却板４の面のうちマスク装置３０とは反対の側の面に配置されていてもよい。磁石５は、磁力によってマスク装置３０のマスク５０を基板１１０側に引き寄せることができる。これにより、マスク５０と基板１１０との間の隙間を低減したり、隙間をなくしたりすることができる。このことによって、蒸着工程においてシャドーが発生することを抑制できるので、蒸着層１３０の寸法精度や位置精度を向上できる。本願において、シャドーとは、マスク５０と基板１１０との間の隙間に蒸着材料７が入り込み、これによって蒸着層１３０の厚みが不均一になる現象である。静電気力を利用する静電チャックを用いてマスク５０を基板１１０側に引き寄せてもよい。

【0058】

マスク装置３０について詳細に説明する。図４は、マスク装置３０をマスク５０の第１面５５ａ側から見た場合を示す平面図である。図４に示すように、マスク装置３０は、複数のマスク５０を備えてもよい。本実施の形態において、各マスク５０の形状は、第１方向Ｄ１に延びる矩形であってもよい。マスク装置３０において、複数のマスク５０は、マスク５０の長手方向である第１方向Ｄ１に交差する方向に並んでいる。図４に示すように、複数のマスク５０は、マスク５０の長手方向に直交するマスク５０の幅方向である第２方向Ｄ２に並んでもよい。各マスク５０は、マスク５０の長手方向の両端部において、例えば溶接によってマスク支持体４０の枠４１に固定されていてもよい。

【0059】

図４において、符号Ｌ１は、第１方向Ｄ１におけるマスク５０の寸法を、すなわちマスク５０の長さを表す。寸法Ｌ１は、例えば、１５０ｍｍ以上であってもよく、３００ｍｍ以上であってもよく、４５０ｍｍ以上であってもよく、６００ｍｍ以上であってもよい。寸法Ｌ１は、例えば、７５０ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以下であってもよく、１５００ｍｍ以下であってもよく、２０００ｍｍ以下であってもよい。寸法Ｌ１の範囲は、１５０ｍｍ、３００ｍｍ、４５０ｍｍ及び６００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、７５０ｍｍ、１０００ｍｍ、１５００ｍｍ及び２０００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｌ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｌ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｌ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、１５０ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上７５０ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上６００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上４５０ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上７５０ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上６００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上４５０ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上７５０ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上６００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上７５０ｍｍ以下であってもよく、７５０ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、７５０ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、７５０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、１５００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよい。

【0060】

図４において、符号Ｗ１は、第２方向Ｄ２におけるマスク５０の寸法を、すなわちマスク５０の幅を表す。寸法Ｗ１は、例えば、５０ｍｍ以上であってもよく、１００ｍｍ以上であってもよく、１５０ｍｍ以上であってもよく、２００ｍｍ以上であってもよい。寸法Ｗ１は、例えば、２５０ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以下であってもよく、３５０ｍｍ以下であってもよく、４００ｍｍ以下であってもよい。寸法Ｗ１の範囲は、５０ｍｍ、１００ｍｍ、１５０ｍｍ及び２００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２５０ｍｍ、３００ｍｍ、３５０ｍｍ及び４００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｗ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｗ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｗ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、５０ｍｍ以上４００ｍｍ以下であってもよく、５０ｍｍ以上３５０ｍｍ以下であってもよく、５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であってもよく、５０ｍｍ以上２５０ｍｍ以下であってもよく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下であってもよく、５０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下であってもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下であってもよく、１００ｍｍ以上４００ｍｍ以下であってもよく、１００ｍｍ以上３５０ｍｍ以下であってもよく、１００ｍｍ以上３００ｍｍ以下であってもよく、１００ｍｍ以上２５０ｍｍ以下であってもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下であってもよく、１００ｍｍ以上１５０ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上４００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上３５０ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上２５０ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下であってもよく、２００ｍｍ以上４００ｍｍ以下であってもよく、２００ｍｍ以上３５０ｍｍ以下であってもよく、２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下であってもよく、２００ｍｍ以上２５０ｍｍ以下であってもよく、２５０ｍｍ以上４００ｍｍ以下であってもよく、２５０ｍｍ以上３５０ｍｍ以下であってもよく、２５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上４００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上３５０ｍｍ以下であってもよく、３５０ｍｍ以上４００ｍｍ以下であってもよい。

【0061】

図４に示すように、マスク５０は、マスク支持体４０に重なっている一対の耳部５１と、耳部５１の間に位置する中間部５２と、を有してもよい。耳部のことを、端部とも称する。中間部５２は、少なくとも１つの有効領域５３と、有効領域５３の周囲に位置する周囲領域５４と、を有してもよい。図４に示す例において、中間部５２は、第１方向Ｄ１に沿って所定の間隔を空けて配列された複数の有効領域５３を含む。周囲領域５４は、複数の有効領域５３を囲んでいる。

【0062】

図５は、マスク５０の中間部５２の一例を示す平面図である。中間部５２の有効領域５３は、複数の貫通孔５６を含んでもよい。蒸着材料が、中間部５２の各貫通孔５６を通過することによって、蒸着材料が、基板１１０に付着してもよい。基板１１０に付着した蒸着材料が、基板１１０上の蒸着層１３０を構成してもよい。この場合、有効領域５３は、平面視において、蒸着層１３０に対応する周期で規則的に並ぶ貫通孔５６の群を含む。

【0063】

図５に示すように、周囲領域５４は、貫通孔５６を含んでいなくてもよい。図示はしないが、周囲領域５４は、貫通孔５６を含んでいてもよい。この場合、周囲領域５４に位置する貫通孔５６は、平面視において周期的に並んでいなくてもよい。周囲領域５４に位置する貫通孔５６は、蒸着層１３０に対応しない周期で規則的に並んでいてもよい。

【0064】

マスク５０を用いて有機ＥＬ表示装置などの表示装置を作製する場合、１つの有効領域５３は、１つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応する。このため、図４及び図５に示すマスク装置３０によれば、有機ＥＬ表示装置の多面付蒸着が可能である。なお、１つの有効領域５３が複数の表示領域に対応する場合もある。図示はしないが、マスク５０の幅方向においても所定の間隔を空けて複数の有効領域５３が配列されていてもよい。

【0065】

有効領域５３は、平面視において矩形の輪郭を有してもよい。有効領域５３は、有機ＥＬ表示装置の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有してもよい。例えば、有効領域５３は、円形の輪郭を有してもよい。

【0066】

図６は、マスク５０の一例を示す断面図である。図６に示すように、マスク５０は、金属板５５と、金属板５５の第１面５５ａから第２面５５ｂへ貫通する貫通孔５６と、を備える。貫通孔５６は、金属板５５の第１面５５ａ側に位置する第１凹部５６１と、第２面５５ｂ側に位置し、第１凹部５６１に接続されている第２凹部５６２と、を含んでもよい。平面視において、第２凹部５６２の寸法ｒ２は、第１凹部５６１の寸法ｒ１よりも大きくてもよい。第１凹部５６１及び第２凹部５６２は、金属板５５を第１面５５ａ側及び第２面５５ｂ側からエッチングやレーザーなどによって加工することによって形成され得る。

【0067】

第１凹部５６１と第２凹部５６２とは、周状の接続部５６３を介して接続されている。接続部５６３は、マスク５０の平面視において貫通孔５６の開口面積が最小になる貫通部５６４を画成してもよい。

【0068】

貫通部５６４の寸法ｒは、例えば、１０μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよく、２０μｍ以上であってもよく、２５μｍ以上であってもよい。貫通部５６４の寸法ｒは、例えば、４０μｍ以下であってもよく、４５μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよく、５５μｍ以下であってもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ及び２５μｍからなる第１グループ、及び／又は、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ及び５５μｍからなる第２グループによって定められてもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、１０μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、４５μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、４５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以上５５μｍ以下であってもよい。貫通部５６４の寸法ｒを測定する測定器としては、新東Ｓプレシジョン製ＡＭＩＣ－１７１０を利用できる。

【0069】

なお、図６においては、隣り合う二つの第２凹部５６２の間に金属板５５の第２面５５ｂが残存している例を示したが、これに限られない。図示はしないが、隣り合う２つの第２凹部５６２が接続されるようにエッチングが実施されてもよい。すなわち、隣り合う２つの第２凹部５６２の間に、金属板５５の第２面５５ｂが残存していない場所が存在してもよい。

【0070】

次に、マスク支持体４０について説明する。図７は、図４のマスク装置３０からマスク５０を取り除いた状態を示す図である。マスク支持体４０は、開口４３を含む枠４１に加えて、枠４１に接続されている桟４２を備えてもよい。桟４２は、開口４３を横切るように延びてもよい。桟４２は、後述する蒸着工程の際に、マスク５０のうち平面視において開口４３と重なる領域の下方に位置できる。桟４２は、蒸着工程の際にマスク５０を下方から支持してもよい。これにより、マスク５０が自重によって撓むことを抑制できる。

【0071】

枠４１、桟４２及び開口４３について説明する。まず、枠４１について説明する。

【0072】

図４及び図７に示すように、枠４１は、開口４３を隔てて向かい合う一対の第１辺４１１と、開口４３を隔てて向かい合う一対の第２辺４１２と、を含んでもよい。第１辺４１１と第２辺４１２とは、異なる方向に延びている。例えば、図４に示すように、第１辺４１１が、マスク５０の長手方向である第１方向Ｄ１に延び、第２辺４１２が、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２に延びてもよい。図４に示すように、マスク５０の端部５１は第２辺４１２に固定されていてもよい。また、マスク５０が固定されている第２辺４１２が、第１辺４１１よりも長くてもよい。枠４１の開口４３は、一対の第１辺４１１及び一対の第２辺４１２によって囲まれていてもよい。

【0073】

図４において、符号Ｌ２１は、第１方向Ｄ１における枠４１の開口４３の寸法を表す。符号Ｌ２２は、第２方向Ｄ２における枠４１の開口４３の寸法を表す。Ｌ２２／Ｌ２１は、例えば、０．６以上であってもよく、０．８以上であってもよく、１．０以上であってもよく、１．２以上であってもよい。Ｌ２２／Ｌ２１は、例えば、１．４以下であってもよく、１．６以下であってもよく、１．８以下であってもよく、２．０以下であってもよい。Ｌ２２／Ｌ２１の範囲は、０．６、０．８、１．０及び１．２からなる第１グループ、及び／又は、１．４、１．６、１．８及び２．０からなる第２グループによって定められてもよい。Ｌ２２／Ｌ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。Ｌ２２／Ｌ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。Ｌ２２／Ｌ２１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、０．６以上２．０以下であってもよく、０．６以上１．８以下であってもよく、０．６以上１．６以下であってもよく、０．６以上１．４以下であってもよく、０．６以上１．２以下であってもよく、０．６以上１．０以下であってもよく、０．６以上０．８以下であってもよく、０．８以上２．０以下であってもよく、０．８以上１．８以下であってもよく、０．８以上１．６以下であってもよく、０．８以上１．４以下であってもよく、０．８以上１．２以下であってもよく、０．８以上１．０以下であってもよく、１．０以上２．０以下であってもよく、１．０以上１．８以下であってもよく、１．０以上１．６以下であってもよく、１．０以上１．４以下であってもよく、１．０以上１．２以下であってもよく、１．２以上２．０以下であってもよく、１．２以上１．８以下であってもよく、１．２以上１．６以下であってもよく、１．２以上１．４以下であってもよく、１．４以上２．０以下であってもよく、１．４以上１．８以下であってもよく、１．４以上１．６以下であってもよく、１．６以上２．０以下であってもよく、１．６以上１．８以下であってもよく、１．８以上２．０以下であってもよい。

【0074】

第１方向Ｄ１における開口４３の寸法Ｌ２１は、例えば、１５０ｍｍ以上であってもよく、３００ｍｍ以上であってもよく、４５０ｍｍ以上であってもよく、６００ｍｍ以上であってもよい。寸法Ｌ２１は、例えば、７５０ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以下であってもよく、１５００ｍｍ以下であってもよく、２０００ｍｍ以下であってもよい。寸法Ｌ２１の範囲は、１５０ｍｍ、３００ｍｍ、４５０ｍｍ及び６００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、７５０ｍｍ、１０００ｍｍ、１５００ｍｍ及び２０００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｌ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｌ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｌ２１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、１５０ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上７５０ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上６００ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上４５０ｍｍ以下であってもよく、１５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上７５０ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上６００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上４５０ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上７５０ｍｍ以下であってもよく、４５０ｍｍ以上６００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上７５０ｍｍ以下であってもよく、７５０ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、７５０ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、７５０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下であってもよく、１５００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよい。

【0075】

第２方向Ｄ２における開口４３の寸法Ｌ２２は、例えば、６００ｍｍ以上であってもよく、８００ｍｍ以上であってもよく、１０００ｍｍ以上であってもよく、１２００ｍｍ以上であってもよい。寸法Ｌ２２は、例えば、１４００ｍｍ以下であってもよく、１６００ｍｍ以下であってもよく、１８００ｍｍ以下であってもよく、２０００ｍｍ以下であってもよい。寸法Ｌ２２の範囲は、６００ｍｍ、８００ｍｍ、１０００ｍｍ及び１２００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１４００ｍｍ、１６００ｍｍ、１８００ｍｍ及び２０００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｌ２２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｌ２２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｌ２２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、６００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上１６００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上１４００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上８００ｍｍ以下であってもよく、８００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、８００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であってもよく、８００ｍｍ以上１６００ｍｍ以下であってもよく、８００ｍｍ以上１４００ｍｍ以下であってもよく、８００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下であってもよく、８００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以上１６００ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以上１４００ｍｍ以下であってもよく、１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下であってもよく、１２００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、１２００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であってもよく、１２００ｍｍ以上１６００ｍｍ以下であってもよく、１２００ｍｍ以上１４００ｍｍ以下であってもよく、１４００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、１４００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であってもよく、１４００ｍｍ以上１６００ｍｍ以下であってもよく、１６００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよく、１６００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であってもよく、１８００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であってもよい。

【0076】

図８は、図４のマスク装置３０のVIII－VIII線に沿った断面図である。図９は、図４のマスク装置３０のIX－IX線に沿った断面図である。図８及び図９に示すように、枠４１は、上述の枠第１面４１ａと枠第２面４１ｂとの間に位置し、開口４３に面する内側面４１ｅと、内側面４１ｅの反対側に位置する外側面４１ｆと、を含んでもよい。図８及び図９に示すように、内側面４１ｅ及び外側面４１ｆは、枠第１面４１ａの法線方向に沿って広がってもよい。

【0077】

桟４２について説明する。桟４２は、枠４１の内側面４１ｅに接続されており、且つ、平面視において開口４３を横切っている領域である。図４及び図７に示すように、桟４２は、枠４１の第１辺４１１の内側面４１ｅに接続されている第１桟４２１を含んでもよい。第１桟４２１は、第２方向Ｄ２に延びてもよい。例えば、第１辺４１１は、平面視において、第２方向Ｄ２に延びる一対の桟側面４２ｃを含み、桟側面４２ｃが枠４１の第１辺４１１の内側面４１ｅに接続されていてもよい。第１方向Ｄ１に沿って複数の第１桟４２１が並んでもよい。第１辺４１１の長さは、第２方向Ｄ２における枠４１の開口４３の寸法Ｌ２２と同一であってもよい。

【0078】

図８及び図９に示すように、第１桟４２１は、枠第１面４１ａ側に位置する桟第１面４２ａと、桟第１面４２ａの反対側に位置する桟第２面４２ｂと、を含んでもよい。桟第１面４２ａは、マスク５０の第２面５５ｂに接していてもよい。第１桟４２１は、マスク５０が自重によって撓むことを抑制できる。

【0079】

枠４１と桟４２の間の境界の構造について、図１０Ａ及び図１１Ａを参照することによって、説明する。図１０Ａは、図７において符号Xが付された点線で囲まれた範囲におけるマスク支持体４０の一例を拡大して示す平面図である。図１１Ａは、図１０Ａのマスク支持体４０のXI－XI線に沿った断面図である。

【0080】

図１０Ａ及び図１１Ａに示すように、枠４１と桟４２の間の境界において、枠４１の枠第１面４１ａと桟４２の桟第１面４２ａとが連続してもよい。例えば、枠４１と桟４２とがいずれも、１つの板を機械的に加工することによって作製されていてもよい。この場合、板の１つの面によって枠４１の枠第１面４１ａと桟４２の桟第１面４２ａとが構成されるように板を加工することによって、連続した枠第１面４１ａと桟第１面４２ａとを形成できる。

【0081】

枠４１の枠第１面４１ａと桟４２の桟第１面４２ａとが連続しているか否かは、枠４１と桟４２の間の境界の周囲において枠第１面４１ａと桟第１面４２ａとが同一平面上に位置しているか否かによって判断されてもよい。具体的には、枠第１面４１ａの法線方向における枠第１面４１ａ及び枠第２面４１ｂの位置を、枠４１と桟４２の間の境界の周囲の領域で測定する。境界の周囲の領域は、枠第１面４１ａ及び枠第２面４１ｂのうち、図１０Ａに示す接続点４２ｅを中心とした半径Ｓ１の範囲内の領域である。境界の周囲の領域の、枠第１面４１ａの法線方向における位置が、平均値±第１閾値の範囲内である場合、枠第１面４１ａと桟第１面４２ａとが同一平面上に位置していると判断する。第１閾値は、例えば０．５ｍｍである。

【0082】

上述の接続点４２ｅは、桟４２の端４２ｄの中心点である。端４２ｄは、桟４２が接続されている枠４１の内側面４１ｅの、平面視における延長線が、桟４２と交わる部分として定義される。図１０Ａに示す例において、端４２ｄは、平面視において第１方向Ｄ１に延びる第１辺４１１の内側面４１ｅの延長線と、第２方向Ｄ２に延びる第１桟４２１とが交わる部分である。また、接続点４２ｅは、内側面４１ｅが延びる第１方向Ｄ１における端４２ｄの中心点である。上述の半径Ｓ１は、例えば２．５ｍｍである。

【0083】

枠第１面４１ａの法線方向における枠第１面４１ａ及び枠第２面４１ｂの位置を測定する測定器としては、キーエンス社製のレーザー変位計 ＬＫ－Ｇ８５を利用できる。ＬＫ－Ｇ８５の測定条件は下記の通りである。
・測定間隔：１００μｍ

【0084】

１つの板を機械的に加工することによって枠４１と桟４２とを作製する場合、枠４１と桟４２とが接続される接続部において、加工に起因する形状が生じてもよい。図１０Ａに示すように、マスク支持体４０は、平面視において、枠４１の内側面４１ｅと桟４２の桟側面４２ｃとが接続される第１接続部４２ｆを含む。図１０Ｂは、第１接続部４２ｆを拡大して示す平面図である。例えば、切削工具を用いた加工を行う場合、第１接続部４２ｆが、移行部４２ｆａを含んでいてもよい。移行部４２ｆａは、内側面４１ｅの延長線Ｈ１及び桟側面４２ｃの延長線Ｈ２によって区画されるマスク支持体４０の部分である。第１接続部４２ｆが移行部４２ｆａを含む場合のマスク支持体４０の剛性は、第１接続部４２ｆが移行部４２ｆａを含まない場合のマスク支持体４０の剛性よりも大きい。すなわち、移行部４２ｆａは、マスク支持体４０の剛性を高めることができる。

【0085】

移行部４２ｆａは、第１曲率半径Ｓ２を有する湾曲部を備えていてもよい。第１曲率半径Ｓ２は、例えば、１．０ｍｍ以上でもよく、１．５ｍｍ以上でもよく、２．０ｍｍ以上でもよい。第１曲率半径Ｓ２は、例えば、３．０ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以下でもよく、５．０ｍｍ以下でもよい。第１曲率半径Ｓ２の範囲は、１．０ｍｍ、１．５ｍｍ及び２．０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、３．０ｍｍ、４．０ｍｍ及び５．０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。第１曲率半径Ｓ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第１曲率半径Ｓ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第１曲率半径Ｓ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、１．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上３．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上２．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ以下でもよく、１．５ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、１．５ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、１．５ｍｍ以上３．０ｍｍ以下でもよく、１．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上３．０ｍｍ以下でもよく、３．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、３．０ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよい。第１曲率半径Ｓ２を測定する測定器としては、新東Ｓプレシジョン製ＡＭＩＣ－１７１０を利用できる。

【0086】

図示はしないが、内側面４１ｅと桟側面４２ｃとが、湾曲部を介さずに接続されていてもよい。

【0087】

図１１Ａに示すように、縦断面図において、マスク支持体４０は、枠４１の内側面４１ｅと桟４２の桟第２面４２ｂとが接続される第２接続部４２ｇを含む。図１１Ｂは、第２接続部４２ｇを拡大して示す断面図である。例えば、切削工具を用いた加工を行う場合、第２接続部４２ｇが、移行部４２ｇａを含んでいてもよい。移行部４２ｇａは、内側面４１ｅの延長線Ｈ３及び桟第２面４２ｂの延長線Ｈ４によって区画されるマスク支持体４０の部分である。第２接続部４２ｇが移行部４２ｇａを含む場合のマスク支持体４０の剛性は、第２接続部４２ｇが移行部４２ｇａを含まない場合のマスク支持体４０の剛性よりも大きい。すなわち、移行部４２ｇａは、マスク支持体４０の剛性を高めることができる。

【0088】

移行部４２ｇａは、第２曲率半径Ｓ３を有していてもよい。第２曲率半径Ｓ３は、例えば、１．０ｍｍ以上でもよく、１．５ｍｍ以上でもよく、２．０ｍｍ以上でもよい。第２曲率半径Ｓ３は、例えば、３．０ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以下でもよく、５．０ｍｍ以下でもよい。第２曲率半径Ｓ３の範囲は、１．０ｍｍ、１．５ｍｍ及び２．０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、３．０ｍｍ、４．０ｍｍ及び５．０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。第２曲率半径Ｓ３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第２曲率半径Ｓ３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第２曲率半径Ｓ３の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、１．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上３．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上２．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ以下でもよく、１．５ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、１．５ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、１．５ｍｍ以上３．０ｍｍ以下でもよく、１．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上３．０ｍｍ以下でもよく、３．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、３．０ｍｍ以上４．０ｍｍ以下でもよく、４．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよい。第２曲率半径Ｓ３を測定する測定器としては、新東Ｓプレシジョン製ＡＭＩＣ－１７１０を利用できる。

【0089】

図示はしないが、内側面４１ｅと桟第２面４２ｂとが、湾曲部を介さずに接続されていてもよい。

【0090】

開口４３について説明する。桟４２が開口４３を横切るように延びているので、平面視において、開口４３が２以上の領域に区画される。例えば図７に示すように、開口４３は、２つ以上の第１開口４３Ａを含む。２つ以上の第１開口４３Ａは、第１方向Ｄ１に並んでいる。

【0091】

図７に示すように、第１開口４３Ａの輪郭は、第１方向Ｄ１に延びる一対の第１縁４３１と、第２方向Ｄ２に延びる一対の第２縁４３２と、を含んでいてもよい。一対の第１縁４３１の少なくとも１つは、第１辺４１１の内側面４１ｅによって構成されてもよい。一対の第１縁４３１のいずれもが、第１辺４１１の内側面４１ｅによって構成されてもよい。第２縁４３２は、第２辺４１２の内側面４１ｅ又は第１桟４２１の桟側面４２ｃによって構成されてもよい。

【0092】

第１開口４３Ａは、平面視においてマスク５０の有効領域５３に重なってもよい。例えば図４に示すように、マスク装置３０の状態において、平面視において、第２方向Ｄ２に並ぶ２つ以上の有効領域５３が１つの第１開口４３Ａに重なっていてもよい。２つ以上のマスク５０の有効領域５３が、１つの第１開口４３Ａに重なっていてもよい。

【0093】

マスク装置３０のマスク５０及びマスク支持体４０の材料について説明する。マスク５０およびマスク支持体４０の主要な材料としては、ニッケルを含む鉄合金を利用できる。鉄合金は、ニッケルに加えてコバルトを更に含んでもよい。例えば、マスク５０の金属板５５の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で２８質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を利用できる。これにより、マスク５０及びマスク支持体４０の熱膨張係数と、ガラスを含む基板１１０の熱膨張係数との差を小さくできる。このため、基板１１０上に形成される蒸着層１３０の寸法精度や位置精度が、マスク５０、マスク支持体４０、基板１１０などの熱膨張に起因して低下することを抑制できる。

【0094】

金属板５５におけるニッケル及びコバルトの含有量は、合計で２８質量％以上且つ３８質量％以下であってもよい。この場合、ニッケル若しくはニッケル及びコバルトを含む鉄合金としては、インバー材、スーパーインバー材、ウルトラインバー材などを利用できる。インバー材は、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルと、残部の鉄及び不可避の不純物とを含む鉄合金である。スーパーインバー材は、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルと、コバルトと、残部の鉄及び不可避の不純物と含む鉄合金である。ウルトラインバー材は、２８質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルと、２質量％以上且つ７質量％以下のコバルトと、０．１質量％以上且つ１．０質量％以下のマンガンと、０．１０質量％以下のシリコンと、０．０１質量％以下の炭素と、残部の鉄及び不可避の不純物とを含む鉄合金である。

【0095】

金属板５５におけるニッケル及びコバルトの含有量は、合計で３８質量％以上且つ５４質量％以下であってもよい。この場合、ニッケル若しくはニッケル及びコバルトを含む鉄合金としては、低熱膨張Ｆｅ－Ｎｉ系めっき合金などを利用できる。低熱膨張Ｆｅ－Ｎｉ系めっき合金は、３８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルと、残部の鉄及び不可避の不純物とを含む鉄合金である。

【0096】

蒸着処理の際に、マスク５０、マスク支持体４０および基板１１０の温度が高温には達しない場合は、マスク５０およびマスク支持体４０の熱膨張係数を、基板１１０の熱膨張係数と同じ値または近い値にする必要は特にない。この場合、マスク５０を構成する材料として、上述の鉄合金以外の材料を用いてもよい。例えば、クロムを含む鉄合金など、上述のニッケルを含む鉄合金以外の鉄合金を用いてもよい。クロムを含む鉄合金としては、例えば、いわゆるステンレスと称される鉄合金を利用できる。ニッケルやニッケル－コバルト合金など、鉄合金以外の合金を用いてもよい。

【0097】

マスク５０の金属板５５の厚みＴ１は、例えば、８μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよく、１３μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。金属板５５の厚みＴ１は、例えば、２０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよい。金属板５５の厚みＴ１の範囲は、８μｍ、１０μｍ、１３μｍ及び１５μｍからなる第１グループ、及び／又は、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ及び５０μｍからなる第２グループによって定められてもよい。金属板５５の厚みＴ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。金属板５５の厚みＴ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。金属板５５の厚みＴ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、８μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１３μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１３μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。

【0098】

金属板５５の厚みＴ１が５０μｍ以下であることによって、蒸着材料７のうち、貫通孔５６を通過する前に貫通孔５６の壁面に引っ掛かる蒸着材料７の比率を小さくできる。これにより、蒸着材料７の利用効率を向上できる。また、金属板５５の厚みＴ１が８μｍ以上であることによって、マスク５０の強度を確保し、マスク５０に損傷や変形が生じることを抑制できる。

【0099】

枠４１の厚みＴ２は、例えば、５ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよく、１５ｍｍ以上であってもよく、２０ｍｍ以上であってもよい。枠４１の厚みＴ２は、例えば、２５ｍｍ以下であってもよく、３０ｍｍ以下であってもよく、３５ｍｍ以下であってもよく、４０ｍｍ以下であってもよい。枠４１の厚みＴ２の範囲は、５ｍｍ、１０ｍｍ、１５ｍｍ及び２０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２５ｍｍ、３０ｍｍ、３５ｍｍ及び４０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。枠４１の厚みＴ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。枠４１の厚みＴ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。枠４１の厚みＴ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上３５ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上３５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上３５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上３５ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上３５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよく、３０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、３０ｍｍ以上３５ｍｍ以下であってもよく、３５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよい。

【0100】

枠４１の厚みＴ２が５ｍｍ以上であることによって、枠４１に撓みなどの変形が生じることを抑制できる。また、枠４１の厚みＴ２が４０ｍｍ以下であることによって、枠４１の重量が過剰に大きくなることを抑制できる。これにより、マスク支持体４０のハンドリング性を向上できる。例えば、小型のリフターを用いてマスク支持体４０を搬送できる。

【0101】

桟４２の厚みＴ３は、例えば、５０μｍ以上であってもよく、１００μｍ以上であってもよく、２００μｍ以上であってもよく、３００μｍ以上であってもよい。桟４２の厚みＴ３は、例えば、５００μｍ以下であってもよく、７００μｍ以下であってもよく、１ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以下であってもよい。桟４２の厚みＴ３の範囲は、５０μｍ、１００μｍ、２００μｍ及び３００μｍからなる第１グループ、及び／又は、５００μｍ、７００μｍ、１ｍｍ及び１０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。桟４２の厚みＴ３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。桟４２の厚みＴ３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。桟４２の厚みＴ３の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、５０μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、５０μｍ以上１ｍｍ以下であってもよく、５０μｍ以上７００μｍ以下であってもよく、５０μｍ以上５００μｍ以下であってもよく、５０μｍ以上３００μｍ以下であってもよく、５０μｍ以上２００μｍ以下であってもよく、５０μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、１００μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、１００μｍ以上１ｍｍ以下であってもよく、１００μｍ以上７００μｍ以下であってもよく、１００μｍ以上５００μｍ以下であってもよく、１００μｍ以上３００μｍ以下であってもよく、１００μｍ以上２００μｍ以下であってもよく、２００μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、２００μｍ以上１ｍｍ以下であってもよく、２００μｍ以上７００μｍ以下であってもよく、２００μｍ以上５００μｍ以下であってもよく、２００μｍ以上３００μｍ以下であってもよく、３００μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、３００μｍ以上１ｍｍ以下であってもよく、３００μｍ以上７００μｍ以下であってもよく、３００μｍ以上５００μｍ以下であってもよく、５００μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、５００μｍ以上１ｍｍ以下であってもよく、５００μｍ以上７００μｍ以下であってもよく、７００μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、７００μｍ以上１ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。

【0102】

桟４２の厚みＴ３は、枠４１の厚みＴ２よりも小さくてもよい。桟４２が厚いほど、蒸着工程において桟４２に付着する蒸着材料の量が増加する。桟４２の厚みＴ３を枠４１の厚みＴ２よりも小さくすることにより、蒸着が桟４２によって妨げられることを抑制できる。従って、蒸着の効率の観点からは、桟４２の厚みＴ３が小さいことが好ましい。

【0103】

一方、桟４２の厚みＴ３が大きいほど、桟４２の剛性が高くなる。本実施の形態においては、枠４１と桟４２とが一体的に構成されている。このため、桟４２の剛性の増加は、枠４１の変形の抑制を導く。しかしながら、桟４２の厚みＴ３が大きいほど、桟４２の重量が大きくなる。桟４２の重量の増加は、内側に向かう枠４１の変形を導く。桟４２に働く重力によって枠４１が引っ張られるからである。内側とは、枠４１から開口４３の中心に向かう方向を意味する。枠４１の変形を抑制するために桟４２の厚みＴ３を大きくする場合、桟４２の剛性だけでなく、桟４２の重量の増加に起因する枠４１の変形を考慮することが好ましい。

【0104】

後述する実施例において示すように、枠４１の変形量は、桟４２の厚みＴ３との関係で決定される極小値を有していてもよい。枠４１の変形量が極小値であるとき、桟４２の剛性に基づく枠４１の変形の抑制量と、桟４２の自重に基づく枠４１の変形量とが釣り合う。枠４１の変形量が極小値になるときの厚みＴ３を、転換厚みとも称する。厚みＴ３が転換厚み以下である場合、桟４２の厚みＴ３が大きいほど、枠４１の変形量が小さくなる。一方、厚みＴ３が転換厚みよりも大きい場合、桟４２の厚みＴ３が大きいほど、枠４１の変形量が大きくなる。

【0105】

枠４１の変形量が極小値になるときの、厚みＴ２に対する厚みＴ３の比率を、転換比率とも称する。転換比率は、０＜Ｔ３／Ｔ２＜１の範囲に存在してもよい。

【0106】

Ｔ３／Ｔ２は、例えば、０．１以上でもよく、０．２以上でもよく、０．３以上でもよく、０．４以上でもよい。Ｔ３／Ｔ２は、例えば、０．５以下でもよく、０．６以下でもよく、０．７以下でもよく、０．８５以下でもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、０．１、０．２、０．３及び０．４からなる第１グループ、及び／又は、０．５、０．６、０．７及び０．８５からなる第２グループによって定められてもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、０．１以上０．８５以下でもよく、０．１以上０．７以下でもよく、０．１以上０．６以下でもよく、０．１以上０．５以下でもよく、０．１以上０．４以下でもよく、０．１以上０．３以下でもよく、０．１以上０．２以下でもよく、０．２以上０．８５以下でもよく、０．２以上０．７以下でもよく、０．２以上０．６以下でもよく、０．２以上０．５以下でもよく、０．２以上０．４以下でもよく、０．２以上０．３以下でもよく、０．３以上０．８５以下でもよく、０．３以上０．７以下でもよく、０．３以上０．６以下でもよく、０．３以上０．５以下でもよく、０．３以上０．４以下でもよく、０．４以上０．８５以下でもよく、０．４以上０．７以下でもよく、０．４以上０．６以下でもよく、０．４以上０．５以下でもよく、０．５以上０．８５以下でもよく、０．５以上０．７以下でもよく、０．５以上０．６以下でもよく、０．６以上０．８５以下でもよく、０．６以上０．７以下でもよく、０．７以上０．８５以下でもよい。

【0107】

金属板５５の厚みＴ１、枠４１の厚みＴ２及び桟４２の厚みＴ３を測定する方法としては、接触式の測定方法を採用する。接触式の測定方法としては、ボールブッシュガイド式のプランジャーを備える、ハイデンハイン社製の長さゲージHEIDENHAIM-METROの「MT1271」を用いる。

【0108】

上述のマスク装置３０を製造する方法について説明する。まず、マスク支持体４０を製造する方法の一例について説明する。

【0109】

まず、図１２に示すように、第１面４６ａ及び第１面４６ａの反対側に位置する第２面４６ｂを含む板４６を準備してもよい。板４６の材料としては、マスク５０の金属板５５と同様の材料を利用できる。例えば、板４６の材料として、ニッケルを含む鉄合金を利用できる。板４６の厚みＴ０は、枠４１の厚みＴ２以上である。板４６の厚みＴ０は、枠４１の厚みＴ２と同一であってもよい。図１２において、符号４２ｄが付された点は、上述の枠４１と桟４２とが接続される端４２ｄが現れる位置を表している。

【0110】

続いて、板４６のうち端４２ｄとなる位置よりも内側に位置する中央領域４６ｄを、切削工具又は加工機を用いて第２面４６ｂ側から加工する加工工程を実施してもよい。加工工程は、図１３に示すように、中央領域４６ｄの厚みＴ４が上述の桟４２の厚みＴ３になるまで板４６を加工する第１加工工程を含んでもよい。図１４は、図１３に示す板４６を第２面４６ｂ側から見た場合を示す平面図である。第１加工工程を実施するための切削工具としては、ドリル、バイト、フライス、エンドミルなどを利用できる。加工機が実施する加工方法としては、レーザー加工、水プラズマ加工、ワイヤーカット加工などを採用できる。

【0111】

加工工程は、切削工具又は加工機を用いて中央領域４６ｄを部分的に第２面４６ｂ側から加工することによって、第２面４６ｂから第１面４６ａに至る開口を中央領域４６ｄに部分的に形成する第２加工工程を含んでもよい。この場合、中央領域４６ｄのうち開口が形成されずに残った領域が、上述の桟４２を構成する。第２加工工程を実施するための切削工具としては、ドリル、バイト、フライス、エンドミルなどを利用できる。加工機が実施する加工方法としては、レーザー加工、水プラズマ加工、ワイヤーカット加工などを採用できる。

【0112】

このようにして、図７に示すように、枠４１及び桟４２を備えるマスク支持体４０を製造できる。第２加工工程は、第１加工工程の後に実施されてもよい。若しくは、第２加工工程は、第１加工工程の前に実施されてもよい。

【0113】

続いて、マスク５０を枠４１の第２辺４１２に固定する固定工程を実施してもよい。例えば、第１方向Ｄ１においてマスク５０に張力Ｔを加えた状態で、マスク５０の端部５１を第２辺４１２の枠第１面４１ａに固定してもよい。マスク５０を枠４１に固定する方法としては、例えば溶接法を用いてもよい。溶接法においては、レーザー光を利用してもよい。レーザー光は、端部５１に照射してもよい。レーザー光を照射された端部５１が溶融することによって、端部５１を第２辺４１２の枠第１面４１ａに溶接してもよい。このようにして、図４に示すように、マスク支持体４０及びマスク５０を備えるマスク装置３０を製造できる。

【0114】

マスク装置３０を備える蒸着装置１０を利用することによって、有機デバイス１００を製造する方法について説明する。

【0115】

まず、第１電極層１２０及び絶縁層１６０などの層が形成されている基板１１０を準備する。また、基板１１０を蒸着装置１０の内部に搬入する。基板１１０を蒸着装置１０の内部に搬入する前に、基板１１０に洗浄などの前処理が施されてもよい。

【0116】

続いて、マスク装置３０のマスク５０の貫通孔５６を介して有機材料を基板１１０に蒸着させる蒸着工程を実施する。これにより、基板１１０上に蒸着層１３０を形成できる。その後、第２電極層１４０などのその他の層を形成する工程などを実施することによって、有機デバイス１００を製造できる。

【0117】

本開示の形態においては、上述のとおり、１つの板４６を機械的に加工することによってマスク支持体４０を作成している。このため、マスク支持体４０の枠４１と桟４２とが一体的に構成される。従って、枠４１と桟４２とが別個の部材である場合に比べて、桟４２が延びる方向におけるマスク支持体４０の剛性を向上できる。例えば、桟４２が、第２方向Ｄ２に延びる第１桟４２１を含む場合、第２方向Ｄ２におけるマスク支持体４０の剛性を向上できる。このため、例えば、マスク支持体４０がマスク５０から受ける力によって、マスク支持体４０の枠４１が第２方向Ｄ２において変形することを抑制できる。これにより、枠４１に固定されているマスク５０の貫通孔５６の位置が設計位置からずれてしまうことを抑制できる。設計位置とは、貫通孔５６の理想的な位置のことである。

【0118】

図１５は、基板１１０と組み合わされている状態のマスク装置３０のマスク５０の一部を示す断面図である。本開示の形態によれば、マスク５０の貫通孔５６の位置が設計位置からずれてしまうことを抑制できる。このため、貫通孔５６を介して基板１１０に蒸着される蒸着材料によって構成される蒸着層１３０の位置精度を高くできる。

【0119】

蒸着層１３０の位置精度が高いことの利点の例について説明する。図１５に示すように有機デバイス１００が絶縁層１６０を備える場合、基板１１０の面方向における絶縁層１６０の寸法は、蒸着工程における蒸着層１３０の位置精度に基づいて設定されてもよい。例えば、蒸着層１３０の位置精度が高いほど、絶縁層１６０の寸法が小さく設定されてもよい。有機デバイス１００の画素密度が一定である場合、絶縁層１６０の寸法が小さいほど、第１電極層１２０や蒸着層１３０の面積を大きくできる。これにより、有機デバイス１００の駆動効率を高くでき、有機デバイス１００の寿命を長くできる。

【0120】

枠４１の枠第１面４１ａと桟４２の桟第１面４２ａとが同一平面上に位置している場合、桟４２によって下方から支持されるマスク５０の面の位置を、枠４１の枠第１面４１ａに対して制御し易くなる、という利点も考えられる。これにより、図１５に示すように、蒸着工程において、マスク５０の第１面５５ａと基板１１０の第１面１１１との間の距離Ｚ１を制御し易くなる。このため、例えば、蒸着工程におけるシャドーを抑制又は調整し易くなる。

【0121】

次に、マスク装置３０のその他の例について、図１６及び図１７を参照することによって、説明する。ここでは、マスク装置３０が、枠４１とは別個の部材によって構成されている第１桟部材４７を備える場合について説明する。

【0122】

図１６は、マスク装置３０の一例を示す平面図である。図１７は、図１６のマスク装置３０のXVII－XVII線に沿った断面図である。マスク装置３０の第１桟部材４７は、溶接によって枠４１の第１辺４１１の枠第１面４１ａ側に固定されている。このため、枠４１と一体的に構成されている上述の桟４２に比べて、第１桟部材４７による第２方向Ｄ２におけるマスク支持体４０の剛性に対する貢献は小さい。

【0123】

また、第１桟部材４７が枠４１とは別個の部材であるので、枠４１の枠第１面４１ａの法線方向において、枠第１面４１ａと第１桟部材４７の第１面４７ａとの間にずれが生じ易い。このため、枠４１と一体的に構成されている上述の桟４２が用いられる場合に比べて、マスク５０の第１面５５ａと基板１１０の第１面１１１との間の距離Ｚ１にばらつきが生じ易い。

【0124】

これに対して、図１～図１５に示す上述の実施の形態においては、枠４１と桟４２とが一体的に構成されているので、桟４２が延びる方向におけるマスク支持体４０の剛性を効果的に向上できる。また、枠４１の枠第１面４１ａと桟４２の桟第１面４２ａとが同一平面上に位置しているので、マスク５０の面の位置を、枠４１の枠第１面４１ａに対して制御し易くなる。

【0125】

上述した一実施形態を様々に変更できる。以下、必要に応じて図面を参照しながら、その他の実施形態について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した一実施形態と同様に構成され得る部分について、上述の一実施形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いる。重複する説明は省略する。また、上述した一実施形態において得られる作用効果がその他の実施形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略する場合もある。

【0126】

図１８は、マスク装置３０の一例をマスク５０の第１面５５ａ側から見た場合を示す平面図である。図１９は、図１８のマスク装置３０からマスク５０を取り除いた状態を示す図である。桟４２は、枠４１の第２辺４１２の内側面４１ｅに接続されている第２桟４２２を含んでもよい。第２桟４２２は、第１方向Ｄ１に延びてもよい。例えば、第２桟４２２は、平面視において、第１方向Ｄ１に延びる一対の桟側面４２ｃを含み、桟側面４２ｃが枠４１の第２辺４１２の内側面４１ｅに接続されていてもよい。第２方向Ｄ２に沿って複数の第２桟４２２が並んでもよい。第２桟４２２の長さは、第１方向Ｄ１における枠４１の開口４３の寸法Ｌ２１と同一であってもよい。

【0127】

図２０は、図１８のマスク装置３０のXX－XX線に沿った断面図である。図２１は、図１８のマスク装置３０のXXI－XXI線に沿った断面図である。第２桟４２２は、平面視において、第２方向Ｄ２において隣り合う２つのマスク５０の隙間に重なってもよい。第２桟４２２を設けることによって、２つのマスク５０の間の隙間を通った蒸着材料が基板１１０に付着することを抑制できる。

【0128】

第２桟４２２の桟第１面４２ａは、マスク５０の第２面５５ｂに接していてもよい。第２桟４２２も、上述の第１辺４１１と同様に、マスク５０が自重によって撓むことを抑制できる。

【0129】

枠４１の第２辺４１２と桟４２の第２桟４２２の間の境界の構造について、図２２Ａ及び図２３Ａを参照することによって、説明する。図２２Ａは、図１９において符号XXIIが付された点線で囲まれた範囲におけるマスク支持体４０の一例を拡大して示す平面図である。図２３Ａは、図２２Ａのマスク支持体４０のXXIII－XXIII線に沿った断面図である。

【0130】

図２２Ａ及び図２３Ａに示すように、枠４１と桟４２の間の境界において、枠４１の枠第１面４１ａと桟４２の桟第１面４２ａとが連続してもよい。例えば、第１辺４１１の場合と同様に、枠４１の第２辺４１２と桟４２の第２桟４２２の間の境界の周囲において枠第１面４１ａと桟第１面４２ａとが同一平面上に位置してもよい。

【0131】

図２２Ａに示すように、マスク支持体４０は、平面視において、枠４１の第２辺４１２の内側面４１ｅと桟４２の第２桟４２２の桟側面４２ｃとが接続される第１接続部４２ｆを含む。図２２Ｂは、第１接続部４２ｆを拡大して示す平面図である。例えば、切削工具を用いた加工を行う場合、上述した一実施形態と同様に、第１接続部４２ｆが、移行部４２ｆａを含んでいてもよい。移行部４２ｆａは、第１曲率半径Ｓ２を有する湾曲部を備えていてもよい。

【0132】

図２３Ａに示すように、縦断面図において、マスク支持体４０は、枠４１の第２辺４１２の内側面４１ｅと桟４２の第２桟４２２の桟第２面４２ｂとが接続される第２接続部４２ｇを含む。図２３Ｂは、第２接続部４２ｇを拡大して示す断面図である。例えば、切削工具を用いた加工を行う場合、上述した一実施形態と同様に、第２接続部４２ｇが、移行部４２ｇａを含んでいてもよい。移行部４２ｇａは、第２曲率半径Ｓ３を有する湾曲部を備えていてもよい。

【0133】

開口４３について説明する。桟４２が開口４３を横切るように延びているので、平面視において、開口４３が２以上の領域に区画される。例えば図１９に示すように、開口４３は、２つ以上の第２開口４３Ｂを含む。２つ以上の第２開口４３Ｂは、第２方向Ｄ２に並んでいる。

【0134】

図１９に示すように、第２開口４３Ｂの輪郭は、第１方向Ｄ１に延びる一対の第１縁４３１と、第２方向Ｄ２に延びる一対の第２縁４３２と、を含んでいてもよい。第１縁４３１は、第１辺４１１の内側面４１ｅ又は第２桟４２２の桟側面４２ｃによって構成されてもよい。一対の第２縁４３２の少なくとも１つは、第２辺４１２の内側面４１ｅによって構成されてもよい。一対の第２縁４３２のいずれもが、第２辺４１２の内側面４１ｅによって構成されてもよい。

【0135】

第２開口４３Ｂは、平面視においてマスク５０の有効領域５３に重なってもよい。マスク装置３０の状態において、平面視において、第１方向Ｄ１に並ぶ２つ以上の有効領域５３が１つの第２開口４３Ｂに重なっていてもよい。１つのマスク５０の２以上の有効領域５３が、１つの第２開口４３Ｂに重なっていてもよい。

【0136】

図１８～図２３Ａに示すマスク支持体４０も、図１～図１５に示す上述の形態のマスク支持体４０と同様に、１つの板を機械的に加工することによって作製され得る。このため、マスク支持体４０の枠４１と桟４２とが一体的に構成される。従って、枠４１と桟４２とが別個の部材である場合に比べて、桟４２が延びる方向におけるマスク支持体４０の剛性を向上できる。例えば、桟４２が、第１方向Ｄ１に延びる第２桟４２２を含む場合、第１方向Ｄ１におけるマスク支持体４０の剛性を向上できる。このため、例えば、マスク支持体４０がマスク５０から受ける力によって、マスク支持体４０の枠４１が第１方向Ｄ１において変形することを抑制できる。これにより、枠４１に固定されているマスク５０の貫通孔５６の位置が設計位置からずれてしまうことを抑制できる。

【0137】

また、枠４１の第２辺４１２の枠第１面４１ａと桟４２の第２桟４２２の桟第１面４２ａとが同一平面上に位置している場合、桟４２によって下方から支持されるマスク５０の面の位置を、枠４１の枠第１面４１ａに対して制御し易くなる。これにより、マスク５０の第１面５５ａと基板１１０の第１面１１１との間の距離Ｚ１を制御し易くなる。このため、例えば、蒸着工程におけるシャドーを抑制又は調整し易くなる。

【0138】

上述した一実施形態と同様に、桟４２の厚みＴ３は、枠４１の厚みＴ２よりも小さくてもよい。Ｔ３／Ｔ２は、例えば、０．１以上でもよく、０．２以上でもよく、０．３以上でもよく、０．４以上でもよい。Ｔ３／Ｔ２は、例えば、０．５以下でもよく、０．６以下でもよく、０．７以下でもよく、０．８５以下でもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、０．１、０．２、０．３及び０．４からなる第１グループ、及び／又は、０．５、０．６、０．７及び０．８５からなる第２グループによって定められてもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、０．１以上０．８５以下でもよく、０．１以上０．７以下でもよく、０．１以上０．６以下でもよく、０．１以上０．５以下でもよく、０．１以上０．４以下でもよく、０．１以上０．３以下でもよく、０．１以上０．２以下でもよく、０．２以上０．８５以下でもよく、０．２以上０．７以下でもよく、０．２以上０．６以下でもよく、０．２以上０．５以下でもよく、０．２以上０．４以下でもよく、０．２以上０．３以下でもよく、０．３以上０．８５以下でもよく、０．３以上０．７以下でもよく、０．３以上０．６以下でもよく、０．３以上０．５以下でもよく、０．３以上０．４以下でもよく、０．４以上０．８５以下でもよく、０．４以上０．７以下でもよく、０．４以上０．６以下でもよく、０．４以上０．５以下でもよく、０．５以上０．８５以下でもよく、０．５以上０．７以下でもよく、０．５以上０．６以下でもよく、０．６以上０．８５以下でもよく、０．６以上０．７以下でもよく、０．７以上０．８５以下でもよい。

【0139】

マスク装置３０のその他の例について、図２４～図２７を参照することによって、説明する。ここでは、マスク装置３０が、枠４１とは別個の部材によって構成されている第２桟部材４８を備える場合について説明する。

【0140】

図２４は、マスク装置３０の一例を示す平面図である。図２５は、図２４のマスク装置３０からマスク５０を取り除いた状態を示す平面図である。図２６は、図２４のマスク装置３０のXXVI－XXVI線に沿った断面図である。マスク装置３０の第２桟部材４８は、溶接によって枠４１の第２辺４１２の枠第１面４１ａ側に固定されている。このため、枠４１と一体的に構成されている上述の桟４２に比べて、第２桟部材４８による第１方向Ｄ１におけるマスク支持体４０の剛性に対する貢献は小さい。

【0141】

また、第２桟部材４８が溶接によって枠４１の第２辺４１２に固定されている場合、第２桟部材４８の溶接領域がマスク５０に重なる場合がある。図２７は、第２桟部材４８の溶接領域４８ｘ及びその周囲を拡大して示す断面図である。図２７に示すように第２桟部材４８の溶接領域４８ｘが枠４１の枠第１面４１ａよりも上方へ隆起している場合、マスク５０の一部が溶接領域４８ｘによって上方へ押圧される。この場合、図２７に示すように、マスク５０の第２面５５ｂと第２桟部材４８の第１面４８ａとの間に隙間が生じ易くなる可能性がある。このため、枠４１と一体的に構成されている上述の桟４２が用いられる場合に比べて、マスク５０の第１面５５ａと基板１１０の第１面１１１との間の距離Ｚ１にばらつきが生じ易い。

【0142】

これに対して、図１８～図２３Ｂに示す上述の実施の形態においては、枠４１と桟４２とが一体的に構成されているので、桟４２が延びる方向におけるマスク支持体４０の剛性を効果的に向上できる。また、枠４１の枠第１面４１ａと桟４２の桟第１面４２ａとが同一平面上に位置しているので、マスク５０の面の位置を、枠４１の枠第１面４１ａに対して制御し易くなる。

【0143】

マスク装置３０のマスク支持体４０が、上述の第１桟４２１及び第２桟４２２の両方を備える例について、図２８～図３４を参照することによって、説明する。

【0144】

図２８は、マスク装置３０の一例を示す平面図である。図２９は、図２８のマスク装置３０からマスク５０を取り除いた状態を示す平面図である。桟４２は、枠４１の第１辺４１１に接続されている第１桟４２１と、枠４１の第２辺４１２に接続されている第２桟４２２と、を含んでもよい。第１桟４２１は、一方の第１辺４１１から他方の第１辺４１１まで第２方向Ｄ２に延びてもよい。第２桟４２２は、一方の第２辺４１２から他方の第２辺４１２まで第１方向Ｄ１に延びてもよい。

【0145】

図３０は、図２８のマスク装置３０のXXX－XXX線に沿った断面図である。図３１は、図２８のマスク装置３０のXXXI－XXXI線に沿った断面図である。第１桟４２１及び第２桟４２２は、マスク５０の第２面５５ｂに接していてもよい。

【0146】

枠４１と桟４２の間の境界において、枠４１の枠第１面４１ａと桟４２の桟第１面４２ａとが連続してもよい。枠４１の第１辺４１１と桟４２の第１桟４２１との間の境界の構造は、図１０Ａ及び図１１Ａに示す上述の実施の形態の場合と同様であるので、説明を省略する。枠４１の第２辺４１２と桟４２の第２桟４２２との間の境界の構造は、図２２Ａ及び図２３Ａに示す上述の実施の形態の場合と同様であるので、説明を省略する。

【0147】

桟４２の第１桟４２１と第２桟４２２との間の接続部の構造について、図３２Ａを参照することによって、説明する。図３２Ａは、図２９において符号XXXIIが付された点線で囲まれた範囲におけるマスク支持体４０の一例を拡大して示す平面図である。

【0148】

第１桟４２１の桟第１面４２ａと第２桟４２２の桟第１面４２ａとは、同一平面上に位置してもよい。例えば、図３２Ａに示すように、第１桟４２１と第２桟４２２との交点４２ｉを中心とした半径Ｓ４の範囲内の領域において、桟第１面４２ａの法線方向における位置が、平均値±第２閾値の範囲内である。第２閾値は、例えば０．５μｍである。半径Ｓ４は、例えば１０ｍｍである。

【0149】

図３２Ａに示すように、マスク支持体４０は、平面視において、枠４１の第１桟４２１の桟側面４２ｃと第２桟４２２の桟側面４２ｃとが接続される第３接続部４２ｈを含む。図３２Ｂは、第３接続部４２ｈを拡大して示す平面図である。例えば、切削工具を用いた加工を行う場合、第３接続部４２ｈが、移行部４２ｈａを含んでいてもよい。移行部４２ｈａは、第１桟４２１の桟側面４２ｃの延長線Ｈ５及び第２桟４２２の桟側面４２ｃの延長線Ｈ６によって区画される桟４２の部分である。第３接続部４２ｈが移行部４２ｈａを含む場合の桟４２の剛性は、第３接続部４２ｈが移行部４２ｈａを含まない場合の桟４２の剛性よりも大きい。すなわち、移行部４２ｈａは、桟４２の剛性を高めることができる。

【0150】

移行部４２ｈａは、第３曲率半径Ｓ５を有する湾曲部を備えていてもよい。第３曲率半径Ｓ５は、例えば、１０μｍ以上であってもよく、１００μｍ以上であってもよく、１ｍｍ以上であってもよく、２ｍｍ以上であってもよい。第３曲率半径Ｓ５は、例えば、３ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以下であってもよい。第３曲率半径Ｓ５の範囲は、１０μｍ、１００μｍ、１ｍｍ及び２ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、３ｍｍ、５ｍｍ、１０ｍｍ及び２０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。第３曲率半径Ｓ５の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。第３曲率半径Ｓ５の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。第３曲率半径Ｓ５の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、１０μｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５ｍｍ以下であってもよく、１０μｍ以上３ｍｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２ｍｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１ｍｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、１００μｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、１００μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、１００μｍ以上５ｍｍ以下であってもよく、１００μｍ以上３ｍｍ以下であってもよく、１００μｍ以上２ｍｍ以下であってもよく、１００μｍ以上１ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以上５ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以上３ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以上２ｍｍ以下であってもよく、２ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、２ｍｍ以上５ｍｍ以下であってもよく、２ｍｍ以上３ｍｍ以下であってもよく、３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、３ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、３ｍｍ以上５ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよい。第３曲率半径Ｓ３を測定する測定器としては、新東Ｓプレシジョン製ＡＭＩＣ－１７１０を利用できる。

【0151】

開口４３について説明する。本実施の形態においても、平面視において、開口４３が桟４２によって２以上の領域に区画される。例えば図２９に示すように、開口４３は、複数の第３開口４３Ｃを含む。複数の第３開口４３Ｃは、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に並んでいる。

【0152】

図２９に示すように、第３開口４３Ｃの輪郭は、第１方向Ｄ１に延びる一対の第１縁４３１と、第２方向Ｄ２に延びる一対の第２縁４３２と、を含んでいてもよい。一対の第１縁４３１のいずれもが、第２桟４２２の桟側面４２ｃによって構成されてもよい。一対の第２縁４３２のいずれもが、第１桟４２１の桟側面４２ｃによって構成されてもよい。

【0153】

第３開口４３Ｃは、平面視においてマスク５０の有効領域５３に重なってもよい。マスク装置３０の状態において、平面視において、１つの有効領域５３が１つの第３開口４３Ｃに重なっていてもよい。平面視において、２つ以上の有効領域５３が１つの第３開口４３Ｃに重なっていてもよい。例えば、第１方向Ｄ１に並ぶ２つ以上の有効領域５３が１つの第３開口４３Ｃに重なっていてもよい。例えば、第２方向Ｄ２に並ぶ２つ以上の有効領域５３が１つの第３開口４３Ｃに重なっていてもよい。

【0154】

図２８～図３２Ａに示すマスク支持体４０も、図１～図１５及び図１８～図２３Ａに示す上述の形態のマスク支持体４０と同様に、１つの板を機械的に加工することによって作製され得る。このため、マスク支持体４０の枠４１と桟４２とが一体的に構成される。従って、枠４１と桟４２とが別個の部材である場合に比べて、桟４２が延びる方向におけるマスク支持体４０の剛性を向上できる。例えば、桟４２が、第１方向Ｄ１に延びる第２桟４２２及び第２方向Ｄ２に延びる第１桟４２１を含む場合、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２におけるマスク支持体４０の剛性を向上できる。このため、例えば、マスク支持体４０がマスク５０から受ける力によって、マスク支持体４０の枠４１が第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２において変形することを抑制できる。これにより、枠４１に固定されているマスク５０の貫通孔５６の位置が設計位置からずれてしまうことを抑制できる。

【0155】

また、１つの板を機械的に加工することによってマスク支持体４０を作製するので、桟４２の第１桟４２１の桟第１面４２ａと第２桟４２２の桟第１面４２ａとが連続できる。例えば、第１桟４２１の桟第１面４２ａと第２桟４２２の桟第１面４２ａとが同一平面上に位置できる。このため、桟４２によって下方から支持されるマスク５０の面の位置を、枠４１の枠第１面４１ａに対して制御し易くなる。これにより、マスク５０の第１面５５ａと基板１１０の第１面１１１との間の距離Ｚ１を制御し易くなる。このため、例えば、蒸着工程におけるシャドーを抑制又は調整し易くなる。

【0156】

上述した一実施形態と同様に、桟４２の厚みＴ３は、枠４１の厚みＴ２よりも小さくてもよい。Ｔ３／Ｔ２は、例えば、０．１以上でもよく、０．２以上でもよく、０．３以上でもよく、０．４以上でもよい。Ｔ３／Ｔ２は、例えば、０．５以下でもよく、０．６以下でもよく、０．７以下でもよく、０．８５以下でもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、０．１、０．２、０．３及び０．４からなる第１グループ、及び／又は、０．５、０．６、０．７及び０．８５からなる第２グループによって定められてもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。Ｔ３／Ｔ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、０．１以上０．８５以下でもよく、０．１以上０．７以下でもよく、０．１以上０．６以下でもよく、０．１以上０．５以下でもよく、０．１以上０．４以下でもよく、０．１以上０．３以下でもよく、０．１以上０．２以下でもよく、０．２以上０．８５以下でもよく、０．２以上０．７以下でもよく、０．２以上０．６以下でもよく、０．２以上０．５以下でもよく、０．２以上０．４以下でもよく、０．２以上０．３以下でもよく、０．３以上０．８５以下でもよく、０．３以上０．７以下でもよく、０．３以上０．６以下でもよく、０．３以上０．５以下でもよく、０．３以上０．４以下でもよく、０．４以上０．８５以下でもよく、０．４以上０．７以下でもよく、０．４以上０．６以下でもよく、０．４以上０．５以下でもよく、０．５以上０．８５以下でもよく、０．５以上０．７以下でもよく、０．５以上０．６以下でもよく、０．６以上０．８５以下でもよく、０．６以上０．７以下でもよく、０．７以上０．８５以下でもよい。

【0157】

マスク装置３０のその他の例について、図３３～図３６を参照することによって、説明する。ここでは、マスク装置３０が、枠４１とは別個の部材によって構成されている第１桟部材４７及び第２桟部材４８を備える場合について説明する。

【0158】

図３３及び図３４はいずれも、枠４１とは別個の部材によって構成されている第１桟部材４７及び第２桟部材４８を備えるマスク支持体４０を示す平面図である。図３３に示す例においては、第１桟部材４７が枠４１の枠第１面４１ａと第２桟部材４８との間に位置している。図３４に示す例においては、第２桟部材４８が枠４１の枠第１面４１ａと第１桟部材４７との間に位置している。

【0159】

図３５は、図３３に示すマスク支持体４０を備えるマスク装置３０を図３３のXXXV－XXXV線に沿って切断した場合を示す断面図である。図３３及び図３５に示す形態においては、第１桟部材４７とマスク５０の第２面５５ｂとの間に第２桟部材４８が位置している。この場合、マスク５０のうち、第２方向Ｄ２における端は第２桟部材４８に接しているので下方から支持されるが、第２方向Ｄ２における中央部には何も接していない。このため、マスク５０の幅方向である第２方向Ｄ２に沿ってマスク５０に撓みが生じることが考えられる。

【0160】

図３６は、図３４に示すマスク支持体４０を備えるマスク装置３０を図３４のXXXVI－XXXVI線に沿って切断した場合を示す断面図である。図３４及び図３６に示す形態においては、第２桟部材４８とマスク５０の第２面５５ｂとの間に第１桟部材４７が位置している。このため、第２方向Ｄ２において隣り合う２つのマスク５０の間の隙間と、第２桟部材４８との間には、マスク５０の厚み方向において、第１桟部材４７の厚みに相当する隙間が生じる。この結果、蒸着工程において、２つのマスク５０の間の隙間を蒸着材料が通過し易くなる。

【0161】

これに対して、図２８～図３２Ｂに示す上述の実施の形態においては、枠４１と桟４２とが一体的に構成されている。このため、桟４２が延びる方向におけるマスク支持体４０の剛性を効果的に向上できる。また、桟４２の第１桟４２１と第２桟４２２とが一体的に構成されている。このため、第１桟４２１の桟第１面４２ａと第２桟４２２の桟第１面４２ａとが同一平面上に位置できる。これにより、桟４２の第１桟４２１及び第２桟４２２とマスク５０の第２面５５ｂとの間に隙間が生じることを抑制できる。このため、桟４２によってマスク５０を下方から効果的に支持できる。また、マスク５０の第２面５５ｂと桟４２との間の隙間に蒸着材料が入り込むことを抑制できる。

【0162】

図３７は、マスク装置３０の一例を第２方向Ｄ２に沿って切断した場合を示す断面図である。図３７に示すように、桟４２の第２桟４２２は、桟４２の厚み方向において桟第２面４２ｂに近づくにつれて、桟４２の幅Ｗ３が減少する部分を含んでもよい。また、桟第１面４２ａにおける桟４２の幅Ｗ３１は、桟第２面４２ｂにおける桟４２の幅Ｗ３２よりも大きくてもよい。

【0163】

桟４２の厚み方向において桟第２面４２ｂに近づくにつれて桟４２の幅Ｗ３が減少することによって、蒸着工程の時に蒸着材料が桟４２に付着することを抑制できる。また、桟第１面４２ａにおける桟４２の幅Ｗ３１を大きくすることによって、桟４２の剛性を向上できる。このため、図３７に示す形態によれば、例えば、桟４２の剛性を維持しながら、蒸着工程の時に蒸着材料が桟４２に付着することを抑制できる。

【0164】

図３８は、マスク装置３０の一例を第１方向Ｄ１に沿って切断した場合を示す断面図である。図３８に示すように、桟４２の第１桟４２１は、桟４２の厚み方向において桟第２面４２ｂに近づくにつれて、桟４２の幅Ｗ３が減少する部分を含んでもよい。桟第１面４２ａにおける桟４２の幅Ｗ３１は、桟第２面４２ｂにおける桟４２の幅Ｗ３２よりも大きくてもよい。

【0165】

図３８に示す形態によれば、図３７に示す形態の場合と同様に、桟４２の剛性を維持しながら、蒸着工程の時に蒸着材料が桟４２に付着することを抑制できる。

【0166】

図３９に示すように、枠４１の第１辺４１１は、枠４１の厚み方向において枠第１面４１ａと枠第２面４１ｂとの間に位置し、平面視において枠第１面４１ａよりも外側に位置する枠第３面４１ｈを含んでもよい。また、第１辺４１１の内側面４１ｅは、枠４１の厚み方向において枠第２面４１ｂに近づくにつれて外側に変位する傾斜面４１ｇを含んでもよい。「外側」とは、平面視における枠４１の開口４３の中心点から離れる側である。

【0167】

第１辺４１１の内側面４１ｅが傾斜面４１ｇを含むことによって、蒸着工程の時に蒸着材料が第１辺４１１の内側面４１ｅに付着することを抑制できる。

【0168】

図４０に示すように、枠４１の第２辺４１２は、枠４１の厚み方向において枠第１面４１ａと枠第２面４１ｂとの間に位置し、平面視において枠第１面４１ａよりも外側に位置する枠第３面４１ｈを含んでもよい。第２辺４１２の内側面４１ｅは、枠４１の厚み方向において枠第２面４１ｂに近づくにつれて外側に変位する傾斜面４１ｇを含んでもよい。

【0169】

第２辺４１２の内側面４１ｅが傾斜面４１ｇを含むことによって、図３９に示す第１辺４１１の場合と同様に、蒸着工程の時に蒸着材料が第１辺４１１の内側面４１ｅに付着することを抑制できる。

【実施例】

【0170】

次に、本開示の実施形態を実施例により更に具体的に説明するが、本開示の実施形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。

【0171】

枠４１に生じる変形を、シミュレーションにより検証した。

【0172】

図４１に示すように、枠４１及び桟４２を備えるマスク支持体４０を設計した。枠４１の枠第１面４１ａと桟４２の桟第１面４２ａとは同一平面上に位置する。枠４１及び桟４２を構成する材料は、３６重量％のニッケルを含む鉄合金である。枠４１及び桟４２の構成、寸法などは下記のとおりである。
・第１辺４１１の長さＬ１：１１０５ｍｍ
・第２辺４１２の長さＬ２：１７０１ｍｍ
・第１桟４２１の本数：７本
・第１桟４２１の幅Ｗ５：３ｍｍ
・第２桟４２２の本数：２２本
・第２桟４２２の幅Ｗ６：５．５ｍｍ
・枠４１の厚みＴ２：３０ｍｍ
・桟４２の厚みＴ３：０．０ｍｍ、１．７ｍｍ、４．４ｍｍ、７．０ｍｍ、９．７ｍｍ、１２．３ｍｍ、１５．０ｍｍ、２０．０ｍｍ、２５．０ｍｍ、３０．０ｍｍ

【0173】

図４１に示すように第１方向Ｄ１において第２辺４１２に力Ｔを加えたときに第２辺４１２に生じる変形量Ｋを、シミュレーションにより算出した。力Ｔは、第２辺４１２がマスク５０から受ける力に相当する。力Ｔは２７Ｎに設定した。シミュレーションのソフトとしては、ADINA R&D社製ADINAを用いた。シミュレーションの結果を図４２に示す。

【0174】

桟４２の厚みＴ３と変形量Ｋとの関係を図４３及び図４４に示す。横軸は、枠４１の厚みＴ２に対する桟４２の厚みＴ３の比率である。枠４１の変形量Ｋが極小値ＭＩＮになる時の比率Ｔ３／Ｔ２である極小比率は、０．４０以上０．６０以下であると予想される。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10A】

【図10B】

【図11A】

【図11B】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22A】

【図22B】

【図23A】

【図23B】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】

【図32A】

【図32B】

【図33】

【図34】

【図35】

【図36】

【図37】

【図38】

【図39】

【図40】

【図41】

【図42】

【図43】

【図44】